|
AU8323982A
(en)
*
|
1981-05-15 |
1982-11-18 |
Polychrome Corp. |
Improved anodized supports
|
|
DE3206469A1
(de)
*
|
1982-02-23 |
1983-09-01 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Verfahren zur herstellung von traegermaterialien fuer offsetdruckplatten
|
|
DE3206470A1
(de)
*
|
1982-02-23 |
1983-09-01 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Verfahren zur herstellung von traegermaterialien fuer offsetdruckplatten
|
|
GB2141139B
(en)
*
|
1983-06-02 |
1986-07-30 |
Secr Defence |
Pretreatment of aluminum prior to bonding electroplating or painting
|
|
GB8315203D0
(en)
*
|
1983-06-02 |
1983-07-06 |
Secr Defence |
Surface pretreatment of aluminium and aluminium alloys
|
|
JPS6089924U
(ja)
*
|
1983-11-29 |
1985-06-20 |
株式会社東芝 |
板材用曲げ加工装置
|
|
JPS6219494A
(ja)
*
|
1985-07-18 |
1987-01-28 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
平版印刷版用支持体
|
|
DE3740698A1
(de)
*
|
1987-12-01 |
1989-06-15 |
Basf Ag |
Verfahren zur anodischen oxidation der oberflaeche von aluminium oder aluminiumlegierungen
|
|
JPH07119151B2
(ja)
*
|
1987-12-07 |
1995-12-20 |
富士写真フイルム株式会社 |
平版印刷版用支持体
|
|
JPH07119152B2
(ja)
*
|
1987-12-18 |
1995-12-20 |
富士写真フイルム株式会社 |
平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法
|
|
EP0373510A3
(fr)
*
|
1988-12-13 |
1990-07-11 |
Konica Corporation |
Procédé de fabrication d' une plaque d'impression lithographique photosensible
|
|
EP0709232B1
(fr)
*
|
1994-10-25 |
1999-06-16 |
Agfa-Gevaert N.V. |
Procédé pour la préparation d'une feuille d'aluminium utilisée comme support pour une plaque d'impression lithographique
|
|
EP0716935B1
(fr)
*
|
1994-12-14 |
1998-07-01 |
Agfa-Gevaert N.V. |
Procédé pour la préparation d'une feuille d'aluminium utilisée comme support pour une plaque d'impression lithographique
|
|
EP1013469B1
(fr)
*
|
1998-12-22 |
2006-08-16 |
Fuji Photo Film Co., Ltd. |
Procédé pour la préparation d'une plaque d'impression lithographique photosensible
|
|
JP4250490B2
(ja)
|
2003-09-19 |
2009-04-08 |
富士フイルム株式会社 |
平版印刷版用アルミニウム合金素板および平版印刷版用支持体
|
|
EP1712368B1
(fr)
|
2005-04-13 |
2008-05-14 |
FUJIFILM Corporation |
Procédé de fabrication d'un substrat pour plaque lithographique
|
|
US20080161464A1
(en)
|
2006-06-28 |
2008-07-03 |
Marks Tobin J |
Crosslinked polymeric dielectric materials and methods of manufacturing and use thereof
|
|
US7981989B2
(en)
|
2006-11-28 |
2011-07-19 |
Polyera Corporation |
Photopolymer-based dielectric materials and methods of preparation and use thereof
|
|
JP2009208140A
(ja)
|
2008-03-06 |
2009-09-17 |
Fujifilm Corp |
平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法、ならびに該製造方法により得られる平版印刷版用アルミニウム合金板および平版印刷版用支持体
|
|
WO2010150810A1
(fr)
|
2009-06-26 |
2010-12-29 |
富士フイルム株式会社 |
Substrat réfléchissant la lumière et son procédé de fabrication
|
|
CN102548769B
(zh)
|
2009-09-24 |
2015-08-12 |
富士胶片株式会社 |
平版印刷版原版
|
|
WO2011078010A1
(fr)
|
2009-12-25 |
2011-06-30 |
富士フイルム株式会社 |
Substrat isolé, procédé de production d'un substrat isolé, procédé de formation d'une ligne de câblage, substrat de câblage et élément électroluminescent
|
|
JP2012033853A
(ja)
|
2010-04-28 |
2012-02-16 |
Fujifilm Corp |
絶縁性光反射基板
|
|
KR20120022628A
(ko)
|
2010-08-16 |
2012-03-12 |
후지필름 가부시키가이샤 |
Led 용 방열 반사판
|
|
EP2434592A3
(fr)
|
2010-09-24 |
2014-09-24 |
Fujifilm Corporation |
Élément conducteur du point de vue anisotrope
|
|
KR20140004766A
(ko)
|
2011-03-28 |
2014-01-13 |
후지필름 가부시키가이샤 |
발광소자용 반사기판 및 그 제조방법
|
|
EP2730684A1
(fr)
|
2011-07-04 |
2014-05-14 |
Fujifilm Corporation |
Substrat réfléchissant d'isolation, et procédé de fabrication de celui-ci
|