FR2848563A1 - Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures - Google Patents
Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures Download PDFInfo
- Publication number
- FR2848563A1 FR2848563A1 FR0215946A FR0215946A FR2848563A1 FR 2848563 A1 FR2848563 A1 FR 2848563A1 FR 0215946 A FR0215946 A FR 0215946A FR 0215946 A FR0215946 A FR 0215946A FR 2848563 A1 FR2848563 A1 FR 2848563A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- formula
- composition according
- oligomer
- crosslinkable
- optionally
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 29
- -1 hydrogeno Chemical group 0.000 claims abstract description 27
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 claims abstract description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 241000566146 Asio Species 0.000 claims abstract description 6
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 14
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 11
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical group [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical group [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N Nitrogen dioxide Chemical compound O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 claims description 2
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Substances CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 2
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 claims 2
- 125000006367 bivalent amino carbonyl group Chemical group [H]N([*:1])C([*:2])=O 0.000 claims 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 abstract 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- JRWJPZLRGAHOTB-YZWQYETPSA-N (2s)-n-[(2s)-2-[[2-[[(2r)-2-[[(2s)-2-amino-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]propanoyl]amino]acetyl]amino]-3-phenylpropanoyl]-2-[2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[2-[[(2r)-2-[[(2s)-2-amino-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]propanoyl]amino]acetyl]amino]-3-phenylprop Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)NCCN[C@@H](CC(C)C)C(=O)NC(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)CNC(=O)[C@@H](C)NC(=O)[C@@H](N)CC=1C=CC(O)=CC=1)NC(=O)CNC(=O)[C@@H](C)NC(=O)[C@@H](N)CC=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=CC=C1 JRWJPZLRGAHOTB-YZWQYETPSA-N 0.000 description 1
- ZKJNETINGMOHJG-GGWOSOGESA-N (e)-1-[(e)-prop-1-enoxy]prop-1-ene Chemical group C\C=C\O\C=C\C ZKJNETINGMOHJG-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- WCFUQBKWMVPFHY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9-heptadecafluorodecan-1-ol Chemical compound CC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(O)(F)F WCFUQBKWMVPFHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYSZBRWPXUSCY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9-heptadecafluorononan-1-ol Chemical compound OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CF BGYSZBRWPXUSCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFIBLBMRJJDEKN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,9,9,9-hexadecafluoro-1-(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,9,9,9-hexadecafluorononoxy)nonane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)CC(F)(F)F GFIBLBMRJJDEKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUGBQWBWWNPMIT-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentan-1-ol Chemical compound CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(O)(F)F KUGBQWBWWNPMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJJXGILAKXJILL-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3,3,3-tetrafluoropropoxymethyl)oxirane Chemical compound FC(CC(F)(F)F)OCC1CO1 JJJXGILAKXJILL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXNWXQYDINSHJC-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl)oxirane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC1CO1 YXNWXQYDINSHJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMXSIEIEXLGIET-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononyl)oxirane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC1CO1 HMXSIEIEXLGIET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZUYYLXTKOELLF-UHFFFAOYSA-N 2-[2,3,3,3-tetrafluoro-2-[1,1,1,2-tetrafluoro-3-(oxiran-2-yl)propan-2-yl]oxypropyl]oxirane Chemical compound C1OC1CC(F)(C(F)(F)F)OC(F)(C(F)(F)F)CC1CO1 ZZUYYLXTKOELLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQMQCDQIXBOVIC-UHFFFAOYSA-N 2-[2,3,3,4,4-pentafluoro-4-[1,1,2,2,3,5,5,5-octafluoro-3-(oxiran-2-ylmethyl)pentoxy]-2-(2,2,2-trifluoroethyl)butyl]oxirane Chemical compound C(C1CO1)C(C(C(F)(F)OC(C(C(CC(F)(F)F)(CC1CO1)F)(F)F)(F)F)(F)F)(CC(F)(F)F)F YQMQCDQIXBOVIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylcyclohexene Chemical compound C=CC1CCC=CC1 BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004915 4-vinylcyclohex-1-ene Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZJSUAAOOJURRQ-UHFFFAOYSA-N C1OC1CC(F)(CC(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(CC(F)(F)F)CC1CO1 Chemical compound C1OC1CC(F)(CC(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(CC(F)(F)F)CC1CO1 BZJSUAAOOJURRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 C[S-](CCC(CC1C2C1)CC2O)(N)OS(C)(*)CCC1CC2OC2CC1 Chemical compound C[S-](CCC(CC1C2C1)CC2O)(N)OS(C)(*)CCC1CC2OC2CC1 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 102100029910 DNA polymerase epsilon subunit 2 Human genes 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMBIDHMOGTYLPU-UHFFFAOYSA-N FC(C(C(C(C(C(C(C1OC1)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)C(C(F)(F)F)C(F)(F)F Chemical compound FC(C(C(C(C(C(C(C1OC1)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)C(C(F)(F)F)C(F)(F)F RMBIDHMOGTYLPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000864190 Homo sapiens DNA polymerase epsilon subunit 2 Proteins 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004965 Silica aerogel Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000002528 anti-freeze Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000011353 cycloaliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L disodium;2-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].OS(=O)(=O)C(C([O-])=O)CC([O-])=O JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 150000003138 primary alcohols Chemical group 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/34—Generating the ultrasonic, sonic or infrasonic waves, e.g. electronic circuits specially adapted therefor
- G01N29/341—Generating the ultrasonic, sonic or infrasonic waves, e.g. electronic circuits specially adapted therefor with time characteristics
- G01N29/343—Generating the ultrasonic, sonic or infrasonic waves, e.g. electronic circuits specially adapted therefor with time characteristics pulse waves, e.g. particular sequence of pulses, bursts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
La présente invention concerne des compositions réticulables par voie cationique en revêtement dur, présentant par ailleurs des propriétés anti-salissures et/ou anti-buée. Cette composition, comportant des particules colloïdales de silice non fonctionnalisée, comporte en outre :- au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant :> au moins un motif de formule (I) :Z1(R0)aSiO(3-a)/2 (I)dans laquelle :- a = 0, 1 ou 2,- R0 , identique ou différent lorsque a>1, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en C1-C6,- Z1, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (I) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou alcénylether et/ou oxétane et/ou dioxolane et/ou carbonate, et de préférence Z1 étant un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou dioxolane,> et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, et- une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique,- éventuellement au moins un solvant organique.
Description
<Desc/Clms Page number 1>
COMPOSITION SILICONE POUR REVETEMENT DUR, A BASE DE SILICE
COLLOIDALE, DURCISSABLE PAR VOIE CATIONIQUE, ANTIBUEE
ET/OU ANTISALISSURES
Le domaine de la présente invention est celui des compositions réticulables par voie cationique en revêtement dur anti-rayures. Plus préférentiellement, la présente invention concerne des compositions réticulables par voie cationique en revêtement dur, présentant par ailleurs des propriétés anti-salissures et/ou anti-buée.
COLLOIDALE, DURCISSABLE PAR VOIE CATIONIQUE, ANTIBUEE
ET/OU ANTISALISSURES
Le domaine de la présente invention est celui des compositions réticulables par voie cationique en revêtement dur anti-rayures. Plus préférentiellement, la présente invention concerne des compositions réticulables par voie cationique en revêtement dur, présentant par ailleurs des propriétés anti-salissures et/ou anti-buée.
Les matériaux thermoplastiques, tels que le polycarbonate, ont pris une place prépondérante dans de nombreuses applications, comme substituants du verre. C'est le cas par exemple dans le domaine automobile, où ils sont utilisés pour la fabrication des lentilles des optiques de phares et des feux arrières des véhicules. C'est également le cas dans le domaine de la lunetterie où ils sont utilisés pour la réalisation des verres de lunettes. L'intérêt principal de ces matériaux thermoplastiques est qu'ils sont plus légers et moins fragiles que le verre.
Toutefois, ces matériaux présentent également un inconvénient majeur, à savoir leur faible dureté par rapport à celle du verre. Par conséquent, ces matériaux sont plus facilement assujettis aux rayage et à l'altération, et ce même dans le cadre d'une utilisation normale.
Le besoin s'est donc fait sentir de trouver des solutions destinées à limiter ces problèmes de rayage et d'altération.
Une des solutions mises en #uvre consiste dans la réalisation d'un revêtement dur à la surface du matériau thermoplastique, sous la forme d'un stratifié transparent destiné à améliorer les performances du matériau thermoplastique. De nombreux documents de l'état de la technique décrivent des compositions destinées à former ce type de revêtement.
Des compositions à base d'époxyalkoxysilanes réticulables par voie thermique sont décrites dans le brevet US-B-4,211,823. Ces compositions permettent d'obtenir des revêtements durs polysiloxanes.
Un inconvénient notable de ces compositions est le temps nécessaire à la réticulation.
Le document WO-A-94/10230 propose une amélioration pour éviter des temps de réticulation trop longs. Cette amélioration consiste à utiliser les ultraviolets comme moyen d'activation de la réticulation. Toutefois, un inconvénient de ces compositions est d'avoir une résistance à l'abrasion inférieure à celle des revêtements réticulés par voie thermique.
Pour pallier à cet inconvénient, la demande de brevet WO-A-02/00561 revendique un procédé pour fabriquer un revêtement obtenu par réticulation, par voie cationique, d'un
<Desc/Clms Page number 2>
monomère époxy essentiellement à base de glycidyl d'abord par photopolymérisation, puis par post-réticulation thermique en présence d'un catalyseur de réticulation thermique.
Un brevet américain US-B-6,210,790 revendique une silice colloïdale modifiée par des groupements époxy ou propényléther et introduite dans des compositions réticulables par voie cationique en revêtement dur. La silice colloïdale est greffée par l'alcoxysilane dans l'eau. Outre la silice fonctionnalisé par l'alcoxysilane, la composition comprend des monomères multifonctionnels et notamment des monomères siloxanes avec des motifs époxy et un amorceur cationique de type sel d'onium.
Un inconvénient de la technique décrite dans ce brevet est d'une part qu'elle implique la fonctionnalisation préalable de la silice colloïdale par un alcoxysilane et d'autre part qu'il est nécessaire d'éliminer le solvant de fonctionnalisation de la silice avant de réaliser la réticulation.
Par ailleurs, les industries des domaines techniques considérés restent dans l'attente de revêtements durs possédant également des propriétés antibuée et/ou antisalissures.
Certains documents antérieurs décrivent des moyens permettant d'obtenir des propriétés antibuée ou antisalissures ont déjà été décrit.
C'est la cas notamment du document WO-A-02/12404, qui décrit un revêtement dur à base de silices colloïdales fonctionnalisées par des acrylates pour dispositifs optiques, présentant des propriétés antisalissures par le biais d'une couche de perfluoropolyéther, déposée sur le revêtement dur.
Le document FR-A-2 749 587 décrit une composition réticulable par radiation en revêtement dur présentant des propriétés antibuée. Cette composition comporte une silice colloïdale, une oléfine comportant au moins deux insaturations et au moins un radical oxyalkylène divalent, et un trialcoxysilane à groupe fonctionnel oléfinique.
Le revêtement antibuée obtenu à partir de la composition décrite dans le document FR-A-2 749 587 présente comme principal inconvénient d'être sensible à l'inhibition par l'oxygène de l'air.
Toutefois, aucune composition de l'art antérieur n'est susceptible de fournir un revêtement dur présentant conjointement de propriétés antibuée et antisalissures. En effet, il s'avère que les mécanismes des propriétés antibuée et antisalissures sont généralement incompatibles.
Dans cet état de fait, un premier objectif de la présente invention est de proposer une nouvelle composition durcissable par voie cationique en un revêtement dur.
Un autre objectif de la présente invention est de fournir une composition susceptible de former un revêtement dur présentant des propriétés antibuée et/ou antisalissures.
<Desc/Clms Page number 3>
Un autre objectif de la présente invention est de fournir une composition susceptible de former un revêtement dont les propriétés antibuée et/ou antisalissures sont pérennes.
Ces objectifs, parmi d'autres, sont atteints par la présente invention qui concerne une composition réticulable par voie cationique en revêtement dur, comportant des particules colloïdales de silice non fonctionnalisée, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre : au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant : > au moins un motif de formule (I) :
Z (R )aSi0(3~a)/2 (1) dans laquelle : - a = 0, 1 ou 2, - R0, identique ou différent lorsque a>l, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en Ci-Ce, - Z1, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (I) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou alcénylether et/ou oxétane et/ou dioxolane et/ou carbonate, et de préférence Z1 étant un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou dioxolane, # et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, et une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique, éventuellement au moins un solvant organique.
Z (R )aSi0(3~a)/2 (1) dans laquelle : - a = 0, 1 ou 2, - R0, identique ou différent lorsque a>l, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en Ci-Ce, - Z1, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (I) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou alcénylether et/ou oxétane et/ou dioxolane et/ou carbonate, et de préférence Z1 étant un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou dioxolane, # et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, et une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique, éventuellement au moins un solvant organique.
Par revêtement dur, on entend un revêtement dont la dureté crayon est au moins égale à H.
Avantageusement, cette composition comporte en outre, à titre de composé antibuée, au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (II) :
Z2(R )aSi03~a/2 (II) dans laquelle :
Z2(R )aSi03~a/2 (II) dans laquelle :
<Desc/Clms Page number 4>
- a = 0, 1 ou 2, - R0 est tel que défini ci-dessus, - Z2, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (II) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins une fonction oxyalkyle ou polyoxyalkyle ((CH2)mO)x ou (CHz-CH(CH3)-O)y ou copolymères, ledit monomère, oligomère et/ou polymère présentant une viscosité inférieure à
500 mPa.s-1et préférentiellement inférieure à 300 mPa.s-1.
500 mPa.s-1et préférentiellement inférieure à 300 mPa.s-1.
Un composé efficace peut être à titre d'exemple, un mélange d'un copolymère bloc silicone-polyéther et de polyéther libre, commercialisé sous la référence Rhodorsil huile 10646.
Un composé organique efficace peut être également un vinyl éther commercialisé sous la référence Rapicure DPE2 (CAS N 765-12-8), DVE3 (CAS N 114188-95-3), ou DPE3 (114266-85-2).
Il participe en effet à la polymérisation cationique et est intégré au réseau rendant le traitement très efficace.
D'autres composés antibuée peuvent être par exemple le sulfosuccinate de sodium.
Il peut s'agir également de tout tensioactif comportant des groupements hydrophiles tels que polyoxyéthylène, polyoxypropylène, sulfate, sulfonate ou carboxylate de métaux alcalins, polyols, sels d'amines, amines quaternaires.
Plus avantageusement encore, la composition selon l'invention comporte, à titre de composé antisalissures, au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (III) :
Z3(R0)aSiO(3-a)/2 (III) dans laquelle : - a = 0, 1 ou 2, - R0, identique ou différent, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en Ci-Ce, - Z3, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (III) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins groupe (CnF2n+1)- (R )a avec n<20 et/ou un composé perfluoropolyéther de formule (IV) :
Y-(CaF2aO)b-CaF2a-Y (IV) dans laquelle :
Z3(R0)aSiO(3-a)/2 (III) dans laquelle : - a = 0, 1 ou 2, - R0, identique ou différent, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en Ci-Ce, - Z3, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (III) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins groupe (CnF2n+1)- (R )a avec n<20 et/ou un composé perfluoropolyéther de formule (IV) :
Y-(CaF2aO)b-CaF2a-Y (IV) dans laquelle :
<Desc/Clms Page number 5>
- Y est un groupe polymérisable ou un atome de fluor ou d'hydrogène, a est compris entre 1 et 7, - b est compris entre 1 et 300, de telle sorte que ledit composé perfluoropolyéther possède une masse moléculaire moyenne comprise entre 500 et 20 000.
Les composés organiques les plus efficaces sont : - les composés perfluorés renfermant une fonction époxyde ou vinyl éther, tel que le glycidyloctafluoropentylether, le glycidyltetrafluoroethylether, le glycidyl tetrafluoropropylether, le glycidylhexa-decafluorononyl, le glycidyldodecafluoroheptylether, l'heptadecafluorononyloxirane, l'heptafluorobutyloxirane, l'hexadecafluorononylether, l'hexadecafluoro8- (trifluoromethyl)nonyloxirane, le dodecafluoro6trifluoromethylheptyl- oxirane, l'octafluoropentanol, l'heptadecafluorononanol, l'heptadecafluoro- decanol...
- les produits d'Asahi Glass comme le C8F17 oxirane Ainsi, le composé perfluoropolyéther peut être pris dans le groupe comprenant :
(C2H5O)2CH3SiC3H6NHCO(CF2O)15(C2F4O)i3CF2CONHC3H6SiCH3(OC2H5)2, (C2H5O)3SiC3H6NHCO(CF2O)15(C2F4O)i3CF2CONHC3H6Si(OC2H5)3, F(CF(CF3)CF2O)25CF2CF3,C4H9NHCO(CF2O)15(C2F4O)13CF2CONHC4Hg, CH2=CHCOOC2H4NHCO(CF2O)i5(C2F4O)13CF2CONHC2H4OOCCH=CH2, CH2=CHCOOCH2(CF2O)l5(C2F40)13CF2CH20OCCH=CH2, (HOCHz)zCHzNHCO(CF20)ls(CzF4O)l3CFzCONHCHz(CHzOH)z, (C2H5O)3Si(CH2)3NHCO(CF2CF20)8CF2CONH(CH2)3Si(OC2Hs)3, (C2H5O)2CH3Si(CH2)3NHCO(CF2CF20)8CF2CONH(CH2)3SiCH3(OC2Hs)2, (C2H5O)2CH3Si(CH2)3NHCO(CF2CF2O)14CF2CONH(CH2)3SiCH3(OC2H5)2, (C2H5O)3Si(CH2)3NHCO(CF2C(CF3)FO)i2CF2CONH(CH2)3Si(OC2H5)3, (C2H50)2CH3Si(CH2)3NHCO(CF2C(CF3)FO)i2CF2CONH(CH2)3SiCH3(OC2Hs)) ou OOCCH=CH2 OOCCH=CHz
H2C=HCCOO-CH2CHCH2NHCO(CF2O)1s(CF2CF2O)13CF2CONHCH2CHCH2-OOCCH=CH2
Selon un premier mode de réalisation, l'amorceur cationique peut être choisi parmi ceux dont l'entité cationique est sélectionnée parmi les sels d'onium de formule (V) :
[(R1)n - A - (Rz)",+ (V) dans laquelle :
(C2H5O)2CH3SiC3H6NHCO(CF2O)15(C2F4O)i3CF2CONHC3H6SiCH3(OC2H5)2, (C2H5O)3SiC3H6NHCO(CF2O)15(C2F4O)i3CF2CONHC3H6Si(OC2H5)3, F(CF(CF3)CF2O)25CF2CF3,C4H9NHCO(CF2O)15(C2F4O)13CF2CONHC4Hg, CH2=CHCOOC2H4NHCO(CF2O)i5(C2F4O)13CF2CONHC2H4OOCCH=CH2, CH2=CHCOOCH2(CF2O)l5(C2F40)13CF2CH20OCCH=CH2, (HOCHz)zCHzNHCO(CF20)ls(CzF4O)l3CFzCONHCHz(CHzOH)z, (C2H5O)3Si(CH2)3NHCO(CF2CF20)8CF2CONH(CH2)3Si(OC2Hs)3, (C2H5O)2CH3Si(CH2)3NHCO(CF2CF20)8CF2CONH(CH2)3SiCH3(OC2Hs)2, (C2H5O)2CH3Si(CH2)3NHCO(CF2CF2O)14CF2CONH(CH2)3SiCH3(OC2H5)2, (C2H5O)3Si(CH2)3NHCO(CF2C(CF3)FO)i2CF2CONH(CH2)3Si(OC2H5)3, (C2H50)2CH3Si(CH2)3NHCO(CF2C(CF3)FO)i2CF2CONH(CH2)3SiCH3(OC2Hs)) ou OOCCH=CH2 OOCCH=CHz
H2C=HCCOO-CH2CHCH2NHCO(CF2O)1s(CF2CF2O)13CF2CONHCH2CHCH2-OOCCH=CH2
Selon un premier mode de réalisation, l'amorceur cationique peut être choisi parmi ceux dont l'entité cationique est sélectionnée parmi les sels d'onium de formule (V) :
[(R1)n - A - (Rz)",+ (V) dans laquelle :
<Desc/Clms Page number 6>
# A représente un élément des groupes 15 à 17 tel que par exemple : I, S,
Se, P ou N, # R1 représente un radical aryle carbocyclique ou hétérocyclique en C6-
C20, ledit radical hétérocyclique pouvant contenir comme hétéroéléments de l'azote ou du soufre, # R2représente RI ou un radical alkyle ou alkényle linéaire ou ramifié en
C1-C30 ; lesdits radicaux RI et R2 étant éventuellement substitués par un groupement alcoxy en C1-C25, alkyle en C1-C25, nitro, chloro, bromo, cyano, carboxy, ester ou mercapto, # n est un nombre entier allant de 1 à v + 1, v étant la valence de l'élément A, # m est un nombre entier allant de 0 à v - 1 avec n + m = v + 1
De façon préférentielle, l'entité anionique de l'amorceur est un borate de formule (IV) : [BXa Rb]- (VI) dans laquelle : - a et b sont des nombres entiers allant pour a de 0 à 3 et pour b de 1 à 4 avec a + b = 4, - les symboles X représentent : * un atome d'halogène (chlore, fluor) avec a = 0 à 3, * une fonction OH avec a = 0 à 2, - les symboles R sont identiques ou différents et représentent : # un radical phényle substitué par au moins un groupement électroattracteur tel que par exemple OCF3, CF3, N02, CN, et/ou par au moins 2 atomes d'halogène (fluor tout particulièrement), et ce lorsque l'entité cationique est un onium d'un élément des groupes 15 à 17, # un radical phényle substitué par au moins un élément ou un groupement électroattracteur notamment atome d'halogène (fluor tout particulièrement), CF3, OCF3, N02, CN, et ce lorsque l'entité cationique est un complexe organométallique d'un élément des groupes 4 à 10 # un radical aryle contenant au moins deux noyaux aromatiques tel que par exemple biphényle, naphtyle, éventuellement substitué par au moins un élément ou un groupement électroattracteur, notamment un atome d'halogène dont le fluor en particulier, OCF3, CF3, N02, CN, quelle que soit l'entité cationique.
Se, P ou N, # R1 représente un radical aryle carbocyclique ou hétérocyclique en C6-
C20, ledit radical hétérocyclique pouvant contenir comme hétéroéléments de l'azote ou du soufre, # R2représente RI ou un radical alkyle ou alkényle linéaire ou ramifié en
C1-C30 ; lesdits radicaux RI et R2 étant éventuellement substitués par un groupement alcoxy en C1-C25, alkyle en C1-C25, nitro, chloro, bromo, cyano, carboxy, ester ou mercapto, # n est un nombre entier allant de 1 à v + 1, v étant la valence de l'élément A, # m est un nombre entier allant de 0 à v - 1 avec n + m = v + 1
De façon préférentielle, l'entité anionique de l'amorceur est un borate de formule (IV) : [BXa Rb]- (VI) dans laquelle : - a et b sont des nombres entiers allant pour a de 0 à 3 et pour b de 1 à 4 avec a + b = 4, - les symboles X représentent : * un atome d'halogène (chlore, fluor) avec a = 0 à 3, * une fonction OH avec a = 0 à 2, - les symboles R sont identiques ou différents et représentent : # un radical phényle substitué par au moins un groupement électroattracteur tel que par exemple OCF3, CF3, N02, CN, et/ou par au moins 2 atomes d'halogène (fluor tout particulièrement), et ce lorsque l'entité cationique est un onium d'un élément des groupes 15 à 17, # un radical phényle substitué par au moins un élément ou un groupement électroattracteur notamment atome d'halogène (fluor tout particulièrement), CF3, OCF3, N02, CN, et ce lorsque l'entité cationique est un complexe organométallique d'un élément des groupes 4 à 10 # un radical aryle contenant au moins deux noyaux aromatiques tel que par exemple biphényle, naphtyle, éventuellement substitué par au moins un élément ou un groupement électroattracteur, notamment un atome d'halogène dont le fluor en particulier, OCF3, CF3, N02, CN, quelle que soit l'entité cationique.
L'amorceur peut être avantageusement choisi dans le groupe constitué par :
L(C8H17)-O--I-)+ [B(C6F5)4]- , [(CH3)2-CH-C-I-C-CH3]+ [B(C6F5)4]-
L(C8H17)-O--I-)+ [B(C6F5)4]- , [(CH3)2-CH-C-I-C-CH3]+ [B(C6F5)4]-
<Desc/Clms Page number 7>
[(Ci2H25-C-I-C]+ [B(C6F5)4]- [(CSH17-0-<DhI]+ , [B(C6F5)4]' [(C8H17)-O--I-)+ [B(C6F5)4]- [(O)3S]+ , [B(C6FS)4]- [W)2S--O-C8H17+ [B(C6H4CF3)4]- [(C12H25-)2I+ [B (C6F5)4]- [(CH3)2-CH--I--CH3]+, [B(C6H3(CFs)a)4 (r15-cyclopentadiènyle) (17 -toluène) Fe+, [B(C6F5)41- (r5-cyclopentadiènyle) (r-méthyl-1-napthalène) Fe+, [B(C6F5)4] (r5-cyclopentadiènyle) (r6-cumène) Fe+, [B(C6F5)4]
Selon une variante de l'invention, l'amorceur peut être également un sel d'onium non toxique dont la structure cationique est de formule (VII) :
UCH(CH3)2--)-I-(-Rl)+ (VII) dans laquelle le symbole R1 représente le radical -#-R2, R2 étant un radical alkyle linéaire ou ramifié comprenant de 1 à 20 atomes de carbone, de préférence 1 à 15 atomes de carbone.
La structure anionique du sel d'onium est choisie parmi le groupe comprenant : Cl-, Br , BF4-, PF6-, CF3SO3-, N(S02CF3)2-, C(S02SF3)2-, B(C6F5)4-, B(PhOCF3)4 , SbF6- et/ou AsF6-. Toutefois, les amorceurs suivants se sont avérés particulièrement intéressants :
[(CH(CH3)z--)-I--CH3]+ Cl- [(CH(CH3)2--)-I--CH3]+ B(C6Fsk [(CH(CH3)z--)-I--CH3]+ PF6- [(CH(CH3)2--)-I--CH3]+ B(PhOCF3)4' [(CH3)2-CH-C-I-C-CH3]+[B(C6H3(CF3)2)4]' De tels amorceurs sont décrits dans le document FR-A-2 762 001.
[(CH(CH3)z--)-I--CH3]+ Cl- [(CH(CH3)2--)-I--CH3]+ B(C6Fsk [(CH(CH3)z--)-I--CH3]+ PF6- [(CH(CH3)2--)-I--CH3]+ B(PhOCF3)4' [(CH3)2-CH-C-I-C-CH3]+[B(C6H3(CF3)2)4]' De tels amorceurs sont décrits dans le document FR-A-2 762 001.
L'oligomère silicone est défini par la formule (VIII) suivante :
Z4Si (R0)aO(3-a)/2 dans laquelle : - a = 0, 1 ou2, - R0, identique ou différent, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en Ci-Ce, - Z4 est notamment choisies parmi les radicaux suivants :
Z4Si (R0)aO(3-a)/2 dans laquelle : - a = 0, 1 ou2, - R0, identique ou différent, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en Ci-Ce, - Z4 est notamment choisies parmi les radicaux suivants :
<Desc/Clms Page number 8>
<Desc/Clms Page number 9>
<Desc/Clms Page number 10>
La silice utilisée peut être de différentes provenances : silice de précipitation, silice de combustion, aérogels de silice, sol de silice et/ou encore silice naturelle.
Selon un mode préféré de l'invention, la silice amorphe contenue majoritairement ou totalement dans la phase silicone est issue de sol de silice et plus particulièrement d'organosols de silice ; description générale des sols de silice est donnée dans le document US 2,801,185 et "The colloid chemistry of silica and silicates" (Ralph K.Iler, Comell University Press - 1955, voir notamment pages 120-121).
A titre d'exemples d'organosols de silice commerciaux, on peut citer ceux des sociétés Clariant, Fuso Chemicals, Nalco, Degussa-Huls et Dupont Chemicals.
Pour Clariant, on citera les produits suivants : Highlink OG1-32; Highlink@ OG8-32; Highlink OG401-31 ; Highlink OG502-30; Highlink@ OG502-31 et Highlink OG600-51.
<Desc/Clms Page number 11>
Les particules de silice présentent un diamètre moyen inférieur à 1 m, et plus préférentiellement compris entre 50 et 500 nm.
Il est à noter que la silice colloïdale ou de combustion utilisée pour renforcer le revêtement est véhiculée dans un solvant organique et notamment un solvant alcoolique tel que des alcools primaires secondaires ou tertiaires. L'isopropanol ou la diacétone alcool sont des solvants de choix.
On peut également utiliser des cétones, du tétrahydrofurane, des coupes d'hydrocarbure ou des solvants fluorés.
Préférentiellement, la proportion de solvant organique dans la composition selon l'invention est au moins égale à 10 parties en poids.
Un autre objet de l'invention concerne un procédé de réalisation d'une composition réticulable par voie cationique en revêtement dur telle que décrite ci-dessus, qui comprend essentiellement l'étape consistant à mélanger des particules de silice colloïdale non fonctionnalisée avec : - au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (I) et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, - une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique, - éventuellement au moins un solvant organique, - éventuellement au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (II), - éventuellement moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (III) ou un composé perfluoropolyéther de formule suivante (IV).
Un autre objet de l'invention concerne un procédé de réalisation d'un revêtement dur sur un support à base d'au moins un matériau thermoplastique, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à : a) mélanger une silice colloïdale non fonctionnalisée avec : - au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (I) et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, - une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique, - éventuellement au moins un solvant organique,
<Desc/Clms Page number 12>
- éventuellement au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (II), - éventuellement moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (III) ou un composé; b) appliquer le mélange obtenu sur le support à base d'au moins un matériau thermoplastique, et c) faire durcir la composition par réticulation en un revêtement dur par voie thermique ou actinique.
De façon à obtenir une couche mince de revêtement dur inférieure à 5 microns, on peut avantageusement utiliser un solvant organique volatile qui est évaporé avant irradiation. Le solvant est volatilisé avant irradiation mais peut aussi réagir avec la base, dans le cas des alcools qui réagissent avec les fonctions oxiranes durant le procédé. on a dans ce cas un diluant réactif.
Enfin, un dernier objet de l'invention concerne un revêtement dur obtenu à partir de la composition ou par le procédé selon l'invention.
Les exemples qui suivent sont donnés à titre illustratif. Ils permettent notamment de mieux comprendre l'invention et de faire ressortir certains de ses avantages et d'illustrer quelques unes de ses variantes de réalisation.
EXEMPLE : Les produits utilisés dans les compositions des exemples sont les suivants : - l'oligomère silicone à fonctionnalité époxyde de formule (A) contenant environ 5% de (A')
<Desc/Clms Page number 13>
- l'amorceur borate d'onium (Pl):
- Les silices colloïdales :
Highlink OG (OGl-32 (éthylène glycol), OG8-32 (pentanediol), OG401-31 (éthylène glycol monopropyl éther), OG502-30 (isopropanol), (isopropanol), OG600-51 (butyle acétate)) commercialisées par Clariant
Nanopox de Hanse Chemie comme le Nanopox XP 22/0314 renforcés à une résine epoxy cycloaliphatique.
- Les silices colloïdales :
Highlink OG (OGl-32 (éthylène glycol), OG8-32 (pentanediol), OG401-31 (éthylène glycol monopropyl éther), OG502-30 (isopropanol), (isopropanol), OG600-51 (butyle acétate)) commercialisées par Clariant
Nanopox de Hanse Chemie comme le Nanopox XP 22/0314 renforcés à une résine epoxy cycloaliphatique.
- Les silices de combustion de combustion traitées par des acrylates comme l'Aerosil R711 ou l'Aerosil R7200 de Degussa.
Exemple 1 : Préparation d'une formulation témoin thermique Flexform 40 Cette solution est vendue par la société EXXENE pour les revêtements anti-abrasion.
Cette solution est appliquée par trempé sur plaque polycarbonate à 20 C puis séchée à 25 C pendant 10min suivi d'une réticulation thermique à 122 C pendant 35 min.
L'épaisseur du film est de deux micromètres. On effectue un test de résistance à l'abrasion Taber selon la norme T30-015 avec une charge de 500g et 300 cycles avec des roues abrasives CS10-F. On trouve une variation de brillance de 10%. %Haze = 10% La dureté crayon du revêtement varie entre 4H et 6H.
Exemple 2 : Préparation d'une formulation UV selon l'invention sans antibuée On charge dans un bécher 10 g de résine siloxane ayant une teneur en monomère (A) supérieure à 90%, obtenue par hydrosilylation du 4-vinylcyclohex-l-ène-époxyde (VCMX), 1,25g de système photoamorceur renfermant 20% de photoamorceur Pl dissout dans l'isopropanol ; de silice colloïdale highlink en solution dans l'isopropanol à 30%.
Le système est stable au moins 6 mois à température ambiante à l'abri de la lumière et de la chaleur. On applique la solution par trempé sur une plaque en polycarbonate.
On laisse égoutter une minute.
On réticule le système par passage sur un banc UV à la vitesse de 5m/min équipé de deux lampes de 160W/cm Hg. Le système est sec et très dur en sortie de banc.
L'épaisseur du film est de 3 micromètres La dureté crayon est de 3H immédiat et supérieure à 4H après 24 heures.
<Desc/Clms Page number 14>
Un recuit de 1 heure à 150 C ou sous une rampe InfraRouge quelques minutes permet l'obtention d'une dureté de 5H.
Le même test d'abrasion Taber est utilisé et on trouve une variation de brillance %haze 15%.
Exemple 3 : d'une formulation UV selon l'invention avec antibuée On charge dans un bécher 10 g de résine siloxane ayant une teneur en monomère (A) supérieure à 90%, 1,25g de système photoamorceur renfermant 20% de photoamorceur P1 dissout dans l'isopropanol ; de silice colloïdale highlink en solution dans l'isopropanol et 0. 5 g de silicone polyéther Rhodorsil huile 10646.
Le système est stable au moins 6 mois à température ambiante à l'abri de la lumière et de la chaleur. On applique la solution par trempé sur une plaque en polycarbonate.
On laisse égoutter une minute.
On réticule le système par passage sur un banc UV à la vitesse de 5m/min équipé de deux lampes de 160W/cm Hg. Le système est sec et très dur en sortie de banc.
L'épaisseur du film est de 3 micromètres La dureté crayon est de 3H immédiat et supérieure à 4H après 24 heures.
Le même test d'abrasion Taber est utilisé on trouve une variation de brillance de 10%.
Le verre polycarbonate placé au frigidaire à 5 C ne se remplit pas de buée lorsqu'il est sorti du frigidaire et placé dans une atmosphère à 100% d'humidité relative et 25 C.
Exemple 4 : Préparation d'une formulation UV selon l'invention avec antisalissure On charge dans un bécher 10 g de résine siloxane ayant une teneur en monomère (A) supérieure à 90%, 1,25g de système photoamorceur renfermant 20% de photoamorceur P1 dissout dans l'isopropanol ; de silice colloïdale highlink en solution dans l'isopropanol et 2 g de polyfluorosilane tridecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrooctyl trimethoxysilane Le système est stable au moins 6 mois à température ambiante à l'abri de la lumière et de la chaleur. On applique la solution par trempé sur une plaque en polycarbonate.
On laisse égoutter une minute.
On réticule le système par passage sur un banc UV à la vitesse de 5m/min équipé de deux lampes de 160W/cm Hg. Le système est sec et très dur en sortie de banc.
L'épaisseur du film est de 3 micromètres.
La dureté crayon est de 3H immédiat et supérieure à 4H après 24 heures.
On effectue cependant une post-réticulation thermique de 1 heure à 100 C pour être sûr d'éliminer des traces d'alcoxysilyl qui n'aurait pas réagi.
Le même test d'abrasion Taber est utilisé, on trouve une variation de brillance de 10%.
Les encres classiques ne marquent pas sur la surface du revêtement contrairement au témoin thermique à base de silice colloïdale et d'alcoxysilanes.
Claims (16)
- Z1 (R0)aSiO(3-a)/2 (I) dans laquelle : - a = 0, 1 ou 2, - R0, identique ou différent lorsque a>l, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en Ci-Ce, - Z1, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (I) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou alcénylether et/ou oxétane et/ou dioxolane et/ou carbonate, et de préférence Z1 étant un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou dioxolane, > et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, et - une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique, - éventuellement au moins un solvant organique.REVENDICATIONS 1. Composition réticulable par voie cationique en revêtement dur, comportant des particules colloïdales de silice non fonctionnalisée, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre : - au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant : > au moins un motif de formule (I) :
- 2. Composition selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre, à titre de composé antibuée, au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (II) :Z2 (R0)aSiO(3-a)/2 (II) dans laquelle : - a = 0,1 ou 2, - R0 est tel que défini ci-dessus, - Z2, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (II) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins une fonction oxyalkyle ou polyoxyalkyle ((CH2)mO)x ou (CH2-CH(CH3)-0)y ou copolymères,<Desc/Clms Page number 16>500 mPa.s-1 et préférentiellement inférieure à 300 mPa.s-1.ledit monomère, oligomère et/ou polymère présentant une viscosité inférieure à
- 3. Composition selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre, à titre de composé antisalissures, au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (III) :Z3(R0)aSiO(3-a)/2 (III) dans laquelle : -a=0, 1 ou2, - R0, identique ou différent, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en C1-C6, - Z3, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (III) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins groupe (CnF2n+1)-(R0)a avec n<20 et/ou un composé perfluoropolyéther de formule (IV) : Y-(CaF2aO)b-CaF2a-Y (IV) dans laquelle : - Y est un groupe polymérisable, - a est compris entre 1 et 7, - b est compris entre 1 et 300, de telle sorte que ledit composé perfluoropolyéther possède une masse moléculaire moyenne comprise entre 500 et 20 000.
- 4. Composition selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que l'amorceur cationique est choisi parmi ceux dont l'entité cationique est sélectionnée parmi les sels d'onium de formule (V) : [(R1)n - A - (R2)m]+ (V) dans laquelle : # A représente un élément des groupes 15 à 17 tel que par exemple : I, S,Se, P ou N,<Desc/Clms Page number 17>C1-C30 ; lesdits radicaux RI et R2 étant éventuellement substitués par un groupement alcoxy en C1-C25, alkyle en C1-C25, nitro, chloro, bromo, cyano, carboxy, ester ou mercapto, # n est un nombre entier allant de 1 à v + 1, v étant la valence de l'élément A, # m est un nombre entier allant de 0 à v -1 avec n + m = v + 1,
- 5. Composition selon la revendication précédente, caractérisée en ce que l'entité anionique de l'amorceur est un borate de formule (VI) : [BXa Rb] (VI) dans laquelle : - a et b sont des nombres entiers allant pour a de 0 à 3 et pour b de 1 à 4 avec a + b = 4, - les symboles X représentent : * un atome d'halogène (chlore, fluor) avec a = 0 à 3, * une fonction OH avec a = 0 à 2, - les symboles R sont identiques ou différents et représentent : # un radical phényle substitué par au moins un groupement électroattracteur tel que par exemple OCF3, CF3, NO2, CN, et/ou par au moins 2 atomes d'halogène (fluor tout particulièrement), et ce lorsque l'entité cationique est un onium d'un élément des groupes 15 à 17, # un radical phényle substitué par au moins un élément ou un groupement électroattracteur notamment atome d'halogène (fluor tout particulièrement), CF3, OCF3, NO2, CN, et ce lorsque l'entité cationique est un complexe organométallique d'un élément des groupes 4 à 10 # un radical aryle contenant au moins deux noyaux aromatiques tel que par exemple biphényle, naphtyle, éventuellement substitué par au moins un élément ou un groupement électroattracteur, notamment un atome d'halogène dont le fluor en particulier, OCF3, CF3, N02, CN, quelle que soit l'entité cationique.C20, ledit radical hétérocyclique pouvant contenir comme hétéroéléments de l'azote ou du soufre, # R2représente RI ou un radical alkyle ou alkényle linéaire ou ramifié en# R1 représente un radical aryle carbocyclique ou hétérocyclique en C6-<Desc/Clms Page number 18>
- 6. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisée en ce que l'amorceur est choisi parmi le groupe constitué par :[(C8H17)---I-)]+ [B(C6F5)4]- , [(CH3)2-CH-<D-I-<D-CH3]+, [B(C6F5)4]- [(Ci2H25-C-I-C]+ [B(C6F5)4]- [(C8H17--)2I]+ [B(C6F5)4] [(C8H17)---I-)]+ [B(C6F5)4]- [(O)3S]+ , [B(C6F5)4]- [()2S---C8H17]+> [B(C6H4CF3)4]- [(C12H2S-cDhI]+ , [B (C6F5)4]- [(CH3)2-CH--I--CH3]+, [B(C6H3(CF3)2)4] (1]5 -cyclopentadiènyle) ( 1]6 -toluène) Fe+, [B(C6F5)41- (1]5 -cyclopentadiènyle) (1]6 -méthyl-I-napthalène) Fe+, [B(CôF5)4]~ (1]5-cyclopentadiènyle) (1]6-cumène) Fe+, [B(C6F5)4]
- 7. Composition selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que l'amorceur cationique un sel d'onium non toxique dont la structure cationique est de formule (VII) : [(CH(CH3)2-#-)-I-(-R1)]+ (VII) dans laquelle R1 représente le radical -#-R2, R2 étant un radical alkyle linéaire ou ramifié comprenant de 1 à 20 atomes de carbone, de préférence 1 à 15 atomes de carbone.
- 8. Composition selon la revendication précédente, caractérisée en ce que structure anionique du sel d'onium est choisie parmi le groupe comprenant : Cl-, Br , BF4-,PF6-, CF3S03-, N(S02CF3)2-, C(SO2SF3)2-, B(C6F5)4-, B(PhOCF3)4-, SbF6- et/ouAsF6-.
- 9. Composition selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que l'oligomère silicone est défini par la formule (VIII) :Z4Si (R0)aO(3-a)/2 dans laquelle : - a = 0, 1 ou 2, - R0, identique ou différent, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en C1-C6, - Z4 est notamment choisies parmi les radicaux suivants :<Desc/Clms Page number 19><Desc/Clms Page number 20><Desc/Clms Page number 21>(C2H50)2CH3SiC3H6NHCO(CF20)15(C2F40),3CF2CONHC3H6SiCH3(OC2H5)2, (CZH50)3SiC3H6NHC0(CF20)5(CZF40)13CFZCONHC3HS1(OC2H5)3, F(CF(CF3)CF20)zSCFZCF3, C4HNHCO(CF20)15(CZF40)13CFZCONHC4Hg, CH2=CHCOOC2H4NHCO(CF2O)15(C2F4O)i3CF2CONHC2H4OOCCH=CH2, CHz=CHCOOCHz(CF20)IS(CZF40)13CFZCHZOOCCH=CHz, (HOCH2)2CH2NHCO(CF20)15(C2F40)13CF2CONECH2(CH20H)2, (C2H50)3Si(CH2)3NHCO(CF2CF20)8CF2CONH(CH2)3Si(OC2H5)3, (CZH50)zCH3Si(CHz)3NHC0(CFZCFZO)gCFzCONH(CHz)3SiCH3(OCzHS)z, (CZH50)zCH3Si(CHz)3NHC0(CFZCFzO)4CFzCONH(CHz)3SiCH3(OCzHs)z, (CZH;O)3Si(CHz)3NHC0(CFZC(CF3)FO),zCF2CONH(CHz)3Si(OCzH;)3,
- 10. Composition selon l'une des revendications 3 à 9, caractérisée en ce que le composé perfluoropolyéther est pris dans le groupe comprenant :<Desc/Clms Page number 22>(C2HsO)2CH3Si(CH2)3NHCO( CF 2C(CF 3)FO)12CF 2CONH(CH2)3SiCH3(OC2Hs)2 ouH2C=HCCOO-CH2CHCH2NHCO(CF2O)15(CF2CF2O)i3CF2CONHCH2CHCH2-OOCCH=CH2
- 12. Composition selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que le solvant organique est un solvant alcoolique.
- 13. Composition selon l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce que la proportion de solvant organique est au moins égale à 10 parties en poids.
- 14. Procédé de réalisation d'une composition réticulable par voie cationique en revêtement dur conformément à l'une des revendications 1 à 13, caractérisé en ce qu'il comprend essentiellement l'étape consistant à mélanger des particules colloïdales de silice non fonctionnalisée avec : - au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (I) et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, - une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique, - éventuellement au moins un solvant organique, - éventuellement au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motifde formule (II), - éventuellement moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (III) ou un composé perfluoropolyéther de formule suivante (IV).
- 15. Procédé de réalisation d'un revêtement dur sur un support à base d'au moins un matériau thermoplastique, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à : a) mélanger une silice colloïdale non fonctionnalisée avec : - au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (I) et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, - une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique,<Desc/Clms Page number 23>éventuellement au moins un solvant organique, éventuellement au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (II), - éventuellement moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant au moins un motif de formule (III) ou un composé; b) appliquer le mélange obtenu sur le support à base d'au moins un matériau thermoplastique, et c) faire durcir la composition par réticulation en un revêtement dur par voie thermique ou actinique.
- 16. Revêtement dur obtenu à partir de la composition selon l'une des revendications 1 à13 ou par le procédé selon la revendication 15.
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0215946A FR2848563B1 (fr) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures |
| CNA2003801082992A CN1735667A (zh) | 2002-12-16 | 2003-12-08 | 用于防雾和/或防污硬涂层的,可通过阳离子法固化的基于胶态二氧化硅的硅氧烷组合物 |
| AU2003296771A AU2003296771A1 (en) | 2002-12-16 | 2003-12-08 | Silicone composition for anti-mist and/or anti-fouling hard coating, based on colloidal silica, curable by cationic process |
| JP2004566097A JP4191141B2 (ja) | 2002-12-16 | 2003-12-08 | コロイドシリカを基材とし陽イオン経路で硬化し得る、防ミスト及び/又は防汚硬質被膜用のシリコーン組成物 |
| PCT/FR2003/003614 WO2004063300A1 (fr) | 2002-12-16 | 2003-12-08 | Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures. |
| CN201010196246A CN101851467A (zh) | 2002-12-16 | 2003-12-08 | 用于防雾和/或防污硬涂层的,可通过阳离子法固化的基于胶态二氧化硅的硅氧烷组合物 |
| EP03815084A EP1572819A1 (fr) | 2002-12-16 | 2003-12-08 | Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures. |
| US11/153,622 US20060040113A1 (en) | 2002-12-16 | 2005-06-16 | Cationically curable silicone compositions based on colloidal silica and anti-mist/anti-fouling hard coatings formed therefrom |
| US11/727,402 US8328929B2 (en) | 2002-12-16 | 2007-03-26 | Cationically curable silicone compositions based on colloidal silica and anti-mist/anti-fouling hard coatings formed therefrom |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0215946A FR2848563B1 (fr) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2848563A1 true FR2848563A1 (fr) | 2004-06-18 |
| FR2848563B1 FR2848563B1 (fr) | 2006-07-28 |
Family
ID=32338852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR0215946A Expired - Fee Related FR2848563B1 (fr) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20060040113A1 (fr) |
| EP (1) | EP1572819A1 (fr) |
| JP (1) | JP4191141B2 (fr) |
| CN (2) | CN101851467A (fr) |
| AU (1) | AU2003296771A1 (fr) |
| FR (1) | FR2848563B1 (fr) |
| WO (1) | WO2004063300A1 (fr) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005089697A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Toagosei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
| JP2005150235A (ja) | 2003-11-12 | 2005-06-09 | Three M Innovative Properties Co | 半導体表面保護シート及び方法 |
| US8163354B2 (en) * | 2006-05-29 | 2012-04-24 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for obtaining a hard coated article having anti-fouling properties |
| US8105623B2 (en) * | 2006-06-30 | 2012-01-31 | Bausch & Lomb Incorporated | Fluorinated poly(ether)s end-capped with polymerizable cationic hydrophilic groups |
| US20080014532A1 (en) * | 2006-07-14 | 2008-01-17 | 3M Innovative Properties Company | Laminate body, and method for manufacturing thin substrate using the laminate body |
| US20080255318A1 (en) * | 2006-11-21 | 2008-10-16 | Momentive Performance Materials Inc. | Organosilicone compositions and methods for preparing them |
| US20090017323A1 (en) * | 2007-07-13 | 2009-01-15 | 3M Innovative Properties Company | Layered body and method for manufacturing thin substrate using the layered body |
| US20090017248A1 (en) * | 2007-07-13 | 2009-01-15 | 3M Innovative Properties Company | Layered body and method for manufacturing thin substrate using the layered body |
| KR20090107882A (ko) * | 2008-04-10 | 2009-10-14 | 삼성전자주식회사 | 고정층을 포함하는 경사 조성 봉지 박막 및 그의 제조방법 |
| JP2010062269A (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Three M Innovative Properties Co | ウェーハ積層体の製造方法、ウェーハ積層体製造装置、ウェーハ積層体、支持層剥離方法、及びウェーハの製造方法 |
| US9011970B2 (en) * | 2010-07-30 | 2015-04-21 | Essilor International | Process for preparing articles having anti-fog layer by layer coating and coated articles having enhanced anti-fog and durability properties |
| JP5737466B1 (ja) | 2013-08-02 | 2015-06-17 | ダイキン工業株式会社 | 重合性官能基及び架橋性官能基からなる群より選択される少なくとも1種の基を含有する含フッ素重合体を含む組成物及び塗装物品 |
| KR101546729B1 (ko) * | 2013-12-11 | 2015-08-24 | 한국과학기술원 | 에폭시 실록산 수지 조성물을 이용한 하드코팅막 및 이의 제조 방법 |
| CN113302247A (zh) * | 2019-01-11 | 2021-08-24 | 诺力昂化学品国际有限公司 | 耐沾污涂层 |
| US11390775B2 (en) | 2019-12-02 | 2022-07-19 | Dow Silicones Corporation | Composition for preparing a release coating |
| WO2021232218A1 (fr) * | 2020-05-19 | 2021-11-25 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Verre de lunettes à propriétés antibuée |
| US12338965B2 (en) * | 2022-09-12 | 2025-06-24 | Valeo Vision | Enhanced diffusive lighting and pattern effects over automotive surface panels |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4486504A (en) * | 1982-03-19 | 1984-12-04 | General Electric Company | Solventless, ultraviolet radiation-curable silicone coating compositions |
| WO1994010230A1 (fr) * | 1992-11-05 | 1994-05-11 | Essilor International | Composition de revetement en epoxysilane |
| EP0738771B1 (fr) * | 1995-04-20 | 2001-07-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Agents de traitement de surface solubles dans l'eau |
| JP2001316626A (ja) * | 2000-05-02 | 2001-11-16 | Seikoh Chem Co Ltd | コーティング剤 |
| WO2002000561A2 (fr) * | 2000-06-29 | 2002-01-03 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Procede pour fabriquer un revetement resistant a l'abrasion sur un substrat de verre organique |
| WO2002012404A2 (fr) * | 2000-08-07 | 2002-02-14 | 3M Innovative Properties Company | Film dur antisalissure |
| JP2002348534A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Nippon Arc Co Ltd | ハードコート組成物およびハードコート製品 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2688790B1 (fr) * | 1992-03-23 | 1994-05-13 | Rhone Poulenc Chimie | Compositions a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adhesifs. |
| US5393818A (en) * | 1993-04-06 | 1995-02-28 | Shell Oil Company | Solvent-free laminating adhesive composition from epoxidized block polymer |
| US6558803B1 (en) * | 2000-07-03 | 2003-05-06 | Adhesives Research Inc. | Ambifunctional perfluorinated polyethers |
| EP1418211B1 (fr) * | 2001-06-13 | 2006-12-20 | SDC Technologies-Asia Ltd. | Composition de revetement et article revetu de ladite composition |
| US6593392B2 (en) * | 2001-06-22 | 2003-07-15 | Corning Incorporated | Curable halogenated compositions |
| WO2003022935A1 (fr) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | 3M Innovative Properties Company | Revetements durs nanocomposites resistant aux taches et procedes de fabrication |
| EP2257605A4 (fr) * | 2008-03-11 | 2011-03-09 | 3M Innovative Properties Co | Composition de revêtement dur |
-
2002
- 2002-12-16 FR FR0215946A patent/FR2848563B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-12-08 CN CN201010196246A patent/CN101851467A/zh active Pending
- 2003-12-08 WO PCT/FR2003/003614 patent/WO2004063300A1/fr not_active Ceased
- 2003-12-08 JP JP2004566097A patent/JP4191141B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-08 CN CNA2003801082992A patent/CN1735667A/zh active Pending
- 2003-12-08 EP EP03815084A patent/EP1572819A1/fr not_active Withdrawn
- 2003-12-08 AU AU2003296771A patent/AU2003296771A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-06-16 US US11/153,622 patent/US20060040113A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-03-26 US US11/727,402 patent/US8328929B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4486504A (en) * | 1982-03-19 | 1984-12-04 | General Electric Company | Solventless, ultraviolet radiation-curable silicone coating compositions |
| WO1994010230A1 (fr) * | 1992-11-05 | 1994-05-11 | Essilor International | Composition de revetement en epoxysilane |
| EP0738771B1 (fr) * | 1995-04-20 | 2001-07-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Agents de traitement de surface solubles dans l'eau |
| JP2001316626A (ja) * | 2000-05-02 | 2001-11-16 | Seikoh Chem Co Ltd | コーティング剤 |
| WO2002000561A2 (fr) * | 2000-06-29 | 2002-01-03 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Procede pour fabriquer un revetement resistant a l'abrasion sur un substrat de verre organique |
| WO2002012404A2 (fr) * | 2000-08-07 | 2002-02-14 | 3M Innovative Properties Company | Film dur antisalissure |
| JP2002348534A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Nippon Arc Co Ltd | ハードコート組成物およびハードコート製品 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 2002, no. 03 3 April 2002 (2002-04-03) * |
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 2003, no. 04 2 April 2003 (2003-04-02) * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU2003296771A1 (en) | 2004-08-10 |
| CN101851467A (zh) | 2010-10-06 |
| JP2006511673A (ja) | 2006-04-06 |
| EP1572819A1 (fr) | 2005-09-14 |
| US20060040113A1 (en) | 2006-02-23 |
| JP4191141B2 (ja) | 2008-12-03 |
| CN1735667A (zh) | 2006-02-15 |
| WO2004063300A1 (fr) | 2004-07-29 |
| FR2848563B1 (fr) | 2006-07-28 |
| US8328929B2 (en) | 2012-12-11 |
| US20080064832A1 (en) | 2008-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FR2848563A1 (fr) | Composition silicone pour revetement dur, a base de silice colloidale, durcissable par voie cationique, antibuee et/ou antisalissures | |
| CA2118566C (fr) | Compositions de revetement anti-abrasion a base d'hydrolysats de silanes et de composes de l'aluminium, et articles revetus correspondants resistants a l'abrasion et aux chocs | |
| US4719146A (en) | Scratch resistant antireflective coatings for synthetic resins | |
| US6228921B1 (en) | Process for the production of compounds based on silanes containing epoxy groups | |
| CA2534183C (fr) | Article d'optique comprenant un empilement anti-reflets multicouches et procede de preparation | |
| US4476281A (en) | Silicone resin coating composition | |
| FR2466493A1 (fr) | Composition de revetement aqueuse a base de silice colloidale et du produit de condensation partielle d'un silanol | |
| EP1916283B1 (fr) | Composition de revêtement photodurcissable et thermodurcissable et article ayant un revêtement durcissable d'une telle composition de revêtement | |
| KR20030040065A (ko) | 양이온성 중합 화합물을 함유하는 조성물 및 이로부터수득되는 코팅재 | |
| FR2718457A1 (fr) | Composition de revêtement capable de donner un produit polymérisé ayant un indice de réfraction élevé et articles revêtus obtenus à partir de celui-ci. | |
| FR2468631A1 (fr) | Composition de revetement en resine de silicone ameliorant la resistance a l'abrasion | |
| NL8320282A (nl) | Werkwijze voor de bereiding van slijtvaste bekledingen op een vast substraat en daarmee vervaardigde voorwerpen. | |
| KR101307142B1 (ko) | 광반응성 기 함유 실록산 화합물, 그의 제조 방법 및열경화성 수지 조성물, 그의 경화 피막을 갖는 물품 | |
| GB2036053A (en) | Silicone Resin Coating Composition | |
| US7709549B2 (en) | Photocurable resin composition and article having a coating formed by curing such composition | |
| JP2010180375A (ja) | 光硬化型コーティング剤組成物、被膜形成方法及び被覆物品 | |
| EP4367189B1 (fr) | Compositions de polysilazane | |
| JPWO2020137588A1 (ja) | ハードコート層形成用組成物、眼鏡レンズ | |
| KR960003291B1 (ko) | 광경화형 실리콘 피복제 조성물 | |
| EP1505131B1 (fr) | Composition de revêtement anti-rayures comportant des particules anisotropes, substrat revêtu correspondant et son application en optique ophtalmique | |
| JP2004314468A (ja) | 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性組成物 | |
| JP4868150B2 (ja) | 光及び熱硬化性コーティング剤組成物、その硬化皮膜を有する物品 | |
| JP4085618B2 (ja) | 硬化被膜を有する透明基材 | |
| US20260103422A1 (en) | Antifouling member, and display, touch panel and sensor using said antifouling member, and method for manufacturing antifouling member | |
| WO2015142559A1 (fr) | Composé fluoré, polymère fluoré formé à partir de ce dernier, composition durcissable comprenant le polymère fluoré et produit durci |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ST | Notification of lapse |
Effective date: 20100831 |













