ES2708666T3 - Sistema de revestimiento que comprende una resina con alto contenido de ácidos - Google Patents

Sistema de revestimiento que comprende una resina con alto contenido de ácidos Download PDF

Info

Publication number
ES2708666T3
ES2708666T3 ES12724028T ES12724028T ES2708666T3 ES 2708666 T3 ES2708666 T3 ES 2708666T3 ES 12724028 T ES12724028 T ES 12724028T ES 12724028 T ES12724028 T ES 12724028T ES 2708666 T3 ES2708666 T3 ES 2708666T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
resin
coating
sol
coating system
high residual
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
ES12724028T
Other languages
English (en)
Inventor
Brian J Wayton
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Swimc LLC
Original Assignee
Swimc LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Swimc LLC filed Critical Swimc LLC
Application granted granted Critical
Publication of ES2708666T3 publication Critical patent/ES2708666T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/08—Anti-corrosive paints
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/14—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
    • B05D7/16—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies using synthetic lacquers or varnishes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/50—Multilayers
    • B05D7/52—Two layers
    • B05D7/54—No clear coat specified
    • B05D7/546—No clear coat specified each layer being cured, at least partially, separately
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31511—Of epoxy ether
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31598—Next to silicon-containing [silicone, cement, etc.] layer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

Un sistema de revestimiento para aplicación a un sustrato que tiene una capa de película de sol-gel aplicada sobre él, comprendiendo el sistema: una capa de película de sol-gel; y una composición de revestimiento de alto índice de acidez residual aplicada directamente encima de al menos una parte de la película de sol-gel, en donde la composición de revestimiento de alto índice de acidez residual es una composición con base de disolvente que se endurece teniendo suficientes grupos ácidos libres residuales para proporcionar a la película el equivalente de un índice de acidez de más de aproximadamente 65 mgKOH/g, en donde el revestimiento de alto índice de acidez residual comprende una resina con ácidos libres residuales, en donde la resina de alto índice de acidez residual comprende el producto de reacción de una mezcla de monómeros que comprende: i.) al menos un poliol; y ii.) al menos un polianhídrido; en donde la resina con ácidos libres residuales se endurece teniendo grupos ácidos libres residuales suficientes para proporcionar a la resina el equivalente de un índice de acidez de más de 65 mgKOH/g.

Description

DESCRIPCION
Sistema de revestimiento que comprende una resina con alto contenido de acidos
El uso de los llamados pretratamientos con pelfcula de "sol-gel" de sustratos metalicos para facilitar la adhesion de imprimaciones y capas base aplicadas posteriormente se ha vuelto mas comun, particularmente en la industria aeroespacial. El termino "sol-gel", que es una contraccion de solucion-gelificacion, se refiere a una serie de reacciones que ocurren en estos revestimientos de pretratamiento por las cuales una especie organometalica soluble en la formulacion, normalmente un alcoxido metalico o sal metalica, se hidroliza para formar un hidroxido metalico y ademas se condensa para formar enlaces metal-oxfgeno-metal, por ejemplo Si-O-Si, Si-O-Zr y Si-O-Al.
La descripcion y el uso de pelfculas de sol-gel se han analizado ampliamente en otra parte, pero en general se reconoce que las pelfculas de sol-gel promueven la adhesion al tener una parte metalica que es capaz de unirse covalentemente con el sustrato metalico y una parte organica que es capaz de unirse covalentemente con la o las resinas de un revestimiento aplicado posteriormente, tal como un revestimiento de imprimacion.
La resistencia y durabilidad de la pelfcula de sol-gel depende de las interacciones qmmicas y micro-mecanicas en la superficie del metal, que implican, por ejemplo, la tendencia de la pelfcula de sol-gel a rehidratarse y la porosidad y la microestructura del metal. Cuando se implementan correctamente, los revestimientos de sol-gel proporcionan estabilidad superficial para la adhesion de pinturas. Como se senalo anteriormente, el proceso sol-gel se basa en una combinacion de reacciones de hidrolisis y condensacion. Las velocidades relativas de hidrolisis y condensacion, y la estructura y caractensticas de la pelfcula de sol-gel resultante estan controladas por una serie de factores, que pueden incluir factores tales como el pH del entorno en y alrededor de la capa de sol-gel y la concentracion de reactivos y catalizadores en ese entorno, incluyendo la presencia y los niveles de acidos o bases. Es particularmente preocupante que, si la capa sol-gel se desestabiliza, la adhesion de las posteriores capas de revestimiento al sustra­ to puede perderse.
Una estrategia para impulsar la reaccion de condensacion en la pelfcula de sol-gel es hornear el sustrato pre-tratado con sol-gel. Este es un proceso complejo y costoso y, aunque impulsa eficazmente la condensacion de la pelfcula de sol-gel, el proceso no necesariamente evita la hidrolisis posterior en la pelfcula de sol-gel, que puede desestabilizar la pelfcula.
Una composicion de sol-gel que es particularmente util y comun para revestir superficies de aluminio y titanio se basa en una combinacion de componentes organometalicos y de organosilano. El compuesto organometalico preferido para uso en un sol-gel para revestir superficies de aluminio y titanio es un compuesto alcoximetalico y, mas preferiblemente, un compuesto de alcoxicirconio. Debido a su facil disponibilidad comercial, el n-propoxido de circonio (Zr) (IV) es particularmente preferido como compuesto organometalico. Ademas de unirse covalentemente a la superficie metalica, el compuesto de organocirconio tambien sirve para minimizar la difusion de oxfgeno a la superfi­ cie y para estabilizar la interfaz metal-resina. Los silanos con funcion epoxi son los organosilanos preferidos debido a su estabilidad en solucion y su capacidad para reticularse con los adhesivos comunes de epoxi o uretano aeroespaciales. El silano es acido-base neutro, por lo que su presencia en la mezcla de sol-gel no aumenta las velocidades de hidrolisis y condensacion relativas de los compuestos alcoximetalicos. Los sol-geles que incluyen los organosila­ nos son relativamente faciles de preparar y aplicar con resultados reproducibles, como se ensena extensamente en otras partes.
Una formulacion de sol-gel usada ampliamente es Boegel-EPII™, desarrollada por The Boeing Company, Seattle, Washington. La composicion Boegel-EPII™ es una combinacion de 3-glicidoxipropiltrimetoxisilano (GTMS) y npropoxido de Zr (IV) que se hace reaccionar en presencia de un estabilizante de acido acetico. El GTMS tiene un grupo epoxi activo que puede reaccionar con resinas epoxi y uretano comunes. GTMS no forma fuertes interaccio­ nes acido-base de Lewis con el sustrato de oxido metalico hidratado. El circonio en la mezcla tiende a reaccionar mas rapidamente con la superficie de oxido del metal, permitiendo la estratificacion deseada de la pelfcula de sol-gel con los grupos epoxi de los agentes de acoplamiento de silano orientados hacia la capa de resina.
En sistemas de revestimiento convencionales aplicados a sustratos pretratados con una capa de pelfcula de sol-gel, el revestimiento aplicado directamente sobre el sol-gel es normalmente neutro o basico (pH>7), ejemplificado por los revestimientos de resina epoxi endurecidos con amina comunmente empleados en la industria aeroespacial como composiciones de imprimacion y de capa base. Cuando se emplea como capa de imprimacion, este revestimiento neutro o basico inicial, que tambien puede contener inhibidores de la corrosion, tiene las funciones principales de inhibir la corrosion del sustrato y la desestabilizacion de la pelfcula de sol-gel, que puede resultar de la abrasion o exposicion a agentes ambientales, tales como sales, agua, soluciones descongelantes y similares, y para proporcionar una superficie sobre la cual se pueden aplicar el o los revestimientos decorativos.
El revestimiento decorativo, que normalmente contiene los pigmentos coloreados, imparte color al sustrato. Se pue­ den aplicar una o mas capas de un revestimiento decorativo. Una vez que se hayan aplicado el o los revestimientos decorativos, se pueden aplicar una o mas capas de un revestimiento transparente para proteger el revestimiento decorativo.
La aplicacion de un sistema de revestimiento como se acaba de describir es un proceso que requiere tiempo, incluso en ausencia de un proceso de horneado de sol-gel, ya que cada elemento (imprimacion, capa base, capa de acabado) debe aplicarse en una o mas capas y debe dejarse endurecer apropiadamente. El fallo en cualquiera de los elementos puede ser perjudicial para el rendimiento de todo el sistema, ocasionando danos esteticos o ffsicos al sustrato, que requieren reparacion. Ademas, cualquier incompatibilidad entre las capas puede dar como resultado un fallo del sistema. El documento WO 96/10595 A1 describe composiciones de poliuretano reactivas de dos partes y los revestimientos endurecidos preparados a partir de ellas. El documento US 2009/092801 A1 se refiere a una composicion de tinta no acuosa para impresion por chorro de tinta, que comprende (A) un dispersante de resina de uretano con un grupo funcional acido, (B) un pigmento y (C) un disolvente organico y opcionalmente (D) a compuesto termorreactivo, caracterizado por que el dispersante de resina de uretano (A) es un dispersante de resina de ure­ tano ramificada preparado polimerizando un compuesto que contiene isocianato terminal.
Sena beneficioso reducir el numero de elementos en un sistema de revestimiento a un mmimo necesario para proteger adecuadamente el sustrato de la exposicion ambiental y proporcionar un aspecto duradero y decorativamente agradable. Al reducir el numero de elementos en el sistema, la propension a un fallo del sistema puede reducirse. Hay menos elementos que pueden contribuir al fallo del sistema y menos interacciones potencialmente dispares entre capas de revestimiento. Ademas, limitar el numero de elementos en un sistema de revestimiento puede reducir la aplicacion y el tiempo de restauracion, el peso y el coste de aplicacion y reparacion. Ademas, sena beneficioso proporcionar un sistema de revestimiento que no requiera horneado, particularmente de la pelmula de sol-gel.
Segun la presente invencion, se ha descubierto que aplicar un revestimiento de alto mdice de acidez residual directamente sobre una capa de sol-gel ayuda a estabilizar la capa de sol-gel, lo que permite aplicar un revestimiento decorativo sin necesidad de una capa de imprimacion intermedia. Los revestimientos de alto mdice de acidez resi­ dual ensenados en la presente memoria muestran una excelente adhesion a la capa de sol-gel y proporcionan soporte a la totalidad de la capa de sol-gel, facilitando de este modo la adhesion del sistema de revestimiento global al sustrato.
Para los fines de esta invencion, la expresion "revestimiento de alto mdice de acidez residual" significa una composi­ cion de revestimiento formadora de pelmula que, cuando se endurece, tiene suficientes grupos acidos libres residuales para proporcionar a la pelmula el equivalente de un mdice de acidez de mas de mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproximadamente 75 mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproximadamente 85 mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproximadamente 100 mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproximadamente 125 mgKOH/g y. en una realizacion adicional mas, mayor de aproximadamente 150 mgKOH/g y, en realizaciones adicionales mas, mayor de aproximadamente 200 mgKOH/g o, como alternativa, 250 mgKOH/g o, como alternativa, 300 mgKOH/g. "Grupos acidos libres residuales" se refiere a grupos acido en el revestimiento endurecido que no se consumieron en la reticulacion con otros compuestos en el revestimiento o con compuestos en capas de revesti­ miento adyacentes. Se da preferencia de grupos acido carboxflico, aunque, en algunas realizaciones, se pueden emplear cantidades mmimas de otros acidos.
Como se senalo anteriormente, la presente invencion es notable por proporcionar un sistema de revestimiento aplicado a un sustrato pretratado con sol-gel, en el que es posible eliminar una capa de imprimacion separada entre la capa de pretratamiento de sol-gel y el revestimiento decorativo. Esto puede disminuir la cantidad de elementos en el sistema al tiempo que se mantienen y, en algunas realizaciones, se mejora el rendimiento, la durabilidad y la funcionalidad decorativa del revestimiento. Ademas, no es necesario, en la puesta en practica de la presente invencion, hornear el pretratamiento de sol-gel. Se ha formulado la teona de que el alto nivel de grupos acidos libres residuales en el revestimiento de alto mdice de acidez residual ayuda a moderar el pH en la superficie superior de la capa de sol-gel en un intervalo acido (pH <7) que es una condicion favorable para la reaccion de hidrolisis inicial que debe tener lugar durante el desarrollo de la pelmula de sol-gel. Ademas, se ha formulado la teona de que, manteniendo un entorno acido en el revestimiento de alto mdice de acidez residual junto a la pelmula de sol-gel, se mejora y se mantiene la integridad de la pelmula de sol-gel condensada.
Segun una realizacion, un revestimiento de alto mdice de acidez residual puede comprender una composicion con base de disolvente que comprende una o mas resinas de alto mdice de acidez residual (descritas a continuacion). El revestimiento de alto mdice de acidez residual puede incluir opcionalmente uno o mas compuestos con funcion acido, no volatiles, y/o uno o mas compuestos con funcion epoxi, como se describe con mas detalle mas adelante. En algunas realizaciones, el revestimiento de alto mdice de acidez residual puede ser un sistema de dos partes, denominado sistema 2K, que comprende un poliol y un agente reticulante adecuado.
El revestimiento de alto mdice de acidez residual comprende una o mas resinas de alto mdice de acidez residual; concretamente, resinas que se endurecen teniendo grupos acidos libres residuales para proporcionar a la resina el equivalente de un mdice de acidez mayor de 65 mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproximadamente 75 mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproximadamente 85 mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproxi­ madamente 100 mgKOH/g y, en otra realizacion, mayor de aproximadamente 125 mgKOH/g y, en una realizacion adicional mas, mayor de aproximadamente 150 mgKOH/g y, en realizaciones adicionales mas, mayor de aproxima­ damente 200 mgKOH/g o 250 mgKOH/g o 300 mgKOH/g.
El calculo del mdice de acidez equivalente de un revestimiento de alto mdice de acidez residual o una resina de alto mdice de acidez residual puede conseguirse calculando los acidos libres esperados mmimos generados por los materiales de partida en la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual en vista de los procesos de reaccion que ocurren dentro del revestimiento y entre capas de revestimiento.
La presencia de grupos acidos libres en la resina endurecida eleva el mdice de acidez de la pelmula de resina y puede proporcionar adicionalmente sitios para la union covalente con partes organicas de la capa de sol-gel, tales como grupos epoxi, y la formacion de puentes de hidrogeno con grupos SiOH residuales. No obstante, las pelmulas endurecidas derivadas de las composiciones de revestimiento de alto mdice de acidez residual ensenadas en la presente memoria, tienen suficientes grupos acidos libres para proporcionar el mdice de acidez equivalente seleccionado, despues de tener en cuenta cualquiera de dichas uniones entre capas a traves de grupos acidos en el revestimiento de alto mdice de acidez residual.
Segun la invencion, la resina de alto mdice de acidez residual deriva como el producto de reaccion de uno o mas polioles con un polianhudrido. La reaccion del hidroxilo abre el anillo de antndrido y genera un enlace ester y un grupo acido carboxflico libre, que posteriormente puede reaccionar con un grupo epoxi u otro ligando organico de la composicion de sol-gel o permanecer sin reaccionar como un grupo acido libre. Se senala que los grupos acidos libres se pueden crear por reaccion de grupos epoxi en la capa de sol-gel con anillos de antndrido libres en una resina con funcion antndrido o un compuesto con funcion antndrido en la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual.
Los polioles adecuados son oligomeros o polfmeros que tienen dos o mas grupos hidroxilo reactivos por molecula, y pueden incluir, aunque sin limitacion, polioles de polieter, polioles de poliester, polioles de poliester y polieter, polio­ les acnlicos, glicoles y mezclas de los anteriores.
A modo de ejemplo, los polioles de poliester pueden comprender aquellos formados a partir de la esterificacion de al menos un acido o anhndrido di-policaboxflico o superior tales como acido adfpico, acido ftalico, acido isoftalico o acido tereftalico, asf como aceite de ricino formado a partir de glicerina y acido graso de ricino, y glicoles, trioles o polioles superiores tales como etilenglicol, neopentilglicol y trimetilolpropano; los polioles de polieter pueden com­ prender polipropilenglicoles, polietilenglicoles, politetrametilenglicoles; y los glicoles pueden comprender propilenglicol, neopentilglicol, hexanodiol y butanodiol.
Los polioles de poliester adecuados incluyen aquellos formados a partir de diacidos, o sus contrapartidas de monoester, diester o anhndrido, y dioles. Los diacidos pueden ser acidos alifaticos de C4-C12 saturados, incluyendo materiales ramificados, no ramificados o dclicos, y/o acidos aromaticos de C8-C15. Los ejemplos de acidos alifaticos adecuados incluyen, por ejemplo, acidos succmico, glutarico, adfpico, pimelico, suberico, azelaico, sebacico, 1,12-dodecanodioico, 1,4-ciclohexanodicarboxflico y 2-metilpentanodioico. Los ejemplos de acidos aromaticos adecuados incluyen, por ejemplo, acidos tereftalico, isoftalico, ftalico, 4,4'-benzofenonadicarboxflico y 4,4'-difenilaminadicarboxflico. Los dioles pueden ser dioles alifaticos dclicos, ramificados o no ramificados de C2-C12. Los ejemplos de dioles adecuados incluyen, por ejemplo, etilenglicol, 1,3-propilenglicol, 1,2-propilenglicol, 1,4-butanodiol, 1,3-butanodiol, hexanodioles, 2-metil-2,4-pentanodiol, ciclohexano-1,4-dimetanol y 1,12-dodecanodiol.
Los polioles de polieter adecuados incluyen polioles de polioxialquileno de C2-C6, incluyendo grupos alquileno ramifi­ cados y no ramificados. Los ejemplos de dioles de polieter adecuados incluyen, por ejemplo, oxido de polietileno, poli(oxido de 1,2 y 1,3-propileno), poli(oxido de 1,2-butileno) y copolfmeros aleatorios o de bloques de oxido de etileno y oxido de 1,2-propileno.
Los polioles de poliester y polieter adecuados pueden prepararse a partir de la reaccion de polieteres y acidos, por ejemplo, acido adfpico, acido ftalico, acido isoftalico o acido tereftalico.
Los polioles acnlicos adecuados incluyen polioles basados en monomeros monoetilenicamente insaturados, tales como acidos carboxflicos monoetilenicamente insaturados y sus esteres, estireno, acetato de vinilo, vinil trimetoxisilano y acrilamidas; incluyendo, aunque sin limitacion, acrilato de metilo, acrilato de butilo, acrilato de etilo, acrilato de 2-etilhexilo, acrilato de hidroxilbutilo, acrilato de hidroxietilo, acrilato de glicidilo, acrilato de laurilo y acido acnlico. Los polfmeros pueden ser homopolfmeros o copolfmeros. Los copolfmeros tambien pueden contener partes significativas de monomeros de metacrilato, por ejemplo, metacrilato de metilo, metacrilato de butilo, metacrilato de hidroxietilo, metacrilato de laurilo, metacrilato de glicidilo y acido metacnlico.
Los materiales de polianhudrido adecuados para reticular los polioles para generar una resina de alto mdice de aci­ dez residual tendran un promedio de al menos dos grupos anhfdrido por molecula, y pueden incluir polianhudridos acnlicos, en donde dos o mas restos de anhfdrido, han reaccionado sobre una cadena principal de polfmero acnlico; sin embargo, tambien se pueden usar uretanos, poliesteres, polieteres y similares con funcion polianhndrido. Se debe emplear suficiente funcionalidad anhfdrido para generar el mdice de acidez deseado en la resina reticulada, teniendo en cuenta los grupos acidos libres presentes en otras partes en el revestimiento y la reactividad potencial entre los grupos funcionales en las capas adyacentes y los anillos de anhfdrido. En algunas realizaciones, el polianhndrido puede usarse generalmente en cantidades suficientes para proporcionar una relacion molar de anhfdrido respecto a hidroxilo de entre aproximadamente 0,75 y aproximadamente 1,5.
Segun algunas realizaciones de la invencion, una composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual puede comprender, ademas de un poliol y polianhndrido, un material con funcion epoxi. El material con funcion epoxi se puede seleccionar para mejorar la reticulacion dentro de la resina, mediante la reticulacion con anlddrido o grupos acidos libres en la composicion. Los compuestos epoxfdicos adecuados seran, de manera mas util, poliepoxidos que tienen un promedio de al menos dos grupos epoxi por molecula.
Solo es necesario que los compuestos epoxfdicos tengan una volatilidad suficientemente baja para permanecer en la composicion de revestimiento en las condiciones de endurecimiento aplicables.
El compuesto poliepoxfdico puede ser un compuesto epoxfdico monomerico, o un compuesto epoxfdico oligomerico o polimerico (p. ej., una resina epoxi). Los compuestos poliepoxfdicos adecuados pueden incluir compuestos epoxfdicos del tipo glicidil eter [por ejemplo, un glicidil eter obtenido por reaccion de un compuesto polihidroxilado (p. ej., un bisfenol, un fenol polilddrico, un alcohol polilddrico alidclico y un alcohol polilddrico alifatico) y epiclorhidrina (por ejemplo, un (poli)alquilenC2-C4glicol diglicidil eter tal como etilenglicol diglicidil eter, dietilenglicol diglicidil eter o un polietilenglicol diglicidil eter; un diglicidil eter de un fenol polilddrico tal como resorcina o hidroquinilina; un diglicidil eter de un alcohol polihfdrico alidclico tal como ciclohexanodiol, ciclohexanodimetanol o un bisfenol hidrogenado; un diglicidil eter de un bisfenol (p. ej., un bis(hidroxifenil)alcano tal como 4,4'-dihidroxibifenilo o bisfenol A) o un aducto de oxido de alquileno C2-C3 del mismo), y una resina epoxi de tipo novolak (p. ej., una resina epoxi de tipo fenolnovolak o de tipo cresol-novolak)]; un compuesto epoxfdico de tipo glicidil ester; un compuesto epoxfdico alidclico (o una resina epoxi alifatica dclica); una resina epoxi heterodclica (p. ej., isocianurato de triglicidilo (TGIC) y una resina epoxi de tipo hidantoma); un compuesto epoxfdico de tipo glicidil amina [por ejemplo, un producto de reaccion de una amina y epiclorhidrina, p. ej., una amina N-glicidil-aromatica (p. ej., tetraglicididildiaminodifenilmetano (TGDDM), triglicidilaminofenol (p. ej., TGPAP, y TGMAP), diglicidilanilina (d Ga ), diglicidiltoluidina (DGT) y tetraglicidilxililendiamina (p. ej., TGMXA)), y una amina N-glicidilalidclica (p. ej., tetraglicidilbisaminociclohexano)]; y otros.
La cantidad de compuestos epoxfdicos empleados en la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez resi­ dual debe seleccionarse en vista del efecto calculado del epoxi sobre el mdice de acidez de cualquier resina de alto mdice de acidez residual y del revestimiento en general y, necesariamente, variara.
En otra realizacion, una composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual puede comprender, ademas o en lugar del agente reticulante de polianhfdrido, un material con funcion isocianato adecuado para reticular los polioles. El material con funcion isocianato puede seleccionarse entre materiales que son bien conocidos en la tecnica y puede incluir isocianatos mono-, di-, tri- y multifuncionales. Los isocianatos di y trifuncionales y superiores son particularmente utiles. Los isocianatos representativos tendran dos o mas grupos isocianato por molecula y pueden incluir los compuestos alifaticos, tales como diisocianato de etileno, diisocianato de trimetileno, diisocianato de tetrametileno, diisocianato de pentametileno, diisocianato de hexametileno, diisocianato de 1,2-propileno, diisocianato de 1,2-butileno, diisocianato de 2,3-butileno, diisocianato de 1,3-butileno, diisocianato de etilideno y diisocianato de butilideno; los compuestos de cicloalquileno tales como 3-isocianatometil-3,5,5-trimetilciclohexilisocianato, y diiso­ cianato de 1,3-ciclopentano, diisocianato de 1,3-ciclohexano y diisocianato de 1,2-ciclohexano; los compuestos aromaticos tales como diisocianato de m-fenileno, diisocianato de p-fenileno, diisocianato de 4,4'-difenilo, diisocianato de 1,5-naftaleno y diisocianato de 1,4-naftaleno; los compuestos alifatico-aromaticos tales como diisocianato de 4,4'-difenilenometano, diisocianato de 2,4- o 2,6-tolueno, o mezclas de los mismos, diisocianato de 4,4'-toluidina, y diiso­ cianato de 1,4-xilileno; los compuestos aromaticos sustituidos en el nucleo, tales como diisocianato de dianisidina, diisocianato de 4,4'-difenileter y diisocianato de clorodifenileno; los triisocianatos tales como el trifenilmetano-4,4',4"-triisocianato, 1,3,5-triisocianato benceno y 2,4,6-triisocianato tolueno y los tetraisocianatos tales como metano-2,2'-5,5'-tetraisocianato de 4,4'-difenil-dimetilo; los poliisocianatos polimerizados, tales como los dfmeros y tnmeros de diisocianato de tolileno, y otros diversos poliisocianatos que contienen enlaces de biuret, uretano y/o alofanato.
En las realizaciones en las que se emplean poliisocianatos como agente reticulante dominante, la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual debe comprender al menos polioles con funcion acido superior, o, si solo se usan polioles con funcion acido inferior o no acida, se debe emplear al menos otra resina no poliol con funcion acido superior para impulsar el mdice de acidez total del revestimiento. Las mezclas apropiadas de agentes reticulantes tambien se pueden usar en la invencion. La cantidad de agente reticulante de isocianato en la composicion de revestimiento proporciona de manera util una relacion molar de NCO respecto a OH de aproximadamente 0,5 a 2,0 y, en otra realizacion, de aproximadamente 0,75 a 1,5. En una realizacion, la relacion de NCO respecto a OH es de 0,75 a 1,5. En otra realizacion, la relacion de NCO a OH puede ser de 0,9 a 1,2.
La composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual puede incluir una cantidad de uno o mas catalizadores que catalizan la reaccion de reticulacion del grupo hidroxilo con el anhfdrido y/o isocianato. Catalizadores utiles, dependiendo del agente reticulante seleccionado, pueden incluir aminas terciarias, tales como trietilendiamina, N-metilmorfolina, N-etilmorfolina, dietiletanolamina, 1-metil-4-dimetilaminoetilpiperazina, 3-metoxi-N-dimetilpropilamina, N-dimetil-N'-metilisopropilpropilendiamina, N,N-dietil-3-dietilaminopropilamina, N,N-dimetilbencilamina, diciclohexilmetilamina, 2,4,6-tris dimetilaminometilfenol, N,N-dimetilciclohexilamina, trietilamina, tri-n-butilamina, 1,8-diaza-bicloro[5,40]-undeceno-7N-metildietanolamina, N,N-dimetiletanolamina, N,N-dietilciclohexilamina, N,N,N'N'-tetrametil-etilendiamina, 1,4-diaza-biciclo-[2,2,2]-octano, N-metil-N'-dimetilaminoetilpiperazina, bis-(N,N-dietilaminoetil)-adipato, N,N-dietilbencilamina, pentametildietilentriamina, N,N,N',N'-tetrametil-1,3-butanodiamina, 1,2-dimetilimidazol, 2-metilimidazol; compuestos de estano, tales como cloruro estannoso, di-2-etilhexoato de dibutilestano, octoato estannoso, dilaurato de dibutilestano, hidroxido de trimetilestano, dicloruro de dimetilestano, diacetato de dibutilestano, oxido de dibutilestano, acetato de tributilestano, tetrametilestano, dimetildioctilestano hexoato de etilestano, laurato de estano, maleato de dibutilestano, diacetato de dioctilestano; otros compuestos metalicos organicos, tales como octoato de cinc, propionato fenilmercurico, octoato de plomo, naftenato de plomo y naftenato de cobre.
Particularmente util junto con los agentes reticulantes de polianhudrido es el 1-metilimidizol. Las cantidades utiles de catalizador seran aproximadamente del 0,01 al 6 %, basandose en el peso total de los solidos de anhudrido.
La composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual puede comprender un sistema de resina que consiste esencialmente en una o mas resinas de alto mdice de acidez residual. En una realizacion util, las resinas de alto mdice de acidez residual pueden comprender aproximadamente del 5 al 85 % de porcentaje en peso con respecto al peso de resina total empleada en el revestimiento de alto mdice de acidez residual. En otra realizacion, las resinas de alto mdice de acidez residual pueden comprender aproximadamente del 15 al 70 % de porcentaje en peso con respecto al peso de resina total empleada en el revestimiento de alto mdice de acidez residual. En otra realizacion, las resinas de alto mdice de acidez residual pueden comprender aproximadamente del 20 al 60 % de porcentaje en peso con respecto al peso de resina total empleada en el revestimiento de alto mdice de acidez resi­ dual. En otra realizacion mas, las resinas de alto mdice de acidez residual pueden comprender aproximadamente del 25 al 45 % de porcentaje en peso con respecto al peso de resina total empleada en el revestimiento de alto mdice de acidez residual. En estas ultimas realizaciones, las resinas restantes pueden comprender resinas de mdice de aci­ dez no alto, tales como poliuretanos, acnlicos, poliesteres y similares o uno o mas compuestos con funcion acido, no volatiles, que no reaccionaron.
Una amplia variedad de compuestos con funcion acido, no volatiles pueden usarse opcionalmente en combinacion con las resinas de alto mdice de acidez residual ensenadas anteriormente, dandose preferencia a compuestos con funcion acido carboxflico.
La composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual puede, ademas de la resina de alto mdice de acidez residual y, opcionalmente, otras resinas o materias que contienen un acido libre, comprender aditivos seleccionados para mejorar las caractensticas del revestimiento y la pelmula, tales como aditivos de flujo, cargas, pigmentos opacificantes, pigmentos diluyentes, estabilizantes a la luz y al calor, antioxidantes, inhibidores de la corrosion, catalizadores de condensacion, catalizadores de reticulacion, plastificantes, etc.
Con respecto a los pigmentos, se contempla en una realizacion general de la invencion, que la composicion de re­ vestimiento que comprende la resina de alto mdice de acidez sena una composicion de revestimiento decorativo y, por lo tanto, comprendena uno o mas de los pigmentos opacificantes comunmente empleados. Los pigmentos opaci­ ficantes representativos incluyen pigmentos blancos tales como dioxido de titanio, oxido de cinc, oxido de antimonio y similares, y pigmentos cromaticos organicos o inorganicos tales como oxido de hierro, negro de humo, azul de ftalocianina y similares. Se pueden usar pigmentos diluyentes tales como carbonato de calcio, arcilla, sflice y talco. En relacion con el uso de pigmentos, pueden usarse dispersantes de pigmentos en cantidades composicionalmente apropiadas. Se puede usar cualquier tipo de dispersante adecuado segun esta invencion, tal como dispersantes anionicos, cationicos, anfoteros o no ionicos. Dichos agentes dispersantes incluyen dispersantes polimericos. Ade­ mas, tambien se pueden usar dispersantes particulados.
En una realizacion, la composicion de revestimiento puede incluir de aproximadamente el 0,1 % a aproximadamente el 30 %, en peso, de dispersante basandose en el peso total de pigmento en la composicion. En otra realizacion util, el dispersante esta presente en una cantidad de aproximadamente el 0,5 % a aproximadamente el 20 %, en peso, basandose en el peso total de pigmento de la composicion. En otra realizacion util mas, el dispersante esta presente en una cantidad de aproximadamente el 1 % en peso, basandose en el peso total de pigmento de la composicion. Aunque se contempla que una funcion de una composicion de revestimiento que comprende una resina de alto mdi­ ce de acidez residual (como se describe en la presente memoria) es como un revestimiento decorativo que se aplicara directamente a la capa de sol-gel, eliminando de este modo la necesidad de un revestimiento de imprimacion separado, se reconocera que la composicion de revestimiento podna emplearse en la posicion de un revestimiento de imprimacion (es decir, debajo de un revestimiento decorativo) o, potencialmente, como un barniz aplicado direc­ tamente a la pelmula de sol-gel, en circunstancias donde un revestimiento decorativo puede ser innecesario. Se cree que los beneficios asociados a la integridad de la capa de sol-gel provocados por la presencia del alto mdice de acidez en el revestimiento adyacente se pueden anticipar, ya sea que el revestimiento adyacente se describa como un revestimiento de imprimacion, revestimiento decorativo o barniz (que esencialmente no tiene pigmentos opacifi­ cantes).
Los inhibidores de la corrosion adecuados pueden ser aditivos organicos o aditivos inorganicos. Los aditivos anticorrosivos organicos adecuados incluyen acidos dicarboxflicos alifaticos cortos tales como acido maleico, acido succfnico y acido adfpico; triazoles tales como benzotriazol y tolitriazol; tiazoles tales como mercaptobenzotiazol; tiadiazoles tales como 2-mercapto-5-hidrocarbiltio-1,3,4-tiadiazoles, 2-mercapto-5-hidrocarbilditio-1,3,4-tiadiazoles, 2,5-bis(hidrocarbiltio)-1,3,4-tiadiazoles y 2,5-(bis)hidrocarbilditio)-1,3,4-tiadiazoles; sulfonatos; e imidazolinas. Los aditivos inorganicos adecuados incluyen cromatos, boratos, fosfatos, silicatos, nitritos y molibdatos. Los inhibidores de la corrosion inorganicos adecuados pueden incluir metaborato de bario, borato de cinc, cromato de potasio y cinc, tetraoxicromato de cinc, cromato de estroncio, plomo rojo, silicocromato de plomo basico, molibdato de cinc, molibdato de calcio, molibdato de calcio y cinc, fosfato de cinc, fosfato de estroncio, fosfato de calcio, trifosfato de aluminio, fosfato de aluminio y cinc, fosfato de calcio y cinc, fosfato de aluminio, calcio y cinc, fosfato de estroncio, calcio y cinc, fosfato de estroncio, aluminio, calcio y cinc, fosfato de estroncio y aluminio, fosfato de aluminio y calcio, fosfato de borato y cinc hidratado, hidroxifosfato de cinc, borosilicato de calcio, fosfosilicato de calcio y bario, fosfosilicato de calcio y estroncio, fosfosilicato de calcio, estroncio y cinc, sflice de intercambio ionico de calcio, oxido de cinc y polvo de cinc.
Los catalizadores de endurecimiento por condensacion adecuados pueden incluir, aunque sin limitarse a, esteres de acido titanico tales como titanato de tetrabutilo, titanato de tetra-t-butilo, titanato de tetrapropilo, compuestos de organotitanio y de organocirconio parcialmente quelados, tales como diisopropoxititanio-di(etilaceoacetonato) y di(npropoxi)circonio-di(etilacetoacetonato), compuestos de organoestano tales como dilaurato de dibutilestano, diacetato de dibutilestano, dineodecanoato de dimetilestano y octoato estannoso, compuestos de organoaluminio tales como trisacetilacetonato de aluminio, trisetilacetonato de aluminio, etilacetonato de diisopropoxialuminio, sales de bismuto y acidos carboxflicos organicos tales como tris(2-etilhexoato) de bismuto, tris(neodecanoato) de bismuto, compues­ tos quelatos tales como tetracetilacetonato de circonio, tetraacetilacetonato de titanio, carboxilatos metalicos, com­ puestos de plomo organico tales como octilato de plomo, compuestos de organovanadio, acidos fuertes tales como bromuro de hidrogeno, acido fluorhfdrico, acido clorlmdrico, acido perclorico, acido fosforico, acido mtrico, acido sulfurico, acido paratoluenosulfonico, compuestos de amina tales como butilamina, octilamina, dibutilamina, monoetanolamina, dietanolamina, trietanolamina, dietilentriamina, trietilenetetramina, oleilamina, ciclohexilamina, bencilamina, dietilaminopropilamina, xililendiamina, trietilendiamina, guanidina, difenilguanidina, 2,4,6-tris(dimetilaminometil)fenol, morfolina, N-metilmorfolina, 2-etil-4-metilimidazol, 1,1-diazabiciclo(5,4,0)undeceno-7 (DBU), y sus sales con acido carboxflico, resinas de poliamida de bajo peso molecular obtenidas a partir de poliaminas en exceso y acidos polibasicos, productos de reaccion de poliaminas en exceso y compuestos epoxfdicos, y combinaciones de los mismos. Los catalizadores de endurecimiento por condensacion en las composiciones de revestimiento de alto mdice de acidez residual de la presente invencion pueden facilitar la condensacion en capas de revestimiento adyacentes al revestimiento de alto mdice de acidez residual.
La composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual comprendera uno o mas disolventes convencionales tales como disolventes de cetona, ester, alcohol, eter de glicol y ester de eter de glicol. Los ejemplos no limitantes de disolventes que pueden ser utiles incluyen xileno, acetato de n-butilo, t-butilacetato, propionato de n-butilo, nafta, 3-etoxipropionato de etilo, tolueno, metiletilcetona (MEK), acetona, metilpropilcetona ( MPK), metil-namilcetona (MAK), acetato de propilenglicol metileter (PMA) y similares.
La composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual como se describe en la presente memoria se aplica directamente sobre la pelmula de sol-gel. La aplicacion puede ser mediante cualquier medio convencional, tal como pulverizacion, cepillado, laminado, inmersion. El metodo tfpico para aplicar los revestimientos de la presente invencion es mediante pulverizacion. El equipo de pulverizacion con aire puede incluir una pulverizacion con aire convencional (usando una presion de aire de 1,38-5,52 bares [20-80 psi] para atomizar la pintura lfquida) que proporciona un bajo nivel de eficiencia de transferencia y una presion baja de alto volumen (HVLP) (usa una presion de aire de menos de 0,69 bares (10 psi) y 0,34-0,45 m3 (12-16 pies cubicos) de aire por minuto para atomizar la pintura lfquida) que proporciona un mayor nivel de eficiencia de transferencia que los metodos convencionales de aplica­ cion. La aplicacion de pulverizacion sin aire (usando una presion de fluido de 103,42-206,84 bares (1500-3000 psi) para empujar el revestimiento a traves de un pequeno orificio para atomizar la pintura lfquida) proporciona atomiza­ cion para revestimientos de alta viscosidad y mejores eficiencias de transferencia. La aplicacion sin aire con asistencia neumatica (usando una presion de fluido de 48,26-82,74 bares (700-1200 psi) para empujar el revestimiento a traves de un pequeno orificio y aire de atomizacion de hasta 2,41 bares (35 psi) para atomizar la pintura lfquida) proporciona atomizacion para un revestimiento de mayor viscosidad y suavidad y aspecto mejorados de la pelmula respecto a la aplicacion sin aire.
Los metodos de aplicacion adicionales consisten en una aplicacion electrostatica usando un equipo de pulverizacion por atomizacion con aire, una aplicacion sin aire con asistencia neumatica y un equipo de aplicacion rotativo de alta velocidad, tal como una campana o un disco. La aplicacion electrostatica proporciona un mayor nivel de eficiencia de transferencia en comparacion con otras aplicaciones no electrostaticas.
Cuando la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual se aplica como un revestimiento decorativo inmediatamente encima de la pelmula de sol-gel, se puede aplicar posteriormente al revestimiento decorativo, una o mas capas de una composicion de barniz, tal como un revestimiento de uretano transparente. El barniz puede contener absorbedores de luz ultravioleta tales como aminas impedidas a un nivel que oscila hasta aproximadamente el 6 % en peso de los solidos del vehmulo como es bien conocido en la tecnica. El barniz puede aplicarse median­ te cualquier metodo de aplicacion conocido en la tecnica, pero preferiblemente se aplicara por pulverizacion. Si se desea, pueden aplicarse multiples capas de capa base y/o barniz. Normalmente, tanto la capa base como el barniz se aplicaran para obtener un espesor de pelmula seca de aproximadamente 0,00508 mm a aproximadamente 0,1524 mm (aproximadamente 0,2 a aproximadamente 6 milesimas de pulgada), y especialmente de aproximada­ mente 0,0127 mm a aproximadamente 0,0762 mm (0,5 a aproximadamente 3,0 milesimas de pulgada).
El sistema de revestimiento descrito en la presente memoria se puede emplear en cualquier numero de sustratos susceptibles de pretratamiento con pelfculas de sol-gel. Los ejemplos generales de sustratos adecuados pueden incluir, al menos, aquellos materiales clasificados como aceptadores de electrones y/o donantes de electrones. Mas particularmente, los materiales adecuados incluyen metales, plasticos, resinas y similares. Espedficamente, aluminio, aluminio anodizado y aleaciones de aluminio, aleaciones de titanio y aluminio, acero laminado en fno, acero laminado en caliente, acero inoxidable, galvanizado y recocido por inmersion en bano caliente, electrogalvanizado y recocido, galvanizado por inmersion en bano caliente, electrogalvanizado y acero fosfatado al hierro, manganeso o cinc y similares son sustratos adecuados para el sistema de revestimiento descrito en sus diversas realizaciones. Los ejemplos de artfculos que tienen sustratos de los materiales descritos anteriormente pueden incluir piezas y bienes manufacturados, tales como aviones, naves espaciales, automoviles, barcos, palos de golf, piezas para estos y otros artfculos, y similares.

Claims (15)

REIVINDICACIONESI. Un sistema de revestimiento para aplicacion a un sustrato que tiene una capa de pelmula de sol-gel aplicada sobre el, comprendiendo el sistema:una capa de pelmula de sol-gel; yuna composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual aplicada directamente encima de al menos una parte de la pelmula de sol-gel, en donde la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual es una composicion con base de disolvente que se endurece teniendo suficientes grupos acidos libres residuales para proporcionar a la pelmula el equivalente de un mdice de acidez de mas de aproximadamente 65 mgKOH/g, en donde el revestimiento de alto mdice de acidez residual comprende una resina con acidos libres residuales, en donde la resina de alto mdice de acidez residual comprende el producto de reaccion de una mezcla de monomeros que comprende:
1. ) al menos un poliol; y
ii.) al menos un poliantndrido;
en donde la resina con acidos libres residuales se endurece teniendo grupos acidos libres residuales suficientes para proporcionar a la resina el equivalente de un mdice de acidez de mas de 65 mgKOH/g.
2. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 1, en donde la resina con acidos libres residuales se endurece teniendo grupos acidos libres residuales suficientes para proporcionar a la resina el equivalente de un mdice de acidez de mas de 85 mgKOH/g.
3. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 1, en donde la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual comprende ademas un catalizador de condensacion, o
en donde la mezcla de monomeros de la resina de alto mdice de acidez residual comprende ademas al menos un compuesto poliepoxfdico.
4. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 1, en donde el sistema de revestimiento es para aplicacion a un sustrato metalico.
5. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 4, que comprende ademas un catalizador de condensacion.
6. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 5, en donde la pelmula de sol-gel comprende el producto de reac­ cion de un compuesto organometalico y un compuesto de organosilano, preferiblemente en donde la pelmula de solgel comprende el producto de reaccion de 3-glicidoxipropiltrimetoxisilano y n-propoxido de circonio (IV).
7. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 4, en donde el agente reticulante comprende una mezcla de un agente reticulante de poliantndrido y un agente reticulante poliepoxfdico, y opcionalmente que comprende ademas un catalizador de condensacion.
8. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 4, en donde el agente reticulante comprende una mezcla de al menos un poliantndrido y al menos un agente reticulante con funcionalidad isocianato que tiene dos o mas isocianatos funcionales.
9. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 4, en donde la mezcla de resinas formadora de pelmula consiste esencialmente en la resina de alto mdice de acidez residual.
10. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 4, en donde la mezcla de resinas formadora de pelmula com­ prende del 5 al 85 % con respecto al peso de resina total de la resina de alto mdice de acidez residual.
I I . El sistema de revestimiento de la reivindicacion 10, en donde la mezcla de resinas formadora de pelmula com­ prende del 25 al 45 % con respecto al peso de resina total de la resina de alto mdice de acidez residual.
12. El sistema de revestimiento de la reivindicacion 4, en donde la composicion de revestimiento de alto mdice de acidez residual comprende ademas un pigmento opacificante.
13. Un sustrato revestido que comprende:
a. Un panel metalico;
b. Una capa de pelmula de sol-gel aplicada sobre al menos una parte del panel metalico;
c. Un revestimiento de alto contenido de acidos residuales con base de disolvente aplicado directamente encima de la pelmula de sol-gel, en donde el revestimiento de alto contenido de acidos residuales comprende:
i. una mezcla de resinas formadora de pelmula que comprende al menos una resina de alto mdice de acidez residual que tiene un mdice de acidez mayor que 65 mgKOH/g, comprendiendo la resina de alto mdice de acidez residual el producto de reaccion de
1. un poliol, y;
2. al menos un polianhndrido;
ii. uno o mas pigmentos opacificantes
iii. al menos un disolvente organico
iv. opcionalmente, un catalizador para catalizar la reaccion de reticulacion del poliol y el agente reticulante; y d. opcionalmente, un barniz transparente aplicado encima del revestimiento decorativo.
14. El sustrato revestido de la reivindicacion 13, en donde la pelmula de sol-gel comprende el producto de reaccion de un compuesto organometalico y un compuesto de organosilano.
15. El sustrato revestido de la reivindicacion 14, en donde la pelmula de sol-gel comprende el producto de reaccion de 3-glicidoxipropiltrimetoxisilano y n-propoxido de circonio (IV).
ES12724028T 2011-05-24 2012-05-16 Sistema de revestimiento que comprende una resina con alto contenido de ácidos Active ES2708666T3 (es)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161489307P 2011-05-24 2011-05-24
PCT/US2012/038109 WO2012162056A1 (en) 2011-05-24 2012-05-16 Coating system comprising high acid resin

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2708666T3 true ES2708666T3 (es) 2019-04-10

Family

ID=46172932

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES12724028T Active ES2708666T3 (es) 2011-05-24 2012-05-16 Sistema de revestimiento que comprende una resina con alto contenido de ácidos

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20120308830A1 (es)
EP (1) EP2714818B8 (es)
CN (1) CN103732697B (es)
BR (1) BR112013029879A2 (es)
CA (1) CA2836415C (es)
ES (1) ES2708666T3 (es)
MX (1) MX359886B (es)
WO (1) WO2012162056A1 (es)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9562000B2 (en) * 2014-02-14 2017-02-07 Prc-Desoto International, Inc. Amino alcohol treatment for sol-gel conversion coatings, substrates including the same, and methods of making the substrates
CN104164171B (zh) * 2014-08-19 2016-03-16 苏州羽帆新材料科技有限公司 一种醇酸树脂外墙涂料
CN104212222B (zh) * 2014-09-24 2016-08-17 广西新晶科技有限公司 磷硅酸铝钙用途及其复合防锈颜料和制备方法
WO2016176794A1 (zh) * 2015-05-03 2016-11-10 南通长航船舶配件有限公司 船舶防锈漆
US20180087162A1 (en) * 2016-09-23 2018-03-29 The Boeing Company Corrosion resistant surface treatment and primer system for aluminum aircraft using chromium-free inhibitors
US20250066637A1 (en) * 2023-08-25 2025-02-27 King Fahd University Of Petroleum And Minerals Fusion bonded epoxy coatings and preparation method and application thereof

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3699064A (en) * 1970-12-14 1972-10-17 Sherwin Williams Co Carboxylic curing agent
WO1996010595A1 (en) * 1994-10-04 1996-04-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Reactive two-part polyurethane compositions and optionally self-healable and scratch-resistant coatings prepared therefrom
US6605365B1 (en) * 1996-11-04 2003-08-12 The Boeing Company Pigmented alkoxyzirconium sol
US5789085A (en) * 1996-11-04 1998-08-04 Blohowiak; Kay Y. Paint adhesion
DE19938759A1 (de) * 1999-08-16 2001-02-22 Basf Coatings Ag Beschichtungsstoff und seine Verwendung zur Herstellung hochkratzfester mehrschichtiger Klarlackierungen
US20020183443A1 (en) * 2001-01-30 2002-12-05 Inolex Investment Corporation Methods and compositions for making water-borne dispersions
US6579472B2 (en) * 2001-07-27 2003-06-17 The Boeing Company Corrosion inhibiting sol-gel coatings for metal alloys
BRPI0606486A2 (pt) * 2005-01-24 2009-06-30 Cinv Ag materiais compósitos contendo metal
KR20090008380A (ko) * 2006-04-24 2009-01-21 도요 잉키 세이조 가부시끼가이샤 비수성 잉크젯 잉크, 잉크젯 기록용 잉크 조성물, 및 컬러 필터 기판

Also Published As

Publication number Publication date
CA2836415A1 (en) 2012-11-29
CN103732697A (zh) 2014-04-16
EP2714818B8 (en) 2018-12-19
CA2836415C (en) 2017-01-03
MX2013013791A (es) 2013-12-16
MX359886B (es) 2018-10-15
WO2012162056A1 (en) 2012-11-29
EP2714818B1 (en) 2018-10-31
BR112013029879A2 (pt) 2016-12-20
US20120308830A1 (en) 2012-12-06
EP2714818A1 (en) 2014-04-09
CN103732697B (zh) 2018-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US12005475B2 (en) Multi-layer curable compositions containing 1,1-di-activated vinyl compound products and related processes
JP7124004B2 (ja) 腐食防止剤としてケイ酸リチウムを含む硬化性フィルム形成組成物、および多層コーティングされている金属基材
US8912113B2 (en) Compositions of a metal amidine complex and second compound, coating compositions comprising same
CN101535421A (zh) 生产具有金属配位和成膜材料的涂料的方法
EP2714818B1 (en) Coating system comprising high acid resin
ES2968147T3 (es) Sistema de recubrimiento
ES2826206T3 (es) Procedimiento para el revestimiento de un sustrato de metal o de plástico, revestimiento que puede obtenerse a partir del mismo y sustrato revestido
CN101679799A (zh) 含有有机硅树脂的涂料组合物，相关的涂布基底和方法
EP3004267B1 (en) Urethane coating composition for metal substrate
WO2009106646A1 (en) Hydroxy functional binder for a primer coating composition
ES2750610T3 (es) Composiciones filmógenas aptas para curado y método de mitigación de la acumulación de suciedad en un sustrato
US10683395B2 (en) Dual-curable sealant composition
RU2727808C2 (ru) Отверждающиеся пленкообразующие композиции, содержащие силикаты лития в качестве ингибиторов коррозии, и многослойные металлические подложки с покрытием
JP5491303B2 (ja) 自動車車体の積層塗膜、自動車車体の塗装方法及び自動車車体
CN118900730A (zh) 用于向物体的不同目标区域施加具有不同的流平特性和/或抗流挂性的涂层组合物的方法
CN108699359A (zh) 耐腐蚀性组合物
TW201922765A (zh) 離子液體