ES2622715T3

ES2622715T3 - Vitrocerámica

Info

Publication number: ES2622715T3
Application number: ES13818337.1T
Authority: ES
Inventors: Marco DE GRAZIA; Claire Mallet
Original assignee: Eurokera SNC
Current assignee: Eurokera SNC
Priority date: 2012-12-19
Filing date: 2013-12-18
Publication date: 2017-07-07
Anticipated expiration: 2033-12-18
Also published as: CN104870389A; EP2935137A2; FR2999563A1; JP2016507451A; WO2014096695A3; EP2935137B1; DE202013012145U1; US9637410B2; US20150329414A1; WO2014096695A2; FR2999563B1

Abstract

Hoja de vitrocerámica provista sobre al menos una parte de al menos una de sus caras con un revestimiento de capas finas, que comprende al menos una capa fina funcional constituida de un metal a base de niobio metálico Nb o de un óxido a base de un óxido de niobio NbOx, en el que x es como máximo 0,5, estando enmarcada la o cada capa fina funcional por al menos dos capas finas de materiales dieléctricos, estando comprendido el espesor físico de la capa fina funcional o, dado el caso, el espesor físico acumulado de todas las capas finas funcionales en un intervalo que va de 8 a 15 nm.

Description

5

10

15

20

25

30

35

40

45

50

55

DESCRIPCION

Vitroceramica

La invencion se refiere al campo de las vitroceramicas utilizadas como paneles para puertas o ventanas de horno, de estufas o de chimeneas.

Las aplicaciones citadas anteriormente requieren paneles que presentan una resistencia termomecanica elevada, para la que las vitroceramicas son particularmente apreciadas, y especialmente las vitroceramicas del tipo aluminosilicato de litio (LAS), que contienen cristales de estructura mayoritariamente de cuarzo-p sumergidos en una fase vftrea residual. Los coeficientes de dilatacion termica de estas vitroceramicas son, en efecto, casi nulos, de ah su resistencia excelente a los choques y a los gradientes termicos.

Ademas, es ventajoso, por razones de seguridad, poder reducir al maximo la temperatura de la cara del panel opuesta a la fuente de calor, con el fin de evitar un calentamiento demasiado grande del propio panel, pero tambien del entorno, y de esta manera evitar quemaduras para los usuarios de horno, de la estufa o de la chimenea.

La invencion tiene por objeto proponer paneles para puertas de horno o insertos de chimeneas, que presentan a la vez una resistencia termomecanica elevada, propiedades de limitacion de la temperatura sobre la cara opuesta a la cara vuelta hacia la fuente de calor, asf como propiedades opticas aceptables, especialmente en terminos de reflexion y transmision luminosa. En las aplicaciones siguientes, el panel debe resistir igualmente atmosferas corrosivas, por lo que se requiere una resistencia qmmica excelente.

A este efecto, la invencion tiene por objeto una lamina de vitroceramica provista sobre al menos una parte de al menos una de sus caras de un revestimiento de capas finas que comprenden al menos una capa fina funcional constituida de un metal a base de niobio metalico Nb, o de un oxido a base de un oxido de niobio NbOx, en el que x es como maximo 0,5, estando enmarcada la o cada capa fina funcional por al menos dos capas finas de materiales dielectricos, estando comprendido el espesor ffsico de la capa fina funcional o, dado el caso, el espesor ffsico acumulado de todas las capas finas funcionales en un intervalo que va de 8 a 15 nm.

La invencion tiene igualmente por objeto una puerta o ventana de horno, de estufa o de chimenea que comprende al menos una hoja de vitroceramica segun la invencion. La invencion tiene por objeto finalmente un horno, una estufa o una chimenea que comprende al menos una puerta o ventana segun la invencion.

La o cada capa fina funcional esta constituida o bien de un metal a base de niobio metalico Nb o bien esta constituido de un oxido a base de oxido de niobio NbOx, en la que x es como maximo 0,5. Se extiende por la expresion "a base de" que el metal o el oxido que constituye la o cada capa fina funcional comprende con preferencia al menos 80%, especialmente 90% en peso, segun el caso de niobio metalico o de NbOx. La capa fina funcional puede comprender eventualmente otro metal que Nb, de manera minoritaria, especialmente al menos un metal seleccionado entre Zr, Ti, Ta y Mo.

No obstante, con preferencia, la o cada capa fina funcional esta constituida de niobio metalico Nb o esta constituida de un oxido de niobio NbOx, en el que x es como maximo 0,5.

La o cada capa fina funcional puede estar constituida de niobio metalico. Este tipo de capas funcionales, en asociacion con las capas dielectricas, se ha revelado particularmente eficaz tanto en terminos de resistencia termica como en terminos de resistencia termomecanica y qmmica.

La o cada capa fina funcional puede estar constituida alternativamente de oxido NbOx, en el que x es como maximo 0,5, especialmente 0,4, con preferencia esta comprendido en intervalo de que de 0,05 a 0,35, especialmente de 0,25 a 0,30. El valor de x puede ser determinado con la ayuda de los perfiles de profundidad de los apilamientos por el metodo XPS (espectrometna fotoelectrica XC, o espectrometna de foto electrones inducidos por rayos X o incluso X- Ray photoelectron spectrometry segun los terminos ingleses), por integracion de los picos respectivos de Nb y O, segun tecnicas bien conocidas apropiadas para este metodo de analisis. La medida se efectua con la maxima intensidad de la senal del niobio, que corresponde al centro de la capa funcional. Tfpicamente, las condiciones experimentales de la medida efectuada pueden ser las siguientes. Los perfiles en profundidad XPS son adquiridos con la ayuda de un espectrometro NOVA® distribuido por la sociedad Kratos. Los espectros XPS son recogidos utilizando la excitacion Kalpha de aluminio (hv=1486,6 eV) de 225 W. La escala de las energfas de union esta corregida en los efectos de cargas (charging effects) imponiendo la energfa de union de los electrones C1s (CH - carbonos alifaticos) a 285 eV. La fuente de abrasion es un canon de iones Ar+ que funciona a 2keV con una intensidad de 1,15 mA que barre un tramo de 3 x 3 mm2 (estas condiciones operativas llevan a una velocidad de abrasion que corresponde a 3,4 nm/mm en la sflice). La zona de analisis (coleccion de foto electrones) es un rectangulo de dimensiones 300 x 700 pm2. El angulo de despegue es de 90° con relacion a la superficie de la muestra.

Una manera alternativa de caracterizar la tasa de oxfgeno en la capa de NbOx utiliza la tecnica llamada SIMS (Espectrometna de Masa de lonizacion Secundaria). Este metodo consiste en bombardear la superficie del apilamiento a analizar con un haz de iones. La muestra es pulverizada, y una parte de la materia pulverizada es

5

10

15

20

25

30

35

40

45

50

55

ionizada. Los iones llamados secundarios son acelerados hacia un espectrometro de masa que permitira medir la composicion elemental, isotopica o molecular de la superficie de la muestra. Mas precisamente, las condiciones experimentales de la medida efectuada se pueden definir a continuacion. Los perfiles de profundidad de los apilamientos se obtienen con la ayuda de un equipo TOF SIMS 5 de la sociedad IONTF. El perfil de los iones secundarios se obtiene utilizando como fuente de iones primarios los iones Bi32+ a 60 keV con una corriente impulsada de 0,3 pA (con un impulso de 7 ns y un tiempo del ciclo de 100 microsegundos) y como especies abrasantes iones Cs+ a 1 keV, con una corriente impulsada de 50 nA. La superficie pulverizada es un cuadrado de 200 micrometros de lado. La region analizada es un cuadrado de 50 micrometros de lado centrado sobre el fondo del crater. Se utiliza un canon de electrones para neutralizar la superficie con el fin de reducir los efectos de carga (charging effects). La tasa de oxfgeno en la capa de NbOx puede estar caracterizada por la relacion de las senales NbO/Nb, correspondiendo la medida a la relacion de las areas integradas de las senales NbO y Nb sobre la porcion de los perfiles SlMS, para la que la intensidad de la senal Nb es significativa (no cero). Con preferencia, la capa funcional constituida de un oxido a base de oxido de niobio se caracteriza por una relacion NbO/Nb comprendida en un intervalo de va de 1,0 a 3,5, especialmente de 1,8 a 2,8 e incluso de 2,1 a 2,5. Esta manera de caracterizar la tasa de oxfgeno es una alternativa a la que utiliza la medida de x para la tecnica XPS.

El espesor ffsico de la capa fina funcional o, dado el caso, el espesor ffsico acumulado de todas las capas finas funcionales esta comprendido en un intervalo que va de 8 a 15 nm, con preferencia de 9 a 14 nm e incluso de 10 a 13 nm. Espesores demasiado finos no permiten, en efecto, alcanzar los rendimientos termicos deseados. A la inversa, espesores demasiado elevados reducen de manera inaceptable la transmision luminosa de la hoja.

Con preferencia, el revestimiento comprende solo una capa fina funcional, especialmente constituida de niobio metalico. El revestimiento comprende solo de manera ventajosa dos capas finas de material dielectrico, que enmarca la capa fina funcional unica. Este tipo de apilamientos simples se revela satisfactorio, y mucho mas facil de producir industrialmente que un apilamiento que comprende varias capas funcionales y, por consiguiente, al menos tres capas de material dielectrico.

Los materiales dielectricos, identicos o diferentes, estan seleccionados con preferencia entre los oxidos, los nitruros o los oxinitruros de silicio, de aluminio, de titanio, de circonio, de estano, de cinc, o de una cualquiera de sus mezclas o soluciones solidas.

Los materiales dielectricos, identicos o diferentes, son con preferencia a base de o estan esencialmente constituidos (incluso constituidos) de nitruro de silicio, de oxido de titanio, de oxido de titanio y de circonio, de oxido de estano y de cinc, de nitruro de titanio y de silicio, de nitruro de silicio y de circonio, de oxido de silicio. Por la expresion "a base de" se entiende que el material comprende con preferencias al menos 80%, incluso 90% en peso del compuesto en cuestion.

Entre ellos, el nitruro de silicio es particularmente apreciado por su capacidad de proteger eficazmente la capa funcional y de ser depositado rapidamente por pulverizacion catodica con magnetrones. El nitruro de silicio no es necesariamente estequiometrico en nitrogeno (aunque por simplificacion se le puede llamar Si3N4 en el texto siguiente). El nitruro de silicio puede estar dopado, por ejemplo por aluminio, con el fin de facilitar su deposicion por pulverizacion catodica de magnetrones DC. El dopaje del objetivo de silicio, generalmente por 2 a 10% atomicos de aluminio permite, en efecto, mejorar las propiedades conductoras del objetivo. El oxido de titanio se ha revelado igualmente un buen material dielectrico, especialmente gracias a su mdice de refraccion elevado.

El espesor ffsico de cada capa de material dielectrico esta comprendido con preferencia en un intervalo que va de 10 a 100 nm, especialmente de 20 a 80 nm. Se ajusta ventajosamente con el fin de optimizar las propiedades opticas del apilamiento, especialmente su transmision luminosa y su reflexion luminosa.

Con preferencia, una capa fina de bloqueador esta situada por encima y en contacto y/o por debajo y en contacto con la o cada capa fina funcional. Como se utiliza en el campo de las capas finas, se enciende "por encima" una posicion mas alejada del sustrato. Las capas de bloqueados estan destinadas a impedir la degradacion de la capa funcional durante su utilizacion a alta temperatura.

Cuando al menos una de las capas de materiales dielectricos es a base de un nitruro o de un oxinitruro, por ejemplo de nitruro de silicio, se ha observado que la capa funcional podna nitrurarse durante un tratamiento termico, por ejemplo durante la utilizacion del panel en un horno, una estufa o una chimenea, y que esta nitruracion tendna por efecto degradar los rendimientos termicos del panel. La interposicion de una capa de bloqueador entre la capa funcional y cada capa de material dielectrico, especialmente de nitruro o de oxinitruro (como el nitruro de silicio) se ha revelado, por lo tanto, ventajosa. Por consiguiente, especialmente cuando todas las dos capas de material dielectrico son de nitruro o de oxinitruro y particularmente de nitruro de silicio, es preferible disponer al menos dos capas de bloqueador, respectivamente, por debajo y por encima de la capa funcional, en contacto con esta ultima.

Igualmente, cuando al menos una de las capas de materiales dielectricos es a base de un oxido o de un oxinitruro, la capa funcional se puede oxidar de manera demasiado importante, e incluso se pueden degradar sus propiedades. En este caso igualmente, es preferible disponer una capa de bloqueador entre la capa funcional y cada capa de material dielectrico.

5

10

15

20

25

30

35

40

45

La o cada capa fina de bloqueador es con preferencia de titanio. Otros metales o aleaciones, incluso oxidos o nitruros, son posibles, especialmente NiCr, Mo, B, Al, TiNi, TiN o TiOx, pero el titanio se ha revelado el mas eficaz, especialmente para evitar la nitruracion del niobio por capas dielectricas de nitruro u oxinitruro.

El espesor ffsico de la o cada capa fina de bloqueador (principalmente de titanio) es con preferencia de maximo 3 nm, principalmente 2 nm. Es igualmente de al menos 0,5 nm o 1 nm. Espesores tan finos son suficientes, en efecto, para obtener el efecto de bloqueo de los iones de nitrogeno, mientras que espesores elevados van a contribuir a disminuir fuertemente la transmision luminosa del panel.

Se prefieren los apilamientos siguientes:

i.: V/D/Nb/D

ii.: V/D/B/Nb/D

iii.: V/D/Nb/B/D

iv.: V/D/B/Nb/B/D.

V designa la hoja de vitroceramica, D el material dielectrico (por ejemplo de nitruro de silicio o a base de este material), Nb la capa fina funcional (principalmente Nb metalico o NbOx), B la capa de bloqueado (con preferencia de titanio). Los dielectricos D y los bloqueadores B pueden ser identicos o diferentes, y seran con preferencia identicos para simplificar la produccion industrial del apilamiento. Los diferentes modos preferidos descritos anteriormente, cualesquiera que sean los terminos de eleccion de materiales o de eleccion de espesores, son aplicables naturalmente a estos apilamientos preferidos, aunque el conjunto de combinaciones no se indica aqu expresamente por razones de concision.

El apilamiento i) no contiene ningun bloqueador B. Esta particularmente adaptado al caso en el que los materiales de las capas D no son nitruros u oxinitruros.

Los apilamientos ii) y iii) solo contienen un bloqueador B, respectivamente debajo y encima de la capa funcional. Estos apilamientos estan particularmente adaptados al caso en el que una sola de las capas dielectricas D es de nitruro o de oxinitruro, en el caso de que el bloqueador B se separe de la capa funcional.

El apilamiento iv) contiene dos bloqueados, principalmente de titanio. En este caso. las capas dielectricas D son con preferencia ambas de nitruro de silicio o a base de este material. Un apilamiento particularmente preferido es, por lo tanto, el apilamiento V/Si3N4/Ti/Nb/Ti/Si3N4, sin que la designacion « Si3N4 » prejuzgue la estequiometna real de la capa y una eventual bonificacion, principalmente por aluminio, como se ha explicado anteriormente.

La lamina de vitroceramica presenta con preferencia un factor de reflexion luminosa de maximo 15%, principalmente 13% y/o un factor de transmision luminosa de al menos 40, principalmente 50%, en el sentido de la norma EN 410 :1998.

La reflexion para una longitud de onda de 3 micrometres es ventajosamente de al menos 50% con el fin de limitar las transferencias de calor a traves del panel.

La vitroceramica posee con preferencia una composicion del tipo aluminosilicato de litio (LAS) y contiene cristales de estructura de cuarzo-p.

Mas precisamente, la composicion qmmica de la vitroceramica comprende con preferencia los constituyentes siguientes en los lfmites definidos a continuacion expresados en porcentajes en peso

SiO2: 52-75%, especialmente 65-70%

Al2O3: 18-27%, especialmente 18-19,8%

Li2O: 2,5-5,5%, especialmente 2,5-3,8%

K2O: 0-3%, especialmente 0-<1%

Na2O: 0-3%, especialmente 0-<1%

ZnO: 0-3,5%, especialmente 1,2-2,8%

MgO: 0-3%, especialmente 0,55-1,5%

CaO: 0-2,5%, especialmente 0-0,5%

BaO: 0-3,5%, especialmente 0-1,4%

5

10

15

20

25

30

35

40

45

50

SrO 0-2%, especialmente 0-1,4%

TiO2 1,2-5,5%, especialmente 1,8-3,2%

ZrO2 0-3%, especialmente 1,0-2,5%

P2O5 0-8%, especialmente 0-0,5%.

La vitroceramica es con preferencia transparente e incolora, por lo que no comprende normalmente agentes colorantes, con la excepcion de impurezas de oxido de hierro, contenido naturalmente en varias materias primas. Por lo tanto, no contiene con preferencia oxido de vanadio, de cobalto, de cromo, de mquel, de cobre, ni de selenio o de sulfuros. Segun ciertos modos de realizacion, y con el fin de jugar sobre su coloracion, la vitroceramica puede contener, sin embargo, un agente colorante, especialmente el oxido de cobalto.

La composicion comprende generalmente oxidos que han servido para afinar el vidrio durante su produccion, por ejemplo SnO2, As2O5, Sb2O5, o incluso sulfuros, tales como ZnS.

El coeficiente de dilatacion termica lineal (entre 30 y 200°C) de la lamina de vitroceramica es con preferencia como maximo 15.10'7/°C, incluso 5.10'7/°C.

La vitroceramica puede producirse por procedimientos conocidos, por fusion de vidrio (llamado vidrio-madre o vidrio precursor), moldeado en forma de una lamina de vidrio-madre por flotacion o laminacion, luego transformacion de vidrio en vitroceramica de esta lamina de vidrio-madre con el fin de hacer crecer en su seno los cristales deseados, especialmente de estructura de cuarzo-p y de obtener asf la vitroceramica. La transformacion de vidrio en vitroceramica aplica generalmente un tratamiento termico en varias etapas, segun un ciclo destinado a crear germenes en el seno del vidrio (nucleacion alrededor de 670 a 800°C), luego para hacer crecer los cristales alrededor de los germenes (alrededor de 900 a 1000°C).

El espesor de la lamina de vitroceramica estara igualmente comprendida en un intervalo que va de 2 a 8 mm, especialmente de 3 a 6 mm.

El revestimiento puede ser depositado a continuacion por diferentes tecnicas, por ejemplo la deposicion ffsica en fase de vapor (CVD), eventualmente asistida por plasma (PECVD), y especialmente bajo presion atmosferica (APPECVD), la deposicion qmmica en fase de vapor por combustion (CCVD) o incluso los procedimientos de sol- gel.

La tecnica de deposicion preferida es la pulverizacion catodica de magnetrones, especialmente por polarizacion del objetivo en corriente continua (DC). Esta tecnica en vado permite depositar apilamientos complejos con velocidades de deposicion elevadas. En este procedimiento, el sustrato se desplaza en las camaras bajo vado, con relacion a objetivos metalicos o ceramicos pulverizados por un plasma, los atomos arrancados del objetivo se depositan sobre el sustrato. El deposito puede ser reactivo (por ejemplo, depositante nitruro de silicio a partir de un objetivo de silicio - generalmente bonificado por aluminio como se ha explicado anteriormente - en una atmosfera que contiene nitrogeno). Cuando la capa funcional esta constituida de niobio metalico, se utiliza tfpicamente un objetivo de niobio y un plasma de argon. Cuando la capa funcional esta constituida de NbOx, se utilizara con preferencia un objetivo de niobio y un plasma de argon que contiene una pequena cantidad de oxfgeno, por ejemplo entre 1 y 6%, especialmente entre 2 y 5% en volumen. El deposito del revestimiento se realiza sobre la vitroceramica y no sobre el vidrio-madre, puesto que las temperaturas muy elevadas experimentadas durante el tratamiento de la transformacion de vidrio en vitroceramica asf como las restricciones mecanicas experimentadas debido a la compactacion del vidrio-madre son susceptibles de degradar el apilamiento de capas finas.

La vitroceramica revestida de esta manera puede ser recortada, confeccionada, eventualmente esmaltada, para ser montada en una puerta o ventana de horno, de estufa o de chimenea.

La puerta de horno (generalmente un horno domestico, tfpicamente un horno de pirolisis) comprende con preferencia de 2 a 4 paneles transparentes, siendo la lamina de vitroceramica segun la invencion con preferencia la lamina mas proxima al recinto interior del horno.

En tal configuracion, pero tambien en el caso de una estufa o de una chimenea, la capa funcional puede estar vuelta hacia el interior del recinto (reflejando el calor hacia el recinto) o hacia el exterior del recinto (con el fin de reducir la emision de calor por la superficie exterior). La reduccion de las perdidas energeticas implica un aumento del rendimiento de los hornos, estufas y chimeneas, reduciendo la temperatura de la puerta o de la ventana y la de su entorno proximo. El posicionamiento de la capa funcional hacia el exterior del recinto facilita, ademas, la pirolisis del hollm y de la suciedad depositados en el interior del recinto.

Los ejemplos siguientes ilustran la invencion sin limitarla.

Segun un primer ejemplo (ejemplo 1), se ha depositado sobre una vitroceramica clara comercializada bajo la marca Keralite por la solicitante un apilamiento constituido de las capas siguientes: una capa dielectrica de nitruro de silicio (60 nm), luego un bloqueador de titanio (1 nm), luego una capa funcional de niobio (10 nm), luego un bloqueador de

5

10

15

20

25

30

35

titanio (1 nm) y finalmente una capa dielectrica de nitruro de silicio (60 nm). Los espesores son espesores ffsicos. La vitroceramica utilizada es una vitroceramica del tipo LAS que contiene cristales de estructura de cuarzo-p y una fase de vidrio minoritario.

Todas las capas han sido depositadas de manera continua por pulverizacion catodica de magnetrones DC, siendo depositadas las capas de titanio y de niobio a partir de objetivos, respectivamente, de titanio y de niobio bajo un plasma de argon y las capas de nitruro de silicio a partir de objetivos de silicio (dopado por 8% atomicos de aluminio), bajo una atmosfera de argon y de nitrogeno.

El factor de transmision luminosa obtenido es de 51,0%, el factor de reflexion luminosa de solo 3,4%. La reflexion para una longitud de onda de 3 micrometros es superior a 50%.

El ejemplo 2 se diferencia del primero en que el espesor ffsico de la capa de niobio es de 13 nm. En este caso, el factor de transmision luminosa es de 44,0%, el factor de reflexion luminosa de 4,2%. La reflexion para la longitud de onda de 3 micrometros es igualmente muy superior a 50%.

En el caso de los ejemplos 1 y 2, la reflexion a 3 micrometros esta inalterada despues de un tratamiento termico de 60 h a 550°C y no se observo ningun defecto visible a simple vista.

El ejemplo 3 se diferencia del ejemplo 1 por que los bloqueadores de titanio estan sustituidos por bloqueadores de aleacion de rnquel y de cromo, igualmente dispuestos por pulverizacion catodica de magnetrones.

El ejemplo 4 se diferencia del precedente por que el bloqueador situado por encima de la capa de niobio esta suprimido.

El ejemplo 5 se diferencia del ejemplo 1 por que el bloqueador situado por encima de la capa de niobio esta suprimido.

En el caso de los dos ejemplos 3 a 5, la reflexion de 3 micrometros es superior a 50% despues de la deposicion del revestimiento, pero cae aproximadamente a 30% despues de un tratamiento termico a 550°C. Estos ejemplos son, por lo tanto, menos preferidos, e ilustran a la vez el interes de depositar un bloqueador en cada lado de la capa de niobio y la superioridad del titanio.

Los ejemplos 6 a 11 reproducen el Ejemplo 1, con la salvedad de que los materiales dielectricos y sus espesores son diferentes. El espesor de la capa de niobio es, ademas, de 13 nm. Por ultimo, estos complementos no comprenden bloqueadores, Los materiales ensayados son el nitruro de silicio y de circonio, el oxido de silicio, el oxido de titanio, el oxido de titanio y de circonio, el oxido de estano y de cinc, el nitruro de silicio.

La Tabla 1 siguiente sintetiza los diferentes ensayos realizados e indica la naturaleza y el espesor ffsico de la capa dielectrica situada debajo de la capa funcional (llamada "dielectrica 1"), la naturaleza y el espesor ffsico de la capa dielectrica situada sobre la capa funcional "llamada "dielectrica (llamada "dielectrica 2"), el factor de transmision luminosa (llamado TL), de reflexion luminosa (llamado RL), y la reflexion para una longitud de onda de 3 mm. Como en el conjunto del texto, la designacion de las capas no prejuzga su estequiometna exacta y/o la presencia de elementos minoritarios, tales como dopantes.

Tabla 1

: Dielectrico 1 Dielectrico 2 Tl (%) Rl (%) R3|jM (%)

6: SiZrNx (60 nm) SiZrNx (60 nm) 50 4 >50

7: SiO2 (85 nm) SiO2 (85 nm) 35 7 >50

8: TiO2 (50 nm) TiO2 (50 nm) 45 7 >50

9: TiZrOx (50 nm) TiZrOx (50 nm) 48 10 >50

10: SnZnOx (60 nm) SnZnOx (60 nm) 48 4 >50

11: Si3N4 (60 nm) SnZnOx (60 nm) 48 4 >50

Claims

5

10

15

20

25

30

35

40

45

REIVINDICACIONES

1. - Hoja de vitroceramica provista sobre al menos una parte de al menos una de sus caras con un revestimiento de capas finas, que comprende al menos una capa fina funcional constituida de un metal a base de niobio metalico Nb o de un oxido a base de un oxido de niobio NbOx, en el que x es como maximo 0,5, estando enmarcada la o cada capa fina funcional por al menos dos capas finas de materiales dielectricos, estando comprendido el espesor ffsico de la capa fina funcional o, dado el caso, el espesor ffsico acumulado de todas las capas finas funcionales en un intervalo que va de 8 a 15 nm.
2. - Hoja de vitroceramica segun la reivindicacion 1, en la que la o cada capa fina funcional esta constituida de niobio metalico.
3. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes, en la que el revestimiento solo comprende una capa fina funcional.
4. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes, en la que los materiales dielectricos, identicos o diferentes, estan seleccionados entre los oxidos, los nitruros o los oxinitruros de silicio, de aluminio, de titanio, de circonio, de estano, de cinc o de una cualquiera de sus mezclas o soluciones solidas.
5. - Hoja de vitroceramica segun la reivindicacion precedente, en la que los materiales dielectricos, identicos o diferentes, son a base de nitruro de silicio, de oxido de titanio, de oxido de titanio y de circonio, de oxido de estano y de cinc, de nitruro de titanio y de silicio, de nitruro de silicio y de circonio, de oxido de silicio.
6. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes, en la que el espesor ffsico de cada capa de material dielectrico esta comprendida en el intervalo que va de 10 a 100 nm, especialmente de 20 a 80 nm.
7. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes, en la que una capa fina de bloqueador esta situada por encima y en contacto con y/o por debajo y en contacto con la o cada capa fina funcional.
8. - Hoja de vitroceramica segun la reivindicacion precedente, en la que la o cada capa fina de bloqueador es de titanio.
9. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones 7 u 8, en la que el espesor ffsico de la o de cada capa fina de bloqueador es como maximo de 3 nm, especialmente de 2 nm.
10. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes, que presenta un factor de reflexion luminosa de maximo 15%, especialmente de 13% y un factor de transmision luminosa de al menos 40%, especialmente de 50%, en el sentido de la norma EN 410 :1998.
11. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes, que presenta una reflexion de al menos 50% para una longitud de onda de 3 micrometres.
12. - Hoja de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes, en la que la vitroceramica posee una composicion del tipo de aluminosilicato de litio, y contiene cristales de estructura de cuarzo-p.
13. - Lamina de vitroceramica segun la reivindicacion precedente, cuya composicion qmmica comprende los siguientes constituyentes en los lfmites definidos a continuacion expresados en porcentajes en peso

SiO2

52-75%, especialmente 65-70%

Al2O3

18-27%, especialmente 18-19,8%

Li2O

2,5-5,5%, especialmente 2,5-3,8%

K2O

0-3%, especialmente 0-<1%

Na2O

0-3%, especialmente 0-<1%

ZnO

0-3,5%, especialmente 1,2-2,8%

MgO

0-3%, especialmente 0,55-1,5%

CaO

0-2,5%, especialmente 0-0,5%

BaO

0-3,5%, especialmente 0-1,4%

SrO

0-2%, especialmente 0-1,4%

TiO2

1,2-5,5%, especialmente 1,8-3,2%

ZrO2 0-3%, especialmente 1,0-2,5%

P2O5 0-8%, especialmente 0-0,5%.
14.- Puerta o ventana de horno, de estufa o de chimenea, que comprende al menos una lamina de vitroceramica segun una de las reivindicaciones precedentes.

5 15.- Horno, estufa o chimenea que comprende al menos una puerta o ventana segun la reivindicacion precedente.