ES2623478T3

ES2623478T3 - Revestimientos adhesivos de sacrificio

Info

Publication number: ES2623478T3
Application number: ES12838543.2T
Authority: ES
Inventors: Joseph C. Salamone; Ann Beal Salamone; Xiang Yu; Levi J. Irwin
Original assignee: Rochal Industries LLC
Current assignee: Rochal Industries LLC
Priority date: 2011-10-05
Filing date: 2012-09-19
Publication date: 2017-07-11
Anticipated expiration: 2032-09-19
Also published as: HK1200185A1; CA2850920A1; EP2764065A4; CA2850920C; MX2014003950A; AU2012319004A1; EP2764065A1; MX338985B; AU2012319004B2; WO2013052276A1; DK2764065T3; US8263720B1; EP2764065B1; JP6035657B2; JP2014528324A; PT2764065T

Abstract

Un material de revestimiento que contiene polímero, líquido que comprende: 1 a 50 % en peso de polímero que contiene siloxi reticulado, que comprende: 34 a 99 % en peso de monómero de al menos un componente de monómero que contiene siloxi polimerizable, y más del 1 al 16 % en peso de monómero de un agente reticulante que contienen siloxi, en donde dicho % en peso de monómero se basa en el peso total del polímero que contiene siloxi reticulado; y 50 al 99 % en peso de un líquido hidrófobo, volátil no urticante como parte de un sistema de disolvente, estando dicho polímero que contiene siloxi reticulado solubilizado en dicho sistema de disolvente; en donde los porcentajes en peso se basan en el peso total del material de revestimiento que contiene el polímero reticulado, líquido; y en donde dicho líquido hidrófobo, volátil, no urticante se selecciona del grupo que consiste en siloxanos lineales y cíclicos volátiles, alcanos volátiles, fluorocarbonos y clorofluorocarbonos volátiles, dióxido de carbono líquido a presión, y combinaciones de los mismos, en donde dicho agente reticulante que contiene siloxi comprende un siloxano o siloxisilano vinil polimerizable di-, tri- o multifuncional.

Description

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DESCRIPCION

Revestimientos adhesivos de sacrificio Campo de la invencion

Esta invencion se refiere en general a revestimientos adhesivos ffquidos, altamente reticulados de forma covalente, pero solubles en disolventes que, despues de la evaporacion del disolvente, son utiles para la proteccion de superficies, incluyendo la piel y las membranas mucosas, al actuar como revestimientos de sacrificio, adhesivos, permeables al vapor de agua, e insolubles en agua.

Antecedentes de la invencion

Se ha informado que los vendajes adhesivos ffquidos preparados a partir de poffmeros hidrofobos que contienen siloxi mezclados con polidimetilsiloxanos ffquidos volatiles y alcanos ffquidos volatiles (Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 4.987.893, Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 5.103.812, cuya totalidad se incorporan a la presente invencion por referencia, y el Documento de Patente de los Estados Unidos de numero 6.383.502) proporcionan materiales de revestimiento de vendajes ffquidos no irritantes, no urticantes despues de la evaporacion del disolvente que permiten la evaporacion de fluidos corporales al tiempo que protegen la superficie corporal de una contaminacion y desecacion adicionales. No hay indicios de la reticulacion covalente de los poffmeros hidrofobos que contienen siloxi como se muestra en estos Documentos de Patentes.

Adicionalmente, tambien se ha informado de poffmeros que contienen siloxi anfifflicos como vendajes adhesivos ffquidos (Numero de Documento de Patente de los Estados Unidos 7.795.326, cuya totalidad se incorpora en la presente invencion por referencia), en donde el monomero de siloxisilano hidrofobo se copolimeriza con un monomero que contiene nitrogeno hidrofilo.

El monomero que contiene siloxi preferido tanto para los vendajes adhesivos ffquidos hidrofobos y los anfifflicos de los Documentos de Patente anteriormente mencionados se basa en el monomero siloxi, 3-metacriloiloxipropil tri(trimetilsiloxi)silano (TRIS, por sus siglas en ingles).

En el Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 7.795.326, se informo que los monomeros que contienen siloxi tambien pueden contener concentraciones bajas de agentes reticulantes de siloxisilano. Estos agentes reticulantes pueden ser dfmeros o superiores en sus grupos polimerizables. Por ejemplo, el monomero TRIS comercial a menudo contiene pequenas cantidades del dfmero del TRIS del 1,3-bis(3-metacriloxipropil)- 1,1,3,3-tetraquis(trimetilsiloxi)disiloxano, que se informaba que aumentaba la resistencia del poffmero de revestimiento. Ademas, en el Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 7.795.326 se estableda que se podfan usar combinaciones de monomeros siloxi que conteman agentes reticulantes de siloxisilano siempre que la solubilidad del poffmero resultante no se vea comprometida en el disolvente hidrofobo, volatil. Se muestra que cuando el monomero que contiene siloxi hidrofobo es TRIS, las concentraciones bajas del agente reticulante eran preferiblemente menores del 1,0 % en peso del dfmero del TRIS, mas preferentemente entre 0,5-0,8 % en peso, y lo mas preferiblemente entre 0-0,15 % en peso. Asf, en una copolimerizacion con otros monomeros, el contenido total del dfmero en la formulacion del comonomero se reducina adicionalmente en relacion con la concentracion de los comonomeros anadidos.

En general, para poffmeros reticulados por radicales libres en un disolvente compatible, a menudo se produce la gelificacion a un contenido de agente reticulante de menos del 1 % en peso. En el Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 3.220.960 se muestra que en la copolimerizacion de un monomero con un grupo polimerizable con una pequena cantidad de un monomero con dos de tales grupos en una disolucion de disolvente organico, se forma un gel por el correspondiente poffmero reticulado y el disolvente. Usando este principio, se informa que se hacen lentes de contacto de hidrogel a partir de esteres hidrofilos de acido acnlico y metacrffico con una pequena cantidad de un diester de estos acidos polimerizables, en donde el diester preferiblemente no suma mas de un uno por ciento del monomero. En un sistema de este tipo la lente de contacto de hidrogel, de un 38 % de agua, original blanda, poli(metacrilato de 2-hidroxietilo), se basa en la polimerizacion del monomero hidrofilo metacrilato de 2-hidroxietilo (HEMA, por sus siglas en ingles) reticulado con una pequena cantidad de dimetacrilato de etilenglicol (Wichterle, O.; Lfm, D., Nature, 1960, 185, 117-118), un agente reticulante con una reactividad radical similar a la del monomero HEMA (por sus siglas en ingles).

La reticulacion de lentes de contacto con monomeros multivalentes se conoce en la industria de las lentes de contacto para producir materiales insolubles, estables. Por ejemplo, en los Documentos de Patente de los Estados Unidos de Numeros 7.344.731 y 7.884.141, y en las Publicaciones de Solicitudes de Patente de los Estados Unidos de Numeros 2008/0137030 y 2009/0192275, se ha usado el dfmero del TRIS para producir lentes de contacto insolubles con una variedad de otros monomeros. Sin embargo, ninguna de estas referencias se refiere a materiales de revestimiento ffquidos y, en contraste directo con las propiedades de los poffmeros de la invencion y de los materiales de revestimiento, cada una de estas referencias requiere que las lentes de contacto sean insolubles con el fin de mantener su funcion.

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Para los adhesivos sensibles a la presion aplicados a la piel, por lo general resulta dolor durante la eliminacion del aposito cuando se dana la epidermis o cuando se tira del pelo por el adhesivo. No se desea un adhesivo fuerte sobre la piel herida o inflamada debido al incremento del dano a la piel y al retraso resultante en la curacion.

En el uso de revestimientos de sacrificio para la piel, se prefiere el fallo del adhesivo del revestimiento al de la piel, en comparacion con el adhesivo que elimina una porcion de la epidermis, pelo, o tejido de cicatriz cuando se elimina del cuerpo. En el caso del fallo del adhesivo, preferiblemente el adhesivo falla en la interfase adhesivo/substrato, dejando poco o ningun residuo. Por lo tanto, cuando se aplica un adhesivo sensible a la presion mas adherente y resistente sobre el adhesivo de sacrificio, el adhesivo mas tenaz elimina el adhesivo mas debil de la piel, dando lugar a un proceso de eliminacion indoloro (o de reducido dolor).

Los adhesivos sensibles a la presion de silicona y los adhesivos de gel de silicona, que a menudo se presentan en kits de dos partes que causan la reticulacion in situ, generalmente se consideran como los adhesivos mas comodos por su eliminacion indolora de la piel. Estos generalmente se aplican primero a un material de soporte, reticulan en el sitio de aplicacion, y luego se aplican a la piel. Tienen la desventaja de no ser aplicados como un vendaje adhesivo lfquido, lo que limita su capacidad de conformarse de forma mtima a una superficie de piel contorneada o a una superficie de piel herida, danada o inflamada como lo hana un vendaje adhesivo lfquido, lo que permitia a la disolucion del polfmero fluir hacia las grietas y pliegues de la piel.

En la Publicacion Internacional de Numero WO 88/05060 se describe un copolfmero, especialmente adaptado para su uso como ciertos dispositivos medicos tales como lente de contacto, vendaje para los ojos, piel artificial para quemaduras o apositos para heridas. El copolfmero descrito se prepara mediante copolimerizacion de una composicion de comonomero que comprende al menos (A) una amida acnlica, (B) un acido vinil carboxflico, y (C) un organosiloxano vimlico copolimerizable. Se describe que los copolfmeros resultantes son hidrofilos, blandos, permeables al oxfgeno, humectables por los fluidos corporales, resistentes y estables a la deshidratacion y a la deposicion.

En la Solicitud del Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 2011/0086077, se discuten hidrogeles de silicona altamente reticulados como adhesivos de tejido para la reparacion de heridas, en donde los monomeros de silicona y los agentes reticulantes se pueden aplicar como un aposito para heridas, ya sea como una pelfcula o como una disolucion del monomero en emulsion acuosa aplicado sobre la herida, seguido por polimerizacion y reticulacion directamente sobre la herida. Dicho proceso requiere la activacion de la polimerizacion, que puede generar calor sobre la herida cuando se polimerizan los monomeros. La iniciacion de la polimerizacion usa una mezcla de monomeros que contiene cualquiera de monomeros de vinilo del tipo adicion o monomeros del tipo de condensacion directamente sobre un tejido. Ademas del calor que se genera sobre la superficie de la herida o del cuerpo, el proceso es una polimerizacion in situ, y a menudo esta presente monomero residual debido a la polimerizacion incompleta. Tal monomero residual sobre una superficie cutanea o una herida a menudo conduce a respuestas alergicas. Adicionalmente, el agua es el disolvente preferido, como una emulsion de aceite-en-agua para esta polimerizacion, lo que conducina a reducir el proceso de secado en la piel debido al alto calor de volatilizacion del agua. Ademas, la adicion de un adhesivo sensible a la presion sobre una formulacion de este tipo podna ser diffcil si el agua permanece en el hidrogel de silicona.

Por lo tanto, hay una necesidad en la tecnica para proporcionar una pelfcula de polfmero adhesiva, permeable al vapor de agua, mtimamente conformable e insoluble en agua llevada desde un disolvente volatil no urticante que, despues de la evaporacion del disolvente, forma un revestimiento de polfmero que protege a la piel y a las heridas, y actua como un revestimiento de sacrificio que se puede usar bajo cintas fuertemente adherentes y dispositivos medicos adherentes con el fin de reducir el trauma sobre la piel subyacente despues de la eliminacion de la cinta o del dispositivo medico.

Resumen

Sorprendentemente, en esta invencion se ha encontrado que si el nivel del agente reticulante covalente de los polfmeros que contienen siloxi en los disolventes no urticantes, volatiles, para los monomeros reticulantes siloxi es sustancialmente mayor que lo indicado en el Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 7.795.326, es decir, mayor del 1 % en peso a aproximadamente 16 % en peso, se mantienen la solubilidad y la capacidad de flujo en el disolvente volatil, y disminuye en gran medida la fuerza de adherencia del revestimiento del polfmero resultante despues de evaporacion del disolvente. De hecho, es inesperado que un polfmero que contiene siloxi altamente reticulado pueda ser soluble en un disolvente, que una pelfcula lisa se pueda adherir a la piel, y que la pelfcula del polfmero reticulado sea menos adhesiva que el polfmero que contiene siloxi no reticulado correspondiente, o que el polfmero que contiene siloxi poco reticulado del Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 7.795.326. Este comportamiento es por tanto contrario a lo sugerido por el Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 7.795.326. Debido al inesperado fenomeno de solubilidad, se pueden usar polfmeros que contienen siloxi altamente reticulados en disolventes volatiles, no urticantes como revestimientos de sacrificio bajo adhesivos sensibles a la presion de fuerza adhesiva superior.

Esta invencion se refiere a polfmeros que contienen siloxi reticulados, solubles y su inclusion en materiales adhesivos lfquidos que se pueden usar como revestimientos de sacrificio bajo materiales mas adherentes para

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proteger superficies, tales como aquellas de origen biologico, incluyendo la piel y las mucosas. El componente de poKmero del material adhesivo Uquido comprende un monomero polimerizable por adicion etilenicamente insaturado que contiene al menos un siloxisilano y al menos un monomero reticulante siloxi polimerizable por adicion etilenicamente insaturado. La concentracion del monomero siloxi reticulante es mayor del 1 % en peso al 16 % en peso del monomero no reticulante de siloxisilano polimerizable, en combinacion con otros monomeros polimerizables por adicion etilenicamente insaturados, si se desea. Otros monomeros o aditivos pueden contribuir a la dureza, suavidad, elasticidad, hidrofobicidad, hidrofilicidad, adhesion aumentada o adhesion disminuida de los revestimientos de polfmero de sacrificio.

Los revestimientos para vendajes adhesivos de sacrificio de esta invencion se basan en un vendaje lfquido debilmente adhesivo que forma un revestimiento adhesivo transparente sobre la piel y, cuando se cubre por un sistema mas adhesivo, se elimina sin danar la piel cuando se elimina la cubierta adhesiva que se adhiere fuertemente; es decir, se sacrifica en vez de causar dano o trauma dermico. Un ejemplo de esta tecnologfa sena la aplicacion de un dispositivo de ostoirna, en donde el adhesivo sensible a la presion sobre el dispositivo de ostoirna se adhiere a la piel que rodea un estoma. Cuando se llena el dispositivo de ostoirna de fluidos corporales, este se debe eliminar y desechar, y se sustituye por un nuevo dispositivo que contiene un nuevo adhesivo. La eliminacion del dispositivo de ostoirna puede ser dolorosa debido a la eliminacion de una porcion de la epidermis del paciente, ademas de la formacion de tejido de cicatriz o del pelo del paciente. Un revestimiento de vendaje de sacrificio podna funcionar al ser una interfaz entre el adhesivo sensible a la presion del dispositivo de ostoirna y la superficie de la piel a la que esta unido el dispositivo.

Otro ejemplo del uso de un revestimiento de vendaje de sacrificio, es cuando se usa una aguja intravenosa en un paciente, la aguja y el tubo se mantienen en su lugar por una cinta quirurgica adhesiva sensible a la presion fuertemente adherente para mantener el dispositivo seguro frente al movimiento. Cuando se elimina la cinta quirurgica del dispositivo, se experimenta dolor por el paciente ya que se eliminan una parte de la piel y del cabello. Asi, cuando primero se coloca un revestimiento de sacrificio de adhesivo conformal sobre la piel, seguido por la cinta fuertemente adhesiva, se reduce en gran medida el dolor.

Los polfmeros siloxi reticulados se disuelven cuando se incorporan en siloxanos lfquidos volatiles o alcanos volatiles y aparecen homogeneos al ojo humano y fluyen libremente sin la aparicion de grumos o material particulado. Esta disolucion que contiene polfmeros proporciona un revestimiento ligeramente adhesivo, sin escozor, transpirable, impermeable, flexible y de rapido secado, que funciona como un revestimiento de sacrificio protector de la piel cuando se usa bajo un adhesivo mas adherente.

En una realizacion preferida, el contenido del dfmero de siloxi es del 1 % en peso al 16 % en peso o entre 2 y 10 % en peso, o entre 3 y 8 % en peso, o entre 4 y 7 % en peso, basado en el peso del polfmero de siloxi reticulado.

Los polfmeros se pueden preparar a partir de la polimerizacion de los respectivo monomeros en una disolucion concentrada al 30 % en peso. Este tipo de condiciones concentradas normalmente facilitan la gelificacion con los monomeros reticulantes. Sin embargo, los resultados obtenidos son sorprendentes e inesperados en el hecho de que los sistemas de polfmeros altamente reticulados con contenidos de agente reticulante mayores del 1 % en peso y hasta el 16 % en peso son solubles en la disolucion y de flujo libre. Las disoluciones de polfmeros moldeadas a partir de estas disoluciones son lisas y transparentes, lo que sugiere que los tamanos de los polfmeros son mas pequenos que la longitud de onda de la luz. Normalmente, bajo tales condiciones de alta reticulacion, tiene lugar la insolubilidad por precipitacion o la gelificacion del polfmero resultante, produciendo materiales que no se pueden usar como vendajes adhesivos lfquidos solubles y faciles de aplicar. Ademas, muchas de las pelfculas de polfmero moldeadas paredan ser suaves, ductiles y/o elasticas, lo que no estaba previsto para pelfculas de polfmero altamente reticulado en el estado solido.

El revestimiento adhesivo de sacrificio puede contener medicamentos u otros materiales activos que se pueden liberar con el tiempo sobre zonas seleccionadas, si se desea.

Los materiales de revestimiento lfquido que contienen los polfmeros de esta invencion comprenden un polfmero que contiene siloxisiloxano reticulado de forma covalente y un sistema de disolvente que comprende un lfquido volatil que no es urticante e irritante para un usuario, pero proporciona cuerpo y conformabilidad al lfquido. Preferiblemente, el polfmero esta presente del 1 al 50 % en peso del material de revestimiento, del que se incorpora un monomero reticulante de mas del 1 al 16 % en peso basado en la concentracion total del polfmero, y el lfquido volatil del 50 al 99 % en peso del material de revestimiento. El disolvente se reduce al irnnimo para facilitar la aplicacion del revestimiento adhesivo lfquido de sacrificio dentro de un area deseada. El material forma un revestimiento de sacrificio o vendaje en forma de una pelfcula ligeramente adhesiva, transparente y seca cuando se aplica a una superficie o a la piel de un usuario.

Preferiblemente, el polfmero que contiene siloxano comprende al menos un monomero de alquilsiloxisilano que contiene vinilo y preferiblemente comprende un comonomero polimerizable por adicion. El lfquido volatil es un polidimetilsiloxano de bajo peso molecular, tal como hexametildisiloxano u octametiltrisiloxano; un siloxano dclico de bajo peso molecular, tal como hexametilciclotrisiloxano u octametilciclotetrasiloxano; un alcano lineal, ramificado o dclico, tal como propano, butano e isobutano (a presion), pentano, hexano, heptano, octano, isooctano, destilados

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de petroleo, o ciclohexano; un clorofluorocarbono tal como tricloromonofluorometano, diclorodifluorometano y diclorotetrafluoroetano; un fluorocarbono tal como tetrafluoroetano, heptafluoropropano, 1,1-difluoroetano, pentafluoropropano, perfluoroheptano, perfluorometilciclohexano, hidrofluoroalcanos tal como 1,1,1,2- tetrafluoroetano y 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano, combinaciones de los mismos y similares; un gas volatil a presion, tal como dioxido de carbono lfquido; o una mezcla de los mismos. Como se comprendera, cuando se almacena a alta presion, el dioxido de carbono puede estar presente en forma de un lfquido a temperatura ambiente. El disolvente volatil puede ser hexametildisiloxano, isooctano, y mezclas de los mismos. El disolvente volatil puede ser hexametildisiloxano.

Para mejorar la solubilidad del polfmero se pueden anadir en pequenas cantidades (10 % en peso o menos) disolventes mas polares tales como etanol, isopropanol, acetona, glicerina, propilenglicol, N-metilpirrolidona, y N,N- dimetilacetamida, pero estos disolventes no deben interferir con la composicion global del disolvente ni ser urticantes para un usuario.

Es una caractenstica de la invencion que los materiales lfquidos se puedan aplicar en un intervalo de temperaturas de -10°C a +45°C cuando se aplican a la piel, unas, o a las membranas de las mucosas de un usuario para formar pelfculas que son excelentes revestimientos de sacrificio en minutos. En particular, es una propiedad de los materiales de revestimiento lfquidos que una vez que se aplica el material de revestimiento a temperatura ambiente, se puede formar el revestimiento adherente en menos de 5 minutos, menos de 3 minutos, menos de 2 minutos, menos de 1 minuto, menos de 30 segundos o menos de 15 segundos.

Estos revestimientos no son una fuente de nutrientes para los microorganismos, son conformables, comodos y pueden ser elasticos y flexibles. Las pelfculas no irritan la piel y las membranas de las mucosas cuando se pulverizan o depositan de alguna manera durante la aplicacion y durante su uso despues del secado. Los revestimientos secos formados son sustancialmente impermeables, sin embargo tienen una alta tasa de transmision de oxfgeno y de vapor de agua. Los revestimientos se forman rapidamente a temperatura ambiente estandar (es decir, aproximadamente 25°C (77°F)).

La composicion lfquida y/o la pelfcula de polfmero seca puede tener diversos medicamentos u otros agentes incorporados a la misma para mantener la esterilidad y/o para su liberacion a la zona subyacente del cuerpo de un usuario. Tales pelfculas de polfmero pueden funcionar como revestimientos de liberacion transdermica de farmacos, ademas de funcionar como un modo de liberacion controlada hacia la piel. Por ejemplo, las pelfculas de polfmero secas pueden contener agentes antibacterianos solidos en suspension, agentes antivirales, agentes antifungicos, agentes antiprotozoarios, antibioticos, agentes antiinflamatorios, agentes antialergicos, agentes anti-infecciosos, agentes antiparasitarios, agentes anti-transpiracion, agentes de curacion de heridas , agentes anti-VEGF (por sus siglas en ingles), agentes anti-psoriasis, desinfectantes, agentes anti-prurito, agentes anestesicos, agentes dermatologicos, agentes anti-androgenos, agentes anti-acne, agentes anti-envejecimiento, agentes anti-parasitarios, agentes antidepresivos, esteroides, y farmacos anti-inflamatorios no esteroideos o materiales similares, que se pueden liberar desde los revestimientos de sacrificio a la piel subyacente.

La invencion tambien se dirige a un metodo de revestir una superficie mediante la aplicacion de uno de los materiales de revestimiento lfquidos que contienen los polfmeros descritos en la presente invencion a una superficie con el fin de formar un revestimiento. La superficie puede ser la piel. El metodo tambien puede incluir aplicar un adhesivo y/o un dispositivo medico sobre el revestimiento, es decir, usar el revestimiento como un revestimiento de sacrificio.

La invencion tambien se dirige al componente de polfmero soluble que contiene siloxi reticulado de los materiales de revestimiento lfquidos que contienen el polfmero descrito en la presente invencion. El polfmero soluble que contiene siloxi reticulado puede incluir del 34 al 99 % en peso de monomero de al menos un componente monomero que contiene siloxi polimerizable, y mas del 1 al 16 % en peso de monomero del agente reticulante que contiene siloxi. De particular importancia, contrariamente a los polfmeros que contienen siloxi altamente reticulados conocidos en la tecnica, los polfmeros que contienen siloxi altamente reticulados descritos en la presente invencion tienen un lfmite de solubilidad en HMDS (por sus siglas en ingles), isooctano o ambos que es al menos un 5 % en peso. Los polfmeros que contienen siloxi altamente reticulados pueden tener cualquiera de las composiciones descritas en la presente invencion para el componente de polfmero de los materiales de revestimiento lfquidos que contienen el polfmero.

Es un objeto de la invencion proporcionar materiales de vendaje adhesivo lfquido que, despues de la evaporacion del disolvente, son utiles para proteger superficies biologicas, incluyendo a la piel y a las membranas de las mucosas, al actuar como revestimientos de sacrificio.

En otro aspecto de la invencion, se proporcionan materiales de vendaje adhesivos lfquidos que son utiles para proteger superficies biologicas y formar pelfculas adhesivas, conformables despues de la evaporacion del disolvente.

En otro aspecto, el polfmero, cuando se incorpora en lfquidos volatiles, no polares, proporciona un vendaje o revestimiento adhesivo lfquido, de sacrificio, no urticante, permeable al oxfgeno, permeable al vapor de agua, insoluble en agua, transpirable, flexible, adherente, y de rapido curado.

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En otro aspecto, el revestimiento adhesivo de sacrificio contiene moleculas terapeuticas u otros ingredientes activos que se pueden liberar de forma gradual sobre zonas seleccionadas.

Es un objeto de la invencion proporcionar poKmeros que contienen siloxisiloxano con mas del 1 % en peso de monomero reticulante a la piel que son menos adhesivos que los polfmeros que contienen siloxano relacionados que contienen menos del 1 % en peso de monomero reticulante.

Es un objeto adicional proporcionar polfmeros que contienen siloxano reticulados en un disolvente no irritante, no urticante, volatil que aparecen homogeneos al ojo humano.

Es un objeto adicional proporcionar polfmeros que contienen siloxano reticulados en un disolvente no irritante, no urticante, volatil que es de flujo libre.

Es un objeto adicional proporcionar polfmeros que contienen siloxano reticulados en un disolvente no irritante, no urticante, volatil que se pueden aplicar sobre la piel o sobre las membranas de las mucosas, seguido por la evaporacion del disolvente.

Es un objeto adicional proporcionar polfmeros que contienen siloxano reticulados en un disolvente no irritante, no urticante, volatil que, despues de evaporacion del disolvente, forman pelfculas lisas, sin grumos, transparentes.

Es un objeto adicional de esta invencion solvatar los polfmeros que contienen siloxano reticulados en un disolvente no urticante, volatil de siloxanos lineales y dclicos, alcanos lineales, ramificados y dclicos, fluorocarbonos volatiles, clorofluorocarbonos volatiles, y mezclas de los mismos.

Es un objeto adicional de esta invencion solvatar los polfmeros que contienen siloxano reticulados en dioxido de carbono lfquido.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento que contiene un polfmero de baja adherencia que se pueda aplicar a la piel o a las membranas de las mucosas procedente de la solvatacion y evaporacion de un disolvente no irritante, no urticante, volatil.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento transparente o translucido, no pegajoso que no atraiga o aloje suciedad y que pueda permanecer incoloro y transparente para la visualizacion de la herida, asf como permanecer atractivo desde el punto de vista cosmetico.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio sobre la piel bajo un adhesivo de ostoirna.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio sobre la piel para la proteccion contra el trauma por el adhesivo, incluyendo la terapia de heridas con presion negativa.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio para la proteccion de la piel perilesional.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio para la proteccion de la piel peritubular.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio para la proteccion en sitios intravenosos.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio para el trauma por el adhesivo de los tubos endotraqueales.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio para el trauma por el adhesivo de maceracion alrededor de tubos de traqueotomfa.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio para el trauma por el adhesivo en los sitios de infusion.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de sacrificio para el trauma por el adhesivo de los cateteres tipo condon.

Es un objeto adicional de la invencion es proporcionar un revestimiento de sacrificio bajo un dispositivo medico adherente.

En otro aspecto, se proporciona un revestimiento transparente que reduce el dolor y la inflamacion cuando se aplica a la piel o tejido danado o irritado.

En otro aspecto, se proporciona un revestimiento que permanece adherente a una superficie cuando se expone a agua, jabones, detergentes externos, y a la mayona de los productos para el cuidado de la piel.

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En otro aspecto, se proporciona un revestimiento que permanece adherente a una superficie cuando se expone a condiciones variables de humedad y temperatura externas.

En otro aspecto, se proporciona un revestimiento que es adherente bajo tension por flexion, incluyendo doblado, torsion, y estiramiento.

5 En otro aspecto, se proporciona un revestimiento que impide la contaminacion por microorganismos o partfculas exogenas de las heridas o incisiones de la piel o de la membrana de las mucosas.

En otro aspecto, se proporciona un revestimiento que, cuando se aplica, controla la perdida de fluidos corporales procedentes de un area erosionada.

Es un objeto adicional de esta invencion proporcionar un revestimiento que es insoluble en agua pero es permeable 10 al vapor de agua.

Es un objeto adicional de esta invencion proporcionar un revestimiento que es permeable al oxfgeno.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar una disolucion de polfmero de baja tension superficial que fluira facilmente en espacios confinados.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento que, despues de la aplicacion a una superficie 15 y, en ausencia de un adhesivo cubriente sensible a la presion, se libera de esa superficie gradualmente con el tiempo sin necesidad de requerir disolventes aplicados externamente u otros metodos de eliminacion.

Es un objeto adicional de la invencion proporcionar un revestimiento de adhesivo entre dos sustratos similares o diferentes que se puedan eliminar facilmente.

Descripcion detallada

20 En la presente invencion se describen polfmeros que contienen siloxi reticulados, solubles y materiales de revestimiento lfquidos que contienen los mismos, asf como, los metodos de uso de los materiales de revestimiento. Los polfmeros que contienen siloxi reticulados pueden incluir del 34 al 99 % en peso del monomero de al menos un componente de monomero que contiene siloxi polimerizable, y mas del 1 al 16 % en peso del monomero de un agente reticulante que contiene siloxi. Contrariamente a los polfmeros que contienen siloxi altamente reticulados 25 conocidos, los polfmeros que contienen siloxi altamente reticulados descritos en la presente invencion tienen un lfmite de solubilidad en hexametildisiloxano (HMDS, por sus siglas en ingles), isooctano o ambos de al menos el 5 % en peso. Los polfmeros que contiene siloxi altamente reticulados pueden tener cualquiera de las composiciones descritas en la presente invencion para el componente de polfmero de los materiales de revestimiento lfquido que contienen polfmero. Los materiales de revestimiento pueden incluir del 1 al 50 % en peso del polfmero que contiene 30 siloxi reticulado y del 50 al 99 % en peso de un lfquido hidrofobo, volatil no urticante como parte de un sistema de disolvente, donde el polfmero que contiene siloxi reticulado se solubiliza en el sistema de disolvente.

Componentes de monomero que contiene siloxi polimerizable util en el polfmero que contiene siloxi reticulado de la presente invencion incluyen siloxisilanos que pueden ser permeables al vapor de agua y al oxfgeno. Siloxisiloxanos polimerizables que se pueden hacer reaccionar individualmente con un agente reticulante y con otros monomeros 35 monoinsaturados para formar copolfmeros, terpolfmeros, multi-polfmeros, polfmeros de injerto, polfmeros de bloque, polfmeros ramificados, polfmeros de estrella, o polfmeros dendnticos incluyen, pero no se limitan a:

3-metacriloiloxipropiltris(trimetilsiloxi)silano (TRIS),

3-metacriloiloxipropilpentametildisiloxano,

3-metacriloiloxipropilbis(trimetilsiloxi)metilsilano,

40 3-metacriloiloxipropiltris(vinildimetilsiloxi)silano,

3-metacriloiloximetilbis(trimetilsiloxi)(pentametildisiloxanil)silano,

3-metacriloiloxietiltris(pentametildisiloxanil)silano,

Metacriloiloximetilbis(trimetilsiloxi)metilsilano,

Metacriloiloximetiltris(trimetilsiloxi)silano,

45 3-metacriloiloxipropilheptaciclopentil-T8-silsesquioxano,

3-metacriloiloxipropilheptaisobutil-T8-silsesquioxano,

3-acriloiloxipropilmetilbis(trimetilsiloxi)silano,

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3-acriloiloxipropiltris(trimetilsiloxi)silano,

3-acriloiloxipropilpentametildisiloxano,

3-metacriloxipropil-1,1,1-trifenil-3,3-dimetildisiloxano,

metacrilato de metilbis(trimetilsiloxi)sililpropilglicerilo,

metacrilato de tris(trimetilsiloxi)sililpropilglicerilo,

metacriloiloximetilfenetiltris(trimetilsiloxi)silano,

itaconato de di[(trimetilsiloxi)sililpropilo],

3-metacrilamidopropilbis(trimetilsiloxi)metilsilano,

3-metacrilamidopropiltris(trimetilsiloxi)silano,

3-acrilamidopropiltris(trimetilsiloxi)silano,

N-(trimetilsiloxi)sililpropil maleimida,

p-vinilfenilltris(trimetilsiloxi)silano,

p-vinilbenciltris(trimetilsiloxi)silano,

viniloxietiltris(trimetilsiloxi)silano,

vinilnonildimetil(trimetilsiloxi)silano,

vinilnoniltris(trimetilsiloxi)silano,

vinilmetilbis(trimetilsiloxi)silano,

vinilpentametildisiloxano,

O-(viniloxietil)-N-(tris[trimetilsiloxi]sililpropilo)uretano, vinilfenilbis(trimetilsiloxi)silano, viniltris(dimetilsiloxi)silano, viniltris(trimetilsiloxi)silano, alliltris(trimetilsiloxi)silano, N-tris(trimetilsiloxisilil)propilmaleimida, itaconato de bis(trimetilsiloxi)sililpropilo, polidimetilsiloxano terminado en vinilo, carbonato de 3-(trimetilsilil)propil vinilo, carbonato de 3-[tris(trimetilsiloxi)silil]propil vinilo, carbamato de 3-[tris(trimetilsiloxi)silil]propil vinilo, carbonato de f-butildimetilsiloxietilvinilo, carbonato de trimetilsililetilvinilo, carbonato de trimetilsililmetilvinilo, polidimetilsiloxano monoacrilato, polidimetilsiloxano monometacrilato, polimetilfenilsiloxano monoacrilato, polimetilfenilsiloxano monometacrilato,

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polidimetilsiloxanos terminados en monometacriloxipropilo,

3-acriloiloxipropiltris(polidimetilsiloxanil)silano,

polidimetilsiloxano terminado en mono(3-acriloxi-2-hidroxipropoxipropilo), carbamato de O-metacriloxietil-N-(trimetilsiloxisililpropilo), carbamato de O-metacriloxietoxi-N-[bis(trimetilsiloxi)metilsilil]propilo, N-(3-metacriloxi-2-hidroxipropil)-3-aminopropiltris(trimetilsiloxi)silano,

(3-metacriloxi-2-hidroxipropoxi) propilbis(trimetilsiloxi)metilsilano, metacriloiloxi(polietilenoxi)propiltris(trimetilsiloxi)silano, y similares.

Los monomeros de siloxisilano pueden hacer que el polfmero que contiene siloxi reticulado sea soluble en los sistemas de disolvente volatil, no urticantes, no polares, preferidos. Monomeros que contienen siloxi ejemplares incluyen alquilsiloxisilanos polimerizables, arilsiloxisilanos y alquilarilsiloxisilanos, siendo los mas preferidos los alquilsiloxisilanos. Los monomeros que contienen siloxi pueden ser alquilsiloxisilanos metacrilados, tal como el 3- metacriloiloxipropiltris(trimetilsiloxi)silano (TRIS).

El componente monomero que contiene siloxi puede estar presente en una cantidad que vana del 34 al 99 % en

peso, o del 50 al 99 % en peso, o del 60 a 98,75 % en peso, o del 70 al 98,5 % en peso o del 80 al 98,5 % en peso

basado en el peso total del polfmero que contiene siloxi reticulado. El componente de monomero que contiene siloxi puede ser al menos el 50 % en peso, o al menos el 60 % en peso, o al menos el 70 % en peso, o al menos el 80 %

en peso, o al menos el 84 % en peso, o al menos el 90 % en peso basado en el peso total del polfmero que contiene

siloxi reticulado.

Como se usa en la presente invencion, un polfmero es "soluble" o esta "solubilizado" cuando la cantidad de polfmero presente en el sistema de disolvente esta completamente disuelta en el sistema de disolvente sin que el polfmero forme un precipitado o partfculas de gel hinchadas, visibles en la disolucion. Como se usa en la presente invencion, el termino "lfmite de solubilidad" es la cantidad maxima, medida como un porcentaje del peso total de la disolucion, de un polfmero dado que se puede disolver en un sistema de disolvente dado. Por ejemplo, el polfmero que contiene siloxi reticulado puede tener un lfmite de solubilidad de al menos un 5 % en peso, al menos un 10 % en peso, al menos un 15 % en peso, al menos un 20 % en peso, al menos un 25 % en peso, o al menos un 30 % en peso en HDMS, isooctano o en cualquier otro sistema de disolvente descrito en la presente invencion, basado en el peso total del material de revestimiento que contiene el polfmero, lfquido.

En los polfmeros de esta invencion tambien se pueden incorporar otros monomeros polimerizables por adicion para modificar la adhesion, cohesion, elasticidad, flexibilidad, dureza, transparencia, opacidad, color, fluorescencia, absorbancia de ultravioleta, absorbancia de infrarrojos, mdice de refraccion aumentado o disminuido, permeabilidad al oxfgeno, solubilidad del oxfgeno, contenido de agua, permeabilidad al vapor de agua, biodegradacion, citotoxicidad, agrietamiento, fractura, densidad, expansion termica, fluencia, compresion, capacidad calonfica, conductividad termica, temperatura de transicion vftrea, y combinaciones de las mismas. Comonomeros polimerizables por adicion tfpicos que se pueden hacer reaccionar con los vinilalquilsiloxisilanos para formar multi- polfmeros son: metacrilato de metilo, acrilato de metilo, metacrilato de tetrahidrofurfurilo, acrilato de ciclohexilo, acrilato de tetrahidrofurfurilo, acrilato de n-laurilo, metacrilato de n-laurilo, acrilato de 2-fenoxietilo, metacrilato de 2- fenoxietilo, acrilato de isodecilo, metacrilato de isodecilo, acrilato de isooctilo, metacrilato de isooctilo, acrilato de isobornilo, metacrilato de isobornilo, acrilato de estearilo, metacrilato de estearilo, metacrilato de bencilo, acrilato de 2-butoxietilo, acrilato de n-butilo, metacrilato de n-butilo, anfndrido metacnlico, acetoacetato de 2-(metacriloiloxi)etilo, acrilato de etilo, metacrilato de behenilo, metacrilato de etilo, itaconato de dimetilo, itaconato de di-n-butilo, acrilato de 2-etilhexilo, metacrilato de 2-etilhexilo, metacrilato de furfurilo, acrilato de n-hexilo, metacrilato de n-hexilo, acrilato de isobutilo, metacrilato de isobutilo, metacrilato de isopropilo, o-metilestireno, estireno, p-t-butilestireno, 4- metoxiestireno, N-vinilcarbazol, acrilato de n-octadecilo, metacrilato de n-octadecilo, metacrilato de 2-feniletilo, metacrilato de n-tridecilo, benzoato de vinilo, naftaleno de vinilo, itaconato de di-isooctilo, acrilamida, N- metilacrilamida, N-fenilacrilamida, N-etilacrilamida, N-(hidroximetil)acrilamida, N-(hidroximetil)metacrilamida, N- [tris(hidroximetil) metilacrilamida, N-isopropilacrilamida, N,N-dietilacrilamida, N,N-dimetilacrilamida, N,N- dimetilmetacrilamida, N-difenillmetilacrilamida, N-(trifenilmetil)metacrilamida, N-acriloilamidoetoxietanol, diacetona acrilamida, N-vinilpirrolidona, N-vinilcaprolactama, N-vinilformamida, N-vinil-N-metilformamida, N-vinilacetamida, N- vinilftalamida, N-(2-metacriloiloxietil)etilen urea, N-(2-metacrilamidoetil)etilen urea, 4-acriloilmorfolina, maleimida, N- metilmaleimida, N-(2,3-dihidroxipropil)maleimida, N-vinilsuccinimida, N-vinildiacetamida, epsilon-acriloillisina, N- acriloiluracil, N-acriloiltimina, N-acriloiladenina, N-acriloilguanina, N-acriloilurea, N-acriloilguanidina, N- acrilglucosamina, N-allilpirrolidona, N-allilacetamida, metacrilato de N,N-dimetilaminoetilo, acrilato de N,N- dimetilaminoetilo, metacrilato de N,N-dietilaminoetilo, acrilato de N,N-dietilaminoetilo, N,N- dimetilaminopropilmetacrilamida, N,N-dimetilaminopropilacrilamida, vinilbencil-N,N-dimetilamina,

metacriloiloxietilamina, N-vinilimidazol, 4(5)-vinilimidazol, 4-vinilpiridina, 2-vinilpiridina, 2-metil-5-vinilpiridina, viniltriazina, 4-aminoestireno, p-hidroxiestireno, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2-hidroxietilo, metacrilato de

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glicerilo, acrilato de glicerilo, acrilato de 4-hidroxibutilo, monoacrilato de poli(etilenglicol), monometacrilato de poli(etilenglicol), metacrilato de poli(etilenglicol monometil eter), monoacrilato de dietilenglicol, monometacrilato de dietilenglicol, monoacrilato de trietilenglicol, monometacrilato de trietilenglicol, monoacrilato de tetraetilenglicol, monometacrilato de tetraetilenglicol, metacrilato de trietilenglicol metil eter, metacrilato de trifenilmetilo, y similares. Ademas se pueden usar siloxanos monomericos fluorados, itaconatos fluorados, metacrilatos o acrilatos fluorados, tales como metacrilato de hexafluoroisopropilo. Ademas, en ciertos casos, se pueden usar monomeros acidos tales como acido acnlico, acido metacnlico, acido itaconico, acido fumarico, acrilato de p-carboxietilo, maleato de mono-2- (metacriloiloxi)etilo, succinato de mono-2-(metacriloiloxi)etilo, acido 2-acetamidoacnlico, acido 2-acrilamidoglicolico, acido 2-acrilamido-2-metil-1-propanosulfonico y sus sales, y acido vinilbenzoico, en particular para coordinar con compuestos biologicamente activos, cationicos. Alternativamente, se pueden anadir monomeros cationicos para aumentar la adhesion a superficies anionicas, que incluyen cloruro de (3-acrilamidopropil)trimetilamonio, cloruro de [3-(metacriloilamino)propil] trimetilamonio, cloruro de (3-metacriloiloxietil)trimetilamonio y cloruro de vinilbencil trimetilamonio, y sales relacionadas. Tambien se pueden anadir monomeros Zwitterionicos tales como la sal interna del [3-(metacriloilamino)propil]dimetil(3-sulfopropil) hidroxido de amonio y la sal interna del [2- (metacriloiloxi)etil]dimetil-(3-sulfopropil) hidroxido de amonio. Los monomeros polimerizables por adicion pueden estar presentes en el polfmero que contiene siloxi reticulado en una cantidad que vana del 3 al 60 % en peso, o del 10 al 55 % en peso, o del 20 al 50 % en peso, o del 30 al 48 % en peso, o del 35 al 47,5 % en peso basado en el peso total del polfmero que contiene siloxi reticulado. El componente de monomero polimerizable por adicion puede ser al menos 10 % en peso, o al menos 20 % en peso, o al menos 30 % en peso, o al menos 40 % en peso, o al menos 46,4% en peso, o al menos 60 % en peso basado en el peso total del polfmero que contiene siloxi reticulado.

Comonomeros polimerizables preferidos incluyen metacrilato de metilo, N-isopropilacrilamida, itaconato de dimetilo, itaconato de n-dibutilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de isooctilo, N-vinilpirrolidona, N,N-

dimetilaminopropilacrilamida, y metacrilato de N, N-dimetilaminoetilo y combinaciones de los mismos, siendo los mas preferidos metacrilato de metilo, acrilato de isooctilo y N-isopropilacrilamida, y siendo el mas preferido el metacrilato de metilo.

En ciertos casos, en particular con los monomeros altamente hidrofilos, se puede incorporar un co-disolvente volatil hidrofilo, tal como etanol, etanol/agua, isopropanol, o isopropanol/agua, o N,N-dimetilacetamida con el siloxano volatil o con el disolvente alcano volatil. Para monomeros ionicos relativamente insolubles, puede ser particularmente util incorporar N,N-dimetilacetamida. Por ejemplo, el co-disolvente puede estar presente a una concentracion del 10 % en peso o menos del total del disolvente, o 7 % en peso o menos, o 5 % en peso o menos, o 3 % en peso o menos, o 1 % en peso o menos, o 0,5 % en peso o menos. El co-disolvente puede estar presente en una concentracion de al menos 0,01 % en peso del disolvente total.

Agentes reticulantes no-siloxi polimerizables tfpicos que son utiles en la preparacion de polfmeros reticulados pueden incluir, pero no se limitan a, dimetacrilato de etilenglicol, diacrilato de etilenglicol, dimetacrilato de dietilenglicol, dimetacrilato de trietilenglicol, dimetacrilato de tetraetilenglicol, dimetacrilato de poli(etilenglicol), trimetacrilato de trimetilolpropano, N,N-metilenbis(acrilamida), triacrilato de trimetilolpropano, ftalato de dialilo, cianurato de trialilo, N,N'-(1,2-dihidroxietileno)bisacrilamida, 1,4-bis(acriloil)piperazina, dimetacrilato de glicerol, dimetacrilato de 1,3-butanodiol, dimetacrilato de 1,4-butanodiol, dimetacrilato de 1,6-hexanodiol, dimetacrilato de 4,4'-isopropilidendifenol, dimetacrilato de bisfenol A, divinilbenceno, divinilsulfona, dimetacrilato de 1,14- tetradecanodiol, dimetacrilato de polibutadieno, dimetacrilato de diuretano, dimetacrilato de bisfenol A etoxilado, diacrilato de neopentilglicol, dimetacrilato de neopentilglicol, dimetacrilato de poli(propilenglicol), y disulfuro de bis(2- metacriloilo)oxietilo. Tales monomeros reticulantes polimerizables por adicion no se prefieren en la copolimerizacion con monomeros de siloxisilano polimerizables por adicion en concentraciones donde el contenido total de agente reticulante es mayor del 1 % en peso para formar vendajes adhesivos lfquidos de sacrificio solubles.

Agentes reticulantes siloxi polimerizables por adicion incluyen 1,3-bis(metacriloximetil)-1,1,3,3-tetrametildisiloxano, 1,3-bis(3-acrilamidopropil)tetrametildisiloxano, 1,3-bis(metacrilamidopropil)tetrametildisiloxano, a,w-

bis(metacriloIoxialquil)polidimetilsiloxanos, 1,3-bis(3-metacriloxipropil)-1,1,3,3-tetraquis(trimetilsiloxi)disiloxano

(dfmero del TRlS, abreviado D-TRIS), 1,3-bis(3-metacriloxipropil)tetrametildisiloxano, 1,3-bis(3-metacriloxi-2- hidroxipropoxipropil)tetrametildisiloxano, 1,3-bis(metacriloxipropil)-1-metacriloiloxipropilbis(trimetilsiloxi)siloxi-1,1,3- tris(trimetilsiloxi)disiloxano (tnmero del TRIS, abreviado T-TRIS), 1,1,1,3,3,3-hexaquis(metacriloximetil)disiloxano, 1, 2,3,4,5,6-hexaquis(metacriloximetil)benceno, tris(3-metacriloxipropil)trimetilsiloxisilano, tetraquis(3-

metacriloxipropil)silano, 1,3-bis[4-viniloxicarboniloxi)but-1-il]tetrametildisiloxano, y similares. De los monomeros reticulantes de siloxisilano, se prefieren 1,3-bis(3-metacriloxipropil)-1,1,3,3-tetraquis(trimetilsiloxi)disiloxano (D-TRIS), metacriloiloxipropilbis[metacriloiloxipropildi(trimetilsiloxi)]siloxisilano (T-TRIS), a,w-

bis(metacriloioxialquil)polidimetilsiloxanos, y copolfmero de (metacriloxipropil)metilsiloxano-dimetilsiloxano, siendo el mas preferido el D-TRIS y los a,w-bis(metacriloioxialquil)polidimetilsiloxanos, y siendo el mas preferidos el D-TRIS. Los agentes reticulantes siloxi polimerizables pueden estar presentes en una cantidad que vana del 1 al 16 % en peso, o del 2 al 10 % en peso, o del 3-8 % en peso, o del 4-7 % en peso, basado en el peso total del polfmero de siloxisilano reticulado.

Los polfmeros de siloxisilano reticulados pueden ser polfmeros reticulados de monomeros de siloxisilano solo, o polfmeros reticulados de monomeros de siloxisilano con otras clases de comonomeros de vinil polimerizables. Lo mas preferiblemente, el monomero de siloxisilano se deriva de un homopolfmero cuya temperatura de transicion

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vftrea es inferior a 0°C. Lo mas preferiblemente, el monomero de siloxisilano es TRIS. Preferiblemente, el poUmero de siloxisilano reticulado incorpora un monomero hidrofobo, y mas preferiblemente un monomero hidrofobo cuyo homopoUmero es un termoplastico, transparente, ngido. Lo mas preferiblemente, el comonomero ngido anadido es metacrilato de metilo. El agente reticulante preferido es un siloxano o siloxisilano vinil polimerizable di-, tri-, o multifuncional, por ejemplo, D-TRIS. Algunos otros polfmeros de siloxisilano reticulados ejemplares incluyen monomeros hidrofobos, preferiblemente monomeros hidrofobos cuyos homopoKmeros forman termoplasticos transparentes, ngidos.

Para polimerizaciones con monomeros de siloxisilano, es preferible usar dfmeros de siloxisilano como agentes reticulantes debido a su mayor solubilidad y compatibilidad en un disolvente de siloxano volatil tal como hexametildisiloxano. Para la polimerizacion por reticulacion del monomero TRIS, el agente reticulante preferido es un dfmero del TRIS, a una concentracion de agente reticulante preferida que vana de mas del 1 % en peso al 16 % en peso, o del 2 al 10 % en peso, o del 3 al 8 % en peso o 4-7 % en peso de la concentracion total del monomero en el polfmero. Algunas de estas formulaciones tambien pueden incluir el tnmero del TRIS en el dfmero del TRIS a concentraciones de hasta un 1,1 % en peso, o hasta un 0,5 % en peso, o hasta un 0,3 % en peso basado en la concentracion total del monomero. El tnmero del TRIS puede estar presente en una cantidad de al menos 0,05 % en peso, o al menos 0,1 % en peso o al menos 0,15 % en peso.

Monomeros del TRIS utiles en la presente invencion se pueden obtener comercialmente, por ejemplo, de Silar Laboratories, Wilmington, Carolina del Norte. Se usaron dos monomeros del TRIS con diferentes contenidos de dfmeros del TRIS, un TRIS que contema un 0,3 % en peso del D-TRIS y un TRIS que contema un 9,3 % en peso del D-TRIS y un 1,1 % en peso del T-TRIS. Ademas, el D-TRIS se obtuvo de Gelest Inc., Morrisville, PA y se anadio en diferentes proporciones al monomero TRIS que contema un 0,3 % en peso del D-TRIS.

Para la iniciacion de la polimerizacion, se pueden usar iniciadores de radicales libres en la formacion de los polfmeros, que incluyen azobisisobutironitrilo, 2,2'-azobis(2,4-dimetilpentanonitrilo), 2,2'-azobis-(2-metilbutanonitrilo), 2,2'-azodi(2-metilbutironitrilo), 2,2'-azobis(2-metilpropionitrilo), 2,2'-azodi(2,4-dimetilvaleronitrilo), dihidrocloruro de 2,2'-azobisamidinopropano, dihidrocloruro de 2,2'-azobis(2-metilpropionamidina), dihidrocloruro de 2,2'-azobis(N,N'- dimetilen isobutiramidina), 2,2'-azobis(4-metoxi-2,4-dimetil valeronitrilo), 4,4'-azobis(acido 4-cianovalerico), persulfato de potasio, persulfato de amonio, peroxido de benzoilo, 2,5-dimetil-2,5-bis(2-etilhexanoilperoxi) hexano, peroxido de acetilo, peroxido de cumilo, peroxido de f-butilo, hidroperoxido de f-butilo, iniciadores redox y similares. La polimerizacion se puede llevar a cabo por tecnicas en disolucion, emulsion, suspension o precipitacion. Ademas de la iniciacion termica, la polimerizacion se puede iniciar tambien por oxidacion-reduccion (iniciadores redox), fotoiniciadores de luz visible o UV, irradiacion con rayos gamma, irradiacion sonica, o por iniciadores de polimerizacion controlada (radicales latentes).

Si se desean polfmeros siloxi de bloque, de injerto, o de estrella reticulados, estos se pueden preparar preferentemente usando tecnicas conocidas, que incluyen, pero no se limitan a, Polimerizacion por Radicales por Transferencia de Atomos (ATRP, por sus siglas en ingles), Polimerizacion por Transferencia de Cadena Mediante Adicion-Fragmentacion Reversible (RAFT, por sus siglas en ingles), Polimerizacion por Radicales Libres Estables (SFRP, por sus siglas en ingles), Polimerizacion por Radicales Mediada por Nitroxido.

El disolvente volatil para el polfmero que contiene siloxano reticulado es preferiblemente un siloxano lineal o un siloxano dclico, tal como hexametildisiloxano (HDMS, por sus siglas en ingles), octametilciclotetrasiloxano, decametilciclopentasiloxano, y octametiltrisiloxano, o un alcano lineal, ramificado o dclico, tal como propano, isobutano, butano lfquido (por ejemplo, a presion), pentano, hexano, heptano, octano, isooctano, destilados del petroleo, ciclohexano, hidrocarburos fluorados, tales como tricloromonofluorometano, diclorodifluorometano, diclorotetrafluoroetano, tetrafluoroetano, heptafluoropropano, 1,1-difluoroetano, pentafluoropropano, perfluoroheptano, perfluorometilciclohexano, 1,1,1,2-tetrafluoroetano, 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano, clorofluorocarbonos, ademas del dioxido de carbono lfquido, y combinaciones de los mismos. Como se usa en la presente invencion, "volatil" tiene su significado estandar, es decir, se puede evaporar rapidamente a temperaturas y presion normales. Por ejemplo, un disolvente puede ser volatil si una gota metrica (1/20 ml, 50 pi) del disolvente se evapora completamente entre 20-25°C dentro de 5 minutos, o dentro de 4 minutos, o dentro de 3 minutos, o dentro de 2 minutos, o dentro de 1 minuto, o dentro de 30 segundos, o dentro de 15 segundos.

Adicionalmente, se puede anadir un promotor de adhesion al polfmero de revestimiento mezclado con el disolvente volatil. Los promotores de adhesion funcionan generalmente mediante el aumento de la fluencia (flujo) y de la pegajosidad (adherencia) de un sistema de polfmero. Preferiblemente, los revestimientos de la presente invencion muestran una baja pegajosidad. Los promotores de adhesion preferidos incluyen acetato isobutirato de sacarosa y polfmeros fluidos de bajo peso molecular de polisiloxanos que contienen fenilo, especialmente feniltrimeticona (Dow Corning® 556 Fluido Grado Cosmetico), siendo la mas preferida la feniltrimeticona.

Si se desean propiedades biocidas para el revestimiento de polfmero, se pueden anadir agentes anti-infecciosos, tales como nano-partfculas de plata, sulfadiazina de plata, sales de biguanida tales como digluconato de clorhexidina, dihidrocloruro de alexidina, o hidrocloruro de poli(hexametilen biguanida) como solidos en suspension al polfmero de revestimiento en el disolvente volatil, asf como antibioticos topicos solidos tales como neomicina, polimixina B, y bacitracina. De manera similar se pueden anadir otros materiales solidos biologicamente activos,

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tales como agentes anti-prurito, tales como manzanilla, eucalipto, alcanfor, mental, oxido de zinc, talco, y calamina, agentes anti-inflamatorios, tales como corticosteroides, agentes antifungicos, tales como hidroclururo de terbinafina y nitrato de miconazol, agentes anti-inflamatorios no esteroideos, tales como ibuprofeno. Tambien se pueden anadir aceites esenciales como agentes saborizantes, agentes aromaticos, o agentes antimicrobianos, incluyendo timol, mentol, madera de sandalo, canela, jazmm, lavanda, pino, limon, rosa, eucalipto, clavo, naranja, menta, hierbabuena, menta, citronela, bergamota, limoncillo, cipres, nuez moscada, abeto, arbol de te, gaulteria, vainilla, y similares. Despues de la evaporacion del disolvente, volatil, el revestimiento de polfmero contendra ingredientes biologicos o farmaceuticos activos atrapados para su liberacion controlada a una superficie biologica.

Otros usos y ventajas

Los materiales de revestimiento lfquidos ligeramente adhesivos de esta invencion pueden ser utiles para proteger o tratar piel, unas y membranas de las mucosas, por ejemplo, erupciones, cortes en la piel, abrasiones, escaras de decubito, incisiones, ampollas, irritacion por hiedra venenosa, picaduras de mosquitos, eczema, urticarias, piel agrietada por sequedad, gomas de abrasion y otras superficies orales, hemorroides y zonas abradidas del cuerpo, piel inflamada y tejido de cicatriz, pie de atleta, tina inguinal, infecciones por herpes y, otras incisiones y heridas en las membrana de las mucosas. El material de revestimiento reticulado es util en areas superficiales expuestas a altos niveles de movimiento, por ejemplo, nudillos, rodillas, codos, pies y similares. Un revestimiento ligeramente adherente es capaz de ser arrancado de una superficie a la que se aplica sin causar ruptura o desgarro de la superficie. Para superficies biologicas tales como la piel, sin eliminar porciones de la epidermis o danar piel, cicatrices o tejido debajo del revestimiento ligeramente adherente.

Debido a que el revestimiento de sacrificio no es urticante y cubre rapidamente las terminaciones nerviosas expuestas, el dolor se reduce inmediatamente. Para la piel y las superficies de las mucosas danadas, la curacion parece ocurrir mas rapidamente en comparacion con la curacion en ausencia del vendaje lfquido. Esto se puede deber a la mejorada permeabilidad al oxfgeno de la peltaula y a su capacidad de transmitir el vapor de agua, asf como a su capacidad para prevenir la contaminacion microbiana.

Los dispositivos medicos adherentes al cuerpo se pueden revestir con los materiales de revestimiento segun la invencion. Ejemplos de dispositivos medicos adherentes al cuerpo a los que se pueden aplicar los materiales de revestimiento de la invencion incluyen, pero no se limitan a, vendas, parches, espumas, y apositos para heridas, asf como dispositivos medicos usados para procedimientos tales como colostoirnas, ileostoirnas, ileostoirnas de Kock, enterostoirnas y yeyunostoirnas.

Otros usos medicos adicionales incluyen la formacion de peltaulas para su uso en la eliminacion de labios agrietados, herpes labial, el tratamiento de superficies corporales internas y la proporcion de proteccion a la piel y a otras superficies que puedan ser medicadas antes de la aplicacion.

Los revestimientos de sacrificio de esta invencion se podnan usar para aplicaciones diferentes al cuidado corporal medico. Por ejemplo, el revestimiento ligeramente adherente se podna usar (i) como un revestimiento bajo etiquetas tales que las etiquetas se puedan eliminar de un arttaulo sin dejar adhesivo o una parte de la etiqueta cuando se elimina la etiqueta, (ii) como un revestimiento de sacrificio bajo cinta de pintores para proporcionar lmeas de pintura mtidas con una facil eliminacion de la cinta de pintor sin el decapado de la pintura o para la eliminacion de manchas, (iii) como una membrana permeable al oxfgeno o al vapor de agua, o (iv) como un revestimiento antimicrobiano facilmente eliminable sobre superficies tales como mesas y suelos. El revestimiento que incorpora un fungicida en suspension se podna usar para proteger la lechada en superficies de baldosas. El revestimiento se podna usar como una peltaula permeable al vapor de agua para proteger a las plantas y a las flores de la deshidratacion o para protegerlas de las enfermedades. El revestimiento tambien se podna adherir ligeramente al papel, con una facil eliminacion de las piezas unidas. Ademas, se pueden usar las peitaulas secas que contienen monomeros hidrofobos e hidrofilos para prevenir la niebla que se forma sobre superficies, tales como en el vidrio de los parabrisas o en las mascaras de buceo. Ademas, el revestimiento adhesivo lfquido es mas util como un protector solar con la incorporacion de absorbentes de UV. Se debe entender que el propio revestimiento comprende el polfmero que contiene siloxi reticulado y los aditivos, pero no el sistema de disolvente, que se evapora una vez que se aplica a la superficie el material de revestimiento que contiene el polfmero, lfquido.

Los siguientes ejemplos se ofrecen a modo de ilustracion, no a modo de limitacion. Aunque se han proporcionado ejemplos espedficos, la descripcion anterior es ilustrativa y no restrictiva. En la presente invencion, una cualquiera o mas de las caractensticas de las realizaciones descritas previamente se pueden combinar de cualquier manera con una o mas caractensticas de cualquiera otra realizacion. Ademas, para los expertos en la tecnica resultaran evidentes muchas variaciones de la invencion tras la revision de la memoria descriptiva. El alcance de la invencion no se debe, por tanto, determinar con referencia a la descripcion, sino que en su lugar se debe determinar con referencia a las reivindicaciones adjuntas junto con el alcance completo de sus equivalencias.

Todas las publicaciones y documentos de patente citados en esta solicitud se incorporan por referencia en la parte pertinente a todos los efectos en la misma medida como si cada documento de patente o publicacion individual estuviera indicado de manera individual. Mediante la cita de varias referencias en la presente invencion, los solicitantes no admiten referencia particular a una de ellas, es "tecnica" de su invencion.

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EJEMPLOS

Los siguientes ejemplos sirven para ilustrar la invencion sin limitarla por ello. Se entendera que se pueden hacer variaciones y modificaciones sin apartarse del espmtu y alcance de la invencion.

Los monomeros, agentes reticulantes y disolventes usados en estos ejemplos incluyen:

TRIS (que contiene un 0,3 % del D-TRIS): 3-metacriloxipropiltris(trimetilsiloxi)silano, Silar Laboratories, Lote # 0121708 y Lote # 042170, (no se mdica tnmero en ninguna de las muestras).

TRIS (que contiene un 9,3 % del D-TRIS y un 1,1 % del T-TRIS): Silar Laboratories, Lote # 112210NTL.

Dfmero del TRIS (D-TRIS): 1,3-bis(3-metacriloxipropil)-1,1,3,3-tetraquis(trimetilsiloxi)disiloxano, Gelest, Inc., Lote # 2E-18 243, 90 % de pureza.

MMA: metacrilato de metilo, Alfa Aesar, Lote # 15955.

IOA: acrilato de isooctilo, Sartomer, Lote # KTE0774.

NIPAM: N-isopropil acrilamida, Jarchem, Lote # N60206 EGDMA: dimetacrilato de etilenglicol, Sartomer, Lote # KTB0237.

SR350: trimetacrilato de trimetilolpropano, Sartomer, Lote # VHL5473.

CN301: dimetacrilato de polibutadieno, Sartomer, Lote # JJH7507.

RMS-033: copolfmero de 2-4 % en moles de (metacriloxipropil)metilsiloxano - 96-98 % mol de dimetilsiloxano, Gelest, Lote # 2H-18870.

DMS-R11: bis(metacriloxipropil-terminado) polidimetilsiloxano, peso molecular 900-1.200, Gelest, Lote # 2K-19482. VAZO 67: 2,2'-azodi(2-metilbutironitrilo), DuPont, Lote # 80224368.

VAZO 52: 2,2-azodi(2,4-dimetilvaleronitrilo), DuPont, Lote # 100119418.

Acetato de etilo: VWR, Lot # 080910E.

HMDS: hexametildisiloxano, Dow Corning, Lote # 0004990331.

Isooctano: VWR, Lote # 022009A.

Metanol: VWR, Lote # 073008A.

DMI: itaconato de dimetilo: Sigma Aldrich, Lote # MKBC2742V.

DBI: itaconato de di-n-butilo: Sigma Aldrich, Lote # MKBC5067.

OMTS: Octametiltrisiloxano, Dow Corning, Lote # 0001903485.

Heptano: Alfa Aesar, Lote # K12T028.

Todos los monomeros, disolventes, e iniciadores se usaron como se recibieron. Para el D-TRIS, la concentracion del el dfmero en todas las tablas se baso en el 90 % de pureza, siendo el 10 % restante el monomero TRIS.

Ejemplo 1

Procedimiento de smtesis para el polfmero reticulado de TRIS que contiene un 0,3 % en peso de D-TRIS:

A 85,12 g de TRIS (que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS) pesados en un vaso de precipitados de 1 L se anadieron 0,6380 g de Vazo® 67. A esto, se anadieron 320 g de acetato de etilo. La mezcla se agito hasta que se disolvieron completamente todos los componentes, y la solucion se transfirio a un recipiente de resina de tres bocas equipado con una entrada de nitrogeno, un termometro, y un condensador. El recipiente se calento con una manta de calentamiento donde la temperatura de polimerizacion se elevo a 80°C. Se mantuvo a esta temperatura durante aproximadamente 1 h y despues se disminuyo lentamente a 67°C durante aproximadamente 35 min. Se dejo evolucionar la polimerizacion durante un total de 6 h. Luego, se pesaron 0,2128 g de Vazo® 52, se diluyeron con acetato de etilo y se anadieron a la reaccion. El recipiente de resina se agito suavemente y se aumento la temperatura a 75°C. Se dejo que continuara la polimerizacion a esta temperatura durante otras 3 h. Se evaporo el disolvente a temperatura ambiente hasta que el volumen de la disolucion era de aproximadamente un 10 % del original. La solucion se vertio en 1 L de metanol y se dejo reposar durante 24 h con el fin de precipitar el polfmero. Se separo el licor madre por decantacion y se anadieron 300 ml de metanol. La mezcla se agito en un agitador

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durante 2 horas a temperatura ambiente (20-25°C), y luego se dejo reposar durante 3 h a temperatura ambiente (20- 25°C). Se aislo el polfmero y se cambio el metanol y se repitio el proceso de lavado. El poKmero se lavo de esta manera un total de cinco veces. En la mezcla de metanol, el polfmero era insoluble pero se hinchaba. El polfmero, de composicion 99,7 % en peso de TRIS y 0,3 % en peso de D-TRIS (Tabla 1), se seco bajo una lampara a aproximadamente 45°C durante 8 dfas.

Ejemplo 2

Smtesis representativa de polfmeros reticulados de TRIS (que contiene un 0,3 % en peso de D-TRIS), con adicion de D-TRIS:

Se cargo una botella de vidrio Schott Duran® de 25 ml con 0,4868 g (0,64 mmol) de D-TRIS (1,3-bis(3- metacriloxipropil)tetraquis(trimetilsiloxi)disiloxano; grado tecnico, 90 % de pureza; Gelest, lote # 2E-18243; [CAS # 80722-63-0]). A esto, se anadieron 2,5l28 g (5,9 mmol) de TRIS 3-metacriloxipropil tri(trimetilsiloxi)silano, 99,7 % de pureza; Silar Labs, lote # 042710; [CAS # 17096-07-0]). Esto fue seguido por la adicion de 4,0234 g de hexametildisiloxano, Dow Corning, lote # 0004990331; [cAs # 107-46-0]. A continuacion, se cargo una segunda botella de vidrio Schott Duran® de 25 ml con 0,1554 g de iniciador 2,2'-azodi(2-metilbutironitrilo)(Vazo® 67), [CAS # 13472-08-7]. Esto fue seguido por la adicion de 20,0001 g de hexametildisiloxano. La botella se sello y se agito hasta que se disolvio el Vazo™ 67. A la botella previamente cargada con el monomero se anadieron 3,0009 g de esta disolucion madre, aportando 0,0233 g (0,12 mmol) de iniciador.

Despues, la disolucion combinada se purgo con nitrogeno durante 5 min antes de ser sellada y colocada en un bano de aceite equilibrado a 70°C. Se dejo proceder la reaccion durante seis horas antes de ser retirada del bano de aceite y se enfrio a temperatura ambiente. Luego se retiro la tapa y se dejo reposar la botella durante la noche.

Luego se vertio la disolucion homogenea de la reaccion como una corriente fina en 150 ml de metanol agitado vigorosamente. Esto dio como resultado inmediatamente un precipitado opalescente, globular. El polfmero y el metanol se colocaron en un agitador y se agitaron durante 3 h. Luego se decanto el metanol y se anadieron 50 ml de metanol fresco. Se continuo con la agitacion durante 3 h adicionales. Este procedimiento se repitio para un total de tres lavados de 50 ml durante un penodo de 9 h. Para el 4° lavado y el lavado final, se dejo precipitar al polfmero en 50 ml de metanol sin agitar durante 16 h (durante la noche). Luego se secaron los polfmeros durante 3 dfas a presion reducida (aspirador). El rendimiento fue de 2,7386 g de polfmero incoloro, opticamente transparente.

Se cree que el TRIS y el D-TRIS tienen la misma reactividad radical debido a la similitud de sus estructuras polimerizables, que posiblemente conduzcan a polfmeros reticulados que son aleatorios en su estructura. Este comportamiento facilitana la copolimerizacion del TRIS y D-TRIS.

El comportamiento solubilidad/gel de estos polfmeros tambien se muestra en la Tabla 1. La solubilidad del polfmero purificado en HMDS (por sus siglas en ingles) se denota por cualquiera de un Sf o No, con un Sf se indica una disolucion fluida y con un No se indica que se produjo la formacion de gel. En esta Tabla, las cargas del polfmero eran al 10 % en peso del polfmero. La solubilidad, senalada por disoluciones capaces de fluir, se encontro para polimerizaciones de TRIS y D-TRIS a concentraciones del agente reticulante de hasta un 16,0 % en peso, observandose la gelificacion al 18,0 % en peso. En las disoluciones solubles no estaban presentes partfculas de gel o precipitado, y las pelfculas coladas a partir de estas disoluciones eran transparentes y suaves. Estos resultados son muy sorprendentes ya que se podfan mantener disoluciones fluidas a niveles muy altos de agente reticulante anadido.

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Tabla 1. PoUmeros de TRIS reticulados con D-TRIS

TRIS (% en peso): D-TRIS (% en peso) Solubilidad en HMDS

99,7: 0,3 Sf, fluido

98,0: 2,0 Sf, fluido

95,9: 4,1 Sf, fluido

95,0: 5,0 Sf, fluido

94,0: 6,0 Sf, fluido

93,0: 7,0 Sf, fluido

92,0: 8,0 Sf, fluido

91,0: 9,0 Sf, fluido

88,0: 12,0 Sf, fluido

85,0: 15,0 Sf, fluido

84,0: 16,0 Sf, fluido

82,0: 18,0 No, formacion de gel

80,0: 20,0 No, formacion de gel

78,0: 22,0 No, formacion de gel

La pelfculas de poKmero secas que conteman del 4,1 al 8,0 % en peso de D-TRIS eran elasticas.

Ejemplo 3

Procedimientos de smtesis para TRIS (que contiene un 0,3 % en peso de D-TRIS)/MMA mas D-TRIS anadido y TRIS (que contiene un 9,3 % en peso de D-TRIS y un 1,1 % en peso de T-TRIS)/MMA:

Para muestras con solo D-TRIS, se siguieron procedimientos similares a los del Ejemplo 2, excepto que se anadieron diferentes niveles de D-TRIS al TRIS, que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS, ademas del MMA. Las polimerizaciones se llevaron a cabo en un disolvente de HMDS en botellas de Schott Duran® al 30 % de solidos en un disolvente total de 7 g de HMDS con 0,0225 g de Vazo® 67 como iniciador. Las reacciones de polimerizacion se desgasificaron con nitrogeno, se sellaron, y se colocaron en un bano de aceite durante 6 horas a 71-72°C. La concentracion de los monomeros usados se muestra en la Tabla 2.

Para muestras con D-TRIS y T-TRIS, se siguieron procedimientos similares a los del Ejemplo 2, excepto que se anadieron diferentes niveles de D-TRIS al TRIS, que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS, y al TRIS, que contema un 9,3 % en peso de D-TRIS y un 1,1 % de T-TRIS, ademas del MMA, y las polimerizaciones se llevaron a cabo en disolvente hMdS en botellas Schott Duran® al 30 % de solidos en un disolvente total de 7 g de HMDS con 0,0225 g de Vazo® 67 como iniciador. Las reacciones de polimerizacion se desgasificaron con nitrogeno, se sellaron, y se colocaron en un bano de aceite durante 6 horas a 71-72°C. La concentracion de los monomeros usados se muestra en la Tabla 2.

En esta investigacion las solubilidades de los copolfmeros de TRIS con MMA, reticulados por D-TRIS y algunas muestras tambien con T-TRIS, se recogen en la Tabla 2. El dfmero del TRIS estaba o bien en el monomero TRIS en una concentracion del dfmero del 0,3 % en peso o del 9,3 % en peso, o anadido como un monomero separado a concentraciones de hasta un 5,6 % en peso. Para la muestra TRIS que contema D-TRIS al 9,3 % en peso, el T-TRIS era un 1,1 % en peso adicional, con un contenido final del T-TRIS del 0,2 y del 0,3 % en peso en el polfmero reticulado. La solubilidad al 10 % en peso en HMDS, isooctano, octano, y octametiltrisiloxano se determino a partir de los polfmeros aislados y purificados colocados en estos disolventes. Se aprecia que en los polfmeros que conteman hasta un contenido total de agente reticulante del 5,6 % en peso, se mantema la solubilidad en

hexametildisiloxano, isooctano, heptano, y octametiltrisiloxano. La pegajosidad a la fijacion a un dedo era minima en todos los casos, indicando una baja resistencia adhesiva a una superficie biologica.

La pegajosidad se asocia con la resistencia adhesiva del revestimiento, en donde una alta pegajosidad indica un revestimiento altamente adhesivo y una baja pegajosidad indica un revestimiento ligeramente adhesivo. Siendo esto 5 ultimo lo preferido para un revestimiento de sacrificio. La pegajosidad de los polfmeros preparados en esta investigacion se evaluaron usando una escala del 0 al 5, donde un valor de 5 era para un revestimiento previamente aplicado a una primera superficie que se adhena a un dedo y que no se cafa cuando se elevaba el dedo desde el revestimiento y se tema que eliminar el revestimiento con la otra mano o mediante agitacion. Por otro lado, un valor de 0 para el revestimiento era cuando se cafa el revestimiento del dedo a medida que se elevaba el dedo desde el 10 revestimiento.

Ademas, es importante senalar que estas polimerizaciones reticulantes se llevaron a cabo a una concentracion del 30 % en peso del monomero, sin embargo, incluso a estos altos niveles de monomero y de agente reticulante, todavfa era posible producir polfmeros solubles usando estas polimerizaciones.

Tabla 2. Polfmeros TRIS/MMA reticulados con D-TRIS y con T-TRIS

% en peso de Polfmero TRIS/MMA/D-TRIS/T-TRIS: Total monomero reticulante % en peso Solubilidad en HMDS Solubilidad en Isooctano Solubilidad en Octano Solubilidad en OMTS Pegajosidad*

88,2/9,8/2,0/0: 1,9 Sf Sf Sf Sf 1

78,5/19,6/1,9/0: 1,9 Sf Sf Sf Sf 0

86,5/9,6/3,9/0: 3,9 Sf Sf Sf Sf 1

76,9/19,2/3,9/0: 3,9 Sf Sf Sf Sf 0

75,5/18,9/5,6/0: 5,6 Sf Sf Sf Sf 0

75,2/20,0/4,8/0: 4,8 Sf Sf Sf Sf 0

60,9/35,0/4,1/0: 4,1 Sf Sf Sf Sf 0

76,7/20,0/3,0/0,3: 3,3 Sf Sf Sf Sf 0

77,8/20,0/2,0/0,2: 2,2 Sf Sf Sf Sf 0

15 * escala 0-5, siendo 5 el mas pegajoso y adherente a un dedo.

Ejemplo 4

Procedimiento de smtesis tfpica para polfmeros de TRIS (con un 0,3 % en peso de D-TRIS)/MMA/IOA, con D-TRIS anadido:

Se siguieron procedimientos similares a los del Ejemplo 2, excepto que se anadieron diferentes niveles del D-TRIS 20 al TRIS, que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS, ademas de MMA y IOA, y polimerizaciones se llevo a cabo en botellas de Schott Duran® al 30 % de solidos en un disolvente total de 7 g de HMDS con 0,0225 g de Vazo® 67 como iniciador. Las reacciones de polimerizacion se desgasificaron con nitrogeno, se sellaron, y se colocaron en un bano de aceite durante 6 horas a 71-72°C. La concentracion de los monomeros usados se muestra en la Tabla 3.

La solubilidad al 10 % en peso en HMDS, isooctano, octano, y octametiltrisiloxano se determino a partir de los 25 polfmeros aislados y purificados colocados en estos disolventes. A partir de los resultados de la reticulacion con el D-TRIS de una mezcla de monomeros de TRIS, MMA, e IOA (Tabla 3), para composiciones con contenidos del reticulante D-TRIS de hasta un 3,4% en peso, se observa que la solubilidad se mantuvo en hexametildisiloxano, isooctano, heptano, y octametiltrisiloxano. La pegajosidad y adhesion a un dedo fue minima en todos los casos.

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Tabla 3. PoUmeros TRIS/MMA/IOA reticulados con D-TRIS

% en peso de Polfmero TRIS/MMA/IOA/D-TRIS: Total monomero reticulante % en peso Solubilidad en HMDS Solubilidad en Isooctano Solubilidad en Octano Pegajosidad*

52,7/38,4/8,0/0,9: 0,9 Si Si Si 0

52,4/38,0/7,9/1,7: 1,7 Si Si Si 0

52,1/37,6/7,7/2,6: 2,6 Si Si Si 0

51,7/37,3/7,6/3,4: 3,4 Si Si Si 0

*escala 0-5, siendo 5 el mas pegajoso y adherente a un dedo.

Ejemplo 5

Procedimiento de smtesis tfpica para poKmeros reticulados de TRIS (con un 0,3 % en peso de D-TRIS) y DMI mas D-TRIS:

Se siguieron procedimientos similares a los del Ejemplo 3, excepto que se anadieron diferentes niveles del D-TRIS al TRIS, que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS, ademas de DMI, y las polimerizaciones se llevaron a cabo en botellas de Schott Duran® al 30 % de solidos en un disolvente total de 7 g HMDS con 0,0225 g de Vazo® 67 como iniciador. Las reacciones de polimerizacion se desgasificaron con nitrogeno, se sellaron, y se colocaron en un bano de aceite durante 6 horas a 71-72°C. La concentracion de los monomeros usados se muestra en la Tabla 4. La solubilidad en HMDS, isooctano, octano, y octametiltrisiloxano se determino a partir de los polfmeros aislados y purificados colocados en estos disolventes.

Los resultados del reticulante D-TRIS de TRIS con DMI (Tabla 4) parecen ser similares a los de TRIS con MMA, reticulado con D-TRIS (Tabla 2). Se ve que para composiciones con contenidos del reticulante D-TRIS de hasta un 6,2 % en peso, se mantema la solubilidad en hexametildisiloxano, isooctano, heptano, y octametiltrisiloxano. La pegajosidad a un dedo era minima en todos los casos.

Tabla 4. Copolfmeros TRIS/DMI reticulados con D-TRIS

% en peso de Polfmero TRIS/DMI/D-TRIS: Total monomero reticulante % en peso Solubilidad en HMDS Solubilidad en Isooctano Solubilidad en Octano Solubilidad en OMTS Pegajosidad*

79,3/19,7/1,0: 1,0 Si Si Si Si 0

77,5/19,7/2,8: 2,8 Si Si Si Si 0

75,4/18,4/6,2: 6,2 Si Si Si Si 0

* 0-5 escala, siendo 5 el mas pegajoso y adherente a un dedo.

Ejemplo 6

Procedimiento de smtesis tfpica para polfmeros reticulados de TRIS y DBI mas D-TRIS:

Se siguieron procedimientos similares a los del Ejemplo 3, excepto que se anadieron diferentes niveles del D-TRIS al TRIS, que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS, y DBI, y se llevaron a cabo las polimerizaciones en botellas de Schott Duran® al 30 % de solidos en un disolvente total de 7 g HMDS con 0,0225 g de Vazo® 67 como iniciador. Las reacciones de polimerizacion se desgasificaron con nitrogeno, se sellaron, y se colocaron en un bano de aceite durante 6 horas a 7l-72°C. Las concentraciones de los monomeros usados se dan en la Tabla 5. La solubilidad en HMDS, isooctano, octano, y octametiltrisiloxano se determino usando polfmeros aislados y purificados colocados en estos disolventes.

A partir de la Tabla 5 se observa que el comportamiento de solubilidad de los copolfmeros de TRIS/DBI reticulados con D-TRIS es similar al comportamiento del TRIS/DMI (Tabla 4) y del TRIS/MMA reticulado con D-TRIS, aunque las pelmulas coladas de TRIS/dMi procedentes de HMDS eran ligeramente mas pegajosas.

Tabla 5. Copolfmeros TRIS/DBI reticulados con D-TRIS

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% en peso de Polfmero TRIS/DMI/D-TRIS: Total monomeros reticulante % en peso Solubilidad en HMDS Solubilidad en Isooctano Solubilidad en Octano Solubilidad en OMTS Pegajosidad*

79,3/19,7/1,0: 1,0 Si Si Si Si 1

77,4/19,2/3,4: 3,4 Si Si Si Si 0,5

75,3/18,5/6,2: 6,2 Si Si Si Si 0,5

* 0-5 escala, siendo 5 el mas pegajoso y adherente a un dedo.

Ejemplo 7

Smtesis de copoKmeros de TRIS (que contiene un 0,3 % en peso de D-TRIS)/MMA reticulados con agentes reticulantes de polisiloxanos di- y multi-funcionales

Se usaron procedimientos similares a los del Ejemplo 3, excepto que se anadieron polisiloxanos difuncionales (DMS- R11) y multifuncionales (RMS-033) al TRlS, que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS, y MMA, y las polimerizaciones se llevaron a cabo en botellas de Schott Duran® al 30 % de solidos en un disolvente total de 7 g HMDS con 0,0225 g de Vazo® 67 como iniciador. Las reacciones de polimerizacion se desgasificaron con nitrogeno, se sellaron, y se colocaron en un bano de aceite durante 6 horas a 71-72°C. La solubilidad en HMDS, isooctano, octano, y octametiltrisiloxano se determino a partir de polfmeros aislados y purificados colocados en estos disolventes. La concentracion de los monomeros usados se muestra en la Tabla 6.

Con el fin de demostrar que los monomeros de siloxisilano tales como el TRIS se puede reticular por polisiloxanos difuncionales y/o multifuncionales con D-TRIS a concentraciones de agente reticulante combinadas mayores del 1 % en peso, se reticulo TRIS (que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS) copolimerizado con MMA con un polidimetilsiloxano terminado en dimetacrilato (DMS-R11), peso molecular 900-1.200 (grado estimado de polimerizacion = 10 unidades de dimetilsiloxano) (Gelest Inc.), o con polidimetilsiloxanos que conteman 2-4 % en moles de grupos (metacriloxipropil)metilsiloxano a lo largo de la cadena principal polimerica (RMS-033), (Gelest Inc.), en donde los grupos metacrilato eran colgantes de la cadena polimerica (Tabla 6). Se aprecia que para los dos agentes reticulantes de polisiloxano, la solubilidad todavfa se mantema a una concentracion total de agente reticulante (D-TRIS mas agente reticulante de polisiloxano) del 2,0 % en peso.

Tabla 6. Polfmeros TRIS/MMA con agentes reticulantes de polisiloxano

% en peso de Polfmero: Total monomero reticulante % en peso Solubilidad en HMDS Solubilidad en Isooctano Solubilidad en OMTS Pegajosidad*

TRIS/MMA/D-TRIS/RMS-033

78,4/19,6/1,8/0,2: 2,0 Si Si Si 0

TRIS/MMA D-TRIS/DMS-R11

78,4/19,6/1,8/0,2: 2,0 Si Si Si 0

* escala 0-5, siendo 5 el mas pegajoso y adherente a un dedo.

Ejemplo 8

Smtesis de TRIS (que contiene D-TRIS)/MMA con agentes reticulantes no siloxanos EGDMA, SR350, y CN301:

Se usaron procedimientos similares a los del Ejemplo 3, excepto que se anadieron el agente reticulante difuncional no siloxano EGDMA, el agente reticulante trifuncional SR350, y el agente reticulante polimerico difuncional CN301 al TRIS que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS, y MMA. Las polimerizaciones se llevaron a cabo en botellas de Schott Duran® al 30 % de solidos en un disolvente total de 7 g HMDS con 0,0225 g de Vazo® 67 como iniciador. Las reacciones de polimerizacion se desgasificaron con nitrogeno, se sellaron, y se colocaron en un bano de aceite durante 6 horas a 71-72°C. Las concentraciones de los monomeros usados se dan en la Tabla 7.

La Tabla 2 (5a fila) muestra que un copoUmero 80/20 de TRIS/MMA reticulado con hasta un 5,6 % en peso de D- TRIS era soluble en HMDS. Por comparacion, la reaccion reticulante de la polimerizacion del TRIS (que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS)/MMA se llevo a cabo con tres agentes reticulantes no-siloxi, incluyendo dimetacrilato de etilenglicol (EDGMA, por sus siglas en ingles), trimetacrilato de trimetilolpropano (SR350), y dimetacrilato de 5 polibutadieno (CN301) en disolvente HMDS. Se encontro que con la adicion de desde un 1,2 al 4,1 % en peso de EGDMA, SR350, y CN301, con concentraciones totales de agente reticulante (D-TRIS mas agente reticulante no siloxi) de hasta un 4,1 % en peso, todos los polfmeros gelificaban en el disolvente HMDS, es decir, no eran solubles. Solo por debajo del 1 % en peso total de agente reticulante estos polfmeros eran solubles en HMDS, durante la polimerizacion y despues de la purificacion en metanol y en la re-disolucion en 10 % en peso de HMDS. El 10 comportamiento de insolubilidad por encima de un 1 % en peso de agente reticulante es de marcado contraste con lo observado en la Tabla 2 para los mismos copolfmeros de TRIS/MMA reticulados con hasta un 5,6 % en peso de D-TRIS, que eran solubles en HMDS y en los otros disolventes probados. Estos resultados ilustran la sorprendente invencion que se necesita un agente reticulante siloxi para que los polfmeros a base de siloxi permanezcan solubles en disolventes no urticantes de siloxanos volatiles y en hidrocarburos volatiles a concentraciones superiores al 1 % 15 en peso.

Tabla 7. Insolubilidad de los polfmeros TRIS/MMA con agentes reticulantes no-siloxano.

Polfmero: % en peso Total monomero reticulante % en peso Solubilidad en HMDS

TRIS/MMA/D-TRIS/EGDMA: 79,7/19,9/0,2/0,2 0,4 Sf, fluido

TRIS/MMA/D-TRIS/EGDMA: 79,6/19,7/0,2/0,5 0,7 Sf, fluido

TRIS/MMA/D-TRIS/EGDMA: 79,0/19,8/0,2/1,0 1,2 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/EGDMA: 78,2/19,6/0,2/2,0 2,2 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/EGDMA: 76,7/19,2/0,2/3,9 4,1 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/SR350: 79,0/19,8/0,2/1,0 1,2 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/SR350: 78,2/19,6/0,2/2,0 2,2 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/SR350: 76,7/19,2/0,2/3,9 4,1 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/CN301: 79,1/19,8/0,2/1,0 1,2 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/CN301: 78,2/19,6/0,2/2,0 2,2 No, formacion de gel

TRIS/MMA/D-TRIS/CN301: 76,7/19,2/0,2/3,9 4,1 No, formacion de gel

Ejemplo 9

Smtesis representativa de TRIS/D-TRIS con NIPAM

20 Se cargo una botella de vidrio Schott Duran® de 25 ml con 0,1273 g (0,17 mmol, 90 % de pureza) de D-TRIS. A esto, se anadieron 2,6932 g (6,4 mmol, 99,7 % de pureza) de TRIS. Esto fue seguido por la adicion de 0,1877 g (1,7 mmol, 100 % de pureza) de N-isopropilacrilamida, seguido por la adicion de 4,0234 g de hexametildisiloxano.

A continuacion, se cargo un segundo recipiente con 0,2270 g (1,2 mmol, 100 % de pureza) de iniciador 2,2'-azodi(2- metilbutironitrilo) (Vazo® 67). Esto fue seguido por la adicion de 30,0162 g de hexametildisiloxano. La botella se 25 sello y se agito hasta que se disolvio el Vazo® 67. A la botella previamente cargada con el monomero, se anadieron 3,0025 g de esta disolucion madre, proporcionando 0,0227 g (0,12 mmol) de iniciador.

Luego la disolucion combinada se purgo con nitrogeno durante 5 min antes de ser sellada y colocada en un bano de aceite equilibrado a 70°C. Se dejo proceder la reaccion durante 6 h antes de retirarla del bano de aceite y se enfrio a temperatura ambiente, despues de lo cual se retiro el tapon y se dejo reposar la botella durante la noche.

30 Luego se vierte la disolucion homogenea de la reaccion como una corriente fina en 150 ml de metanol agitado vigorosamente. Esto dio como resultado inmediatamente un precipitado opalescente, globular. El polfmero y el metanol se colocaron en un agitador y se agitaron durante 3 h. Luego se decanto el metanol y se anadieron 50 ml de metanol fresco. La agitacion se continuo durante 3 h adicionales. Este procedimiento se repitio para un total de tres lavados de 50 ml durante un penodo de 9 h. Para el 4° lavado y el ultimo lavado, se dejo asentar al polfmero en 50

5

10

15

20

25

30

35

ml de metanol no agitado durante 16 h (durante la noche). Luego se secaron los poKmeros durante 3 dfas a presion reducida (aspirador). El rendimiento fue de 2,3639 g de polfmero incoloro, opticamente transparente.

En el Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 7.795.326, se prepararon copolfmeros anfifflicos de TRIS y NIPAM, con contenidos del agente reticulante D-TRIS preferiblemente menores del 1,0 % en peso de TRIS, mas preferentemente entre 0,5-0,8 % en peso, y lo mas preferiblemente entre 0-0,15 % en peso. Por lo tanto, con la incorporacion del monomero NIPAM, el contenido total del agente reticulante se redujo aun mas, y todos los polfmeros TRIS/D-TRIS/NIPAM preparados en el Documento de Patente de los Estados Unidos de Numero 7.795.326 eran solubles en la disolucion de HMDS a los bajos contenidos del agente reticulacion usados.

En la Tabla 8 se muestran los copolfmeros TRIS/D-TRIS/NIPAM preparados con los contenidos del agente reticulante D-TRIS de 3,1 y 4,1 % en peso. Cada uno de estos polfmeros era soluble en la disolucion de HMDS despues de la preparacion y purificacion. Mientras que en las Tablas 1-7 se usaban monomeros hidrofobos reticulados con D-TRIS, los resultados de la Tabla 8 demuestran que los polfmeros siloxi anfffilos reticulados tambien pueden ser solubles en un disolvente siloxi donde la concentracion del agente reticulante que contiene siloxi es mayor del 1 % en peso.

Tabla 8. Polfmeros TRIS/D-TRIS con NIPAM

TRIS: D-TRIS NIPAM Solubilidad en

% en peso
% en peso
% en peso: HMDS

90,7: 6,2 3,1 Sf, fluido

89,7: 6,2 4,1 Sf, fluido

Ejemplo 10

Disminucion en la pegajosidad (resistencia adhesiva) con el aumento del agente reticulante de los polfmeros TRIS/D-TRIS:

Para demostrar la utilidad de los vendajes lfquidos polimericos a base de siloxi reticulados como revestimientos de sacrificio, se midio la pegajosidad (resistencia adhesiva) en cuatro copolfmeros TRIS/D-TRIS, que variaban en la concentracion del dfmero de desde el 0,3 % en peso al 6 % en peso de D-TRIS. La pegajosidad se determino usando las pelfculas coladas a partir de una disolucion de polfmero al 10 % en peso en HMDS sobre el lado brillante de una pelfcula de polipropileno de Medifilm 390® y seco. La pegajosidad de los polfmeros se evaluo en base a una escala del 0 al 5, donde un valor de 5 era para un revestimiento que se adhena a un dedo y no se cafa cuando se levantaba el dedo desde el revestimiento y el revestimiento se tema que eliminar con la otra mano o mediante agitacion. Por otro lado, un valor de 0 para el revestimiento era cuando el revestimiento se cafa del dedo a medida que se levantaba el dedo desde el revestimiento.

La Tabla 9 muestra que a medida que aumentaba la concentracion del agente reticulante D-TRIS desde el 0,3 % en peso al 6,0 % en peso, la pegajosidad disminrna desde un valor de 3 a un valor de 0,5. De ese modo, al aumentar el contenido del agente reticulante, disminuye la adhesion a una superficie, permitiendo que la pelfcula de polfmero adhesivo funcione como un revestimiento de sacrificio cuando se cubre por un adhesivo mas tenaz. Ademas, cada uno de los polfmeros reticulados estudiados permanecieron suaves y flexibles, una propiedad que se necesita para facilitar el comportamiento de conformacion de un vendaje lfquido.

Tabla 9. Disminucion de la pegajosidad con el aumento del agente reticulante de los copolfmeros TRIS/D-TRIS

Polfmero % en peso: Total monomero reticulante % en peso Solubilidad en HMDS Solubilidad en Isooctano, Heptano y OMTS Pegajosidad (5 es el mas pejajoso) Propiedad de la pelfcula

TRIS/D-TRIS

99,7/0,3: 0,3 Si Si 3 Flexible

98,0/2,0: 2,0 Si Si 2 Flexible

95,9/4,1: 4,1 Si Si 1 Flexible

94,0/6,0: 6,0 Si Si 0,5 Flexible

5

10

15

20

25

30

35

Ejemplo 11

Revestimientos de sacrificio

A fin de determinar la eficacia de los poKmeros de siloxisilano reticulados descritos anteriormente, estos se colocaron sobre una piel tratada con un colorante azul en un disolvente de hexametildisiloxano y se evaporo para formar una pelmula transparente como un revestimiento de sacrificio, se estudiaron las siguientes preparaciones en dos voluntarios humanos, en donde primero se aplico el revestimiento de sacrificio sobre la piel y se dejo secar, seguido de la aplicacion del sobre-revestimiento con una porcion de un dispositivo adhesivo de ostoirna comercial segun el siguiente procedimiento:

Se aplico colorante alimentario azul sobre brazos humanos y sobre la piel abdominal de los voluntarios usando una toalla de papel y se dejo secar durante 5 min. Los polfmeros del revestimiento de sacrificio se disolvieron en HMDS para dar disoluciones al 5 % en peso. Se aplicaron aproximadamente 0,045 ml de disolucion para cada muestra sobre la piel abdominal o del brazo de los voluntarios y se dejo secar durante 4 min. Se corto un sistema de ostomfa de Bolsa de Pieza Unica ConvaTec ActiveLife® con la Barrera Cutanea Stomahesive® en ocho partes en forma de triangulo y cada pieza se aplico sobre la parte superior de cada revestimiento de polfmero de sacrificio, y se mantuvo con la mano con una presion moderada durante 2 min. La Barrera Cutanea Stomahesive® se retiro manualmente despues de 12 h. Se determino un valor promedio del dolor de la eliminacion del Stomahesive del revestimiento de sacrificio, asf como un valor medio de la cantidad de colorante alimentario azul eliminado por el Stomahesive procedente de la piel.

El adhesivo Barrera Cutanea de multiples usos ConvaTec sostiene una bolsa de ostomfa en su lugar durante el uso, mientras se llena con fluidos corporales. Debido a que este dispositivo se debe mantener de forma segura a la piel para evitar la fuga de los fluidos de ostomfa, su eliminacion del cuerpo cuando se llena la bolsa puede ser dolorosa debido la separacion de las celulas epidermicas y del pelo.

Se estudiaron dos sistemas de polfmero. Se sometieron TRIS (que contema un 0,3 % en peso de D-TRIS) e itaconato de dimetilo (Tabla 4) y TRIS que contema D-TRIS y T-TRIS con metacrilato de metilo (Tabla 2) a las pruebas de la piel como se discutieron anteriormente. Se aplico colorante alimentario azul sobre brazos humanos y sobre la piel abdominal de voluntarios usando una toalla de papel y se dejo secar durante 3 min.

A partir de las Tablas 10 y 11 se aprecia para ambos sistemas que el polfmero con el mayor contenido de agente reticulante es un revestimiento de sacrificio mas eficaz bajo un adhesivo sensible a la presion ya que el dolor de la eliminacion es bajo y permaneda mas colorante sobre la piel, lo que demuestra que las muestras con el mayor contenido del agente reticulante son menos perjudiciales para la piel cuando se eliminan mediante un adhesivo sensible a la presion fuertemente adherente.

Tabla 10. Pruebas de piel para los polfmeros TRIS/DMI reticulados con D-TRIS

Polfmero: Total monomero

% en peso TRIS/DMI/D-TRIS: reticulante Dolor en la eliminacion Colorante restante en la

% en peso: piel

77,5/19,7/2,8: 2,8 Moderado Mmimo

75,4/18,4/6,2: 6,2 Ligero Moderado

Tabla 11. Pruebas de piel para TRIS/MMA usando bajo contenido del dfmero del TRIS dfmero, alto contenido del dfmero del TRIS, y T-TRIS

Polfmero: Total de monomero

% en peso TRIS/DMI/D-TRIS/T-TRIS: reticulante Dolor en la eliminacion Colorante restante en la

% en peso: piel

77,8/20,0/2,0/0,2: 2,2 Ligero Mmimo

76,7/20,0/3,0/0,3: 3,3 Ligero Grande

Ejemplo 12

Estudio de la Tasa de Transmision del Vapor de Humedad (MVTR) para los copolfmeros de TRIS/D-TRIS

21

Los polfmeros a base de siloxano se destacan por sus altas Tasas de Transmision de Vapor de Humedad (MVTR, por sus siglas en ingles). Esta propiedad ayuda en la cicatrizacion de las heridas. La piel normal sin abrasion pierde vapor de humedad a una tasa media de 200 g/m2/dfa en la mayona de las zonas; las palmas de las manos y las plantas de los pies respiran a un promedio de 500 g/m2/dfa. Una MVTR de <35 g/m2/hora (<840 g/m2/dfa) se 5 documenta como una definicion operativa de revestimiento de herida humeda suficientemente eficaz para acelerar la curacion cronica y aguda de la herida. Se ha informado que apositos con una MVTR superior a este nivel cntico retrasan la curacion (Bolton, L. L., Evidence-based Report Card: Operational definition of moist wound healing, J. Wound Ostomy & Continence Nursing, 2007; 34(1): 23-29), causado muy probablemente por la deshidratacion de la zona herida.

10 En esta investigacion, los valores de la MVTR se determinaron por colada de una pelfcula de los materiales de revestimiento adhesivos lfquidos sobre el lado liso de un bloque de aluminio pre-calentado sobre una placa caliente Corning, modelo PC 400. Se coloco una tira rectangular de pelfcula de liberacion revestida de teflon sobre el bloque de aluminio, con el lado mate hacia arriba antes de colar la pelfcula. Se uso una fuerte corriente de nitrogeno para soplar las partfculas de la superficie. La disolucion del polfmero deseado se desgasifico mediante ebullicion breve y 15 se dejo enfriar a temperatura ambiente. A continuacion, se uso una porcion de 0,25 ml de la disolucion del polfmero para recubrir la pelfcula de liberacion en areas similares a las del diametro de las botellas Schott Duran®. Despues de reposar durante 1 min, se hizo girar el bloque de aluminio a 90° cada 15 segundos, mientras soplaba en la disolucion contenida. Luego se soplo una corriente suave de nitrogeno a traves de las gotitas, y se rotaron 180° cada minuto. Una vez que las pelfculas estaban secas, se eliminaron de la placa caliente y se dejaron que alcanzaran la 20 temperatura ambiente. Luego las muestras estaban lo suficientemente secas para adherirse a las botellas.

Para colocar las pelfculas coladas a las botellas Schott Duran® llenas de agua, a continuacion se eliminaron las pelfculas de polfmero de la pelfcula de liberacion con una cuchilla larga y delgada. La misma disolucion de polfmero que se uso para colar la pelfcula se uso para colocar una pequena cuenta de disolucion alrededor del borde de la botella y se dejo secar. El proceso de aplicacion de esta pequena cuenta se repitio tres veces para asegurar que 25 habfa disponible una cantidad adecuada de polfmero para formar un sello. Se anadio una gota de la disolucion del polfmero alrededor del labio de la botella Schott Duran® y luego se dejo reposar durante aproximadamente 10 a 15 segundos. Una vez que estaba pegajosa, luego se pego la pelfcula del polfmero de la hoja de la cuchilla al cuello de la botella presionando el borde libre que colgaba sobre el labio de la botella, usando la cuchilla para guiar la pelfcula a traves de la abertura. Las pelfculas se pueden presionar hacia abajo con el pulgar para conseguir una buena 30 union. Una vez que se fijaron las pelfculas, se hizo fluir nitrogeno suavemente sobre la superficie de la pelfcula para promover la evaporacion y reducir el exceso de disolvente que pudiera comprometer la integridad de la pelfcula. Despues de 1 h de secado, se registro el peso de cada botella y luego se colocaron en un desecador lleno de Drierite. Luego se coloco el desecador en la incubadora a 37°C y se llevaron a cabo las mediciones de la perdida de peso cada hora. Los espesores de pelfcula del polfmero se midieron con un micrometro y se registraron en mm (o 35 mil (milesimas de pulgada (0,001 unidades de pulgada))).

Tabla 12. MVTR de los copolfmeros TRIS/D-TRIS

Polfmero % en peso TRIS/D-TRIS: MVTR (g/m2/dfa) R2 Tiempo Total (min) Espesor de Pelfcula mm ± 1o (mil ± 1a)

99,7/0,3: 748 0,9898 268 0,0833 ± 0,0045 (3,28 ± 0,18)

85,0/15,0: 618 0,9968 380 0,0787 ± 0,0030 (3,10 ± 0,12)

A partir de estos datos, los valores de la MVTR de las pelfculas del copolfmero de TRIS reticulado son consistentes con los necesarios para la curacion de heridas, previniendo tanto la deshidratacion de la zona de la herida y la 40 oclusion de los fluidos corporales.

Ejemplo 13

Aplicacion industrial

Para demostrar la utilidad de los revestimientos de sacrificio en un entorno industrial, se llevo a cabo un experimento en la preservacion de cajas de carton frente al rasgado de su superficie cuando se elimina la cinta sensible a la 45 presion de la superficie de la caja. Usando cinta transparente de embalaje y una caja de carton ondulado BX7781, 4 G y 4 GV, se presiono la cinta de embalaje sobre la caja de carton y se dejo durante 15 min. Luego, se retiro la cinta

de la caja, pelando la capa superior de fibras de color marron de la caja. Se aplico a brocha el poKmero TRIS/MMA/D-TRIS/T-TRIS de 77,8/20,0/2,0/0,2 (Tabla 2) al 95 % en peso de HMDS en otra localizacion de la caja de carton y se seco, seguido por un prensado de la cinta sobre la superficie tratada de la caja. Despues de 15 min se elimino la cinta adherente, sin desprendimiento de la capa superior de la caja.

5 Otras realizaciones

Aunque la memoria descriptiva anterior contiene muchos detalles, estos no se deben interpretar como limitaciones en el alcance de la invencion, sino mas bien como ejemplos de las realizaciones preferidas de la misma. Son posibles otras muchas variaciones. En consecuencia, el alcance de la invencion se debe determinar no por las realizaciones ilustradas, sino por las reivindicaciones adjuntas y sus equivalentes legales.

10

Claims

5

10

15

20

25

30

35

40

45

50

55

REIVINDICACIONES

1. Un material de revestimiento que contiene poKmero, Kquido que comprende:

1 a 50 % en peso de polfmero que contiene siloxi reticulado, que comprende:

34 a 99 % en peso de monomero de al menos un componente de monomero que contiene siloxi polimerizable, y

mas del 1 al 16 % en peso de monomero de un agente reticulante que contienen siloxi,

en donde dicho % en peso de monomero se basa en el peso total del polfmero que contiene siloxi reticulado; y

50 al 99 % en peso de un lfquido hidrofobo, volatil no urticante como parte de un sistema de disolvente, estando dicho polfmero que contiene siloxi reticulado solubilizado en dicho sistema de disolvente; en donde los porcentajes en peso se basan en el peso total del material de revestimiento que contiene el polfmero reticulado, lfquido; y en donde dicho lfquido hidrofobo, volatil, no urticante se selecciona del grupo que consiste en siloxanos lineales y dclicos volatiles, alcanos volatiles, fluorocarbonos y clorofluorocarbonos volatiles, dioxido de carbono lfquido a presion, y combinaciones de los mismos, en donde dicho agente reticulante que contiene siloxi comprende un siloxano o siloxisilano vinil polimerizable di-, tri- o multifuncional.
2. El material de revestimiento que contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho material de revestimiento lfquido forma un revestimiento insoluble en agua, conformable, adherente cuando se aplica a una superficie a temperatura ambiente.
3. El material de revestimiento que contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho polfmero que contiene siloxi reticulado comprende ademas un comonomero no siloxi en una cantidad entre 0 y 50 % en peso.
4. El material de revestimiento que contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 3, en donde dicho monomero no siloxi se selecciona del grupo que consiste en metacrilato de metilo, acrilato de metilo, metacrilato de tetrahidrofurfurilo, acrilato de ciclohexilo, acrilato de tetrahidrofurfurilo, acrilato de n-laurilo, metacrilato de n-laurilo, acrilato de 2-fenoxietilo, metacrilato de 2-fenoxietilo, acrilato de isodecilo, metacrilato de isodecilo, acrilato de isooctilo, metacrilato de isooctilo, acrilato de isobornilo, metacrilato de isobornilo, acrilato de estearilo, metacrilato de estearilo, metacrilato de bencilo, acrilato de 2-butoxietilo, acrilato de n-butilo, metacrilato de n-butilo, anhfdrido metacnlico, acetoacetato de 2-(metacriloiloxi)etilo, acrilato de etilo, metacrilato de behenilo, metacrilato de etilo, itaconato de dimetilo, itaconato de di-n-butilo, acrilato de 2-etilhexilo, metacrilato de 2-etilhexilo, metacrilato de furfurilo, acrilato de n-hexilo, metacrilato de n-hexilo, acrilato de isobutilo, metacrilato de isobutilo, metacrilato de isopropilo, a-metilestireno, estireno, p-t-butilestireno, 4-metoxiestireno, N-vinilcarbazol, acrilato de n-octadecilo, metacrilato de n-octadecilo, metacrilato de 2-feniletilo, metacrilato de n-tridecilo, benzoato de vinilo, naftaleno de vinilo, itaconato de di-isooctilo, acrilamida, N-metilacrilamida, N-fenilacrilamida, N-etilacrilamida, N- (hidroximetil)acrilamida, N-(hidroximetil)metacrilamida, N-[tris(hidroximetil) metilacrilamida, N-isopropilacrilamida, N,N-dietilacrilamida, N,N-dimetilacrilamida, N,N-dimetilmetacrilamida, N-difenillmetilacrilamida, N- (trifenilmetil)metacrilamida, N-acriloilamidoetoxietanol, diacetona acrilamida, N-vinilpirrolidona, N-vinilcaprolactama, N-vinilformamida, N-vinil-N-metilformamida, N-vinilacetamida, N-vinilftalamida, N-(2-metacriloiloxietil)etilen urea, N- (2-metacrilamidoetil)etilen urea, 4-acriloilmorfolina, maleimida, N-metilmaleimida, N-(2,3-dihidroxipropil) maleimida, N-vinilsuccinimida, N-vinildiacetamida, epsilon-acriloillisina, N-acriloiluracil, N-acriloiltimina, N-acriloiladenina, N- acriloilguanina, N-acriloilurea, N-acriloilguanidina, N-acrilglucosamina, N-allilpirrolidona, N-allilacetamida, metacrilato de N,N-dimetilaminoetilo, acrilato de N,N-dimetilaminoetilo, metacrilato de N,N-dietilaminoetilo, acrilato de N,N- dietilaminoetilo, N,N-dimetilaminopropilmetacrilamida, N,N-dimetilaminopropilacrilamida, vinilbencil-N,N-dimetilamina, metacriloiloxietilamina, N-vinilimidazol, 4(5)-vinilimidazol, 4-vinilpiridina, 2-vinilpiridina, 2-metil-5-vinilpiridina, viniltriazina, 4-aminoestireno, p-hidroxiestireno, metacrilato de 2-hidroxietilo, acrilato de 2-hidroxietilo, metacrilato de glicerilo, acrilato de glicerilo, acrilato de 4-hidroxibutilo, monoacrilato de poli(etilenglicol), monometacrilato de poli(etilenglicol), metacrilato de poli(etilenglicol monometil eter), monoacrilato de dietilenglicol, monometacrilato de dietilenglicol, monoacrilato de trietilenglicol, monometacrilato de trietilenglicol, monoacrilato de tetraetilenglicol, monometacrilato de tetraetilenglicol, metacrilato de trietilenglicol metil eter, metacrilato de trifenilmetilo, siloxanos monomericos fluorados, itaconatos fluorados, metacrilatos o acrilatos fluorados, acido acnlico, acido metacnlico, acido itaconico, acido fumarico, acrilato de p-carboxietilo, maleato de mono-2-(metacriloiloxi)etilo, succinato de mono-2-(metacriloiloxi)etilo, acido 2-acetamidoacnlico, acido 2-acrilamidoglicolico, acido 2-acriloamido-2-metil-1- propanosulfonico y sus sales, acido vinilbenzoico, cloruro de (3-acrilamidopropil)trimetilamonio, cloruro de [3- (metacriloilamino)propil] trimetilamonio, cloruro de (3-metacriloiloxietil)trimetilamonio, cloruro de vinilbencil trimetilamonio, y sales relacionadas, sal interna de [3-(metacriloilamino)propil]dimetil (3-sulfopropil) hidroxido de amonio, sal interna de [2-(metacriloiloxi)etil]dimetil (3-sulfopropil) hidroxido de amonio y combinaciones de los mismos.
5. El material de revestimiento que contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho monomero que contiene siloxi polimerizable se selecciona del grupo que consiste en alquilsiloxisilanos polimerizables,

5

10

15

20

25

30

35

40

45

50

55

alquilarilsiloxisilanos, arilsiloxisilanos o polisiloxanos polimerizables monofuncionales y combinaciones de los mismos.
6. El material de revestimiento que contiene polfmero, Uquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho monomero

que contiene siloxilo polimerizable se selecciona del grupo que consiste en 3- metacriloiloxipropiltris(trimetilsiloxi)silano (TRIS), 3-metacriloiloxipropilpentametildisiloxano, 3-

metacriloiloxipropilbis(trimetilsiloxi)metilsilano, 3-metacriloiloxipropiltris(vinildimetilsiloxi)silano, 3-

metacriloiloximetilbis(trimetilsiloxi)(pentametildisiloxanil)silano, 3-metacriloiloxietiltris(pentametildisiloxanil)silano, metacriloiloximetilbis(trimetilsiloxi)metilsilano, metacriloiloximetiltris(trimetilsiloxi)silano, 3-

metacriloiloxipropilheptaciclopentil-T8-silsesquioxano, 3-metacriloiloxipropilheptaisobutil-T8-silsesquioxano, 3- acriloiloxipropilmetilbis(trimetilsiloxi)silano, 3-acriloiloxipropiltris(trimetilsiloxi)silano, 3-

acriloiloxipropilpentametildisiloxano, 3-metacriloxipropil-1,1,1-trifenil-3,3-dimetildisiloxano, metacrilato de metilbis(trimetilsiloxi)sililpropilglicerilo, metacrilato de tris(trimetilsiloxi)sililpropilglicerilo,

metacriloiloximetilfenetiltris(trimetilsiloxi)silano, itaconato de di[(trimetilsiloxi)sililpropilo], 3-

metacrilamidopropilbis(trimetilsiloxi)metilsilano, 3-metacrilamidopropiltris(trimetilsiloxi)silano, 3-

acrilamidopropiltris(trimetilsiloxi)silano, N-(trimetilsiloxi)sililpropil maleimida, p-vinilfenilltris(trimetilsiloxi)silano, p- vinilbenciltris(trimetilsiloxi)silano, viniloxietiltris(trimetilsiloxi)silano, vinilnonildimetil(trimetilsiloxi)silano,

vinilnoniltris(trimetilsiloxi)silano, vinilmetilbis(trimetilsiloxi)silano, vinilpentametildisiloxano, O-(viniloxietil)-N- (tris[trimetilsiloxi]sililpropilo) uretano, vinilfenilbis(trimetilsiloxi)silano, viniltris(dimetilsiloxi)silano,

viniltris(trimetilsiloxi)silano, alliltris(trimetilsiloxi)silano, N-tris(trimetilsiloxisilil)propilmaleimida, itaconato de bis(trimetilsiloxi)sililpropilo, polidimetilsiloxano terminado en vinilo, carbonato de 3-(trimetilsilil)propil vinilo, carbonato de 3-[tris(trimetilsiloxi)silil]propil vinilo, carbamato de 3-[tris(trimetilsiloxi)silil]propil vinilo, carbonato de t- butildimetilsiloxietil vinilo, carbonato de trimetilsililetil vinilo, carbonato de trimetilsililmetil vinilo, polidimetilsiloxano monoacrilato, polidimetilsiloxano monometacrilato, polimetilfenilsiloxano monoacrilato, polimetilfenilsiloxano monometacrilato, polidimetilsiloxanos terminados en monometacriloxipropilo, 3-

acriloiloxipropiltris(polidimetilsiloxanil)silano, polidimetilsiloxano terminado en mono(3-acriloxi-2- hidroxipropoxipropilo), carbamato de O-metacriloxietil-N-(trimetilsiloxisililpropilo), propilcarbamato de O- metacriloxietoxi-N-[bis(trimetilsiloxi)metilsililo], N-(3-metacriloxi-2-hidroxipropil)-3-aminopropiltris(trimetilsiloxi)silano, (3-metacriloxi-2-hidroxipropoxi)propilbis(trimetilsiloxi)metilsilano, metacriloiloxi(polietilenoxi)propiltris(trimetilsiloxi)silano, y combinaciones de los mismos.
7. El material de revestimiento que contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho agente

reticulante que contiene siloxi se selecciona del grupo que consiste en 1,3-bis(metacriloximetil)-1,1,3,3- tetrametildisiloxano, 1,3-bis(3-acrilamidopropil)tetrametildisiloxano, 1,3-bis(metacrilamidopropil)tetrametildisiloxano, a,w-bis(metacriloIoxialquil)polidimetilsiloxano, 1,3-bis(3-metacriloxipropil)-1,1,3,3-tetraquis(trimetilsiloxi)disiloxano (dfmero del TRIS), 1,3-bis(3-metacriloxipropil)tetrametildisiloxano, 1,3-bis(3-metacriloxi-2-

hidroxipropoxipropil)tetrametildisiloxano, 1,3-bis(metacriloxipropil)-1-metacriloiloxipropilbis(trimetilsiloxi)siloxi-1,1,3- tris(trimetilsiloxi)disiloxano (tnmero del TRIS), 1,1,1,3,3,3-hexaquis(metacriloximetil)disiloxano, 1,2,3,4,5,6- hexaquis(metacriloximetil)benceno, tris(3-metacriloxipropil)trimetilsiloxisilano, tetraquis(3-metacriloxipropil)silano, polidimetilsiloxanos bis(terminados en metacriloxipropilo), copoKmero de (metacriloxipropil)metilsiloxano- dimetilsilozano, 1,3-bis[4-viniloxicarboniloxi)but-1-il]tetrametildisiloxano, y combinaciones de los mismos.
8. El material de revestimiento que contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho disolvente volatil comprende al menos uno de hexametildisiloxano, octametilciclotetrasiloxano, decametilciclopentasiloxano, octametiltrisiloxano, propano, isobutano, butano (a presion), pentano, hexano, heptano, octano, isooctano, destilados de petroleo, ciclohexano, tricloromonofluorometano, diclorodifluorometano, diclorotetrafluoroetano, tetrafluoroetano, heptafluoropropano, 1,1-difluoroetano, pentafluoropropano, perfluoroheptano, perfluorometilciclohexano, 1,1,1,2- tetrafluoroetano, 1,1,1,2,3,3,3-heptafluoropropano y dioxido de carbono lfquido.
9. El material de revestimiento que contiene polfmero, Kquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho lfquido hidrofobo volatil no urticante contiene un 10 % o menos de un disolvente polar.
10. El material de revestimiento que contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 1, en donde dicho polfmero que contiene siloxi reticulado comprende ademas 0,01 a 50 % en peso de comonomero no siloxi, y en donde dicho polfmero que contiene siloxi reticulado se solubiliza en dicho sistema de disolvente.
11. El uso del material de revestimiento de contiene polfmero, lfquido segun la reivindicacion 1, para formar un revestimiento sobre una superficie, mediante la aplicacion del material de revestimiento de contiene polfmero, lfquido a dicha superficie.
12. El uso segun la reivindicacion 11, caracterizado porque dicha superficie comprende la piel.
13. El uso segun la reivindicacion 11, caracterizado porque se aplica un adhesivo a dicho revestimiento.
14. El uso segun la reivindicacion 11, caracterizado porque se aplica un dispositivo medico sobre dicho revestimiento.
15. Un polfmero que contienen siloxi reticulado, soluble que comprende:

25

34 a 99 % en peso de monomero de al menos un componente de monomero que contiene siloxi polimerizable, y

mas del 1 al 16 % en peso de monomero del agente reticulante que contiene siloxi, en donde dicho % en peso de monomero se basa en el peso total del polfmero que contiene siloxi reticulado, en donde un lfmite 5 de solubilidad de dicho polfmero en HMDS o isooctano es al menos un 5 % en peso, en donde dicho agente

reticulante que contiene siloxi comprende un siloxano o siloxisilano vinil polimerizable di-, tri- o multifuncional.