|
DE3369398D1
(en)
*
|
1982-05-19 |
1987-02-26 |
Ciba Geigy Ag |
Curable compositions containing metallocen complexes, activated primers obtained therefrom and their use
|
|
EP0152377B1
(de)
*
|
1984-02-10 |
1987-12-09 |
Ciba-Geigy Ag |
Härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung
|
|
US4786569A
(en)
*
|
1985-09-04 |
1988-11-22 |
Ciba-Geigy Corporation |
Adhesively bonded photostructurable polyimide film
|
|
WO1988002879A1
(en)
*
|
1986-10-14 |
1988-04-21 |
Loctite Corporation |
VISIBLE LIGHT CURABLE FREE RADICAL COMPOSITIONS CONTAINING pi-ARENE METAL COMPLEXES
|
|
EP0294333B1
(de)
*
|
1987-06-05 |
1993-03-17 |
Ciba-Geigy Ag |
Kationisch polymerisierbare Gemische enthaltend ausgewählte Härter
|
|
US4950696A
(en)
*
|
1987-08-28 |
1990-08-21 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Energy-induced dual curable compositions
|
|
US5147900A
(en)
*
|
1987-08-28 |
1992-09-15 |
Minnesosta Mining And Manufacturing Company |
Energy-induced dual curable compositions
|
|
MY106951A
(en)
*
|
1987-12-08 |
1995-08-30 |
Mitsui Chemicals Inc |
Active energy ray-curable composition and optical recording medium having cured product of the composition
|
|
US4920182A
(en)
*
|
1987-12-18 |
1990-04-24 |
Ciba-Geigy Corporation |
Epoxy resin compositions containing polyester flexibilizer and metallocene complex initiator
|
|
CA1340758C
(en)
*
|
1988-06-01 |
1999-09-21 |
Robert J. Devoe |
Energy curable compositions: single component curing agents
|
|
US4985340A
(en)
*
|
1988-06-01 |
1991-01-15 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Energy curable compositions: two component curing agents
|
|
DE3832032A1
(de)
*
|
1988-09-21 |
1990-03-22 |
Hoechst Ag |
Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
|
|
US4954414A
(en)
*
|
1988-11-08 |
1990-09-04 |
The Mead Corporation |
Photosensitive composition containing a transition metal coordination complex cation and a borate anion and photosensitive materials employing the same
|
|
DE69029104T2
(de)
|
1989-07-12 |
1997-03-20 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
|
|
JP2775880B2
(ja)
*
|
1989-08-21 |
1998-07-16 |
ブラザー工業株式会社 |
転写記録媒体
|
|
CA2048232A1
(en)
*
|
1990-09-05 |
1992-03-06 |
Jerry W. Williams |
Energy curable pressure-sensitive compositions
|
|
US5212210A
(en)
*
|
1992-03-18 |
1993-05-18 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Energy curable compositions having improved cure speeds
|
|
US5667893A
(en)
*
|
1992-10-09 |
1997-09-16 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Substrate coated or impregnated with flexible epoxy composition
|
|
US5385955A
(en)
*
|
1992-11-05 |
1995-01-31 |
Essilor Of America, Inc. |
Organosilane coating composition for ophthalmic lens
|
|
FR2702485B1
(fr)
*
|
1993-03-10 |
1995-04-14 |
Rhone Poulenc Chimie |
Compositions à base de polyorganosiloxanes réticulables par voie cationique et leur utilisation dans le domaine de l'antiadhérence papier, de la protection des fibres optiques et des circuits imprimés.
|
|
US5744557A
(en)
*
|
1993-06-16 |
1998-04-28 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Energy-curable cyanate/ethylenically unsaturated compositions
|
|
US5494943A
(en)
*
|
1993-06-16 |
1996-02-27 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Stabilized cationically-curable compositions
|
|
US5514728A
(en)
*
|
1993-07-23 |
1996-05-07 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Catalysts and initiators for polymerization
|
|
ES2147777T3
(es)
*
|
1993-09-16 |
2000-10-01 |
Ciba Sc Holding Ag |
Compuestos vinileter con grupos funcionales adicionales, distintos de vinileter, y su utilizacion en la formulacion de compuestos reticulables.
|
|
US5670590A
(en)
*
|
1994-05-06 |
1997-09-23 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Energy polymerizable compositions, homopolymers and copolymers of oxazolines
|
|
TW418215B
(en)
|
1995-03-13 |
2001-01-11 |
Ciba Sc Holding Ag |
A process for the production of three-dimensional articles in a stereolithography bath comprising the step of sequentially irradiating a plurality of layers of a liquid radiation-curable composition
|
|
JPH0954437A
(ja)
|
1995-06-05 |
1997-02-25 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
化学増幅型ポジレジスト組成物
|
|
DE59802875D1
(de)
*
|
1997-06-30 |
2002-03-14 |
Siemens Ag |
Initiatoren für die kationische Polymerisation
|
|
ATE212734T1
(de)
*
|
1997-06-30 |
2002-02-15 |
Siemens Ag |
Reaktionsharzmischungen und deren verwendung
|
|
WO1999005572A2
(en)
*
|
1997-07-21 |
1999-02-04 |
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. |
Viscosity stabilization of radiation-curable compositions
|
|
US6133335A
(en)
*
|
1998-12-31 |
2000-10-17 |
3M Innovative Properties Company |
Photo-polymerizable compositions and articles made therefrom
|
|
US6265459B1
(en)
|
1998-12-31 |
2001-07-24 |
3M Innovative Properties Company |
Accelerators useful for energy polymerizable compositions
|
|
US6482868B1
(en)
|
1998-12-31 |
2002-11-19 |
3M Innovative Properties Company |
Accelerators useful for energy polymerizable compositions
|
|
EP1075030B1
(de)
*
|
1999-08-04 |
2005-04-06 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Isolierter bandförmiger Supraleiter mit oxidischem Hoch-Tc-Supraleitermaterial sowie Verfahren zur Isolation des Supraleiters
|
|
US6730156B1
(en)
|
1999-10-28 |
2004-05-04 |
3M Innovative Properties Company |
Clustered particle dental fillers
|
|
JP4800535B2
(ja)
|
1999-10-28 |
2011-10-26 |
スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー |
ナノサイズシリカ粒子を含有する歯科材料
|
|
US6376590B2
(en)
|
1999-10-28 |
2002-04-23 |
3M Innovative Properties Company |
Zirconia sol, process of making and composite material
|
|
US6572693B1
(en)
|
1999-10-28 |
2003-06-03 |
3M Innovative Properties Company |
Aesthetic dental materials
|
|
US6387981B1
(en)
|
1999-10-28 |
2002-05-14 |
3M Innovative Properties Company |
Radiopaque dental materials with nano-sized particles
|
|
US6635689B1
(en)
|
2000-06-26 |
2003-10-21 |
3M Innovative Properties Company |
Accelerators for cationic polymerization catalyzed by iron-based catalysts
|
|
US7192681B2
(en)
|
2001-07-05 |
2007-03-20 |
Fuji Photo Film Co., Ltd. |
Positive photosensitive composition
|
|
JP4748938B2
(ja)
|
2002-01-31 |
2011-08-17 |
スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー |
歯科ペースト、歯科物品、および方法
|
|
US7521168B2
(en)
|
2002-02-13 |
2009-04-21 |
Fujifilm Corporation |
Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
|
|
US7449146B2
(en)
*
|
2002-09-30 |
2008-11-11 |
3M Innovative Properties Company |
Colorimetric sensor
|
|
US20040062682A1
(en)
*
|
2002-09-30 |
2004-04-01 |
Rakow Neal Anthony |
Colorimetric sensor
|
|
US6841333B2
(en)
*
|
2002-11-01 |
2005-01-11 |
3M Innovative Properties Company |
Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbon-fluorocarbon sulfonate anions
|
|
US7771915B2
(en)
|
2003-06-27 |
2010-08-10 |
Fujifilm Corporation |
Two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording and reproducing method
|
|
JP4612999B2
(ja)
|
2003-10-08 |
2011-01-12 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP4448705B2
(ja)
|
2004-02-05 |
2010-04-14 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
|
JP2005309359A
(ja)
|
2004-03-25 |
2005-11-04 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
ホログラム記録材料、ホログラム記録方法、光記録媒体、3次元ディスプレイホログラムおよびホログラフィック光学素子。
|
|
JP2005300908A
(ja)
|
2004-04-12 |
2005-10-27 |
Konica Minolta Medical & Graphic Inc |
感光性組成物及び感光性平版印刷版材料
|
|
US7553670B2
(en)
*
|
2004-04-28 |
2009-06-30 |
3M Innovative Properties Company |
Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample
|
|
JP4524154B2
(ja)
|
2004-08-18 |
2010-08-11 |
富士フイルム株式会社 |
化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP4396443B2
(ja)
|
2004-08-18 |
2010-01-13 |
コニカミノルタエムジー株式会社 |
感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法
|
|
EP1637927A1
(en)
|
2004-09-02 |
2006-03-22 |
Fuji Photo Film Co., Ltd. |
Positive resist composition and pattern forming method using the same
|
|
JP4469692B2
(ja)
|
2004-09-14 |
2010-05-26 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
|
US7950795B2
(en)
|
2004-12-09 |
2011-05-31 |
Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. |
Image forming method and ink-jet recording device utilizing photo-curable ink, and inkset, ink-jet recording method and ink-jet recording device utilizing photo-curable ink
|
|
JP4452632B2
(ja)
|
2005-01-24 |
2010-04-21 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
|
TWI530759B
(zh)
|
2005-01-24 |
2016-04-21 |
富士軟片股份有限公司 |
適用於浸漬曝光之正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法
|
|
JP4562537B2
(ja)
|
2005-01-28 |
2010-10-13 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
|
JP4439409B2
(ja)
|
2005-02-02 |
2010-03-24 |
富士フイルム株式会社 |
レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
US8741537B2
(en)
|
2005-03-04 |
2014-06-03 |
Fujifilm Corporation |
Positive resist composition and pattern-forming method using the same
|
|
US20060204732A1
(en)
|
2005-03-08 |
2006-09-14 |
Fuji Photo Film Co., Ltd. |
Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
|
|
JP4579019B2
(ja)
|
2005-03-17 |
2010-11-10 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法
|
|
EP1720072B1
(en)
|
2005-05-01 |
2019-06-05 |
Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. |
Compositons and processes for immersion lithography
|
|
JP4724465B2
(ja)
|
2005-05-23 |
2011-07-13 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
|
JP4861767B2
(ja)
|
2005-07-26 |
2012-01-25 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP4580841B2
(ja)
|
2005-08-16 |
2010-11-17 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP4695941B2
(ja)
|
2005-08-19 |
2011-06-08 |
富士フイルム株式会社 |
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
EP1757635B1
(en)
|
2005-08-23 |
2008-10-08 |
FUJIFILM Corporation |
Curable ink comprising modified oxetane compound
|
|
JP4757574B2
(ja)
|
2005-09-07 |
2011-08-24 |
富士フイルム株式会社 |
インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
|
|
TWI403843B
(zh)
|
2005-09-13 |
2013-08-01 |
Fujifilm Corp |
正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法
|
|
US20090110832A1
(en)
|
2005-11-01 |
2009-04-30 |
Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. |
Planographic printing plate material, planographic printing plate, planographic printing plate preparing process and printing process employing planographic printing plate
|
|
ATE494341T1
(de)
|
2005-11-04 |
2011-01-15 |
Fujifilm Corp |
Härtbare tintenzusammensetzung und oxetanverbindung
|
|
EP1795960B1
(en)
|
2005-12-09 |
2019-06-05 |
Fujifilm Corporation |
Positive resist composition, pattern forming method using the positive resist composition, use of the positive resit composition
|
|
ATE496766T1
(de)
|
2006-03-03 |
2011-02-15 |
Fujifilm Corp |
Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte
|
|
US7767143B2
(en)
*
|
2006-06-27 |
2010-08-03 |
3M Innovative Properties Company |
Colorimetric sensors
|
|
JP4911456B2
(ja)
|
2006-11-21 |
2012-04-04 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
|
JP4554665B2
(ja)
|
2006-12-25 |
2010-09-29 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
|
|
CN101610749B
(zh)
|
2006-12-28 |
2013-01-02 |
3M创新有限公司 |
牙科填料及方法
|
|
JP2008189776A
(ja)
|
2007-02-02 |
2008-08-21 |
Fujifilm Corp |
活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版
|
|
WO2008096618A1
(ja)
|
2007-02-09 |
2008-08-14 |
Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. |
インクジェットヘッド、インクジェットプリンタ、インクジェット記録方法
|
|
JP4905786B2
(ja)
|
2007-02-14 |
2012-03-28 |
富士フイルム株式会社 |
レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
EP1962139A1
(en)
|
2007-02-23 |
2008-08-27 |
FUJIFILM Corporation |
Negative resist composition and pattern forming method using the same
|
|
JP2008208266A
(ja)
|
2007-02-27 |
2008-09-11 |
Fujifilm Corp |
インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版
|
|
JP5162290B2
(ja)
|
2007-03-23 |
2013-03-13 |
富士フイルム株式会社 |
レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
US8088566B2
(en)
|
2007-03-26 |
2012-01-03 |
Fujifilm Corporation |
Surface-treating agent for pattern formation and pattern-forming method using the surface-treating agent
|
|
US7592118B2
(en)
|
2007-03-27 |
2009-09-22 |
Fujifilm Corporation |
Positive resist composition and pattern forming method using the same
|
|
EP1975716B1
(en)
|
2007-03-28 |
2013-05-15 |
Fujifilm Corporation |
Positive resist composition and pattern forming method
|
|
EP1975714A1
(en)
|
2007-03-28 |
2008-10-01 |
FUJIFILM Corporation |
Positive resist composition and pattern forming method
|
|
US8182975B2
(en)
|
2007-03-28 |
2012-05-22 |
Fujifilm Corporation |
Positive resist composition and pattern forming method using the same
|
|
US20080241745A1
(en)
|
2007-03-29 |
2008-10-02 |
Fujifilm Corporation |
Negative resist composition and pattern forming method using the same
|
|
JP4982228B2
(ja)
|
2007-03-30 |
2012-07-25 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
|
|
JP5159141B2
(ja)
|
2007-03-30 |
2013-03-06 |
富士フイルム株式会社 |
インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
|
|
JP5039622B2
(ja)
|
2007-03-30 |
2012-10-03 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
|
|
EP1980911A3
(en)
|
2007-04-13 |
2009-06-24 |
FUJIFILM Corporation |
Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method
|
|
WO2008129964A1
(ja)
|
2007-04-13 |
2008-10-30 |
Fujifilm Corporation |
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液
|
|
JP4617337B2
(ja)
|
2007-06-12 |
2011-01-26 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法
|
|
KR20100030616A
(ko)
|
2007-06-15 |
2010-03-18 |
후지필름 가부시키가이샤 |
패턴 형성용 표면 처리제, 및 상기 처리제를 이용한 패턴 형성 방법
|
|
JP2008311474A
(ja)
|
2007-06-15 |
2008-12-25 |
Fujifilm Corp |
パターン形成方法
|
|
JP2009009047A
(ja)
|
2007-06-29 |
2009-01-15 |
Fujifilm Corp |
パターン形成方法
|
|
US8088550B2
(en)
|
2007-07-30 |
2012-01-03 |
Fujifilm Corporation |
Positive resist composition and pattern forming method
|
|
JP5066405B2
(ja)
|
2007-08-02 |
2012-11-07 |
富士フイルム株式会社 |
電子線、x線又はeuv用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
|
|
JP5103316B2
(ja)
|
2007-08-03 |
2012-12-19 |
富士フイルム株式会社 |
新規なスルホニウム化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び新規なスルホニウム化合物
|
|
JP4547448B2
(ja)
|
2007-08-10 |
2010-09-22 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP5449675B2
(ja)
|
2007-09-21 |
2014-03-19 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
|
|
JP5111039B2
(ja)
|
2007-09-27 |
2012-12-26 |
富士フイルム株式会社 |
重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物
|
|
JP4911469B2
(ja)
|
2007-09-28 |
2012-04-04 |
富士フイルム株式会社 |
レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
|
|
US8240838B2
(en)
|
2007-11-29 |
2012-08-14 |
Fujifilm Corporation |
Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material
|
|
JP5150296B2
(ja)
|
2008-02-13 |
2013-02-20 |
富士フイルム株式会社 |
電子線、x線またはeuv用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
|
|
US9046773B2
(en)
|
2008-03-26 |
2015-06-02 |
Fujifilm Corporation |
Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound
|
|
US8454152B2
(en)
|
2008-06-23 |
2013-06-04 |
Konica Minolta Holdings, Inc. |
Ink jet recording device and ink jet recording method
|
|
JP5244711B2
(ja)
|
2008-06-30 |
2013-07-24 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP5997873B2
(ja)
|
2008-06-30 |
2016-09-28 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP5746818B2
(ja)
|
2008-07-09 |
2015-07-08 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
|
JP5383133B2
(ja)
|
2008-09-19 |
2014-01-08 |
富士フイルム株式会社 |
インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
|
|
ATE541905T1
(de)
|
2008-09-26 |
2012-02-15 |
Fujifilm Corp |
Tintenzusammensetzung und tintenaufzeichnungsverfahren
|
|
JP5461809B2
(ja)
|
2008-09-29 |
2014-04-02 |
富士フイルム株式会社 |
インク組成物、及び、インクジェット記録方法
|
|
US8888262B2
(en)
|
2008-11-07 |
2014-11-18 |
Konica Minolta Holdings, Inc. |
Actinic energy radiation curable inkjet ink and inkjet recording method
|
|
JP2010115791A
(ja)
|
2008-11-11 |
2010-05-27 |
Konica Minolta Ij Technologies Inc |
画像形成装置
|
|
WO2010067905A2
(en)
|
2008-12-12 |
2010-06-17 |
Fujifilm Corporation |
Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same
|
|
JP2010235911A
(ja)
|
2009-03-11 |
2010-10-21 |
Konica Minolta Ij Technologies Inc |
活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、インクジェット記録方法及び印刷物
|
|
JP5964007B2
(ja)
|
2009-04-02 |
2016-08-03 |
コニカミノルタ株式会社 |
活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、インクジェット記録方法及び印刷物
|
|
JP5783687B2
(ja)
*
|
2009-06-23 |
2015-09-24 |
住友化学株式会社 |
樹脂及びレジスト組成物
|
|
CN102002121A
(zh)
*
|
2009-08-31 |
2011-04-06 |
住友化学株式会社 |
树脂,抗蚀剂组合物和用于制造抗蚀剂图案的方法
|
|
JP2011074365A
(ja)
*
|
2009-09-02 |
2011-04-14 |
Sumitomo Chemical Co Ltd |
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
KR101841000B1
(ko)
|
2010-07-28 |
2018-03-22 |
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 |
포토레지스트 조성물
|
|
EP2607433B1
(en)
|
2010-08-19 |
2020-11-11 |
Konica Minolta Holdings, Inc. |
Active ray-curable ink and active ray-curable inkjet recording method
|
|
TWI521302B
(zh)
|
2010-08-30 |
2016-02-11 |
住友化學股份有限公司 |
阻劑組成物及阻劑圖案的產生方法
|
|
JP2012087294A
(ja)
|
2010-09-21 |
2012-05-10 |
Sumitomo Chemical Co Ltd |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法
|
|
JP5824320B2
(ja)
|
2010-10-26 |
2015-11-25 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5824321B2
(ja)
|
2010-10-26 |
2015-11-25 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5879834B2
(ja)
|
2010-11-15 |
2016-03-08 |
住友化学株式会社 |
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5761202B2
(ja)
|
2010-12-10 |
2015-08-12 |
コニカミノルタ株式会社 |
インクジェット記録装置
|
|
JP6088133B2
(ja)
|
2010-12-15 |
2017-03-01 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5829940B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2015-12-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5898520B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2016-04-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5947051B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2016-07-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6034026B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2016-11-30 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6034025B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2016-11-30 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5829941B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2015-12-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5898521B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2016-04-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5947053B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2016-07-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5829939B2
(ja)
|
2011-02-25 |
2015-12-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
KR101546599B1
(ko)
|
2011-03-30 |
2015-08-21 |
아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 |
오르가노폴리실록산, 그 제조 방법 및 오르가노폴리실록산을 함유하는 경화성 수지 조성물
|
|
JP6005964B2
(ja)
|
2011-04-07 |
2016-10-12 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5852490B2
(ja)
|
2011-04-07 |
2016-02-03 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5934536B2
(ja)
|
2011-04-07 |
2016-06-15 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6022788B2
(ja)
|
2011-04-07 |
2016-11-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
WO2012147760A1
(ja)
|
2011-04-27 |
2012-11-01 |
コニカミノルタホールディングス株式会社 |
インクジェット記録装置
|
|
JP5990041B2
(ja)
|
2011-07-19 |
2016-09-07 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5977593B2
(ja)
|
2011-07-19 |
2016-08-24 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
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(ja)
|
2011-07-19 |
2017-08-30 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
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(ja)
|
2011-07-19 |
2016-03-16 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
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(ja)
|
2011-07-19 |
2017-05-17 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
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(ja)
|
2011-07-19 |
2016-10-25 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
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(ja)
|
2011-07-19 |
2016-04-27 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
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(ja)
|
2011-07-19 |
2016-09-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
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(ja)
|
2011-07-19 |
2016-10-25 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6013798B2
(ja)
|
2011-07-19 |
2016-10-25 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5996944B2
(ja)
|
2011-07-19 |
2016-09-21 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6130631B2
(ja)
|
2011-07-19 |
2017-05-17 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5977594B2
(ja)
|
2011-07-19 |
2016-08-24 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP5977595B2
(ja)
|
2011-07-19 |
2016-08-24 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
WO2013128945A1
(ja)
|
2012-03-01 |
2013-09-06 |
コニカミノルタ株式会社 |
インクジェット記録方法
|
|
EP2845733B1
(en)
|
2012-05-01 |
2017-06-21 |
Konica Minolta, Inc. |
Image formation device
|
|
JP5957377B2
(ja)
*
|
2012-12-27 |
2016-07-27 |
Jxエネルギー株式会社 |
熱媒体組成物
|
|
EP2979878B1
(en)
|
2013-03-29 |
2020-09-02 |
Konica Minolta, Inc. |
Image formation device
|
|
KR20160003641A
(ko)
|
2013-04-30 |
2016-01-11 |
쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 |
폴리(벤족사진)의 제조 방법
|
|
WO2015057414A1
(en)
|
2013-10-16 |
2015-04-23 |
3M Innovative Properties Company |
Benzoxazine polymerization
|
|
JP6615536B2
(ja)
|
2014-08-25 |
2019-12-04 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6595255B2
(ja)
|
2014-08-25 |
2019-10-23 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6576162B2
(ja)
|
2014-08-25 |
2019-09-18 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6541508B2
(ja)
|
2014-08-25 |
2019-07-10 |
住友化学株式会社 |
塩、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6596263B2
(ja)
|
2014-08-25 |
2019-10-23 |
住友化学株式会社 |
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6507065B2
(ja)
|
2014-08-25 |
2019-04-24 |
住友化学株式会社 |
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6706892B2
(ja)
|
2014-09-16 |
2020-06-10 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6541525B2
(ja)
|
2014-09-16 |
2019-07-10 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6533724B2
(ja)
|
2014-09-16 |
2019-06-19 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6706890B2
(ja)
|
2014-09-16 |
2020-06-10 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6541526B2
(ja)
|
2014-09-16 |
2019-07-10 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
US9671691B2
(en)
|
2014-09-16 |
2017-06-06 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Resin, resist composition and method for producing resist pattern
|
|
JP6670591B2
(ja)
|
2014-11-11 |
2020-03-25 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6684075B2
(ja)
|
2014-11-11 |
2020-04-22 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6688041B2
(ja)
|
2014-11-11 |
2020-04-28 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6585471B2
(ja)
|
2014-11-11 |
2019-10-02 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6664932B2
(ja)
|
2014-11-14 |
2020-03-13 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6721319B2
(ja)
|
2014-11-26 |
2020-07-15 |
住友化学株式会社 |
ノニオン性化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6782070B2
(ja)
|
2014-11-26 |
2020-11-11 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
US10365560B2
(en)
|
2015-03-31 |
2019-07-30 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Resist composition and method for producing resist pattern
|
|
JP6910108B2
(ja)
|
2015-03-31 |
2021-07-28 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
US9740097B2
(en)
|
2015-03-31 |
2017-08-22 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Resist composition and method for producing resist pattern
|
|
JP6761657B2
(ja)
|
2015-03-31 |
2020-09-30 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6769735B2
(ja)
|
2015-05-12 |
2020-10-14 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
US10882955B2
(en)
|
2015-06-09 |
2021-01-05 |
3M Innovative Properties Company |
Ammonium salt catalyzed benzoxazine polymerization
|
|
JP6782102B2
(ja)
|
2015-06-26 |
2020-11-11 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物
|
|
JP6883954B2
(ja)
|
2015-06-26 |
2021-06-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物
|
|
JP6864994B2
(ja)
|
2015-06-26 |
2021-04-28 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物
|
|
JP7042598B2
(ja)
|
2016-12-14 |
2022-03-28 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP6963979B2
(ja)
|
2016-12-14 |
2021-11-10 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
EP3581594B1
(en)
|
2017-02-08 |
2021-12-29 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern
|
|
JP7283883B2
(ja)
|
2017-11-09 |
2023-05-30 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
US11378883B2
(en)
|
2018-04-12 |
2022-07-05 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern
|
|
US11820735B2
(en)
|
2018-04-12 |
2023-11-21 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern
|
|
JP7269093B2
(ja)
|
2018-05-29 |
2023-05-08 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP2020029451A
(ja)
|
2018-08-17 |
2020-02-27 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7341787B2
(ja)
|
2018-08-27 |
2023-09-11 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7389622B2
(ja)
|
2018-11-20 |
2023-11-30 |
住友化学株式会社 |
塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7471828B2
(ja)
|
2019-01-18 |
2024-04-22 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7412186B2
(ja)
|
2019-01-18 |
2024-01-12 |
住友化学株式会社 |
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
BE1027107B1
(fr)
|
2019-03-25 |
2021-02-15 |
Sumitomo Chemical Co |
Compose, resine, composition de photoresist et procede de production de motif de photoresist
|
|
JP7488102B2
(ja)
|
2019-05-17 |
2024-05-21 |
住友化学株式会社 |
塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7537913B2
(ja)
|
2019-06-04 |
2024-08-21 |
住友化学株式会社 |
塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7499071B2
(ja)
|
2019-06-04 |
2024-06-13 |
住友化学株式会社 |
塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに塩の製造方法
|
|
JP7607416B2
(ja)
|
2019-08-29 |
2024-12-27 |
住友化学株式会社 |
塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7545834B2
(ja)
|
2019-08-29 |
2024-09-05 |
住友化学株式会社 |
塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7790865B2
(ja)
|
2019-12-18 |
2025-12-23 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7614850B2
(ja)
|
2020-02-06 |
2025-01-16 |
住友化学株式会社 |
カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7659395B2
(ja)
|
2020-02-06 |
2025-04-09 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
US11740555B2
(en)
|
2020-03-05 |
2023-08-29 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Resist composition and method for producing resist pattern
|
|
US11681220B2
(en)
|
2020-03-05 |
2023-06-20 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Resist composition and method for producing resist pattern
|
|
US11675267B2
(en)
|
2020-03-23 |
2023-06-13 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Resist composition and method for producing resist pattern
|
|
TWI858248B
(zh)
|
2020-04-22 |
2024-10-11 |
日商住友化學股份有限公司 |
抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法
|
|
JP7689013B2
(ja)
|
2020-05-15 |
2025-06-05 |
住友化学株式会社 |
カルボン酸塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
TWI877361B
(zh)
|
2020-05-21 |
2025-03-21 |
日商住友化學股份有限公司 |
鹽、酸產生劑、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法
|
|
JP7789494B2
(ja)
|
2020-06-01 |
2025-12-22 |
住友化学株式会社 |
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
TWI849314B
(zh)
|
2020-06-01 |
2024-07-21 |
日商住友化學股份有限公司 |
化合物、樹脂、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法
|
|
JP2022008152A
(ja)
|
2020-06-25 |
2022-01-13 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7758480B2
(ja)
|
2020-07-01 |
2025-10-22 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7696275B2
(ja)
|
2020-11-06 |
2025-06-20 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7748854B2
(ja)
|
2020-11-11 |
2025-10-03 |
住友化学株式会社 |
カルボン酸塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7714438B2
(ja)
|
2020-11-12 |
2025-07-29 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
JP7790991B2
(ja)
|
2021-02-12 |
2025-12-23 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP7848027B2
(ja)
|
2021-04-15 |
2026-04-20 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP2022164585A
(ja)
|
2021-04-15 |
2022-10-27 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
|
US12566375B2
(en)
|
2021-05-06 |
2026-03-03 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern
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JP2022183074A
(ja)
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2021-05-28 |
2022-12-08 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP2022183077A
(ja)
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2021-05-28 |
2022-12-08 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP2023024363A
(ja)
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2021-08-06 |
2023-02-16 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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