ES2705974T3 - Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia secuenciales - Google Patents

Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia secuenciales Download PDF

Info

Publication number
ES2705974T3
ES2705974T3 ES12784435T ES12784435T ES2705974T3 ES 2705974 T3 ES2705974 T3 ES 2705974T3 ES 12784435 T ES12784435 T ES 12784435T ES 12784435 T ES12784435 T ES 12784435T ES 2705974 T3 ES2705974 T3 ES 2705974T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
power
cathode
generator
interval
partial
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
ES12784435T
Other languages
English (en)
Inventor
Siegfried Krassnitzer
Daniel Lendi
Markus Lechthaler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon
Original Assignee
Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon filed Critical Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon
Application granted granted Critical
Publication of ES2705974T3 publication Critical patent/ES2705974T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03K—PULSE TECHNIQUE
    • H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
    • H03K3/01—Details
    • H03K3/012—Modifications of generator to improve response time or to decrease power consumption
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3485—Sputtering using pulsed power to the target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3464—Operating strategies
    • H01J37/3467—Pulsed operation, e.g. HIPIMS
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)
  • Fluidized-Bed Combustion And Resonant Combustion (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Electrostatic Separation (AREA)

Abstract

Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia con un intervalo de impulso de potencia escalable para el funcionamiento de un cátodo de pulverización PVD, comprendiendo el cátodo de pulverización PVD un componente de absorción de potencia y al menos un primer cátodo o un primer cátodo parcial, estando predefinida para el cátodo o el cátodo parcial una aplicación de potencia media máxima, predefiniéndose la duración de los intervalos de impulso de potencia y comprendiendo el procedimiento los siguientes pasos a) la puesta a disposición de un generador con una emisión de potencia constante predefinida preferentemente al menos tras encenderse y tras transcurrir un intervalo de establecimiento de potencia b) el encendido del generador c) la conexión del componente de absorción de potencia al generador, de manera que el componente de absorción de potencia es alimentado de potencia del generador durante el intervalo de establecimiento de potencia d) la separación del generador del componente de absorción de potencia tras transcurrir el intervalo de establecimiento de potencia e) la conexión del primer cátodo o cátodo parcial al generador, de manera que el primer cátodo o cátodo parcial es alimentado de potencia del generador f) la separación del generador del primer cátodo o cátodo parcial tras transcurrir un primer intervalo de impulso de potencia predefinido, correspondiente al primer cátodo o cátodo parcial caracterizado porque el componente de absorción de potencia no se usa como proveedor de material para los sustratos que han de ser recubiertos o procesados y los pasos d) y e) se realizan de tal forma que durante la conexión del primer cátodo o cátodo parcial al generador no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia y no tiene que interrumpirse la emisión de potencia del generador.

Description

DESCRIPCIÓN
Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia secuenciales
La presente invención se refiere a un procedimiento para la generación de impulsos de potencia.
Estos impulsos de potencia se necesitan por ejemplo en el marco de la tecnología HIPIMS. HIPIMS corresponde a High Power Impulse Magnetron Sputtering. Se trata de un procedimiento de recubrimiento al vacío en el que por medio de corrientes de descarga muy altas se pulveriza material de un cátodo, por lo que queda garantizado que el material pulverizado se ioniza positivamente en un alto grado. Si en los sustratos que han de ser recubiertos se aplica al mismo tiempo una tensión negativa, esto tiene la consecuencia de que los iones positivos originados por la pulverización se aceleran en dirección hacia los sustratos y, por tanto, conducen a la formación de una capa densa. Se emplean para ello potencias de por ejemplo 40 kW y más. Sin embargo, sólo en el marco de un impulso de potencia corto es posible pulverizar material del cátodo, ya que en caso de una acción de potencia más larga puede dañarse por sobrecalentamiento. Por lo tanto, hay que limitar la duración durante la que se puede pulverizar a partir de un cátodo con alta potencia, lo que conduce a una duración de impulso máxima admisible.
Una propuesta de realizar esto consiste en dividir el cátodo completo en cátodos parciales y llevar potencia secuencialmente sucesivamente a los cátodos parciales. Este concepto quiere decir que varios cátodos aislados unos de otros (aquí llamados cátodos parciales) están previstos en la instalación de recubrimiento, de manera que de forma localmente limitada puede producirse una alta corriente de descarga. Una posible realización de esta propuesta se describe en las solicitudes de patente alemana DE102011018363 y DE102206017382.
Durante un impulso de potencia que actúa sobre un cátodo parcial, se pulveriza a partir de dicho cátodo con una alta densidad de corriente de descarga. Al mismo tiempo, el o los otros cátodos parciales pueden enfriarse antes de que vuelva a actuar un impulso de potencia sobre ellos.
Los inventores, sin embargo, han encontrado que la duración de impulso misma tiene una gran influencia en las propiedades de capa de la capa formada mediante pulverización por magnetrón. Por lo tanto, se requieren generadores capaces de emitir altos impulsos de potencia tanto muy cortos como de duración relativamente larga. Los generadores generalmente suministran de manera fiable una tensión constante con una corriente constante. En inglés se llaman “power supply”, lo que traducido significa suministro de potencia. La situación se vuelve exigente cuando, como se ha descrito anteriormente, se trata de generar impulsos de potencia cortos de alta potencia. Al conectar el suministro de potencia que debe emitir una potencia de por ejemplo 40 kW, hasta la emisión de potencia total, con las fuentes de tensión usuales en el mercado pasa un tiempo del orden de aprox. 700 |js. Cuando, como en el presente caso, se requieren impulsos de potencia con una duración de impulso más corta, el tiempo disponible ha transcurrido ya antes del establecimiento de la potencia total. El perfil de potencia de este tipo de impulsos por tanto es incontroladamente dinámico y el procedimiento de pulverización basado en ello conduce a capas difíciles de reproducir y de características subóptimas.
Por lo tanto, con el procedimiento según la invención se pretende proporcionar una posibilidad de llegar de manera sencilla a impulsos de potencia con un perfil definido, debiendo ser escalable la duración de los impulsos de potencia de manera sencilla a través de amplios intervalos.
Según la invención, el objetivo se consigue de tal forma que los intervalos de impulso de potencia asignados a un primer cátodo parcial se solapan ligeramente en el tiempo con los intervalos de impulso de potencia asignados a un segundo cátodo parcial, de modo que durante la desviación de la potencia del primer cátodo parcial al segundo cátodo parcial no es necesario desconectar el generador que suministra la potencia, sino que la extracción de potencia del generador se produce ininterrumpidamente y, por tanto, no se tiene que producir un nuevo establecimiento de potencia. Durante el tiempo del solape de los dos intervalos de impulso de potencia, el plasma arde sólo en el primer cátodo parcial, ya que la impedancia correspondiente es notablemente más baja que la impedancia del segundo cátodo parcial aún no encendido. Sólo si al final del primer intervalo de impulso de potencia, el primer cátodo parcial se separa del generador, se enciende el plasma en el segundo cátodo parcial, pero lo hace de forma tan rápida que se produce una extracción de potencia sustancialmente continua del generador. Si existe un tercer cátodo parcial, se hace que el intervalo de impulso de potencia asignado al tercer cátodo parcial se solape (preferentemente ligeramente) con el intervalo de impulso de potencia asignado al segundo cátodo parcial, de manera que a su vez durante la desviación de la potencia del segundo cátodo parcial al tercer cátodo parcial no se produce ninguna interrupción de la extracción de potencia. Un ligero solape significa en el presente caso un solape del orden de x*0,01 ms, siendo 0,5<x<10. Dicho de forma general, se hace que el intervalo de impulso de potencia asignado al n-ésimo cátodo parcial se solape (preferentemente ligeramente) con el intervalo de impulso de potencia asignado al n-ésimo -1 cátodo parcial, por lo que durante la desviación de la potencia del n-ésimo -1 cátodo parcial al n-ésimo cátodo parcial se evita una interrupción de la extracción de potencia del generador. Sólo cuando la potencia se desvió al último cátodo parcial y se emitió el impulso de potencia asignado a dicho último cátodo parcial, es decir, cuando ha finalizado un ciclo de impulso de potencia - que en lo sucesivo se denomina también grupo - se interrumpe la extracción de potencia del generador. La pausa de potencia siguiente se aprovecha para enfriar los cátodos parciales antes de volver a aplicar en el primer cátodo parcial en el intervalo correspondiente el impulso de potencia asignado al mismo.
Sin embargo, un procedimiento de este tipo hace que al menos el impulso de potencia emitido en el primer cátodo parcial se sitúe en el rango de tiempo del establecimiento de potencia del generador y que el impulso de potencia correspondiente presente un perfil correspondientemente indeseable. Por lo tanto, según una forma de realización preferible de la presente invención, para la aplicación de potencia en el primer cátodo parcial durante al menos aproximadamente el intervalo de establecimiento de potencia se aplica potencia en un llamado cátodo dummy. Se trata sustancialmente de un absorbedor de potencia y no de un cátodo empleado para la aplicación. Entonces, se hace que el intervalo de impulso de potencia asignado al primer cátodo parcial se solape ligeramente con el intervalo de establecimiento de potencia, por lo que durante la desviación del cátodo dummy al primer cátodo parcial se evita una interrupción de la extracción de potencia del generador y en el marco del primer intervalo de impulso de potencia está disponible sustancialmente ya la potencia total. El cátodo dummy mencionado anteriormente puede realizarse por ejemplo con un circuito eléctrico con resistencia óhmica, en el que cae la tensión correspondiente y, por tanto, la potencia se convierte en calor.
Como se ha mencionado anteriormente, el intervalo de establecimiento de potencia puede situarse en el orden de alrededor de 700 ps. La potencia emitida durante este intervalo por el generador al cátodo dummy no va en beneficio del proceso de recubrimiento, es decir que se pierde y supone una pérdida. Esto no es problemático si el ciclo de impulso de potencia, es decir el intervalo de grupo es grande frente al intervalo de establecimiento de potencia y, por tanto, la pérdida de potencia corresponde a un pequeño porcentaje. Sin embargo, esto resulta problemático si los intervalos de impulso de potencia se vuelven tan pequeños que el intervalo de establecimiento de potencia se vuelve relevante en comparación con el intervalo de grupo. En este caso, se produce una pérdida de potencia significativa y por tanto inaceptable.
Esto se puede evitar con otra forma de realización preferible de la presente invención. Es que los inventores han encontrado que precisamente con cortos intervalos de impulso de potencia todavía ni es necesario un enfriamiento de los cátodos parciales. En este caso, a continuación del primer ciclo de impulsos de potencia se realiza un segundo ciclo de impulsos de potencia. Se hace que el primer intervalo de impulso de potencia del segundo ciclo de impulsos de potencia (es decir, del segundo grupo) se solape ligeramente con el último intervalo de impulso de potencia del primer ciclo de impulsos de potencia del primer grupo, de modo que es posible desviar la potencia del último cátodo parcial al primer cátodo parcial sin interrupción de la extracción de potencia del generador. De esta manera, para el segundo grupo se evitan un intervalo de establecimiento de potencia y la pérdida de potencia resultante de la desviación de la potencia al cátodo dummy. Es posible enfilar de manera correspondiente tantos grupos hasta que a causa del calor que se produce en los cátodos parciales tenga que producirse o debería producirse una interrupción real del suministro de potencia. En una serie de grupos de este tipo, tan sólo una vez al principio de la serie será necesario conducir la potencia al cátodo dummy durante el intervalo de establecimiento de potencia.
A continuación, la invención se describe en detalle y con la ayuda de esquemas a modo de ejemplo con la ayuda de la tecnología de pulverización (tecnología de pulverización catódica).
La figura 1 representa esquemáticamente una serie de grupos de este tipo.
La figura 2 muestra una estructura según una forma de realización, según la que una unidad de suministro de potencia 3 comprende generadores g1 a g6 que están configurados como unidad de maestro / esclavo y que a través de los conmutadores S1 a S6 puede conectarse a los cátodos parciales q1 a q6.
La figura 3 muestra la estructura según la figura 2 en la que la unidad de maestro / esclavo está disuelta de tal forma que cada uno de los cátodos parciales puede ser alimentado directamente por un generador.
En los siguientes ejemplos se usan las siguientes abreviaturas:
Pavg Potencia media de pulverización catódica
Pmáx Potencia máxima de pulverización catódica (potencia de impulso)
tpn Duración de impulso
tdn Retardo de impulso
N Cantidad de grupos (N = 0... 500)
n Número de canal
(= cantidad cátodos parciales, n = 0... 6, n = 0 corresponde a cátodo dummy)
fr Frecuencia de repetición
tr Duración de repetición = 1/fr
Para evitar un sobrecalentamiento de los cátodos, se supone por ejemplo que dentro de una serie de potencia el tiempo total durante el que se aplica potencia en un cátodo parcial debe ser inferior a 100 ms:
(tpn-tdn)*N < 100 ms = Tmáx
1° Ejemplo
En el marco del primer ejemplo, se aplica potencia en el cátodo dummy durante 0,5 ms, es decir que el intervalo de pérdida tp0 es de 0,5 ms y, por tanto, comprende seguramente el intervalo de establecimiento de potencia de aprox.
0,25 ms. Adicionalmente al cátodo dummy se usan 6 cátodos parciales. Los intervalos de impulso de potencia durante los que en un grupo se aplica potencia en un cátodo parcial se fijan en tp 1-6 = 0,2 ms y el solape de los intervalos de impulso de potencia se fija en td1-6 = 0,2 ms. Se realizan en total 10 ciclos de impulsos de potencia, es decir que 10 grupos junto con el intervalo de pérdida forman una serie. Por lo tanto, el intervalo de serie total dura 10*6*(0,2ms-0,02ms)+0,5ms = 10,8ms+0,5ms = 11,3ms.
Por lo tanto, hay un intervalo de pérdida de 0,5 ms frente a un tiempo para emisión de potencia de 10,8 ms, empleado para los fines de recubrimiento. En comparación con la pérdida de potencia en el cátodo dummy se emplea por tanto más de 20 veces más de potencia para fines de recubrimiento.
Si ahora, durante el intervalo de impulso de potencia están presentes 40 kW en un cátodo parcial estando predefinida una potencia de pulverización catódica media de 5 kW en cada cátodo parcial, el intervalo de serie total debería repetirse con una frecuencia de 69,4 Hz, porque es válido:
(tpn-tdn)*N*Pmáx*fr=0,18ms*10*40kW*69,4Hz = 5KW.
Frente a ello, en el cátodo dummy hay una pérdida de potencia media de 0,5ms*40kW*69.4Hz=1,39kW, como máximo. Una frecuencia de repetición de 69,4 Hz corresponde a una duración de repetición de 14,4 ms. Con una duración del intervalo de serie total de 11,3 ms, esto significa que entre las series debería haber una pausa de 3,1 ms.
2° Ejemplo
En el marco del segundo ejemplo, el intervalo de impulso de potencia se reduce a 0,07 ms y la cantidad de grupos se eleva a 100. Los demás parámetros se mantienen. Por lo tanto, el intervalo de serie total dura 100*6*(0,07ms-0,02ms)+0,5ms=30ms+0,5ms=30,5ms.
Por lo tanto, hay un intervalo de pérdida de 0,5 ms frente a un tiempo para emisión de potencia de 30 ms, empleado para los fines de recubrimiento. En comparación con la pérdida de potencia en el cátodo dummy se emplea por tanto más de 60 veces más de potencia para fines de recubrimiento.
Si ahora, durante el intervalo de impulso de potencia están presentes 40 kW en un cátodo parcial estando predefinida una potencia de pulverización catódica media de 5 kW en cada cátodo parcial, el intervalo de serie total debería repetirse con una frecuencia de 25 Hz, porque es válido:
(tpn-tdn)*N*Pmáx*fr=0,05ms*100*40kW*25Hz = 5KW.
Frente a ello, en el cátodo dummy hay una pérdida de potencia media de 0,5ms*40kW*25Hz=0,5kW, como máximo. La frecuencia de repetición de 25 Hz corresponde a una duración de repetición de 40 ms. Con una duración del intervalo de serie total de 30,5 ms, esto significa que debería haber una pausa de 9,5 ms entre dos series.
3° Ejemplo
En el marco del tercer ejemplo, el intervalo de impulso de potencia se reduce a 0,05 ms y la cantidad de grupos se eleva a 1000. Los demás parámetros se mantienen. Por lo tanto, el intervalo de serie total dura 1000*6*(0,05ms-0,02ms)+0,5ms=180ms+0,5ms=180,5ms.
Por lo tanto, hay un intervalo de pérdida de 0,5 ms frente a un tiempo para emisión de potencia de 180 ms, empleado para los fines de recubrimiento. En comparación con la pérdida de potencia en el cátodo dummy se emplea por tanto más de 360 veces más de potencia para fines de recubrimiento.
Si ahora, durante el intervalo de impulso de potencia están presentes 60 kW en un cátodo parcial estando predefinida una potencia de pulverización catódica media de 5 kW en cada cátodo parcial, el intervalo de serie total debería repetirse con una frecuencia de 2,7 Hz, porque es válido:
(tpn-tdn)*N*Pmáx*fr=0,03ms*1000*60kW*2,7Hz = 4,86KW.
Frente a ello, en el cátodo dummy hay una pérdida de potencia media de 0,5ms*60kW*2,7Hz=81W, como máximo. La frecuencia de repetición de 2,7 Hz corresponde a una duración de repetición de 360 ms. Con una duración del intervalo de serie total de 180,5 ms, esto significa que debería haber una pausa de 179,5 ms entre dos series.
4° Ejemplo
En el marco del cuarto ejemplo, se mantienen el intervalo de impulso de potencia de 0,05 ms y la cantidad de grupos de 1000, al igual que los demás parámetros. Por lo tanto, el intervalo de serie total dura 1000*6*(0,05ms-0,02ms)+0,5ms=180ms+0,5ms=180,5ms.
Por lo tanto, hay un intervalo de pérdida de 0,5 ms frente a un tiempo para emisión de potencia de 180 ms, empleado para los fines de recubrimiento. En comparación con la pérdida de potencia en el cátodo dummy se emplea por tanto más de 360 veces más de potencia para fines de recubrimiento.
Si ahora, durante el intervalo de impulso de potencia ya no están presentes en un cátodo parcial 60 kW como en el ejemplo 3, sino solamente 33 kW, estando predefinida una potencia de pulverización catódica media de 5 kW en cada cátodo parcial, el intervalo de serie total debería repetirse con una frecuencia de 5,05 Hz, porque es válido:
(tpn-tdn)*N
*Pmáx*fr=0,03ms*1000*33kW*5,05Hz = 5KW.
Frente a ello, en el cátodo dummy hay una pérdida de potencia media de 0,5ms*33kW*5,05Hz=83W, como máximo. La frecuencia de repetición de 5,05 Hz corresponde a una duración de repetición de 198 ms. Con una duración del intervalo de serie total de 180,5 ms, esto significa que debería haber una pausa de tan sólo 17,5 ms entre dos series.
Como muestran los ejemplos descritos anteriormente, el procedimiento según la invención permite un escalado sencillo de la duración de impulso, de la intensidad de impulso, de la frecuencia de repetición de impulso así como de la definición exacta del perfil de impulso con una potencia perdida prácticamente despreciable. Todas estas magnitudes que pueden reunirse bajo la palabra clave característica escalable de impulso tienen en la pulverización catódica y especialmente en el marco de la tecnología HIPIMS una influencia directa en las propiedades de las capas originadas. Aunque la descripción de la invención representa la puesta a disposición de impulsos de potencia en el marco de la tecnología de pulverización catódica, se puede usar siempre cuando hay que aplicar sobre una carga una potencia comparativamente alta en el marco de impulsos.
La figura 1 muestra la situación correspondiente a los ejemplos, tanto como serie unitaria como de forma dividida en el intervalo de pérdida (0) y los intervalos de impulso de potencia en los cátodos parciales (1-6). El eje horizontal representa el eje de tiempo y el eje vertical corresponde a la potencia emitida por el generador. Sin embargo, en la figura se muestran tan sólo 3 grupos.
Como se ha descrito anteriormente, mediante la introducción de un cátodo dummy es posible aplicar en cada uno de los cátodos parciales un perfil de impulso de potencia definido exactamente, ya que dicho cátodo dummy puede procesar la potencia emitida durante el intervalo de establecimiento de potencia. Pero como han encontrado los inventores, dicho cátodo dummy también resulta muy útil si durante la pulverización catódica se produce una llamada formación de arco (“arcing”). Es que si por medio de un dispositivo de detección se detecta tal formación de arco - también llamada centelleo - habitualmente se desconecta el generador, lo que significa que dentro de una serie ya no existe una emisión de potencia ininterrumpida por el generador. En cambio, con la ayuda del cátodo dummy es posible desviar la potencia a dicho cátodo y el generador puede emitir su potencia sin perturbaciones ni interrupciones.
Cabe mencionar además que el procedimiento según la invención de la puesta a disposición de impulsos de potencia secuenciales permite usar generadores sencillos. Por tanto, el generador puede ser por ejemplo una unidad de alimentación de potencia configurada como unidad de maestro / esclavo. Por una configuración de maestro / esclavo se entiende la interconexión paralela de las salidas de dos o varios generadores, eligiéndose en uno de los generadores (el maestro) la potencia que ha de ser ajustada, y estando unidos los otros generadores electrónicamente de tal forma que siguen el maestro en sus ajustes. Esto ofrece especialmente además la ventaja de que, por ejemplo cuando se ha de conmutar de pulverización catódica HIPIMS a pulverización catódica convencional, se puede disolver la configuración de maestro / esclavo y a los cátodos parciales se puede asignar respectivamente el maestro o un esclavo.
Preferentemente, los cátodos parciales comprenden detrás de los blancos respectivamente sistemas magnéticos móviles que garantizan que el “racetrack” (pista de carrera) correspondiente pase sobre el blanco parcial correspondiente. Si la instalación se hace funcionar en el modo HIPIMS, según la invención, los sistemas magnéticos que preferentemente rotan detrás de los blancos parciales se mueven con una frecuencia que preferentemente no forma una relación racional con la frecuencia del impulso de potencia recurrente de la fuente de pulverización catódica. De esta manera, queda garantizada una remoción homogénea de material de la superficie del blanco.
Se ha descrito un procedimiento para proporcionar impulsos de potencia con un intervalo de impulso de potencia escalable para el funcionamiento de un cátodo de pulverización PVD, comprendiendo el cátodo de pulverización PVD un primer cátodo parcial y un segundo cátodo parcial, estando predefinida para los cátodos parciales una aplicación de potencia media máxima, predefiniéndose los intervalos de impulso de potencia y comprendiendo el procedimiento los siguientes pasos
a) la puesta a disposición de un generador con una emisión de potencia constante predefinida preferentemente al menos tras encenderse y tras transcurrir un intervalo de establecimiento de potencia
b) el encendido del generador
c) la conexión del primer cátodo parcial al generador, de manera que el primer cátodo parcial es alimentado de potencia del generador
d) la separación del generador del primer cátodo parcial tras transcurrir un primer intervalo de impulso de potencia predefinido, correspondiente al primer cátodo parcial
e) la conexión del segundo cátodo parcial al generador, de manera que el segundo cátodo parcial es alimentado de potencia del generador
f) la separación del generador del segundo cátodo parcial tras transcurrir un segundo intervalo de impulso de potencia predefinido, correspondiente al segundo cátodo parcial
comenzando el primer intervalo de impulso de potencia antes en el tiempo que el segundo intervalo de impulso de potencia y finalizando el primer intervalo de impulso de potencia antes en el tiempo que el segundo intervalo de impulso de potencia, realizándose los pasos d) y e) de tal forma que el primer intervalo de impulso de potencia y el segundo intervalo de impulso de potencia se solapan en el tiempo y que todos los intervalos de impulso de potencia juntos forman un primer grupo, de manera que la emisión de potencia del generador se mantiene de forma continua sin interrupción desde el comienzo del primer intervalo de impulso de potencia hasta el final del segundo intervalo de impulso de potencia y no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia.
El solape de tiempo del primer intervalo de impulso de potencia y del segundo intervalo de impulso de potencia preferentemente no debería ser superior a x% de los intervalos de impulso de potencia o, si el primer intervalo de impulso de potencia se diferencia del segundo intervalo de impulso de potencia en cuanto a su duración, no debería ser superior a x% del intervalo de impulso de potencia de duración más corta, siendo x inferior o igual a 20, preferentemente, siendo x inferior o igual a 10.
El cátodo de pulverización PVD puede comprender al menos un cátodo parcial adicional, preferentemente varios cátodos parciales adicionales, conectándose al generador o separándose de este el cátodo parcial adicional según los pasos e) y f), solapándose en el tiempo el intervalo de impulso de potencia asignado respectivamente al cátodo parcial adicional de turno con el intervalo de impulso de potencia que corresponde al cátodo parcial que estuvo de turno directamente antes, y formando el primer, el segundo y el o los intervalos de impulso de potencia adicionales juntos el primer grupo ininterrumpido, de manera que la emisión de potencia del generador se mantiene de forma continua sin interrupción durante el intervalo de grupo formado por el primer grupo y no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia.
Al primer grupo se puede adjuntar un segundo grupo, dentro del que, de manera correspondiente al primer grupo, el primer, el segundo y, dado el caso, los cátodos parciales adicionales son alimentados de impulsos de potencia dentro de intervalos de impulso de potencia que se solapan, adjuntándose el segundo grupo al primer grupo de tal manera que el primer intervalo de impulso de potencia del segundo grupo se solapa con el último intervalo de impulso de potencia del primer grupo, de manera que la emisión de potencia del generador se mantiene de forma continua sin interrupción desde el comienzo del primer intervalo de potencia del primer grupo hasta el final del último impulso de potencia del segundo grupo y no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia.
Conforme a las condiciones formuladas para los grupos 1 y 2 se pueden adjuntar unos a otros N grupos, siendo N un número entero > 1.
Sin embargo, preferentemente, el número N de grupos debe elegirse como máximo sólo tan grande que para cada cátodo parcial n sea válido que la suma de los intervalos de impulso de potencia tpn asignados al mismo, a deducir respectivamente un solape tdn, en todos los grupos 1 a N, no exceda de un tiempo máximo de 100 ms.
Durante un intervalo de pérdida, la potencia emitida por el generador puede emitirse a una carga no utilizada por ejemplo para un recubrimiento, y el intervalo de pérdida al menos comprende el intervalo de establecimiento de potencia y el intervalo de pérdida se solapa con el primer intervalo de impulso de potencia del primer grupo, y el intervalo de pérdida forma junto con los grupos una serie ininterrumpida.
El procedimiento descrito anteriormente puede repetirse múltiples veces y, respectivamente después del último impulso de potencia del último grupo, el generador puede desconectarse durante una pausa y la pausa puede elegirse tan larga que la potencia promediada en el tiempo, emitida a los cátodos parciales, teniendo en consideración las pausas, corresponda a un valor predefinido.
Con el procedimiento descrito anteriormente se puede realizar un procedimiento HIPIMS, ascendiendo la potencia predefinida del generador a al menos 20 kW, preferentemente a al menos 40 kW y de forma especialmente preferible a 60 kW.
En el procedimiento HIPIMS, los parámetros preferentemente se pueden elegir de tal forma que la potencia promediada en el tiempo, emitida a los cátodos parciales, sea inferior a 10 kW, ascendiendo preferentemente a 5 kW, siendo preferentemente superior a 0,2 A/cm2 la densidad de corriente de descarga existente temporalmente y localmente en los cátodos parciales.
Se ha descrito un procedimiento para proporcionar impulsos de potencia con un intervalo de impulso de potencia escalable para el funcionamiento de un cátodo de pulverización PVD, comprendiendo el cátodo de pulverización PVD un componente de absorción de potencia y un primer cátodo parcial, estando predefinida para el cátodo parcial una aplicación de potencia media máxima, predefiniéndose la duración de los intervalos de impulso de potencia y comprendiendo el procedimiento los siguientes pasos
a) la puesta a disposición de un generador con una emisión de potencia constante predefinida preferentemente al menos tras encenderse y tras transcurrir un intervalo de establecimiento de potencia
b) el encendido del generador
c) la conexión del componente de absorción de potencia al generador, de manera que el componente de absorción de potencia es alimentado de potencia del generador durante el intervalo de establecimiento de potencia
d) la separación del generador del componente de absorción de potencia tras transcurrir el intervalo de establecimiento de potencia
e) la conexión del primer cátodo parcial al generador, de manera que el primer cátodo parcial es alimentado de potencia del generador
f) la separación del generador del primer cátodo parcial tras transcurrir un primer intervalo de impulso de potencia predefinido, correspondiente al primer cátodo parcial
El procedimiento se caracteriza porque los pasos d) y e) se realizan de tal forma que durante la conexión del primer cátodo parcial al generador no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia, lo que preferentemente se consigue porque el intervalo de establecimiento de potencia y el primer intervalo de impulso de potencia se solapan en el tiempo y no tiene que interrumpirse la emisión de potencia del generador.
En la descripción se usó frecuentemente la palabra “cátodo dummy”. No es necesariamente un cátodo real, sino que se entiende de forma idéntica al componente de absorción de potencia. Del componente de absorción de potencia es característico que no se usa como proveedor de material para los sustratos que han de ser recubiertos o tratados. En la descripción, la palabra cátodo parcial se entiende de tal forma que varios cátodos aislados eléctricamente forman un sistema de cátodos y dichos cátodos se designan como parte del sistema y por tanto como cátodos parciales.
El procedimiento puede comprender además los siguientes pasos:
g) la conexión de un segundo cátodo parcial al generador, de manera que el segundo cátodo parcial es alimentado de potencia del generador
h) la separación del generador del segundo cátodo parcial una vez transcurrido un primer intervalo de impulso de potencia predefinido, correspondiente al segundo cátodo parcial.
realizándose los pasos f) y g) de tal forma que la emisión de potencia del generador se mantiene de forma continua sin interrupción desde el comienzo del intervalo de establecimiento de potencia hasta el final del segundo intervalo de impulso de potencia y no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia, lo que preferentemente se consigue porque el primer intervalo de impulso de potencia y el segundo intervalo de impulso de potencia se solapan en el tiempo, comenzando el primer intervalo de impulso de potencia antes en el tiempo que el segundo intervalo de impulso de potencia y finalizando el primer intervalo de impulso de potencia antes en el tiempo que el segundo intervalo de impulso de potencia.
Pueden conectarse al generador y desconectarse de este sucesivamente por orden según los pasos f), g) y h) n cátodos parciales adicionales, solapándose en el tiempo preferentemente el n-ésimo -1 intervalo de impulso de potencia con el n-ésimo intervalo de impulso de potencia.
Pueden estar previstos medios para la detección de la formación de arco y en caso de la detección de un arco, el componente de absorción de potencia se conecta al generador y el cátodo parcial conectado actualmente se separa del generador, de tal forma que no se interrumpe la emisión de potencia del generador.
Por formación de arco se entiende en la presente descripción generalmente la ruptura eléctrica que conduce a un derrumbe súbito de la tensión y/o al aumento súbito de la corriente.

Claims (6)

REIVINDICACIONES
1. Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia con un intervalo de impulso de potencia escalable para el funcionamiento de un cátodo de pulverización PVD, comprendiendo el cátodo de pulverización PVD un componente de absorción de potencia y al menos un primer cátodo o un primer cátodo parcial, estando predefinida para el cátodo o el cátodo parcial una aplicación de potencia media máxima, predefiniéndose la duración de los intervalos de impulso de potencia y comprendiendo el procedimiento los siguientes pasos
a) la puesta a disposición de un generador con una emisión de potencia constante predefinida preferentemente al menos tras encenderse y tras transcurrir un intervalo de establecimiento de potencia
b) el encendido del generador
c) la conexión del componente de absorción de potencia al generador, de manera que el componente de absorción de potencia es alimentado de potencia del generador durante el intervalo de establecimiento de potencia
d) la separación del generador del componente de absorción de potencia tras transcurrir el intervalo de establecimiento de potencia
e) la conexión del primer cátodo o cátodo parcial al generador, de manera que el primer cátodo o cátodo parcial es alimentado de potencia del generador
f) la separación del generador del primer cátodo o cátodo parcial tras transcurrir un primer intervalo de impulso de potencia predefinido, correspondiente al primer cátodo o cátodo parcial
caracterizado porque el componente de absorción de potencia no se usa como proveedor de material para los sustratos que han de ser recubiertos o procesados y los pasos d) y e) se realizan de tal forma que durante la conexión del primer cátodo o cátodo parcial al generador no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia y no tiene que interrumpirse la emisión de potencia del generador.
2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque el intervalo de establecimiento de potencia y el primer intervalo de impulso de potencia se solapan en el tiempo y por ello no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia.
3. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el cátodo de pulverización PVD comprende al menos un primer y un segundo cátodo parcial y el procedimiento comprende además los siguientes pasos:
g) la conexión del segundo cátodo parcial al generador, de manera que el segundo cátodo parcial es alimentado de potencia del generador
h) la separación del generador del segundo cátodo parcial una vez transcurrido un primer intervalo de impulso de potencia predefinido, correspondiente al segundo cátodo parcial.
realizándose los pasos f) y g) de tal forma que la emisión de potencia del generador se mantiene de forma continua sin interrupción desde el comienzo del intervalo de establecimiento de potencia hasta el final del segundo intervalo de establecimiento de potencia y no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia.
4. Procedimiento según la reivindicación 3, caracterizado porque el primer intervalo de impulso de potencia y el segundo intervalo de impulso de potencia se solapan en el tiempo, comenzando el primer intervalo de impulso de potencia antes en el tiempo ante que el segundo intervalo de impulso de potencia y finalizando el primer intervalo de impulso de potencia antes en el tiempo que el segundo intervalo de impulso de potencia y por ello no se produce un segundo intervalo de establecimiento de potencia.
5. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores 3 a 4, caracterizado porque pueden conectarse al generador y desconectarse de este sucesivamente por orden según los pasos f), g) y h) n cátodos parciales adicionales, solapándose en el tiempo preferentemente el n-ésimo -1 intervalo de impulso de potencia con el nésimo intervalo de impulso de potencia.
6. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque están previstos medios para la detección de la formación de arco y en caso de la detección de un arco, el componente de absorción de potencia se conecta al generador y el cátodo o cátodo parcial conectado actualmente se separa del generador, de tal forma que no se interrumpe la emisión de potencia del generador.
ES12784435T 2011-10-28 2012-10-08 Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia secuenciales Active ES2705974T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011117177A DE102011117177A1 (de) 2011-10-28 2011-10-28 Verfahren zur Bereitstellung sequenzieller Leistungspulse
PCT/EP2012/004203 WO2013060415A1 (de) 2011-10-28 2012-10-08 Verfahren zur bereitstellung sequenzieller leistungspulse

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2705974T3 true ES2705974T3 (es) 2019-03-27

Family

ID=47177865

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES12784435T Active ES2705974T3 (es) 2011-10-28 2012-10-08 Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia secuenciales

Country Status (24)

Country Link
US (1) US9906210B2 (es)
EP (1) EP2771901B1 (es)
JP (1) JP6236651B2 (es)
KR (1) KR101930579B1 (es)
CN (1) CN104246967B (es)
AR (1) AR088318A1 (es)
BR (1) BR112014010115B1 (es)
CA (1) CA2853699C (es)
DE (1) DE102011117177A1 (es)
DK (1) DK2771901T3 (es)
ES (1) ES2705974T3 (es)
HU (1) HUE043149T2 (es)
IN (1) IN2014DN03385A (es)
MX (1) MX360116B (es)
MY (1) MY175563A (es)
PH (1) PH12014500941A1 (es)
PL (1) PL2771901T3 (es)
PT (1) PT2771901T (es)
RU (1) RU2631670C2 (es)
SG (1) SG11201401877QA (es)
SI (1) SI2771901T1 (es)
TR (1) TR201900589T4 (es)
TW (1) TWI564415B (es)
WO (1) WO2013060415A1 (es)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011121770A1 (de) 2011-12-21 2013-06-27 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Homogenes HIPIMS-Beschichtungsverfahren
DE102013011071A1 (de) 2013-07-03 2015-01-08 Oerlikon Trading Ag, Trübbach TixSi1-xN Schichten mit CryAl1-yN Haftschicht und ihre Herstellung
DE102013011073A1 (de) 2013-07-03 2015-01-08 Oerlikon Trading Ag, Trübbach TlxSi1-xN Schichten und ihre Herstellung
PL3017079T5 (pl) * 2013-07-03 2020-12-28 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Sposób wytwarzania warstw tixsi1-xn
DE102013011072A1 (de) * 2013-07-03 2015-01-08 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Targetpräparation
DE102013011075A1 (de) 2013-07-03 2015-01-08 Oerlikon Trading Ag TiB2 Schichten und ihre Herstellung
KR102117739B1 (ko) 2016-09-30 2020-06-09 주식회사 엘지화학 음극지지체형 고체산화물 연료전지 제조방법
EP3406761A1 (en) 2017-05-24 2018-11-28 Walter Ag A method for producing a coated cutting tool and a coated cutting tool
EP3406751A1 (en) 2017-05-24 2018-11-28 Walter Ag A coated cutting tool and a method for its production

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141766A (ja) * 1984-08-06 1986-02-28 Hitachi Ltd スパツタリング方法およびスパツタ−装置
JPH07116596B2 (ja) * 1989-02-15 1995-12-13 株式会社日立製作所 薄膜形成方法、及びその装置
ES2202439T3 (es) * 1995-04-25 2004-04-01 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Sistema de pulverizacion que utiliza un magnetron cilindrico rotativo alimentado electricamente utilizando corriente alterna.
DE19651615C1 (de) * 1996-12-12 1997-07-10 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Aufbringen von Kohlenstoffschichten durch reaktives Magnetron-Sputtern
US6063254A (en) * 1997-04-30 2000-05-16 The Alta Group, Inc. Method for producing titanium crystal and titanium
US6878242B2 (en) * 2003-04-08 2005-04-12 Guardian Industries Corp. Segmented sputtering target and method/apparatus for using same
US20050103620A1 (en) * 2003-11-19 2005-05-19 Zond, Inc. Plasma source with segmented magnetron cathode
KR20080071973A (ko) * 2005-10-13 2008-08-05 엔.브이. 베카에르트 에스.에이. 스퍼터링에 의한 코팅 증착법
DE102006017382A1 (de) * 2005-11-14 2007-05-16 Itg Induktionsanlagen Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten und/oder zur Behandlung von Oberflächen
JP5383500B2 (ja) * 2006-12-12 2014-01-08 オーツェー・エリコン・バルザース・アーゲー 高出力インパルス・マグネトロン・スパッタリング（ｈｉｐｉｍｓ）を用いたｒｆ基板バイアス
US20080197015A1 (en) * 2007-02-16 2008-08-21 Terry Bluck Multiple-magnetron sputtering source with plasma confinement
WO2009132822A2 (de) 2008-04-28 2009-11-05 Cemecon Ag Vorrichtung und verfahren zum vorbehandeln und beschichten von körpern
JP5037475B2 (ja) * 2008-11-11 2012-09-26 株式会社神戸製鋼所 スパッタ装置
DE202010001497U1 (de) 2010-01-29 2010-04-22 Hauzer Techno-Coating B.V. Beschichtungsvorrichtung mit einer HIPIMS-Leistungsquelle
DE102011018363A1 (de) 2011-04-20 2012-10-25 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Hochleistungszerstäubungsquelle
DE102011121770A1 (de) * 2011-12-21 2013-06-27 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Homogenes HIPIMS-Beschichtungsverfahren
JP7116596B2 (ja) * 2018-05-31 2022-08-10 川崎重工業株式会社 リード線挿入装置およびリード線挿入方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201337016A (zh) 2013-09-16
US9906210B2 (en) 2018-02-27
DK2771901T3 (en) 2019-02-18
BR112014010115B1 (pt) 2021-11-16
HUE043149T2 (hu) 2019-08-28
CA2853699C (en) 2019-08-06
EP2771901B1 (de) 2018-12-12
US20140339917A1 (en) 2014-11-20
KR101930579B1 (ko) 2018-12-18
AR088318A1 (es) 2014-05-28
JP6236651B2 (ja) 2017-11-29
WO2013060415A1 (de) 2013-05-02
CN104246967A (zh) 2014-12-24
PT2771901T (pt) 2019-02-08
TWI564415B (zh) 2017-01-01
IN2014DN03385A (es) 2015-06-05
CN104246967B (zh) 2017-04-19
KR20140097214A (ko) 2014-08-06
SI2771901T1 (sl) 2019-05-31
RU2014121388A (ru) 2015-12-10
SG11201401877QA (en) 2014-09-26
EP2771901A1 (de) 2014-09-03
BR112014010115A8 (pt) 2017-06-20
MX2014005134A (es) 2014-10-06
MX360116B (es) 2018-10-23
CA2853699A1 (en) 2013-05-02
MY175563A (en) 2020-07-01
DE102011117177A1 (de) 2013-05-02
BR112014010115A2 (pt) 2017-06-13
JP2015501383A (ja) 2015-01-15
PH12014500941A1 (en) 2014-06-30
PL2771901T3 (pl) 2019-04-30
TR201900589T4 (tr) 2019-02-21
RU2631670C2 (ru) 2017-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2705974T3 (es) Procedimiento para proporcionar impulsos de potencia secuenciales
CN103608893B (zh) 用于提供顺序功率脉冲的方法
JP5124344B2 (ja) バイポーラパルス電源及び複数のバイポーラパルス電源からなる電源装置並びに出力方法
ES2696599T3 (es) Procedimiento para recubrir sustratos y fuente de pulverización de alta potencia para el mismo
JP2009284732A5 (es)
JP5186281B2 (ja) バイポーラパルス電源及びこのバイポーラパルス電源を複数台並列接続してなる電源装置
RU2014130057A (ru) Удлиненный каскадный плазмотрон
TW201532110A (zh) 等離子體處理裝置及等離子體處理方法
JP6180431B2 (ja) 均質なｈｉｐｉｍｓ被覆方法
RU2462783C1 (ru) Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом
JPWO2009025306A1 (ja) スパッタリング方法
ES2883198T3 (es) Disposición de pulverización catódica y procedimiento para la distribución optimizada del flujo de energía
US9198274B2 (en) Ion control for a plasma source
Ozimek et al. HIPIMS Power Supply Requirements: Parameters and Breakthrough Arc Management Solution