IT8667823A1 - Apparecchiatura e procedimento per rivestire vetro - Google Patents

Description

DOCUMENTAZIONE

RILEGATA

DESCRIZIONE Cas 4025

Flint-Stone dell'invenzione industriale avente per titolo:

"APPARECCHIATURA E PROCEDIMENTO PER RIVESTIRE VETRO"

della GLAVERBEL, societ? di nazionalit? belga con sede a

Bruxelles (Belgio), 166, Chauss?e de la Hulpe.

Domanda depositata il <m >5 NOV

67823 A, '86

RIASSUNTO

Un'apparecchiatura per formare per pirolisi un rivestimento

di composto metallico su una faccia superiore di un substrato

1 di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro, comprende

organi trasportatori 2 per trasportare il substrato 1 in una

direzione verso valle 3 lunqo un percorso indicato anch?ess-o

con 1.

Una stazione di rivestimento 4 comprende una struttura a

tetto 5, che definisce una camera di rivestimento 6 che si

UfflFICIO apre verso il basso sul percorso 1 del substrato, e mezzi 7 Ine- ?JAZZO jR&vtrn per spruzzare soluzione di precursore del rivestimento nella

camera 6, verso il basso e verso il substrato.

I mezzi di spruzzo 7 sono disposti in modo da spruzzare

la soluzione di precursore del rivestimento in una zona di

spruzzo 9 della camera di rivestimento 6 da un'altezza di

almeno 75 cm sopra il percorso 1 del substrato. r

Sono previsti mezzi di riscaldamento (che. possono compren-

dere riscaldatori radianti e/o mezzi come quelli indicati in a* ? mi,.r " ? j 35 per fornire gas preriscaldato) per fornire calore alla

zona di spruzzo 9. La struttura a tetto 5 delimita una parte

di passaqqio 13 della camera di rivestimento 6 che porta a

valle dalla zona di spruzzo 9 e conferisce alla camera di rivestimento 6 una lunghezza totale di almeno 2 metri. Sono

previsti mezzi, quali casse di aspirazione 39, per generare

forze aspiranti sul materiale atmosferico nel passaggio 13

per favorirne il flusso lungo il percorso del substrato fino

all'estremit? a valle (27) del passaggio e l'ingresso in

condutture di scarico (che partono dalle casse di aspirazione

39) per allontanare tale materiale dal percorso del substrato

Nel funzionamento, si scalda la zona di spruzzo 9 della

camera di rivestimento 6 per far evaporare parte del materiale precursore del rivestimento prima che raggiunga ?1 substrato 1, per caricare l'atmosfera in quella zona con materia.e

precursore del rivestimento vaporizzato. La soluzione ? spruz- UFFICIO Ine. P. GUAZZO zata con sufficiente energia da garantire un impatto sicuro BRE VE TTI contro il substrato di materiale precursore del rivestimento

spruzzato residuo per iniziare il rivestimento della faccia de<11>

substrato, e l'atmosfera carica di materiale precursore del r:

vestimento in fase vapore ? fatta fluire verso valle dalla

zona di spruzzo 9 lungo la faccia rivestita del substrato e

a contatto con essa per un tempo di contatto di almeno 10 secondi, dopo di che si allontana dal substrato il materiale residuo della corrente carica di precursore. (Fig. 2).

?h -Questa-invenzione-si riferisce a un?apparecchiatura per

!

formare per-pirolisi un rivestimento di composto metallico su

i I

una-faccia superiore d-i un substrato di vetro caldo sotto fsri ?

j ;

ina di lastra o nastra, comprendente organi trasportatori pei

f i

i I

?trasportare detto-substrato?in-unadirezione verso-valie lup? -i , i

- jgo-un - peroorBo,-una stazione - di? rive stimante comprendente u?^

I i

; ?j

-na struttura a tetto ohe-definisce-una camera di rivestimene

l

,to ohe si-apre-verao?il?basse--su?det-to?percorao-,-e-mezzi-per

spruzzareuna soluzlone di-un precureorede1 riveetimento in.

dJetta-camera,?verso?il?basso-e-verso?il subBtr-atc?-Liinvenzi?i-?

pe-si-r-i-ferisce-anchs? a-un -pr? esdimen to? per? formare?per. -piro.-r?

? lisi, un? rivestimento di- un composto-metallioo su una faccia, -'superiore di Un aubs-trato- di-ve-tro-ualdo . sotto..forma di la?1 _ _

U F F I C I O

Wtra o nastro durante il suo trasporto .in una direzione ver-i- Ing. P_ GUAZZO-BREVETTI iso valle lungo un percorso attraverso una camera d? rivesti?*

i ;

-mento-in-cui si spruzza verso il.basso,...verso il substrato.,:

Almeno un getto di soluzione-di un precursore del rive-!

|s-timen-to*-

j .Apparecchiature e procedimenti.di.questo.,tipo sono .utir

Jli -nella. -fabbrioazione di vetro..rivestito per vari scopi, il

|

jrivestimento essendo scelto in modo.da.conferire,al vetro

iqualohe propriet? particolar?.desiderata? Esempi particolarmente importanti di rivestimenti,ohe ppss.ono. essere applicar

;ti..al vetro sono,quelli destinati_a rid_urre__il potere.,emisei-;vo della faccia rivestita nei confronti di radiazione infrar

rossa , specialmente -radiazione -infrarossa con-lunghezze d.

onda-_super.iori a-3-pra-,_ e ..quell 1..destina ti a ridurre -la., trasm issivi t.?. di_ energia. .totale, .del.. .ve.tr.o_ rives.tito_.nei confro r

ti della. radiazione solare* Per esempio _?_ noto. jnun ire il ve -tro di un rivestimen to a bassa emissivit? n e 11 ' in f raro s s o di

b io esi?o_di-S_t.agn.o.,_.a. fin i._d i_c.on servazio ne_ d.e 1? c al or e , _ed_ j i

an.ohe-n.o_t.o_iimnir.e-JL.l_vetrO-_di._un_riveJi_tim_en.t_o_che_riduce la .

trasmlssivit? delH'energia solare r fat te. di Jin_ps _s idp me tallir

oo come il b lo?sido di titanio o di una miscela di ossid i

tallici j oome._per jesempio- Fe^O^ CoO t CrgO^ oon lo .scopo

principale di rldurrra il guadagno in calore solare o riverjbero ? _

E<1 >ohiaro ohe _ rivestimenti applicati a vetro che d eve

U F F I C I O

essere usato per soopi di vetratura devono avere una qualit? |ng -Pi GUAZZO ! BRE VETTI ottica elevata ed uniforme* Poich? abitualmente ?.rivestimen?

sono applicati con spessore tra

seoonda della natura del materiale di rivestimento e delle

richieste , variazioni nello spessore del rivesti?

mento ftseono dare origine a effetti di interferenza sgrade?

e quindi uno epessore uniforme, ? importante per una

buona qualit? ottica. Per? ? anche particolarmente importanf

te ohe i rivestimenti siano privi di macchie e altri difetti

llocallzzati e ohe abbiano una struttura cristallina fine e

uniforme.

Hon ? assolutamente facile formare rivestimenti piroll ?r_

~ !

ottica

tipi che alano ..uniformemen t e_.d.i_quali t?/buona *_par_tic.o.larm.ej r e^a_velo.cit?_.di . depQS?zio.ne-rela.tivamen-t.e_e.l.eva?e_co.me-..-si

richiede per. -formare rives.timent i spessi. _e.u_s_ubstrati__di ve-...

tro in .rapido , movimento , ?per. .esempio, -un.. rivestimento -Spesso

7_5fr-na_di. ossido di_.B..tagn o_.su un nastro. _di...vetro. . float._ap.pe.'

aa_f o j3na_t.o_che_ai_apojsiia a-pi?_di_6_mfttxi_a l_minu?o *_?.!_??.1.|?_

to. probabile ohe in impianti di rivestimento _s_u_s cala .. induatriale si verifichino caren z e nell 'uniformit? di spe s s o re ,

composi zi pne_. e/o struttura ^ e molte ricerche s pno _ JB t at e . e f ?

fettuate per trovare una soluzione a questo problema. _

Tali rio orche hanno esplorato le possibilit? di us are apparecchiature per realizzare due teonlohe di deposizione di

U F F I C I O

rivestimenti , ? precisamente deposizione da materiale precu Ing. P. GUAZZO Bht Vt T TI sore del rives t lmento in fa se vapore , e d e po s iz io n e d a mat e?

rihle precursore del rive stimante in fase .liquida.

Nella deposizione in fase vapore , 1 e_ ri ce robe hanno po:

tato a una te onica in cui il materiale precursore del rivestimento in faBe vapore ? fatto entrare in una camera di rivestimento e fluire sotto forma di una corrente regolere i ben

oontrollata. non turbolenta ed uniforme a contatto con il

substrato ohe si rlveBte? Tuttavia, anche se abbiamo trovato

che tale 'teonioa pu? portare alla formazione di un riveatimen?

, ?

to di struttura fine e uniforme, non sdamo riusciti a ottenere una regolarit? di spessore -tale da soddisfare le ?sige nze commero tali correnti specialmente per vetrate di gr, ?n?

-?

oome. quelle_oh.e?aono_Bsmpr.e pi?. richieste-i

?; aoderna -pratioa-aroh.it ettonica.-S emplicemen-t e_non? ?-stato pos^-Jibile-costruire-undapparecchiatura -che -con senta -di- esercita-^?

. re_iX_grado_di -oo-n-trollo-r-iahieBto?eulldin-troduzione -d-el .ma- -teriale _pr.e cursore. .d.el._riv.ee_timento. nella camera di rivesti--nenia-in-mo-do?che-.easo-s corra_uniformeme.nte regolarmente, a

30n-t ai.to_del._ve tro_qu ancLo_Bi._o.pe ra .su soala oomraeroiale ,. con Ll_r.isullato_che._nei_rive.8timent.i_ fb-rmati..sono _ presenti . _vadl spessore

riazioni/impreved?b.ili _ e che_una _peroentuale del vetro__r.ivo

a prodotto non ? di qualit? aocettahlle. Inoltre ? n

sarlo usare un materiale precursore del.rivestimento alquan?-to volatile e ci? rappresenta una limitazione indesiderabile

U F F I C I O

nella.Boelta del materiali disponibili. Inoltre,,.i_procedi? Ing. P. GUAZZO noti facilmente BRE VE I TI nenti/di rivestimento in fase vapore non ai prestanp/al1a

formazione di rivestimenti aventi uno spessore superiore a

400 nm circa, specialmente Quando il vetro si muove piuttosto rapidamente come pu? essere reso necessario da altri imjpjLanti usati nel programma di produzione industriale?_

_ Per formare rivestimenti pi? spessi, ? convenzionale usare un'apparecchiatura di rivestimento in fase liquida o a

spruzzo per spruzzare un getto di goccioline di soluzione ?i

precursore del rivestimento sul substrato. Tale apparecchia?

tura semplifica il maneggiamento delle elevate quantit? di

materiale precursore richiesto, ma presenta unoerto numero

di svantaggi. Primo,vi ?_Un serio rischio?ohe l eontatto

-?

. Ltra .le quan-ti.t?-abitualmente.-.abbae.tan.za grandi.-della. solu? j

! I

j zione di...riv.es.timento spruzzata~e .11..substrato di. vetro calii |

i.do dia origine a bruschi gradienti termici nel vetro con ili

! % i

.[risultato ohe al raffreddamento ohe segue l?operazione di rii?

[vestimento.il vetro, ? fortemente sollecitato.? Ci?.,pu? rende-

[re..molto-d.iffic.il_e_tagliare...il.vetro in lastre o iti..lastre

!piu piccolet se ci? dovesse essere neoessario., e rende il vie?

i I

tro facilmente- fragile? Secondo ? ? molto dlffloile ottenere!

I

!

Un rivestimento di qualit? elevata e uniforme?_ _ _

_ Bella rloeroa di miglioramenti qualitativi, finora B? ?

primariamente

concentrata l?attenzione/sulle condizioni nella zona.d_i_im?/_

- ? patto delle goccioline spruzzate su.1. vetro e nelle .immedia-

te vicinanze di tale zona? E? .molto facile ohe difetti del ! U F F I C I O Ing. P. GUAZZO ^rivestimento si verifichino in tale regione o a causa, del i?; BREVETTI -

trascinamento di prodotti di reazione dall'ambiente gassoso; ad

T ? ;

opera del getto di goccioline spruzzate, o a causa di spruzf-

:zi causati dalle goooioline all'impatto sul vetro? Per evi-^

tare tali difetti sono state fatte varie proposte richleden^

i

iti la generazione di getti di gas di lavaggio per spazzar

I |

jvia dall 'ambiente nelle immediate vicinanze della zona di im?

ipatto materiale potenzialmente dannoso? In una procedura no;?

:tat un nastro di vetro continuo ? trasportato attraverso una

camera di rivestimento dove viene spruzzato con una soluzie^?

ne di precursore di rivestimento da una testina di spruzzo :

ohe si muove avanti e indietro trasversalmente. La testina

li-spruzzo -?-controllata-in modo J.a ottenera-una deposizioni

regolare^di goooioline-nella -zona -di. -impatto- e-una. corrente

li gas di lavaggio ? soffiata Jungo il vetro., ..attraverso tale. camera., . in. modo da .pulire l 'ambiente, in., quel .percorso tr?-eversale..,. .davanti, al. getto., di goccioline.? H getto, di., gas di.

i

lavaggio- pu? essere continuo..,, nel. qual .caso, inevitabilmente

arta-contro _il -getto di-goccio line. .spruzza te. _In._qual_.oaso

per.?.-S? bada .a.limitare._la_velo_oit? dal getto _dj._gae._Ji la- 1 _

raggio in modo __che_qu.ee to fton._di8_turbi _ le _cpndiziqR?_regplaj- .

ri e stabili nella, zona di. impatto.. _ _ _ _ _ [_

_ La. deposizione stabile e dolce riohieeta ? condizionata I

a una energia cinetica sufficientemente bassa. delle goociol:.?

ie di eoluzlone spruzzate? Pertanto l 'uso _di tale apparecchia-U F F I C I O tura ? limitato per quanto riguarda le velooit? di rivestimen* Ing<, >P; GUAZZO Bht Vt T Tl ottenibili*

Hell? intento di formare rivestimenti di <">buona qualit?

pi? rapidamente, si ?.proposto di eseguire tale spruzzo ad]

energia molto pi? elevata e di soffiare contemporaneamente j

?

forti correnti di gas contro e intorno al getto di goccioli?-ne spruzzato in prossimit? del Iti.? zona di impatto in modo che

vengano immediatamente trascinate via le goccioline ohe ine?-vitahilmente danno origine a spruzzi e rimbalzano dal vetro r

3ebbene con questa procedura siano possibili velocit? di farazion? pi? elevate ? per evitare depositi spuri a causa degli

ipruzzi ad opera della goccioline ? necessario ohe i mezzi

-.ohe.-soffiano il.gas di lavaggio-siano,orientati _s.controllati

_-oon-molta.-cura. Il-gas di-lavaggio -de.v_e_essere -emesso da -ugilm-

. Li..che sono -associati-da vioinO-alla tes.tina-.di spruzzo e s

_Buo_Y.onO-Oome.un.tutto -Unico.-insieme-a queataJLungo il suo .per- .

sorso trasversale. Quando?si-usa...detta...procedura di.spruzzo

_.ad_alia.energia ? particolarmente facile ohe:il v?tro sia'BOg?

Setto.a sollecitazioni-.elevate.,-?-inoltre.,si ? -trovato che

.. . rivestimentu si.verificanO-difetti...con .frequenza inaocet-?

tahile-anche dopo le regolazioni pi? accurate della testina

..IL spruzzo.e..dei.-mezzi-di..soffiaggio del getto di gas di?lavaggio associati ad_essa..

1 <? >. <'>. . -. <'>

_ j. Voi abbiamo trovato,.utilizzando le apparecchiature di ;

j

Jspruzzo -note.,?nonostante,il .controllo aocurato dell'ambient?

?i spruzzo, ohe i rivestimenti spesso non hanno le caratteri-U FFI'O stiche strutturali necessaria per una qualit? ottica elevata GUAZZO BRE VE TTI

e che.? difficile.ottenere tali caratteristiche in modo affi-i

idabile e ripetibile., la difficolt?,aumentando al crescere d?i-i

jla.velocit? di deposizione,del rivestimento tentata. In par?

!

<?>ticolare.abbiamo__trovato.-.che.i .rivestimenti ottenuti presene _ i

itano un fattore di nebulosit? elevato,. ma ci? ohe .? ancora ; _

pi? sgradevole ? che. il .fattore di. -nebulosit?_?-_ir.regolare _

sull?area del rivestimento. . .. .. ..

| Uno scapo della presente invenzione ? di fornire un 'ap-

ipareochiatura. ohe..possa essere .usata per formare-rivestimen /'

I T\s\ ,

;ti di qualit? ottica elevata e struttura uniforme in-modo a<? >

ELdabile^e.-.ripetibile, anche._a_v_elo.cit? di deposizione-del

rivestimento.eleya.t.e-j-.e?Senza indurre tali sollecitazioni .

termiche elevate nel...substrato di._ve.tro._ _

Secondo, la Presente.invejizipn.e, ai fornisce, un.'apparecchia?

tura per formare per pirolisi In. rivestimento di composto mptallico._.su una., faccia,superiore di un substrato di vetro caldo

2ot.tp_fo.naa di lastra o nastro, comprendente organi trasportatori per_trasportara detto substrato in una direzione vers.o..yai~.

Le...lungo_.ua..psroorso..,...una stazione Ai rivestimento oomnrendunte

ina struttura a tetto,ciie d?finisce una oamera. di rivestimento

:he si apre verso il basso su detto percorso ? e mezzi per.spruzzar.e_una_s.oluzione_di_.un-precursore del_rivestimento^, in._d_e.11

oamera_verso il basso. verso il substrato, caratterizzata dal

UFFi n n fatto che*ii.mezzi.per spruzzare sono disposti in modo da Ing. P. GUAZZO BRE VE TTI

spruzzare detta soluzione di precursore del rivestimento in

una zona di suruzzO .di detta camera di rivestimento da

percorso del

un*altezza sopra il/substrato di almeno 75 orni sono previsti

mezzi diriscaldamento per fprnire calore a detta zona di

spruzzo; detta struttura a tetto definisce una zona di pas

saggio di detta oamera di rivestimento ohe porta? valle di

detta zona di spruzzo e conferisce alla oamera di rivestimeli

to una. lunghezza totale di almeno 2 mj e sono previsti mezzi

per generare forze di aspirazione su materiale atmosferico

in detto passaggio per incoraggiare detto materiale a fluirje

lungo il percorso del substrato verso l?estremit? a valle d

=fl<!>Q?5

i . >

I i

_ i??t.t.o passaggio.- e _a-_ant.r.are-_in. .condutture . d.i_ scarico ohe ..ali- .

? ;

_ [Lontanano. .tale materiale., dal percorso del substrato.?

! . _. __Un ' apparso eh ia tura secondo l 'invenzione ? pi?_.ecpnomic?

j !

.j?a._far_. funzionare delle convenzionali apparecchiature di, rii*

! in f aa e . ?

[vestimento. /.vapore in qui tutte ^.41 materiale precursore del

I . i -rivestimento deve essere vaporizzato .prima del contatto con ;

| |

rii ve .tro i ed ? pi? semplic .e da costruire delle -appare -cchia-<1>

| si evitano

iture a spruzzo note in particolare pere h?/i problemi asso cia-|

Iti alla formazione di spruzzi e all 'allontanamento di grandi

Iquantlt? di soluzione di precursore del rive et imen t o s pru zza?

; i

Ita dalla zona dove si forma il rivestimento.

Osando un 'apparecchiatura secondo l 'invenzione :

[come i qui definita, abbiamo trovato EOO Ito pi?. facile formare:

| U F F I C I O rivestimenti di qualit? ottica elevata e struttura uniformai j^g p GUAZZO ' ' BREVETTI In modo affidabile e riproducibile, anohe a velocit? di de-1 del rivestimento

:posizione/elevate e senza indurre sollecitazioni termiche initense nel vetro. In particolare, abbiamo trovato molto pi?

! . ,

[facile formare rivestimenti ohe hanno un fattore di. nebulosit?

!basso e uniformemente basso.

Naturalmente, per ottenere tale qualit? elevata ripre-i

Iduoibile per il rivestimento, l'apparecchiatura dovr? essere

[usata in modo conveniente, ma la combinazione di oarat?erl-[stiohe dell'apparecchiatura oome definita sopra & particolarmente vantaggiosa per facilitai? 11 controllo delle condizi?ni nella camera di rivestimento. Per ottenere questi buoni

-s>

risultati, abbiamo trovato , usando 1! apparecchiatura, che ?

i

meglio controllare le condizioni in modo che una percentual?

!

sostanziale della soluzione di -precursore -dei rivestimento ?

'rapo ri- primardi venire -a- oontatto-con il substrato., in ra?doishe l-'atmoef era. nella zona. di spruzzo, si . carichi .di vapore

ael -precursore del- rivestimento che- ? poi aspirato lungo- il

passaggio -dove copre il substrato e rimane, a -contatto . con . e^?

80-?- - - - - ? - - - - . . - - - .. .

din effetti,., ci? -rappresenta uno . scostamento-radicale .dal-.

; L-?insegnamento della tecnica precedente - in- q.uee.to._.campo .-..E?T--i lora .. si_?_ri tenu-to.-n e ces e ario. con.tro.llare_le ..condizioni, in

inodo. ohe. la minor . quantit? possibile di materiale . precursore

.ni vaporizzi, per._ impedi r.e__ch s.esso reag is.oa . co n _ l.'atmo.sfe r a

!

I UFFICIO

.nella. zona_di _spiuzzo.. _e_fo.rmi_.pr.odo.ttl .di reazione ohe potreb- |ng. P. GUAZZO iI BRE VETTI jero.. depositarsi. .sul_su.betrat.P_ .e.._foriaa.re difetti sul rivesti-.mento_._3i. ?. anche ritenuto ne ce ss ario aspirar e. i 1 matarlale

.:precursore del rivestimento in eccesso e i prodotti _di _rcagione allontanandoli dal substrato il piu presto possibile, j

i

?i nuovo - per- impedire depositi spuri su.l substr -at .o , e lunghe z-<.>

ze della zona d? rivestimento da 60 a 100 om sono tipiche

?i <" ? ' . . " ". . . >?!

della teorica precedente. _ <!>

Le ragioni per cui l'uso di tale appareochiatura debba

TSfavorire migli -o-ri- l-.ivel -li qualit -ativi del rivestimento non !r~-! . i

sono del tutto chiare, ma rimane il fatto ohe, con l'aiuto j

f !

di tale apparecchiatura, riusciamo a formare rivestimenti oon

fattore

on/di nebulosit? pi? uniforme -e- pi? basBo di -quanto non f?s~

ae-poss-i-bi-le? prima. -?-r-i-veatimenti -formati -possono -avere- unii

qualit? ottica elevata- e uno -spessore regolare -e -prevedibile . -Inoltre | usando tale apparecchiatura, riusciamo a formare

Questi -rivestimenti su substrati- di vetro pi? rapidamente , e

lu^indi -oon- Bpesso-ri -maggiori? o-su? substrati- ohe ei-epos-tanopi? -rapidamente j di - quanto non riuscissimo finora.

Un 'applicazione - particolarmente- -importante per 1. ! appare

-eh iatura -a eoonio - 1-! invenzione -?-nel la formazione di rivestii

nenti di ossido -di- stagno usando- cloruro starmoso come mate?<1>?

piale -precursore del rivestimento . I rivestimenti di ossido

?i stagno , che riducono l'emissivit?, nei confronti della radiazione-infrarossa _di_lunghezza_d_' onda, .elevata .... da_.parte.de}.

. le -superfici. di lastre, di vetro a cui sono applicati , sono U F F I C I O -largameni.?-usati _per .ridurx.e_il .tras.fe.rime.ntQ._d_i calore da Ing. P. GUAZZO BRE VE TTI . <. >s t ru t ture a ve t ri. tfatu ralm.en t e ...qu.e sto . _s spio, un.. esempio de<1>*

.. gli scopi per cui si pu? usare , l 'apparecchiatura. Come altro

!

iesempio ,...l 'appare c eh ia tura pu? essere usata per formare un |

rivestimento di biossido : .d.i . titanio o_ _dl_ una_. miscela di ps-<!>

si&i ,. per_ esempio. . una ..miscela., di p_s_s idi_d i .. cobalto , ferro e

cromo. . . . . . _ _ _ _ _ _

_ L ' apparecchiatura ? . particolarmente vantaggiosa per la

?

formazione rapida di rivestimenti , come ? richiesto per esejn?

j

pio. per .formare rivestimenti relativamente spessi, per e a em?

jpio un .rivestimento con. spessore tra 50? nm e IQPOnm, su unj

i

! ro

! -?h ~

nas.trodi vetro_.appena._forma.to viaggia-nt.e_a__una_v_elooit?_di

pareechi-metri al minuto -da una vasca-di-float-o -altra appa

recchiatu-ra per la formazione di-vetro piano.---? Preferibilmente,,detta-oamera di-ri-ves-timento-ha una

lunghezza..di..almeno..5-metri? Si_?._.tro.vato-...che.ci? ? pertico

larmente .vantaggioso per_la_fo.rmazto.ne.di rivestimenti relaftivamente spessi, per esempio que_lli__o.on.spessore.,di 5D.0 ma

o. -pl? t- perch?.,.per una data.velooit?di..avanzamen.to._d.el suhjr

strato, permette un tempo di contatto.pi?..lungo...tra il v?pj >

re .di_preoureore del. r_iyestimento_.e__il. substrato,__per la de?*?*

posizione di materiale di rivestimento aggiuntivo e/p per

oondizlonare materiale gi?.deoositato? _

___._3h._forme di..r_e_alizzazione...d_ell_!invenzione specialmente

U F F I C I O

preferite, detti.mezzi di spruzzo sono disposti in modo da Ing. P. GUAZZO BREVETTI

spruzzare detto materiale precursore del rivestimento da un?

sorgente ohe si trova <? >almeno 1 metro, e preferibilmente

almeno 1,2 metri, sopra detto percorso del substrato? Gii

permette una lunga traiettoria per il materiale spruzzato,

dando cos? pi? tempo peroh? quel materiale evapori prima del

contatto con il vetro, e d? origine a una zona di spruzzo alta

che pu? cosi servire come un serbatoio per il materiale eva?-porato dal quale il materiale pu? poi esBere_aepirato verso

valle nel passaggio. Un'apparecchiatura^ che incorpora questa caratteristica preferita ? in antitesi con apparecchiature

di spruzzo precedentemente note, in^cui un^altezza di scarie

i

_ ?-4,_

- Ideilo- spruzzo- d-i~30 cm-o - meno -? usuale ? - - - *

? In? forme particolarmente vantaggiose di realizzazione :

j

jdell 'invenzione, all 'estremit? a valle della zona di spruzzo

I

!detta struttura a tetto si abbassa sostanzialmente verticale i

jmente in modo da definire una fenditura di usoita che portai

] i

j ;

I in detto passaggio ? Ci? d? benefici molto importanti. L'efH _

i ;

! !

. - , -fatto serbatoio nella zona di spruzzo ? esaltato di modo ohie

! nel passaggio

- !? pi? facile-aepirare/mater-iale-atmosfericQ-Qhe-? caricato.!_

iuniformemen-te-con vapore,di preoursore del rivestimento,e..i?_

|noltra -._tale_atmos.fera_aarioa_di..vapore._?....in_quep_to.._mo_d.o__.CP_?

_ Ls.tret.ta.a fluire verBO..il..baeso..v_erso_.il..eub.et.rat.o?

Preferibilmente, l 'altezza di detta fenditura di uscita

? al. massimo ..met?. delllaltezza tra la sorgente di spruzzo ?

U F F I C I O

; dotto percorso del substrato . Si ? trovato che ci? d? spazio ^9? P? GUAZZO BRE VE TTI per una buona miscelazione di materiale atmosferico nella

imet? superiore della,zona di spruzzo fuori linea rispetto al-_

|

ila fenditura di uscita, e inoltre favorisce l'uniformit? con

;cui l'atmosfera in tale parte pub caricarsi di vapori di.pre-;cursore del rivestimento.. . .. . .. .

Vantaggiosamente,.-.almen_p_.una parte della lunghezza di_

rdetto paesaggio ha altezza minore della zona di spruzzo. Per?

tanto il materiale atmosferico ohe soorre in tale tratto di

passaggio di altezza minore ? costretto fisioamente a fluire relativamente vicino al substrato, oosiooh? il vapore di

, precursore del rivestimento trascinato in esso pub agire sul

-o

rivestimento ? ? .

I

j . In certe forme preferite di- realizzazione dell.' invenzi?

lne.} detta struttura a tetto convergo verso il peroorso del :

! . ? I

^substrato nella ^direzione verso, valle lungo

? <? >'

..dotto ...passaggio? Ci? ..esalta la forzatura verso il basso |

_ ? i_ materiale -atmosferico nol_paesaggio , nonostante, eventuali

^svuotamenti nel. volume di quel materiale mentre viaggia nel jv

! <? >i

l i a..direzione, verso valle?. !

_ In-altre formo preferite -.di.-realizzazione..-dell_<,>inven-| ._

- ziono-i detta struttura _a tette inolude. una parete a ponte sor

pra._ i 1 porco reo ...del substrato. che_ d e.f in io o e._ una.. f end i tura di

jsoita dalla zona di spruzze o separa tale zona, da detto pao-! aaggiof il quale ha altezza maggiore di. quella della fend i-..

U F F I C I O tura di usolta? In tali costruzioni , le correnti atmeafori-i Ing. P. GUAZZO J f BRE VETTI che ohe entrane nel passaggio dalla fenditura di uscita ralijr

? <' . . "" . ' . . >;

lenteranno naturalmente , ed ? pessibile basarsi almeno in par

f E

<1 >;

rt? sulla elevata densit? dai vapori di prsoureor? dsl rivs?j

1 <? ' ' ' . " ~~~ "" " . >1

? \ i

stimante per mantenerli a contatto con un substrato ohe si J

I )|

sposta attraverso l'apparecchiatura? ;

I

In forme di realizzazione particolarmente vantaggiose

. ?

dell 'invenzione, i mezzi di spruzzo sene atti a spruzzare 11

materiale preoursere del rivestimento verso il basso e nella

direzione verso valle. Ci? facilita 1 'omissione del materiale

j ? ? > * <

" ?prec 'ursore del rive -stimento mantenendo contemporaneamente un <. . >- <. >- ..

'flusso generale verso valle nella oamera di rivestimento , al- _

fl6

leuoTZBsuepueo ?? euvppAB e-jfqejepf ??? ? ?puzzoide ??????? I i -?in ??? euepzvsuepuoo ?? eoeppedmp ?po ???3 pp ppq.eS ???,?? pp I j V i _ _ _ _ _ _ . _ ; j o\? CUTI QUBtnpt 8JVpX?0BpJe<Xd .xed pzzra pq. BpABjd OUOB * euopzueAup]

!

ji TT?P euepzBzzppsej pp eq.p,xeje.?d epuempupoede enuoj ? oq.BUqeqns ??? oa.ioo.ied ??? vjdoe pp ?? epuennspappettimp ?jejson -q.?, x ejTsqjnpspp eddoiq. ?zues euopzBxeoepm ?? ejpJOAe; jed eoi -??TJJ? npd IT ? ?Jnpepqooejedde ????. pp ???,? *oq.*.xqeqns ?poouj ????? e ezzruda pp eq.ueS.i08 ?? *?;? ???????, ???? ejopj -edne ?q.era ????? cpeed oopj?os p p zjcnpjc ed?, uri Bq.ueee.xd BBS pt euepespme pp pzzem ???? pp bun ??????? <1 >eq.uemBBopSS?q.u?/i.

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ixns eq.q,e.ip p eppejje un ?JBAV enee s ed pzzra ???? eqo epra uq j I ezzruds pp ?uoz<' >?xx?u ??<'>??????????? pp pzzem pep euopzBoe?! 4??? ?X ?PPXPOBJ <? >? <? >?????????<" >????? BUOpHBJedBAe, X jed<' >edin?V npd pseo epuep ??????? ?seppe ?????<~>?????$???<~ >euopoepme; epuojjuoo up eq.BZZTiide<~ >??????^??? ??? Bp-ioppepBxq. ?? eSurri .ii_vapori--del..-precursore -de-l_riveetime.n_tO? sulle? pareti-O -.sul.

tetto della camera peroh? -oi? porterebbe-spesso a cor-roeion s ,

e vi ?-un rischio che eventuale-ma-teriale condensato possa

poi- gocciolare su un substrato? e - macchiare un rivestimento

ohe. viene formato. .

. ? In -certe forme- preferite di -realizzazione dell 'inven zip?

ne-? almeno.uno.di tali mezzi di-emissione.di gas ?.disposte

in meda da scaricare detto..getto..di_gas.-da mo.nte.rispetto alleasse di scarica del get_to di precursore del rivestimentoe

L 'emissione?di_gas da tal_e_mezzo_favorieoe una eircelazione

favorevole._di correnti..di_gas..nella camera di rivestimento.

_ Preferibilmente.,._sopra la.zona di spruzzo sono previsti

aezzi di risoaldamento per irraggiamento rivolti verso il bpe-J l- F ' '? O so. .Questo _? un modo molto semplice di fornire calore per 1 I ng. P. GUAZZO BRE 1 /E TTI evaporazione della soluzione di rivestimento spruzzata. Tal

Bezzi di. riscaldamento sono anche utili per aumentare la tem?

pera tura ne Ila zona di spruzzo in modo ohe la formazione de

rivestimento possa aLmeno essere iniziata a Una temperatura

superiore , dando benefici nella resa e nella durata del rivb

-Stimante formato , e per impedire condensazione sul tetto de L

la zona di spruzzo . _ _ _

Preferibilmente, sono previsti mezzi per scaldare detti?

passaggio dall'alto? Tali mezzi di riscaldamento sono utili

per aumentare la temperatura nel passaggio in modo che il rpvestimento possa essere finito o condizionato a temperatura

superiore , dando benefioi -nella durezza e durata del rivestim?nto formato , e per impedire condensazione sul soffitto del

passaggio.

i

i

! In certe forme preferite di realizzazione dell 'invenzioi

ne , a monte dell 'asse" di emissione dei mezzi di spruzzo del <!>

! :

precursore-, -Bono previsti- mezzi per soaricare un getto di gas

v?rso il basso in prossimit? di detto asse di emissione , in :

i

m?do -da schermare- -il -materiale- precursore del rivestimento

spruzzato. -Ci? aiuta a impedire il trascinamento -di- qualsiasi

materiale-indesiderato , -per esempio prodotti della r sezionej

-di? rivestimento-, -nella parte posteriore del getto di . preour- :

s?re. ?? ? - - - ? ? ? ? ? . ..

i

: Preferibilmente-, i mezzi -di spruzzo del precursore del !

j U F F I C I O rivestimento comprendono un ugello di spruzzo e mezzi per spo? ^<?>9? P. GUAZZO BRE V? TTI

i

stare ripetutamente tale ugello lungo un percorso trasversale

al percorso del substrato * Ci? favorisce la miscelazione di

f

I

materiale precursore del rivestimento evaporato nell 'atmosfera contenuta nella zona di spruzzo della camera di rivestimento .

Vantaggiosamente ,. .sono.. previsti mezzi, per spostare ripetutamente tali mezzi di emissione .del getto di gas schermante lungo un percorso trasversale a detto percorso del substrato unitamente all 'ugello di spruzzo del precursore del rivestimento. Ci? permette una schermatura efficiente pur introducendo quantit? relativamente picoole di gas schermante ?

In certe forme preferite di realizzazione dell 'invenzio?

ne sono -previsti mezzi per soffiare gas verso l 'alto al di

l?^di ciascun lato del percorso del substrato nella zona di

spruzzo.?- .Tali.. mezzi. di soffiaggio, possono essere usati per j

i fbrmare._B.chermi. di gas contro le pareti laterali della . zona!

di spruzzo della camera di rivestimento , i quali servono pejr

proteggere . tali pareti oontro. gli . effetti corrosivi del matpjr.iale^spruzza.tQ e dei. suoi prodotti di reazione.? Tali soherr

j !

-imi. di -gas ...possono anche impedire al materiale spruzzato , pajrticolarmente quando si spruzzano.. quantit? relatiyamente .pioj-I

cole , _di .passare sottp. il percorso del substrato . ?_?<?>?_sarebj-!

?e; disponibile per formare un rivestimento, indesiderato sulla faccia inferiore di un substrato

U F F I ^ l ^l Preferibilmente? .. all.' estremit? a valle di detta camera; |ng. P. GUAZZO BRE VE TTI

idi. rivestimento ? situata un,a_ cp.ndut tura di s oarieo , che ha]

| i

iUno o pi? ingressi disposti sopra il percorso del substrato!

i <. . **' """ >? <' ' ..>

ied estendentisi attraverso almeno la maggior parte della larghezza di questo* Tale conduttura di scarico ? semplice da

[costruire, ? molto faoile da collocare e permette un 'efficien

Ite aspirazione jdel materiale dal percorso del substrato. L'|

uso di tale conduttura ? particolarmente adatto per far s?

ohe il materiale aspirato viafegi sostanzialmente in direzio**

Ine verso valle fino a quando entra nel condotto, e ci? crea

imene disturbi per la distribuzione di flusso nel passaggio?

L'adozione di questa caratteristica ? molto desiderabile soprattutto quando nella camera si spruzzano quantit? molto

grandi di soluzione di precursore del- rivestimento .

- . Vantaggiosamente: in tale ingresso di s oarioo sopra il

percorso ? prevista una presa^ -di -scarico curva* --Si- ? trovati

che-questa dispos izione- permette un 'aspirazione altamente e?-della

fidente d-i- prodotti / reazione-di rivestimento e di mate-*

riale precursore del rivestimento- non -utilizzato-,- -poich? ta.

nat ertale atmosferico pu? cosi esser fatto fluire pi? regol?rnente-nel oondotto di scarico. - Ci6 d?- benefici pratici molt<j>

importanti , specialmente quando si formano rivestimenti relativamente spessi , e pu? per esempio , provocare la ...formazione!

li ...un rivestimento. .di. ossido di stagno di emissivit? ridotta.

i 1

3i. preferisoe ohe detta presa di scarico sia mobile per re??

j U F F I C I O go.lare_lo._B.paz?o.__libero tra _la_.s.ua.?b.as.e..e... il . percorso. lungo j |pg; p. GUAZZO j Bfit Vt TTI DU?. si sposta, il.? vetro , . per... esempio mediante un montaggio ai

, in modo da ottenere la massima chiusura dell ?estrealta a valle della stazione di rivestimento ? j

1

?

. In. base alle Qondiz.io.ni_ di ..pressione sopra e sotto il i

i

!

substrato nella camera di rivestimento vi PU? . essere .la. , toni*

i.enza che. l 'atmosfera carica di precursore fluisca sotto il

substrato. dove depositer? un rivestimento indesiderato sulla

!facscia. inferiore di questo , In. base alla configurazione di |

i <? ? >' ' ?

I

flusso delle correnti atmosferiche nella camera di rivesti-:

mento e sotto di essa? questo rivestimento indesiderato pu??

jessere .pi? ...o meno regolare, ma cos? sottile da dare Grigi j-|ne a ef Tetti di interferenza, altamente .?grad?voli,, .per esempio

pu?.essere un rivestimento .pi?.o meno regolare-il cui.spessore

diminuisce-verso.-il .centro-del .substrato, o un rivestimento alquanto i?regolare con un..aspetto che secondo alcuni ricorda i segni su una tavola -per backgaramon. Questa tendenza,? impedita in

qualche misura dalla presenza di mezzi di soffiaggio diret? I,

ti verso l'alto ai lati della, zona, di spruzzo, come detto.

In alternativa per? vi pu? ..essere una tendenza di materiale

atmosferico...proveniente, da. sotto il percorso_del substrato

a_fluire verso l?alto e a diluire la concentrazione di vapore di...precursore specialmente ai lati della camera di rivestimento., Ci? ? indesiderabile perche potrebbe portare a unja

insufficiente deposizione,in fase vapore ai margini di un

substrato p a un insuffioiente oondizionamento dei margini UFF<1>" ^ Ing. P. GUAZZO rivestiti di tale substrato, e, di conseguenza, in forme d? BR ? VE TTf realizzazione dell?invenzione particolarmente vantaggi?se,

sono previsti mezzi per impedire flusso di materiale atmer

sferico al di l? dei lati del percorso del substrato e tra

zone vetticalmente sopra e verticalmente sotto quel percorsi

per almeno parte della lunghezza della camera di rivestimento.

Preferibilmente, tali mezzi di inibizione del flusso

I

comprendono dei diaframmi, poich? questi costituiscono un

jmezzo molto semplice per ottenere il risultato voluto. Tali

| j

jdiaframmi possono essere disposti in modo da creare una oa-i

f<. " . ' . .. 1>

{mera di rivestimento sostanzialmente chiusa, in modo che l'j

! :

iatmosfera al suo interno non sia affetta da correnti di gas<1>

! -??- !

: esterno?' Un modo molto s empii oe e preferito' di . ottenere tal|e

jchiusura-sostanziale ? quello di prevedere organi trasportato-I <1>

ri che comprendono rulli che si restringono au ciascun marr-gine del percorso del substrato in modo da delimitare uno

lapazio per dar sede a detti schermi tra.i rulli e i margini

j

[del. percorso del substrato. Ci? oonsente di rivestire l'in?^

[

Itera faccia superiore del substrato.

_ Nei abbiamo fatto riferimento alla presenza di condutture di scarico disposte trasversalmente al percorso del sujb-;strato all'estremit? a valle del .passaggio della camera di j

: !

:rivestimento. Tuttavia la presenza di mezzi per esercitare ;

;forze aspiranti solo in quella posizione pub originare una

U F F <' >* O <:>ooncentrazione pi? elevata di vaporo di precursore del rive-P. GUAZZO<? >BHL Vt TTf stimento lungo il centro del passaggio ohe non sopra i margini del percorso del substrato. Questa ? un'altra possibi?:

le causa di rivestimenti non soddisfacenti sui margini del i

<'>substrato. Per ridurre questa tendenza e aumentare la larghezza utile rivestita del substrato, si preferisce in modo;

spedale che siano previsti mezzi per generare forze di a?

spirazione in condotti di scarico laterali posti in modo

da far fluire materiale atmosferico sopra il percorso del

substrato verso l'esterno allontanandole dal centro di quel:

percorso per almeno una parte di detto passaggio. L'adozione

di questa caratteristica-preferita porta vantaggi ohe si considerano di particolare importanza. Essa favorisco una buona

diffusione dell'atmosfera carica -di precursore sull'intera

-larghezza- del substrato ,. aumentando cosi la larghezza rivesti--_ta <?>ben finita, del substrato.. Essa aiuta anche, a rimuovere ma-.'[ieriale. precursore del rivestimento in.. eccesso e prodotti d?;li.a reazione di rivestimento in una fase prima che raggiungano, l?estremit? del. passaggio ^ riducendo .cos? il rischio di

.corrosione delle pareti di quel passaggio. Inoltre, permette

J.a rimozione ,di. prodotti della .reazione di rivestimento e di

?

.materiale- .precursore del. rivestimento ..in e eoe oso. ohe potrebbe-..pe restare sul riyestimento macchiandolo.. Ancora, se c'? quali

...?he.tendenza da_ parte dell .'atmosfera proveniente, da sotto il

percorse del substrato a fluire verso l'alto al di l? dei suoi

!

[t

lati, questa tendenza ? ostacolata per tutta la zona di aspi-| UFF' - ? razione Terse l 'esterno ?.Questi vantaggi sono aumentati , <?>?> Ing. P. GUAZZO ; BRE VE TTI come si preferisce, tale condotto di scarico laterale ? di? \

1j <? 1 >jjposto in modo da aspirare detto materiale atmosferico verso

l 'esterno in una zona che si estende sostanzialmente lungo

l'intero passaggio.

L _J ?* certe preferite di realizzazione dell 'invenzione, detto condotto di scarico laterale presenta ingressi posti sotto il livella^ di detto peroorso. Ci? ? vantaggioso perch? facilita 1 'oeeervazione visiva delle condizioni nel paesaggio attraverso portelli che possano essere previsti nelle

sue pareti laterali e, nell 'uso, facilita la finitura del rivestimento mantenendo uno strato di densi vapori di procure??

? .del rivestimento in basse, contro la faccia del substrato

he viene rivestita?

Uns causa di difetti in un rivestimento formato per pir

rolisi ? data da particelle di materiale estranee ohe vengo 7-.aJL.lnP.prperate nel. riye_stimento.. durante la sua formazione*

?B '. ohiare che nel corse, dell 'operazione di rivestimento , la

!

icamera di rivestimento si carica di materiale precursore del

| I

j .!

jriyeetimento inutilizzato e di prodotti della reazione di :r-i

vestimento, compresi prodotti di reazione intermedi. Si ? j

notate ohe questi e altri agenti inquinanti come polvere (le

stesso materiale precursore del rivestimento ? considerato

Un agente inquinante dovunque esso puh venire a contatto co

. . . I

il vetro caldo fuori dalla oamera di rivestimento) tendono j UFFr <1>'<1 >Ing. P. GUAZZO ia diffondersi verso monte dalla camera in cui il materiale | BRE VE TTl Ij

precursore del rivestimento viene scaricato,, per quante pio?

I j

cola sia reso l'ingresso attraverso cui il vetro entra nell^i

! ?

I

damer?,, e in effetti tali agenti inquinanti sono atti a vep-ire a contatto con il votre prima che raggiunga la regione

di rivestimento e a lasciare depositi spuri sul substrato !

I

c<.>

he<'. >;

rimangon<.>

o li p<.>

e<.>

r essere incorporat<:.>

i n<. >.

el rivestiment<. >j

o 007

!<. . . >i

me un difetto, per esempio all 'interfaccia rivestimento/vetio

<: >i

! ? j

e nello spessore del rivestimento?

| Vantaggiosamente, sono previsti mozzi per scaricare gas

\\V> nell'ambiente del substrato in modo da fermare una Sorrento! \

Ks'? H Continua ohe soerre nella direzione verse valle sotto ogni I

.<?>a -42<'>5S

marginerei peroorsedel substrato a j.lunge almeno parte dei

tratto di parcarea occupate da detta ormer? di rivestimento.

Sorprendentemente? ai ? trovate ohe l'usa di apparecchiature oemprandanti questa earattarlatioa preferita parta a

una-significativa ripulitura dell'attuaafera ohe sarebbe a

contatta con il vetro prima del sua ingressa nella camera d? rivestimento, cosicch? vi ? una considerevole riduzione nella quantit? di agenti inquinanti disponibili in quella zana

por fermare dapssiti spuri sul vetro prima dal rivestimento.

_ Una..passibile.spiegazione dal fenomeno ? la.seguente.

A monta della,camera.di rivestimento vi saranno impianti per riscaldare il substrato di vetro, o per formare effe[t-I

!

tivamente un substrato di.vetro caldo, e a valle della camef-U F F I C I O ra di.rivestimento vi saranno abitualmente,mezzi, per esemr- P. GUAZZO BRL vt I Tl pio Un forno di ricottura, c?e psrmettOnCrun raffreddamento

.controllato del substrato rivestito. In tali costruzioni vi

pu&_essere.una corrente di ritorno di materiale atmosferica

.ohe.e.oqrre..in direzione verso monte sotto il percorso del

substrato. P?iph? questa corrente di ritorno fluisse verso

monte, pu? tendere a sollevarsi sopra il percorso del substrato, cosicch? eventuali agenti inquinanti trascinati possonp

depositarsi sul substrato formando cosi difetti incorporati

nel rivestimento.

L'uso di apparecchiature ohe presentano questa caratteristica preferita dell'invenzione d? anohe certi vantaggi

molta importanti per ridurre rivestimenti-indesiderati della

superficie inferiore e per quanto riguarda la qualit? del rivestimento formato.

Questi vantaggi sono esaltati quando, come si preferisce,

? mezzi per scaricare gas per formare tale corrente sotto il

livello,del peroorso sono disposti in modo da scaricare gas

. _per formare tale oorrente sull'intera larghezza del peroorso

_ _ _ del_sube.trato?. . . . . .

_ Preferibilmente, sono previsti mezzi per preriscaldare ...._ _il_gaft_.da?s.oaricare in modo da formare tale corrente o tali.

correnti sotto il substrato per esempio oon una temperatura

.compresa.entro 50?C d? differenza rispetto alla temperatura

inedia del substrato immediatamente prima del rivestimento, F F <' *">?

Ing. P. GUAZZO in modo da ridurre ogni effetto ohe l'iniezione di tale gas BhtVtJTI possa avere sulla temperatura del substrato e/o dell'atmosfera nella regione di rivestimento.

In forme specialmente preferite di realizzazione dell'invenzione, sopra il peroorso del substrato ? prevista una parete di barriera che si estende per l'intera larghezza dell 'estremit? a valle di detta camera di rivestimento e la chiude sostanzialmente. Tale parete di barriera pu? essere oostialmeno in parte

tuita per esempio/da detta presa d? scarico, se questa ?

presente. Questo ? un modo molto semplice per garantire ohe

cambiamenti nelle condizioni immediatamente a valle dell'estremit? della camera di rivestimento non abbiano effetti di

retti Bulle condizioni nella camera di rivestimento e vice?

Tersa.

|.. .In forme di realizzazione dell'invenzione particolarmentIe preferite, detta stazione di rivestimento ? posta tra l'ui

^oita da. un impianto per la fornmzione del nastro e 1 'ingreso i?7 un forno di ricottura. Facendo cosi, si trova che il vej

tro pu? raggiungere la stazione di rivestimento a una temperatura che ? quella necessaria, o ? prossima a quella necessar?ia, perch? le reazioni di rivestimento per pirolisi abbiano

j

lu?go. Di conseguenzaj l'adozione di questa caratteristica

ijlimina la necessit? di ulteriori apparecchiature di risoal?

i

lamento come sarebbe necessario per innalzare la temperatura

del vetro da rivestire dalla temperatura ambiente. E' anohe

|

Importante che il rivestimento avvenga in una camera ohe ? Ing. R GUAZZO fl?? VETTl fisicamente distinta dall 'impianto di formazione del nastro

ia un lato e dal forno di ricottura dall 'altro. Se non ci

fosse tale distinzione , e nelle proposte precedentemente noi

te in questo campo ? comune che il rivestimento avvenga nel?

i

la lunghezza del forno di ricottura, allora le condizioni atmosferiche nella camera di rivestimento potrebbero essere disturbate da correnti di gas che scorrono dal forno di ricottura e dall'impianto di formazione del nastro - tali correnti spesso trascinano polvere e altri agenti inquinanti ohe

potrebbero venire incorporati nel rivestimento come difetti -?. - -- .

? anche vi sarebbe il rischio ohe la distribuzione di corren?

-??

ti atmosferiche nel forno venga disturbata portando cos? a

condizioni di ricottura meno -favorevoli. _ .

In certe forme preferite di realizzazione dell'invenzi?ne,

sono previsti mezzi.per far scorrere gas attraverso una fenditu-I

ra di ingresso del substrato in detta camera, da mo.nte. rispeItto

alla-fenditura, e per preriscaldare,tale gas, e vantaggiosasente i.mezzi ohe causano tale ingresso di gas,..e/o la forma della

?

fenditura di ingresso, sono tali da originare una portata diflusso di tale gas maggiore sui margini del percorso del substr|ato

!

ohe s.ul-fluo centro. L'uso di apparecchiature incorporanti ujna di

queste caratteristiche^o entrambe ? importante per favorire un

flusso generale verso valle del materiale atmosferico nella carne-|

ra di rivestimento e per condizionare l'atmosfera nella zona dove

il materiale di rivestimento si deposita inizialmente sul substrato. Per esempio, pu? compensare almeno parzialmente il raffreddai

mento dell'atmosfera nella camera di rivestimento dovuto aliconj 'T F -'? tatto con le pareti laterali di questa. | Ing. P. GUAZZO BREVETTI

Un.Vapparecchiatura secondo, la presente invenzione pu?

i i

anche vantaggiosamente incorporare una o pi? caratteristiche

(?ell 'apparecchiatura descritta nella domanda di brevetto

italiana depositata in pari data che rivendica la. priorit? della

domanda di brevetto britannico n. 8531425 depositata il 20 j

j n Dicembre 1985, domanda che descrive e rivendica un'apparecchia-:

? tura per formare per pirolisi un rivestimento di composto m?-?

tallico su una faccia superiore di un substrato di vetro cal- Ai-~ 2A

lo_in- forma _di lastra o nastro ,, comprendente ..organ i traspor

tatori per trasportare detto substrato lungo un peroorso in

ina direzione verso valle , una struttura a tetto che defin?^

3ce una camera di rivestimento che si apre verso il basso siji

ietto peroorso , e mezzi per scaricare materiale . .precursore

del rivestimento in detta camera , caratterizzata dal fatto

ohe-a monte- di detta camera di rivestimento vi ? un 'an tica?

mera -che- comunica con la camera di rivestimento tramite una

fenditura di ingresso ohe ?. delimitata in parte dal percorsi

del substrato e attraverso cui si pu? far fluire gas nella

camera di. rivestimento in modo da formare (quando l 'apparec<1>?

chiatura_?. in uso) uno strato di copertura che copre la faojcia superiore del substrato lungo una prima parte della lun<1>*

ghezza di .detta camera , e dal fatto che sono previsti mezzi

per preriscaldare in modo controllabile il gas che forma flet U F F I C I O Ing. P. GUAZZO to strato di copertura? BfiE Vi: TTi ?a presente inven zione si estende a un procedimento per

formare... per ..pirolisi un rivestimento di un .oomposto metallico su. una faccia superiore di un substrato di vetro riscaldkto , procedimento in cui si fa opzionalmente , ma preferibilmente ,

uso di un ^apparecchiatura come qui definita. |

| ?

Di conseguenza, la presente invenzione fornisce anche j

un procedimento per formare per pirolisi un rivestimento di

jun composto metallico su una faccia superiore di un substra*-to di vetro oaldo sotto forma di. lastra o nastro. durante il

suo trasporto in una direzione verso valle lungo un percorso

attraverso una camera di rivestimento in oui si spruzza ver?*

so il basso e verso il substrato almeno un getto di soluzione.di un.precursore del rivestimento, caratterizzato dal fatsi scalda

ito chet/una zona di spruzzo di detta oatnera di rivestimento

per far evaporare parte del materiale precursore del rivesti?

falento prima cheesso raggiunga il substrato, per caricare 1*

atmosfera in tale zona con.materiale precursore del rivestimento vaporizzato? si spruzza la soluzione con sufficiente I

energia da garantire un positivo impatto del materiale precur-Bore del rivestimento residuo oontro il substrato per iniziare il rivestimento di detta faccia del substrato; e si fa

fluire atmosfera caricata di materiale precursore del rive?

stimento in fase vapore in direzione verso valle da detta zo-U F F I <' <1 >^ na di spruzzo lungo la faccia del substrato rivestita e a con-P. GUAZZO Bf?t Vt TTI tatto _oon_essa per un tempo di contatto di almeno 10 secondi,

dopo di ohe il materiale residuo di detta corrente caricata

con precursore ? allontanato dal substrato.

Tale procedimento ? utile per la formazione di rivestimenti ohe presentano unanebulosit? bassa e uniformemente bassa. Ci? ? particolarmente sorprendente perche finora si ? ritenuto necessario allontanare dal substrato i vapori di precursore del rivestimento e di prodotti di reazione il pi? rapidamente possibile - nei procedimenti gi? noti si usano tempi di contatto fra 2 e 5 seoondi - proprio per ridurre il ri--617- .

echio di deposizioni spurie da quei .vapori che-. porterebbero :

i

j

? un aumento, della nebulosit ? .

i

j

i Le ragioni per cui l 'uso di tale procedimento Sabba

I

favorire migliori livelli qualitativi del rivestimento non

j

?ono completamente chiare. Una possibile spiegazione ? che

^ma.-percentuale notevole dello spessore..del rivestimento e

j

formata a partire da materiale precursore in fase vapore men-

tre, il substrato si sposta attraverso la parte di passaggio

j

&ella camera di rivestimento. E * noto che le tecniche di de?

;?o9izione in fase vapore favoriscono una struttura cristalli-

na, fine e uniforme nel rivestimento. Ma ci? non spiega per?

j *

j?h? l 'uso di un procedimento secondo l 'invenzione debba

i

dare come.risultato la formazione di un rivestimento che ha

j<">

uno spessore molto pi? regolare di quello che si pu? ottene?

7 <.. . " .. . . . >: UF p<1 >r-?o ?

te con l 'uso di procedimenti ponven zionali di deposizione in Ing. P. TJAZZO ; BBE VL TT I fas e vapore. Un 'altra possibile spiegazione ? che , sebbene

i

!

solo una piccola parte dello spessore del rivestimento possa

I

Resero attribuita a deposizione in fase vapore, vi ? un con?

i

dizionamento della massa principale appena formata del rivesti-? . ...

mento durante tale tempo di contatto di almeno 10 secondi in

cui il substrato ? esposto al vapore del precursore del ri-

vestimento, cosicch? la struttura cristallina del rivestimen-

to pu? essere modificata in un modo che ? favorevole per la

qualit? del rivestimento, e in particolare quell'esposizione

del rivestimento appena formato al vapore del precursore per-I -m

-di- -riempire ?????? pori nel rivestimento dando

cos? origine -a un rivestimento -pi? Auro , pi? compatto e pi?

resistente alle condizioni atmosferiche?

-E ' possibile che parte della spiegazione sia ohe una !

I

struttura cristallina regola re favorevole del rivestimento |

all-'-interfaccia rivestimento/vetro sia favorita dal contatto

i

di materiale precursore del rivestimento con il vetro se ili

materiale precursore ? privo . di solvente o ne contiene solo|

una piccola quantit?-? Si ritiene ohe la struttura del rivestimento in corrispondenza. di quell 'interfaccia abbia una

forte influenza sul modo, in cui viene formato il resto delljo

spessore del rivestimento. j

i

. . E. ' anche possibile che la. .spiegazione risieda in parte;

! U F F I C I O in un effetto di raffreddamento ridotto sul vetro nella zona P. GUAZZO BFtE VE TTI in ..oui .avviene, la deposizione del rivestimento , in modo chel

r

le reazioni che si verificano mentre si forma l 'intero spes?

sere del riveetimento possano avvenire a una temperatura su?

[periore e pi? prossima all 'uniformit?? Si ritiene ohe ci?

i <?>

i

[sia favorevole per la deposizione di un rivestimento di strt?tj

[tura uniforme, e inoltre ci? tende ad aumentare l? resa in

i

[ termini di rivestimene formato a partire da una data quanti?

i

I t?.. di materiale precursore del rivestimento ? Si deve anche j

[ rnotare qui che la velocit? a cui avvengono le reazioni Ai ! <? ">

[rivestimento^ aumenta oon la temperatura, e anche che un ri-<1>

i

[vestimento, formato a temperatura superiore in generale ade?

p-r?.-pi? fortemente al vetro di uno della stessa. composizione per? formato a temperatura inferiore, e.quindi ? pi? durevole. Inoltre, tale effetto di raffreddamento ridotto fa e?

ohe vi sia un minor rischio di sollecitazioni termiche inde-j?

uiderabili nel vetro. Tale rischio pu? essere assai reale

quando sul vetro urtano grandi quantit? di soluzione liquida

di materiale precursore del rivestimento,?come pu? essere riiii

chiesto in certe tecniche di rivestimento a spruzzo della t^c-]

11fca._nPta,. speotalmente quando si desidera formare rivestiitenti spessi su un substrato in movimento rapido.

Un'altra teoria ohe pu? essere valida e spiegare in

<?>?parte i risultati ? che spruzzando il materiale precursore

?ttraverso l'ambiente ohe promuove l'evaporazione nella carn?-U F F I C I O

i?a ohe si apre verso il basso si ha come conseguenza l'effet- Ing. P. GUAZZO i | BRE VE. TTI to che la zona in oui il materiale precursore spruzzato ent^a

. .

!

per la prima volta a contatto con il vetro ? dominata dall'

afflusso continuo di nuovo reagente, ed ? tenuta libera o r?i !

dativamente libera da altri materiali. j Preferibilmente, detta camera di rivestimento ha una

<. ' >i

Lunghezza ohe ? legata alla velocit? di trasporto del substy <?>aj

Ito in modo tale ohe ogni aumento di lunghezza del substrato

rimane esposto al vapore di precursore del rivestimento peri

i

almeno venti secondi. Ci? facilita la formazione di rivesti?

i

senti spessi, per esempio quelli con spessore superiore a

500 rtm,-come pu? essere -richiesto per-scopi d? schermatura

rie! confronti di radiazioni infrarosse, e noi abbiamo trovato

piuttosto sorprendentemente ohe non vi ? ancora alcun effetto contrario sulla qual it? del rivestimento formato? Si note-I

r? che nei oasi in cui .il rivestimento ? depositato -tra l 'uscita di un impianto di formazione del naetro di vetro e un forho di ricottura? la velocit? di avanzamento del nastro sar?

governata dalla velocit? a cui il nastro viene formato) e che

questa varier? seoondo la capacit? e il tipo di impianto d?

formazione del nastro, per esempio a seconda ohe questo sia

una macchina di tiratura del vetro o un impianto di produzio^?

he di vetro float, e anche in base allo spessore del vetro

che viene prodotto. Tuttavia anche le pi? elevate velocit?

del naetro di vetro sono abitualmente inferiori a 12 m al mi-U F F I C I O nuto , e di conseguenza un tempo di esposizione di 20 s pu? a- Ing. P. GUAZZO Bht Vt TTl bitualmente essere garantito se detta stazione di rivestimento ha una lunghezza di almeno 5 metri?

In forme di realizzazione dell'invenzione preferite in

modo speciale, detta soluzione di precursore del rivestimento ? spruzzata da una sorgente ohe si trova almeno 75 om, e preferibilmente almeno t,2 m, sopra detta faccia del substra-; tempo

to? Ci? dar? unabbondante /per l?evaporazione di quelle goccioline prima ohe esse arrivino sul substrato, e permette anche di ridurre l'intensit?,con cui il getto residuo di goccioline viene a oontatto con la superficie del substrato? In effetti pure questa caratteristica rappresenta uno scostamento

alquanto radicale dalle proposte precedentemente note? In

tecniche di rivestimento a spruzzi note in precedenza, il !

i

nateriale precursore del riveetimento ? spruzzato da molto :

pi? vioino al substrato , e un 'altezza dell 'ugello di spruzzo

i

di 30 om o meno ? comune? ;

In forme di realizzazione dell 'invenzione pertico larraen I"*

te vantaggiose, l'atmosfera carica di vapore ? allontanata :

dalla zona di spruzzo in una parte a passaggio a valle nella

samara di rivestimento, tramite Una fenditura di uscita di a}.-[tezza inferiore a quella della zona di spruzzo. Ci? aiuta aj

I . I

jgarantire ohe l 'atmosfera carica di vapore sia portata in b?s-BO contro il substrato in modo concentrato , favorendo cosi;

!

la. resa, del rivestimento?

I . !

! . Preferibilmente, l'altezza di detta fenditura di uscita

? <1 >f-<' >F a i o i i jn

? al massimo met? dell'altezza tra la sorgente di spruzzo ei g. p. GUAZZO ! BRE VETTI detta fascia del substrato? L'adozione di questa caratteri?

i

!

letica lascia almeno la met? superiore della zona di spruzzo

1

iper la circolazione di correnti fi gas , e quella parte supe?~

i !

riore della camera pu? formare un serbatoio di vapore a denr

! <. . . >. <. . . >|

isit? elevata ohe entra continuamente nella fenditura.

'Preferibilmente , detto flusso verso valle di gas carico

di precursore avviene in un passaggio scaldato. Questa carat-[teristioa porta numerosi vantaggi importanti. Si impedisce

!

I

la oondensazione sul tetto del passaggio di materiale precur-I

so re del riveetimento e/o di prodotti di reazione che potreb-

!

ero poi gocciolare in basso e macchiare il substrato , e si

pantiene il materiale precursore del.-rivestimento in fase v^?

j elevata j

poro. Si pu? mantenere una temperatura/nel passaggio sosti? j

i

tuendo almeno parte dell 'energia termica asportata dal sub? j

|

Strato, dalle reazioni di rivestimento, cosicch? qualsiasi ul-

<?>teriore .reazione di rivestimento e condizionamento del rive?

stimento gi? formato *pu? . procedere a temperatura pi? eie

j

Jyata, specialmente verso l'estremit? a valle del passaggio?!

| i

jCi? favorisce a sua volta una struttura cristallina uniforme

{ j

nel rivestimento, e tende arohe ad aumentare la capacit? di!

jdurata e la durezza di quel rivestimento.

! di realizzazione

! In forme/particolarmente vantaggiose dell 'invenzione,

! <'>

la soluzione di precursore del rivestimento e spruzzata very

so il basso e verso valle. Ci? favorisce il flusso del mate ?J f- F ~ ' O Ing. P. GUAZZO riale spruzzato verso l'estremit? a valle della camera di ri BfiE VE TTI

vestimento in cui esso ? spruzzato e, allo stesso tempo, ri?

I<. >.

Ispetto allo spruzzo verticale dalla stessa altezza?allunga

jla traiettoria di quel getto verso il substrato dando cosi

jpi? tempo per l'evaporazione della soluzione spruzzata,

j Preferibilmente, in detta zona di spruzzo si introduco?

r

|no<.>

materiale prec<.>

ursore del rivestimento e almeno un getto <!>

idi gas in modo ohe le loro traiettorie si intersechino in taj

Ile zona. Si trova che ci? ? particolarmente vantaggioso per'

?I

Igenerare forze di miscelazione nella zona di spruzzo assicu?

rando cos? che il vapore di precursore del rivestimento ?ia

?

uniformemente distribuito nell 'atmosfera che fluisce a j

I f

ralle In- tale zona lungo la faccia superiore del substrato ?

i contatto oon questa? !

i Vantaggiosamente, s? scarica almeno tale getto di gas

da un 'apertura posta nella met? superiore dell 'altezza tra

La sorgente di spruzzo e detta faccia del substrato. Si ?

j

trovato che questa ? la soluzione pi? efficace per favorire;

tale miscelazione oon il minimo disturbo per la traiettoria!

li quel materiale vicino al substrato, favorendo cos? la fo?-

\

inazione_di un rivestimento di qualit? elevata? <1>

Sarebbe possibile fornire calore al gas scaricato nella

i

camera dopo che esso ? entrato nella camera ma preferibilmen-

te almeno tale getto di gas ? di .gas prerisoaldato , poich? \

c ? o s??. riduce o elimina ogni effetto di raffreddamento dovuto j ng. p GUAZZO Bht Vi. T TJ all 'emissione di gas.

I

In forme di realizzazione dell 'invenzione preferite in !

nodo speciale , vi ? almeno detto getto di gas ohe ? scarica?

?

to dal lato a monte della traiettoria della soluzione di pre-J

sursore d el rivestimento spruzzata. Questo promuove- una fa?

vorevole circolazione dell 'atmosfera nella zona di spruzzo !

Se tende a ridurre la turbolenza indesiderata. ?! '

!

I ! Vantaggiosamente si fornisce calore a detta zona di

i

spruzzo almeno in parte dirigendo calore di irraggiamento ver-

so il basso da sopra il percorso della soluzione di precur-

sore del rivestimento spruzzata. Ci? aiuta a far evaporare

-08?

la soluzione di precursoredel rivestimento spruzzata., specialmente nelle regioni superiori di tale traiettoria, e sul

auo lato a valle se la soluzione ? spruzzata v?rso valle corine detto.

In certe forme preferite di realizzazione dell'invenzi?ne., sul lato a monte tei.getto di materiale precursore del

rivestimento, tale-getto.,?.schermato da un getto di gas che

<'>? scaricato.,in mo.do_..continuo verso,il basso verso il substrato in_prossimit? didetto getto spruzzato. Ci? aiuta a impe-.dir.e_.il Jtrasciname.n.tp...?i_q.ualsiaB? materiale indesiderato, ;

_per. esempio prodotti della reazione di rivestimento,, nella

parte posteriore del getto di precursore. La presenza di tale materiale ? particolarmente svantaggiosa in tale zona perche <?>

pu? portare alla formazione di difetti in corrispondenza dell'interfaccia substrato/riveetimento. Ing.p ? ., ?/?? BhL Vt TT! In c?rte forme di realizzazione dell'invenzione preferite in modo speciale, detta soluzione di materiale precursore del rivestimento e spruzzata verso il basso verso la

4.

faccia del substrato come un getto di goccioline ohe viene

ripetutamente spostato trasversalmente al percorso del substrato. Ci? favorisce la miscelazione del materiale precursore del rivestimentoevaporato nell'atmosfera contenuta nella zona di spruzzo della camera di rivestimento.

Vantaggiosamente, detto getto di gas schermante ? spostato ripetutamente trasversalmente a detto peroorso in tan~

j| ii

!I<' >!I

dem. con il getto di materiale. precursore del rivestimenti) ?

] !

! !

!Ci? consente una schermatura molto efficace per una data poli?

? i

itata di introduzione di gas . !

J In certe forme preferite di r ealizzazione dell ?invenzipi !

|ne si soffia gas verso l'alto, al di l? di ciascun lato del.

!

Jper.corso del substrato nella zona di spruzzo . Tale gas pu? ;

j i

jformare ripari che servono a proteggere le pareti laterali !

I ;

! . ;

Ideila zona di spruzzo della camera di rivestimento contro

i!

I i

igli effetti corrosivi del materiale spruzzato e dei suoi pr?-| <1>

. jdotti di reazione. Tali ripari di gas possono anohe impedire

I ;

jal -materiale spruzzato, particolarmente quando si spruzzano)

! ;

'quantit? relativamente . piccole , di passare sotto il percorso

i ?

? ;

_ |del. substrato, dove -Sarebbe, disponibile, per formare, un rive-) C I O i . j Ing. P ? -,???? !stimento. indesiderato .sulla superficie inferiore di un sub-) BHL VtTTI !

[strato.. Questo rivestimento indesiderato pu? essere pi? o m?j |

ino regolare, ma cosi sottile da dar origine a effetti di inp

? )

jterferenza altamente obiettabilij per esempio esso pu? esser

i :

ire un riyestimeri?0 pi?. o meno regolare il cui spessore dimip

jnuisce verso il centro del substrato, o pu? essere un rive?;

? I

i

! <? >I

? is"t .imen --t ?o ? alqu -ant ? -o irregol"a"re oo ' n un andam " ento ohe seco? ndo ali? <* >"

)oun;i ricorda i segni su una tavola da baokgammon.

In alternativa vi pu? essere una tendenza di materiale)

iatmosferioo proveniente da sottp il substrato a scorrere ver-

)BO l 'alto e a diluire la concentrazione del vapore di precuir?

| so re specialmente ai lati .della .camera di. rivestimento . Que?

?2>

- sto ? indesiderabile poich? pu? portare a un-'ir.sufficiente

deposizione in fase vapore sui margini di un substrato o a

i

I

un condizionamento insufficiente dei margini rivestiti di |

tale substrato^ e d? conseguenza?in forme di realizzazione !

j particolarmente Vantaggiose deli'invenzione, per almeno una!

i i

i !

[parte della lunghezza della carniera di rivestimento si impe??

|

idisce il flusso di materiale atmosferico al di l? dei bordij

| !

laterali del substrato,e tra zone poste verticalmente sopra!

e verticalmente sotto il substrato.

|

! In.forme di realizzazione specialmente preferite dell;'

I :

[invenzione? si generano forze di aspirazione in condotti di;

?

;

[scarico laterali disposti in modo da far s? che il materiale

_ [atmosferico sopra il substrato fluisca verso l'esterno,allon-tanandosi dalla parte centrale del percorso del substrato,

i <: >iny. r- <;>u?zzo BHEVETTI iP.er .almeno una. parte della lunghezza di detta camera di rive?

jstimento. L'adozione, di questa caratteristica preferita d?

vantaggi che sono considerati di particolare importanza. Essa favorisca una buona diffusione dell'atmosfera carica di

|<. . >. ;

jpreoursore sull'intera larghezza del substrato, aumentando ;

[cos? la larghezza rivestita ben finita del substrato. Inoltre per-mette .una pi? tempestiva rimozione di prodotti della reazione

idi rivestimento e di materiale precursore del rivestimento [

jin eccesso che potrebbero posarsi sul rivestimento maochian*

dolo. Aiuta anche a rimuovere materiale preoursore del ri?

vestimento in eccesso e prodotti della reazione di rivesti-"

mento in uno stadio prima che . essi raggiungano ! 'estremit?

?i tale passaggio, riducendo cosi il rischio di corrosione

I

!

delle sue pareti. Ancora , se l 'atmosfera proveniente da sot?

io il .percorso del substrato tende a fluire verso l 'alto al j

i

!

di l? dei suoi lati, questo viene impedito nella zona di a- j

spirazione verso .l 'esterno . Questi vantaggi sono favoriti se ,

some ..si.-pre ferisce , ..detto materiale atmosferico ? fatto flu-

ire verso JL 'esterno in una zona che si estende -per almeno

La maggior parte e preferibilmente per sostanzialmente tut-

ta la lunghezza di detta camera di rivestimento a valle del?

i

la zona di prima deposizione di materiale di rivestimento sul

substrato. j

In certe v forme preferite di realizzazione dell 'invenzi?-

ne, detto materiale atmosferico ? aspirato verso l ' esterno a un

ivello inferiore a* quello del substrato. Ci? ? vantaggioso ! <? 1 >C l u !ng. <p >GUAZZO perche facilita la finitura del rivestimento mantenendo uno j BhL Vt TTl

I

trato di densi vapori di precursore del rivestimento in basi?

j

so contro la faccia superiore del substrato.

Vantaggiosamente, si scarica del gas nell 'ambiente del

substrato in modo da formare una corrente continua che scor-J

re verso valle sotto ogni margine del substrato e per alme-

no una parte della lunghezza di detta r.camera di rivestimento .

Sorprendentemente , si ? trovato che l 'adozione di que-i

i I

sta caratteristica preferita d? come risultato una signifi- !

I

?

estiva ripulitura dell 'atmosfera ohe verrebbe a contatto co?

i

il vetro prima del suo ingresso nella camera di rivestimento,

cosicch? vi ?.una riduzione considerevole nella quantit? di

agenti inquinanti presenti in tale zona per formare depositi

spuri.sul vetro prima del rivestimento. L'adozione di questa

caratteristica preferita consente,anche certi vantaggi molto

Importanti nel ridurre rivestimenti indesiderati della superficie inferiore, e per quanto riguarda la qualit? del rivestimento formato, _ _

Vantaggiosamente vi ? almeno tale corrente sotto il sub?

Jsirato__che scorre sotto l'intera larghezza del substrato. L'

adozione di questa oaratteristica favorisce la. pulitura del^-1'atmosfera sotto il percorso del substrato in modo altamente efficiente, evitando cos?, depositi iniziali spuri di materiale che ? stato trascinato in correnti di ritorno che scorrono sotto il substrato in direzione verso monte.

Preferibilmente, il gas scaricato per formare tale oor-Ing. P. GUAZZO 'rente o tali correnti sotto il substrato e preriscaldato ? . BRE VETTI una temperatura in un intervallo di 50?C di differenza rispetto alla temperatura media del substrato immediatamente prima

del rivestimento, in modo da ridurre ogni effetto che l'iniezione di tale gas possa avere sulla temperatura del substrato e/o dell'atmosfera nella regione di rivestimento.

In forme di realizzazione dell'invenzione preferite in

modo speciale, la camera di rivestimento ? sostanzialmente

chiusa alla sua estremit? a valle per impedire interscambio

d? -materiale -atmosferico tra -l 'estremit?, a .valle-delia, oamera di rivestimento e una regione, del percorso del substrato

incora pi? a valle. Tale chiusura _pu? . per -esempio e ssere, ,.???

|

tenuta, da una conduttura di scarico., ohe. si estende sull 'inte-!

fa larghezza della camera di rivestimento alla sua estremlt?l.

j

a-valle.- L'adozione di questa caratteristica ha il vantaggi?

-di .evitare -qualsiasi diluizione o. inquinamento -dell 'atmosfe-f

ra- all 'estremit? a valle della .camera. . di.. rivestimento dovuti

i ;

illa _reg?Qne....pi?. a. valla, JB inoltre. imp_e_dis_c.e_ ohe correnti |

-delUatmoB fera, .della -camera . di . rive.s.t imen.t o. .interferiscano | _

j

! wn-qualsiasi ulteriore trattamento Jiel substrato, e depositij

* !

_ no_ulteriore_mat.eri_ale- _indeeideretQ sul. rivestimento . . j _

i

_ In.. forme, di. realizzazione- pari, i eolarmen t e vantaggiose j

^lell '.invenzione , il .substra.to jli vetro ? un nastro di vetro

F F i C i.o caldo appena formato e il rivestimento ? formato dopo ohe ti? _Jng. F <J>. GUAZZO BREVETTI le nastro lascia un impianto Ai ; formazione del nastro e pri-t?

,?>a del suo ingresso in un forao d? ricottura? La camera di

.

rivestimento pu? cosi essere situata in una posizione in ou?

I

il vetro ? comunque a una temperatura appropriata affinch? :

avvengano le reazioni_di rivestimento per pirolisi f cosicch?

! . !

si editano o si riduoon? sostanzialmente ? costi inerenti a un. nuovo riscaldamento del vetro a tale temperatura? E' anche importan**

Ite che il rivestimento avvenga in una camera che ? fisioamen?

i

te distinta dall 'impianto di formazione del nastro da un la--'

. .

i

jfco e dal forno di ricottura dall 'altro. Se non oi fosse tale

distinzione-,-? -nelle proposte -preoed en temente -note in questo

campo -?-comune ohe -il -rivestimento -avvenga nella lunghezza

del- forno-di ricottura, allora- le- condizioni atmosferiche ...

nella -camera di-rivestimento-potrebbero. essere . disturbate

da-correnti di gas oh? scorrono dal -forno . di ricottura e .dajl?

l'impian-to-dl -formazione.. dei-nastro- --tali correnti spessa L . ..

-trascinano -polvere., e altri. agenti, inquinanti che . potrebbero!

-T-enire -in corporati- n.el._rivee.timen-to_ come, difetti, ?..e. vi sarebbe _.an oh e. il rischio che. la -distribuzione di oorrenti atmo s feriche nel . forno, venga d is.turba ta p? riand? eoe l a oond ij~

zioni di. ricottura meno, favorevoli* _ _ _ _

_ In certe forme. d.i realizzazione dell 'invenzione partipp?

larmente nrefe rito si fa fluire gas preriscaldato ve re o

valle, in detta camera di rivestimento a contatto con il sub ?jj . <" >O F F ? C I O strato? L'adozione di questa caratteristica ? importante per Ing. P. GUAZZO ; BRE V?TTI favorire un flusso generale verso valle del materiale atmo?^

i

sferico nella camera di rivestimento ed ? importante per o!on~

|

dizionare l 'atmosfera nella zona dove il materiale di riye~

stimento si deposita prima sul substrato. Per esempio, in |

oertune di tali forme di realizzazione preferite dell ?inved?

zione, tale gas preriscaldato ? fatto entrare in detta carne:-ra di rivestimento oon una portata maggiore sui margini del

j

substrato che non sul centro* Ci? consente una compensazione

?>\<?>

> almeno parziale del raffreddamento dell 'atmosfera nella oa*?

)

> "v.-nera di reazione dovuto al con tati o oon_le Bue paret i_ la t e?

cali-- Invero-,- -la presente- invenzione .pu?? vantaggiosamente. ?a

aere combinata con l'invenzione descritta in detta nostra

domanda_p_aral lela di Brevetto italiana depositata in pari data

i

che Rivendica _ la priorit? della domanda di Brevetto britannicoj

n . 85 31425 depositata il 20 Dicembre 1985 , la quale descrive ? i

rivendica un procedimento di rivestimento per pirolisi in

jui un substrato. di vetro caldo sot to forma di lastra o nastro viaggia in una direzione verso valle sotto una camera

li rivestimento ohe si apre verso il basso verso il subetra?

_ to e in cui si f?rma un rives timentp ? sulla faccia superiore

li detto substrato partendo da materiale precursore del rivoltimi nto , caratterizzato dal fatto che si control la i ' amb i ej r?

be gassoso nelle immediate vicinanze della faccia superiore U F F I C I O Ing. P. GUAZZO del substrato ,a?mBno in. una zona in cui comincia tale format- BRE VE TTI .

dei

sione/ rivestimento , introducendo gas preriscaldato in una

<. . . " ' >. j

?

direzione verso valle in detta camera in modo che esso entri

iella camera a contatto con il substrato e formi uno strato

li copertura che copre il substrato almeno per quella zona.

La presente invenzione e particolarmente adatta per l?

formazione di rivestimenti a velocit? di formazione e-Levate, per esempio a velocit? superiori a 20 ntn/e, come pu?

!

essere per esempio richiesto per formare rivestimenti relativamente spessi, come un rivestimento con Uno spessore tra

di vetro

jOO nm e 1000? pm, su un nastro /appena formato che si sposta

- .-di...parecchi-metri al minuto da una vasca di galleggiamento ?

altro impianto di formazione-di-v-etro piano?

| <:>

{ .Un uso particolarmente importando per un.procedimento

i

. .? (secondo l ?invenzione ? dato dalia-formazione di rivestimenti

; I

? <;>

_ .Ai_ossido?di stagno,utilizzando,cloruro.-stannoso come.materia?

? -_ le_.pre.cursor.e_de.l riv_es.ti mento . ..Rivestimenti d i ossido di sta?

. . gno_, _.ah.e..riducono il potere emissivo nei. .o.On fronti di radia--_ feloni infrarosse di lunghezza d ?.onda elevata, d el 1 ? . s upe r f?T.

!

_ ci di vetro a cui sono anolioatif _sonc> largamenteiusati per.

3

rr~idurre il tras-ferimento di calore da strutture a ve..tri. N.a.-..

_ turalmente questo & solo un esempio degli scopi per cui_il j__

? ?

! ;

_ procedimento pu? essere usato? Come altro esempio, il proce?

I . <:>

dimento pu? essere usato per formare un rivestimento di hi?:

r. <' ? >. . <" " >. <1>

j U F F I i' O<:>

ossido di titanio, o un rivestimento di una miscela di ossiIng. P. GUAZZO BRL? Vi TTI di come una miscela di ossidi di cobalto, ferro e cromo*

!

| Si descriver? ora l?invenzione con maggiori dettagli,

?on riferimento ai disegni schematici allegati di varie for^?

[

ine preferite di r ealizzazione di un ?apparecchiatura secondo -l?invenzione e dando e?e empi di procedimenti specifici secondo l 'invenzione realizzati usando tale apparecchiatura?

Nei disegni , ciascuna delle figura da 1. a_4 -? una vista

laterale in sezione di una forma di realizzazione di apparecchiatura di rivestimento secondo 1 'invenzione , e la figura 5

& Una sezione lungo la linea V - V di fig* 2.

. i _ t . _ _ _

In.-fig.?. 1, .un ?apparecchiatura per formare per pirolisi

_.i m..r ive st imeni o..di_ composto metallico. su una faocia superio-.

._.re.?dl..un -Substrato 1 di vetro caldo. sotto forma di lastra o -r;asirD._co.mpr.ende. organi .trasportatori , , come per. esempio rul-j?. . .

.. JL?_2.| _.|p.er .trasportare tale _subs trato in una direzione . verso j.

!

-. valle -3 . -lungo -un percorso- indioato -anch -esso con il riferii [

j

? niente--?.?- Il percorso. 1 passa attraverso -una stazione di ri? jj

__vestimen-to-4 comprendoni <?>-una struttura a tetto- -5j~ebe defin?<- >-i

__Eoa_una camera-di -rivestimarjio-6 -che . si apre -verso ?il basso j- ? -percorso 1 del !

-Bul^subs trato ,. e un ugello -di spruzzo, schematicamente rappresenta-_ io? in _7-, -per-B-pruzzare-Un - get-to?di?s eduzione ..di? precursore Aek --il vestimento? nella camera- 6, -in- una- direzione 8? verso- il. bas{^-so. _verBo_il substrato-.?? _ _ _ _ . _ _ _

I U F F I C I O

i

. _ LJ.ug.ello. .di s pru z zo. __7. ?_dispo.s.t o in . modo _d a .s.pru zzare . il Ing. P. GUAZZO I . ! fi f- ? Vt T TI .... getto di soluzione di precursore del rivestimento in una ??.?! .

i

-_J3a di spruzzo 9 d ella camera di rive,? t imen t.o.. 6_.da un J.a l.t e zzaj

d1 almeno 7? om sopra il percorso del substrato ? . Ifel la far r._

mia di realizzazione illustrata, l?ugello di spruzzo J. _?_d 1? }.

sp?osto in_^pd.o?.d.a spruzzare materiale precursore. del rivesti^

mento da almeno 1 a, e preferibilmente almeno 1,2 m, sopra j

il percorso del substrato 1 , ed ? di un tipo ben noto in B?.!.

L?ugello ? disposto in modo da spruzzare la so luzio ne ._?i...pre**

cursore del rivestimento nella direzione _8_verscL il_. bas.P.o... velrr.

so i il substrato 1 f e nella direzione verso val.l_e_3_?_ e_ pu?L mup i.-i j ; ]

versi avanti e indie_tro_lungo una- guida. (now-rappreBflv'ta.tq) . .

II - Mw - !

su tutta-la-larghezza-dei percorso-del substrata.- ?

? Sono?previsti-mezzi-di-riscaldamento per.fornire calore

a detta zona di spruzzo? iella-forma di-realizzazione-illu?

strata^?tali-mezzi di riscaldamento-comprendono-riscaldatori

radianti 40 rivolti-verso il basso-disposti nel-soffitto-de!

la-zona di-spruzzo 9? Come-mezzo--di-riaoaldamento?supplemen--tare.? ?-prevista una conduttura-1-1?per scar-ioare-una corren

te_di-gas?prerisoaldato-nella-zona-di-s-pruzzo 9? in direzior.

e tale da-intersecare il.getto spruzzato di materiale precursore del-rivestimento?-La conduttura 11 ha l'apertura di

emissi?ne 12.situata nella met?-.superiore.-de11'altezza com?'

presa tra-1'ugello,disprezzo 7 e il substrato 1.,.ed e di- j

.posta_in-mo.do__da.-Soaricare_.tale?corrente-di-gas^da.monte...ri?_

i UFF ^ <( >o .epetto-alllasse..8.di erniasione._del getto,.di precursore del j |ng_P.GUAZZO - I BREVETTI ..rive?timeniQ-.?L.*apertura_.42_si_e..e.t.ende orizzojitalmen.te par...|.

i

_tu-t_ta_.la Iarghezza_del_pereorso .1 del substrato..e verdical-i

nenie,par_.il terzo,superiore dell.-altezza-delllugello .di spruz-_zo_7 eo-pra.J.1 substrato.,di-.vetro.11 gas.-BOarioa.t.o...dall'orir . _

r

!

_fleio_.12._e-diretto.in&ialmente SDStanzialmen.te._orizzontalmeh-.

t.e?.su tutto .il.percorso .trasversale,del.,gaito-7?di gocci?-.line.*._per_mantenere una.circolazione di gas:nella.,zona.di. j

spruzzo.9?-. . . _..._ _ _ _

!

.Il gas...emesso ?.convenientemente preriscaldato.,_par_.es.am-r

i!

pio a.una..temperatura .media_compr.es.a..nell'intervallo.da 300?C

j

>__500<?>x;.?Uriscaldatori.10 favorisoono-lievaporazione del .sol

venie? dalle- goccioline spruzzate-duran-te .il. loro? percorso .vai?

so-1-1 substrato 1 che pu? allora essere -trascinato nel gas

caldo --emesso-. . . .

- In-una variante -opzionale --di realizzazione , la conduttiji.

ra? 1-1? ?-divisa in due condotti terminanti in - un? apertura su

periore? e_un-'aper-tura. -inferiore -di-uguali dimensioni ohe oo

cupano? la-posizione dell 'apertura - 12-, -cosiooh? -in-. tale zona

si ? possonO B cario ar e.? cor r en t i .. di_gaS- '.a? temperature diverse ,

per? esempio- 300 <?>G.. .e. 500.<?>C *,- a. -livelli-diversi. _ _

_ La .struttura a. tetto 5- -delimita _una_ parte di. passaggio

13-della ?camera d i -rivestimento? 6_.olie-.port a-.a. -Valle .dalla

zona- di_ spruzzo 9 ? conferisce alla .camera di rivestimento

6_una ..lunghe zza totale__d.i .almeno_2_me_tri,__ e_ preferibilmente

una_lunghezza di almeno.._5-J^s_tri._ Nella fo.rma . di realizzazio U F F I C I O Ing. P GUAZZO ne illustrata , la s truttura a tetto. 5- inolude una parete, a BRE VE TTI ponte . 14. sopra il percorso del substrato , la quale si abbas??

sa.. so stanzialmente verticalmente per definire una fend itura

il uscita 15j al ld estremi t? a valle _d ella .gp na_ _d i_ . spruzzo^ eh i ?

separa quella zona, dal passaggio , e il passaggio 13 ha .un 'altezza.. so stanzialmente uguale a quella della zona di spruzzo

9. L 'altezza della ..fend itura di _ uscita _15. ? ..inferiore a. met?

dell'altezza tra l'ugello di spruzzo 7 e il substrato 1.

_ A monte dell 'asse di emissione 8 dell'ugello 7 di spru i?

zo del precursore ? previsto un .ugello per un .getto di gas schematicamente rappresentato in .16, pers.caricare_.un~ge.t_to.

-?>

pii gas verso il.basso_in_prossiiai_t?._ds_lla...c.o,rrent,e_-di pre.curr.

_Sora._iiel_riv:estimerto.in-raodo.da.schermare il materiale pref-Icursore.-del-,rivestimelito_spruzzato. L'ugello 16 per il getto

i

idi gas_^accoppiato all'ugello 7 di spruzzo del rivestimento

modo da

<1>in.?/&postarsi ripetutanente con questo,lungo la guida trasversale..Hn._e_ff.ejfet.Q_principale di questo getto schermante di gas

?_queIlo di impedire il trascinamento di prodotti della rea~

zione di rivestimento e altri agenti inquinariti nella parte;_

posteriore del getto 7 di materiale precursore del rivesti?;

mento mentre questo viaggia versp la superficie non rivestita del substrato 1?_ _ _ _

Lungo il passaggio alto 13 sono disposte ,condutture di

di acarico

?acarioo 17 r 18 , 19 e la conduttura/17 all 'estremit? a valle;

ideila o amer? di rivestimento presenta un imbocco. 20 posto so?

F F <? >o jpra il percorso del substrato 1 ed estendentesi attraverso Ing. P GUAZZO BH ? VL? TTl almeno la maggior parte della sua larghezza. Sono previ?

Isti SiafraQuaJfjoome il diaframma 21 , che sporgono verso l 'irr

temo dalle pareti laterali della camera di rivestimento 6 ;

:per impedire il flusso di materiale atmosferico al di l? del

ilati del peroorso del substrato 1 e tra zone poste verticale-|mente sopra e verticalmente sotto tale peroorso pertutta

Ila lunghezza della zona di spruzzo 9? dove l'atmosfera sar?

pi? ricca di materiale precursore del rivestimento. Quei diaframmi possono essere montati su perni sulle pareti laterali

della carnea..?di. rivestimento 6 e possono essere sopportati p?

-3

u ^da-puntoni- filettati, in modo.- che la. loro. . posizione sia

regolabile .per avere un .gioco minimo, con _ il margine del sub-;

i

j

strato !... _ . _ _ _ _ _ _ _ j .

! [

-.Sb.nQ-._p.revisti mezzi 22 per eoarioare gas nell 'ambiente _J_

!

?el_Bub strato 1 , per formare una corrente continua ohe scorri

i

iella. ..direzione verso valle 3 sotto ogni margine del percor?

I

30 .1 .del. substrato e lungo . al meno. una parte della, lunghezza!

?i tale percorso occupai a i_alla_.Qame ra . di.. rivestimento . 6. i

i

_ I_iaezzi . per scaricare_gae. sottp___il._na.stro comprendono j

?uattro_ camere, in pressione <23 >disposte a coppie . ed estendenti-I

si sostanzialmente per tutta la larghe zza della stazione di |.

<1>

rivestimento _4.*_?fdlla parte superiore di ogni camera trr pressione

23_ |_ prevista una fenditura 24 <">bordata da un 'aletta deflettri?

<.. "" " " . . ' >? .

he__25 _in_mpdp che il gae iniettato attraverso le fenditure 24

sia diretto nella direzione verso valle 3 lungo la s tazione | lng, P . ^???? BHL? VL? TTI di rivestimento 4 ? Le fenditure 24 si estendono per l 'intera

- 1

l?

Lunghezza di o<'>hacuna camera in. pressione 23 attraverso .la staaio-

ie di rivestimento 4? Se al desidera >tali fenditure jpotrebbe?

ro essere sostituite da una pluralit? di aperture distanziaf

iI

te? Come si vede in figi 1? sopra le camere in pressione 23 ? di-? <' 1 >f

Sposta una piastra deflettrice 26 in modo che il gas inietta-

non venga soaricato direttamente contro il substrato 1

Le camere irf.pressione 32 possono essere alimentate con igas preri-

scaldato da entrambi i lati della s tazione di rivestimento ili

i

|per esempio da ^cambiatori di oalore Si pu? usare aria come

gas.scaricato.,...e.,questo pu?..essere...facilmente scaldato-per

.scambio termico,con i.gas di.scarico della fornace.? Preferii

?ilmente..tale..gas ? prer.iscaldato a una temperatura,che non

3i sposta pi? di 50?C dalla temperatura del_substrato quando

luesto__entra nella cameraAi. rivestimento 6._ _ _

Il gas scaricato sotto il substrato 1 pu? essere allori??-tarato dall'ambiente del substrato 1 attraverso condutture!

I

il ^carico opzionali (non rappresentate) aventi uno o pi? im-. |

socchi ohesiep tendono trasversalmente sotto il percorso dpi

<. . >!

substrato_e sono per esempio allineate con_1!imbocco_20 dello

agarico sopra il percorso?_

'_ Sopra il 'j?re 'or 'so^1 del substrato ? prevista una parato <.. . . . . >j

il barriera 27 che ai estende per l 'intera larghezza dell.'sjstremlt? a".valle della camera di rivestimento 6 e sostanziai**

I ' ' P F <I >C I O mente chiude tale estremit? ? . in modo da imped ire sos tar) zialf Jng- P ^ ?,??? BHL vt rr/ mente il flusso di materiale atmosferico dentro q fuori dal-j^

. <' >. <" " >. . . |

la oamera di rivestimento 6 all 'estremit? a valle del passa&-13

La stazione di rivestimento 4 ? posta tra l'uscita da

un impianto di formazione del nastro (non rappresentato) ?

, i

per esempio una vasca di galleggiamento , e l 'ingresso in unj

forno di ricottura 28? !

<'>.?Un- passaggio dall 'impianto di formazione del nastro al?* I HD

>o

?

la oamera di rivestimento 6 presenta un tetto 29 , ? 1 ' estro

mit? a monte della oamera di rivestimento ? determinata da 1/ %

? Una-parete schermante 30-che soende-dal- tetto 2-9- del- paesag*^

,;io lasciando un piccolo -spazio-peroh? -il- substrato 1 passi

nella camera di rivestimento attraverso una fenditura di in*f

grosso 31?

. L'effetto della - parete -sohermant e 30 ? di -limitare il

: flusso. -di- materiale.. atmosferico -da monte nella camera di ri

.Testimen-to. 6-, in. modo ohe le.. condizioni atmosferiche . in tale regione_.poseanO- eeeere -oon.trollate_.pi?. facilmente* .

A-mo.nte_.della_parete . schermante 30_, ..tra questa ? una se

tonda parete, schermante 32, vi .?.un 'anticamera 33 in .cui so?

HO previsti riscaldatori 34 per. preriscaldare qualsiasi .. gas

i ispirato, nella camera di rivestimento 6 tra la parete sci? r-j?

ipante. 1t e il nastro 1. .. . ... .

. E3EMPI0. 1.

Ing. P. G UAZZO .In una ..forma di realizzazione prat?oa specifica dell 'ap BhL Vt. TTl parecchiatura rappresentata in fig* t, la . camera di rivestiment Io 6 ? .larga un po ' pi? di 3 metri ..per dar sede, a nastri di vetro._averLti_.una larghezza fino __a_ 3._matri* .La_.strut.tura a tet-;o 5 Sopra la zona di spruzzo 9.. della, camera di rivestimento

<? poco .pi? di 1 ,5 metri sopra il livello del percorso 1 di

Castro , e_ l 'apertura dell 'ugello 7 di .scarioa delle goccioli

ne ? vicina al livello di tale tetto* L'ugello 7 ? disposto

:Ln modo da Boaricare un getto conico di goccioline con un ar

golo di aemioono di 10? e con asse .8 inclinato di 47? rispet

: LP _al.l_!..o ri zzo ntalg ? l 'ugello _ 16 per il getto di gas ha l'uso i

i ? . i

_ ta. 25?_???-.p?? "?31 bassa ? 7 eia pi? a valle rispetto all'ugello c|i

i !

spruzzo. 7. ed _? disposto oon il suo asse a 60? rispe tto all 'o?

rizzontala* L'apertura 12 di .emissione di gas ? alta 50 om,

?on il livello superiore ..all ' al te zza dell 'ugello 7? La pare?

te. a ponte l 4 all 'estremit? a valle della zona di spruzzo $

I

? separata dall_!ap.er.tura._.t2 di__emiseione della corrente di

?

!

?aa da_una distanza _d.i_2., 8. m. Il paesaggio 13 ha la stessa;

i

.?ltezza_della_zmia_di_epruzzo_..9-^e.-la fenditura, di uscita 15

i

ia unlalte zza di .50 cm sopra ..il..liy.ello. del percorso. del ..ne:

!

s_tro___l..__La.lungbezza di tale passaggio ? di 4 metri. . .

_ L 'apparecchiatura ? progettata particolarmente ..per la

deposizione di rivestimenti di ossido di s tagno partendo da

una soluzione di cloruro stannoso come materiale precursore

del rivestimento*

<? >Ing. K T <?>AZZO Usando tale apparecchiatura, si form? un rivestimento BRE VETTI di ossido di stagno .spesso 750 nm su un nastro di vetro apes-;

so 6 mm. ohe si spostava a una velocit? di 8,5 m/min. Il ve-<l>tro entrava nella, camera di rivestimento a una temperatura !

di 600?C e il precursore del rivestimento usato era una soluzione acquosa di cloruro stannoso contenente bifluoruro d?

ammonio per fornire ioni JL riganti nel rivestimento. Questa

soluzione venne spruzzata dall 'ugello a una portata di 220

l/ora, mentre 1 'ugello veniva mosso avanti e indietro trasversalmente al peroorso del nastro a 22 oidi al minuto.

L'antioamera 33. era sostanzialmente chiusa, e l 'atmosfe-'

r.a._in.._eejLa JVe.nne scaldata c.on.. riscaldatori a resistenza elei-

trioa.?..

_ _3i.a_p_psserp i riscaldatori Radianti sul tetto della zor

?

di_ spruzzo e si scaric? gas attraverso l?apertura 12 a u?

ia_portata di 7000 lim^/min e a una temperatura di 400?G. Sii

3 caric? gas dalle casse in pressione 23 sotto il nastro a una ;

temperatura di 600?C. _ _ _ _ _ _ .. . . j

j

_ Sei funzionamento si trov? che al momento in cui il gei-|

to di materiale precursore del rivestimento spruzzato ragai?n-

jeva il.l_ivel.lp.jd.e.l...nastro? una percentuale so.stanziale delj|_

solvente era evaporata dal getto? lasoiando che goccioline molto

j

aiooole di cloruro s_tannOSo._liq.uLj.dp._e vapore di cloruro :

(

| r

stannoso venissero a contatto con il vetro per dare inizio 1.

1<'>

a!lla formazione del rivestimento. La zona ?? spruzzo sopra!

..IO il nastro si riempi di un'atmosfera circolante carica di var !ng.? P GUAZZO | BRE VETTI pore di cloruro stannoso? e questa venne aspirata attravers? _ _

la fenditura di uscita 15 e nel passaggio 13 da forze di a-'

jgpirazione generate nelle condutture di acarico 17? 18) 19 ? ;

Si trov? che l'atmosfera nella oamera di rivestimento 6 era

sostanzialmente chiara? eccetto in prossimit? del getto di

goccioline? ci? che indioava che sostanzialmente tutto il

ploruro stannoso e il solvente fliori da quel getto erano in

fase vapore? oosiooh?, per la maggior parte della lunghezza

della oamera di rivestimento 6 in cui il vetro era esposto

?i materiale precursore del rivestimento,JL?atmosfera_in_tale

.6 era sostanzialmente libera ..da materiale-in fase lin

_c uida. Naturalmente il pa s s aggio-? 13? con teneva- an ohe pr o d otti

ci..reazione* -Le-farse-g??orate e la-geometria di quei.passagr-..

gio?erano?tali-che.il-materiale,atmosferico,.che.usciva dalla?

fenditura di uscita 15-,rallentava e i vapori di.clorucro sta?-i.oao_-.piutto.B_to.__d.ensi_fc.endevano_.a.fo.rmara,,.uno...strato.,a...conia.t

j;o. con.-il-rivestimento in formazione,per.consentirne il con-.i.zi.o.namento., mentre i_vapor_i?men? .densi,-del..solvente e.i

pr?dotti_de1la reazione_...di._riveatimeni.o tendevano, a fluire

pi? direttamente verso la conduttura_.d_i ecaricp_._.Cpm_e_risul?^

;;.a.to.di_tutto ci?., il rivestimento formato present?. .una

111ruttura. crista11i?a..fine._al1'interfaocia vetro/riyeatimenio che favoriva una.Struttura di rivestlmento uniforme di alra ..qualit?. .? quindi buone qualit? pttiohe , e si ebbe cura di' evitare 1inclusione di prodotti della, reazione di rivestimenj L

U F F M' I O o che avrebbero portato a. difetti. . |

i Ing. P. GUAZZO BRE VETTI

Particolarmente degna di nota era la nebulosit? molto {

<? >. ~ <? ' ' >I

bassa e molto uniforme presentata dal vetro rivestito . !

?

I FICTKE 2 & 5 . !

t

Nelle figure .2 e 5, gli elementi che svolgono funzioni j

Analoghe a quell'1 illustrati in fig. 1 sono stati indicati

. .

i

non gli_stessi numeri di riferimento. i

_ Nella zona di spruzzo all ?estremit? a monte della ca4

) a

mera di rivestimento 6 manca-il condotto di emissione di gas

\<C>

11, ohe per? ? sostituito da una popola di condotti 35 averiji

-aperture-?i. s carico- 3 6. -oh e so.no_rivolte_l 'una._v_erso l.'altra

;?r scaricare gas preriscaldato -da- lati opposti dell 'asse 8

del getto spruzzato di materiale precursore del rivestimento

Al- ?i-sopra del livello- del nastro 1 non e rappresentato- al-;un altro-mezzo di . riscaldamento per la camera . di. riv.est?merj-;o^ Le aperture di scarico 36 si e stendono . per quasi

?ut??. la ^Larghezza della .camera di rivestimento .6 . e sono confinate- nel terzo .superiore, dell.<1 >altezza dell 'ugello di spruiso -7 sopra-il substrato... In_una .variante, le. aperture di scarica 36 avevano, larghezza. .minore ed erano mosse avanti e in"

jlie.tro.- altra verse la. _zon.a..di spruzzo in. tandem con l 'ugello

li spruzzo -7-?.... .

_ Sul lato a valle della zona. di_ spruzzo _9_?._la strutturi

i._tattq_5 .?. inolinata verso il basso e forma poi una parete

rerticale a ponte 14 in cui ? disposto un imbocco a piena l?r-U F F I P I O

jhezza 37 par una conduttura di scarico 38 per 1 'aspirazioni Ing. P. GUAZZO BRE VE TTI li vapori dalla zona di spruzzo per impedire la formazione

il ogni zona stagnante in essa? .

A valle della fenditura di uscita 15 sotto la parete a

e t4 la struttura a tetto 5 continua per definire??. una

parte di passaggio 13 della camera di rivestimento 6, con

la stessa altezza della fenditura di uscita.

Lungo tale passaggio 13 sono previsti mezzi di scarico

3u ciascun lato della camera d i rivestimento sotto il livel-f

lo del percorso 1 del substrato. Questi mezzi di scarico cori?.

i/. :

prendono.una pluralit? di casse di.scarico 39 aperte,verso

l?alto oomunicanti con condotti di scarico laterali 40. Dal-?

la fig. 2 si noter? che quest.e.._casse di scarico 39 si estenj

dono su tutta,la.lunghezza del percorso del substrato occupata

i

dal passaggio 13 e che .in._effe_tti la. cassa di scarico a monte

i ^

?_l_trova_.so.tto la..zona_.d.?--spruz_zo 9? Sono previsti diaframmi

41.che.sporgono verso 1'.alto._e.verso l'interno dalle casse

di scarico e si estendono sotto i margini del. percorso del

substrato e vere o .1<1 >al to t ra i rulli 2__ del traspor t a tp.r e ..

Questa disposizione d? un?efficace.separazione delle..atmosfe-.

re verticalmente sopra e verticalmente sotto il percorso del

?

substrato,lungo...il passaggio._

Per impedire al precursore del rivestimento ed altro maverso il basso

teriale atmosferico di fluire/al.di l? dei lati del percorso

del substrato in una regione pi? a monte della zona di spruz- U F F I C I O Ing.

zo 9, sono previste soffianti 50 par scaricare aria preriscalp. GUAZZO E <y >i r/ data in modo da mantenere un flusso verso l 'alto di gas relativamente pulito contro le pareti laterali, della camera di ;

rivestimento in tale zona. Anche ci? d? un certo grado di protezione di quelle pareti^jontro la corrosione dovuta all 'atmosfera nella camera.

ESEMPIO 2 _

Si us? l'apparecchiatura di fig. 2 per formare un rivestimento dello stesso spessore dell'Esempio 1 usando lo stes-.?o_?fiiteriale._precursore e su un nastro di vetro dello stesso

.spessore . e. .viaggiante alla stessa velocit?. Anche l ?ugello 7

. era__co.mandato come, nell Lesempio ..1 ? .La camera di rivestimento

i

5 . aveva una lunghezza totale di _,7i5 metri. I

_ Il__vetro . entr ava rLella.. .camera. di rivestimento 6 a una j

j

temperatura di 600? C.j e si .scaric? aria preriscaldata a 500?C

__?._?n.a .portata, di 3600 Sia^/ora da ognuna delle aperture di i

i

..IPariea 36. Come risultato ,, la .maggior parte. .del materiale i

? prua za to evapor? durante la sua traiettoria verso il nastr? ,

j

mentre un getto residuo prosegui e urt? con forza contro .11 j

i

I

vetro . . . . . . .. ^ . . [

_ L?aspirazione di materiale atmosferico sotto il livell?

del pe roorso lungo il passaggio tend e a mantenere in basso ui

no strato di atmosfera oarioa di vapori di precursore a con-r

tatto con il nastro per favorire la fin itura .del _ rive stimen ?? <i>.? i_?.<,>e.?P_ir<azi>?ri? venne effettuata per una portata totale di U F F <? >n<* >i o i

P. GUAZZO circa 70,000 aVora a u "n .a tempe " ra 'tura . m .edia di ? ? c-ir - ca 350 -? ?C. i j 5ft? V? T-Tt-_ Anche questo diede risultati eccellenti in termini delf

!La_ qualit? uniformemente alta del rivestimento formato , specialmente per quello jjhe_ riguarda il suo fattore di nebulosit? basso e uniformemente basso .

FIOTBA 3 _ _ _ _

In figura 3 , gli elementi che hanno funzioni analoghe a

i <. . . . ? T">

quelli illustrati nelle figure 1 e 2 sono di nuovo stati in?

?

dicati con gli stessi numeri di riferimento .

L zona di spruzzo 9 ha forma slmile a quella rappresen?

tata _in fig. . 1 ,per? in fig. 3 i .mezzi .per. introdurre gas preriscaldato- in- quel la _zo.na -comprendono una ..oon.dut.tura .di. ernia- .

. siane, -^..-terminante. .in una__pluralit? di, aperture ..di is.carica

?el _t.e.tto_.5-.d.ella _oamera. d.i rivestimento , distribuite sull^

.maggior parte d eli 'area di . questo. La guida dell 'ugello di

_ ipruzzo .7 oorre lungo _una. parete .terminale, a . monte. 43 della

jam era_ di jrivestimento ?

_ Sotto quella paiete .terminale a. monte 431 la parete schermante 3j0_rappresentatajnelle figure 1 e 2 ?_ sostituita da u?

<?>?a parete a ponte 44 ?he lascia una fenditura di Ingrasso

il .alquanto pi? alta, in modo ohe dall 'anticamera 33 si pos<x>

fa aspirare pi? facilmente materiale -atmosferico in oontatfco con il vetro e nella camera di rivestimento. Se si desi

lera quella parete a ponte 44 pu? essere regolabile in altez-U F F I C I O

za per variare l'apertura della fenditura di ingresso 31. Jng..~P, GUAZZO 45 B - L Vi T Tl ?3? prevista una conduttura aggiuntiva/di emissione di gas per

scaricare gas preriscaldato verso il basso nell 'anticamera

per controllare lo strato di materiale atmosferico immediata'

sente sopra il substrato 1 fino almeno alla zona dove il get

o di materiale di rivestimento 8 urta contro il vetro

| Questa forma di realizzazione della presente invenzione fa j

Quindi uso dell 'invenzione descritta e rivendicata in detta i

nostra domanda di Brevetto italiana depositata in pari data

che rivendica la priorit? della domanda di Brevetto britannico

n . 85 31425 depositata il 20 Dicembre 1985

6<'>P

-Come? in- fig. 2, -il -passaggio ha la stessa- altezza -della

fenditura- di uscita dalla zona di spruzzo.- . . . .

All 'estremit? a valle del passaggio 139 si aspira mater La-<!>?

le -atmosferico nella conduttura di scarico 46 avente un im?

bocco-47? definito in parte-da -Una .presa di scarico - curva 48

ohe -Si estende sopra il percorso del substrato 1 per l 'integra larghezza del passaggio e -chiude scs tanzialmente- la sua

estremit?-a- valle-?? Tale presa -48 -pu? opzionalmente essere

montata-incernierata. -in -modo-da-poter. essere regolata per a|-vere -un -gioco.. minimo coi^ il-suhs-trato 1 . Anche- all-'.estremit?_ a? valle- dei passaggio? ??-il-mater.iale atmosferico, ? aspijrato in ?condutture di scarico 49 poste da ciascun lato

della.-camera-di .rivestimento., per favorire una diffusione- laterale -del. materiale atmosferico ohe fluisce lungo la camera U F F I <r | r>*

Ing. P. GUAZZO di rivestimento? A tale materiale si impedisce di fluire sot BRE VE TTI to- il. substrato con dia frammi... come il diaframma 21 ohe sporogeno dal.le_pareti laterali? della camera, di . rivestimento sopra 1 margini del substrato sostanzialmente per tutta .la lup

ghezza del passaggio e che si estendono bene nella zona di

spruzzo,, fino quasi alla sua estremit?, a monte,

ESEMPIO 3 . _ _ ?

Si us? l 'appareochiatura di fig. 3 per formare un rive-jet imento di una miscela di biossido di titanio e ossido fer^-rioo su u?a. lastra di. vetro . spessa . 5 ma che viaggiava . a .

1P._m/Mn,- usando _una _ soJLuzionLe jdi-partenza di-aostLIaoe tonati)

I .;

jli-tit?nio.? aoetilaoetonato di-ferro (H I)* Il vetro -fu in^

|

j ?

-irodotto nella -camera -di rivestimento 6 a una temperatura di

i; ;'

580?C e-quella camera era lunga -6.metri. -SI scaric??la soluzione a una portata di oiroa 80 l/ori

con una pressione di circa 25 bar? per ottenere un. rivesti??

i

mento-Spesso -45 nm che era giallastro.e.altamente rifletter?

I

<?>te* L'ugello di spruzzo,era posta a urJaltezza ?i 1;,2 metri

i

_popra-il_nasiro.,.-inclinato di 30:<?>.rispett? a?l.'orizzontale, .venne

ino_ss.o__avanti_e_.indle.tro. at.traver.eo_il peroorso_del substrato _a_Una_frequfinza di _2CLoioli aljnfnut.o.._ .

i

_ Attraverso il tetto della zona di spruzzo si soffi? a? ,

pia preriscaldata . a una temperatura di_35Q<0>C oon una portata

i

di circa .1500 ton^/h? e si soffi? verso il basso nell *antioa?

UFFIC IO pera 3.3 .aria preriscaldata a una temperatura di 580?C oon UT Ing. P. GUAZZO I B '<? >t Vr fri na portata di oiroa 3000 Parte, del getto spruzzato 07

vapor? prima del contatto, con il vetro e parte oontinu? per;

urtare oon forza contro il vetro.?_ _

[

La portata di aspirazione nelle condutture di scarico a

valle .4.6*. 49 fh regolata in modo da compensare la.quantit?

totale di gas soffiato 0 aspirato nella camera di rivestiment

to? tenendo nel dovuto conto la creazione di gas nella camera ;

dovuta all'evaporazione del materiale spruzzato.

Questo procedimento port? alla formazione di un rivestimento altamente uniforme e sostanzialmente privo di difetti*

FIGURA. 4

- Come prima, gli elementi ohe svolgono funzioni analoghii

a-quelli rappresentati nelle.figure precedenti sono indicati

i

i

con-numeri di riferimento.,corrispondenti. . . j

1

. Nella forma di realizzazione di fig. 4, l 'ugello di spi*uz-

io.. J. unico , animato di moto alternativo , delle figure prece-j-!

. ienti. ?..sostituito da una .pluralit?, di tali ugelli, sebbene ,..

!

_e.olo- unfr. B?a rappresentato. Questi ugelli 7 fli. muovono avan?^

?

?;i._e . indietro lungo parti di una.guida (non rappresentata)

i 4he._oorre_._tra una.coppia .di.condotti di emissione,di gas35-1

!

aventi. aperture di scarica 61 inclinate verso il basso che si e-

iitend.ono..per 1'intera.,larghezza della camera di rivestimentoj.

._La..struttura a tetto 5 si.abbassa secondo un profilo con-

tinuo e in parte curvo sopra.. la _ zona di spruzzo 9? e continua

ad abbassarsi cosicch? il passaggio 13 ha altezza decrescente

U F F I C I O

tjella direzione verso valle ? ohe facilita un flusso .? ' ng. P. GUAZZO Bfit Vt TTI

eneralmente verso valle dd^ materiale all 'interno della came-

a di rivestimento 6. Come in fig. 3 , sono previsti condotti

c 1 s carico laterali 49 per aspirare materiale atmosferico dal

passaggio all 'estremit? a valle jdi questo , ma in questa figui

afa tali aspiratori occupano leggermente pi? della met? della

! <. ' """ . .. "". . .. ^ . >T

lunghezza del passaggio. L el tetto 5 del pas? _ i <1>abbassamento d

- - ?<?>

saggio compensa la quantit? ridotta di materiale che fluisce'

I ;

lungo il passaggio a cajisa di questa aumentata aspirazione. <1>

?]

All'estremit? a monte della camera di rivestimento, la

farete terminale 43 si abbassa fin vicino al percorso del sub-

-?4\ <?>

i?l, ..sostanzialmente chiudendo quell'estremit? della..<

nera^-e-immediatamente a_ valle.. distale .parete terminale ? . .

previsto, un . condotto.. ausiliario. .52.. di_emissio.ne_di..gas .per

scaricane? gas. preriscaldato, nella, camera, adiacen te.- al .substrato, in. modo ohe fluisca verso vai le ..per co.nd i.zio.nar.e l 'atmosfe-,

ra ..a. .contatto... con . il .substrato dove, questo . entra -inizialmente

a..contatto,oon il materiale precursore del rivestimento, e

.per.,impedire 1<1>accumulo,.di vapore.contro la ;parete terminale

a monte 43... . . j

. . All..estremit?. a. valle dellazona di spruzzo, sono pre?

visti,un_paio. di. ugelli ,53 di emissione di un getto di gas,}

Jire11.i-O-^iz20ntalmente.e inclinati verso,l'interno, per treI-!

spinare il vapore di precursore del rivestimento ohe si geninella ..zona d? ..spruzzo verso 1* interno , allontanandolo dal-<? >F F 1 o le pareti late ra 1 i del passaggip e verso valle ? ng. P. GUAZZO <">Bbt Vt ! TI ESEMPIO 4.

Si form? un rivestimento spesso 400 n? di ossido di

stagno drogato con fluoro su un nastro di vetro spesso 4 ima

1 <" '. >. . <.>. . . .

jphe si spostava da una camera di galleggiamento a una veloci

t? di 8,5 m/min per entrare nella stazione di rivestimento

a un.a_ temperatura di 600 ?C La camera di rivestimento aveva

un allunghe zza totale di 8 metri.

Il precursore del rivestimento usato era una soluzione

viacquosa di cloruro stannoso contenente bifluoruro di ammonio^ r <6 >v

???? r per.fornire ioni droganti nel rivestimento.. Questa .soluzione^

.?U--e.pruzzata .dagli .uge11i con .una.portata .di ...110 l/ora . Gli

ugelli erano tutti paralleli ed erano inclinati rispetto al<*>f

L'orizzontale di 75?? Beai erano posti 1,5 m sopra il substra?

to.- -? ?? ? . - -. - -.

. 3

Si:scaric?, aria preriscaldata a 550? C a una portata di 5000 Nm /h

dalle due aperture di scarica 51 per trascinare soluziane di

precursore evaporata? e l 'aria-scaricata.. dal ..condotto aus.ilia-.

cio_52_di .^emissione_jdi gas era anoh?essa preriscaldata a 500?C.

li.controll? l'aspirazione sopra il. livello. .del substrato p$r

cilanciar.e la...quantit?, di gas .introdotto e formata nel.la...caT

cera di rivestimento e per favorire un ..flusso generale vere 9

ralle_di materiale.

Psl_mezzi di.emissione 22 sotto, il percorso del substr^?

to .ai..ecaric? aria preriscaldata a 600?C a una.portata di <~ >F <' 1 >^

Ing. P. GUAZZO Bftt VETTI

Anche questo procedimento diede come risultato la forma?

zione di un.rivestimento aitarnente uniforme , Bostanzialmente

esente_.?a_dife.tti locali ? con .un fattore di nebulosit? mol?*?

to .basso e.uniformemente baseo.

ESEMPI 5 - 8

_ In_una_ variante, di oiaeouno degli esempi precedenti , 1 ?

j apparecchiatura illustrata ? utilizzata per formare un rive-<1>-

stlmento su vetro che ? stato tagliato in lastre e poi nuo?

vamente scaldato , oon procedimenti che per il resto sono cor

ae_descritti ai ottengono' risultati .simili.

??????? IC AZ IONI

|- l.__-r,Appareooiiiatura per formare per pirolisi,un rivestimento-di un composto metallico su una faccia..superiore di uh

substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro, comprendente organi trasportatori per trasportare detto substrai

to.._in_-Una direzione yerso valle lungo un percorso, una stazione di.rivestimento comprendente unev struttura a..tetto che definisce una oamera di riveetimento cha si apre verso il bas?

S.O_SJU.J.etio__paxc.orj3.o_i._ejie.zzlper spruzzare una_eo.luzione_di

j. :

un_praaursore. del rivestimento, in de11a_camera,verso il basao_vers.o il substrato, caratterizzata dal fatto chei i mezzi

di spruzzo sono disposti in modo da spruzzare^ stia soluziohe di precursore del rivestimento in una zojia._.di spruzzo di;

i

detta camera di rivestimento da un'altezza.,.,sopra il percorr U F F ' ' ?>

Ing. P. ? LI AZZO so del substrato, di almeno 75 o?? sono pre.vieti mezzi di riscaldamento per. farnire calore a detta zonu..di_sp.ruzzoJ detta struttura a tetto definisce una parte di passaggio di det~

ta camera di rivestimento che porta a valle di detta zona di

spruzzo e conferisce alla camera di rivestimento una lunghezza totale di almeno 2 mj e sono previsti mezzi per generare

[forze, .di aspirazione sul materiale atmosferico in detto passaggio. per incoraggiare tale materiale a fluire, lungo il percorso del substrato verso l'estremit? a valle, disdetto passaggio e a entrare in condutture di scarico ohe allontanano tale materiale dal percorso del substrato.

>.3

_ 2..-? -Apparecchiatura secondo la riv, 1 , in cui detta camera -di. rivestimento ha una.. lunghezza di almeno .5. metri. |

....3..T-Apparecchiatura secondo la riv. 1.02,.in cui det??

f

ti.mezzi di.spruzzo.sono disposti in modo da spruzzare detto

!

materiale, precursore del rivestimento da una sorgente che si

trova almeno 1 metro., e preferibilmente almeno 1*2metri, S(j>-I

pra..detto.percorso del substrato. j

j

. . .4? Apparecchiatura_se.condo, una qualsiasi delle rivenf

j

licazioni precedenti , in cui, all 'estremit? a valle della ??> ?

i i

ia di spruzzo , ietta struttura a tetto si abbassa sostar zial~

nente verticalmente oer delimitare una fenditura di uscita j

l <" ' " >!

j?he porta .in detto passaggio. >

j _ 5 Apparecchiatura secondo la riv, 4? in cui l 'altezr

La di detta fenditura di uscita ^ al massimo met? dell 'altezi . <. . . . ? ;>

La tra la sorgente di spruzzo e detto percorso del substrato.jng P. GUAZZO BRE VL? TTI 6. ? Appareochiatura secondo una qualsiasi delle rivenr

iioazioni precedenti, in oui almeno una parte della lunghezza di detto paesaggio ha altezza minore della zona di spruzzo.

7? ~ Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivenjlloazloni precedenti, in cui detta struttura a tetto conver-b

.

g? verso il percorso del substrato nella direzione verso vai?*?

i ?

le lungo detto passaggio.?

. .

i

i

i 8. ? Appareochiatura secondo una qualsiasi delle rivend*

fticazioni da 1 a 6, in cui detta struttura a tetto inolude

pna parete a ponte sopra 11 percorso del substrato, la quale

I -??

definisce una fenditura di.uscita,dalla,zona.di.spruzzo e se-.

.para.tale_zona_e..detto passaggio.,,questo avendo altezza.sup

r.iore.a.quella,della,fenditura.jii.uscita._ _ __

. 9?. Apparecchiatura e.e.oondo. una qua1siasideile riven

dicazioni precedenti, in cui i mezzi di spruzzo sono atti a

spruzzare il materiale precursore del rivestimento verso il

basso e.nella direzione verso valle.

_ 10. --Apparecchiatura .seconde^ una qualsiasi delle riven

dicazioni precedenti, in. oui sono. previsti mezzi per scaricare materiale.precursore del rivestimento e almeno un gettQ_-di._ga8._in_.detta zona di spruzzo in. direzioni che si inte

secano?_ _ _

_ 11.? ? Apparecchiatura secondo la_riy? 10, in oui_almeno

I

uno di tali mezzi di scarica di gas presenta un 'apertura di

U F F IC I O

scarica posta nella met? superiore dell 'altezza tra la sor-*? Ing. P. GUAZZO BRE VETTI

gente di spruzzo e detta faccia del substrato.

12. ? Apparecchiatura secondo la riv. 10 o 11 , in cui

sono previsti mezzi per preriscaldare almeno detto getto di

gas,

13? ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle riverj-dicazioni da 10 a 12, in cui almeno uno di tali mezzi di eoarica di gas ? atto a scaricare detto getto di gas da monte

rispetto all'asee di emissione del getto di precursore del

rivestimento. ?

_ 14. -_Appareochiaturafecondo una qualsiasi delle river??

dicazioni - precedenti, -in - cui sopra -la zona-?i -spruzzo- sono .

prev isti mezzi di riscaldamento- per -irraggiamento? ???? Iti

verso il basso ? -<. >- 15? <_ >Apparecchiatura secondo una qualsiasi- delle riven

ideazioni precedenti , in cui sono previsti mezzi per scalda

re detto- passaggio - dall ialto ? -- Apparecchiatura secondo, una - qualsiasi-delle riven

-dioazioni -precedenti., -in cui a-mon te. dell<1 >asse-di emissione

-dei -mezzi-di s.pruzzo?de!L precursore- sono previsti -mezzi per

scaricare un- getto di gas verso -il basso in prossimit? di

detto_asae-di. -emissione , _in_modo da schermare _ il materiale

precursore, del rivestimento spruzzato . _ _ _

- 17.? - Apparecchiatura. .secondo -una . qualsiasi_delle riven <?>

dicazioni precedenti , in cui . i. mezzi, di spruzzo del precur-U F F I C I O sore del? rivestimento comprendono ...Un- ugello di spruzzo e. me z- Ing. P- GUAZZO BHL V L f TI zi-per .spostare ripetutamente. tale ugello lungo . un percorso

trasversale al percorso del substrato .. .

. . -18. - -..Apparecchiatura secondo le ri ve n d ic_a zioni - 16 e 17

in cui. sono previsti mezzi, per. spostare .ripetutamente tali

mezzi. di emissione del getto di gas schermante lungo un per

C.or sp_.tra_s ve reale a d etto percorso. del. substrato , in . tan d em

oon^l^ugello di spruzzo del precursore del rivestimento .

_ 1.9?.. "L Apparecchiatura secondo una gualsia.si della rivendicazioni precedenti , in oui sono previsti mezzi per soffia?

re, .gas verso. 1. 'alto... al di -l?-di.. ciascun, -lato, del percorso

_ 7 v0y;v_

del- substrato nella zona -di spruzzo. . .

. -20. ?-Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivenrdicazioni precedenti, in cui all'estremit? a valle di detta.

camera di.rivest?men-to.?.situata una conduttura di scarico !

i

i

iche ha uno 0 pi? imbocchi .disposti sopra il peroorso del sub-!

ktrato.ed..estendentisi attraverso almeno la maggior parte d?lia larghezza di questo.

21.,_=i-Appar.ecahiatura.secondo la_riv._20.,..in...cui in.-0orr

_ Rispondenza di.tale,imbocco di eoarico sopra_il.percorso del

i

l

_ fl.ub.s_tra_t_Q__?...pr.eyista una presa di scarico curva.

?

_ 22. ? Apparecchiatura secondo una .Biasl delle

jdioazioni^precede_nti, in oui sono previsti mozzi por impedir

re il flusso di materiale atmosferico al di l? dei lati del ... .. percorso del substrato e tra zone verticalmente sopra e ver-,

tlealmente sotto tale percorso,.per almeno una parte della. ; _ UFFICIO Ing. P. GUAZZO lunghezza della camera di rivestimento. BRE VETTI 23 ? Apparecchiatura secondo la riv. 22, in cui tali

mezzi per impedire il flusso comprendono dei diaframmi.

24. ? Apparecchiatura seoondo una qualsiasi delle riyen~

idioazioni precedenti, in cui sono previsti mezzi per genera'|-jre forze di aspirazione in condutture di scarico laterali_

per far s? che materiale atmosferico sopra il peroorso del

substrato fluisca verso l'esterno allontanandosi dal centro

di tale percorso per almeno una parte di detto passaggio. :

25? ? Apparecchiatura secondo la riv. 24? in cui. dette.

-;/i<N >

f

I

?

sondutture _d.i scarico laterali sono disposte in modo da. aspi-'

pare detto, materiale atmosferico verso_ l ' esterno per una zona.

i i

che si estende sostanzialmente<' >lungo tutto detto passaggio. j

26. -*_Apparec_chiatura secondo la riv, 24. o 25 ? in cui j

j

dette cojjdutture di scarico laterali presentano imbocchi si?;

i

tua ti sotto il livello del peroorso del substrato.? !

I

27? . ? .Apparso eh ia tur a seoondo Una qualsiasi delle riven ?

j

i

i

fiicazion.i_precedenti, in cui Bono previsti mezzi per scarica-II

re gas nell'ambiente del substrato in modo da formare una celiente_p.qntin.ua che scorre nella direzione verso valle sotto j

i

?gni margine del percorso del substrato e lungo almeno par?j.

]

te del tratto di percorso occupato da detta camera di rive?.

stimento?

|_ 28. - Apparecchiatura secondo^ la riv. 27, in cui i mezzi

U F F <? >per scaricare gas per formare tale corrente sotto il livell? Ing. P. GUAZZO BHL VL T TI del peroorso sono atti a scaricare gas in modo da formare ti

le corrente peri'intera larghezza del percorso del substrato

29? ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti , in cui sopra il peroorso del substrato

i <. . . . .. '>

? prevista una parete di barriera che si estende peri'intera

. .

larghezza dell 'estremit? a valle di detta camera di rivestii

1

mento e sostanzialmente chiude tale estremit?.

30. ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle riven?

i

dicazioni precedenti , in cui detta stazione di rivestimento

? posta tra l 'uscita da Un impianto di formazione del nastro

e_l .'ingresso in un . forno ..di rico. t tura.? .

_31. _ .Appar.eooh.iatura secondo una qualsiasi delle rivenf? .

dioazioni..precedenti, in. o.u? sono.previsti,, mezzi per far fluire. gas attraverso una fenditura, di ingresso . del substrato

in._de.tta..camera da monte rispetto a tale.fenditura e per preriscaldare tale gas.

_ 32. ? Apparecchiatura secondo la riv. 31, in cui i mez*t

zi che provocano tale ingresso di gas e/o la.forma della

fenditura. di ingresso sono tali da provocare una portata di

flusso di tale gas maggiore sui margini delpefcorso dei

substrato che sulla sua parte centrale.

33^ - Procedimento per formare per pirolisi un rivestimento di un composto metallico su una faccia superiore di un

substrato di vetro caldo sotto forma di lastra q nastro du U F F I C I O fng P GUAZZO rante il suo trasporto in una direzione verso valle lungo un BREVETTI percorso attraverso una camera di rivestimento in cui si

epruzza verso il basso e verso il substrato almeno un getto

di soluzione di un precursore del rivestimento , caratterizzato dal fatto ohei si scalda una zona di spruzzo di detta

oamera di rivestimento per far evaporare parte del materia-f-j

le precursore del rivestimento prima che raggiunga il sub-'<1>

!

strato , per caricare l 'atmosfera in tale zona oon materiale

precursore del rivestimento vaporizzato J si epruzza la solu-i ?

r i<E >4 i

zione oon energia sufficiente da garantire un sicuro impat? r - ?

to di materiale precursore del rivestimento spruzzato resi?

<. ? >I &

- i/3;

__(luo-_oo.n-tr.o. il substrato per ..iniziar.e_il._rives.tiraento rii d.et-? ba -faccia-del- substrato-r -e -si- fa-fluire ivi direzione verso

valle atmosfera carica di materiale precursore del rivestimento in-fas e vapore da detta zona, di spruzzo lungo la face la

rivestita del substrato e. a contatto con essa . .per un tempo c 1

iontat-to?di almeno _1.0-S.eoo.ndi ,. ???? -di-.che si allontana dal

jubstrato- il. materiale. .residuo di detta corrente oarica di

precursore? . .. _. . ..

- 34. ? Procedimento secondo la.. riv,_..?3_, -in oui detta ca?

mara-di- rivestimento. _h.s_una -lunghezza che ? legata , al la velo

jit? -di trasporto del substrato in modo tale . che ogn i in eremento della lunghezza del substrato rimanga esposto al vapo<x>

re .d.i_preourspre del rivestimento ..per almeno venti secondi .

35? ? Procedimento secondo la riv. 33 o 34? in cui si

U F F i " <? >n spruzza detta soluzione di precursore del rivestimento da u<1>? Ing. P GUAZZO BREVETTI na . sorg?nte che ? almeno 75 cm?_e preferibilmente almeno 1 ,2!

metri , sopra tale faccia del substrato .

36. - Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni .da 33 a 35 , in cui si allontana dalla zona di spruz--zo. l 'atmosfera oarica di vapore facendole^ entrare in una pai

te.di passaggio a valle della camera di rivestimento attraverso una_ fenditura di uscita di altezza minore della zona

li spruzzo.

37? ? Procedimento secondo la riv. 36, in cui l 'altezza

li detta fenditura di uscita ? al massimo me.t? dell 'altezza

- -tea?la?sorgente-di spruzzo e detta faccia del substrato.

j

- . ? ? -38.--?+-- Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendica<1->! |

zioni da 33 a 37? in cui detto flusso verso valle di gas ca~

j

?ideo di precursore avviene in un passaggio ohe ? riscaldato,

j 39? ?Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 33 a 38, in cui si spruzza la soluzione di precurso?

|

re del,rivestimento verso il <">basso e nella direzione verso

_ valle . _ _ _ _

| <' >;

_ ; _ .40-?? ? Procedimento s.econ.do_una_qu.als_iasi Aelle^rivendioa?*

j :

_ ziojo.i-da-33? a_35-i- in._cui_ in_ d etta-zona di spruzzo si introdu- _

i <1>

_ cono_materiale precursore ._d_el_rives.timsn_t.Q.._e_ almeno un getto

di gas in modo che 1? l?ro traiettorie ai intersechino in tale- zona. . . .

J. . .41 ? ? Piooedimento secondo la riv. 4P? in cui si scarica <al~ >' J ? <'>_F ? '? ? <' >? Ing. P GUAZZ meno' un -tale getto di gas da un 'apertura posta nella . met? su? BHE \ /ETTI perior.e .dell 'altezza tra la sorgente di spruzzo e detta fac r

loia del substrato.

42.. ? Procedimento secondo la riv. 40 o 41? in cui vi ?

almeno Un tale . getto ii gas che ? di gas preriscaldato.

43?. ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 4P a 42? in cui vi ? almeno ur tale getto di

gas ohe 6 scaricato dal lato a monte della traiettoria della

Isoluzione di precursore del rivestimento spruzzata..

44? ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 33 a 43? in cui si fornisce calore a detta zona di

sprazzo-almeno in parte dirigendo.calore di irraggiamento i

|

verso-il <">basso .da sopra il percorso della solazione di pre?i

i

cursore del rivestimento spruzzata? ._ _ . .

45?- r_Pro.c.edimento .secondo una qualsiasi delle rivendica-

zioni da 33. a 44?. in cui sul. suo lato a monte il- getto di !

teriale precursore del. rivestimento ? schermato

|

a un.getto.d.i.gas che .? scaricato in modo.,continuo,verso,i?

! !

iasso....verso il substrato in prossimit? di detto getto di pr?-

surscr.e.spruzzato.?.._ . .. . .. . .

I.

_ .46.?-^:-PrP0_e.dime_n.?Qj3scendo una qualsiasi delle_rivendica-materiale!

zioni_da._33...a 45?-in cui si spruzza detta soluzione di/pre?i

cursore del rivestimento come un getto di goccioline_che ?

I

3postato_ripetutame_n "fe trasversalmente al percorso del sub?

' FF ? 3trato._ _ _ _ _ _ __ __ _ _ _ :. Ing. P. GUAZZO i BREVE TTI _ 47? ? Procedimento secondo le rivendicazioni 45 e 46? in

cui si sposta ripetutamente tale ge11o di gas schermante tra-

aversalmente a detto percorso ? in tandem con_ il getto di ma??

teriale precursore del rivestimento?_ _

48? ? Prooedimento secondo una qualsiasi delle rivendi?'

sazioni da 33 a 47? in cui si soffia gas verso 1*alto? al di

l? di ciascun lato del percorso del substrato nella zona di

Lpruzzo_.

I

49? ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendica-

'zioni da 33 a 48? in cui per almeno una parte della lunghez- \

za della oamera di rivestimento si impedisce il flusso di n?*

-?

boriale atmosferico al di l? degli orli laterali del substrato -e? tra -zone-V-er-ticalmen-te- so-pra -?? ' verticalmente.. sotto- il

substrato ...

? 5<Q>? Procedimen to-secondo?una. . qualsiasi .d elle . riven d ica-j

zioni-da -33- a 49, in. ..cui-Si generano. -forze di asp irazione in.

condutture? d i_s_c a ri oo...1 a.t e ral i. _d i s.po s_t.e._in_ mod.o._d a_ _f a r_ a i .

che materiale atmos fer ico .. sopra, il substrato... fluisca ve:

- ao?llestemo -allontan?ndosi. da.una _ parte _ cent ral e d e 1 substrato- per almeno una parte della lunghezza di detta oamera di

rivestimento ? . _ _ _

... 51. : Procedimento secondo la riv, 50 ? in cui si fa flujire detto_materiale atmosferico verso l ?esterno in una zona)

<.>. . j

che si estende per almeno la maggior parte della lunghezza !

|

li. detta . .camera di rivestimento a valle della zona di depo-j

aizione iniziale di materiale di rivestimento sul substrato .

!

!

_ 52, ~ Procedimento secondo la ...riv, ?0 o 51 , in cui si af Ing. P. GUAZZO <? . . . .>

\ \ BH? Vi TTI spira detto materiale atmosferico verso l 'esterno a un live!-lo al di sotto del substrato .

_ 53? . Erpoedimeri to_ eeoo.ndo __una . qualsiasi delle rivendicali ?Q.r.i.. da 33. a 5? , in cui si scarica gas nell 'ambiente del j

substrato in modo da formare una corrente continua ohe scorr

re verso valle sotto ogn i margine del substrato e per al?

meno una j?arte della lunghezza di datta camera di rivesti? I

? ! <. " " . ' " >< (

.Wnto?.. . _ _ _ j

_ 5-4.*._?_Prooediraan,to. s.econdo_la .r.iv, 53 j__in ..cu_i_ yi_? _tale!

-Fi

e -di gas sotto -i!L substrato... che. scorre sotto l' inter larghezza del substrato. -. -.5.5., -^-Procedimento seoondo_una qualsiasi delle rivendici zioni-da -^33- -a -54? in- cui- la camera di rivestimento ? aostani zialmente-chiusa alla sua estremit? a valle per. impedire in tersoambio di materiale atmosferico tra l 'estremit? a valle

?ella-oamera.di. rivestimento-.e una regione- ancora, pi? a val<1>-le del percorso del substrato.

_ 56?^ ? Procedimento . secondo la riv. .55-? -in_.cui..il. sub.s.trji

to_ A :L_v_e_t ro _?..un _na s.t ro. _ app,ena__f orma ?.o__d i _ vet ro cald_o_.e_si,

forma. -il- rivestimento dopo ohe tale .nastro lascia un. impianjto di formazione del nastro e. prima del suo ingresso in un

forno di ricottura. _ _

.. 5T? -~ Procedimento . s_econdo. .una qualsiasi delle rivendic i zioni- da..33- a 5-6.? -in. cui si fa fluire gas prer.iscaldato verjs.o...valle in detta camera di rivestimento a contatto con il substrato ? _ _ _

_ 5.8.?? Prooedimeni p secondo la riv. .57.?. in oui si fa entrare. tale .gas preriscaldato in detta camera di rivestimento

opn una portata maggiore sui margini del substrato che non

s opra il suo . cent ro.

PER INCARICO U F F I C I O ? Ing. P. GUAZZO

Bfit VL? TTI

V Jt&tJHA b.-.

v ;

ili_dimensioni . ooma-quelle..che_.sono.aempre ...pi?. richieste, dalla ? ;uodema -pratioa-archi-tettonica.-Semplioemente non- ? stato pas^. sibila -oo struire un- apparecchiatura che coneerita di esercitai re? il- grado^ di oo n-trollo? rlohiesto? aull^iritiOduzlone del, ma-? -fcer.iale precursore del. rivestimento. nella camera! di rivesti? nenta_in-modo._che_eseo scorra-uniformemente. e_r.egolarmente- n con-t at t o de l_v_etro_qu and? _s.i ope r a _S.U_B.O al a_ collimer? i a 1 e , _ .co n il_r.isul.tato che_nei_xive.stimenti ib.rmati .sono presenti, yadi spessore

riazioni/imprevedibili _ e. che una .p.eroent.uale-.del.y.e-tro. .rivo? atito pr.odotio_non__?.di qualit? accettabile. Inoltre ? neoei \? . Bario usare un. materiale precursore de1 rivestimento. alquan<1>r_ t.o volatile e ci? rappresenta una limitazione inde?iderabilp nella spelta dei materiali disponibili. Inoltre, i procedi? noti facilmente nenti/di rivestimento in fase vapore non si prestarpialla formazione di rivestimenti aventi uno spassere superiore a 400 nm circa, specialmente quando il vetro si muove piuttosto rapidamente come pu? essere reso necessario da altri im pianti usati nel programma di produzione industriale.

Per formare rivestimenti pi?.spessi, ? convenzionale u? Bare un?apparecchiatura di rivestimento in fase liquida 0 a spruzzo per spruzzare un getto di goccioline di soluzione di precursore del rivestimento sul substrato. Tale apparecchia tura semplifica il maneggiamento delle elevate quantit? di materiale precursore richiesto, ma presenta un certo numero di svantaggi. Primo, vi ?_un serio rischio ohe il contatto

C_3

j

. tra le quantit?-abitualmente-abbastanza-grandl della solu? j i i | . j zione di. rivestimento- spruzzata e il substrato di. vetro cali

.do dia origine a bruschi gradienti termici nel vetro con il! ! ! ;risultato .ohe al raffreddamento ohe segue l 'operazione, di ri-

? i j vestimento .il vetro ? fortemente so llaoitato.. Ci?__pu?. rende!-i ire molto .difficile, tagl.iar_e__il_ve.t_rp. in_.lastre o. in lastre ; 'pi? piccole, se ci? dovesse essere necessario , e rende il ve-i tro facilmente- fragile. Secondo , ? molto difficile ottenere . :Un rivestimento di qualit? elevata e uniforme. _ !..

Nella rioeroa di miglioramenti qualitativi, finora si ? ! primariamente

I concentrata l 'atten zio.ne/sulle condizioni nella zona di im?.: . i-patto delle goccioline spruzzate sul. vetro e nelle iramedia? ;te vicinanze di tale zona. J_l_moltQ facile ohe difetti del 'rivestimento si verifichino in tale regione o a causa del J.r : trascinamento di prodotti di reazione dall'ambiente gasso SO; ad opera del getto di goccioline spruzzate o a causa di spruz !zi causati dalle goccioline all'impatto sul vetro. Per evi-^ tare tali difetti sono state fatte varie proposte riohiedenr iti la generazione di getti di gas di lavaggio per spazzar ivia dall 'ambiente nelle immediate vicinanze della zona di im? patto materiale potenzialmente dannoso. In una procedura neh ta, un nastro di vetro continuo ? trasportato attraverso una

!camera di rivestimento dove vien ODO

.e spru "z?za "t ?o u - -n .a soluzie? ; *3 ne di precursore di rivestimento da una testina di spruzzo : ohe si muove avanti ? Indietro trasversalmente? La teatina <'>??2 V

il spruzzo -?-controllata in modo da .ottener? una.-deposizioni regolare- di -goooiollns-nella zona -di.-impatto e-Una corrente li gas di lavaggio & soffiata .lungo,il vetro,,.attraverso ta4 le camera,,in modo da pulire-l.'ambiente in quel .peroorso tra-I

eversale, davanti al getto di goccioline? Il getto di gas d:. lavaggio, pu? essere continuo., nel.qual .caso.,inevitabilmente irta contro il getto,di goccioline ..spruzzate?_.In .quel oaso_ per?, si .bada .a.limitare .la velocit?,del g?tto_di_gas di.laraggia_in. modo ohe?questo?ftOn.disturbi le condizioni regola-" ri e,stabili nella zona di impatto.?, _ _

i La deposizione stabile.e dolce riohiesta ? oondizipnata a,una energia cinetica sufficientemente bassa delle gocciolidi soluzione, spruzzate. Pertanto U .uso di tale apparecehia--h

ttura 6 limitato per quanto riguarda le velooit? di rivestimen<*>

. .

j to ottenibili._ _ _

dell'intento di formare rivestimenti di_buona qualit? | ? pi? rapidamente, si & proposto di eseguire tale spruzzo ad | i energia molto pi? elevata e di soffiare contemporaneamente j l forti correnti di gas contro e intorno al getto di goccioli'?' ne spruzzato in prossimit? dell?:zona di impatto in modo che . vendano immediatamente trasoinate ria le goccioline ohe ine-r (vitabilmente danno origine a spruzzi e rimbalzano dal vetro ? ? ebbene con questa procedura siano possibili velooit? di formazion? pi? elevate? per evitare depositi spuri a causa degli j j spruzzi ad opera delle goccioline ? necessario ohe i mezzi ' i. -Soffiano il gas di. lavaggio eiano_o riandati _e-co.nl

con - molta.. cura. Il-gas .. di..lavaggio -deve -essere -emesso, da ug?lli .ohe sono. associatiLda vicino alla testina- d? spruzzo...e s:. nuovono come. un. tutto .unico insieme- a questa lungo il suo pn sorso trasversale. Quando .si usa. detta procedura di. spruzzo ad... alta energia ? particolarmente facile che" il vetro sia' soggetto a sollecitazioni elevate , e inoltre ai ? trovato ohe <r >ei rivestimento -Si . verificano, difetti . con frequenza inaooet^ .. tabile_ anche, dopo le. regolazioni pi? accurate della testina getto di

?i. spruzzo, e -dei mezzi-di soffiaggio, del/gas di lavaggio ,as?* soo?ati ad essa.

!

S?l abbiamo trovato, utilizzando le apparecchiature di: spruzzo note,-nonostante.,il.co.n-trollo accurato dell'ambiente ; i di spruzzo, che i rivestimenti spesso non hanno le caratteri-

j <1 >etiche strutturali necessarie per una qualit? ottica elevata e che ? difficile ottenere tali caratteristiche in modo affij

dabile e ripetibile, la difficolt? aumentando al crescere d?lia velocit? di deposizione del rivestimento tentata. In parr: jticolare abbiamo trovato che i rivestimenti ottenuti presentano un fattore di nebulosit?,elevato, ma ci? ohe ?.ancora . pi? sgradevole ? che il fattore di.nebulosit?.,?., irregolare ; Sull'area del..rivestimento., .

i Uno scopo della presente invenzione ? di fornire un'apparecchiatura ohe possa essere usata per formare rivestimeni? ti di qualit? ottioa elevata e struttura uniforme in modo af-?

C

fidatile , e ripetibile , .anche, .a velocit? di. deposizione del rive s.t iman .to. elevate-, essenza .indurre tali sollecitazioni . -termiche, elevate nel. substrato., di vetro . _ _ _ Secondo, la pr.esente invenzione si fornisce un Vappareo?jiiatura per formare per pirolisi in rivestimento di composto me? talllco._su..una faccia superiore-.di un. sub?trat.o__di.vetro_o.aldo iotto.forma di lastra o nastro, comprendente orfani trasportatori per traaportare.detto substrato.irL.una direzio.ne..verso, valle lungo un percorso,una stazione di rivestimento oomorendbnte Una struttura,a.tetto,che d?finiece una camera di rivestimento _3he..si. apre.yerse i1 bas.B_o._eu_iet.tQ_.p.9rcorao,__.e_me.zzi. per.spruzzare_j2na_a.al.uzl0n.e__di..un..precureore. del._rivestimento in..detta, .camera..verso il basso.,verso...i_l_.iU.betrato_,..caratterizzata dai fatto cherii mezzi per spruzzare sono disposti in modo da spruzzare, detta.soluzione di precursore del rivestimento in una. .zona...dl spruzza .di detta camera di rivestimento da percorso del

und.alte_z.z.a_sopra il/aubstrato di almeno 75 cmi sono previstpL .mezzi di risoaldamentoperjfornire calore a .detta zonaidi spruzzo^..detta struttura a. tetto definisce una zona di pass? saggio di detta camera di rivestimento che porta a valle di .detta zona di spruzzo e conferisce alla camera di rivestlmen? to una lunghezza totale di almeno 2 mj e sono previsti mezzi Per generare forze di aspirazione su materiale atmosferico in detto passaggio per incoraggiare detto materiale a fluirje lungo..il. percorso del substrato verso l'estremit? a valle dii 15N

I

ii?t.t.o passaggio e a..entrare..in condutture.di.scarico ohe al? I

lontanano tale materiale dal percorso del substrato?

; Un'apparecchiatura secondo l'invenzione ? pi? economica j

t?a far funzionare delle convenzionali appareochiature di ri?? in fase

.vestimento /.vapore in cui tuttek-.il materiale precursore dei i

rivestimento deve essere vaporizzato prima del contatto con 11 vetroi ed ? pi? semplice da costruire delle appareochiasi evitano i ture a spruzzo note in particolare peroh?/i problemi associai : ti alla formazione di spruzzi e all'allontanamento di grandi quantit? di soluzione di precursorendei rivestimento spruzza-; i Ita dalla zona dove si forma il rivestimento? _

Usando ... un'apparecchiatura secondo l'invenzione . come qui definita! abbiamo trovato molto pi?.facile formarsi rivestimenti di qualit? ottica elevata e struttura uniforme! ;in modo affidabile e riproducibile, anche a velocit? di dedei rivestimento

posizione/elevate e senza indurre sollecitazioni termiche infense nel vetro. In particolare, abbiamo trovato molto j?i? ; facile formare rivestimenti ohe hanno un fattore di.^nebulosit? basso e uniformemente basso.

Naturalmente, per ottenere tale qualit? elevata riproducibile per il rivestimento, l'apparecchiatura dovr? essere usata in modo conveniente, ma la combinazione di caratteri-;etiche dell'apparecchiatura oome definita sopra ? particolarmente vantaggiosa per facilitare il controllo delle condizioni nella camera di rivestimento. Per ottenere questi buoni Risultati r abbiamo- trovato , usando -1-?apparecchiatura, che-? meglio controllare le condizioni- in modo ohe una percentuale! sostanziale della soluzione- d?- precursore- del rivestimento e^ vapori prima di venire a contatto con il substrato., in m?do cbe-U atmosfera.. ne Ila zona. di. spruzza, si .carichi .di vapore dei-precursore- del? rivest imento che -? - poi -aspirato, lungo il paesaggio dove- copre -il ? substrato e rimaneva -con-tatto-con esso-. - - - . ? - . - . . .

? In? effetti x- ci?-rappresenta. uno scostarne n-to_radicale.._da]. ^.linsegnamen-to-della tecnioa precedente in.. questo.. campo ? _ ELT IO r a . a i _?._ri.t enu.to.._n e ce ssario...coji.tr 0.1.1 are _le. c ond i zi on i in modo...obe. la_minor_quan tit? possibile._di_ materiale precursori', si v apo ri zzi ,__per.--impe.dire.. ab e. esso reagisca con l <1 >atmosfera ii.el.la ..zona di spruzzo. e .formi prodot ti _di .reaz?Q.ne__che_pp_treb-..' >ero d.epo.si_t.arsi_s.ul.._s.u.bs.tra.to_ _e._ f o rjnara. difetti sul _riyee ti-. mento. Si_ ? anche ritenuto necessario aspirare il materiale precursore del rivestimento in eccesso e i prodotti di rea? aio ne allontanando li dal substrato il . P.i?. presto ,_pp s s ibi 1 e , jki_ nuovo per impodire depositi spuri sul substrato , e lungh 'e " zj- <" >? <' >.. . <"" * 1>" I

ze della zona di rivestimento da 60 a 100 om sono tipiche . <. . >. <' . " . >della teonioa precedente. _ _ _

i r ...Le ragioni per oui l 'uso di tale_ appareochiatura debba j I i Sfavorire migliori livelli qualitativi del rivestimento non ;

! <? >f sono del tutto chiare, ma rimane il fatto ohe , con l 'aiuto ; | di tale appareochiatura, riusciamo a formare rivestimenti c?n fattore

an/di nebulosit? pi? -uni-forme e pi?--basso di--quanto non fos-

ae possibile -prima? -I--rivestimenti formati -possono -avere-unii

guaii-t? ottica elevata- e--uno -spessore regolare e prevedibile

Inoltre ,-usando tale -appare och-iatura , -riusciamo -a formare

juesti -ri-vestimenti-su- substrati- di vetro pi?-r-apidamente^ ?

?uindi con -spessori magg-iori^-su-su-bs-trati-Ghe-si-spos-tano-

pi?: rapidamente, di quanto non riuscissimo -finora.

-Un 'applicazione particolarmente -importante per 1 ^appare

oh ia-tu-ra secondo l'invenzione ? nella formazione -di rivestii

-menti di ossido di stagno usando cloruro- -etannoso come-mate.^

-riale -precursore del- rivestimento ? X rivestimenti di ossido,

il stagno, che. ridu cono-l '.emissivit? nei confronti della, ra^

-diazione ..infrarossa .di-lunghe zza _d 'onda elevata da parte de

le ..Buper.fici di lastre di .vetro a cui sono,.applicati.,,sono

_largamen.t.?_.usa.ti ?p,er ridurre .il trasferimento di calore da

,strutture .a .vetri. Naturalmente questo, ? solo un..esempio _der

gli scopi per. cui si .pu? usare..1.'appareochiatura . Come altro i | _esempio_,_l-<,>.ap.par_e.cch.iatura .pu? essere usata per formare un j

_rivestimento .di.biossido di. titanio. 0.dl_una_.misoela di os-

.si.di.,...p_er..esempio..una ..miscela, di?o_s_sidi_di cobalto , ferro _ei

cromo.. .

_ L.'appar.ecch iatura .?.particolarment e vantaggiosa per* la I ^ formazione rapida di rivestimenti,, come ? richiesto per esekr ? i pio.-per ..formare..rivestimenti relativamente spessi, per easm? i | [pio...un._riv.estime.nto con spessore tra 5QP nm e lOOOnta, su un !

nas_tro.di.vetro.appena formato..viaggia-nt.e_a__una-.v-elo.cit? di pareochi-metri -al minuto-da una-vasca-di-float-o -altra appa?^ recchiatura per la formazione di vetro piane? Preferibilmente.,detta camera.di rivestimento ha una lunghezza di almeno 5 metri?.Si ? trovato,che.ci? ?.partico?? larmente.vantaggioso_.per._la_fo.rmazione..di.rivestimenti relar tivamente..spessi., per esempio quelli._oon spessore di 50.0 nm o__pi?.,._p.e.r.oh?., per una.data.velocit? di..avanzamento..del sub?)-s.trato,..permette un tempo di contatto pi?. lungo, tra il vapj) rej i...Er.e_our.so.re del rivestimento_e_il suhstrato, per la dej^? poeizione di materiale..d_i.rivestimento aggiuntivo e/o per condizionare, materiale gi? depositato?

Ih_f_opm_e_.di.reali?zaalone_d_e11_'.invenzione epeoialinente preferite, detti mezzi di spruzzo eono disposti.ln modo da spruzzare detto materiale precursore del rivestimento da un^i sorgente ohe si trova <? >almeno 1 metro, e preferibilmente almeno 1,2 metri, sopra detto peroorso del substrato? Ci|> permette una lunga traiettoria per il materiale spruzzato, dando cos? pi? tempo perch? quel materiale evapori ^prima de contatto con il vetro, e d? origine a una zona di spruzzo a).-Un

ta ohe pu? cos? servire 00 me /serbato io per im materiale evaporato dal quale il materiale pu? poi essere aspirato verso valle nel passaggio. Un 'apparecchiatura che inoorpora questi caratteristica preferita ? in antitesi con apparecchiature di spruzzo precedentemente note, in oui un 'altezza di scarica ?19-<^>

ideilo spruzzo di 30 om o meno ? usuale.

In forme particolarmente vantaggiose di realizzazione ?

! idell 'invenzione, all 'estremit? a valle della zona di spruzzo detta struttura a tetto si abbassa sostanzialmente verticali-iiaente in modo da definire una fenditura di uscita che portai jin detto passaggio. -Ci?-d? <">benefici molto importanti. LVef ^ i-fetto serbatoio nella zona di spruzzo ? esaltato d? modo ohle nel passaggio

?? pi?. facile aspirare/materiale- atmosferico che ? caricato . .. - -. ^uniformemente co? vapore di .precursore. del rivestimento , . e ?? _|_nol?re. _tale._atmosfera .carica di vapore ? in. qu.a.sto modo co? _ i B.tre.t.ta.-a-fluire.J7er.ao. il basso verso il substrato..

Preferibilmente, .1 '.altezza di detta fenditura di usc.?tia ; ? al.. massimo met? dell 'altezza tra la sorgente di spruzzo ? detto percorso del substrato . Si ? trovato ohe pi? d? spazio , per una buona miscelazione di materiale atmosferico nella met? superiore della zona di spruzzo fuori linea rispetto alila fenditura di uscita., e inoltre favorisce l'uniformit? con 1cui l?atmosfera in tale parte pu? caricarsi di vapori d? pre-:cursore del rivestimento. _ Vantaggiosamente? almeno. una parte della lunghezza di _ detto paesaggio ha altezza minore della zona d? spruzzo. Pei?; : tanto il materiale atmosferico che soorre in tale tratto di passaggio di altezza minore ? costretto fisicamente a fluire relativamente vicino al substrato? cosicch? il vapore d? precursore del rivestimento trascinato in esso pu? agire sul _X? <r>Bq.Uetnxq.BeAXJ Xp<?>*Je?ZO ?XX?U ????? BBJBA ????????? ?????? ?? ?q.uetnzBUzjBdtneq.neo epueu?q.uzm eq.uenrf?.e*AfJC ?? ? BJOBJnoBJd ? . . .

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! -??????????????-????????????? ?? eqxxejexd eraxoj eq.xeo ? j ? * oq.u?mxq.e0AXJ3 lunga. la traiettoria del materiale spruzzato .in . confronto . all 'omissione .vrert leale _ dalla. s t?ssa- altezza dando cos? pi? tempo, .per l 'evaporazione della__eoluzione, s faoilita la col: Locazione dei mezzi di riscaldamento nella zona di spruzzo in modo ohe tali mezzi possano . avere un effetto d iretto sul

Preferibilmente , sono previsti mezzi per scaricare mato? riale precursore del riveatiinento e almeno un gotto di gas in letta zona di spruzzo in direzioni ohe si intersecano* Ques? un modo molto semplice per assicurare la miscelazione dei naterlali ohe saranno introdotti nella zona di spruzzo duran-i ! te l 'uso d e 11 ' appa reo ohia tu r a , sen za richiedere alcuna appafi i recchiatura di miscelazione speciale ohe de vrebbo essere in] grado di resistere all'atmosfera calda e corrosiva ohe si ge-lererebbe in tale zona. .[ j I

Vantaggi osamente , almeno uno di tali mezzi di emiss?on i li gas presenta un 'apertura di scarico posta nella met? superiore dell 'altezza tra la sorgente di spruzzo e detta facoiu lei substrato* L'uso di tale apparecchiatura ? il pi? effio??

! S Ce per favorire la miscelazione senza troppo disturbare l 'at-

<" ' ' ' >~ . <? " >T

i ; Biosfera immediatamente al di sopra del percorso del substrato* | j I In forme specialmente preferite di realizzazione dell <1>] ! I invenzione, sono previs ti mezzi per preriscaldare almeno uni ? ? ! l di detti getti di gas* Ci? impedisce la condensazione del materiale spruzzato. E' desiderabile evitare la oondensazione -22^

di -vapori,del precursore ,del rivestimento sulle pareti o ?sul tetto della camera perch? ci? -porterebbe spesse a corrosione, e vi ? un rischio che eventuale materiale condensato possa poi gocciolare su un substrato,e macchiare un rivestimento che-viene formato .

In -certe forme,preferite di-realizzazione dell ?invenzione, almeno uno di tali mezzi di emissione di gas _?_disposte in modo da scaricare detto ..getto di gas.da monte rispetto all'asse di scarica del getto di precursore del .rivestimento., Ldemis.aione di gas da .tale mezzo favorisce una circolazione favorevole, di correnti Ai gas nella camera di rivestimento?, Preferibilmente, sopra, la-zona di spruzzo sono previsti mezzi di riscaLdamento. per irraggiamento rivolti verso il bisso,. Questo ? un modo molto semplice di fornire calore per 1? evaporazione della soluzione di rivestimento spruzzata. Tali mezzi di riscaldamento sono anche utili per aumentare la temperatura nella zona di spruzzo in modo ohe la formazione del rivestimento possa almeno essere iniziata a una temperatura superiore, dando benefici .nella resa e nella durata del rivb atimento formato, e per impedire condensazione sul tetto del la zona di spruzzo. _

Preferibilmente, sono previsti mezzi per scaldare detto passaggio dall?alto? Tali mezzi di riscaldamento sono utili per aumentare la temperatura nel passaggio in modo che il rfl vestimento possa essere finito e condizionato a temperatura su j ne-riore , riand? benefici nella durezza e durata del rivestim?nto formato, e per impedire condensazione sul soffitto del passaggio?

i

i

i In certe forme preferite di realizzazione dell 'invenzione, a monte dell'asse- di emissione dei mezzi di spruzzo del <1 >? ! * precursore, sono previsti mezzi per scaricare un getto di gas vierso il basso in prossimit? di detto asse di emissione, in m?do da schermare il- materiale -precursore- del- rivestimento spruzzato . Ci? aiuta a impedire il trascinamento di-qualsiasimateriale-indesiderato, per esempio prodotti dellarsaziane di rivestimento, nella parte posteriore del getto di preour?

l

g?re*

Preferibilmente, i mezzi di spruzzo del preoursore delrivestimento comprendono un ugello di,spruzzo e mezzi per spostare ripetutamente tale ugello lungo un percorso trasversale al peroorso del substrato? Ci? favorisce la miscelazione di materiale precursore del rivestimento evaporato nell'atmosfera contenuta nella zona di spruzzo della camera di rivestimento.

Vantaggiosamente.,.sono.previsti mezzi per spostare ripetutamente tali mezzi di emissione del getto di gas schermante lungo un percorso trasversale a detto percorso del substrato unitamente all'ugello di spruzzo del precursore del rivestimento. Ci? permette una schermatura efficiente pur intro? . ducendo quantit? relativamente piccole di gas schermante.

In certe forme preferite di realizzazione dell 'inven zio|?? Bono previsti mezzi per soffiare gas verso.,l'alto al di. jl? di ciascun lata del percorso del substrato nella zona di! 'sprazzo. Tali mezzi di soffiaggio possono essere usati per I

1

i

{formare .schermi di gas contro le pareti laterali della zona idi spruzzo della camera di rivestimento , i quali servono per I I

Jpro.teggere tali pareti contro gli effetti corrosivi del matpj

iriale -.spruzzato e d ei suoi prodotti di reazione . Tali . soher?-.. Iimi di.gas possono anche impedire al materiale spruzzato, par |-ificolarmente quando si spruzzano quantit? relativamente pioj-! <" . >. ; j

|cole, di passare sotto il percorso del substrato dove sarebr <' >I jbe;disponibile per formare un rivestimento indesiderato Balila faccia inferiore di . Un substrato .

; i Preferibilmente , all 'estremit? a valle di detta camera; di rivestimento e situata una conduttura di s oarieo , che ha:

! i uno o pi? ingressi disposti sopra il percorso del substrato! , I J jed estendentisi attraverso almeno la maggior parte della larghezza di questo. Tale conduttura di scarico ? semplice da !

! 'costruire , ?^ molto facile da collocare e permette un 'efficiente aspirazione del materiale dal percorso del substrato . L'j uso di tale conduttura e particolarmente adatto per far si { ohe il materiale aspirato viaggi sostanzialmente in direzione verso valle fino a quando entra nel condotto, e ci? crea; imene disturbi per la distribuzione di flusso nel passaggio. L'adozione di questa caratteristica ? molto desiderabile soerattutto quando nella oamera si spruzzano quantit? molto di-di soluzione di precursore del rivestimento Vantaggiosamente;: in tale ingresso di soarioo sopra il percorso ? prevista una fcresa. di scarico curva. Si ? trovat? che questa disposizione-permette un -aspirazione altamente ef? della j fioiente di prodotti ./ reazione di rivestimento e di mate? ! -piale precursore-del rivestimento non utilizzato, poich? tale materiale atmosferico pu? cosi esser fatto fluire pi? regol? Irnente-nel condotto di scarico. Ci? d?- <">benefici .pratici molto .

j importanti, specialmente quando si formano rivestimenti relativamente spessi,,e pu?.per esempio,provocare la...formazione li.un rivestimento di.ossido di stagno .di emissivit? ridotta? 3i preferisca ohe detta presa, di scarico sia .mobile,per regolare..lo.spazio.1itero. tra.la.sua base e.,il percorso lungo cui si sposta il vetro, per..esempio mediante un montaggio ai cerniera, in modo da ottenere la massima chiusura dell <1>sstresita a valle della stazione. di rivestimento.

In base all? condizioni di pressione sopra e sotto il i I

substrato nella camera di rivestimento vi pu? essere la ten?* .lenza ..che. 1.'atmosfera carica, di precursore fluisca sotto ili substrato , dove depositer? un ..rivestimento indesiderato Bulla faccia inferiore di questo. In base alla configurazione di : flujBSO.Aelle correnti..atmosferiche nella camera di rivesti-; mento e sotto di essa, questo rivestimento indesiderato pu?j ii <"" . ' .. " " >;

[essere pi? o meno regolare, ma cosi sottile da dare origli

jne a effetti di interferenza,altamente <?>sgrad?v?!li,>per esempio.

pu? essere un rivestimento pi? o.meno regolare il cui spess?re verso il centro del substrato, D un rivestimento.alquanto irregolare con un aspetto che secondo alcuni ricorda ? 08-gni su una tavola per backgararaon..Questa tendenza ? impediti in qualche misura dalla presenza di mezzi di soffiaggio diret-I

ti verso,.l'alto ai lati della.zona di spruzzo, come dette.

In alternativa per? vi pu? essere una tendenza di materiale atmosferico,proveniente, da sotto il percorso del substrato a fluire verso l'alt? e. a diluire la conoer.trazione di vapo re di precursore specialmente ai lati della camera di rive-stlmento. Ci? e indesiderabile perch? potrebbe portare a una insufficiente deposizione in fase vapore ai margini di un substrato o a un insufficiente condizionamento dei margini rivestiti di tale substrato, e, di conseguenza, in forme d? realizzazione dell'invenzione particol?rmente vantaggi?se, sono previsti mezzi per impedire flusso di materiale atmolsferico al di l? dei lati del percorso del substrato e tra zone vei?tlealmente sopra e vertloalmente sotto quel percors per almeno parte della lunghezza della camera di rivestimenlto. , Preferibilmente , tali mezzi di inibizione del flusso

; I i ^ ! joomprendono dei diaframmi, poich? questi costituiscono un

! ! <1 >? jmezzo molto semplice per ottenere il risultato voluto. Tali; idiaframmi possono essere disposti in modo da creare Una ca?

; <. >i <!>mera di rivestimento sostanzialmente chiusa, in modo che 1 '} jatmosfera al suo interno non. sia affetta da correnti di gasi

<">^7

jesterno.-Un-modo-mol-to.-semplice-* preferito.-di-O-tienere-tale ^chiusura-eoB-tanzlale-?-quello.di prevedere organi trasportar ! si | Itori-ohe comprendono rulli ohe../restringono .su oiascun mark igine.del percorso del substrato in modo da delimitare uno j spazio,per dar-Bede_.a._d.e.t.ti..s.ohermi tra_i..rulli e i.marginii idei percorso del substrato. C1S consente di rivestire..1*itri jtera faccia superiore del substrato._

i_ gei abbiamo fatto riferimento alla presenza di oondut-! ture di soarioo disposte trasversalmente al peroorss del sub? strato allEstremit? a valle del passaggio della oamera di rivestimento. Tuttavia la presenza di mezzi per eseroitare forze aspiranti solo in quella posizione pu? originare una joonoentrazione pi? elevata di vapore di precursore del rivejistimento lungo il centro del passaggio ohe non sopra i mar igini del percorso del substrato. Questa ? un'altra possibi-j le causa di rivestimenti non soddisfacenti sui margini del ! substrato. Per ridurre questa tendenza e aumentare la larghezza utile rivestita del substrato, si preferisce in modo: speciale che siano previsti mezzi per generare forze di a? spirazione in condotti di scarico laterali posti in modo da far fluire materiale atmosferico sopra il percorso del substrato verso l'esterno allontanandolo dal centro di quel percorso per almeno una parte di detto passaggio. L'adozione di questa oaratteristic?^preferita porta vantaggi ohe si considerano di particolare importanza. Esea favorisce una buona e-delliatmosfera- car-ioa di.-precursore sull-'int era-

larghezza -del su?sirat?,- aumentando .cosi -la larghezza rivesti-!iIa ben.finita del substrato.--Essa aiuta-anche.,a rimuovere mai _<?>seriale precursore- del riveB_timen_to_. in eccesso _e.prodotti del-I

<? ? >i l.a.-r-eazion.e -di-rivestimento _in. una, fase, prima che. raggiunga-r

.iLS-lles_tr.emit? dei-passaggio , riduoendo- cosl_il rischio . di..I -

xiorrosione -delle?pareti- di qu?l-passaggio . Inoltre., permette!

i l.a.rime zione ..di pr?do11i_d e11a reazio.ne.d i__rivo s.timeni o. e_dii.

materiale? precursore _d.el rivestimer to -in .eccesso.,che potrebbe?

ro -reBtare .sul rivestirnen_to._maoeh iand ole.,.Ancora. .se o '?._qua!l?

II

ohe tendenza da parte dell'atmosfera proveniente da sotto il!_

i i percorse del substrato a fluire verso l 'alto al di l?^_dei_suoi

iati? questa tendenza ? ostacolata per tutta la zona. di aspi? i

razione verso _1 E sterno? Questi vantaggi sono aumentati, se,

come si preferisce ,_tale pondo tto di scarico laterale ? di? j <">!i ^ <. . ' ' . .. . >?' sposto in modo da aspirare detto materiale atmosferico verso;

T; .. . <" " " >. 1, ? ? k ' I l?esterno in una zona che si estende sostanzialmente lungo i

! l'intero passaggio.

In certe forme preferite di realizzazione dell ?invenzioj? | <" ? " ". ' ' >i n>, detto condotto di soarico laterale presenta ingressi va?

sti sotto il livello? di detto percorso. Ci? ? vantaggioso per-

oh? facilita l'osservazione visiva delle condizioni nel pas?

saggio attraverso portelli che possono essere previsti nelle

sue pareti laterali e, nell'uso, facilita la finitura del ri-

vestimento mantenendo uno strato di densi vapori di preoureei? re-del.rivestimento,in.basso.,-contro.la-.fao.cia-d.el-8ubstra.tq che.,viene,.rivestita?. ... _ _ _

_ nna. eausa. di. difetti_in_un.-.riv.estimen.to_formate..per pi?? rolisi_?. data, da particelle di materiale estranee ohe vengo 30. incorporate nel rivestimento durante la sua formazione?... B' chiaro che nel carso dell'operazione di rivestimento, la sanierA d1 rivestimento si oarioa di materiale precursore.de!. ivostimante inutilizzato e di prodotti della reazione diir-i? vestimento, compresi prodotti di reazione-intermedi? Si ? aetate ohe questi e altri agenti inquinanti qeme polvere (lf stesse materiale precursore del rivestimento ? considerate un agente inquinante dovunque esse pu? venire a.contatto ce^ 11 vetro oalde fuori dalla camera di rivestimento) tendone diffondersi verso monte dalla camera in cui il materiale precursore del rivestimento viene scaricatej <' >, per quante pie-? solersia rese l'ingresse attraverso cui il vetro entra nella samara, e in effetti tali agenti inquinanti sono atti a venire a contatto con il vetro prima che raggiunga la regione li rivestimento e a lasciare depositi spuri sul substrato lohe rimangono li per essere incorporati nel rivestimento co-? j .

me un difetto, per esempio all 'interfaccia rivestimente/?retro o nelle spessore del rivestimento?

Vantaggiosamente, seno previsti mezzi per scaricare ga? nell'ambiente del substrato in mede da fermare una Sorrento continua ohe scorre nella direzione verse valle sotto ogni margine-dei-peroorse-del-substrate e-..lunge-almene-par-te-deL tratte di pero? re e e eoupa-te-d a-d e 11 a-o^mera di r ivestimente , - Sorprendentemente, ai ? travate ohe l'use di appareoohp.ature comprendenti questa oaratteria-tioa-preferita-per<i>ta-a una-eigni-fioativa- ripulitura-deli -atmaa fera -ehe-earetrti e-a^-?ontatte con il vetro-prima del sue ingresse -nella camera ..di riveatimente-, . oe aio ohe ..vi. ? una cene iderevele -riduzione nel -la-quantit?_di_ agenti inquinanti disponibili-in quella . gena . per fermare depeaiti spuri sul vetre - prima.jlel_rive alimenta , _ Una peaaibile apiegazienedel fenemen? ? la-Seguente.-. A monte_della_oamera di rivestimento vi earanno impian _ti..per riscaldare.il_sutstrato di vetro, o per formare effet-_tivamente un_substrato_divetro caldo, e a valle duella carne ra di rivestimento vi saranno abitualmentevmezzi, per esemtn

pio un forno di ricottura, che permettonQy-./raffreddamento controllato del substrato rivest?to_?_.In tali.,costruzioni vi pub essere una oorrente di ritorno di materiale atmosferioo ohe soorre in diregione verso monte sotto il percorso del substrato? PoiohS questa corrente di ritorno fluisce verso Monte., pu? tendere a sollevarsi sopra il percorso del substrato, cosicch? eventuali agenti inquinanti trascinati possono depositarsi sul substrato formando cos?,difetti incorporati nel.<' >rivestimento._ _ _ _

I^uso di appareeohiature ohe presentano queata oaratteriatica preferita dell?Invenzione d? anche certi vantaggi

ptil

molta importanti per ridurre-rivestimenti-indesiderati della superficie inferiore e per quanto -riguarda la qualit? del rii

vestimento formato .

I

L - Questi-.vantaggi sono esaltati quando , oome . si . preferisce, j j - -?- Btezzi per 8 cari exare gas per- formare tale -corrente sotto il _ iivello-deL-peraorso-eono-dis-poBJti in_modo. da .soarioare gas ! j

_ .per.formare tale oorrente sull'intera.larghezza-dei percorso de 1 substrato?-Preferibilmente, sono previsti mezzi pe r _pr_er.iscald are il_gas__da e caricare _in._modo_Aa ?ormaTeJale_ corrente o_ tal i j

serranti sotto il substrato per esempio oon una temperatura 30mpre8a_.entro 50?C di differenza rispetto alla temperatura media del substrato immediatamente prima del rivestimento, j <' . ' "" " >| ?n modo da ridurre ogni effetto ohe l 'iniezione di tale gas ; PP.fl.sa_ avere sulla temperatura del substrato e/o dell 'atmosfej

ra nella regione di rivestimento.

! ; ! In forme specialmente preferite di realizzazione dell<l>ini : yenzione, sopra il perooreo del substrato ? prevista una par irete di barriera ohe si estende per l'intera larghezza del?' l'estremit? a valle di detta camera di riveetimento e la ohiu?esostanzialmente. Tale parete di barriera pu? essere oostii almeno in parte

tuita per esempio/da detta presa di scarico, se questa ? : presente? Questo ? un modo molto semplice per garantire ohe cambiamenti nelle condizioni immediatamente a valle dell'estremit? della camera di rivestimento non abbiano effetti di?

C > reiii-sulla .condizioni -nella_camara_j di_r.iv.es_timen-t.o_e_v_ioe? trersa. _ _ .. _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ In ..forme . di. rja.al.iz z a zione.Jlje 11.L?n ven z .io_n_s_ par t ic.Q la rmeri? be preferite, detta stazione di rivestimento ? pp Ai a ..ira. .1 *_? noita da. Un impianto per la formazione del nastro e 1 'in gre e-, ao iff un forno di ricottura, facendo cosi, si trova che il Vi L?L :bro pu? raggiungere la stazione di rivestimento a ana tempe-r . ;matura ohe ? quella necessaria, o ? prossima a quella neoesSa-::ia, peroh? le reazioni di rivestimento per pirolisi abbiano Luogo? Di conseguenza) l'adozione di questa caratteristica >limlna la necessit? di ulteriori apparecchiature di risoal? d.amento coma sarebbe necessario per innalzare la temperatura Ael vetro da rivesti re dalla temperatura ambiente. E* anche j : .mpo rt ante che il rivestimento avvenga in una camera ohe ? : tisicamente distinta dall 'impianto di formazione del nastro da un lato e dal forno di ricottura dall 'altro? Se non oi fosse tale distinzione) e nelle proposte precedentemente no??

! te in questo campo ? comune ohe il rivestimento avvenga nel? la lungh zza del forno di ricottura, allora le condizioni atmosferiche nella oamera di rivestimento potrebbero essere disturbate da correnti di gas che scorrono dal forno di ricot-^ tura e dall 'impianto di formazione del nastro - tali correnti spesso trascinano polvere e altri agenti inquinanti che potrebbero venire incorporati nel rivestimento come difetti -! ; e anche vi sarebbe il rischio che la distribuzione di oorrent i . atmo sferiche nel forno venga d is t u rbata portando cos? a coedizioni. d. i_r.ico_t_tura_me.no f avo.re.vol i. . _

In oerte-_fo.rme-.-pre ferite di....r_e.alizzaz.ione dell ' inve_n.zi 3ne., sono pr e v is_tl_me.z zi?pe.r_f ar_ eco rr_e.re__gas__a.tjt r av.e rso_.un.a__fa.n l i tu -ra d i...ingre.s.s.o_d_e.l _subs?ra?o_ln_(?eJtia _camer.a_^._da_mojit-e_rig.pjB_t?.Q_ alla fenditura, e per preriscaldare tale gas j e vant aggio satoen--t.e_jLme-Z.zi-_o.he causano tale ingresso di gas , e./o_la .forma della fend-iiura_di_ingr_e.sso , sono._tali__da__o.riginare ._una 4L; flus* so-.jdi_?al.e_.gas_jmag&io_re_suijmarg.ir-i- del del substr ohe sul suo centro. L'uso di apparecchiature incorporanti u a di questo caratteristiche o entrambe ? importante per favorire ..un flusso generale verso valle del materiale atmosferico nella oamera. di rivestimento e per condizionare l'atmosfera nella zon dove il materiale di rivestiiaBnto si deposita in izialraente sul s ubstrat_o.. Per esempio < pu? compensare almeno parzialmente il

meyi-tp dell Atmosfera nella oameradi rivestimento dovuto al con tatto con le pareti laterali di questa.

Un 'apparecch iatura secondo, la presente invenzione pu? iinche vantaggiosamente incorporare una o pi? oaratteristiohe dell 'apparecchiatura descritta nella domanda, di brevetto Br t iannico depositata an.chl "essa il . -20 -Di .oembre 1985 (D .omanda

j

n , ) con il riferimento del Mandatario_PJ28 Ston$ |

henge 536? domanda ohe descrive e rivendica un 'apparecchia** j

[tura per formare per pirolisi un rivestimento di composto metallico su una faccia superiore di un substrato di vetro calt 34

lo in_ forma ..disiasi ra o nasi r.o_j ? cc.mpr.end ent.e__D.rgan_i__tr.aapo.rr tatori? per? trasportare -detto- substrato? lungo? un? peroorso in ma-direzione verso -valle,- una -struttura a tetto -che. defin?'<* >ace-u?a-oamera-d?- rivestimento? che. .si? apre- verso.. il-basso... aif ietto percorso ,._e..mezzi? per scarioare__mat.eriale. preaureore lei rive st?mento-in-dei-ta-c amera caratterizzata dal fatto che? a-mon-t e d.i d et t a amera_.d i_ rive stimante vi _?._un ?an t i canera-che? oomunica-oon-la_oamera_di_jriveBi.imeu-to-trami_te-_una. fenditura- di ingresso che. ?_d e 1 imi t ai a? in parte d al._perco re p ?eL-substra-ta? e_at?raverso_ cui-S.i-pufi far_ fluire_gas_nella camera -djL-ri'^estimen-to...-in modo_.da_fQrmar-e_-(quand.o__l_<,>.ap.p.are_o. chiatura_?. is uao) uno strato di copertura ohe copre la fac?-eia .superi o re del- substrato lungo_una prima parte d_ el la .. lun: * ghezza di_d.etta camera , _e_ dal . fatto che sono, .previsti mezzi pa r_..pr sr iscald ara .. irLimodo controllabile il gas ohe forma detto strato _di copertura. . _ _

_ _?Ea presente invenzione si estende a un procedimento per f o rmar-e_p.ejc<,>_piro l.is i _un_r ivo s timento di un compos to metalli<1 >- _ 00-BU_una faccia superiore di un substrato _di vetro riscald ito procedimento in cui si fa opzionalmente, ma preferibilmente uso di un 'apparecchiatura come qui definita. _ _ _ _ _ Di conseguenza la presente inveri zione fornisce. an che un procedimento per formare per pirolisi un .rivestimento di un composto metallico su una faccia superiore di un sub etra to__dJ?. vetro .caldo sotto forma . ?i ...lastra. .o...n asjfc r.o_d.u r an t_e_il .Suo. trasporto in una direzione verso valle lungo un percorso

.attraverso, una camera di rivestimento in cui si spruzza ver?

so il ..basso e verso il substrato almeno un getto di soluzio?

ne. .di .un., precursore d?i rivestimento , caratterizzato dal fatei scalda

to che t/una zona di spruzzo di detta oamera di rivestimento

per far evaporare parte del materiale precursore del rivesti?

talento .prima che es so raggiunga il substrato , per caricare 1 ' ;

atmosfera in tale zona con ..Materiale precursore del rivestitavento vaporizzato ; si spruzza la soluzione con_suffioiente

energia da garantire un positivo impatto del materiale preciir?

Bore del rivestimento residuo contro il substrato per iniziare il rivestimento di detta faccia del substrato; e si fa

fluire atmosfera caricata di materiale precursore del rivestimento^ in fase vapore in direzione verso valle da detta zona di spruzzo lungo la faccia del substrato rivestita e a conU FF I C I O lng. P. GUAZZO tatto oon essa per un tempo di contatto di almeno 10 secondi, BRk. VETT! I

dopo di che il materiale residuo di detta corrente caricata

con precursore ? allontanato dal substrato.

Tale procedimento ? utile per la formazione di rivesti?^

menti che presentano unanebulosit? bassa e uniformemente bassa, Ci? ? particolarmente sorprendente perche finora si ? ritenuto necessario allontanare dal substrato i vapori di precursore del rivestimento e di prodotti di reazione il pi?.rapidamente possibile - nei procedimenti gi? noti si usano-tempi di contatto fra 2 e 5 BeaD^ii - proprio per ridurre 11 ri

3chio-.di.-deposizioni-s.purie_da-quei-vapori che?porterebbero. ?-Un aumento -delia- nebulosit ?.? __ - . . ? - -_ Le.-ragioni- per-cui-l-'uso. di tale... procedimento --debba . .. ._faVQrire__migliori_live Ili. qualitativi del . rivestimento n?n.

j jJ.OJIO.. completamente._chiare_.__Una_PQ.s.s_ibil_e_.spiegazione ? che,.[-| una percentuale-notevole..dello-apessore_del?rivestimento.A | i . forma ta-a. part ire -da mat eriale- ..precursore - in. .fase_vapo re meri I?

i . ;r.e_il_sub strato si. epos ta_.attr.av.e rso_.la_. parie ..di-passaggiO-L...

I ! della?camera__di-riV-estimento. E*noto che le tecniche diderf..

| I , ?os_izione .in._ fase v.apo.r.e__favor.ie.conO _una struttura cristallina fine e uniforme ^el rivestimento. Ma cl& non spiega per* ?h? l 'uso di un pr? cedimento, secondo, 1.'invenzione debba dare, come risultato la formazione di un rivestimento ohe ha I uno spessore molto pi?,regolare di quello che si pu? ottone?? l ! ^e con l 'uso di prooedimenti convenzionali di deposizione iri ?

fase vapore. Un'altra possibile spiegazione ? che , sebbene nolo una piocola parte dello spessore del rivestimento possa essere attribuita a deposizione in fase vapore, vi ? un con/?_ principale

dizionamento della massa / appena formata del rivestamento durante tale tempo di contatto di almeno 10 secondi iri li substrato ? esposto al vapore del precursore del ri?: vestimento, cosicch? la struttura cristallina del rivestimeri? io pu? essere modificata in un modo che ? favorevole per la I Qualit? del rivestimento, e in particolare quell'esposizione el rivestimento appena formato al vapore del precursore ?? riempire -pioooH -pori -nel? riv-estimen-to-dando ?cos? o-r-ig-ine-a-un? rivestimento? pi?-duro,? pi?-compatto e -pi? resistente- alle- condizioni-atmosferiche. - - - --Ed? possibile -che- par-te^lella-epiegazione-eia- ohe -una struttura-cristallina- regolare? favorevole Jel-rive stimando, a 1 Ili? te rfao eia -rive st imen t o /ve t ro_s ia_favori.ta_d al? c ont alt > di-materiale? precursore, del-rivestimento con- il- veiro?se . il materiale _ precursore? ? _p rivoli j _ solvente? o^ne _ contiene? solo una-pio oola-quan-tit?^-Si-ritiene _ahe. la ..struttura _d.el .rive et imen-t o in? 90.rris p ond en.za._d i._q.uel 1 ' inte rf^ocia abbia una . forte. influenza. sul modo in cui _vJ.ene_formato_.il . re sto dell

?.?? B5.OT.B_ ?LBJ. _ riy.oJ9.V XU*?rLw,D_? _ _ _ .. EJL.anohe po ss ib ile che la spiegazione risieda in parte in un e ffetto di raffreddamento ridotto sul vetro nella _ zon in cui avviene la deposizione del rivestimento t in modo che le reazioni che si verificano mentre si forma l 'intero spes gora del rivestimento possano awanire a una temperatura su ?

e all 'uniformit?. Si ritiene ohe oi? eia_ favorevole per la deposizione di un rivestimento di str?ttura uniforme, e inoltre oi? tende ad aument are l? resa in termin i di rivest imen o formato a partire da una data quantit? di materiale precursore del rivestimento. Si deve anche notare qui ohe la velooit? a cui avvengono le rea zioni di rivestimento aumenta con la temperatura? e anche ohe un ri*? vestimento formato a temperatura superiore in generale ade-?

- 38

:?if? pi? fortemente al vetro di uno della atesaa oomposizio-t? ? fi a per? forrmto -a_tempexatirra_in.ferior.Q_,._e_ ?uindi. ?_pi?_dur^-_ :role?? Inoltre tale effetto d i_ ra f freddameli t o rid otto .. f a e ? jhe_vi. sia .un minor risphio _di__so_lle.oitaz.ion_l t.e.rmiohe inde 4. iiderabili nel vetro? Tale riaohio PU? essere assai reale jquando sul vetro, urtano grandi quantit? di soluzione liquide, di materiale precursore del rivestimento, come pu? essere ri-?hieato in certe teoniohe di rivestimento a spruzzo della tt dica notay specialmente Quando si desidera formare rivesti? menti epeesi su un substrato in movimento rapido.

Un^ltra teoria che pu? essere valida e spiegare in i risultati ? ohe spruzzando il materiale preoursore iittraverso 1<>>ambiente ohe promuove 1Evaporazione nella carn?ra ohe, si apre verso il baaso al ha oome conseguenza 1'effetto ohe la zona in cui il materiale precursore spruzzato entra se r la prima volta a contat t ?^ oon il vetro ? dominata dall' ?fflusso continuo di nuovo reagente, ed ? tenuta libera o rn-Lativamente libera da altri materiali.

Preferibilmente, detta oamera di rivestimento ha Una Lunghezza ohe ? legata alla velocit? di trasporto del substrato in modo tale ohe ogni aument? di lunghezza del substratq -r-imane-esposto- al vapore -di precursore- del rivestimento per ?lrao no-venti secondi. Ci? faoili-ta- la? formazione-di? rivesti^ aen-ti? spessi , per -esempio quelli oon-spessore-superiore-a -- 500 -nati -oome -pu?-e s s e r e? r iohie s to per a copi d i a oh erma tura-09^

j

_ riei-aon?ronti_di_radiazioni-i?fraroeae,-_.e_noi_abbianiO-_' trovato! -! ' I - piuttosto? aorprenden temente., ohe-non vi ? ancora alcun effet? i j _ to_ contrario-sulla quaL_it? _del rivestimento formato? . Si noter ! ! . r? ohe nei caei in oul il rivestimento. ? depositato tra l 'uso ii * ' i _ ta-di .un^mplant.O?di...formazione del nastro _di vetro e_Un forr i ; <?>I <? >! _ ?? di ricottura t la velocit? di avanzamento del nastro aara ;_ I ! _ governata dalla velocit? a cui il nastro viene formato . e ohe !

i ; _ queeta varier? seoondo la oapaoit? e il tipo di impianto di j_ _ formazione del nastro, per esempio a seoqnda^ ohe questo sia ;_ _ Uin.a maoohlna di tiratura del vetro o un i | ? mpianto d.i.pr-od-uzio-j-_ 1 ; _ pe di vetro float, e anche in base allo spessore del vetro J_ I ] I . ! ^he viene prodotto. Tuttavia anohe le pi? elevate velocit? | del nastro di vetro sono abitualmente inferiori a 12 a al mi--i { v ! liuto? e di conseguenza un tempo di esposizione di 20 a pu? abltualmente essere garantito se detta stazione di rivestimene ? <? >' ' <1 >! to ha una lunghezza di almeno 5 metri?

l?

f ? ; ! In forme di realizzazione dell'invenzione preferite in : modo speciale? detta soluzione di precursore del rivestimene f

to ? spruzzata da una sorgente cixe si trova almeno 75 om? e : tre feribilmente almeno 1,2 m, sopra detta faccia del substra-? . tempo

to. Ci? dar? un sfondante /per l 'evaporazione di quelle god? eioline prima ohe esse arrivino sul substrato? e permette ah" I i ? <... >.<". >; Ohe di ridurre l'intensit? con cui il getto residuo di goccio?

.

i ? ? ? *

line viene a oontatto eon la superficie del substrato. In effatti pure questa oaratteristioa rappresenta uno scostamento alquanto^radicale -dalle, proposte precedentemente nO-te?? In., tecniche-di. rivestimento, a.-spruzzb -no-te.-in-preoedenza 11 nateriale. ..precursore del.. rivestimento, ? spruzzato .da molto pi? vioino._al -substrato., _e. unialtezza.JLellJ.ugeilo._di. spruzzi li. 30.. om o meno ?. comune.? _ _ _ _ _ _ _ <' >_ _ Ih- f o rma d 1 reai i z zazione delllinven z ione-particolarmei? te vantaggiose, l 'atmosfera-oarioa..di .vapore. _?_. allontanata ?alla zona di..spruzzo in una parte a passaggio a valle . nell? aamera__di.. rivestimento? tramite ,_una_. fenditura .di jisqita di altee za_JLn fori ore a quella. .della zon a..di. . spruzzo. Ci? aiuta a j_ __ garantire ohe l 'atmosfera oarioa di vapore sia portata in bisso . contro il substrato in modo concentrato , favorendo cosi _ la reaa del rivestimento.

Preferibilmente, l'altezza di detta fenditura di uscita ?_ al massimo met?- dell 'altezza tra la sorgente di spruzzo e letta faccia del substrato . L'adozione di questa caratteri? lascia almeno la met? superiore della zona di spruzzo ge <r >la circo lezione di correnti fi gas , e quella parte supe? -riore della camera pu? formare un serbatoio di vapore a den? it? elevata ohe entra continuamente nella fenditura.

'Preferibilmente, detto flusso verso valle di gas carico precursore avviene in un paesaggio scaldato. Questa oarajfcteristica porta numerosi vantaggi importanti. Si impedisce L a condensazione sul tetto del passaggio di materiale preour? ore del rivestimento e/o di prodotti di reazione che potrei i? poi- goccio lare, -in- basso.- e macchiar ?- i 1- sub strato., _e . si nan-tiene? il -materiale .precursore? del_r.i vestimento.. in fas_e. va? elevata

pore..Si__pu? mantenare_una_temperatura/n_el._passaggio sostituendo almeno parte dell'eriergia_t_em ica_aspo.rtata dal sub-strato..dalle..reazioni di rivestimento, oosioch? qualsiasi ui teriore reazione di rivestimentoe condizionamento del rivestimento gi? formato A.pu? procedere a temperatura pi? elo rata, specialmente verso 1Estremit? a valle del passaggio? Ci? favorisce a sua volta una struttura cristallina uniformi nel rivestimentot e tende anche ad aumentare la capacit? di durata e la durezza di quel rivestimento._

di realizzazione

_ In forme /particolarmente vantaggiose dell <1 >invenzione , la soluzione di precursore del rivestimento ? spruzzata ver-? so il "basso e verso valle. Ci? favorisce il flusso del mate?<* >riale spruzzato verso l'estremit? a valle della camera di vestimento in oui esso ? spruzzato e, allo stesso lampo ? ri-* spetto allo spruzzo verticale dalla stessa altezza,allunga la traiettoria di quel getto verso il substrato dando cos? pi? tempo per l'evaporazione della soluzione spruzzata.

Preferibilmente, in detta zona di spruzzo si introducor materiale precursore del rivestimento e almeno un getto di gas in modo ohe le loro traiettorie si intersechino in ta? le zona. Si trova che ci? ? particolarmente vantaggioso per generare forze di miscelazione nella zona di spruzzo assiouj?

<. . " . >"<"" >}'

rendo cos? che il vapore di precursore del rivestimento <">Sia r-42r ;.e_._dis_tr?buito nelljatmosfera_.che_ _fluis.ce__a_

-ralle-?-Tt?tale-zona-lungo_la-faocia-su-periore_jiel~subs-trato .9?

i contatto -con -questa. - - ^ - -

- Van ta ggios amente.,_si__scarica_almeno.. ta1e._get.to_di _gas_

\a-un 'aper_tura?po.a_ta_nella met?, .superiore.dell 'altezza tra

La-sorgerit.e_di_s.pruzzo_.e._d-e-t-ta._faccia dal sub.s_tr.aio Sj.A ..

trovato che_.questa ? _la soluzione piu effioaoe per favorire

tale miscelazione con il minimo disturbo per la traiettoria

li-quel materiale vicino al substrato? favorendo cos? la fo

;aazione Al un rivestimento 31 qualit? elevata? _

- Sarebbe possibile fornire calore al gas scaricato nellA

?araera dopo che esso e entrato nella camera ma preferibilmen?

te almeno tale getto di gas ? di ?'gas preriscaldato , poichS

pi?.riduce o elimina ogni effetto di raffreddamento dovuto

all?emissione di gas? _

_ In_ forme di realizzazione dell 'invenzione preferiate in

nodo speciale ? vi ? .almeno detto getto di gas ohe ? scarica? i to dal lato a monta della traiettoria della soluzione di pri-

sursore d el rivestimento spruzzata? Questo promuove^ una fa?*?

vorevole oircolaziojne dell'atmosfera nella zona di spruzzo la

B tende a ridurre/turbolenza indesiderata?

Vantaggiosamente si fornisce calore a detta zona di

spruzzo almeno in parte dirigendo calore di irraggiamento ve:

so il basso da sopra il percorso della soluzione di precur-

Bore del rivestimento spruzzata? Ci? aiuta a far evaporare ila soluzione-di-precursore-del rivestimento?spruzzata,--spe= i

jcialmen-te- nelle- -regioni-superiori di. tale ..traiettoria,, e-aui I <' >i Isuo lato a valle se la soluzione-? spruzzata v?rso valle cor

Ime detto. - - - i

In certe forme preferite,di.-realizzazione-dell'invenzip*? L | Jne-,.-Bul lato a-monte-iel-getto-di?materiale-precursore del j

i | rive st imeni o.,. -tale_ge.tto ?^flchermato _d a_ un-gette di gafL.chej

;?-Scaricato-in-nQdo_-C.o_ni.inuo.v.erso il. basso verso il substr?-

Ito in prossimit? di d etto getto spruzzato. Ci? aiuta a imper idire il trascinamento di qualsiasi materiale indesiderato? ! !

esempio prodotti della reazione di rivestimento.,,nella

jparte posteriore del getto di precursore. La presenza di tale | ? i ;materiale/particolarmente svantaggiosa in tale zona perch? :

? i portare alla formazione di difetti in corrispondenza dek

j <?>l 'interfaccia substratp/riyestijnento.

In o?rte forme di .realizzazione dell 'invenzione prefeH ;rrite in modo speciale, detta soluzione di materiale preour-t I

sore del rivestimento ? spruzzata verso il basso verso la ?

|faccia del substrato pome un getto di goccioline che viene j

<! >I iripetutamente spostato trasversalmente al percorso del subr

?strato. Ci? favorisce la miscelazione del materiale precur-:

sore del rivestimento evaporato nell'atmosfera contenuta nel

:la zona di spruzzo della camera di rivestimento.

Vantaggiosamente, detto getto di gas schermante ? spo-r

istato ripetutamente trasversalmente a detto percorso in tan:-dem. oon- il- getto- -di -materiale- precursore -del-rivestiment Ci? -con s ente- una .schermatura-molto-efficace ..per una .data-po tata...di -introduzione, di -gas.*. _ _ _ . _ - . In_c_e.rte forme preferite dir e ali z za zion e .d.e 11 ?in ven zib ne. sl.eo.ffia gas .verso 1.' alto., ..al di l? di ciascun , lato del percorso de l-Bub s trato nella _ zona-di -spruzzo.?? Tale-gaS-pu?. formare-ripari- che .servonO-a_pro_teggere_l e., pareti laterali della_zona -di_epruzzo _della_camera -di., riv_estimento .oontro -gli_. effetti- corroaivi -del-materiale-spruzzato? e_d.e.i.. suoi pr? -do-t-tl-di-reazione . -lali . ripari _di gafl-po.sso.no. .anohe. impedire B.1 materiale? spruzzato-,- particolarmente... quan.d o _.s i_s.pruz zan? quantit? -relativamente^-piccole ,_.di passare sotto il percorsa de 1 subs?rato_do.ve s arehha_dis_pan ibi 1 e per formare. . un__ rive - _ s.timan-tO--ind.esidera.to_sulla-Superfio_i.e inferiore.? d.l.Un. Buh-I

strato?.... Questo rivestimento ind esiderato pu? essere .pi? o m3-_no regolare, ma cos? sottile da ..dar p rigin e a ef f et ti di in**. terferenza altamente obiettabili? per esempio esso pu? essere un rivestimento pi? o meno regolare il oui spessore dimi?-nuisoe verso J.1 centro del substrato, o pu? essere un rive? _ stimento alquanto irrego lare oon un andamento che secondo aLt* cuni. ricorda i segni su una tavola da hackgammon. _

In alternativa vi pu? essere una tendenza di materiale j - I iatmoaferioo proveniente da sotto il substrato a soorrere vejrjso 1 <f>alto e a diluire la concentrazione del vapore di precu{i sore specialmente ai lati della oamera di rivestimento. Sue ? -indesiderabile- poich? pu?? portare -a - un-^in su-f f-ic-ien t e deposizione- in? fase-tapore sui margini? di un subetrato o a un? condi zi onamen t o- in s u-f ficien-t e ? de d-margini -rive s-ti-t i di -tale-substrato-, e-di conseguenza? in forme di. realizzazione particolarmente Vantaggiose dell 'invenzione, per -almeno una parte -delia lunghezza -della- camera^ di -rivestimen to -si_.impe^= diBoe -il flusso, di materiale atmosferico , al di . l? dei-bordi laterali del. .sub strato__e.-_tra...zone...pos.te-. verticalmente, sopra e verticalmente sotto il substrato.? _ _ _ _ I?_f orme _d i. re al iz zaz ione. .s.pe. oialmente...preferite dell intenzione ?, si generano forze . di aspirazione in oondotti. di scarico, laterali .disposti..in. modo .da . far. si ohe il material i atmo.s.fe ric.o. _sopra il substrato fluisca terso 1 ' esterno. ,. allo? ir ianandosi__dalla parte centrale del percorso JLel. s.ubstr.ato ,.. per almeno una parte d ella lunghezza di detta camera d i rive? stimento. L?adozione di questa caratteristica preferita d? vantaggi ohe sono considerati di particolare importanza. Essa favorisce una buona diffusione dell 'atmosfera carica di precursore sull 'intera larghezza del substrato , aumentando cosi la larghe z za rive et ita _b en fin ita del subs trato^ In o 1 tre . P i? i permette una/t empast iva rimozione di prodotti della reazione di ritestimento e di materiale precursore del ritestimento in eccesso che potrebbero posarsi sul rivestimento mao chiana dolo. Aiuta anche a rimuovere materiale precursore del ri?j

vestimento in eocesso_ e prodotti d_ella._re azione, di rivesti?

- .46

] lento in uno stadio prima . che essi ragg iu_n gan_o . l 'estremit? di -tale- passaggio.,-, riducendo^ cos?. il .rischio di corrosione delle-.sue ..pareti,.. Ancora, se .l 'atmosfera proveniente da _sot-? . to_ il-percorflQ_de.l__s.ub.s_t.rat.o_ tende a fluire verso l 'alto al . Li _l?_de.i-B.uo_i_ lati., ...questo . viene, impedito, nella . zona di a-. apiraziona verso l 'esterno. Questi vantaggi sono favoriti Si some.. si. preferisce., detto materiale atmosferico ? fatto flu? <? >. Lre. JVjsrs.o_lJ_e.ste_mo_ in una zona ohe si estende -per almeno . La maggior parte e preferibilmente .per sostanzialmente tutta la lunghezza di detta camera di rivestimento a valle del- <? >la zona di prima deposizione di materiale di rivestimento si.l lybstrato, _

In .certe forme preferite di realizzazione dell 'invenzio? -re, detto materiale atmosferico ? aspirato verso l ' esterno a un livello inferiore a quello del substrato, JJi6_?_vantaggioso peroh? facilita la finitura del rivestimento mantenendo uno strato di densi vapori di precursore del rivestimento in bas?-eo contrq la faccia superiore del substrato, Vantaggiosamente, si scarica del gas nell 'ambiente del substrato in modo da formare una corrente continua che scor<a>-re verso valle sotto ogni margine del substrato e i>er almeno una parte della lunghezza di detta ^camera di rivestimento.

Sorprendentemente , si ? trovato che l 'adozione di questa caratteristica preferita d? come risultato una signifi

l estiva ripulitura dell 'atmosfera ohe verrebbe a contatto con ? : ? i ! ' : -?l_v_eiro...prima. del suo...ingrBS8o._nella..-oamera._di_..riy_e.sjt.inien_t.O-,_ ! ! cosicch? vi ?. una riduzione... consideravo le nella, quantit? di.j j ; agenti inquinanti .presenti in tale .zona per formare depositi

js puri, sul vetro prima del_r.iv.estiflie_n..to ._L 'adozione di questa I

bara.t ter istioa. preferita consente anche certi vantaggi molto

i I mportanti nel ridurre rivestimenti! indesiderati della super- <. .>

_jf iole .inferiore.,, e per quanto riguarda la qualit? del rive- ! i ! btimento formato. _ _ _ _ J ? . ! ! Vantaggiosamente vi ? almeno tale corrente sotto il sub? \ ' i [ ; strato che scorra sotto l 'intera larghezza del substrato,, ,__L ? ; ? adozione di questa,.. caratteristica favorisce la pulitura del-r ! ; jl 'atmosfera sotto il peroorso del substrato in modo altamen? j

?Ite efficiente , evitando cosi depositi iniziali spuri di matei

j , : Orlale.. che. ?. stato trascinato in correnti di ritorno che scor?

i |rono sotto il substrato in direzione verso monte.

Preferibilmente , il gas soarioato per formare tale oor? ? ; jrente o tali correnti sotto il substrato ? preriscaldato ? . <'>

.una temperatura in un intervallo di 50?C di differenza risp?t?

to alla temperatura media del substrato immediatamente prima

idei rivestimento , in modo da ridurre ogni effetto ohe 1 * in le?

zione Ai .tale gas possa avere sulla temperatura del substra?

to e/o dell 'atmosfera nella regione di rivestimento .

! In forme di realizzazione dell 'invenzione preferite in

modo speciale , la camera di rivestimento ? sostanzialmente

Ichiusa alla sua estremit? a valle .per impedire interscambio.

ili .materiale -atmosferico -tra -1lesiremit?-a .valle della- carnea

ra -di-rivestimento e una regione, del percorso del substrato

incora- pi? a-valle. Tale -chiusura _pu?-per..esempio essere ot-r

tenuta da -una-conduttura di_.scarico che_._si estende.,su 11 ?.in.t.it

ra-larghezza.de Ila camera, di rivestimento alla, sua ..estremiti,

i -valle. L?adozione di questa..caratteristica, ha_.il vantaggio

d!i .evitare qualsiasi diluizione o. inquinamento dell-'a.tmos.fe??I:

I ?

jra...alilesiremit? .a valie de11a camera._di__riveatimen to_do vu t$L illa_re gio ne__pi? .a_vai1e, e ino1tre.-impe.di8_Q.e__ehe__.a_.o_rre.nti leU -'-atmosfera-della-oamera di rivestimento?_interferis.c.anp ?on_qualsiasi ulteriore trattamento del substrato. e_.depositii iio ulteriore material.e-indefliderato sul rivestimento. _ j_

! _ In_f.o.rme di realizza zi.one..partioolarment e.yan.taggios e ___j_

frali i nvenzione , il substrato di vetro ? un nastro di vetro I.

! . j ?saldo appena formato o il rivestimento ? formato dopo ohe ti?

<' .>

I

|Le nastro lasoia un impianto di ^formazione del .nastro ? pri-*

Jaa del suo ingresso in un formo di ricottura. La oamera di |

rivestimento pu? cosi essere situata in una posizion e in ou^

LI vetro ? comunque a una temperatura appropriata affinch?

avvengano le reazioni di rivestimento per pirolisi, oo sicch? I , ? j si si tano o si riducono sostanzialmente 1 costi inerenti a <">,un nuovo

/riscaldamento del vetro a tale temperatura? E' anche import in~ <">T!<7 . ? . >I te che il rivestimento avvenga in una oamera ohe e fisioamen?

te distinta dall?impianto di formazione del nastro da un lab?

to e dal forno di ricottura dall'altro? Se non oi fosse tal? <">i! <' >,C_-W_ <? >? distinzioaey-e -nelle proposte preoedentemen te -no te -in questo eampo ? comune -ohe -il -rivestimento- avvenga^ nella lunghezza del? forno -di-ricottura , allora -le-condizioni atmosferiche , nella -camera di-riveetimento? potrebbero essere -disturbate .. da-correnti. di -gas.ohe scorrono dal_forno._di .ricottura .e...dail: Himpianto? di-formazione deL nastro ? tali correnti spessa trascinano .polvere. e altri agenti inquinanti .che. -potrebbero venire incorporati ne l .rl.vefltimento come. difetti, ? e vi sa-? re.bbe_ anche il rischio che la. .distribuzione di oorrenti atmo a.f e r iohe .nel f o mo. venga d ie turbata po r t an dCLjooe? a oondi? zioni di ricottura meno, favorevoli. ... _ _

_ In oerte forma di realizzazione dell 'invenzione partioo ! lamenta preferite f si fa fluire gas preriscaldato verso _ valle in detta camera di rivestimento a contatto _oqn il sub*? strat o. L?adozione di questa caratteristica ? importante^ per favorire un flusso generale verso valle del materiale atmo4

. . . . .

, j sferico nella camera di rivestimento: ed ? importante per oorr dizionare l 'atmosfera nella Bina dove il materiale di rive l .. etimento si deposita prima flu? substrato? Per esemplo, in oertune di tali forme di realizzazione preferite dell 'inveri? zione, tale gas preriscaldato ? fatto entrare in detta carnei ra di rivestimento con una portatai maggiore jsui margini del substrato ohe non sul centro? Ci? consente una compensazione .

<"" . .>. . <_ ' " . . . >.

almeno parziale del raffreddamento dell 'atmosfera nella oa-j i <?>e?a Al?..reazione .dovuto al contatto con .le sue pareti, late-*:

? -"50

rali?

- Invero,? la-pre B en t ? -invaa zione. pud. vantaggi osamente ? s nostra

_ aere oombinata?con- l<1 >invenzione-descritta in-^deiLta/domanda? parallela__di_Br.evet_to_Briiann.ico _depo_aita?a anch <?>essa<">'!! ;'2G_i>lc sabre 1985 ?? Domanda S, _ )_ oo_n J.1 rifer??

In sui un substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o n?-viaggia in una direzione verso valle sotto una

11 rivestimento ohe si apra verso il basso verso il substra- : to e in cui al forma un rivestimento sulla faooia superiore li_de tto substrato partend o da materiale precursore del rlv^ stime nto, caratterizzato dal fatto ohe ai controlla l 'ambieif' be gassoso nelle immediate vicinanze della faooia superiore lei substrato, atamano in una zona in cui comincia tale forma:? del

sione/f rivestimento^ introducendo gas preriscaldato in una direzione verso valle in detta camera in modo ohe eseo entr:.

camera a contatto con il substrato e formi uno strato li oopertura che o o pre il subs t rato almeno per quella zona? La presente invenzione ? particolarmente adatta per la formazione di rivestimenti a velocit? di formazione e-Levate, per esempio a velocit? superiori a 20 ntn/a, come pu? per esempio richiesto per formare rivestimenti relat ramente spessi, come un rivestimento con uno spessore tra di vetro

500 nm. e tOOOanm., su un nastro/appena formato nha ai apn si a.

r5c? di par e ochi-metri? al minuto-da-una vasca-di? galleggiamento <n >litro-impianto- -di-formazione-di? vetro? piano.

TTn- us 0? pa rt i c o larme nie-impo ri ante? per_un? pr.o.c ed i mento ? ? ! -<" >S ? oond o?l-Ilnvenzi on ?? ?? dato^d alla -forma zio.ne_dl_rive stimanti. _ _

! di-ossido? di stagno? utilizzando? oloruro_stamiOBa?Gome_maieriaT Le_ procura o re_d.e.l_rixfl ali mento_._ Rivast imenii? di_o.3.eido __d i. JB_l[ ao_,_._oha?r_iducono. i 1 potere emissivo nei confronti di radia? zioni infrarosse di lunghezza d 'onda elevata, delle superfl-r ;i di vetro a otti sono applicati? sono largamente usati peri ridurre il trasferimento di calore da strutture a vetrl<r>; Na4

r | <1 >buralmente questo ? solo un esempio degli scopi per oui il ? procedimento pu? essere usato. Come altro esempio ? il pr? pe ? i !

dimento pu? essere usato per formare un rivestimento di bi?; jssido di titanio , o un rive stimento di una miscela di OBB ?-?? di pome una miscela di ossidi di cobalto, ferro e oromo.

SI descriver? ora 1 invenzione eoa maggiori dettagli? [ aon rlferlmen to_ ai disegni sohematiol allegati di varie for--me preferite di r ealizzazione di un 'apparecchiatura secondo ij*invenzione e dando .e<;>sempi di procedimenti speoifioi se oorr do l 'invenzione realizzati usando tale apparecchiatura*

?

Nei disegni, ciascuna delle figura da t a 4/una vista laterale in sezione di una forma di realizzazione di apparep?hiatura d.i rivestimento secondo l 'invenzione, e la figura 5

- - - - - - -

? una sezione lungo la linea V - V di figy 2.

uniappareccliiatura? per_fo.rmaia? per? piro.lisii_aompos_to .metallioo_su-.una_faecia_superio.

j :a_di_u:n_subat rato_l_1_d i_vei ro_ca ldo_ so_t_to_forma_d i_la s_t re_arlas.trO-.oo.mpxeude_organi? traspo.rtato.rii come._per_e.Bempio rul-*? _?9 r_jt r_aaEftrjfc.a re. jta l.e_su? sJt r.ai.o_in_uiia_di.i^e z ione jnsrs 0-valler?? lungo? un? percorso? indicato? anobdesso? con? il-ri-fer-i^

^en-to_-t?? IL-pexoorso? 1? passa-at-traverso-una-atazione-d?-rir--Va&?imen-to-4-COmprendente-una-S-trui-tura-a?te-t?o^,-olie? definii qos-Una? camera-di riv-es-timanio 6 che si apre-verso? il? basso percorso t del

^il^subs-trato-^e-Un-ugello? di-spruzzorsohemat?Oamen-?e- rappresenta-* fo. in -7,peT_spruzzare_un_getto di .soluzione? ?i ? precursore _de ? 1vesiime.nt o?.nella ?camera?6-j?inuna direzione ?8_verso?il?bas o_vexsjJ? il_ substrato? i._

A(_iugello__di_s_pr.uzzo__7-..? disposto in_ modo_da__s.pruz.zare ? 1 getto di soluzione di precursore del riva s_timen-t.o_in?una zoa di spruzzo 9 della camera di rivestimento 6 da un 'altez za

i almeno 75 om sopra il percorso del substrato t. Nella foi m|a di realizzazione illustrata? l ?ugello di spruzzo 7 ? di? sposto in modo da spruzzare materiale -precursore del rivestir mento da almeno 1 m, e preferibilmente almeno 1 T2 mT sopra

m percorso del substrato 1 , ed ? di un tipo ben noto in s?.

'ugello ? disposto in modo da spruzzare la soluzione di pre*-e arsore del rivestimento nella direzione 8 verso il basso ve:

so il substrato e verso valle 3

re a aitata}

53

BU_ tuli a-la? largii ez za-de X? parco rs o- d al substrat o-.

-Sono? previsti-mezzi? 41 riscaldamento? per? fornire? calore a . ,-d e t t a-zo na-di? spru z zo^?Ue 1 la-fo-rma-di? r a a lizza zio n s? i llu-? strata-*? tali-mezzi-di? riscaldamen-to-compr-endono-risoaldator adianii?lO-riv-olti-V-erso? il?<' >bas a o? disposti nel-soffitto-de! .

re,? ?-previsia una-conduttura VI? per? soaricare-una-c te ? di ? gas ? pra riscaldato-nsl la-zona-di spru zzo 9> in? dire z io ?e?tala-da-interseoare -il-ge?-to? spruzzato? di- materiala?pr.8~ aure ore-del-rivest imeni 0-._ La conduttura 1 t ha l ?apertura di emise i?ne 12 situata urve Ila-met? superiore-delilaltezza-oom?!-presa-?ra-l- ugello-di-spruzzo-7 ?-il-sabsiraio? 1,? ed. ? diaposta in modo da Boarie ara tale? oorren te di_ga B_ da_mont e ri spetto alllass0_8? di_emiesione_deLgat4o? di-praoursora? dal rivestimento . L*apertura 12 B? e stende orizzontalmente per tutta ..laJLarghaz za_d el pera orso J? del-B.ubs_txato e veriioal-: . aanta per_il? terzo? superiore delLlaliezza-delliugello di sp: ruzzo 7 sopra il substrato di va? ro. Il gas_ BO ar.i ca.to dalL!ori: i_12_? .diretto? iniziai menia-sosianzialmente?i

te.,_ su tutto<;>; _il_per.oorao? trasse reale del. getto 7 _di? goucicur. line>^per-man-tenerB_-Una. oircolazione_d3^gas?.nella_zoj?a. di spruzzo? 9-.-Il gas emesso... ?._cojiv:en.ierLtecnente_prsrisoflldato., per es.emv pio_ a-una_tampara.tura media-Comprssa_nall_!intervallo .da?3QO ac_ ?C? Uria saldato ri 10-favorisconO? li&vaporazlons-dei.so

5^

rente dalla- goccioline? spruazat-e-durante-lX-loTO?peroorao? v.3I?-so? i-1? ? uh strato ? 1? ohe? pu?? al-lOra-eSBe-re-irassinato nel? gas Galdo? emesso ? - - - - -In-Una^variante? opzionale? di -realizzazione , -la-GOndut-tii? ra? li? ?-d ivisa-ifi? due? condotti ..tenalnan-td-in un-lapertura-su,? -

ipano la posizione delllapertura? 12-?? cosicch?? in? tale? zona si-possono-scaricare corren-ti-dj?gas- La_ temperature-diverse per -eaemplo? 300? G? 8?500? C-^ a -livelli dlv-eral-La atm-t-tura-a? teito?S-de 1 imit ajin.a_par?.a_di_pass aggi o 13 della?oamera-di- rivestimento 6._che_porta a valle dalla zona di spruzzo 9 e oo.nf eris c e_alla_ camera? d i. rivestimento-6 una lunghe.2za_to_tal.e_di almeno 2 metri-?? e_pre.?exH)llmen-ts. uria lunghe g? za di _almen o ..5? ia?-tr:L.? ITe.lla-.fo rma _di__r_ea lizza z io: ?._illusi;jr.at.a_,__la..e_tjaii?UTa.. a te^_to_5_in.olude?una_par_e?e_i ponte 14 sopra il percorso del substrato , la quale si ahbas<1>? sa sostanzialmente verticalmente per definire una fend itura ii uscita 15?a 11 ' estremit? a valle della zona di spruzzo, oh' ? Bepara quella zona dal passaggio ? e il passaggio 13 ha un 'a! L.? tozza so stanzialmente uguale a quella della zona di spruzzo 9. L'altezza della fenditura di uscita 15 ? inferiore a met?. dell ' altezza tra Ingollo di spruzzo 7 e il substrato 1.

A monte dell ?asse di emissione 8 dell <1 >uge Ilo 7 di spru s? del precursore, ? previsto un ugello per un getto di gas Bohemal.ioamenie. .o

" 55"?

I; i_verso_il.. <">baBacr _in_. prossimit?..dalla ?.?.????? e J

sore -del rivest i mento_. in .mado-. d a . schermare__il . _mat eri a 1 e__pr.e?_ _ jcurflor.e_del_rives-timen.to_spruzzato-.-..L 'ugello . .16. per. il., gettp _ _ jii..gafl_?__aocoppiato_alllugello 7 di spruzzo del rivestimpntp ! modo da j _ , irr.? /?.post.arsi .rlpe-tutar?B.n.t.e.-.co.n. qu.eP-to lungo, la .guida trasver-. _ leale* TTn effetto prino ipale di questo getto s ohermante di gas ? quello di impedire il trasoinamento di prodotti della re aizion o e altri agenti nella parte! posteriore del getto 7 di materiale precursore del rivesti?;.

. Intento mentre questo viaggia verso la superficie non rivestiidel 1

_ Inwpn il paesaggio alto 13 sono d'ispo ste?^ condutture di di JBcarioo

agarico 17, 18, 19 e la conduttura/17 all?estremit? a vai le j della camera di rivestimento presenta un imbocco- 20 posto, sbl pra. il percorso del substrato 1 ed estendetesi attraverso i i almeno la maggior parte della sua larghezza? Sono previ? _ i_ |eti __ diaframmi* Oome il diaframma 21 * che sporgono verBp l 'ita? ! i . ? <">? <? >i [temo dalle pareti laterali della carner a di_ rivestimento 6 j _ | i I j !per impedire il flusso di materiale atmoBferioo al di l? dei lati del percorso del substrato e tra zone poste vertical mente sopra e verticalmente sotto tale percorso per tutta *_ ila lunghezza della zona di spruzzo 9, j?ove 1' atmosfera^ sar? _ i ?*

|pi? ricca d? materiale precursore del rivestimento* Quei dia^ ! V :framml possono essere montati su perni sulle_ pareti laterali! | della o?rnau di rivestimento

- 56

sa , da puntoni filattati in mor?a ohe la loro posizione sia

regolabile. per aviere un gioco minimo con il margine del_eub?

-?trato t?

-Sono previsti mezzi 22 per scaricare gas nell 'ambiente

lei substrato 1 per formare una corrente continua che scorri 1

iella-direzione verso__valle 3 sotto ogni margine del pero or- ?

30 1 del. substrato e lungo almeno Una parte della lunghezza

li tale percorso occupata d alla carniera di rivestimento 6.

I mezzi per scaricare gas sotto il nastro comprendono

. 23 - <' >-juattro camere in pressioh?/disposte, a coppie ed estendenti"

ai sostanzialmente per tutta la larghe zza della stazione di rivestimento 4. S?lla parte, superiore di ogni camera fcr. prea isione

23 ? prevista una fenditura 24 bordata da un 'aletta defletti:!?

se 25 in modo ohe il gas iniettato attraverso le fenditure i !4

<? >sia diretto nella direzione verso valle 3 lungo la stazione

li rivestimento 4? Le fenditure 24 si estendono per l 'interi l pressione

Lunghezza di ciascuna camera in. /\ 23 attraverso la stazio?

ie d? rivestimento 4? Se si desideratali fenditure potrebbi ?-\

ro essere sostituite da una pluralit? di aperture distanziapressione

te? Come si vede in flgt 1, sopra le camere in / 23 ? disposta una piastra deflettrice 26 in modo ohe il gas inietti lfco non venga scaricato direttamente oontro il substrato 1 ?

pressione

JS camere in.. / 23 poseono e ssere alimentate con gae preri b~ -scaldato da entrambi i lati della s tazione di rivestimento L?

ser esempio da ^cambiatori di oalore? Si pub usare aria come <' >

. gaB?^soarioato ,_e.._que.st.o -pu?^ess.ere^. facilmente. ..scaldato. ^per _ 3.cambio__tannioo _con i gas di... saarico ..della. fornace.._ Prefer?? . a.ilmen.t e .tale_gas.-A_.prs.rlfi.oaldA?-o_a.._una...t_e.inp.e.ra_t.ura ohe ?non

3? _ scosta pi? di 50?C dalla temperatura del. .sul strato qu.andp questo entra nella camera di rivestimento 6, _ _ _

Il gae scaricato sotto il substrato 1 PU? essere allon?-t anato. dall 'ambiente ..del. substrato 1 attraverso condutture li scarico opzionali (non rappresentate) aventi uno o pi? 1?aocchl ohe sf<s >estendono trasversalmente sotto il peroorso d< aubatrato e sono per esempio all in eate con l'imbocco 20 dello agarico sopra il percorso.? _

Sopra il peroorso 1 del substrato ? prevista una pareti li barriera 27 ohe si estende per l 'intera larghezza delire? stremiti a:- valla della camera di rivestimento 6 e sostanzia!.? aente chiude tale estremit?, in modo da impedire sos tanziai- _ mente il flusso di materiale atmosferico dentro o fuori dalla camera di rivestimento 6 all 'estremit? a valle del passaggio^^

La stazione di rivestimento 4 & posta tra I llecita d? un impianto di formazione del nastro (non rappresentato) .

per esempio una vasoa di galleggiamento , e l 'ingresso in un forno di ricottura 28?

;.?? paesaggio dall 'impianto di formazione del nastro al?* la camera di rivestimento 6 presenta un tetto 29, e l'es

<" >,L? it? a monte della camera di rivestimento ? determinala da

? 5?>

una -parete-oohermante-30-che-ecende-dal- tetto 2-9 del -passaggio? laeo-ian?o- un- piocolo-epazio? perche il substrato 1 passi i > ella o ame ra di rive s t imento attraverso- una fan di-tura di in 4 -31.

L?effetto della-pare te. -schermante- 30 ? di-limitare- il :?lusBO-di-materiale -atmos ferico da monte nella camera- di ri* <1 >restimento 6 in modo ohe. .le? condizioni atmosferiche -in- -tale Ragione poseano^eesere . oo.ntro.lla.te? pi?. -facilmente ? _

_ A..mon-te-della_pare-te_eoheiman-te_30-*? tra^uee-ta-e-una aii ?ond a_par.ejte_a ohe xman-t e_32.r_v_l ?? un ' an-t.i carne r a_33? in_ou i _e orj-? LO- previsti , ri so al d atori 3-4-Pex_pre.r.i scaldare ..qua lsiaei gas aspirato, nella . camera, -di rivestimento 6 tra la parete acl? r ipant e_...t t e il nastro. _1.? _ _ _ ; . ESEMPIO t _ _ _

una fo rma d i reali zzazione pratioa _apeo.if ica._.d_e.ll.*a: pare schiattir a. . r ap pr.e ss n t ata_in fig. t> .la _.came r.a__d i__ rives ?.?? 6

iento/? .larga un . i?_' .pi?_.d.i_ 3__mejtr.i? pe.r_ dar^?e.ede?a jiastri di yetro aventi una larghezza fino a 3 metri? La struttura a ts tp 5 sopra la zona di spruzzo 9 della camera di rivestimentc ? poco pi?. di 1 ,5 metr? Hop_ra ll_liyello del percorso l. del ! tas trp f e l ?apertura dell ?ugell p 7 di . Scarica delle gp co io 1 i ite ? vicina al livello di tale tetto. L'ugello J ? disposto in modo da scaricare un getto conico di goccioline con un ar gole di semi cono di t0? e oon asse 8 inclinato di 47? riapel{-o all ?orizaontalet Ujige l.lo__ 16? per. il _ge_t to_ d i.gas. ha 1 'uso i--59

! .. ? ?<l?>. ! . _ ta_ 25...cm._pl? ? in bassa e 7 ?B/a .y:alle__risp.ei_toL?all.lugel.lo_ di j ; i . . - spruzzo 7 ed ? .disposto oon il . suo, .asse, a 60? . rispe tto all 'oh- .

i i i _ rizzontale. L 'apertura 12. di. -emissione. di gas ? alta 5Q cm, :

I : don il livello super iox.e.-all 'alte zza dell 'ugello 7 ? La pare-?

i ? .. te . a ponte 14 all-'estremit?-a. valle-delia zo.na_.di?Bpruzzo 9 | <" ' >\ . -?-separata .dalllapertura. ?? di ...emissione della corrente di _ I , j _ _ _ _ ^;ae...da_una. dis.tan-za_d.i_2.? .fi-m?- _H_ passaggio .1.1. ha la stessa !

_ altezza-delia zona di Bpru220__9__e._la?f.endi_t.ura- di...us.o.it.a 15 I .

j - ? ; _ _ ha._un.ia Ite zza.di 50 em. ao pra il livello de !L percorso d el .na-

_ atro 1. La lunghezza di tale paesaggio ? d? 4 metri* _ ] _ i ! ! j _ j _ I^appa-rftnnhiatura ? progettata particolarmente per la _ i ! _ _ deposizione di rivestimenti di ossido di s tagno partendo da ] i

i ? ; ijina soluzione di cloruro stannoso come materiale precursore ; j | _ del rivestimento? _ _ . _ _ _ ;

? : ? | Usando tale japparep oh ia tura, el form? un rivestimento I : I k | . di. ossido di stagno spesso 750 nm su un nastro di vetro speaii i so .6 mm- ohe si spostava a una velocit? di 8,5 m/mi n. H ve? I i , j jt.ro entrava nella camera di rivestimento a una temperatura j ? . di . (?.Q0?.0. e .il precursore del rivestimento usato era una solu-

.. . zione acquosa di cloruro stannoso contenente hi fluoruro di ;

_ ammonio per fornire ioni droganti nel rivestimento . Questa !

soluzione venne spruzzata dall 'ugello a una portata di 220

l/ora, mentre l 'ugello veniva mosso avanti e indietro trasv?r-

salmente al percorso del nastro a 22^ pioli al minuto . _ ;

i _ L' anticamera . 33_era so stanzialmente chiusa , e l ?atmosfera in essa ve^ne scaldata con riscaldatori a resistenza . eleiferiea...

_ _3i_.acc;eserp i riscaldatori radianti sul tetto della zof l ! pa di spru .z .zo e si sca .ric? . gas a .t.trave - .rso l 'apertura 12 a ui |~

| 3 ' pa_ portata di .7Q00 una temperatura di _4P0?C. Si | in | scaric? gas dalle casse/pressione.23.. sotto._.il na_stro a..una. i _ (temperatura di 600<P>C._ _ _ _ jj.

Kel ftinzlonamento si trov? che al momento in., oui .il geito di materiale precursore del rivestimento spruzzato raggiun-Seza . il ..livello. d.el__nastro Una.. pe roentu.ale sostanziale. del ohe

3olvente era evaporata dal gettoT lasciando/goccioline molto piccole di cloruro stannoso liquido e vapore di cloruro stannoso venissero a contatto con il vetro per dare inizio gila. formazione del r.ivestimento. La zona ?1 Bpruzzo 9 sopra_ i il nastro si riempi di unAtmosfera circolante carica di var_ ore di cloruro stannoso, e questa venne aspirata attravers? La fenditura di uscita 15 e nel passaggio 13 da forze di aspira: generate nelle condutture di soarioo 17, 18, 19? 3i trov? che l 'atmosfera nella camera di rivestimento 6 era! Isostanzialmente chiara) eccetto in prossimit? del getto di i goccioline , ci? che indicava che sostanzialmente tutto il i ~ <^ >i i

feloruro stannoso e il solvente fUori da quel getto erano in ' l . | Sfase vapore) cosicch?, per la maggior parte della lunghezzaj della camera di rivestimento 6 in cui il vetro era esposto kl materiale precursore del rivestimento, l?atmosfera in tale

^T6r?

ciamera .6.. era. sostanzialmente libera .da materiale? in-fase_.ll?-.. _c u ida-. -Naturai me n te. -il-jaa s Baggio.? 13? c.on teneva an ohe .. pr.od otti c i reazione. -Le - forze-generate-e.. la-geometria-di-quel passag--gio? erano? tali .che-..il-materiale-atmosierioo-.che._usciva dalla ? <? >'end itura _d i...usc ita. . -1-5? rallen-t ava..e_.i vapori di c lorurro s tan-2.oso -.piuttosto densi _ tend.evan.o_a. fo.rmar.a .uno .. stirato a oont a.t ? -<?>;o. con.. il_ri' vestimento in . formazione- per. consentirne il con~ _c ,iz io.namento , mentre i vapori man* ? .JLenfii...de 1 _s.olv.en t e . e . i . ]jr.odoti.i?della reaz.i.Qne_di. rive st iment 0 tendevano a., fluire i>iu direttamente verso .la. conduttura di scariC-Q_?. Come., r?sul- : ' ;ato di tutto olii il rivestimento formato . present? _ una j Ltruttura. cristallina fine all ?interfaooia vetro /rivestimeli-<?>;0 ohe favoriva una -Struttura di rivestimento un i forme d i a?? ;a qualit? e quindi buone qualit? ottiohe y e si ebbe cura di ei -itare l 'inclusione d i_ . prodotti della reazione di rivestimenh 0 ohe ayrebbero portato a difet ti. _

_ Particolarmente degna di nota era la nebulosit? molto "tassa e molto uniforme presentata dal vetro rivestito.

FIGURE 2 & 5

Nelle figure 2 e gli elementi ohe svolgono funzioni Analoghe a quelli illustraci in fig. 1 sono stati indicati con gli <s>tessi numeri di .riferimento.

Nella zona di spruzzo 9 all 'estremit? a monte della ca^" mera di rivestimento $ manca -.41 condotto di emissione di gas . . . .

!

11 ? che per? ? soatituito da una coppia di condotti 35 avent per-ture di.S-car.ico.-J.?-che _so.no_rivo.lte. 1 'una verso l 'altra je-r - scaricare gas- prerisoaldato- da-lati Opposti dell 'asse 8 del getto- spruzzato di materiale precursore del rivestimentc Ai- di sopra del - livello-dei . nastro 1 -non -? rappresentato- al" ijun? altro? me zzo-di-riscaldamen-to ..per? la camera, di rivestimer ;o-. -Le- aperture-di scarico 36 si estendono - per quasi

;ut??-la-la rgh. e z za- della? c amara -di ..ri ve.s_t ime n io . 6 e :aon o- c or :

i_nel? t erzo _superiore_del llal-t.e z za^de 11 'uge Ilo.. d i...s.] so? 7- sopra-il substrato . Itu una. variante., .le . aperture _.d.i. so?r : :?o a_3.6_ avevaELQ-_larghe_z^a_ffiinJ3T_e_ed_ftrano mop8p_avant_i_a_i?i? i L?et ro attraverso la zona di spruzzo in tan dem con l 'ug elio .ei_j5ipruazo _7_* _ _ _ _ _

_ Sul.. la to a valle della zona di spruzzo 9? la strutturi

? ...tetto...5-JL inclinata .yereo .il basso.. e. forma poi una parete verticale a ponte 14 in cui ? disposto un imbocco a piena l?rjbezza .3.7 per una. conduttura di scarico 3.8 per l ' aspirazioni li yapori_dalla zona di spruzzo per impedire la formazione ? li Qffni zona stagnante in essa? _ _ _

A valle della fenditura di uscita 15 sotto la parete a s>Qn_te_t.4_la..struttura a tetto 5 continua per definirei una sarte di passaggio 13 della camera di rivest imen to 6 , con La stessa, altezza della fenditura di usoita.

Lungo tale passaggio 13 sono previsti mezzi di scarico 3u ciascun lato della camera di_ rivestimento sotto il livel?" lo del percorso 1 del substrato. Questi mezzi di .scarico ..QO?>~

- 63 -,.

- prendono. una pluralit?, di-casse -di... scar iao-3-9- ape rte^-v.e reo -j i ? ! lJal.to- co muri-io an ti -con-condotti di. scarico laterali 40 ..-Dal-? j j la fig. 2 si noter? che . queste - casse di s carico 39 si esten-: dono su tutta la lunghezza. del. per corso del substrato occupaiche

. ta. dal passaggio. 13 e/in? effejtti. la_ cassa di scarico a monte . _ ?i? tr.o_v a._s.o.tto la _zona._4i__spruz.zo 9-, Sono previsti diaframmi . . che eporgo.no_:7_erso_. 1 '.alto . e_ver.B_o l ' interno dalle casse _ di scarico e si estendono sotto i margini del percorso del .

! i _ substrato e verso l 'alto tra i rulli 2__d_e_l . trae por tato. rg_._ . ! _ Questa disposizione d? un Efficace separazione delle atmosfe- _ _ re verticalmente _ so ora e verticalmente so tto il percorso d el substrato lungo., il passaggio.. _ _

; Per impedire al precursore del rivestimento ed altro m?verso il basso

teriale atmosferico di fluire/al di l? dei lati del percorso del substrato in una regione pi? a monte della zona di spruz-<; >r zo 9? sono previste soffianti 50_per scaricare aria prerisc?l-! * data in modo da mantenere un flusso verso l 'alto di gas relativamente pulito contro le pareti laterali., della camera di j rivestime nto in tale zona. Anohe oi? d? un certo grado di protezione di quelle pareti contro la corrosione dovuta all 'at? _ Biosfera nella camera. _

ESEMPIO 2 _ ; _

Si UB? l 'apparecchiatura di fig. 2 per formare un rivestimento dello stesso spessore ^ell 'Esempio 1 usando lo stesso materiale precursore e su un nastro di vetro dello stesso ap_eBBor_e._e_ . viaggiante. .alla., stessa velo c it? . Anche, l ?ugello 7-ara__c.o.mand a.to... come nol lles empio _1 ...La.. camera .di rive stimante . j6 aveva una lunghezza . totale _d i__7. ,5- metri. _ . _ .

H vetro entr ava nella camera. di rivestimento 6 a una | temperatura di 600?G , e si scaric? aria preriscaldata. a .500?C ?...Una portata. di 36.00.. Jto^/ora. da... ognuna delle aperture di scarica 36?. Come . risultato . la maggior parte del materiale spruzzato evapor? durante la sua traiettoria verso il nastr? ,

| :nentre un getto residuo prosegui e urt? con forza, contro il I .

L?aspirazione di materiale atmosferico sotto il livell?.

j lei pe rcorso lungo il passaggio tend e a mantenere in. basso u?

, 1 ; io strato di a tmos f era carioa d i vapori di precursore a co n4 batto con il nastro per favorire la_ finitura del rivestimen4 to ? L ?aspirazione venne effettuata per una portata totale di ?

Isirca 70,000 nrVora a una temperatura media di circa 350?C. j 1 _ Anche questo diede risultati eccellenti in termini del? 1 a qualit? uniformemente alta del rivestimento formato , spe-f cialmente per quello che riguarda il suo fattore di nebulosit? basso e uniformemente basso .

FIGURA 3

In figura 3 , gli elementi che hanno funzioni analoghe ? 4uelli illustrati nelle figure 1 e 2 sono di nuovo stati in4t !

dicati con gli stessi numeri di riferimento .

La zona di spruzzo 9 ha forma Bimlle a quella rapprese?_ riscaldato in quella ???? comprendono lina conduttura di emit

siane 42 terminante in una pluralit? di aperture di iacarioa

?e.ljt e 1.1 o_5__d_e 1 JL a_o.ame.r.a_i.i_rixss timento ?r...d.i &tiibui?_e__eu 1.1 < ? _ . ' aaggior parte d eli 'area di questo. La guida dell 'ugello di

ipruzzo 7 corre lungo una parete terminale a monte 43 della

samera di rivestimento.

Sotto quella pafflbe terminale a monte 43 r la parete sch< iroante 30 rappresentata nelle figure 1 e 2 ? sostituita da u--ia parete a ponte 44 ohe lascia una fenditura di ingresso

51 alquanto pi? alta? in modo ohe dall'anticamera 33 si posla aspirare pi? facilmente materiale atmosferico in contatto con il vetro e nella camera di rivestimento?. Se si desi-'

lera quella parete a ponte 44 pu? essere regolabile in alte: isa per variare l'apertura della fenditura di ingresso 31 ?

45

5? prevista una conduttura aggiuntiva/di emissione di gas p? ir <? >scaricare gas preriscaldato verso il basso nell 'anticamera

per controllare lo strato di materiale atmosferico immediatanente eopra il substrato 1 fino almeno alla zona dove il gato .di materiale di rivestimento 8 urta contro il vetro .

Oleata forma di realizzazione della presente invenzione fa

-quindi uso dell 'invenzione descritta e rivendicata in detta

nostra domanda di Brevetto Britannico depositata <?>iarjch 'essa

/ il .20 Dicembre 1985 ^Domanda N. ). con il riferi<i>

aento_ dell 'Agente PJ28 STONEEPSUGE 536? _ _

/^T66'

- Come ? in? fig?- -2 ,-il .passaggio ha la stessa- altezza della fenditura di usolta -dalla -zona -d-i- spruzzo.- . .

Ali-estremit? a valle del passaggio 13 , si aspira materji .a^ le -atmos ferico snella - conduttura -d i- s carico - 46 -avente-un im?? hocco -47- definito in- parte-da. una presa-di scarico -curva- 4& ohe si estende sopra- il -percorso -dei-substrato - 1 - per - 1 -inte ra-larghezza del-passaggio-e-ohiude Bce.tanzialmente la-suaestremit? a valle .?Tale -presa-48 pu?-opzionalmente?essere-. abntata-inoerniera-ta in modo . da poter, .essere- regolata, per a^ vere -Un -gioco, minimo? oon? il-.suhetrato -? .-?? che all-'estremit? a -valle- dei-passaggio?' 13- il Jaater.iale. atmosferico. ? _aepi? rato in condutture di. scarico- 49 poste da .ciascun lato della, camera di rivestimento., per favorire una diffusione Ih? tarale del. materiale atmosferico ohe fluisoe lungo la camer i di rivestimento. A tale materiale, si impedisce di fluire sot to. il. substrato con diaframmi come il diaframma 21 ohe spor gono d alle .pareti .la?arali d ella, camera di .rivestimento sopra i margini del eub strato sostanzialmente per .tutta la lu^j ghezza del passaggio e ohe si estendono bene nella zona di spruzzo, fino quasi alla sua estremit?- a monte.

_ ESEMPIO 3 .

Si us? l 'apparecchiatura di fig. 3 per formare un rive;-stimento di una miscela di biossido di titanio e ossido fer*~ .riqo.su una lastra, di vetro spessa..5 mm ohe viaggiava a

10 .m/aiin,.. usando una soluzione. .di. .partenza di. aoeUlaoetonatp =J>7

j?i- .tit?nio e acetilaoetonaio -dl-fexro~(XII-)-.? H- ??-tro -! !

jtrodotto-nella camera di rivestimento 6 a una temperatura di

|?80<0>C e quella camera era lunga -6- metri. .

i ' |

i Si soaricS la soluzione a una- portata di oirea 80 l/ora

j

con una- pr-essione di- oiroa 25 bar^-per-ottenare un rivesti?

inen-to-S.pesso -45 nm olle era giallastro e -altamente rifletten<t>i?

i :

jte. . L.'.ugello.-di. spruzzoler? ..posta a__unialtezza. di 1,2 metri ;

! ? i

po-pra_.il_n?eLtro., . -inclinato JEi 30<?>. rispetto all 'orizzontale , <;>e venne

mosso avanti e .indietro. attraver8o?il_peroorso del subetrat?

I i ' I

a_-Una_frequenza_di_ _20_oift.li_al_minutOj _ _ _

_At trayersp._il tetto della zona di spruzzo ai soffi? a?;

pria preriscaldata, a una temperatura di 350?C oon una portata

di oirea. 15QQ Rnr /hT e si soffi? verso il basso nell'antioa-^

mera 33 aria orerisoaldata a una temperatura di ?80?C oo_n UT

na portata di oiroa 3000 Sto^/h. Parte del getto spruzzato e-! . .. ;

vapor? prima del contatto .e.Qn il vetro e parte continu? .per ;

i ! I

Urtare con forza contro il vetro. _ _

; . La portata di aspirazione nelle condutture di scarico a

valle .46?. 49 ib. regolata in modo da compensare la quantit? ;

i ?

totale di gas soffiato o aspirato nella camera di rivestimen<- >\

nel dovuto

to, tenendo/opnto la creazione di gas nella camera dovuta al? l'evaporazione del materiale spruzzato.

Questo procedimento port? alla formazione di un rivestimento altamente uniforme e sostanzialmente privo di difetti.

- FIGURA 4

<">68

_ Come, prima .gli<' >elementi- che- svolgono -funzioni analogh?a ?uelli_rappr esentati nelle . figure? pr eoedenti -sono indicati Con ..numeri di. riferimento . corrispondenti? _ _

Nella forma di realizzazione di fig. .4.j ..l.'ugello di spiuz? zo _7_ unico., animato di moto alternativo , delle, figure, pre.oe-f i c.enti ?_ sostituito da-.una? plurali.t?.di tali ugelli-, .se.bb en e . j?

<1 >iiolo-Uno sia- .rappresentato. -Questi ugelli _7- ai muovo.no.. avan? .

i , . I ;i .e indietro lungo parti di._una..guida (non . rappresentata.) L j cihe oorre tra una. coppia _di . oo.ndot.ti.di . emissione di . gas 35 J iiV.en.ti. aperture di soarica/}in.clinate yerso il basso che. si . er \-? tendono per 1 <,>ir-t.era..-l.argh.e_z.za. d,e.lia_ .camera di rivestimentoj. _ La strutturala .tetto 5 .si. abbassa.. secondo un pr?. fi lo con-i i flnuo e in parte curvo sopra la zona di spruzzo 9 ? ?..continua ad abbassarsi cosicch? il passaggio 13 ha altezza decrescente tjella direzione verso valle , ohe facilita un flusso

B onerai me n te ve rso valle di materiale all interno della carnerivestimento 6. .Come. in flg? 3 , sono previsti condotti; i s oarioo laterali 49 per aspirare materiale atmosferico^ dal passaggio all 'estremit? a valle di questo ma in questa figli-1 teli aspiratori occupano leggermente pi? della met? della lunghezza del passaggio. L'abbassamento del tetto 5 del passaggio compensa la quantit? ridotta di materiale che fluisce! lungo il passaggio a causa di questa aumentata aspirazione .

All 'estremit? a monte della camera di rivestimento , la farete terminale 43 si abbassa fin vicino al percorso del sui>?

69^ -3trato.-X, sostanzialmente, chiudenda-.que 11'.estremit?. -della, ca-

-nera ,?e-immediatamente. a-v.alle.-di ..tale parete terminale -? ..

previsto. un condotto .ausiliario. 52-di. emissione di gas per

.scaricare gas. ..preriscaldato nella, camera, adiacente. al substra?

to,.in ..modo cbe fluisca .verso ,valle .per condizionare .1.'atmos:?e-

.r.a,.a_coji.tatto._...coiL_ilj3.ub.s_t.ra?.o_..dov:.e_que_e?o__e.ntr.a_iniz.ialme*it?e.

.a...contatto.,con il materiale precursore- del rivestimento, e

per__impe.d.ire--l.'.ac_cumulo.^i .vapQre.-pontr.o.la.farete terminale

a monte 43.?. _ _ ._ _ _ _ _ _

All.'estremit? .a valle della _zpn.a_.di_,spruzzo ? sono pre?

visti_?n_. paio..di. ugelli .53 d_i.emissione di un getto di gas,

diretti. orizzontalmente e inclinati verso. l 'interno, per tra

3.0inare il vapore di precursore del rivestimento cbe si gene?

ra nella ..zona di spruzzo verso l'interno ,.allontanandolo, daj

le., pareti lateral i del passaggio ,_.._e_.vereo valle?_

_ ESEMPIO. 4 .

Si form? un rivestimento spesso 400 nm di ossido di

stagno drogato oon fluojro su un mastro di vetro spesso 4 ram|

<. >;

1 jshe si spostava da una camera d? galleggiamento a una veloci-

<.. >?

t? di 8,5 m/mln per entrare nella stazione di rivestimento <

a una temperatura di 600?C^ La camera di rivestimento aveva}

anajlunghezza totale di 8 metri? _ !

<. .. .. '. "" . >?

?. precursore del rivestimento usato era una soluzioni .

acquosa di oloruro stannoso contenente bifluoruro di ammonio i per fornire ioni droganti nel rivestimento.?.. Questa soluzione

CJ OK

EU? s pruz-zata. dagli .ugelli oon- una. portaia.-di 1 tO-.l/ora..- .Gli ?gel-l-i- erano tutti -paralleli- -ed erano inclinati rispetto al-? L ?erizzon-ta-le di 75?? Essi erano posti 1,5 m sopra il substr afcO'? - - - - - . .

a 550?C

Si-scaric? aria preriscaldata/a una. portata- di 5000- Sta.-<1 >A dalle -due-aperture di soarioa- 51 -per. -trascinare, soluzione d: precursore- -evaporata., -?.-1.'aria scaricata . dal. condotto. _ausil :.a-_eio? 52_di? emissione di _ gas. era anoh 'easa preriscaldata a _50(j> , li . controll? .l 'aspirazione, sopra il_l ive Ilo. del.substrato, per bilanciare la .quantit?, di gas introdotto, o. formata, nella ca-l? mera. di. riVAStimento . e_.per favorire un .flusso generale vera p :ralle_.di materiale?. _ _ _

_ Dai_m.e.zzi ...di. emissione 22. sotto, il ^percorso del .substr^? to si scaric? aria preriscaldata a 600?C a una portata di i<QQ>CLAn? A?? _ _ _ _ .

Anche, questo procedimento diede, come risultato la forma zione di un rivestimeli to aitarne nte. . uniforme, sostanzialmente esente_.da._difetti lpc.ali e. con un fattore .di nebulosit? mol? to basso e uniformemente basso. _ _

ESEMPI 5-8 . . .

In una variante di ciascuno degli esempi precedenti, 1^ apparecchiatura illustrata ? utilizzata per formare un rive ?-9tomento su vetro che ? e tato tagliato in lastre e poi nuovamente scaldato, con procedimenti che per il resto sono co-?.?. dess.ritti <, >g? .ottengono? risultati ..simili?

. . BI7EMDICAZI0HI

i- - t* ? Apparecchiatura per formare per pirolisi un rives.timen-to-di un composto metallico su una faccia-superiore di .uk. i > i

subs-trato,di vetro caldo sotto forma di lastra,o nastro,.com-I I

prendente organi trasportatori per trasportare detto substrato...in_una direzione.verso valle lungo un percorso, una stazione di-.rivestimento.comprendente una?.struttura a tetto ohe dej

finis_as__una?camera_.dl_rivee_timsn_to che si apre verso il bss-I

so..s.u.detto,.percorso.,_<? >?<?>zzi.per spruzzare una_e.o.l.u.z.i.ore di Un pr.ec.ur_8.o.re. del rivestimento in detta camera,verso il bas-. _.|??- verso . il substrato ,_ ca ratt er i z za t a _ d al fatto ohe t i_ .mezzi _ ; ; di spruzzo sono disposti in modo da epruzzare.detta soluzioke.di.precursore.del rivestimento in una zona,di spruzzo dii 3

detta camera di rivestimento da un 'altezza., __s.Qpr.a_il percorr so del substrato , di almeno 75 cm; sono previsti mezzi di riscaldamento per fornire calore a detta zona..di_spruzzo J detta .struttura a tetto definisce una parte J.i._pa ss aggio di detta camera di rivestimento che porta a valle di detta zona di spruzzo e conferisce alla camera di rivestimento un.a lunghezza totale di almeno 2 mj e sono previsti mezzi per generare i

forze di aspirazione sul materiale atmosferico in detto paa? saggio per incoraggiare tale materiale a fluire^ lungo il percorso del substrato verso l'estremit? a valle di detto passaggio e a entrare in condutture di scarico che allontanano tale materiale dal percorso del substrato

7?-?

- 2... ?.Apparecchiatura. secondo la riv. I, in cui detta ca-

mera -di. rivestimento .ha una_.lunghezza di almeno .5 metri.

I l l _..3.?...?-.Apparecchiatura secondo la riv. 1 o2r in cui. de.tr .

. ti .mezzi di. .spruzzo ,sono .disposti , in. modo da spruzzare dettp i ! asteria le. precursore del. rivestimento da una sorgente che si

trova-.almeno .1. metro , e preferibilmente .almeno. 1 ,2..metri , s<j>-

pra_. detto. -percorso, del substrato.. _ _ _ _ _ |.

! .. 4? ."*? Appar.ecchiatura_Be.co.ndo. .una qualsiasi delle, riven??

iic.azi.oni. precedenti ,... in cui., al l ?estremi t?_ .a. valle ..della zq ?

ma di spruzzo , detta struttura a tetto si. abbassa sostanziai?

mente verticalmente per delimitare una fenditura di_ uscita.

I

ohe porta in detto . passaggio ._ _ __ _ _ _J___

! _ ?. ~ Apparecchiatura secondo la riv. 4, in cu i 1 ^altezr^

j sa di detta fenditura di uscita ? al massimo met? dell 'altez-. . . <" >.. . . <' >1.

! za tra la sorgente di spruzzo e dotto percorso del substrato .

i __ 6? ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle riven??

iicazioni precedenti, in cui .almeno una parte della lunghez??

I

za di detto passaggio ha altezza minore della zona di spruzzo .

. i _ 7 ^ Apparecchiatura _secondo_ una qualsiasi delle riveni I

iicazioni precedenti , in cui detta struttura a tetto coriverf ge verso il percorso del substrato nella direzione verso vai<1>?-

le lungo fletto passaggio ? i o . _ _ ; ! ' : | ' j i 8. ~ Appareoohiatura seoondo una qualsiasi delle riverr? 1 7

, <~>

in cui detta struttura a tet <.>

to<.. >? (iicazioni da 1 a 6 include <"'>

. .

Una parete a ponte sopra il percorso del substrato, la qual?

: definisce una fenditura di...uscita,dalla zona.di.spruzzo e Be-. para tale , zona .e. detto ..passa ggio , questo .avendo ..altezza s.upe riore a. quella, della fendi tura. di. .uscita? .

i. - Apparecch i.at.u ra_ s_e.c ondo.. un a .qual siasi de. Ile. riven ideazioni precedenti in., cui i_mezzi di spruzzo__sono atti a spruzzare il materiale precursore del rivestimento verso il basso e nella direzione verso valle..

_ 10.,__? .Apparecchiatura secpndo.una . qualsiasi delle rivenjipazioni precedenti, in. oui sono .previsti mezzi per scariare .materiaia precursore del .rivestimento e almeno un get-_to. di _ga_s in detta zona di spruzzo? in direzioni che si?? in te secano.? . . . . . . ...

11, ? Apparecchiatura secondo la riv. 10, in cui almeno uno di tali mezzi, di scarica di gas presenta un?apertura di scarica posta nella met? superiore dell?altezza tra la sor-<1 >gente di spruzzo e detta faccia del substrato.

12. ? Apparecchiatura secondo la riv. 10 o 11, in cui sono Previsti mezzi per preriscaldare almeno detto getto di i

[gas. _ __ _ _ _ _ __ _ 13, ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle river dicazloni da 10 a 12^ in cui almeno uno di tali mezzi di soa irica di gas e atto a scaricare detto getto di gas da monte j

jrispetto all?asse di emissione del getto di precursore del rivestimento ... I_ 14? ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rive?^?

I dicazioni precedenti, -in- cui sopra -la zona-di-spruzzo- sono previsti -mezzi di riscaldamento per -irraggiamento rivolti il basso

- 15?-?-Appare eohriatura -secondo una-qualsiasi- delie riverr ideazioni precedenti, in cui sono previsti mezzi -per scalda re detto passaggio dall'alto. -.

- ..Appareochda tura secondo una quale iaai-delle-riven dioazioni precedenti, -in- cui u-mon-te.dell-'.ass.e .di.emissione dei mezzi di spruzzo-dei precursore-sono. previsti-mezzi per scaricare un .getto di gas..verso _il_liae.so_in-_prQS.sArait?-,di.--. detto asse di .emis.sione.,__in?modo._.da_sohermar.e_il-materiale precursore del rivestimento spruzzato. ..

... -?..Apparecchiatura secondo -Una qualeiasi_-del le _riven dicazioni precedenti., ..in cui.i .mezzi.-di -Spruzzo del precursore. del rivestimento comprendono, un. ugello .d.i_s.pruzzo e mepzi per spostare ripetutamente tale ugello lungo un percorso trasversale al percorso del substrato..?.

18. - Apparecchiatura -S.e.condo le_ r.ivendio_a.z.ip_ni 1.6 e. 17 in ..cui sono previsti me.zzi..per..spostare .ripetutamente tali mezzi di emissione del getto di gae eqhermaat? lungo un peroo rso trasversa le a detto percorso del substrato, in tandem con l'ugello di spruzzo del precursore del rivestimento.

_ 1.9?. ?.Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle riven? dicazion.i precedenti, in cui sono previsti mezzi per soffiar re. gaS-.ve.re.o__l_!.alto_.al di_.l?_di...ciasoun._lato_del ..percorso

75^

del- substrato -nella zona, di spruzzo-?.. . - - - . . ? L 20. - Apparecchiatura secondo una qualsiasi..d.elle-rivervr. dicazioni precedenti, in cui all'estremit? avalle di dettai. . camera di rivestimento.? situata una conduttura di scarico.| i

?che ha uno o pi? imbocchi, dia posti .sopra il percorso del subj

latrato .ed....estendentisi attraverso almeno la maggior parte del-_ la .larghezza, di questo. .. ... i _ I _ 2-l?_r_Apparecch.iatura..8econdO- la. riv.. 20, . in...cui indoor? _ I ! _ rispondenza, di tale... imbocco . di_. a carico_ sopra_il..p_er_cpr8o del? _ i _ : substrato ? prevista_una presa.di..scarico.,curva.._ _ ;_ _ _ 22. - Appareochiatura seoondo una qualsiasi delle riven*-_ jdicazioni precedenti? in cui sono previsti mezzi per impedire.il flusso, di materiale atmosferico al di l? dei lati del<: >percorso del substrato e tra zone verticalmente sopra, e ver??_ tioalmente sotto tale percorso, per almeno una parte della ;.

;

lunghezza della camera di rivestimento. _

23? ,? Appareoohiatura secondo la riv. 22 , in cui tali___j _ mezzi per impedire il flueeo comprendono dei diaframmi. _ j_ ' ' i 24? ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivsn?_ dicazioni precedenti, in cui sono previsti mezzi per generar_ 're forze di aspirazione in. condutture di scarioo laterali _ jper far s? che materiale atmosferico sopra il percorso del substrato fluisca verso l?esterno allontanandosi dal oentro di tale perooreo per

25? ? Appareochiatura secondo la riv. 24? in oui dette.

'^ 7-6^ condutture .di scarico laterali sono disposte in modo da-,aspiatmosferico

pare dette materiale/verso_1'esterno per una zona che si e? j atende sos tanzialmente lungo tutto, detto passaggio,

26. Apparecchia tura secondo la riv, 24 o 25 , in cui dette condutture di scarico laterali presentano imtnoahi si? jtuati_B0litp il livello del percorso del substrato .

! 27. - Appareochiatura secondo ?na qualsiasi delle riven -r i<. " >! Creazioni precedenti, in cui sono previsti mezzi per scaricaj I re gas nell 'ambiente del substrato in modo da formare una ciri ? rente continua che Bcorre nella direzione verso valle sottoj ogni margine del percorso del substrato e lungo almeno par?j te. del tratto di percorso occupato da detta camera di rive?j

liuAlUtrTlvU?

28. ? Apparecchiatura secondo la riv. 27, in cui i mezzi i i per scaricare gas per formare tale corrente sotto il livell? del percorso sono atti a scaricare gas in modo da formare t?? !.e corrente perl'intera larghezza del percorso del substrato. ?

i ;

I 29? ? Apparecchiatura eecondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui sopra il percorso del substrato ! ? ? prevista una parete di barriera che si estende per-l'inter? larghezza dell'estremit? a valle di detta camera di rivesti? Stento e sostanzialmente chiude tale estremit?.

30. ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle riven? dicazioni precedenti, in cui detta stazione di rivestimento i!

? posta tra l 'uscita da un impianto di formazione del nastro

773 .eJLiingress.o.,in_.un_f.omo__d.i.ri.co_t_t.ura.,

L?- Apparecchiatura_.se.cjojnd.CL..una....qualeiasi_d_el.1s_.riven[r. dicaz?Qni__pre.c.e.den_t_l_^_.in ..c.ui..sono previsti. me_z_zi?^per-_far fl.U.-ire.gas attraverso.una_fe_nditura_<li..ingre.ssp del substrato. in detta camera da monte rispetto a tale fenditura e per pretale

32? - Apparecchiatura secondo la riv. 31,_in cuiJL mez-? zi che provocano tale ingresso di gas e/o la forma della fenditura di ingresso sono tali da provocare una portata di percorso del

flusso di tale gas maggiore sui margini del/substrato ohe sulla sua parte centraie._

33. - Procedimento per formare per pirolisi un rivestimento di un composto metallico su una faccia superiore di un substrato di vetro caldo sotto forma_di lastra o nastro durante il suo trasporto in una direzione verso valle lungo ?? percorso attraverso una camera di rivestimento in cui si spruzza verso il basso e verso il substrato almeno un gettai di Soluzione di un precursore del rivestimento, caratterizT zato dal fatto chet si scalda una zona di spruzzo di dettaj I

camera di rivestimento per far evaporare parte del materia^

i le precursore del rivestimento prima che raggiunga il sub?! strato, per caricare l'atmosfera in tale zona con materiale i , l precursore del rivestimento vaporizzato ; si spruzza la solij? zione con energia sufficiente da garantire un sicuro impat-jto di materiale precursore del rivestimento spruzzato reei-f : ?? < luQ_con ir? il .eub.Bt r ato_p.e r iniziare i l_.rfve.sii mento d ?_ -ta? faocia-d e l-subB-tratoJ?e-si?fa?fluire-ir direzione v-erso traile atmosfera carioa -di- materiale-precursore ..del rivesti? i oan-t o-ln-fase-Vapore-da-de-tta-zona-di-spruzzo? lungo- la faccia rivestita -del- substrato e._a_conta.t.to aon_etS.sa._per .un. tempo 41 - ioni atto? di . almeno_1Q_B.acand.i, _d.o-PQ._di_che si_allon-t ana ..dal mb strato.. il_ma.teriaLe_j?.esiduo__d.i_d.etta._G.Ojrrente car.ic.a_di are cure ore. _

_ 34.-? Proceiimento_.sec.ojido_.la. riv ._33_i_in._cui__dst.i.a. camera di rivestimento ha una lunghezza ohe ? legata alla vele > ait? di ttasnorto del substrato in modo tale che ogni inoraaento della lunghezza del substrato rimanga esposto al vapo? re di precursore del rivestimento per almeno venti secondi. . 35.?. "\ Procedimento secondo la riv. 33 o 34? in cui si spruzza, detta soluzione di precursore del rivestimento da u?? ?\a sorgente che ? almeno 75 cm, e preferibilmente almeno 1 ,!!

7 <' >-_ astri f sopra tale faccia del substrato. _ . _

_ 36. ~ Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 33 a 35? in cui si allontana dalla zona di spruzzo 1 Atmosfera carica di vapore facendola entrare in una pa:r te di passaggio a valle della camera di rivestimento attraverso una fenditura di uscita di altezza minora della zona li Bpruzzo.

37. ? Pro c ed ime n to secondo la riv ._ 36, in cui l'altezza li detta fenditura di uscita ? al massimo met? dell 'altezza.

<?>(tra la e or g? n t e di -spr uz zo-e -detta? faocia-d el -Sub atta to-, - i -\ - 38 <?>?- --K-Pro 0 edimen-to - a e coni 0? una quals iasi della?rive?dic?-! i zioni- da- 33 a -37 , in cui detto flusso verso-valle -di .gas ca-f i i ,pico -dd- precursore .awiene.-.in^ un passaggio -ohe. ? . riscaldai ?>-. | - 39? ~ Procedimento- seconda una. qualsiasi -delle rivendica _^ioni -da 33 a 38, in . cui si spruzza -la., soluzione... di. .pr.ecurs?? ! I ie del-jrivcs.timen.t.o. verso .il ..<">basso ._e_n.ella._d irezione .verso.. i alle...

-_.__4il^--J?ro.cedimento Beco.nd.o_Una_qu. alatasi delle .rivendica-_ zioui- da? 33-a_3,9_?-in cui in_d e_tt a _. zona di spruzzo si__introduj : ..cono materiale? pxe.curs.or.e.. del rivestimento e almeno un gett? di gas .in modo.. oda 1? l?ro__.traiettorie si in terse ci ino in ta~ i

j :

?Le? zona? _ _ j 41. ? Pro c ad imenio- s_e_CQndo -la . riv. 40, .in:. cui _e i jacario? Un | . almeno/tale ?etto di gas da.-Un 'apertura posta nella met?, su?? ! :

.jperiore de.lllal.t.ezza__tra.. la -.sorgente ..di.. spruzzo e detta fao-r j

joia del_ s.ubstrato. . _ _

J

| . _42.,.-:. Procedimento secondo la riv, 40 p 41 , in cui vi e .

| ,?<? >di gas i almeno un tale getto di gas che e/preriscaldato.

? ! : ... _43?. - _Procedimento_sec_ondo una qualsiasi delle riyendic?-! . ; jzioni da .4Q._a 42 r in cui vi ? almeno un tale getto di . gas ohe. ? scaricato dal lato a monte della traiettoria della [ ;soluz .i .one di precursore del_rivestime .nt_o ~ spru -z ?zata -.<. >. . t, 4 _ 44. Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendica** .jzioni da .33 a 43 ? in cui si fornisce calore. _a detta zona di; ..

spruzzo? almenO-.in-parte -dirigendo? oalore-d i <' >irraggiamento ? lierso?il-hasso?da-Bopra-il? percorso -della-soluzione. di pre? cursore? del-rivestimentO? spruzzata.? _ _ _

45 - ~ Praoediraen-tojeoQndO? una. .qualsiasi -delle.. rivendicar: zioni. .da_33._. a 44, in cui sul. suo lato a monte il- getto di nateriale-pre cursore, del. ri vestimento. ? schermato

_ ?a._Un- get_to? di--gas__cho _ ?. scaricato in modo continolo verso.

... b as_aoL_V?.r so il. sub s.trat o__in_pr ossimitlL _dJ._?_et Ao_g_e_t to.._di? ???? 3urS-Qx_9__s.pruz zato . _

46. -<? >Prooedimento s eoondo una qualsiasi delle rlvendlcftoateriale l zioni da 33 a 45> in cui si spruzza detta so luzione d i/pre-H sursore dal rivestimento. pome un., getto di gocc ioline che ? apostato ripetutamente trasvers almente al percorso del sub-" 3trato.

47. ? Procedimento secondo le rivendicazioni 45 e 46 j. i<j>? . .

1 si sposta ripetutamente tale triavere almente a detto percorso , in tandem con il getto di mar teriale precursore del rivestimento ,

48. ? Prooedimento secondo Una qualsiasi delle rivendi? sazioni da 33 a 47, in cui si soffia gas verso 1 'alto , al di l? di ciascun lato del percorso del substrato nella zona di : spruzzo !

49? ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 33 a 48, in cui per almeno una parte della lunghez-ja della camera di rivestimento si impedisce il flusso di m?-atmosferico? al~di- l?? degli_orli? lai erall_del to_ e? txa-????? ve rtic almen-t e^aapr a ~e_ver? io almen-t.e._s oit o.-ilsubstrato c

_ 50,_^...2ro c edimen-to? s e con do_unu qualsia s i.. delle? rivendici r*. zioni-da-33-a 49 ? in? cu.i-.si-ge.neranO? for.ze-cLi-.asp.ir.azione? liu ondu.ttur.e_ _d i s carico? lateral i...dispos.i.e_in_ modo? d a_f ar_ s ?, _ ihe materiale? aiffloa.ferico-_ao_pra?il_s.ubstra_t.o_. fluisca ve: a o 1 *a sta m.o__al 1 onian?ndo si? da_. una parie.- cent r ale._d.al_ subat^ar to.-.pex- almeno? una. parte -della..- lunghe zza di., detta camera , di rive s.t imento, _ _ - ? __51 ,^nL-Pro.c.edime.nt.o_-S.econdOL-la_r?-v_,__501 _in cui _sl fa flu?-<<?>>?? wyitaTjLftlq Qtmoafeyipo vergo .1 'esterno in una. zona ohe ai estende per almeno la maggior parte dalla lunghezza ii detta camera di rivestimento a valla della zona di dopo? ai zione iniziale di materiale di rivestimento smi substrato 52, ~ Procedimento secondo la riv, 50 o 51 1 in oui si a?-Bp_ir_a_ detto materiale atmosferico verso l 'esterno a un live!L-o al di sotto del substrato

_ ?3 ? ? Proc ed imento seoondo una qualsiasi delle rivend icuzioni da 33 a 52, in oui B? soarioa gas nell *amb lent e _de 1 substrato in modo da formare una oorrente continua ohe scoria re verso valle sotto ogni margine del substrato e per al? meno _ un a p arte., del la lunghezza di detta camera di rives ti? mento.

54, ~ Prooedlmento secondo la riv. 53 r in cui vi ? tale

Claims (1)

1. i-di-gas-s o-tto?il-s ub strato-che e corre., s otto. _ll ini larghezza-de-l? substrato-? - - - - - ? -- 55? ~ Procedimento? secondo-una qualsiasi-delle. rivendica- . zion i-da -33 a 54? -In -cui. la camera -di -rivestimento ? sostan'" zialment e-chiusa-alla- sua-estremit? a vai le _pe r_ -imped ? re-in ? -terscambio? di - materiale ...atmosferico tra -.li-estremit?. a....valle iellate ame ra di rivest i mento e ?na rs gion e_anc.oTa_^pi?._ a_va 1 - _ le? del? percorso- de 1? substrato ? _

   _ 5.6,-^-P-iOcedime.nto._s.e.oo.n.d.o_._la_ri:v.? 55->? in? cui . il. eubstr. i- . .... to di -vetro-? un nastro appena formato di vetro caldo e si _ fnrma il -rivestimevito dopo ohe tale nastro lascia un impian _ to di formazione del nastro e prima del .sup_..drigress_p_in un forno .di-ricottura...

   _ 5-7-?..-m.Procediment.o.._6.ecord.0-Una qualsiasi delle, rivendic a-, z ion i. da-33- a -5.6., in., cui _?i...f affluire gas. .pre.ris caldaio ver* so valle in detta camera di rivestimento a contatto con il substrato.

   _ 58. ? Procedimento secondo la riv. 57> in cui si fa en~ trare tale gas preriscaldato in detta camera di rivestirne ntb con una portata maggiore sui margini del substrato che non sopra il suo centro. _

   ff R- TRADIZIONE CGNFOR'?'

   [). .. LAURA yUA/f?j ^

   -Y