ES2876023T3 - Sustrato dotado de un apilamiento que tiene propiedades térmicas y que tiene una capa terminal metálica - Google Patents

Abstract

Sustrato (10) de vidrio recubierto sobre una cara (11) con un apilamiento (14) de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y que comprende al menos una capa (140) funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata, y al menos dos recubrimientos (120, 160) antirreflectantes, comprendiendo dichos recubrimientos, cada uno, al menos una capa (122, 164) dieléctrica, estando dicha capa (140) funcional situada entre los dos recubrimientos (120, 160) antirreflectantes, comprendiendo dicho apilamiento, además, una capa (168) terminal que es la capa del apilamiento que está más alejada de dicha cara (11), caracterizado por que dicha capa (168) terminal es una capa metálica que consiste en zinc y estaño, compuesta por SnxZny con una relación de 0,55 <= x/y <= 0,83 y que tiene un grosor físico de entre 0,5 nm y 5,0 nm, excluyendo estos valores, o incluso de entre 0,6 nm y 2,7 nm, excluyendo estos valores.

Description

DESCRIPCIÓN

Sustrato dotado de un apilamiento que tiene propiedades térmicas y que tiene una capa terminal metálica

La invención se refiere a un sustrato de vidrio recubierto sobre una cara con un apilamiento de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y que comprende al menos una capa funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata y al menos dos recubrimientos antirreflectantes, comprendiendo dichos recubrimientos, cada uno, al menos una capa dieléctrica, estando dicha capa funcional situada entre los dos recubrimientos antirreflectantes, comprendiendo dicho apilamiento, adicionalmente, una capa terminal que es la capa del apilamiento que está más alejada de dicha cara.

En este tipo de apilamiento, la capa funcional está por tanto situada entre dos recubrimientos antirreflectantes que comprenden, cada uno, en general, varias capas que están realizadas, cada una, de un material dieléctrico del tipo de nitruro, y en particular nitruro de silicio o nitruro de aluminio, o del tipo de óxido. Desde un punto de vista óptico, el propósito de estos recubrimientos que flanquean la o cada capa funcional metálica es “ proporcionar antirreflexión” a esta capa funcional metálica.

Sin embargo, a veces se inserta un recubrimiento bloqueante entre uno o cada uno de los recubrimientos antirreflectantes y la capa funcional metálica; el recubrimiento bloqueante situado debajo de la capa funcional en dirección al sustrato la protege durante un tratamiento térmico a alta temperatura opcional, del tipo de curvado y/o templado, y el recubrimiento bloqueante situado sobre la capa funcional en el lado opuesto al sustrato protege esta capa contra cualquier degradación durante la deposición del recubrimiento antirreflectante superior y durante un tratamiento térmico a alta temperatura opcional, del tipo de curvado y/o templado.

La invención se refiere más particularmente al uso de una capa terminal del apilamiento, la que está más alejada de la cara del sustrato sobre la cual se deposita el apilamiento, y a la implementación de un tratamiento del apilamiento completo de capas delgadas usando una fuente que produce radiación, y en particular radiación infrarroja.

Se conoce, en particular a partir de la solicitud de patente internacional WO 2010/142926, proporcionar una capa absorbente como capa terminal de un apilamiento y aplicar un tratamiento después de la deposición de un apilamiento con el fin de reducir la emisividad, o mejorar las propiedades ópticas, de apilamiento de baja emisividad. El uso de una capa terminal metálica hace posible aumentar la absorción y disminuir la potencia necesaria para el tratamiento. A medida que la capa terminal se oxida durante el tratamiento y se vuelve transparente, las características ópticas del apilamiento después del tratamiento son ventajosas (en particular, puede obtenerse una transmisión de luz alta).

Sin embargo, esta solución no es completamente satisfactoria para ciertas aplicaciones debido a la falta de homogeneidad de las fuentes usadas para el tratamiento y/o imperfecciones del sistema de transporte, cuya velocidad nunca es totalmente constante.

Esto da como resultado faltas de homogeneidad óptica que son perceptibles a simple vista (variaciones en la transmisión/reflexión de luz y en colores de un punto a otro).

El objetivo de la invención es lograr superar los inconvenientes de la técnica anterior, mediante el desarrollo de un nuevo tipo de apilamiento que tiene una o más capas funcionales, apilamiento que tiene, después del tratamiento, una baja resistencia laminar (y, por lo tanto, una baja emisividad), una alta transmisión de luz y también una uniformidad de aspecto.

Otro objetivo importante es hacer posible obtener un aspecto mucho más uniforme en la transmisión y en la reflexión.

Por lo tanto, un objeto de la invención es, en su sentido más amplio, un sustrato de vidrio recubierto sobre una cara con un apilamiento de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar según la reivindicación 1. Este apilamiento comprende al menos una capa funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata y al menos dos recubrimientos antirreflectantes, comprendiendo dichos recubrimientos, cada uno, al menos una capa dieléctrica, estando dicha capa funcional situada entre los dos recubrimientos antirreflectantes, comprendiendo dicho apilamiento, adicionalmente, una capa terminal que es la capa del apilamiento que está más alejada de dicha cara. El sustrato recubierto con el apilamiento es notable porque dicha capa terminal es una capa metálica que consiste en zinc y estaño, compuesta por SnxZny con una relación de 0,55 < x/y < 0,83 y que tiene un grosor físico de entre 0,5 nm y 5,0 nm, excluyendo estos valores, o incluso de entre 0,6 nm y 2,7 nm excluyendo estos valores.

Como es habitual, debe entenderse en la presente invención que el término “capa dieléctrica” significa que, desde el punto de vista de su naturaleza, el material de la capa es “ no metálico” , es decir, no es un metal. En el contexto de la invención, este término denota un material que presenta una relación n/k en todo el intervalo de longitudes de onda de la región visible (desde 380 nm hasta 780 nm) que es igual o superior a 5.

Debe entenderse en la presente invención que el término “capa absorbente” significa que la capa es un material que tiene un coeficiente k medio, en todo el rango de longitudes de onda visible (desde 380 nm hasta 780 nm), superior a 0,5 y que tiene una resistividad eléctrica masiva (como se conoce en la bibliografía) superior a 10-6 D.cm.

Se recuerda que n denota el índice de refracción real del material a una longitud de onda dada y el coeficiente k representa la parte imaginaria del índice de refracción a una longitud de onda dada, calculándose la relación n/k a la misma longitud de onda dada tanto para n como para k.

Los valores del índice de refracción indicados en el presente documento son los valores medidos de forma habitual a una longitud de onda de 550 nm.

Debe entenderse en la presente invención que la expresión “capa basada en...” significa que la capa comprende el material mencionado en más del 50 % en átomos.

Debe entenderse en la presente invención que la expresión “capa metálica” significa que la capa es absorbente como se indicó anteriormente y que no comprende ningún átomo de oxígeno o átomo de nitrógeno.

Por tanto, el apilamiento según la invención comprende una capa final (“overcoat” en inglés), es decir, una capa protectora, depositada en el estado metálico a partir de un objetivo metálico y en una atmósfera que no comprende ni oxígeno ni nitrógeno, introducidos deliberadamente. Esta capa se oxida en su mayor parte de manera estequiométrica en el apilamiento después del tratamiento mediante el uso de una fuente que produce radiación, y en particular radiación infrarroja.

Dentro del significado de la invención, el hecho de que la capa terminal consiste en estaño y zinc significa que estos dos elementos representan desde el 98 hasta el 100 % en peso del objetivo usado para depositar la capa terminal (y, por lo tanto, de la capa terminal depositada de esta manera); no se excluye que la capa pueda comprender uno o más elementos metálicos, tales como, por ejemplo, aluminio y/o antimonio, como dopante para mejorar la conducción del objetivo, o como impureza.

En una versión particular de la invención, dicha capa terminal está ubicada directamente sobre una capa dieléctrica basada en nitruro de silicio y que no comprende oxígeno. Esta capa dieléctrica basada en nitruro de silicio tiene, preferiblemente, un grosor físico de entre 10 y 50 nm, o incluso de entre 10 y 30 nm, realizándose esta capa preferiblemente de nitruro de silicio Si³ N⁴ dopado con aluminio.

En otra versión particular de la invención, el recubrimiento antirreflectante situado encima de dicha capa funcional metálica, en el lado opuesto a dicha cara, comprende una capa dieléctrica de índice alto realizada de un material que tiene un índice de refracción de entre 2,3 y 2,7; estando esta capa basada, preferiblemente, en un óxido. Los valores del índice de refracción indicados en el presente documento son los valores medidos de forma habitual a una longitud de onda de 550 nm.

Esta capa de índice alto muestra preferiblemente un grosor físico de entre 5 y 15 nm.

Esta capa de índice alto hace posible maximizar la transmisión de luz alta en la región visible del apilamiento y tiene un efecto favorable sobre los colores neutros que se obtienen, tanto en la transmisión como en la reflexión.

En otra versión particular de la invención, la capa funcional se deposita directamente sobre un recubrimiento sub­ bloqueante situado entre la capa funcional y el recubrimiento dieléctrico subyacente a la capa funcional y/o la capa funcional se deposita directamente debajo de un recubrimiento sobre-bloqueante situado entre la capa funcional y el recubrimiento dieléctrico superpuesto a dicha capa funcional y el recubrimiento sub-bloqueante y/o el recubrimiento sobre­ bloqueante comprenden una capa delgada basada en níquel o titanio que tiene un grosor físico de tal manera que 0,2 nm < e' < 2,5 nm.

La invención también se refiere a un procedimiento para obtener un sustrato recubierto sobre una cara con un apilamiento de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y que comprende al menos una capa funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata, y dos recubrimientos antirreflectantes, que comprende las siguientes etapas, en el orden:

- depositar sobre una cara de dicho sustrato un apilamiento de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar según la invención y que comprende al menos una capa funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata, y al menos dos recubrimientos antirreflectantes, después

- tratar dicho apilamiento de capas delgadas usando una fuente que produce radiación y, en particular, radiación infrarroja en una atmósfera que comprende oxígeno, siendo dicha relación x/y de la capa terminal idéntica antes y después de dicho tratamiento.

También es posible proporcionar el uso de una capa terminal metálica según la invención que consiste en zinc y estaño, compuesta por SnxZny con una relación de 0,55 < x/y < 0,83 y que tiene un grosor físico de entre 0,5 nm y 5,0 nm, excluyendo estos valores, o incluso de entre 0,6 nm y 2,7 nm, excluyendo estos valores, como capa del apilamiento que está más alejada de dicha cara del sustrato sobre la cual se deposita el apilamiento de capas delgadas.

También es posible proporcionar un acristalamiento múltiple que comprende al menos dos sustratos que se mantienen unidos por una estructura de marco, proporcionando dicho acristalamiento una separación entre un espacio externo y un espacio interno, en el que al menos un hueco de gas entre capas está situado entre los dos sustratos, siendo un sustrato según la invención.

Preferiblemente, un único sustrato del acristalamiento múltiple que comprende, al menos, dos sustratos o del acristalamiento múltiple que comprende, al menos, tres sustratos se recubre sobre una cara interna en contacto con el hueco de gas entre capas con un apilamiento de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar.

El acristalamiento incorpora, después, al menos el sustrato que porta el apilamiento según la invención, opcionalmente combinado con al menos otro sustrato. Cada sustrato puede ser trasparente o coloreado. Uno de los sustratos, al menos especialmente, puede estar hecho de vidrio tintado en masa. La selección del tipo de coloración dependerá del nivel de transmisión de luz y/o del aspecto colorimétrico deseados para el acristalamiento una vez finalizada la fabricación del mismo.

El acristalamiento puede tener una estructura laminada, en particular que combina al menos dos sustratos rígidos de tipo vidrio con al menos una lámina de polímero termoplástico, con el fin de tener una estructura del siguiente tipo: vidrio/apilamiento de capas delgadas/lámina(s)/vidrio/hueco de gas entre capas/lámina de vidrio. El polímero puede estar basado especialmente en polivinil-butiral PVB, etileno-acetato de vinilo EVA, poli(tereftalato de etileno) PET o poli(cloruro de vinilo) PVC.

Por tanto, ventajosamente, la presente invención hace posible producir un apilamiento de capas delgadas que tiene una o más capas funcionales que presentan una baja emisividad (en particular < 1 %) y un alto factor solar que tiene un aspecto óptico uniforme después del tratamiento del apilamiento usando una fuente que produce radiación y en particular radiación infrarroja.

Ventajosamente, el tratamiento que usa una fuente de radiación no es un tratamiento térmico a alta temperatura de todo el conjunto que consiste en el sustrato y el apilamiento; por lo tanto, el sustrato no se somete a tratamiento térmico mediante este tratamiento que usa una fuente de radiación (sin curvado, templado o recocido).

Los detalles y las características ventajosas de la invención resultarán evidentes a partir de los siguientes ejemplos no limitativos que se ilustran mediante las figuras adjuntas, que muestran:

- en la figura 1, un apilamiento con una única capa funcional según la invención, depositándose la capa funcional directamente sobre un recubrimiento sub-bloqueante y directamente debajo de un recubrimiento sobre-bloqueante, ilustrándose el apilamiento durante el tratamiento usando una fuente que produce radiación; y

- en la figura 2, una solución de acristalamiento doble que incorpora un apilamiento con una única capa funcional.

En estas figuras, las proporciones entre los grosores de las diversas capas o de los diversos elementos no se respetan rigurosamente con el fin de que sean más fáciles de examinar.

La figura 1 ilustra una estructura de un apilamiento 14 con una única capa funcional según la invención depositado sobre una cara 11 de un sustrato 10 de vidrio transparente, en la cual la única capa 140 funcional, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata, está situada entre dos recubrimientos antirreflectantes, estando el recubrimiento 120 antirreflectante subyacente ubicado debajo de la capa 140 funcional en dirección al sustrato 10 y estando el recubrimiento 160 antirreflectante superpuesto situado encima de la capa 140 funcional en el lado opuesto al sustrato 10.

Estos dos recubrimientos 120, 160 antirreflectantes comprenden, cada uno, al menos una capa 122, 128; 162, 164, 166 dieléctrica.

Opcionalmente, por un lado, la capa 140 funcional puede depositarse directamente sobre un recubrimiento 130 sub-bloqueante situado entre el recubrimiento 120 antirreflectante subyacente y la capa 140 funcional y, por otro lado, la capa 140 funcional puede depositarse directamente debajo de un recubrimiento 150 sobre-bloqueante situado entre la capa 140 funcional y el recubrimiento 160 antirreflectante superpuesto.

Las capas de sub-bloqueante y/o sobre-bloqueante, aunque se depositan en forma metálica y se presentan como que son capas metálicas, a veces son en la práctica capas oxidadas ya que una de sus funciones (en particular para la capa de sobre-bloqueante) es oxidar durante la deposición del apilamiento con el fin de proteger la capa funcional. El recubrimiento 160 antirreflectante ubicado encima de la capa funcional metálica (o que estará ubicado encima de la capa funcional metálica más alejada del sustrato si hay varias capas funcionales metálicas) termina con una capa 168 terminal, que es la capa del apilamiento más alejada de la cara 11.

Cuando se usa un apilamiento en un acristalamiento 100 múltiple de estructura de acristalamiento doble, como se ilustra en la figura 2, este acristalamiento comprende dos sustratos 10, 30 que se mantienen juntos mediante una estructura 90 de marco y que están separados uno de otro mediante un hueco 15 de gas entre capas.

Por lo tanto, el acristalamiento proporciona una separación entre un espacio externo ES y un espacio interno IS. El apilamiento puede situarse sobre la cara 2 (sobre la lámina más alejada hacia el exterior del edificio cuando se considera la dirección incidente de la luz solar que entra en el edificio y sobre su cara orientada hacia el hueco de gas). La figura 2 ilustra este posicionamiento (ilustrándose la dirección incidente de la luz solar que entra en el edificio por la flecha doble) sobre la cara 2 de un apilamiento 14 de capas delgadas situado sobre una cara 11 interior del sustrato 10 en contacto con el hueco 15 de gas entre capas, estando la otra cara 9 del sustrato 10 en contacto con el espacio externo ES. Sin embargo, también puede preverse que, en esta estructura de acristalamiento doble, uno de los sustratos tenga una estructura laminada.

Se llevaron a cabo seis ejemplos basándose en la estructura de apilamiento ilustrada en la figura 1 y se numeraron de 1 a 6. Los ejemplos 2 y 3 son según la invención, mientras que los ejemplos 1 y 4 a 6 son ejemplos comparativos. Para estos ejemplos 1 a 6, el recubrimiento 120 antirreflectante comprende dos capas 122, 128 dieléctricas, la capa 122 dieléctrica en contacto con la cara 11 es una capa de índice de refracción alto y está en contacto con una capa 128 dieléctrica humectante situada justo debajo de la capa 140 funcional metálica.

En los ejemplos 1 a 6 no hay ningún recubrimiento 130 sub-bloqueante.

La capa 122 dieléctrica de índice de refracción alto se basa en óxido de titanio; tiene un índice de refracción de entre 2,3 y 2,7, y en este caso es exactamente de 2,46.

Para estos ejemplos 1 a 6, la capa 128 dieléctrica se denomina “capa humectante” ya que hace posible mejorar la cristalización de la capa 140 funcional metálica que, en este caso, está realizada de plata, lo cual mejora su conductividad. Esta capa 128 dieléctrica está realizada de óxido de zinc ZnO (depositado a partir de un objetivo cerámico que consiste en el 50 % en átomos de zinc y el 50 % en átomos de oxígeno).

El recubrimiento 160 antirreflectante superpuesto comprende una capa 162 dieléctrica realizada de óxido de zinc (depositado a partir de un objetivo cerámico que consiste en el 50 % en átomos de zinc dopado y el 50 % en átomos de oxígeno), después, una capa 164 dieléctrica de índice alto realizada del mismo material que la capa 122 dieléctrica.

La siguiente capa dieléctrica, 166, está realizada de nitruro Si³N⁴ :Al y se deposita a partir de un objetivo metálico realizado de Si dopado con el 8 % en peso de aluminio.

Para todos los siguientes ejemplos, las condiciones para depositar las capas son:

Por lo tanto, las capas depositadas pueden clasificarse en cuatro categorías:

i- capas realizadas de material antirreflectante/dieléctrico, que tienen una relación n/k en todo el intervalo de longitud de onda visible superior a 5: Si³N⁴ , TiO² , ZnO

ii- capa metálica realizada de material absorbente, que tiene un coeficiente k medio, en todo el intervalo de longitud de onda visible, superior a 0,5 y una resistividad eléctrica masiva que es superior a 10-6 Q.cm: SnxZny iii- capas funcionales metálicas realizadas de material que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar: Ag

iv- capas de sub-bloqueante y sobre-bloqueante destinadas a proteger la capa funcional contra una modificación de su naturaleza durante la deposición del apilamiento; en general, se ignora su influencia sobre las propiedades ópticas y energéticas.

Se observó que la plata tiene una relación 0 < n/k < 5 en todo el intervalo de longitud de onda visible, pero su resistividad eléctrica masiva es inferior a 10-6 Q.cm.

En todos de los siguientes ejemplos, el apilamiento de capas delgadas se deposita sobre un sustrato realizado de vidrio transparente de cal sodada que tiene un grosor de 4 mm de la marca Planilux, distribuido por SAINT-GOBAIN. Para estos sustratos,

- R indica la resistencia laminar del apilamiento, en ohmios por cuadrado;

- Al indica la absorción de luz en el visible en %, medida a 2° bajo el iluminante D65;

- A⁹⁸⁰ indica la absorción medida específicamente a la longitud de onda de 980 nm, en %, medida a 2° bajo el iluminante de D65;

- V indica la visibilidad de las líneas; es una puntuación de 1, 2, 3 ó 4 atribuida por un operario: la puntuación 1 cuando no hay ninguna falta de homogeneidad perceptible a simple vista, la puntuación 2 cuando hay faltas de homogeneidad localizadas, limitadas a ciertas regiones de la muestra, perceptibles a simple vista con iluminación difusa intensa (> 800 lux), la puntuación 3 cuando hay faltas de homogeneidad localizadas, limitadas a ciertas regiones de la muestra, perceptibles a simple vista con iluminación convencional (< 500 lux) y la puntuación 4 cuando hay faltas de homogeneidad dispersadas por toda la superficie de la muestra perceptibles a simple vista con iluminación convencional (< 500 lux);

- A Em constituye una caracterización de la falta de homogeneidad óptica después del tratamiento; es una variación del color en la reflexión que se calcula midiendo, en el sistema de La*b*, a 2° bajo el iluminante D65, el color en la reflexión en el lado de apilamiento en cada centímetro, en la dirección y sentido de desplazamiento del sustrato al interior de la cámara para depositar el apilamiento. Por lo tanto, para un punto x situado en esta dirección y un punto x+1 ubicado a 1 centímetro desde x en esta misma dirección y para el cual se calculan las variaciones de color en reflexión en el lado de apilamiento, Aa*, Ab* y AL:

AEm = ((Aa*)2 (Ab*)2 (AL)2)1/2

Para que sea satisfactoria, esta variación debe ser inferior a 0,3.

Todos estos ejemplos hacen posible lograr una baja emisividad, del orden del 1 %, y un factor g alto, del orden del 60 %. La siguiente tabla 1 ilustra los grosores geométricos o físicos (y no los grosores ópticos) en nanómetros, con referencia a la figura 1, de cada una de las capas de los ejemplos 1 a 6:

Tabla 1

La siguiente tabla 2 presenta los materiales sometidos a prueba para las capas 168 terminales de los ejemplos 1 a 6 y también los grosores respectivos de las mismas (en nm):

Tabla 2

La capa 168 terminal de los ejemplos 2 y 3 es una capa metálica que consiste en zinc y estaño, realizada de SnxZny con una relación de 0,1 < x/y < 2,4 y que tiene un grosor físico de entre 0,5 nm y 5,0 nm, excluyendo estos valores, e incluso un grosor físico de entre 0,6 nm y 2,7 nm excluyendo estos valores. Los ejemplos 2 y 3 son según la invención, mientras que los ejemplos 1 y 4 a 6 son ejemplos comparativos.

La siguiente tabla 3 resume las características ópticas y de energía principales de estos ejemplos 1 a 6, respectivamente antes del tratamiento (BT) y después del tratamiento (AT):

Tabla 3

La presencia de la capa 168 terminal metálica para los ejemplos 2 y 3 da lugar a un aumento en la absorción a 980 nm del 4,5 % y el 12,1 % respectivamente (en valores absolutos) con respecto a la del ejemplo 1 que comprende una capa terminal dieléctrica, debido al estado metálico de estas capas terminales antes del tratamiento.

El tratamiento consiste en este caso en un desplazamiento del sustrato 10 a 7 m/min bajo una línea 20 de láser que tiene una anchura de 45 pm y una potencia de 25 W/mm, estando la línea de láser orientada en perpendicular a la cara 11 y en dirección a la capa 168 terminal, es decir, mediante el posicionamiento de la línea de láser (ilustrada por la flecha negra recta) encima del apilamiento y mediante la orientación del láser en dirección al apilamiento, como se observa en la figura 1.

El tratamiento reduce la emisividad del apilamiento en aproximadamente el 4 %.

Después del tratamiento y la oxidación de la capa 168 terminal, los ejemplos 2 y 3 tienen una resistencia laminar y una absorción de luz que son idénticas a las del ejemplo 1 después del tratamiento, pero son ópticamente más uniformes, con una visibilidad de las líneas V igual o inferior a 3.

Si el grosor de la capa terminal es demasiado grande (ejemplo 4) las líneas se vuelven demasiado visibles, con una visibilidad V superior a 3. Permanece una absorción residual después del tratamiento y esta absorción es en sí misma no uniforme.

Si se elige realizar la capa 168 terminal metálica de titanio (ejemplos 5 y 6) en lugar de SnxZny, se aumenta la absorción del apilamiento antes del tratamiento con láser y se reduce en consecuencia la potencia requerida para el tratamiento. La capa terminal se oxida de manera igual de completa en el tratamiento con láser y la absorción del apilamiento es idéntica a la absorción del apilamiento de referencia. Por otra parte, el apilamiento tiene un aspecto con líneas cuando se observa en reflejo en el lado de la capa.

Para los ejemplos 2 y 3, se observó que la capa terminal metálica se oxida rápidamente una vez alcanzada una temperatura umbral. Después, la absorción disminuye de modo que la temperatura alcanza un techo. Por lo tanto, la temperatura alcanzada y el tiempo de calentamiento están regulados por la oxidación y ya no se ven influidos por las fluctuaciones del flujo luminoso incidente.

Es probable que la capa terminal de los ejemplos 2 y 3 actúe como una barrera que evita la migración de oxígeno atmosférico al interior del apilamiento y limita el desarrollo de las propiedades ópticas de las capas inferiores. Además, el hecho de que la capa 168 terminal realizada de SnxZny está ubicada directamente sobre una capa dieléctrica basada en nitruro de silicio y que no comprende oxígeno probablemente participa en la estabilidad óptica debido a la similitud de los índices de refracción del SnxZny oxidado y del nitruro de silicio.

También se sometió a prueba una capa terminal depositada a partir de un objetivo realizado de Sn:Zn:Sb al 30:68:2 % en peso y dio resultados similares.

La presente invención también puede usarse para un apilamiento de capas delgadas que tiene varias capas funcionales. La capa terminal según la invención es la capa del apilamiento que está más alejada de la cara del sustrato sobre la cual se deposita el apilamiento.

La presente invención se describe en el texto anterior a modo de ejemplo. Evidentemente, los expertos en la técnica son capaces de implementar diferentes variantes de la invención sin apartarse del alcance de la patente como se define en las reivindicaciones.

Claims (7)

REIVINDICACIONES

1. Sustrato (10) de vidrio recubierto sobre una cara (11) con un apilamiento (14) de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y que comprende al menos una capa (140) funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata, y al menos dos recubrimientos (120, 160) antirreflectantes, comprendiendo dichos recubrimientos, cada uno, al menos una capa (122, 164) dieléctrica, estando dicha capa (140) funcional situada entre los dos recubrimientos (120, 160) antirreflectantes, comprendiendo dicho apilamiento, además, una capa (168) terminal que es la capa del apilamiento que está más alejada de dicha cara (11), caracterizado por que dicha capa (168) terminal es una capa metálica que consiste en zinc y estaño, compuesta por SnxZny con una relación de 0,55 < x/y < 0,83 y que tiene un grosor físico de entre 0,5 nm y 5,0 nm, excluyendo estos valores, o incluso de entre 0,6 nm y 2,7 nm, excluyendo estos valores.

2. Sustrato (10) según la reivindicación 1, caracterizado por que dicha capa (168) terminal está ubicada directamente sobre una capa dieléctrica basada en nitruro de silicio y que no comprende oxígeno.

3. Sustrato (10) según la reivindicación 2, caracterizado por que dicha capa dieléctrica basada en nitruro de silicio tiene un grosor físico de entre 10 y 50 nm.

4. Sustrato (10) según la reivindicación 2 ó 3, caracterizado por que dicho recubrimiento (160) antirreflectante situado encima de dicha capa (140) funcional metálica, en el lado opuesto a dicha cara (11), comprende una capa (164) dieléctrica de índice alto realizada de un material que tiene un índice de refracción de entre 2,3 y 2,7, estando esta capa preferiblemente basada en un óxido.

5. Sustrato (10) según la reivindicación 4, caracterizado por que dicha capa (164) de índice alto tiene un grosor físico de entre 5 y 15 nm.

6. Acristalamiento múltiple que comprende al menos dos sustratos (10, 30) que se mantienen unidos por una estructura (90) de marco, proporcionando dicho acristalamiento una separación entre un espacio externo (ES) y un espacio interno (IS), en el que al menos un hueco (15) de gas entre capas está situado entre los dos sustratos, siendo un sustrato (10) de vidrio según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5.

7. Método para obtener un sustrato (10) de vidrio recubierto sobre una cara (11) con un apilamiento (14) de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y que comprende al menos una capa (140) funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata, y dos recubrimientos (120, 160) antirreflectantes, que comprende las siguientes etapas, en el orden:

- depositar sobre una cara (11) de dicho sustrato (10) de vidrio, según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, un apilamiento (14) de capas delgadas que tiene propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y que comprende al menos una capa (140) funcional metálica, en particular basada en plata o en una aleación metálica que contiene plata, y al menos dos recubrimientos (120, 160) antirreflectantes,

- tratar dicho apilamiento (14) de capas delgadas usando una fuente que produce radiación y, en particular, radiación infrarroja en una atmósfera que comprende oxígeno, siendo dicha relación x/y de la capa (168) terminal idéntica antes y después de dicho tratamiento.