IT8667825A1 - Procedimento e apparecchiatura per rivestire vetro per pirolisi - Google Patents

Description

DOCUMENTAZIONE

RILEGATA

DESCRIZIONE :Cas 4027 Stonehenge

? .indu s.t riaJ-.e..avente per.tit oJLo j

PPROCEDIMENTO E APPARECCHIATURA PER RIVESTIRE VETRO PER PIROLISI"

iella GLAVERBEL, societ? di nazionalit? belga con sede a

(Belgio), 166, Chauss?e de la Hulpe.

>

t

Domanda depositata il 5 NOV. 1989 67-825 ?/8?-

RIASSUNTO

Un'apparecchiatura per formare per pirolisi un rivestimento ?di

composto metallico su una faccia superiore di un substrato 1 di ve-

tro caldo sotto forma di lastra o nastro, comprende organi traspori

i

tatori 2 per trasportare il substrato, lungo un percorso anch'iesso

I

Indicato con 1 , in una direzione verso valle 3 , una struttur a_? t e t

i

' I

I

to 5, che definisce una camera di rivestimento 6 che si apre v?rso

il basso sul percorso 1 del substrato, e mezzi 7 per scaricare ma

u F/F IC IO feriale precursore del rivestimento nella camera .6. A monte della Riw O^ZZO-. BEVETTI camera di rivestimento 6 vi ? un'anticamera 25 che comunica con la

I

camera di rivestimento 6 tramite una fenditura di ingresso 24 che ?

de imitata in parte dal percorso del substrato 1 e attraverso dui

|

fa fluire gas nella camera di rivestimento 6 ih modo da formare

i

{quando l'apparecchiatura fe in funzione) uno strato di copertura che

copre la faccia superiore del substrato 1 lungo una prima parte della

zza della camera 6. Sono previsti mezzi 26 per preriscaldare in

nodo controllabile il gas che . forma .lo strato, di copertura \?0I

Nel funzionamento, si controlla l'ambiente gassoso nelle imme-

diate vicinanze della faccia superiore del substrato, almeno nella

zona in cui comincia la formazione del rivestimento, introducendo gas preriscaldato in una direzione verso valle nella camera 6 in modo che entri nella camera a contatto con il substrato e formi uno strato di copertura che copre il substrato almeno

lungo tutta quella zona. (Fig. 1) _ ^

j . 7&3TO |

<[ >_ fiue.s.ta .invenzione, si . riferisce ..a . un ..pr.o.ced.ime.n.to di. ri.v.en

...atim&nto.. pirolitloo. .. in cui _ un..s ub.s tr a to...d.i_ vetro. caldo. .sati <' >, j

oxma_di...las_tra_.Q_nasJ;ro__viaggia-..ln una.. dlreziono. v.erso . J _

? I

_V.al o_una. c amer?. ,d i... r iveajtici en?o._ch e_s_:L_apr.e__v.er s_o_.il J _

3.o_..il..subs_tra_tQ.,--e_..in.._o.ui _ei_f.orma_i

sulla faccia superiore di tale substrato partendo da Un matg-_

! !

.riale.precursore del..ri.v.estimento..._..L.'.invenzione .si.riferisce _ _ anche a.un'apparecchiatura per formare,per pirolisi un rive-f . .

U F F I C I O

stimento di un composto metallico su una: faccia superiore di Ing. P. GUAZZO ! BhE Vk. TTf un substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o naBt.ro , j .comprendente organi.trasportatori per trasportare detto sub-Strato lungo un percorso in una direzione verso valle, Una

truttura a tetto che definisce una camera di rivestimento j

_che..si apra vereo il basso su detto percorso,e mezzi per

! i

scaricare materiale precursore del rivestimento in detta oa4

mera.

_ Tali pr?oedimenti e apparecchiature sono utili nella fab

.^ricazione.di vetro rivestito per vari scopi, il rivestimene

to essendo soelto in modo da conferire al vetro qualche

priet? particolare desiderata,. Esempi particolarmente .impor**

tanti di r-ivestimenti-che-si-poasono-applicar-e-al-<y>-etro? so?9

ju e 111- -de si in a ti a ridurre? il pot era - emiss ivo? della? fa oc ia_

riv.estita-aei? confronli-jdi-radia zio.n.e_infraro.ss a-|_sp.e oialme^-te_radiaziona_infraroas.a_c.on_lungh.e.z.z.e? d_<,>-Qn?a__supe.riori_a_3i

ridurre la

?a,_e quelli destinati ^/trasmissivit? totale di er ergia_ _

> rivestito nel Qoaf roat.i_!?i_rad ia zi oae_so.la re.?Ee

aaampio ? noto munir? il vetro di un rivestili? rito a bassa e?-: a issisi! ? ...nel l_!_?nfr aroaso_di_bio B sido di__s_tagno_par-_s.o-o.pi_d : .

?onservazione del_calor_e ed e . anche _ no to munir.e_._il_._v.etro_d.

m riv.e.a?-imento_jche_ riduce il ..fattore ..di tra smisa_i.one_d.ell i

anergla solare , fatto di un ossido . net alii-QO_g.oge_JiiP-Sgid.o_

iLi titanio o di una miscela di ossidi metal Ilei c.<0>? ??,-,??*.-<6 J

<}>QO ? <Cr>2^3 <1 ?>11? scopo principale di ridurre n guadagno ; - U FFTCTO salore solare o il riverbero. Ing. P. GUAZZO BHt vt i u E* chiaro ohe rivestimenti applicati a vetro da us are

per scopi di ve tra tura dovranno avere una qualit? ottica ele-?ata ed uniforma i e che essi dovranno essere durevoli. E<1>

tsn eh e chiaro che il rivestimento formato dovr? avere lo spet

corretto per lo scopo voluto, e che ? desiderabile dal

sunto di vista commerciale ohe la velocit? di formazione del.

sia sufficiente per formare lo spessore

per il rivestimento anche quando 11 substrato si muove a va4-ocit? piuttosto elevata, come pu? essere imposto per esem-~

pio da altri procedimenti del programma di fabbricazione.

Si ? trovato che molti fattori relativi al prooedimen t o

di rivestimento influenzano il modo in oui si forma il rive_

stimento sul substrato? e tra auesti si possono oltane la fase

fisica del materiale da cui s? forma il rivestimento?e la natura di tale materiale, l'energia con cui si fa arrivare il

materiale a contatto con il substrato e la temperatura del

la camera di rivestimento e del substrato ohe viene rivestito.

Per esempio? ? noto ohe la vslooit? a oui avvengono le re- _

azioni di rivestimento dipende dalla temperatura. In genera

le? quanto pi? ? alta la temperatura? tanto pi? rapidamente

viene formato il rivestimento e tanto pi? fine ? la struttu

i ra oristallina del rivestimento formato. Una struttura cri- i| i i stallina uniformemente fine ? vantaggiosa per avere una qua

? l?t? elevata del rivestimento e per la capacit? di durata. UFFICIO

Ing.P.GUAZZO Di conseguenza? prooedimenti della tecnica nota hanno P t I TI mirato a controllare la temperatura del substrato caldo pri

ma della formazione del rivestimento? e sono stati anche in

trapres? passi per controllare la temperatura dell'intero .

? ambiente nella oamera di rivestimento.

La presente invenzione ? basata sulla sooperta ohe la

qualit? del rivestimento ? fortemente influenzata da un fat

tore ohe finora ? stato trasourato? e precisamente la tempo

! ratura dell'atmosfera immediatamente sopra il substrato nel

la zona dove comincia la formazione del rivestimento.

Seoondo la presente invenzione? si fornisce un procedi

i mento di rivestimento pirolitioo,.in oui un substrato di vi?

tro caldo sotto forma di lastra o nastro viaggia injana-dj^

razione verso? valla - ao-t-to... una? samara di rivgsiimen-tO?che? si

apre? verso, il basao_verso.?il . substrato? e. in oui_si_forma ..un

rivestimento? sulla? faccia superioxe_.Jii? detto? suba_trato par-L

<;anfl<? da matariala p-roniiraora del riva Bt intanto T aaratterizzfr

to_dal_f atto? che_s i_oon_t rolla, .l 'ambiente- gasso so _.ne Ile. imme ?ia?e vicinanze_d alla faooia auperlo re del substrato, almeno

n a lla_zona_in_ou i_c.Qiaino i a tale forma ziohe del rivestimento .n?roducsndo_.ga0__prerisc.al4atO? in_ una direzione varj?>_valle

in detta oamera in modo ohe camera a contatto

aon il substrato e formi ano strato di oopertura ohe copro

11 substrato almeno lungo tutta quella zona.

La po aslbilit?. di controllo dell 'ambiente gassoso a 001 i~

u F F i ci ? -tatto oo n il substrato nella zona dove inizia -.la formazione Sng. P. GUAZZO <. ~ >BRt VE TTI -3el rivestimento ? un fattore ohe finora ? stato trasourato

Noi abbiamo trovato ohe ? molto pi? facile controllare con

11 grado di precislone. richiesto l? condizi?ni, in<' >tale atra?*

to di oopertura fliaguanto non sia controllare l 'intero ambienta nella o amara di rivestimento , e ohe ? peroi? possibile oreare un flusso generale di gas a contatto oon ? subs tr ?-;o da monte della zona dove inizia la formazione del rivest L?

manto in modo tale ohe in quella zona vi sia un mloroollma

a contatto oon la faooia del substrato ohe ? favorevole per

le reazioni di rivestimento ohe devono avere luogo . Per fare

ol?. 6 necessario controllare o modificare lo strato di at

aosfera ohe verrebbe.._ord inariament_e_.tr_as_o_inato nella jcamera.j -I

.il_rives.timenio_a_oont.atto ccn_il substrato fornendo gas _ j _

I j ^preriscaldato., ...in modo da rendere, lo . strato.. ohe copre il ve- . _

jtro condizionato favorevolmente per le reazioni di rivesti-? . _

? i ? I ;

mento. In questo modo oi si distingue in partloolare da oer? . .

. !

te tecniche note in oui ai disturba la a trato di gas traaoi- _

nato naturalmente dirigendo forti oorrenti di gas relativa?

mente freddo sul substrato all 'estremit? a monte della carne??

ra di rivestimento. Inoltre, essendo relativamente facile |

controllare le condizioni in detto strato di copertura, ? r?i

1

lativamente facile regolare quelle condizioni, per esemplo |

j

per oompensare variazioni minori nello spessore del rivesti?

mento ohe viene depositato durante un oiolo di produzione !

! Ing. P. GUAZZO continua. BRE VETTI Sbrme di realizzazione dell 'invenzione in oui vi ? un ;

flusso generale verso valle di materiale precursore del ri? i

vestimento sopra lo strato di oopertura nella camera di ri-?

jvestimento sono particolarmente vantaggiose per la formazio-r

Ine di rivestimenti di qualit? elevata a causa del oontrollo j

! <1>

ohe oosi si esercita sul flusso dei reagenti nell 'atmosfera!

della camera di rivestimento?

| Preferibilmente , ai mantiene almeno in parte un flusso complessivo ! :

di gas verso valle lungo la camera di rivestimento aspirati-1

do materiale atmosferico da quella camera alla sua estremit?

a valle? tfells misura in cui tale flusso verso valle ? manto-I

|

u_t.o_da forze._aapiranti?^&e?Lerate_in? condoJ;_tj._di_soarioo_al

11 eetremit?_a__valle)_le forze.__agen_ti_eul?gae_all_*e_s.tremit?

a_moni e_d.e.l la_oame r a di rivestiment o.. o le fo rse__e s. er o ita te

dal flusso di gas all 'estremit? a monte di_ tale camera saranno pi ?_ <?>_i 31 ? trovato che ci?,favorisce una formaziona iniziale di

un Bubatraio_di_rivas_timento. che ha struttura... cristallina

fine_?.uniforme all'estremit? a monta della camera di rive-_

stimento. La struttura ..oristallina del rivestimento in corarispondenza dellinterfaccia vetro / rivestimento ha una fo

te influenza sul modo in oui al forma il reato dello spesso

re del rivestimento mentre il substrato si sposta nella camera d? rivestimento * ed ? di importanza maggiore nella fo r<?

Ing. P.GUAZZO Un procedimento secondo questa invenzione d? i maggiori_ afii VI TTI <?>benefioi quando viene realizzato in una oanBra di rivestirne?-to sostanzialmente chiusa in modo da evitare frammentazione

dello strato di copertura ad opera di correnti casuali? In

realt?) la sorgente pi? probabile di queste correnti casuali

sar? l'estremit? a valle della camera di rivestimento? Pi

conseguenza) in forme di realizzazione dell'invenzione preferite in modo speciale) la camera di rivestimento e sostar

zialmente chiusa alla sua estremit? a valle per impedire in

tersoamblo di materiale atmosferico tra l'estremit? a valle

della camera di rivestimento e una regione pi? a valle del

percorso del substrato? Tale chiusura pu? essere per esempi0

attenuta mediante ???? conduttura di scarico che ai estende

attraverso l 'intera larghezza della camera di rivestimento

all ?estremit? a valle di auesta? L'adozione di auesta carat*

terietica presenta anche il vantaggio di evitare ciualsiasi

diluizione o inauinamento dell 'atmosfera all 'estremit? a va L-le della camera di rivestimento da parte della regione pi?

a valle* e impedisce che ?orrenti d eli 'atmosfera della carne* - -ra di rivestimento interferiscano con ogni ulteriore tratta

mento del substrato e depositino qualche materiale aggiunti -vo indesiderato sul rivestimento a valle della catte r? di ri

vestimento*

Ih forme particolarmente vantaggiose di realizzazione U F F I C I O Ing. P- GUAZZO dell 'invenzione, il substrato di vetro ? un nastro di vetro BRE VETTI caldo appena formato e il rivestimento viene formato dopo

che il nastro lascia un impianto di formazione del nastro e

prima del suo ingresso in un forno di ricottura. Pertanto 1 a

camera di rivestimento pu? essere situata in una posizione

in cui il vetro ? comunque a una temperatura appropriata pe r?

ch? le reazioni di rivestimento pirolitioo avvengano , cosic

ch? s? evitano o si riducono sostanzialmente 1 costi necess ari per riscaldare nuovamente il vetro a tale temperatura. E 1

anche importante che il rivestimento avvenga in una camera

che e fisicamente dist?nta dall 'impianto di formazione del

nastro da una parte e dal forno di ricottura dall'altro. Se

non ci fosse tale distinzione , e in proposte preoedentement e

_ in ? questo ? c ampo_?__ c omuns-cbs _ il riva s.timanto .avvenga

lungo? il?fomo-di ricotturar allora? le? condizioni-atmo afe ri -che-^ella oamera-di-rive stimento a arebbero-soggette-a-esser s

diatiurb at e da--coxrenti di gas-che? so oxr on o-d a 1? f o m o-d i_ r i?^

oottura e-dall-Mmplanto di ..formazione del yetro.y- correrti .

che? spasso-rtrascinano? polvere-.e_al.tr.i-agen-?i ? inquinanti- ohe

po - r ebbero? e s sere? in o or.po ra.ti...nal rive stimento come difetti

0 -inoltre?vi_.eare.bb.e_il_ris.ohioche la.diatribazione_di_correni:i-a.tnwsferioh.e-n.e.l_fo.m.o_sia_diaiurba_ta_portandQ_coj3?_a oondizioni_di_ricottura meno favorevoli.

A seconda delle condizioni di pressione sopra e sotto

il substrato nella camera di rivestimento l?atmosfera sotto

U F F i '<s | f1 >l_Bubs,trato__pu? tendere a fluire verso l'alto al di l? dei _ ? P alu-LH AjtytT ing. u ? BHt VETTI suoi lati? dove diluirebbe l?atmosfera carica di precursore

sopra il substrato. Ci? pu? portare alla formazione di depo

siti di rivestimento pi? sottili sui margini del substrato

che sulla parte centrale di questof con il risultato che urta certa percentuale della larghezza del substrato rivestii

e di qualit? inaccettabile. In alternativa? l'atmosfera carioa di precursore pu? tendere a fluire sotto i1 substrato,

dove potrebbe depositare un rivestimento indesiderato sulla

sua faccia inferiore. In dipendenza dalla distribuzione di

flusso delle correnti'ratmosferiohe nella camera di rivestiindesiderato

mento e sotto di essa? questo rivestimento/potrebbe essere

pi? o meno regolarei tila cos? sottile da dare origine a effetti

a i interfeLTenza assai 8gradjevo_li.,....p_er es.empio .pu5._eesar.e_un. riveB.timanto. pi? o meno .regolare. il eu.i._ spes.aore .d e ere eoe !..

vere o__il _c entro del sub s_t.rai.o_, _o ppu r e pu? escare .~un._r.ive.stij?-....

mento alquanto irregolarp__co.n un andamento eh.? .^secondo alcu-r

\

ni..ricorda i_segni_su_una tavola.per.baokgammon?Per ridurr? aues_ti_svantaggi j forme.d i realiz zazione__de.l i_nv ep ziope pr? iferita in modo speciale prevedo* o ohe per almen q _una__part e , _

i

della lunghezza della camera venga impedito il flusso di maf?

terlale atmosferico al di l? dei bordi laterali del substrato e tra zone poste vertioalmente sopra a verticalmente sotjto auel substrato. Abbiamo trovato che agendo in mor

dof al pu? aumentare la larghezza utile rivestita, e oi? ? j particolarmente interessante quando si riveste un nastro con?

tipuo di vetro appena formato?^ U F F IC I O trig. ??<'(>3????? Abbiamoj trovato che il_modo__in pui si introduce nella : BRE VETTI !

camera di rivestimento il materiale precursore del rivesti? i

jmenjto non ?jeritioo per la qualit? del rivestimento} per e-j

l . :

! <? >1

Esempio, lo si potrebbe introdurre in fase vapore._ j Preferibilmente tuttavia si spruzza una soluzione di

Iprecursore del rivestimento verso il basso e verso valle, j

!

!Ci?_facilita la scarica del materiale precursore del_rivesti?

Imento1 consentendo allo stesso tempo di disturbare relativa?

[mente poco lo strato di copertura perch? il materiale evap??

1 ? . " " ----- ? . " I

irato avr? gi? unacerta quantit? di moto nella direzione ver?

:so valle. Inoltre ci? allunga la. traiettoria del materiale<1>

- ??

spruzzato-rispetto? allo spruzzo verticale-dalia -stesa a_alte

za -lasciando? oosL-pi??terapo peroh? il ...materiale? prscursoxedel _rive stira ento_s.pruz zat.o....v_enga...condizionato nella _c ame r a .

di rivestimento prima del contatto con il substrato ? _

Si preferisca ohe venga spruzzataun a soluzione di prejcursore -del rivsstimen to verso? il basso_jne.lla_ camera.. d_i.. rivea-t imen-to_ e. . a.t tr.aver s o..d e t to_.s.t rat OLJI?- _c.o pe rtura.?- pclcb?

ci?-facilit? il trattamento J??lle grandi _ guani it? _ d i . ma tari a-le precursore _del_rivestimeni0? richieste? par_forma re _ri ve a t imanti spesai, specialmente su substrati In rapido movimento .

l? 'Invenzione pu? cos? prestarsi alla formazione di riveatiimariti di spe ssori alquanto elevati f per esempio _spe sspri di _ U F F i r i O _

Ing. P. GUAZZO 500 nm o pi?. . BRLV-t-J-Ti -E* noto ohe vi sono certi svantaggi assooiati alle tecniche

n?te di ri vestimento _ in fase liquida? In tali tecniche

note ? molto difficile evitare di macchiare il rivestimento

formato a causa degli spruzzi delle goccioline spruzzate

quando esse urtano contro il substrato? Inoltre , quando si

usano le tecniche convenzionali di rlvestim-eirib in fase- liguidai il contatto tra le quantit? abitualmente abbastanza

grandi di soluzione di rivestimento spruzzata e il substrato caldo pu? dar luogo a difficolt? oonsiderevolif Bpeoialmente quando il rivestimento viene depositato su un nastro

di vetro caldo appena formato, perch? esso interferisce con

un trattamento di ricottura successivo. Il risultato di oi?

1

il vetro viene ricotto male.-..a_in_oer.ti._casi_solle.cita'

zionl res.idue.rida3te nal nasiro.di.yetro dopo__il_raffre_dd<imeneo..ne._</>5e.ndono--.di?fioile_ il._iaglfo._e__p.e.S8LQnO_anche_ es.s_er.s _ta<~>_ Li_.da_prQV_ocarne__la..rO?ttura_quando.lQ..ei_taglia in lastre*

_ Par ridurre o eliminare questi -problemi, parte forme di

realizzazione particolarmente vantaggiose dell?Invenzione

prevedono ohe ai riscaldi una zona di spruzzo di detta camera di rivestimento per far evaporare parte dalla soluzione di

pre cursore del rivestimento prima ohe raggiunga il siibstrato in

nodo da caricare l?atmosfera in tale zona di soluzione vapo?

rizzata di precursore del rivestimentoj che si spruzzi la si)- _

luzione oon sufficiente energia da garantire un impatto aic^ro

contro il substrato del materiale precursore del rivestimento

BpriTzgiato raBiduo per iniziare il rivestimento di detta fao? UFF'^'n fng. P. GUAZZ? pia del substrato*, e ohe si faccia fluire verso valle da dejt~ _ Bl? _ ta zona di spruzzo atmosfera carica di materiale precursore

iel rivestimento in fase Vapore lungo la faooia rivestita

del substrato e a contatto oon essa per un tempo di contatto

di almeno 10 secondi, dopo di ohe si allontana dal substrati

il materiale residuo di detta corrente carica di precursore

Quando B? adotta questa caratteristica ? possibile, pe

una data portata di scarica del precursore, ridurre la forz

delle correnti che urteranno contro il vetro nella zona dove

incorninola la formazione del rivestimento? Ci? ? particola:

mente utile per ridurre il disturbo dello strato di oopertu

ra-di-atmosf era-a_ contat_to__con i3 ? substrato., _e_pu.?_?pox?ar_e

?l-la forma zion e- di un rive s-t im en-t o? d-i? qua 1 i-t?-mo 1 to ? ? 1 ovata

3i_?_trova.to? che-una-quan-tit?-rela-tivamente-piocola-itel matnscaricato_.pu? psne?rare_nello -Stra?o_jii copertu.ra.per

in im.patto sicuro oont:ro ._il_v.e.trot _ cosicch? lo strato__di_oo:?

pex-tura_pu?_riman_ere_largamente indisturbato...

i_pro.csd imanto ? utile per la f o rma z i.on e_d i_ _r ive s t i

aenti che ??.?.?^?^^?__???_^??????_?1??_? assale uniformemente.

bassa. Ci? ? particolarmente sorprendente polche finora si

dal substrato

b ritenuto necessario rimuovere/vapori di precursore del ri?-vestimento e di prodotti di reazione 11 pi? -presto possibili>

di contatto tra 2 e 5 secondi sono usuali in procedi-<?>_

aenti gi? noti ? proprio per ridurre 11 rischio di depositi UFFICIO Ing. P. GUAZZO apuri da quei vapori, che potrebbero portare a un aumento d:. _ BPt VETTI lebuloslt?..

Le ragioni per cu1 l'uso di tale pr?oedimento debba fa??

morire migliori livelli qualitativi del rivestimento non so--io completamente chiare. Una spiegazione possibile ? che una

percentuale sostanziale dello spessore del rivestimento ei

formi da materiale precursore in fase vapore mentre il subsi sposta lungo la pgrte di della camera d

rivestimento. E<1 >noto ohe le tecniche di rivestimento in fa?*?

vapore,favoriscono una struttura cristallina fine e uni?

forme nel rivestimento* Ci? per? non epiega peroh? la messa

cr<

in opera di tali forme di realizzazione di questa invenzione ?. X,

? -!debba? portare- alla~.foTmazio.n.e_-di_un_rivee_t.imen.to_ohe ha Jinoj

spessore-di -gran lunga pi? regolar.e__di-..q.uanto__B?-po.ssa_o.tt.er _

nere usando ..proced imenti.d i-rivestimentO?ih?fase. jrapo re. o.onn

i

Menzionali. Un?altra spiegazione..possibile ?.ohe,.sebbene soh

lo..una_piccola parte, dello, spessore del. .rivestimento ei formi a..partire, da materiale precursore del rivestimento in fa'*

Is.e..vapore, vi ia Un oondizionamento della massa, prinoipalej

i !

[appena formata del rivestimento durante detto tempo di oon-i

jtatto di almeno 10 secondi in oui il substrato ? esposto all

vapora di preoursore del rivestimento ooalooh? la strutturai

orlstalllna del rivestimento PU? essere modificata in un mordo.ohe_?. favorevo1e. per__l.a..qualit? de1 rivestimento,.e in .

;pariioolare?quallleaposizione del rivestimentp.appena formato al

vapore preoursore del rivestimento permette il riempimento dji

U F F I C I O ipioool? pori del rivestimento dando . ooe i un rivestimento pi? ?<?>9? P? GUAZZO i i ; BREVE ff? _ [duro? .pi? compatto e pi? resistente alle condizioni atmosfe?

) j

j.riohe, . . . .. .. . . j

_ ; _ Per. esempio.la presente invenzione pu? essere vantaggioaaniente _

! :

oojabinata? con quella desoritta in una nostra domanda di breve|t- _

! . !

I to Britannloo depositata anoh?essa il 20 Dloembre 1985 (Uo*~ _ _

manda 2f. 8s 1142 ^ ) 000 il riferimento dell 'agente 0J26 .?___

i . ?

IJELISfSTOBE 4401 la quale desorlve e rivendica un prooedimehito per formare per pirolisi un.rivestimento di un composto|

i ! <;>

[ metallico su un a f accia superiore di un substrato di vetro ;

i

jcaldo sotto forma di lastra 0 nastro durante il suo. traspoir

lungo -.un. pe r o o re o _.a 11 r ave r a o . un a carne ra d i. rive et iraen to

in_ cui- si., spruzza verso- il _basso-verso. il . substrato almeno

uru getto. di a o luz ion e_d i. precurso re del .rives t imen t o , curai} terizzato. dal . fatto ohei-Sji jjoalda .una zona di spruzzo di

detta camera d i_ rivestimento per far evaporare parte del ma?

.te r ial e_pr.e cure o re d e 1. ri vesjtimen to?_pr ima_aha raggiunga 11

substrato pe r JC arie ar_e __1 lai mo.s fera in tale zona di material j

precursore del rivestimento vaporizzato ? si spruzza la soli!

zi ??? con sufficiente energia da garantire l 'impatto sicure

contro il substrato del materiale preouraore del rivestimento

spruzzato residuo per dare inizio al rivestimento di det?

ta faooia del substrato; e si fa fluire verso valle da d?i

ta zona di spruzzo atmosfera carica di materiale precursore

u F pi c:*0 de 1 rivestimento in fase vapore lungo la faccia riveB ti ta Ipg. P GUAZZO BREVETTI del substrato e a contatto con essa per un tempo di oontat?<1>

to di almeno 10 secondi > dopo di ohe si allontana dal Bub<*>r

strato il materiale residuo di detta corrente carica di precursore

In certe altre forme di realizzazione dell 'invenzione

preferite in modo speciale} per formare Un rivestimento di

ossido metallico si inviano in modo oontinuo materiale pre-f

cursore del rivestimento e un gas ossidante in una zona d?

miscelazione dove si, riuniscono detto pateriale precursore e detto gas ossidante fuori dal contatt? con il substrato

e dove li si sottopongono a forze di miscelazione in modo

creare-Un-?atmosfera.comprendente un*intima?iais.c.ela?di

di-precursore.e_gaa_-.ossidante,_e..s_i-_faj?aire__irL_modo...continuo una corrente di tale miscela da detta zona di miscelazfpp

ne in un paesaggio a cui e esposta detta faooia del substra

to_e__lungo_.tale,.passaggio._

riduce il disturbo dello strato di

tura da parte del materiale precursore del rivestimento scap

rlcato. In effettif ? piuttosto sorprendente ohe lo strato

di copertura di gas sopra il substrato non agisca come uno

scudo che impedisce a tale atmosfera oarica di vaporei^ d? fo

pare un rivestimento sul vetro? Ma In questo modo si pu? formare un rivestimento di qualit? molto elevata7_presum?blimata-te perch? i vapori di precursore del rivestimento possono me?

UFFI'<*1>'<1 >scolarsi nello strato di copertura sostanzialmente senza di- | p _QJJAZZQ BREVETTI sturbarne il flusso complessivo

B* particolarmente sorprendente ohe tale miscelazione

non provochi la formazione prematura di prodotti della rea?

zione di rivestimento ohe si introdurrebbero lungo il passag?

gio sopra il substrato e cadrebbero con? depositi spuri foi?

mando difetti sul substrato o in esso. E' anche sorprendente

ohe formare una miscela intima del precursore del rivestirne

to e di un 'atmosfera ossidante nella zona di miscelazione e

far poi fluire tale miscela lungo il passaggio a contatto

con il substrato sia sufficiente a ottenere un rivestimento

ohe ? sostanzialmente esente da variazioni di spessore

vedibili, e ohe ..il_.dodo_pr eoi ao_in-cui- si_int roduc e_il_ma t eria-l-e-pr eou-rso re -d e 1-riv-e sdirne n-to-n eIla-carne ra di?riv esi ime ri<?>

-to?non-sia -critico? per-ottenere tale regolarit? di spessore,

5 * anche? degn o-di-nota? il? fa ti o? c h e, contrariamente? a-quan-tci

?i_si? potrebbe., aspettare ^tale-^misce-lazione?lascia^n- re?l-ts .

ff i ci enle^ma-t er ia 1 e_pra our s or ?-del _r.iv.e s.t ime?t o? ohe -n on-hi L

. reagito a. disposizione per la - forma z ione._d i_.un_.riv e a_t imen t o.

. 3u.l_substraio__men_trs_quel...materiale f lu?8.ce_in__fase .vapore

:cerso_valle_-lungo_il_passaggio,_Gi?? ?^ia-netto-contrasto? con

, ?1 i insegnamenti de lla tecnioa pr_e.ceiLenie_in? qu osto c ampo ?

? oome_sia ,_no.i .abbiamo trovaio.._che _ tali forme, di re?

?lizzazione dell 'invenzione preferite., in modo speciale faci??*

U F F <* >? ^ itano la- fo rmaz io n e d.l_r ive st.iment i_ _di_ qualit?, elevata __e_ u Ing. P. GUAZZO BREVETTI

li forme a permetiono?di__fo.r.mare. tali .r.iveBtimenti cPn uno

spessore pi? regolare di quanto ? Btato finora possibile?

_ Tali forme di realizzazione .dell '.invenzione danno . anoh?

particolari vantaggi nella formazione di rivestimenti relat:.?

ramente spessi , per esempio Quelli oon spessore superiore a

400 nm. Noi abbiamo trovato che la rimozione rapida dell'at- ?

noe fera carica di vapore non ? un requisito per un rivestinento sostanzialmente esente da difetti, e cosi si pu? lascia-!*

re pi? tempo per formare il rivestimento fino allo spessore

desiderato?

Per esempio, la presente invenzione pu? essere vantagg MC l'invenzione descritta in

lamente combinata oon/-4ria.. nOBtra_domanda di brevetto britan-W<,>?

iftlQQ_depoB?tata_ 11_20 JDio_eahre_J.9-9.5-?.-do manda n._S.5-3142.4?? |

co??il~riferimento.dell'Agante__PH-1..8._CEQ.?'S3<j>rOSE?5-1-0-j- ?<ua>? !

i Le ..descrive, e. rivendica .un.. pr? c ed imento per ..formare _per_ pi?

:

* i

-olisi un rivestimento. di ossido metallioo.s_u. una. .faccia,su*?

j

3eri0ra.di...un...s.ub.s.trato_di_vetro..caldo,sotto.,forma,di.lastra.

| ?

o_nastro durante il suo trasporto.verso valle, lungo..un., per?|

corso che porta sotto Una camera di rivestimento che si apre

I <" ' . . " ' ~ . .. . >!

! ;

verso il basso ? procedimento in cui si forma detto rivesti- !

aento partendo da vapore di preoursore del rivestimento e

Un gas ossidante ohe ???? alimen tati verso valle lungo un paB?

*aggio di detta camera di rivestimento a cui detta faccia d?i

substrato ? esposta f caratterizzato dal fatto che si forni<- >[

cono in modo continuo il materiale precursore del rivestirne?-UFF'"'n to e il gas ossidante in una zona di miscelazione in cui si; | p riuniscono d .et . t , o mat .eri .al ,e precursore e d .etto g ? as ossi- BREVETTI

daiiio-.fuori dal contatto con il substrato e in oui li si sott?pongo no a forze di miscelazione in modo da ore are un *atmosfera comprendente una miscela intima di vapore di precursore

B gas ossidante! e si fa fluire in modo continuo una correnr

fte di tale miscela da detta zona di miscelazione in dstto

Ipas saggio e lungo di esso a contatto con la faccia superiore

del substrato

Preferibilmente ! il gas che forma detto strato di ooper-tura e stato preriscaldato in misura superiore a quanto potrebbe

rIesserlo dal solo - trasferimento di calore dal substrato^,<. >

J3i_?? trovato particolarmente vantaggioso, per una

1 it? del -rivas_timento__e_leyat_a e uniforme ? che la tempera tur a

elei ..gas nello s trato di copertura aia elevata per creare le

|

condizioni migliori possibili j>er la formaz .ione iniziale defL

j

rivestimento . Anche ci? favorisce una elevata velooit? di j

formazione -del .rivestimento

Uno dei problemi<~>:a _.cui _sj on o state dedicate molte ricer<1>-ohe & quello delle variazioni dello spessore del rlvestimento nel senso della larghezza del . substrato ohe viene rivestito. Come particolare esempio di questo problema , B? ?

trovato i rivestendo un nastro oaldo appen? formato di vetro

plano , ohe i margini del naBtro vengono rivestiti per uno

spessore minore di una striscia centrale del nastro. Di_con L

U F F I C I O

seguenza quelle parti marginali non soddisfano i livelli q.ua? Ina . ..P. GUAZZO BREVETTI litativi desiderati e sono trattate come ma'

teriale di scarto . Noi abbiamo gi? fatto riferimento alla d 1-luizione del materiale precursore del rivestimento ai lati

della camera di rivestimento come Una delle possibili cause

di questo fenomeno. Heoenti ricerche hanno portato alla

olusione ohe ci? ? anche dovuto a disuguaglianze di tempera<1>-"

tura nel senso della larghezza del substrato che viene rive-j

stito . Per esempio ? noto ohe il materiale tende a raffred*

darsi tanto pi? quanto pi? e vicino alle pareti laterali di

quella o amera.

particolarmente j

In forme/preferite di realizzazione dell 'invenzione, il

gas che forma parti ma.rginali__late.rali._di detto strato di osr\

? stato preriscaldato in misura_Etaggi_o_r_e__ohe_.al.. .

centro ? Come si e detto , vi e naturalmente una perdita di _ci L-_ .

lore attraverso le pareti laterali della camera di rivesti? .

ien to._ e_ d jJLpgn i ...pas s aggio_ ohe porta a de tt a . carne ra, e 1 ' ad o <?>

don e di questa caratteristica stabilisce una barriera te rra

aa ohe permette di compensare la perdita di calore. Come e?

sempio particolare dei vantaggi ottenibili adottando questa

carat t eris t ica<* >pre ferita della presente _ in v e nzio n e_, _ abbiamo

notato ohe , rivestendo un castro appena formato di vetro oa!.

io , anche se il vetro entra nella camera _d i rive a t imen to co? r

in profilo di temperatura sostanzialmente uniforme nel sensi

larghezza, in assenza di controllo specifico dell '

U F F I C I O

B fera a contatto con il nastro nella zona dove _inizia la fo:i

! n ?. -P-.? G U ???0 BRE VETTl nazione del rivestimento,fino a un sesto della larghezza del

nastro su ciascun margine laterale pu? essere di qualit? inaoaettabile, e quindi un terzo della larghezza totale del nastro e

utile soltanto come -vetro da rifondere.Adottando questa cara';?

teristica,noi abbiamo trovato ohe si pu? aumentare la lar?

zza utile rivestita e, in condizioni operative ottime,

resa di prodotto utile e limitata non tanto dalla qualit? dui

rivestimento sui margini del nastro, quanto dalla qualit? dui

vetro stesso su quei margini. Va tenuto presente ohe, per vari fattori, alouni centimetri su ciascun margine di un nastro

d? vetro sono di qualit? ottioa irregolare e inaccettabile e

^ evo.no .in-Ogri_caso__asjiere? scartat ilo uti lizuzati^c.ome.. vetro da .. riXonder. e Vantaggi osamente ,. -a lmen o - s u i-margin i- laterali -d el sub?

strato^r-scalda^il gas in-?etto-strato. di coper-tura-a. una

t emp era tura maggiore di-quella_d i_. par_t i marg inai i _so.t.toatarv -ti._del_Bii<'>bs.tra-to..-_L._<,>a!?o zio5ie--ii_ q.ues.ta .caratteristica d? or?,

. gine-al la forma zione_.fll un- r ive 3 t imeni o_d i_.qua llt?. ottica .e

. durata .migl ior aie... e...d i_uniformi.t? il i _spess o re?_migliore , . alm ?

no_ai_margini-jlal_su<?>bs.trato_| e favorisoe .la_.comperLsazione d L

perdite termiche .attraverso_ tali_pareti laterali.. _

Preferii) limerete , il gas per formare detto strato di _c o.? i

pertura entra all ?estremit? a monte della camera di rivestimento da un 'anticamera adiacente . Questo jq un .modo molto aeu

pliee per garantire la creazione di detto strato di oopertu- .

ra di gas ohe copre il substrato e ohe pu? allora essere tra?

U F F I C i o spinato dal substrato in modo da spostarsi a contatto con.. ea- J<n>9? P? GUAZZO J ^ F VE T TI so almeno per tutta la zona in cui comin cia la^ formazione dpi Preferibilmente

substrato . /l ?estremit? a monte di detta anticamera ? sostan -zialmente chiusa in modo da impedire il flusso di gas in de vta anticamera da monte , per esemplo da un impianto di forma?

zione del nastro e da formare una zona tampone da oul ji

rloavare gas per mantenere detto strato di copertura.

Vantagg ios arante, il preriscaldamento del gas effet

t?ato almeno in parte in detta anticamera e da sopra il li?

vello del substrato'* Ci? facilita il controllo diretto delli

temperatura del gas che entra nella camera di rivestimento

?

I?

da quella-anticamera.

ll-gaB-nel1_'anticamera.pu? esservi.r.is.caldato_in^qualsi4._

ij iiai_mado _conv.enient.e, ma., preferibilmente . il^prerisoaldamentcj .

]

dal_gaa. in-detta anticamera ? effettuato mediante, bruciatori,.

DOich?_questo, modo, di.procedere, ?...trovato molto efficace e

Permette un controllo faoile ed accurato del riscaldamento,!

? ]

bon una risposta rapida a qualsiasi regolazione dei contro1-I

li dei riscaldatori. _

Preferibilmente si soffia gas preriscaldato verso 11

alto al lati di detta anticamera da un livello inferiore a i

? I

Quello del substrato. Ci? favorisce la oompen.sazione di per4

-p- i--: <' >j

{lite di calore sui lati al..livello del substrato e ha oonteqrf i oraneamente un effetto favorevole sulle condizioni atmosfet!

?j ? \!

ylohe esistenti nell'anticamera sopra il substrato, in parti}.- U F F i ^ ' n ? ;

Ing. P. GUAZZI bolare perch? tende a impedire all 'aria fredda di entrare atBRE va Tri traverso le pareti laterali dell 'anticamera . i

! ; <. .. >i

! In alternativa o in aggiunta, in certe forme realiz?

i !

zazione dell 'invenzione preferite in modo-.speoiale, si sof? ;

? i

! ' i

jfia gas preriscaldato in detta anticamera nella direzione v?r?

|

so valle da un livello superiore a quello del substrato. Sij

trova ohe ci? favorisce un fLusso verso valle di gas nella j

camera di rivestimento e attraverso essa ed ? partioolarmen-!

te vantaggioso in forme di realizzazione dell 'invenzione in

oui l 'anticamera non ? chiusa alla sua estremit? a monte.

In alternativa o in aggiunta., e vantaggioso ohe venga

ro.ffiato._gas..preriscaldato_verso..il-basso..in detta antioamer

:ra-a.-.che-a?tale-.gas sia..imp.e.dito_jilA__fluire_.v.erso_il.basso ali_._

ci_l?._dei bordi..laterali_..del...substrato. Que.s_to__?._un_altro..mo<1>-do conveniente.per introdurre gas preriscaldato nell'antioa-f

iiera_P.er oontip11are le condizioni atmosferiche sopra il sub-I

itxato.

_ Abbi amo._ gi?__f a_t_.to._r i f e rimenio__al la_ieaM_e_r_ahili t? _d i e- _

i

ieroitare un controllo sulla temperatura della copertura di I_

I

^;as In partioolare per compensare perdite di calore attraveir-( 0 le pareti laterali_jde_lla_ carne ra__di rivestimento,? _Come mo-I

I

c ,o alternativo o aggiuntivo di effettuare tale compensazione',

( erte forme di realizzazione dell 'inveri zione prevedono ohe _ j

E i controlli la_ portata di gas ohe forma detta co-;

UFF

pertura In modo differenziato nel senso della larghezza del ? | p Q UAZZO"

! BRE VETTI lubstrato.

Vantaggiosamente, per una parte sostanziale dell'altea?.

sia della oamera, si mantiene il materiale atmosferico in un flusso

compieealvo verso valle in parte proiettando un getto di gaa

rella camera nella direzione verso valle. L'adozione di que?

ita caratteristica ? particolarmente vantaggiosa nel favorire un flusso complessivo di materiale atmosferico verso vai?

i?

e all'interno della oamera, mantenendo allo stesso tempo lai

pressione atmosferica nella oamera a un livello tale che il :

i&ater?ale atmosferico esterno abbia poca o nessuna tendenza !

a essere aspirato nella camera attraverso eventuali aperture!

ielle pareti,__per -es.empio._a_.causa--delHaepirazio.ne.-.alla sua.

sa.tremi.t?_a_ sralle.? _

_ Preferibilmente si introduce almeno__una oorrente ausi.1iaia_.dl_.gas_prerisoaldato nella..camera_d1 rivestimento in.mo-?

lo__oh.e. fluisoa verso valle In detto strato di copertura o a"

1tacente ad essof e attraverso la zona In oui opininola dotti,

formazione..del rivestimento?._Tale_ oorrent? auslliaria di ga<p >ha

LI vantaggio di_aumentare la quantit? di moto verso valle d<>1- .

Lo strato di copertura e/o di proteggerlo oontrp .correnti oaauali.nella paniera. Inoltre l'uso di tale oorrente permette

in controllo relativamente fine della temperatura ?/q_della

portatali; dello strato di copertura nel suo insleme<

TTn uso particolarmente Importante per un procedimento

UFFI^'<n >ndo l'invenzione ? nella formazione di rivestimenti di Ing. P. GUAZZO BREVETTI assido di stagno usando cloruro stannoso come materiale pre--del rivestimento. Rivestimenti di ossido di stagnoi

ahe riducono il potere em?esivo d?lie superfiol di laetre di

a oui sono applicati nei confronti di radiazioni

rosse di lunghezza d'onda elevataf sono largamente usati pe:r

ridui il trasferimento di calore da strutture a vetrate.

ffaturalmente questo ? solo un esemplo dello scopo per oui

pu? usare il procedimento. Come altro esempiof il procedimeat( pu? essere usato per formare un rivestimento di biossido

di titanio o un rivestimento di una miscela di ossidi oome

per esempio una miscela di ossidi di cobaltot ferro e cromo,

..co mpr e nd e . anche.._urL?ap.pa reco hiatura .per_ f o.

mare? per pirolisi-Un? riveBtimen-to di- un? co mposto metallico

eu? wtro-ealdo , e-di--conseguenza-si_for*nisce -undapparecchia-4ura? per? formare -per pirolisi- un?rivestimento?di-un?oomposi o

metall?co-SU-Una faccia superiore... d i-Un-. substrato di jv.etro

oaldo_s.oti^ forma-di -lastra-O.-nastro., -.comprendente organi

.traBpor-tatori. per trasp.ortar.e d.ejtto snbjatxatiO-^-iLungo^un percjarso

a una direzione, verso... vai le j una -Struttura a_t etto., che. d elimita-Una.oame ra di rivestimento ohe si apre verso il bas_8)i

su detto percorso f e me zzi _ pe r scaricare materiale preourso

re del rivestimento in detta camera? caratterizzata dal fat -to ohe a monta di detta camera di rivestimento vi ? un 'anti?^

oamara che comunica oon la camera di rivestimento tramite u~

na fenditura di ingresso ohe ? delimitata? in parte dal pe

U F F I C I O

corso del substrato e . attraverso cui si fa fluire gas nella, lng. P, GUAZZO BREVETTI

camera di rivestimento in modo da formare (quando X* apparso

*

ohiatura ? in funzione) Uno strato di copertura ohe copre 1

faccia superiore del substrato lungo una prima parte della

lunghezza di detta camera ? e dal fatto ohe BO?Q previsti me zzi per preriscaldare in modo controllabile il gae ohe forma

detto strato di copertura?

Tale apparecchiatura ? particolarmente adatta per la- fo

mazione di rivestimenti di qualit? elevata e spessore regol

re in un procedimento continuo^, per esempio un procedimento ?

come definito in quanto precede. L'apparecchiatura pu? esse - ?T/

_ ire posta in qualsiasi punto conveniente. Tale appare o eh iatui_. _

j j

i I

_ . ?.. pari ieo larmant e..vantaggiosa _per _i 1 fatto. che__pe rme.tt e._.| .

_ il controllo di condizioni nella, zona dove inizia la. forma- !

i

sione del rivestimento ohe. sarebbero .altrimenti, diffioili d.a.

codificare* .. . . _ . . . . ;

]

i Vantaggiosamente , vi ? una conduttura di - scarioo con uno o

pi? imbocchi all'estremit? a valle di detta camera di

rivestimento. Una conduttura di scarico posta in tale zon? ? _ _

? ^ | <.>stremamente <' >ut - ile p -er genera <.>re <.. >far ze _ di aspira <.>zione ? : <.>

.<.. ~ >per agire sul gas all'estremit? a monte della camera di riv?- _ _ 3timento per mantenere un flusso complessivo verso valle di ; _

j

aateriale nella camera di rivestimento garantendo con tempora- _

i

leamente che non vi sia alcuna zona morta nella oamera dove ; _ _

I , - '"N 30 ss ano accumularsi materiale precursore del rivestimento o > _ - - r ing. P. GUAZZO prodotti di reazione corrosivi e che le forze esercitate sul- BRE VE TTI ? 'atmosfera all ?estremit? a monte di tale camera siano alqu?n-[ . <. >. . <?>

Ito diffuse? Si ?_ trovato che ci? tende a ridurre disturbi

delle correnti atmosferiche esistenti nell 'estremit? a monte

I !

della camera di rivestimento.

i ?

| In forme di realizzazione dell 'invenzione maggiormente :

f !

preferite, all'estremit? a valle di detta oamera di rivesti-^

nento e prevista una presa d? scarico curva che si estende !

almeno per- la maggior parte della larghezza del percorso del

substrato e che definisce in parte almeno un imbocco della

condutturadi scarico. Tale apparecchiatura ? semplice oome :

costruzione^ ed facile da collocare. L'uso __di_una curva ? particolarmente utile, ne 1 guidare regolarmente materiale

i

da aspirare nell 'imbocco della conduttura di scarico e aiuta a

avi tare picchi momentanei di contropressione chapotrebbero fralm?

allentare le correnti atmosferiche nel passaggio. E* particolarmejn te desiderabile usare una presa ohe si estenda per l 'intej^

ra larghezza della camera di rivestimento e ohe sia regolabij-+e in altezza s?pra il percorso del substrato, per esempio

n lediante un montaggio a cerniera? in modo da ottenere la chili-? ura massima del l 'estremit? a valle della stazione di rivest^.-mento ?

In forme di realizzazione dell 'invenzione preferite in j

nodo speciale^ ^opra J.1 percorso del substrato e prevista

a parete di barriera ohe si estende per l'intera larghezza u ^ F

Ing. P. GUAZZO dell'estremit? avvalla di detta camera di rivestimento e so-: BREVETTI Stanzialmente la chiude Tale parete di barriera pub essere

forbita per esempio da detta presa di scarico . Questo ? uh

do molto semplice di garantire che variazioni nelle condi?;

s ioni immediatamente a valle dell'estremit? della camera di

rivestimento non abbiano effetti diretti sulle condizioni nel?

a camera di rivestimento e viceversa

In forme di realizzazione particolarmente preferite deli-] 'inv?nzione , detta stazione di rivestimento e situata tra

l 'uscita da un. impianto di formazione del nastro e l 'ingrss?

so in un forno di ricottura. Quando si opera in questo modo ,

a i__trove r ?._che ..il vetro pu? .raggiungere_l a_ sia z ione. _d i_. rive;:

Bt?mento a una temperatura_che__?_%ualla?richjLe_8.ia_, . o ?_?.????.

na^ a .gu ella_ riah ie s.t.a ,f ? a f fin. oh ? laurea zioni _di__.rive_s timer! tq

piralitico._ abbiano luogo ?. P_i _c.on seguenza l.'ado.zip.ne di q.ueeta caratteristica elimina la n eoe ss i t? di .ulteriori . apqa re 9 <?>

chiature di riscaldamento che sarebbero necessarie per innaj<1>

zara dalla temperatura ambiente la temperatura del vetro da

tire

Vantaggiosame nte ? per almeno parte della lunghezza del -la camera sono previsti mezzi per_ impedire il flusso di matarlale atmosferico al di l? dei lati del percorso del substr&tp_eL_ tra_ zone ..poste ver tic alme n te sopra e vert lealmente

sotto tale percorso ? Tale flusso indesid erabile di material 5

attuo sferico potrebbe provocare osizione irregolare di mar U F F I C I O -Ing. P. GUAZZO teriale di rivestimento sulla faccia jmper iore e/ o in fe rio re BREVETTI -del substrato in particolare ai suoi margini laterali ?

Si- preferisce in modo speciale ohe i mezzi ohe scaricano

il materiale precursore del rivestimento siano atti a spruzzare una soluzione di precursore del rivestimento verso il

basso e verso valle* Questa ? un 'appareoohiatura molto som?'

plico per emettere quantit? relativamente grandi di materia

le precursore del rivestimento come pu? essere necessario

per la formazione di rivestimenti piuttosto spessi e permei??

te tale emissione amnga infrangere un flusso generale di mai?

teriale atmosferico lungo la camera di rivestimento nella

- ??

direzione verso valle , come ? vantaggioso per la formazione

? .<li_.rivestimenti di qualit? elevata.

- . -Instali forme di. realizzazione si . preferisce in modo.

speciale che tali jne.zzi_d.i._spruzzo siano disposti irL-Podo d ?

spruzzare detta soluzione di precursore del rivestimento in

una zona di spruzzo di detta cana ra di rivestimento da un <1>

altezza sopra il percorso del substrato di almeno 75 ora;

ohe siano previsti mezzi di riscaldamento per fornire calor 3

a detta zona di spruzzo ; che detta struttura a tetto defili

-sca una parte di passaggio di detta camera di rivestimento

-che porta a valle d i detta zona di spruzzo e conferisce alla camera di rivestimento una lunghezza totale di almeno 2

metri; e che siano previsti mezzi per generare forze di asp irazione sul materiale atmosferico in detto passaggio per in

Ing. P. GUAZZO ooraggiare tale materiale a fluire lungo il percorso del su b- BRE VETTI strato fino all 'estremit? a valle di detto passaggio e a en

- - - -trare in una conduttura di scarico per allontanare tale materiale dal percorso del substrato.

Un 'appa recchiatura avente queste caratteristiche ? par

tioolarmente utile. Tale apparecchiatura ? pi? economica da

far funzionare delle apparecchiature convenzionali di rivestimento in fase vapore in cui tutto il materiale precursor e

<.. .>

del rivestimento deve essere vaporizzato prima del contatto

? con il vetro , ed ? pi? semplice da costruire delle apparso-*?

ohiature a spruzzo note, in particolare perch? si possono fa " Sf? <* s>y

II oilmsnt.e_evitar.e.i.probiemi_.assoc.ia.ti_agli_s.pruzzie_all'aUonjI

Itanamento di. grandi.quantit?Jii soluzione di precursore de?L.

: I

..jriyestiraen.to spruzzata dalla zona dove viene formato . il ri-]

Svestimento assicurando ohe il .calore fornito _sia _suffipiente

da far evaporare unapercentuale sostanziale del. precursore

del rivestimento_spruzzato..

Usandot alo.apparecchiatura abbiamo trovato estremamente

piu facile formare rivestimenti di qualit? ottica elevata e strutjtura uniforma in modo affidatile e riproducibile? anohe a ve|-_

jlocit? elevate di formazione del rivestimento , e senza influir- _

|re sollecitazioni termiche elevate nel vetro. In particolare abbiamo

| :

trovato estremamente pi?. facile formare^ rivestimenti <'>

ohe abbiano un fattore di nebulosit?, basso e uniformemente <1>

j

ibasso.

Ing. P. &UAZZO BREVETTI

Naturalmente , per ottenere tale qualit? elevata e ripr??

!

ducibile del rivestimento, l'apparecchiatura dovrebbe essere

usata in modo opportuno, ma la combinazione di oaratteristilche dell'apparecchiatura comeJLefinita sopra ? partioolarmep?

jte utile per facilitare il controllo di condizioni nella oar?

imera di rivestimento? Eer .ottenere questi buoni risultati, ?

|abbiamo trovato, usando l'apparecchiatura, che ? meglio oon?

jtrollare le condizioni in modo che una parte BOBtanziale delj

[la soluzione di precursore del rivestimento_sia -fatta evaporare

prima di penetrare nello strato di copertura per arrivare a

<1>contatto_dsl substrato, -in modo che lo strato?di copertura non

i

imolto disturbato dal materiale spruzzato, e in modo ohe

1<1>atmosfera all<1>intemo della zona di epruzzo ai carichi,di

sapore di precursore del rivestimento ohe ? poi aspirato lutb-50 il paesaggio dove rimane a contatto con il substrato.

Finora si ? ritenu_to_neoessario scaricare la soluzione

Ji precursore et? un punto vicino al substrato ? un'altezza

I

ii spruzzo di 30 om 0 meno e abituale per non lasciare alj

nateriale precursore tempo di reagire con.1'atmosfera nella

camera di rivestimento e formare prodotti di reazione che

potrebbero d epos itarei sul substrato e formare difetti sul ri-\

vestimento. Si ? anche ritenuto necessario aspirare via dal \

substrato il pi? presto possibile il materiale precursore dii rivestimento in eccesso e i prodotti di reazione, di nuovo

impedire deposizioni spurie sul substrato, e lunghezze

iella camera di rivestimento d? 60 a 100 cm sono tipiche P. GUAZZO BREVETTI ? quelle che si trovano nella tecnica nota. *<>>?

Le ragioni per oui l'uso di tale apparecchiatura debba

favorire livelli qualitativi elevati del rivestimento non s?no completamente chiare, ma rimane il fatto ohe con l'aiuto!

* di tale apparecchiatura siamo in grado di formare rivestimencon un fattore di nebulosit? pi? uniforme e pi? basso di|

quanto era possibilie prima. I rivestimenti formati possono!

una.qualit? ottica elevata e uno spessore regolare e

prevedibile. Inoltre, usando tale apparecchiatura, siamo in:

I ?

'grado di formare quei rivestimenti su substrati di vetro pi?

rapidamente, e perci? con spessori maggiori 0 BU substrati

ohe si muovono pi? rapidamente, di quanto non fossimo in_

grado di fare..finora._

_ In e f f e 11 i que a to rappresenta un o_s co s tamento rad ica 11 dall 'lnsegn.amer! to della tecnicajnota nel campo delle appa?

reoohlature di rivestimento pirolitioo , e forma l 'argomento

j?ell 'invenzione descritta in detta nostra domanda di Breve-?-to Britannico depositata anoh 'essa il 20 Dicembre 1965 j_ do-*

manda n? 85 31 423 , _ con _i 1 riferimento jd eli ^agente OJ26

FLINTSTONE 440? la quale deearive e rivendica un'apparecchia-^

tura per formare per pirolisi un rivestimento di composto metallico su una faccia superiore di un substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro, comprendente organi tra?-sportatori per trasportare detto substrato verso valle lun"

ii^ r i c i o go un percorso? una stazione di rivestimento comprendente

Ing. P. GUAZZO Una struttura a tetto che delimita una camera di rivestimenBREVETTI to che s? apre verso il basso su detto percorso, e mezzi per

spruzzare una soluzione di precursore del rivestimento in

detta camera verso il basso verso il substrato, caratterizzata dal fatto che: i mezzi di spruzzo sono disposti in modo^

da spruzzare detta soluzione di precursore del rivestimento

in una zona di spruzzo di detta oamera d? rivestimento da

un 'altezza sopra il peroorso del substrato di almeno 75 ????

di ri<?>scaTdamahto <. . " ' >1.

sono previsti mezzi/per fornire calore a detta zona di spr?zzoj detta struttura a tetto delimita una parte d? passaggio

i

di detta camera di rivestimento che porta a valle di detta

z-ona_dl_ spruzzo _e corjferisce alla?oamara di?rivestimen-to-Unii

zza totale di almeno 2 metri; e. sono previsti.^mezzi

per-gerarare forze aspirarti_.su.matorla1e^atmoafe.ri.c.o_in_de

to passarlo per incoraggiare tale catarlale a fluire lungo

il percorso del substrato all*estremit? a valle di detto panaaggio a a entrare in una oonduttura di scarico per allottar

nare tale materiale dal peroorso del substrato._

In certe. forme. Ai realizzazione granAamente preferite

iell<1>invenzione> detta camera Ai rivestimento comprende un

passaggio lungo cui si possono condurre verso valle vapore

I

di precursore del rivestimento e gas ossidante a contatto

con detta faccia superiore del substrato durante il traspor?-L- s r . r ? to di questo, e in cui vi sono.mezzi ohe definiscono una zo-Ing. P. GUAZZO na di miscelazione in cui si possono unire, fuori dal contat- BREVETTI to con il substrato, e mescolare ijLjoateriale precurs?re del

rivestimento e il gas ossidante per formare un'atmosfera comprendente una miscela intima di vapore del precursore e gas

ossidante, detta zona di miscelazione essendo in oomunioazione con detto passaggio per consentire a.una corrente di detta miscela intima di fluire lungo detto paesaggio da detta

zona di miscelazione.

Tale apparecchiatura ? particolarmente adatta per la

3-V formazione di rivestimenti di qualit? elevata che siano sostanzialmente esenti da variazioni di spessore imprevedibili> V

_ja -velocit?., e levate _ii.. formazione- del r ive s timen t o._.e.. in -.un. pr?- ?

! \

jcedimento continuo. - - - - - . ~

Di nuovo ci? permetta ua disturbo ridotto dello strato di eoper-I :

jtura da parte del materiale precursore del rivesjtimento soar

rioato , e . usando questa apparecchiatura si possono .formare .

i ;

rivestimenti di qual it? mo Ito. elevata, presumibilmente per?:

i

< ;

;

jOhjS i vapori di .precursore del rivestimento possono mescolar? .

|si nello strato di copertura sostanzialmente senza disturbar-^ _

;n? il flusso complessivo . _

j <:>

I Come esempio di tali forme di realizzazione ! un 'appare C-lohlatura secondo la presente invenzione pu? vantaggiosamente

anche incorporare una p piu oaratteristiohe dell 'apparecchia?<- >_

[tura descritta in detta nostra domanda ci brevetto britanni?-"

co depositata anch 'essa il 20 dioembre 1 ?85? domanda n. 85 31424

? ( F F i r i o joon il riferimento dell 'agente PH18 CEOWNSTOHB 5.1P? la qiia?

Ing. P. GUAZZO jle descrive e rivendica un 'apparecchiatura da usare per for? BREVETTI

mare per pirolisi un rivestimento di ossido metallico su una

? <' . . :>

[faccia superiore di un substrato di vetro caldo sotto forma

idi lastra o nastro , comprendente organi trasportatori per

I ;

i

?trasportare detto substrato in una direzione verso valle luh~

<" >t ? <^ . . .>

i

igo un percorso e una struttura a tetto che delimita una oa~ _

orner? di rivestimento ohe si apre verso il basso su detto per?

corso e comprende un passaggio lungo oui si possono condurre verso vaile vapore di precursore del rivestimento e gas ossidan?

te a contatto con detta facoia superiore del substrato

durante il trasporto di Questo f caratterizzata dal fatto che

_ yl sono mezzi ohe definiscono una zona di miscelazione in 01 L?

j

?1 possono r. riunire . _dal contatto con il subst?ato, il materiale precursore del rivestimento e il gas OBsidan-be_e mescolarli per formare un 'atmosfera ohe comprende una mi?

!

3cela intima di vapore di precursore e gas ossidante , detta |

zona di_miscelazione_oomunicand? con detto .passaggio..per_cobaentire a i.una corrente di detta miscela intima di fluire da?

ietta zona di miscelazione lungo detto passaggio . _

Si preferisce in modo speciale che JLetta^ struttura a tet-!

t_opresenti una marcata diminuzione di_a_ltezza sopra_il per?

corso del substrato -nella direzione verso valle in modo da i

zzare il fluseo verso valle di vapore dalla zona di sca

rica del materiale precursore del rivestimento nella camera

??FFICIO rivestimento? L'adozione di questa caratteristica permette lng. P. GUAZZO - Hntsrt TTI li avere una zona di scarica a monte relativamente alta per

lare ampio spazio per una buona miscelazione del materiale

oreoursore del riveetimento scaricato nell'atmosfera in tale

sona, ohe pu? servire come serbatoio di vapori di materiale

?i rivestimento che sono poi forzati a fluire in basso versp

il substrato per mescolarsi con lo strato di copertura e flu?

ire oon esso verso l'estremit? a valle della camera di rive?

! j

stimento in una corrente concentrata e uniforme che reca be?

n.efici per la formazione di materiale di rivestimento dalla

fase vapore

Preferibilmente detti mezzi di prerisoaldamewto del gas

sano coni rollabili ...in modo da scaldare in misura dive r sa. _ il

gas ohe forma parti diverse di detto s_trato di copertura ne1

senso della larghezza del percorso de1.substrato Ci?_permqtte..ur!._opn_trollo^.pi?..fine della temperatura del gas destinato a formare lo strato di copertura._

_ Vantaggiosamente detti mezzi di_preriscaldamento del ga|

sono controllabili in modo da scaldare il gas ohe forma paiti marginali laterali di detto strato di copertura in

maggiore del gas che forioa parti oentrali di detto si^rato^

Questo ? utile in particolare per

il maggior raffreddamento dell 'atmosfera in detta camera di

rivestimento ohe si verifica vicino alle pareti

<? >' F F I C I O di detta carnera, in_modo da^ favorire una striseia pi? 1argfi ing. P. GUAZZO-BREVETTt del substrato che ? rivestita allo^spessore desiderato.

In forme preferite di realizzazione dell'invenzione>una

parete di separazione sopra la fenditura di ingresso

de ma paratia per regolare l'apertura della fenditura di in*'

greseo. Ci? d? un ulteriore mezzo per controllare le cond?'?'

zioni nello strato di gas di copertura che fluisce nella

mera di rivestimento, per esempio per variare la velocit?

di tale flusso di gas per adattarsi a condizioni prevalenti

sotto la zona di scarica del materiale precursore del rive-r

jstimento.

Preferibilmente tale paratia ? costruita a sezioni mobir

dipendent emen t e__p.e.r_rego lar.e_la_fenditar.a_di_ingr.e sso.

in-misura -differenzia ta nel senso della- larghezza del percorso del substrato , -oosicohe si pu?. effettuare_tale. con rollp

nel 3enso della

indipendentemente .in? posi zi oni_ diverse. / ^larghezza del

percorso- del . substrato., per. esempio_a .seguito. .del rilevamento

di variazioni- di^pessore?nel^-rivestimento-formato ? .

forme_-di?realizzazio?-e_delU.inv.enzion.e_prafe.r.i.te. .in

modo s pe ci al e. , . so n o previ sti_.me.zz.i_pe r sca Ida ra._ Ita t.mo a fera

in .detta, anticamera da un. livello_supe_ri.ore a.._qu.ello _ del pe

corso del substrato . Questa ? un 'apparecchiatura molto sem-,pl ioe par in fluenzare direttamente la temperatura dello s t r?to .di__cop.ertu.ra . di atmos fera a contatto con la faccia superiore di un substrato nell 'anticamera.

U F F I C I O

Vantaggio samen te ,. i mezzi di riscaldamento dell 'antica Ing. P. GUAZZO f Vb T TI mera comprendono bruciatori jp.9t oh?^.. ci? consente un effetto

di riscaldamento molto efficiente , seniplipe regolabilit? e

risposta rapida a ogni regolazione. _

_ Preferibilmente , sono previsti mezzi per soffiare gas

preriscaldato in detta anticamera. Ci? consente di so f f iare

il gas nell 'anticamera, senza perdite o. con perdite rid otte

di calore ? su un substrato contenuto in essa ? e significa

che una quantit? di gas adeguata per formare lo strato di

copertura pu? essere fornita da un 'anticamera pi? piccola.

Vantaggiosamente , sono previsti me_zzi_ per^ soffiare gas

l ' al to sui lati della stessa

preriscaldato In detta anticamera verso / da un livello

Lat e._piu_.faci Imeni e.? _ _

? ESEMPIO 1 _ _ _ - ? ?

? In una forma di realizzazione pratica specifica dell ?ap jarecchiatura^rappresen. tata-in? fig?? 1..f._la camera -di -ri vestii

i lento.. .6..?. un _po <T>....p.i? .larga-di..3_ metri- per..accogliere nastri

(Li _ vetro_ avventi una_ larghezza-fino a.3-.metri. La . struttura ?>

<1 >;.eti.o_.5_.so.pra...la zona di .spruzzo? 9_J. e 1 la_o ame ra._d i. r.iv e s t in

] xeni o_ ? .po c o pi? d i . _1__.me_tr.o__ so.pra .i 1 _ 1 iv.el 1 o__de.l? per c ors o_ .1

IeX-nastro.-?. llap.ert.ura di Bpruzzo_.d.ell-<,>.ugello-_7-di_emiss.io--?.

e ?elle_go_c.c.i.o.lin.e__?_vie.ino___al_live.llo-_di_.quel.-tetto. Tale

ugello_7_.?._atto__.a__s_caric.are._un?ge11o.c.onico.digoccioline in

una direzione 8 ad un angolo di 45? rispetto all'orizzontale

?;a parete a ponte 14 all'estremit? a valle iella zona ii spiuzj:o__9 dista 2,2 metricialla parete terminal? a monte 22 della

?amera di rivestimento Il paesaggio 13 ha uri'altezza che si U F F I C I O Ing. P. GUAZZO riduce da:<' >40 om in corrispondenza iella fenditura ii uscita BREVETTI ? 5 a._25 onialla sua estremit? a valle. La lunghezza di quel

;massaggio ? 4,5 m.

Questa apparecchiatura ? progettata in particolar modo

per la formazione di rivestimenti di ossido di stagno part n

(lo da cloruro starnoso come materiale precursore_del rives

i lento?

_ Usando tale apparecchiatura> si form? un rivestimento

di ossido di stagno spesso 750 pm su un nastro di vetro floa

?peBBo 6 mm che si spostava a una velocit? di 8T5 m/min. Il

- 45 - iit

_ A monte della paratia.23.-.yi_?.un.?anticamera 25 in cui...

js.cm.CL. previsti, JO&ZJZ? -li - r isoa ld amen t o . 26. _Tal i mezzi . di _ r i- ..

S_c.a Idamg ni. o.. posponi o_ .sa s_ere_. me.z zi d i _.r.is pald_am_e_n tp_r_ad ian ti ,

o uno o pi? bruciatori, o possono comprendere un._ra_diatpre

ad aletta come rappresentato. Un elemento di tetto 27 scendo

,_ L: d?i tetto 21 del passaggio e dalla parete terminale a

monte 22 della camera di rivestimento? e forma un tetto per

l'anticamera 25 ohe ? inclinato verso il basso verso la feri

ditura .di ingresso 24 della camera di rivestimento.

Sei funzionamento, una corrente semi-naturale^ di gas

sar? aspiratan?Ll'estremit? a monte della camera di rivesti

mento 6 dall'anticamera 25,cosicch? l'ambiente gassoso nell

immediate vicinanze della faccia superiore del substrato

U F F I '' <1 >^ almenojnella zona in cui inizia la formazione del rivestimefr Ing. P, GUAZZO .

BREVETTI , < tOj? controllato da gas preriscaldato inviato nella direzio

ne verso valle 3 nella camera 6 in modo che entri nella camera a contatto con il substrato 1 e formi uno strato di co

pertura che copre il substrato almeno lungo tutta la zona di

contatto con il materiale precursore del rivestimento.

L'effetto della parete terminale 22 e della paratia 23

e quello di controllare l 'altezza della corrante di materia|-le atmosferico che fluisce nella oamera di rivestimento 6

da monte e forma lo strato di copertura che copre il nastro

di. modo ohe le condizioni atmosferiche nella regione dove l?-nizia la formazione del rivestimento possono essere oon troll?

- 44 - !

jt remit? . a .vai le., in modo da . imp.ed ire. sostanzialmente il.. flusso.,

li materiale atmosferico in. .ingres.s.o.. .0 . in ...uscita .dalla oame?

ra^di. .rivest.imento . .6..all.lestr.emit.?? a valle del .passaggio 13... .

fale _ pre s a 18 pu? opzionalmente essere montata a cerniera i? _

apdp. da poter essere regolata per lasciare un gioco minimo j

aon il substrato 1. Sempre all 'estremit? a valle del passag?

I

l?

5?P._13.,.. si_ aspira il materiale, atmo.s.f e rioo in. condotti late?

cali di. eo.ar.ipp . 19 posti su ciascun lato della camera di rir

vestimento , per favorire una diffusione. laterale del materia-L e atmosferico che scorre lungo 1 a camera d i_ rive et imen t Oj.

Err realt?., tali condotti di scarico laterali 19 si estendono S O -aftaaaialmente__per tutta la lunghezza del passaggio fin ben !

]

lentro la. zona di spruzzo , quasi fino alla sua estremit? a [

UFFICIO monte . per impedire al vapori di precursore del rivestimento

Ing. P. GUAZZO BREVETTI li passare sotto il pe rcorso 1 del substrato.

La stazione di rivestimento 4 ? situata tra l 'uscita d?

j

in impianto di formazione del nastro (non rappresentato) , per

esempio una_vasca di galleggiamento , e l 'ingresso in un forjio di ricottura 20.

Un passaggio dall 'impianto di formazione del nastro al-La camera di rivestimento 6 presenta un tetto 21 , e l 'estre??

alt? a monte della camera di rivestimento ? determinata da |

ina parete terminale 22 da cui soende una paratia 23 che la-j-3cia uno spazio per il passaggio del substrato 1 nella came?-ra di rivestimento attraverso una fenditura di ingresso 31. :

Il-gas . jame.s s.o_ ? _ con ven.ien.temen te. aria.,_pr_e rispald at a

-Esempio a una.temperai.ura_me..d,ia-nell'intervallo da 300?C.a j

<1 ' >!

..p)0?C.#.I riscaldatori. 10 provocano l'evaporazione di parte

<j <1>lel. getto di goccioline spruzzate durante il loro peroorso I |

verso il substrato 1 , e il vapore . cos? formato, ? trascinato |

nel getto di aria preriscaldata emesso dall'apertura 12. j

I |

j _ . La .struttura a tetto 5 delim .ita una parte di passaggio (

13 della camera di rivestimento 6 ohe porta a valle della z?ha di spruzzo 9 e conferisce alla oamera di rivestimento 6

una lunghezza totale di almeno 2 metri e preferlbllmente una

!

; <" " . >?

i<'>

lunghezza di almeno 5 metri. Sella forma di realizzazione il-I .. i

lustrata, la struttura a tetto 5 comprende una parete a pon4

i ;

Ite 14 sopra il percorso del substrato ohe si abbassa aostani

?o zialmente verticalmente per definire una fenditura di uscita <~ >Ingu GUAZZO | ! BRE VETTI 15, all'estremit? a valle della zona di spruzzo, che separa;

quella zona dal passaggio, e il passaggio 13 ba un'altezza ! ! . . |

bile diminusioe nella direzione verso valle da tin valore mas?

I !

simo in corrispondenza della fenditura di uscita 15? L'altezza

<' >i

della fenditura di uscita 15 ; ? meno di met? dell 'altezza tra

lj^ugello di spruzzo 7 e il substrato 1?

; All ?estremit? a valle del passaggio 13 si aspira mate?

jriale atmosferico in una conduttura di scarico 16 avente uni

jimb?ooo 17 definito in parte da una presa discarico curva !

:18 ohe si estende sopra il percorso del substrato 1 su tutta

la larghezza del paesaggio, e sostanzialmente ne chiude l'e

i?d ? di un tipo ben noto in s?. L'u?ello ? atto a spruzzare

a-soluzione di precursore.del.r.iye.s_timenio._.nel1a_direzione

Everso..il basso verso,il substrato,^ e nella direzione verii.o__v.alle.-3.^..e.d._?_mobile._avan.t.i_e..indietro, lungo..una guida

[non..rappresentata). s_u.tutta..la_.larghezza_d.e.l .percorso del

i lubs.trato.?

Nella forma di realizzazione illustrata ,__ao n g_ pr.ev iati

nezzi di riscaldamento per fornire calore a detta zona di

npruzzo? Tali mezzi di riscaldamento comprendono risoaldato-;ri radianti IO riy.oIti rso il basso disposti nel te11o de]-!La zona di spruzzo 9? E<1 >prevista una conduttura 11 per sca--I

ripara un getto di gas preriscaldato nella 20na di spruzzo $

:?? direzione tale da interseoare il getto spruzzato 8 di ma-?

feriale precursore del rivestimento. La conduttura 11 ha la sua

OFF.CIO apertura. di emissione 12^ disposta nella met? superiore dejl- Ing.P. GUAZZO BREVETTI

? <1>altezza fra l?ugello di spruzzo 7 e il substrato 1, ed ?

atta a scaricare quel getto di gas da monte rispett? all'as-^

u? di emissione dello spruzzo di precursore del rivestimentc

!J'apertura di emissione 12 ha larghezza minore del percorso

del substrato 1 ed ? mossa avanti e indietro attraverso la

sona di spruzzo in tandem con l'ugello di spruzzo 7? Il gas

?messo dall 'apertura 12 ? inid.almente diretto Bostanzialmerr?

be orizzontalmente, attraverso il percorso trasversale del

. .

getto 7 di goccioline, per mantenere una oiroolazione di ga^

I

nella zona di spruzzo 9*

percorso del

inferiore a quello del/ Substrato? Questa ? un. 'apparse chiatu?

fca molto conveniente _ed._ef ficiente _per_ comperi Bare perdite di

calore attraverso le pareti laterali dell 'anticamera.

Preferibilraent_e,__sonp previsti mezzi per soffiare gas

preriscaldato in detta .anticamera verso valle da un livello ;

j ;

superiore a quello del^percorso_del substrato? Questo ? un

altro modo conveniente di soffiare gas preriscaldato nell'anticamera e ha il vantaggio supplementare di favorire un fluppo complessivo verso valle di gaa rei la camera di r ivest imen?

to e attraverso essa

In certe forme preferite di realizzazione dell 'in ver? zi?jie sono previsti mezzi per soffiare gas preriscaldato

?LI basso in detta anticamera e per impedire a tale gas di fluire verso il basso al di l? dei bordi laterali del percorso U F F I C I O Ing. P. GUAZZO iel substrato? Questo ? ancora un altro modo conveniente di ; BREVE TTI j :

soffiare gas preriscaldato nell 'anticamera per controllare

j :

l 'atmosfera immediatamente al di sopra del percorso del subr

strato?

In alcune forme preferite di realizzazione dell 'invenzi??

detta anticamera presenta un tetto inclinato verso il bas?

p? verso la parte superiore di detta fenditura di ingresso?

(Ci? favorisce un flusso regolare di gas nella fenditura di

ingresso e attraverso essa, per formare lo strato di copertura a contatto con un substrato sul percorso?

Vantaggiosamente , a>no previsti mezzi per proiettare un

-38

getto..di.gaa nella camera verso valle_p_er mantenere un flus^r

?

so complessivo verso valla di materiale atmos_fer_ico_per unaj.

parte, sostanziale dell'altezza_della, camera. ..Tali mezzi ain?

1

tano a mant_<e>_<r>i<er>.e la, presaione atmosferica nella camera di rjivestimentoj riducendo cos? la probabilit? che oorrenti d 'a?

.ria casuali siano aspirate nella camera attraverso le. sue pareti

j

disturbando la distribuzione desiderata di correnti atmosfej?

ij

rlche in essa, e tale flusso complessivo verso valle aiuta j

anche_a_mantenere gi? sul, substrato lo ..strato di copertur<?>

ra di atmosfera*

_ _Prefer ibilraente, sono previsti mezzi per scaricare almeno una corrente ausiliaria di gas preriscaldato nella camera j

di rivestimento in modo ohe fluisca verso valle in detto etra-F F

to di copertura o adiacente ad esso, e attraverso la zona in Ing. P. GUAZZO BREVETTI cui comincia la formazione del rivestimento. Si pu? cos? generare una corrente di gas ausiliaria per rinforzare lo strato ]

di copertura e/o proteggerlo oontro oorrenti casuali che pob-[sono esistere nella camera. Inoltre l'uso di tale corrente

jpermette un controllo relativamente fine della temperatura

e/o della portata dello strato di copertura nel suo insieme.

Si descriver? ora con maggiori dettagli questa invenzione oon riferimento ai disegni schematici allegati di varie

forme preferite di realizzazione di apparecchiatura secondo:

l'invenzione e dando esempi d? prooedimenti specifici seconf?

do l'invenzione realizzati usando tale apparecchiatura.

39

...Nei. disegni , . ognuna, -delle, .figure... J_r_ 3.?? ..una-.v.iejta--later:.

rale...-in.-sezione- di__un.a_-f orma...di ..realizza zi one?d Lappare echi

jtur.a .-di rivestimento^seoondo .1! invenzione ,_.e _

_ la fig. 4 ? una sezione secondo la linea IV ~ SE. di. fig . ,.3J

FIGURA t

In figura 1, un Apparecchi a tura per formare per p irolis un__riyestimento di composto metallico su una faccia superior?

re di un substrato 1 di vetro riscaldato sotto forma di la?

sJi?a_.p_ .nastro comprende organi trasportatori, come per esemplo. A rudi i 2 , per trasportare un substrato in una direzione

verso valle 3 lungo un percorso anch 'esso indicato con 1. Il

percorso 1 porta sotto una stazione di rivestimento 4 conprendente una struttura a tetto 5,che definiice una camera

di rivestimento 6 che si apre verso il basso sul percorso 1

U F F I C I O

del substrato, e un ugello di spruzzo rappresentato Ing , P. GUAZZO BREVETTI oamente in 7 por spruzzare un getto di soluzione di procuralo?

re del rivestimento nella camera 6, in una direzione 8 ver-f

so il basso verso il substrato 1.

L'ugello di spruzzo 7 ? disposto in modo da spruzzare i|l

getto di soluzione di precursore del rivestimento in una zo

na di spruzzo 9 della camera di rivestimento 6. Nella forma

di realizzazione illustrata l'ugello di spruzzo 7 ? diepostjo

in modo da spruzzare il materiale precursore del rivestimento per esempio da un'altezza di almeno 75 c? sopra il percorso 1 del substrato, e preferibilmente da almeno 1 r2_ metri ,

- 40

vetro entrava .nel la. camera .. d i. rive a ti mento a Una temp.e.r.atura

.. di_ 600 ?G , ? il precursore del. rivestimento usato e ra una so??

! i

..jluzipne acquosa di cloruro s.tannosp. contenente bifluo.ruro di

j :

Ammonio per fornire ioni droganti nel rivestimento . Si spruz-! i

z? questa sp_luzione dall ?ugello a. una portata di 220 1/?L me?-r

_.|tre l 'ugello ven iva mosso, avan t i e ind ietro trasve realmente |

al percorso del nastro.

I

_j _ Si .accesero i riscaldatori radianti nel tetto della ZOT

na di spruzzo e si scaric? aria attraversa l 'apertura 12 a

lina portata di 6000 Nm^/min e a una temperatura di 400?0. Cdj ;

pe risultato, parte del getto spruzzato di materiale precurr

j * ;

sore del rivestimento era evaporata lasciando solo una parte

i

jper continuare fino all 'impatto sicuro contro il vetro. Il

i : U F F I C I O<?>vapore di precursore;rdel.rivestimento cos? formato era tra?i

! ] Ing. P. GUAZZO scinato nella corrente di gas prerisoaldato-emesso dall 'aper4 BREVETTI ? <' " >!

<?>tura 12, per fluire attraverso la fenditura di uscita 15 e !

i . ;

lungo il passaggio 13 fino alla conduttura di scarico. Quej :

sto esempio fa cos? anche _uso dell 'invenzione descritta in j

j ;

?letta nostra domanda di brevetto britannico depositata il 2?

jjlicembre 1985 , domanda n? 85 31423, con il riferimento del-

l 'agente OJ26 FLDJTSTOliE 440.

I <' >:

I Si generarono forze di aspirazione nelle condutture di

scarico 16, 19 per asportare ciria 100.000 m-^/h di materiale

atmosferico dalla camera di rivestimento a una temperatura

media di circa 350?C, facendo cos? entrare uno strato di co?

; tortura di. _gae_ .preris_calda..to?ial riscaldatore. 2.6 e . ricoprendo

i

_il ..substrato ? Tale, .pr.e.riscaldamento venne effettuato ri?? !

?caldando un . rad latore ad alette al. calor rosso ? |

i

_ ?! aggiunta, gli aspiratori laterali 19 tendevano., ad.. al;-iirare^ materiale atmosferico da sotto il livello .. del nastro ^

I

impedendo cos? interscambio di materiale atmosferico tra zo-f_. .

? ? ? verticalmente sopra e verticalmente _ sotto., il percorso delj

nastro?

_ 31 trov? ohe ci? dava un controllo., eccezionalmente.. fin?

j

dell 'atmo s fora immediatamente sopra il substrato nella regioi

rie dove il rivestimento cominciava a formarsi. 3i trov? ohe !

< |i?_ era part icolarmen.te utile per dare .un __ r iv e s t imentp rego4

i

lare dello spessore richiesto e pe r il fatto oh e_ aument? j

I

la larghezza del nastro su cui si form? il rivestimento con U F F I C I O Ing. P. GUAZZ? quello spessore richiesto . BREVETTI Nel risultato , il rivestimento formato aveva una strut-r

dura cristallina fine all interfaccia vetro/rivestimento ch?

favori unar struttura idi rivestimento uniforme di qualit? elei-I

vata e quindi buone qualit? ottiche , e si ebbe cura di evit?l 'inclusione di prodotti di reazione di rivestimento che i

avrebbero portato a difetti.

FIGURA 2

Nella fig. 2 gli elementi ohe svolgono funzioni analoghe

quelli illustrati in fig. 1 sono stati indicati con gli

s tessi numeri di riferimento .

_ Nella.zona...di..spruzzo,9-all..estremit? a monte._d_ella_oampra_di__ri_ve.s_tj.men?o_j5_.raanoano i.r1scaldatori 1Q e_la .conduttura di.

emissione di gas LI1.?_E'..previste un_c.ondo_t_to. _di_smissio.n_.e__di. gas

7 avente una fenditura di emissione 2.8 che.si.estende sup.-l.Mntera..larghezza della, camera di rivestimento, per.scarioare_materiale precursore del rivestimento aggiun.tiyo in. fasej

vapore. IH modo che sia trascinato nel getto di goccioline

_ A valle della fenditura di uscita 151 sotto la parete

a ponte 14,. la struttura a tetto . 5__continua per definire una parte di paesaggio 13 della camera 6 di rivestimento che

ha nuovamente altezza ridotta.

_ _ Il tetto .5. del passaggio 13 ? di cqstruziane porosa ed

? sormontato da uria camera in pressione 29 ohe pu? essere

riempita di aria preriscaldata attraverso una conduttura 30, UFFi

| Ing. P. GUAZZO in modo da introdurre tale aria riscaldata attraverso il teft- BREVETTI

. . <" . . " >. . . <" >?1

to del passaggio 13 e formare uno strato di barriera contro)

la corrosione del tetto in quella zona e contro la condensai<*>

zione di vapori del precursore del rivestimento sul tetto.

Lungo quel paesaggio 13 sono previsti diaframmi 31 su

oiascun lato della camera di rivestimento, 1 quali sporgonc

verso l 'interno dalle pareti laterali della camera di rive-?

stimento e sopra i margini del substrato 1. Questi diaframmi

si estendono per l'intera lunghezza del percorso del substrato occupata dal passaggio,ip realt? si estendono per tutto :

|

il percorso fino all 'estremit? a monte dell 'anticamera 25, j

" <. >"" 'j"

'U.s.sjad.Q.Jln?e.rrstjti. solo nella regione, dove intercetterebbero

Li-getto spruzzato .8 di mat.eriale^precursore.. .del ..rivestimen io,

So.t-to_la parete terminale a monte 22 della camera di ri-<?>lrns?imen?.o_6-i_la._.paratia._v.ert.ical.e_23__r.ap.pr.e.s.entata in. fig..

tS-SO-s-tituita-da, una. paratia 32. che pu?. esser fatta ruotare

L-lasoia una ?endiiura_di._ingr_e_s8p..3.1_.variabile . cosicch? si

pu?._coii_tro.llar-s..pi?.._fac.ilmen.te . la. portata a ..cui il material^

aspirato

>.s.ferio.o_pu?_. _es sere nel la. .carne ra di rivestimen t o.

( Lall.'an.ticamejpa 33 per formare_ unp-_s.t_ra.to di .copertura sul

vetro . In aggiunta ? ? prevista una conduttura di emissione

li-gas 33 per scaricare.. gas preriscaldato verso il basso nel

. l ?anticamera per formare lo s trato di ma teriale atmosferico

Lmmedi?tamente sopra il substrato 1 fino almeno alla zona d?

_Y0_ il._getip _di materiale di rivestimento uria..???<1>?'?? il ve-U FF I C I O

tro . L ?estremit? a monte dell ?anticamera ? sostanzialmente lng.-R GUAZZO BBEVETTt ihiusa da una .parete di barriera 34?

Sono ii per scaricare gas_nell <1 >ajmbiente del

substrato 1 in modo da formare una corrente continua che sco

nella direzione verso valle 3 sotto ciascun .Porgine del perc ?orso 1 . del substrato e lungo_almeno parte del tratto di

percorso occupato dalla camera di rivestimento 6.

I mezzi 35 pe r scaricare gas sotto il nastro comprendo?*

no quattro camere in pressione 36 disposte a due a due ed e

stendentisi sostanzialmente per l 'integra larghezza della sta- XA

I / I

zione di rivestimento 4? flella parte superiore di ciascuna L j . Vi - ?

' V/ *

- 49 - ?f.f * "Vii - camera-in pressione-36?fci-? una...fBndi-tura 3-7-bordata-da-Un? 1. ?

[ i

i :

- ?let.ta. Aeflet-tT-ice-jQ- ?H_modo_ohe-il-gas iniettato-attraver-j?

| ;

_ 80? le ^fencl itur.e. 37 sia diretto nella direzione rereo valle

j !

. 3 lungo la . stazione di rivestimento 4. Le fenditure 3 ? si e?

_ bI-tendano..per.1?intei'a lunghezza di ogni camera in.pressione i

_ 3_6 trasversalmente alla stazione di rivestimento 4? Se si d?-

_ Sidera_tali fenditure potrebbero essere sostituite da una plu-

_ ralit? di aperture distanziate. Come si vede in_f_ig.. 2, S.opra

i <1>

i

_ le oamere in pressione 36 e disposta una piastra deflettrioe _

|

_ 39 in modo ohe il gas iniettato non venga .scaricato _diretta?

I

!

_ ifrente contro il substrato _ 1_._ Le .camere in pressione 36 posso? .

i proveniente

_ _ no essere alimentate oon ..gas. preriscaldato/da entrambi i laj stazione

ti_della di rivestimento 4>. per. esempio da soambiato-

_ ri di calore. Si pu? usare aria come gas scaricato, e questa U F F I C I O Ing. P. GUAZZO _ pu? essere facilmente scaldata per scambio termico con i gas BREVETTI i

_ caldi del forno. Preferibilmente tale gas ? prerisoalda-

_ to a una ??temperatura ohe non si scosta pi? di 50?C dalla tem-^

paratura del substrato quando questo entra nella camera di

i :

_ rivestimento 6.

i

_ I_ Iljjas scaricato sotto il substrato 1 pu? essere rimos-^

i !

_ BO dall'ambiente del substrato 1 mediante unaconduttura di sca- _

_ rico opzionale 40 e questa pu? essere disposta con il suo im-

bocco ohe si estende trasversalmente sotto il percorso del

substrato, per esempio allineato all'imbocco 17 dello scari?

co sopra il percorso.

Vfoino all'estremit?-a monte-delia-camera di riveetimenr

to,-proprio sopra il-livello dei-substrato., e previsto un opn~-i

dotto-ausiliario 41 di emissione-di-gas per scaricare gas pireriscaldato...nella camera,adiacente-al substrato, in modo che!

fluisca-verso valle.,,.per rinforzare.lo strato di.ooper?ura !

-ohe-entra nella camera di rivestimento al di l? della para?:

|

-tia 32 per condizionare ulteriormente l 'atmosfera a contatto

del substrato-dove questo-viene?inizialmente a contatto.coni

_ il_materiale,precursore del.rivestimento.

..ESEMPIO-.2-_..Sl_ue61^apparecchiatura,di fig^-2 per.-formare_un?rivep. stimento?di. ossido di stagno dello stesso .spessore di quel-,.

lo?dell'.esempio.1 su un nastro di_ve_tr.o dello stesso sp.essore ohe si spostava alla steesa..ve.lo.cit?* Il materiale precursore .

I ?F F iC O del rivestimento usato era cloruro. stannico spiplto in dime? J | n Q. P. GUAZZO BREVETTI

tilformammide, e questo era scaricato da un ugello di spr?zrzo 7 posto 75 cm sopra il nastro e inclinato di 30? rispetti? _ _

!j all'orizzontale? Si sparici vapore di cloruro stannioo attra?

verso la fenditura 28. 3i aspirarono i vapori formati nella! _

zona di spruzzo 9 lungo il passaggio 13, mediante aspirazioH

ne frontale attraverso la sola conduttura di soarioo 16, e

a una portata tale da dare un rivestimento dello spessore d<'>eisiderato.

Il vetro entrava nella camera di rivestimento 6 a una

jtemperatura di 600?Ct e dalla oonduttura 33 si soario? nell'

intioamera 25-aria ..preriscaldata, a _600?C _a.una_ pontata. di..

,000...Nin^/h. .parafarla ._ fluire nella_oamera_di_rives:timen-to . co

??.. strato di copertura che copre, il. vetro . _ _

_H ..materiale. ..atmosferico nella, zona di spruzzo 9 ..si mescol?. intimamente.. e., lungo, il passaggio 13. si aspir? un. flussc,.

aontinuo di atmosfera oarioa di vapore a contatto ._cp_n.._la _fap:

aia._d.el substrato BU cui ai formava il rivestimento. j

3i scaric? aria prerisoaldata a 550?C, con una portata

i 3000 JS?a<3>/h. dai mezzi 35 41 emissione sotto il percorso d$l

substrato. _ _ _ _ _ _ _ _ _

Anohe questp di e d e e c cellen ti ri sul tati in t e rmi.n i deli

La larghezza del rivestimento di qualit? uniformemente alta

formato .

. FIGURE 3 & 4 r F <' >'

Ing. P. GUAZZO _ Nelle figure 3 e 4 gli elementi che svolgono funzioni BREVETTI .. . analoghe^ a quelli rappresentati nelle figure 1 e 2 sono stati indioati con ili stessi numeri di riferimento

Nella forma <? >di realizzazione delle figure 3 e 4 la

rtruttura a tetto 5 sul passaggio 13 ? orizzontale , e quindi

il passaggio ha altezza coartante , l 'altezza della fenditura

?i_usoita^ 15 , su tutta la sua^ lunghezza. _

All 'estremit? a valle del passaggio 13 manca la condut?

tura di scarico 16 e tale e stremit? ? sostanzialmente chiusa

da una parete di barriera 42 invece che dalla presa di scaj rrioo curva. 18. _ . . . . ^ ? ?

I 25 -?_s eparata -dal la-oamera-di-ri

5-da?una parere schermante 43 ohe scende ?dal-suo?tetto-2?,

?j-l-a-parete schermante 43 sopporta a sua volta una paratia

44 mobile verticalmente-ohe pu? essere realizzata-in una pluali-t?-d-i-sezioni nel senso della-larghezza della camera di

:?ives-timen-to-6 per consentire-l'apertura differenziata delle

fenditura-di?ingresso 2-4. Come-si vede in fig. -4, gli angoli

Inferiori-del-la paratia-44 sono-asportati-, come indicato in

45-,? P?3?-consen,t ire una maggior? portata di gas- ai -lati-dei la

i?rives-timento, e-sono previsti otturatori 46 per

golare liapertura-in questi angoli-inferiori.-- So-t-to-l'anticamera 25 sono disposte soffianti 47 per sof--lare . aria preriscaldata verso .lialto al li l? dei margini

del percorso del substrato 1 , e un 'ulteriore soffiante 48 ? U F F I C I ? tng. P. GUAZZO utta_a_s.o.ffiare aria preriscaldata nell'anticamera da. monte, BREVETTI ;ra_la parete schermante a monte 34 .e._il. substrato ..1 ...Bell 'a|ntica?

_ itera-Sono provisii riscaldatori.49,.per esempio bruciaiori,

_ i i_.oome_.s.i.. vede... in. fig._4 -quest i_ris.aalda_to.ri_ sono atti a io:

_ nire pi? calore ai lati dell 'ani icamera _che _al_suo_centro .

?3MBI0_,3

_3.i_us0. _l <1>. apparecchiatura delle figure 3 e._4 _per formare

rivestimento spesso 400 nm di :ossido di .stagno,drogato

con fluoro su un nastro di vetro. ..ficai spesso ?5. mm che si sp o?

stava a .8, 5. m/min per entrare nella camera, di rivestimento a

ijina temperatura, di. 600?C.? _ _ _ .

- j - H- precursore -del - rivestimento usato era una soluzione;

i ;

? ?|di cloruro di stagno contenente bifluoruro di ammonio per !

I :

- . ( fornire. -ioni-drogan ti. nel rivestimento . Si spruzz? questa

j ? !

_ .(-soluzione -dall-'-ugello-a. una portata, di 120 l/h a una pressiloj J i !

i ;

- [ne di- 23 -bar j . mentre, l 'ugello veniva spostato avanti e indie-] i

- - ..tro. a una. freque.nza_di 23 oidi al . minuto.

.. | ?S.i__s.caric? .nell '.anticamera 25 aria preriscaldata a 600?C

I ?

_ j-dalle_fto-ffla?.ti--17_jaL-48-e-P-Oi la -Si aspir? nella .camera di rii

_ i vestimento per formare uno strato . di copertura sopra il vei

_ j tro. L'aspirazione spora il livello del _s ub s t rat o avy en n e a _

_ i una portata di 60.000 m^/b a circa 3 50?C per mantenere un

4 flusso _c.05?Elessiyo verso valle di materiale nella camera di

i ^

i i

| rivestimento . _

| j

J _ Si accesero 1 riscaldatori radianti 10 sul tetto per <; >U F F I C I O ! Ing. P. GUAZZO ; far evaporare il materiale precursore del rivestimento spruz- BFB VETTl | zato durante la sua traiettoria verso il substrato. A causa

' della turbolenza provocata dal movimento di va e vieni deir?

i <:>

; l 'ugello di spruzzo e del getto s pruzzato di materiale prer?

? cursore del rivestimento ? il materiale evaporato si mescol?

i intimamente _ con. l 'aria nella zona di spruzzo 9 e questa at?

j mos fera oarica di vapore fh attirata verso il basso nella

: fenditura di uscita 15 e lungo il passaggio 13 ? Il vapore di

I

; precursore del rivestimento si mesool? oon lo strato di copertura di atmosfera a oontatto oon il vetro e si deposit? un:

Lrivestimento dello spessore richiesto. Pertanto questo esem?

-fa- anche uso- -dall ---invenzione descritta- nella- nostra dom?nia-?-i- brevetto britannico depositata il -20 dicembre 4985, .

|

domanda .-n? ? 35 31-424 ., -con -il -riferimento delHagente PH18 - j -?R0W?ST0m_5.|Q._. _ _ _ 1

scaric? <(>aria prerieea?4?ta a 550?C a. una portata di 3000 Sml/h.

- lai- mezzi di emissione 35 sotto il percorso del substrato . i

Llantic amera 25 comprendeva bruciatori 3-9 perpreriscalj lare-.11 atmosfera al-suo.. interno. -Tali, bruciatori -permettono !

di. acaldara. llaria secondo? qualsiasi. ..pr? filo di temperatura i

j

desiderato , per_esempio in misura maggiore sui- lati dell 'anjviwamejra?-n T i vestimento formato- .con il-_pr.o.cedimen-to. di_questo eli-empio era. di qualit? e uniformit? estremamente alte sostan- L

. F f " <! >T sialmente su tutta la larghezza del nastro. _ _ j

Ing. P. GUAZZO BREVETTI SEiIPI ,4 - 6 _ _ _ _ _

_ in una variante di ciascuno _degli?esempi -precedenti , si

rivestimento su

J jaa?l lappare o-ah ia tura par f ormar e uri/, v e tra. ch.e_ ? e _s t a t o tagli ;ato in lastre e poi scaldato nuovamente T il procedimento . esseri?

I

4_o_p_e r ?i - resto.- -simile , _

! :

Si . ottengono risultati simili in termini di qualit? del

rivestimento .

R I V; & UB ICAZIONI

1 ? Procedimento di rivestimento pirolitioo , in cui uiq

Substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro viaggia

Ib? _una d.ir.e.zion.e --xe-rso_-valle_ajot-to-- un a --camera -.di rives-t imen <?>"

? ? to che si apre verso il basso verso il substrato , e in cui

si-forma- un -rivestimento sulla - faccia-superiore-di -detto sub

strato - partendo da- materiale precursore, del? rivestimento , - cu<1>

ra-tteri zzato- dal fatto . che -si -controlla- l-iambienie-gas soso |

nelle? immediate - vicinanze- della. faccia- superiore- del-.subs tra-

to , -almeno? nella zona- iru cui comincia? tale, formazione.. del_r:-?

-vestimento., . introducendo, gas preriscaldato in una direzione

verso, valle in detta camera in modo .che entri- nella camera i

a- contatto con il substrato e formi uno strato di copertura I

' ; ? j

che oopre il. substrato almeno lungo, tutta. quella zona. j

I

. 2_._? _Procedime.nto_.s.e.c.ondo_la. riv,. 1 ,. in cui . _si _ mani ien ^

alme nQ-in? part e un. f lusso... oomp.l_e.ssivo_dt gas . verso valle lu|-?

go la carne ra di rivestimento aspirando .mate ria le_ a t mos f e r ic 0

1

i U F F i r ? ?.a_. quella camera alla, sua .estremit? _a valle? . j

I Ing. P. GUAZZO j BREVETTI _ 3 Procedimento, secondo la riv. 1 0 2 , in cui la came<?>

ra di rivestimento ? sostanzialmente chiusa alla sua estremji.-t

t? a valle per impedire interscambio di materiale atmosferijj

co tra l 'estremit? a valle della camera di rivestimento e

<. .. . ' ' ' . >!

i

Una. regione pi? a valle del percorso del substrato..? _ J

I

4. ? Procedimento secondo la riv. 3 > in cui il substran?

to tt vetro ? un' nastro di^vetro oaldo appena formato e si j

<^ ~ ^ . ' ' >!

forma il rivestimento dopo ohe il nastro lascia Un impianto!

di formazione del nastro e prima del suo ingresso in un fori?

no di ricottura

5? ? ? Procedimento secondo Una qualsiasi delle rivendi-;

. .

oaz io ni precedenti., in ..cui per almeno . una .. parte-delia -lunghe zza della- camera di rivestimente-s-i impedisce il-flusso di ma-teriale atmosferico al di l? degli orli laterali del substrja

to e tra zone verticalmente -sopra-e-vertioalmen-te sotto -il

subet-rato. . . - ~ - - - ..

6?? ^-Procedimento -secondo . una- qua lsiasi delle rivendi?

cazioni-precedenti , in? cui-si-s.pruzza-una-saluzio.n.e-di .pr.e?

cursore del rivestimento . verso? il-iasso e.ne Ila direzione _

-verso -valle?.

_7_??=_Procedimen.to__s.econdo una . qual s ias i .d elle .r ivend i- _

i._precedenti., ._in_.cui.-Si spruzza, .una-Soluzione di pre

cursore del rivestimento verso_.il basso in detta camera di

rivestimento, e attraverso detto strato di copertura.?

U F F I C I O

. .8?...?. Procedimento. B.econdo la riv. 7? in cui ei riscald a Ing. P. GUAZZO Bnt VETT/ una_zona di spruzzo di dett.a oamera. di rivestimento per fa?

e7.apo.rare parte della soluzione di precursore del rivestimento .prima ohe raggiunga il sub strato per ca rigare l 'atmos f e i <?>,

.in. ..tale. zona. -di soluzione vaporizzata di precursore del rivestimento J si spruzza la soluzione con sufficiente energia

.da^garantire un impatto sicuro ?ontro il substrato del matei?

riale precursore del rivestimento spruzzato residuo per in i?

ziare il rivestimento di detta faccia del substratoJ_ e si ?a

Jl^ire verso valle da detta zona di spruzzo atmosfera cario

di_ materiale precursore del rivestimento in fase vapore 1UT|

go la faccia rivestita del substrato e a contatto con essa

j

i . .

- per u.n tempo ;li - contatto di almeno IO. secondi,, dopo di che

j I

si allontana dal substrato il materiale residuo di detta ooi-? rente carica di -precursore-. -?j |

! 9. - Proced-imento -secondo- una qualsiasi delle rivendi^- ;

- oazioni da T a 6-, -per formare un rivestimento di oseido me? ;

|

- fallico, in cui- si. .inviano in modo continuo materiale precur-I ;

_ _ iiore del rives timento..- e_gas ...o?eidan te . in una zona di miscela-i I

- tiene- -dove. si--r.iunisccLno__?e_t_to_niateriale.._precursore e dettp_ ;

j :

_ gafl-Ofisiian-te? fuori-.dal-.oon.tatto con il .substrato.. e dove li _

| ;

_ si sottopongono a forze di miscelazione in modo da creare un_V

_ atmosfera comprendente una miscela in tinta di vapore di _pre<? >{

_ _ cursore e gas .os.sidanf.e >- e. ai fa fluire una corrente di tale

miscela in modo continuo da detta zona di miscelazione in un

paesaggio a oui .? esposta detta faccia del substrato e lungo U F F I C I O ; Ing. P. GUAZZO tale passaggio . . <r><. hf VE TTl _ j. 10. ? Procedimento Becondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui si ? prerisoaldato il gas che for-|

. pa, detto strato in misura superiore & quanto p?i

i >

_ trebbe esserlo dal solo trasferimento di calore dal substrato.

_ ; 11. ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi?

_ chzioni precedenti , in cui . il gas ?he forma parti marginali

.laterali di detto strato di copertura e stato prerisoaldato :

in misura maggiore che al centro .

12. - Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi-

-Reazioni precedenti , in cui almeno sui margini laterali del

SuheJfcra.to__.Bi_ aoalcla-.-il gas_ in _deibo.-.8_trato_ di co-par-tura a ur

ia- temperatura ...maggio re -di. quella di parti marginali sotto-ijatanti del subs trato.. _ _ _ ,.|_ .

. 13 ? ? Procedimento secondo. una.. qualsiasi .dalla rivendi!-oazioni precedenti, in cui il gas par formare detto strato j I

| i

il copertura entra all 'estremit?, a monte della, camera di ridr

i

yeetimento da un 'anticamera adiacente. i

_ 14*_T Procedimento.. secondo _la. riv?. .13 ,_.in cui sL. effet? |

; tua il prerisoaldament_Q ael gas almen-O-in.. parte _in detta, an_rr

<?>iioamera e da sopra .il. livello del -Substrato ?.. . .

?

_ 15? ~ Procedimento secondo la riv. 14? . in . .cui., s.i effet??

_ Pietispaldamento de_l . gas in detta anticamera mediante!

>rucia tori.

16. ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi-*- Li F p

j

Ing. P. G UAZZO nazioni da 13 a 15 ? in cui si soffia gas preriscaldato verso] BREVETTI

. . .

l ?alto ai lati di detta anticamera da un livello inferiore a

quello del substrato . _ _ _ _ __ _ _

17* ~ Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi]-c azioni da 13 a 16 , in cui si soffia gas prerisoaldato in deftta anticamera nella direzione verso valle da un livello suner

riore a quello del substrato .

- i8 ? ? ~ ? Pro ced imento ? B scordo? Una? quaL-s i-asi ? del le ? rivendi -c azioni da 13 -a? 1-7-?- in -cui-si -soffia -gas? prer-isoaldato-in -det?

I

fa anticamera- verso -il -basso e si impedisce a tale gas di flu?

dire- verso -il? basso al- di -l? -dei -bordi- laterali del substrato.

- 1-9?-?. Pr.ocedimeuto....s.econdo. una-qualsiasi-delle ..rivendi-..

c azioni, .precedenti., in ..cui._si controlla in. modo differenzia -to -nel ...senso della larghezza del. substrato .la .poriata di. gap

ohe. forma detto strato di copertura?. . . |

i

!

.. .20..?.?.Procedimento secondo una qualsiasi, delle rivendi-?'

cazioni. precedenti, in cui per_Una parte sostanziale dell'1

altezza, della oa^e.ra. ai. mantiene ? materiale atmosferico in

u.n flusso complessivo verso valle inj?arte.,pr?iettando un .

getto..di. gas nella. camera verso valle.

_ 21. ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi-??

cazioni precedenti, in cui si introduce nella camera di ri^

i

vestimento almeno una corrente ausiliaria di gas preriscal-i

dato in modo che scorra verso valle in detto strato di copertura o adiacente ad esso, e attraverso la zona in cui i?

nizia detta formazione del rivestimento. _ _ UFFICIO Ing, P. GUAZZO 22, ? Apparecchiatura per formare per pirolisi un riveBHEVETTI stimento di composto metallico su?na faccia superiore di un

substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro, comprendente organi trasportatori per trasportare detto substrato lungo un peroorso in una direzione verso valle, una struttura a tetto che delimita una camera di rivestimento che si

1 <"" . ' . . ' >|

japre verso il basso su detto percorso, e mezzi per scarioaie

j <" . . . " ' >;

Imateriale precursore del rivestimento in detta camera, ca?f

|

i ratterizzata dal fatto ohe a monte di detta camera di rive-<d>i . . . <" >. . <" . ..>. .. <. " ' " ? ~ " >?

?

stimento vi ? un'anticamera che comunioa oon la camera di :

rivestimento tramite una fenditura di ingresso oh e. .? .de limi jtata - in parte dal percorso, dei-substrato e -attraverso cui s

fa fluire gas nella camera -di rivestimento in modo da forma<r>-ne ^CqU?^o l- aPParecokiatura.. ? in. funzione.) uno s.thato di co

pertureu che. copre la. faccia. .superiore ..del substrato lungo u--na.. prima parte della, lunghezza di .detta camera,, e dal fatto

che sono. .previsti, mezzi... per. preriscaldare in modo controllabile il gae che .forma, detto strato .di. copertura.

_ 23.._ - Apparecchia tur a ..secondo, la riv. .22,. in cui ? pre -vista. _una__c.onduttu.ra. ..d i. s_c.ar.ipc i con_ uno ...pi? ..imbocchi all <1 >ai

stremit? a valle di_detta?came.ra di rivestimento?

.24? ~ Apparecchiatura _secondo_ la riv. 22_o...23 ,.._?n cui.

sopra il percorso . del... substrato ?. prevista una parete .di bandoli 'estremit? a valle

riera ohe s? estende per l'intera larghezza/della camera di

rivestimento e chiude sos tanzialmente tale estremit?. Ing. P. GUAZZO BREVETTI

25? ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivejji

dioazipr i_ da 22 a 24? in cui detta stazione di riveetimento

?_situ.ata tra l 'uscit^da un impianto di formazione del nastro e l 'ingresso in un forno di ricottura.

26. ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle riven

?icazioni da 22 a 25 ? .in cui per almeno una parte della lun+?

ghezza della oamera sono previsti mezzi per impedire il flup

so di materiale atmosferico al d? l? dei lati del percorso TX del substrato e tra zone verticalmente sopra e verticalmente I

sotto tale percorso . dlli

i

I 27? - Apparecchiatura-secondo_una qualsiasi delle riven- .

jdioazioni da 22 a 26.? in cui -i -mezzi che scaricano il mate-,

i

jriale precursore del rivestimento -sono atti a spruzzare una

'soluzione di precursore-dei -rivestimento verso il basso e

i

j

palla.direzione verso valle. .

!

I

! 28. Appareochiatura secondo .la riv, 27? in cui detti;

E '

mezzi di spruzzo sono dispo.sJb.i_in.modo da spruzzare detta so?

luz ione di precursore del rivestimento in una zona di spruzj

zo di detta camera di rivestimento da un.'altezza di almeno

|

75 cm sopra il percorso del substrato; sono previsti mezzi ;

di riepaidamento per. fornire calore a detta zona di spruzzo J

detta struttura a tetto delimita Una parte di passaggio della oamera di rivestimento ohe porta a valle di detta zona d?

U F F I C I O spruzzo e conferisce alla camera di rivestimento una lunghez- ing. P. GUAZZO BhEVE TTI jza totale di almeno 2 metri; e sono previsti mezzi per gene^-rare, forze di aspirazione sul materiale atmosferico in detto

per incoraggiare tale.materiale a fluire lungo ilpercorso del substrato fino allEstremit? a valle di detto

jpassaggio e a entrare in una conduttura di scarico per allontanare tale materiale dal percorso del substrato.

29? ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 22. a 27? in cui detta oamera di rivestimento

'comprende un passaggio lu^g? cui si possono condurre verso

valle vapore di preoursore^del_riveetimento e un gae oseidanite a contatto con detta faocia superiore del substrato durap?

'-detto trasporto -del substrato? e in cui - vi- sono mezzi

delimitano una zona di miscelazione in cui si. possono -riunir

re? -fuori, dal contatto .con- il substrato, -il materiale precu^?

sore. del. rivestimento -e. il .gas . ossidante e miscelarli per

formare un l.atmosfera comprendente una miscela, intima .di vapore -del precursore e -gas ossidante, .detta zona di. miscelazior

ne comunicando con detto passaggio, per consentire a una corf

I

rente -di .tale miscela -intima di. .fluire . lungo il. paesaggio ,d?

letta zona di miscelazione.? . . j

.. . 30.? - Apparecchiatura .secondo una qualsiasi delle riy.en-. llcaz ioni. da 22 a ...29..,_in_ .o_ui_djatt a _s tjru t tura a te 11 p_. p.r.e senr ..

i ta_una nwr<?ata. diminuzipiie_ ?.i_ al tazza, eppra il percorso del

aubstrato nella direzione verso valle In modo da strozzare

il flusso verso valle di materiale atmosferico dalla zona in U F F <I >C <I >O | Ing. P. GUAZZO cui si scarica il materiale ..precursore del rivestimento ne Ir fi/ f V* TTI la camera di rivestimento

_ 31.? ? ? Appare c eh i a tu ra _s e cond ? _una qualsiasi delle rive^i-!

?ioazioni da 22 a 30, in cui detti mezzi di preriscaldamentp

del gas sono controllabili in modo da scaldare in misura dif

|rerea il gas che forma parti diverse di detto strato di oo? !

jpertura nel senso della larghezza del percorso del substrati) .

32. - Apparecchiatura secondo la riv. 31 , in cui detti!

mezzi di preriscaldamento del gas sono controllabili ia -modo

fta soaldare il gas che forma parti marginali laterali di dejfcj !

to strato di copertura in misura maggiore del gas che forma;

-parti- -oen trali d-i detto Btrato-. - ? - - --- 33?- -? Appareoohiatura secondo una quale iasi -dalle . rivendicazioni da 22- a 32, in cui dia ..parete , .di. separazione so

?pra la- -fenditura di -ingresso- comprende- una- -paratia-. per. rego

-lare l 'apertura della fenditura di ingresso. -- 34?- ? Appare cchia tura . secondo. -la riv. 33 ., -in-. cui, tale

-paratia ? -costruita in sezioni mobili indipendentemente per

j

-regolare lJaper-tura ..della.-fendi.tura_di. ingresso .in, modo dif-j?

ferenziato nel senso della larghezza del percorso del substrato. - - -- - - - .- .

_ 35? -Apparsa chiatura._s esondo . una qualsiasi ..delle ri- ! jrep.dioazioni...da-.22-..a..3.4,-<i>n cui. sono . previsti mezzi per ri-f

1

scaldare -Latmosfera in detta anticamera da un livello supei j

.riore .a quello del. percorso del substrato. j U F F I C I O j Ing. P. GUAZZO - -36.7-rAppareoohiatura -secondo . . la riv, 35 ?. in oui tali j Bf?E VETTI .mezzi di riscaldamento nell 'anticamera comprendono bruoia- |

..tori.? . . . .. . . . |

_ . 37* -" Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle riven-<. ' . >| .

.di qazioni, da 22 a 36, in cui sono previsti mezzi per soffiai

.te. gas preriscaldato verso l'alto ai lati di detta anticamera da un livello in feriore a quello del percorso del substrato

_ 38. -n Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle river??

dioazioni da 22 a 37? in cui sono previsti mezzi per soffiare .gas preriscaldato in... detta anticamera verso valle da uni

-1-i-vello superiore-a quello-del-substrato?- - -- 39?- Apparecchiatura secondo una-qualsiasi delle rivendicazioni da 22 a 38, in cui sono previsti-mezzi per soffiare gas prerisca-ldato-ve re o -il--basso in detta-antioa?nera-e -per impedire-a-tale gas di -fluire -verso il-basao-al di l? dei

bordi laterali del peroorso del-substrato.

-~-40-, - Apparecchiatura secondo-una-qualsiasi delle rivendicazioni da-2-2 a-39, in-cui detta anticamera presenta un

tetto inclinato verso il basso-verso la parte-superiore di detta-fenditura di ingresso?. . . ? -- 41. ^Appareochia-tura secondo,una qualsiasi delle rivendicazioni da 22 a 40, in cui sono previsti mezzi per proiet tare un-getto di gas nella camera -nella direzione,verso vai le per mantenere un flusso oomplessivo verso valle di materiale atmosferico per una.parte,sostanziale dell'altezza della?

i camera. . .. _ .. - j _ 42-e? ? .Apparecchiatura..secondo una qualsiasi . delle rivejs dioazioni-da 22._a...41 , in-cui sono previsti, mezzi per scariola-re..almeno.. una corrente... ausiliaria di gas preriscaldato .nell camera, di rivestimento in modo .che. scorra verso valle in detto?.st.r.ato_ di__ copertura o adiacente ad esso , .e attraverso la zona in cui .comincia, la. formazione . del rive.stime.nto .

PER INCARICO

_ . .. ?? Ing. P. GUAZZO BREVETTI f

^ LAUHA oL

r/ a II I

i i

. TRADUZIONE

67825 ?/86 (Bollo dell'Ufficio Brevetti ).

Ufficio Brevetti

STATE HOUSE

66-71 HIGH HOLBORN L O N D R A WC1R 4TP

j Io sottoscritto ..che sono un funzionario debitamente.

| j autorizzato, secondo.la.sezione 62(3) della Legge sui ...

Brevetti ..e Modelli.del 1907 a firmare .e .rilasciare i

I

Certificati in nome e..per conto del Controllore Genk~. tale, con .la presente certifico che gli allegati sono.

| I

'una copia esatta dei.documenti come originariamente; depositati in relazione alla domanda di Brevetto qui identificat.a. . . ;

! <? >i Secondo i regolamenti dei Brevetti del 19,82.(nuove registrazioni di Societ?) , se una Societ? nominata in.

! | questo documento e in eventuali documenti allegati ,j?.stata di nuovo registrata .secondo la Legge sulle Societ?.

! Ii .<'>

del 1980 con lo stesso nome col quale era registrata .

: i immediatamente, prima della nuova registrazione eccetto, per. la sostituzione., oppure per l?inclusione come! ultima parte del nome delle parole "public limited ;

i :

Company" o del loro equivalente in Gallese, i riferimenti al nome della Societ? in questo documento e in qualsiasi i ] documento allegato verranno trattati come riferimenti lai nome col quale ? stata di nuovo registrata. !.

delle norme sui Brevetti del 1982..

9- Si attira l'attenzione dei Richiedenti sul fatto che ? desiderabile che evitino la pubblicazione di invenzioni relative a qualsiasi articolo, mate riale o dispositivo atto a venire usato in guerra (Leggi sui segreti ufficiali del 1911 e 1920). Inoltre dopo che all'Ufficio Brevetti ? stata de-! positata una domanda di brevetto il Controllore i

| decider? se proibire o limitare la pubblicazione i

; o comunicazione, dell'invenzione secondo la sezio-Ii

j ne 22 della Legge e informer? il Richiedente se tale proibizione ? necessaria,

i

flO- Si ricorda inoltre ai Richiedenti residenti nel i

I

' Regno Unito che secondo quanto previsto dalla sezione 23, non si possono depositare all'Estero : domande senza un'autorizzazione scritta o a meno che una domanda sia stata depositata non meno di sei settimane prima nel Regno Unito per un brevetto ner la stessa invenzione e non sia stato dato nessun avviso di proibizione di pubblicazion? o di comunicazione o non sia stato ricevuto tale I avviso .

7 DUPLICATO PJ 28 STONEHENGE 536 (OI56G)

f PROCEDIMENTO E APPARECCHIATURA PER RIVESTIRE VETRO PER PIROLISI"

J?ue.B_ta..-inKenziojae.- si^riferisce ..a. un .procedimento di. ii.veft_time.rLto.. pirplftioo. .. in cui . un substrato di vetro, caldo so.t-! <' >? | .io_fo.rma_.di las.tra o.nastro viaggiain una direzione vorso L_ _vall.a.._&otto__una_.camer.a_di._rive_s_t.imsn_t_o.._che__s_i_.apr.e_.verso.i1 J2aftAQ_5Le r ao._i l_ subs_tr.a_to_, _ _e__in. _o.ui a in forma _un_riyies_t.imen.to_L pulla faccia superiore di tale substrato partendo da Un materiale precursore del. ,riy:es.timent.o.._.L.'.invenzi.one . si. riferisc? . anche., a-.un 'apparecchiatura per formare per pirolisi un rive-fstiraento di un composto metallico, su una faccia superiore di j

Vn substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro , <: >comprendente organi.trasportatori per trasportare detto eub-!

Strato lungo Un percorso in una direzione verso valle, una struttura a tetto che definisce una camera di rivestimento I che.jai apre verso il basso su detto percorso,e mezzi per! scarioare materiale precursore del rivestimento in detta oa-i mera. . .. . . : _ Tali procedimenti e apparecchiature sono utili nella fabbricazione di vetro rivestito per vari scopi, il rivestimento essendo scelto in modo da conferire al vetro qualche pr?*]-priet? particolare desiderata.? Esempi particolarmente .impor-?

- tanti-d-i -rivestimenti- che-si -possonO-applicare al. -.vetro sono ausili-destinati a ridurre -il potere -.emissivo della, faccia |

! rivestita? nei . confronti.. . di ..radiazione infrarossa,., s.peoialme?*

i fc.e_rad ia zio.n.e_in.fraro ssa con. lunghezze .. d .'.o.nd a . su p.ario r i a l u?, e^q,u.ell.i. d.estiuati trasmissivit?. totale di energia lei _vetro.._riv.estito. ..nei..con fronti di._radiazione...solare . .Per BSempio._?__no_to. mun ire_il .vetro.._d i .un._r iv.es.ti mento.. a ..bassa e-f. ais.slvit.?._n.e.ll .'.infrarosso di-biossido di stagno._per -Scopi di 2QnS_e reazione. _.d.el_. calore , ed ? . anche noto munir? il__ve.tro__di : in-_rives_t ime n.to _ che...riduoe il fattore di trasmissione.- doli.' Energia solare, fatto di un ossido metallico come biossido j li titanio, o d i...una . misce 1 a . di o esili me t silici Fe^O^.t. loO Gr2Q_ , .allo?scoj? p_r?icipale__d_i .xid_urre n guadagno in I

:al ore solare o 11 riverbero? _

E' chiaro ohe rivestimenti applicati a vetro da __usare !?er. eoo pi di metratura dovranno avere una q?ualit? ottica eie]-Tjata ed uniforme? e ohe essi doyranno essere durevoli? E ' j! anche chiaro _che_ il rivestimento formato dovr? avere lo spes?: ore corretto per lo scopo Yolut^ e ohe ? desiderabile dal |

! punto di vista commerciale che la velocit? di formazione del "<. >? ~ ~<~ >T materiale sia sufficiente per formare lo spessore desidorati per il rivestimento anche. quando il substrato si muove a ??? ocit? piuttosto elevata, come pu? essere imposto per esem? da altri procedimenti del programma di fabbricazione Si ? trovato che molti fattori relativi al procedimento

1 di_.riyestimentq influenzanq__il modo in. qui si forma il rive atimento sul substrato? e tra questi si possono citare la. fa.se.? fisica de1_materia1e_da_??? ai forma il rivestimento e la n3.-tura d? tale materiale r 1<?>energia con oui si fa arrivare il materiale a contatto con il substrato a la temperatura del la camera di rivestimento e del substrato che viene rivestito Per esempio? ? noto ohe la yelqait?,a cui avvengono le reazioni di rivestimento_dipende dalla temperatura. In genera ley quanto pi? ? alta la temperatura} tanto pi? rapidamente viene formato il rivestimento?e tanto pi?^ fine ? la struttu ra cristallina del rivestimento formato. Una struttura cristallina uniformemente fine ? vantaggiosa per avere una qua lit? elevata del rivestimento e per la capacit? di durata.

Di conseguenza} prooedimenti della tecnica nota hanno mirato a controllare la temperatura del substrato caldo pri ma della formazione del rivestimento} e sono stati anohe in trapresi passi per controllare la temperatura dell'intero ambiente nella camera di rivestimento.

La presente invenzione ? basata sulla sooperta che la qualit? del rivestimento ? fortemente influenzata da un fat tore ohe finora ? stato trascurato} e precisamente la tempe ratura dell'atmosfera immediatamente sopra il substrato nel la zona dove comincia la formazione del rivestimento

Secondo la presente invenzione} si fornisce un proaedi mento di rivestimento pirolitioo, in oui un substrato di ve-10>

tro caldo sotto._f.orma di...lastra ..p_.nastro_.viaggia._in .una_d_i_~ razione verso valle.,sotto? una.-camera-di^ ivesilmenio? ohe si apre-verso- il basso verso il substrato ..e in_o.ui si__fo.rma un rivestirne*!to_s.ulla_faocia aupe riore..disdetto substrato partendo.._da-mat.er.iale_prs.cur.so.re _d.e.l.riveetimen to,_oaratteri z to dal_fat.to_cha_.e.i.control la lJ.ami.iente gasa_o_8_o_._n.el le.immejli? t.e vicinanze, della faccia _sup_er_iora ael__substrat_o.,_a?mano_ pel la._zo.na._in__oui_..cornine ia.tale formazioii_e.del rivestimento introducendo gas preriscaldato in una. direzione .verso valle in datta camera in modo ohe entri nella camera a oontatto oo-? il substrato e formi Uno etrato di copertura ohe copre. . il substrato almeno lungo tutta quella zona. .

La possibilit? di controllo dell <t>amToiente gassoso a ooji tatto con il substrato nella zona dove inizia<" >la formazione del rivestimento ? un fattore che finora ? stato trascurato gol abbiamo trovato ohe ? molto pi? facile controllare oon il grado di.precisione richiesto l? condizi?ni in<" >tale strajto di copertura di -quanto non sia controllare l 'intero am-* Piente nella camera di rivestimento , e ohe ? perci? posslhile creare un flusso generale di gas a contatto con IL substr i? to da monte della zona dove inizia la formazione del rivestii mento in modo tale ohe in quella zona vi sia un microclima a contatto _con_ la faccia del substrato ohe ? favorevole per le reazioni di rivestimento ohe^ devono avere luogo. Per fare ol?i ? necessario controllare o modificare lo strato di at? moefera ohe_verrebbe ordinariamente trascinato nella .camera:

I v -di rivestimento _a . contatto con il substrato fornendo gas preriscaldato., in modo .da ..rendere lo strato ohe. oopre il ve--Itro?condizionato. favoreyojlmente per le reazioni di rivesti-;

1

jaento_._In questo modo oi si, distingue in. partipolare da cerr

i :

iIte tecniche note J-n oui si disturba lo ^strato di gas trasoi?<. .. >? <' ' .. . ' " >?

nato naturalmente dirigendo forti oorrenti di gas relativa?

mente fra a do eul substrato all 'estremit? a monte della oame-^

Ira di rivestimento^ Inoltre, essendo relativamente facile :

?I . . ;

Controllare le condizioni in detto strato di oopertura, ? re-|lativamente faoile regolare Quelle condizioni, per esempio ;

?per compensare variazioni minori nello spessore del rivestimento ohe viene depositato durante un oiolo di produzione ; continua.

Bbrme di realizzazione dell 'invenzione in oui vi ? un

?

flusso generale verso valle di materiali precursore del ri-! ! vestimento sopra lo strato di oopertura nella camera di ri** vestimento sono particolarmente vantaggiose per la formazio?:

<;>ne di rivestimenti di Qualit? elevata a causa del controllo

f

icbe cosi si esercita sul flusso dei reagenti nell'atmosfera

'della camera di rivestimento.

Preferibilmente, si mantiene almeno in parte un flusso complessivo di gab verso valls lungo la camera di rivestimento aepiran

do materiale atmosferico da quella camera alla sua estremit?

?a valle. Italia misuri in oui tale flusso verso valle ? mante

nato da .forze aspiranti ..generate .in .con.do_tti_di scarico al-.l 'estremit? a valle le ..forze . agenti sul gas all'estremit? a?monte._della camera di rivestimento e le forze .esercitate

dal .f_lu.s_sp._di _gas..all.'e.stremit? .a, monte di tale camera saranno pi? diffuse 3i. ?. trovato che ci? favorisce una formazione iniziale di J

i

un_ substrato, di..._rivss t imen.t o . che. ha . struttura ...cristallina [

I

fine., e uniforme all 'estremit?. a monte .della .camera .di rivep timer? to. La struttura c oristallina del rivestimento in cor rispondenza dell 'interfaccia vetro / riyes timento ha . una fo

t.e influenza sul modo in. cui. si forma il resto dello, spesso

re del rives timer) to . mentre ,_il substrato si sposta nella ca~

mera di rivestimento , ed ? di importanza maggiore nella forp

inazione di rivestimenti di qualit? elevata ?. _

i

Un prooedimento secondo questa invenzione d? i maggiorii

benefici quando viene realizzato in una pane r? di j?iyas timep-!

to sostanzialmente chiusa in modo da evitare frammentazione!

dello strato di copertura ad opera di correnti casuali? In

irealt?, la sorgente pi? probabiledi questa correnti casuali

j ;

jsar? l'estremit? a valle della camera di rivestimento. Di

]

joonseguenza , in forme di realizzazione dell ' invenzione pre?'

iferite in modo speciale , la camera di rivestimento ? sostanj-I |

Izia lenente chiusa alla sua estremit? a valle per impedire inh

jterscambio di materiale atmosferico tra l'estremit? a valle!

Ideila camera di rivestimento e una regione pi? a valle del I

j j

[percorso del substrato . Tale chiusura pu? essere per esempib

?

! . !

attenui a mediante, una conduttura. 1 i stearico . ohe Bi_ ester.d ? . at_travers_o_l_!.in te ra_ larghezza della_cja.mera d i . ri ves timer] to all ?? s tre.? i.t 4 a va 11 e? di qcie sta. L'adozione di questa paratteristioa presenta anohe il vantaggio di evi tare gitala lesi i ilu i zion e p inquin amento ..dell ' atmosfera , all 'estremit? a va le della camera _ d ^ jr ive s t imento d a parte della region ? p??^ a .valle , e impedisce che ?orrenti _d el l 'atmos fera della o amer? di rivestimento interferiscano oon ogni ulteriore trattar mentp_del substrato e depositino gualche materiale aggiuntilo indesiderato sul rivestimeli to. _ a . valle della came ra di ri? vest imento?. _

In forme particolarmente vantaggiose di realizzazione . . . . <' >.. i i dell 'invenzione, il substrato di jvetro ? un nastro di vetroj i caldo appena formato e il rivestimento viene formato dopo j che il nastro lascia un impianto di formazione del nastro ej j prima del suo ingresso in un forno di ricottura. Pertanto l? ii camera di rivestimento pu? essere situata in una posizione j <. . . . . . .. . >f in cui il vetro ? comunque a una temperatura appropriata perch? le reazioni di rivestimento pirolitioo avvengano, cosici ! oh ? s? evitano o s? riducono sos tanzialmente 1 costi necess?ri per riscaldare nuovamente il vetro a tale temperatura. Ej'

i anche importante che il rivestimento avvenga in una camera ] <. . . . . >f <' >che ? fisicamente distinta dall 'impianto di formazione del nastro da una parte e dal forno di ricottura dall 'altro. SeJ non cl fosse tale distinzione , e in proposte preoedentementje

! ?-.in questo? campo ._?? comune _chs _ il rivestimento? avvenga lungo-U forno-d-i- ricottura,? allora-le? condizioni atmos feri -che pella oamera di rivestimento- sarebbero soggette a esserp dis turbate da- correnti di gas? che -scorrono dal forno- di ri-<1 >cottura e- dall 'impianto. -di formazione-dei vetro.,, correnti , che spe sso trascinano polvere, e-altri-agenti-inquinanti.. che poi rebbero _e s se re in co rpo rat i JOB 1 riv.es. t iment.o __come_ difetti , e inoltre vi -sarebbe il_rischio. che la, distribuzione di correnti .atmosferiche, .nel forno, sia_dis.turba.ta .portando cos? a condizioni .di. ricotiura_menO_.favoreyo.li. _ .

A seconda delle condizioni di pressione sopra e sotto il . substrato nella camera .di rivestimento l 'atmosfera sotto il_subBtrato pu? .tendere a fluire, verso. _1_ 'alto al di l? dei suo i_ lati , dove diluirebbe l 'atmosfera carica di precursore sopra il substrato.? Ci? pu? portare alla formazione di depo siti di .rivestimento pi? sottili sui margini del substrato che sulla parte centrale di questo , con il risultato che una.,c.e rta . perpen tua 1 e. ? ella la rghe z za d e 1 _ substrato rivestit 3 ? di qualit? inaccettabile . In alternativa ? l 'atmosfera ea-{ ripa di precursore pu? tendere a fluire sotto il substrato , dove potrebbe depositare un rivestimento indesiderato sulla sua faccia inferiore. In dipendenza dalla distribuzione di flueso delle correnti': atmosferiche nella camera di rivestiindesiderato

mento e sotto di essa, questo rivestimento /potrebbe essere P?? > meno regolare , ma jsos? s ottlle da dare origine a effetti idi interferenza assai sgradevoli,,per esempio pu? essere un! rivestimento pi? o meno regolare il sui spessore decresce verso il centro del substrato, oppure pu? essere un rivestiinerito alquanto irregolare, con un andamento che .secondo alcu-.jni ricorda i segni su una tavola per baokgammon. Per ridurre ? ? :

..iquesti svantaggi, forme di realizzazione, dell'invenzione prs~ ?

I : .!ferite in modo speciale prevedono che per almeno una parte jdella lunghezza della .camera, venga impedito il flusso, di mar. ! : j i _ [teriale....atmosferico. al. di l? dei bordi laterali del substra? to S_txa_zone__poste verticalmente sopra e verticalmente sot? jto quel substrato. Abbiamo trovato che, agendo in questo mo~ [

!do.,, si pu? aumentare la larghezza utile rivestita, e oi? ? :

<' .>. - .

|particolarmente interessante quando si riveste un nastro coh-[firmo di vetro appena formato.

: i Abbiamo trovato che il modo in cui si introduce nella i camera di rivestimento il matert?Le precursore del rivesti? I ?<. ' .. >! !mento non ? critico per la qualit? del rivestimento} per e? jsempio, lo si potrebbe introdurre in fase vapore.

Preferibilmente tuttavia si spruzza^ materiale' precursore del rivestimento verso il basso e verso valle. Ci? facilita la soarica del materialeprecursore del rivestimento, consentendo allo stesso tempo di disturbare relativamente poco lo strato di copertura perch? il materiale evaporato avr? gi? unaoerta quantit? di moto nella direzione verso valle. Inoltre ci? allunga la traiettoria del materiale spruzzato rispetto - allo.- spruzzo verticale dalla stessa altep z& .lasciando ...oos? ..pi?_tempo -perch? il. materiale, precursore del ..rivestimento, spruzzato. venga ..condizionato nella .camera idi rivestimento prima del contatto .con il substrato

Si preferisce ohe venga spruzzai o^jnateriale T^prer .. 'cursore del rivestimento verso il basso nella camera d i ri-i vestimento e attraverso detto, strato?. di copertura.,, poich? ci?. . facilita il trattamento delle glandi ..quantit? di materiale.. precursore del .rivestimento. richieste per formare rive a tementi spessi, .specialmente su substrati in rapido movimento].

L'invenzione. .pu? cosi prestarsi alla formazione di rivesti? j menti_..di .spe ssori..alquanto elevati, p.er. esempio spessori di | 500 ria o pi? . .. . . . . . . _ ? j

i _ E* noto che vi sono certi svantaggi associati alle tecniche. n?te . di rivestimento _ in fase liquida. In tali tecniche;

l-note e_moltp_difficile^ evitare dionee chiare il rivestimentoj

. . .

| formato a causa degli spruzzi delle goccioline spruzzate !_ ?

i quando esse urtano contro il substrato. Inoltre , quando si | 1 [usano le tecniche <. >convenzionali ?? di riy <">ggtipe <.>'nt <'>? in fase l?-: ? jquida, il contatto tra le quantit? abitualmente abbastanza j ~! . . <"" >I <" >?grandi di soluzione di rivestimento spruzzata e il substra? i

i to caldo pu? dar luogo a difficolt? oonsiderevoli, special-; mente quando il rivestimento viene depositato su un nastro !

[ di vetro caldo appena formato , perch? esso interferisce coni un trattamento di ricottura suoces s ivo , Il _r ieul tat o di pi?!

I <d??- <; >^ohe_il vetro viene_ricotto.male,e in.certi_cas.? .sollecita zio.jii-res.idue.. -rimaste ..nel nastro di vetro . dopo il raffreddar ne | nen-to/rendonO- dlxficile^ ll .taglio e p? B sono .anche essere ta<1>-da._prov_o.came.la.rottura..quando lo si taglia in lastre Per ridurreU eliminare. ..questi problemi,, certe forme d? reaiizzazione particolarmente vantaggiose de11dinyenzione._ prevedono_che si^ riscaldi una zona di spruzzo di<.>detta came?j? ra di rivestimento per far evaporare parte della soluzione di pre cursore del rivestimento prima che raggiunga il substrato ifc nodo da caricare l 'atmosfera in tale zona di soluzione yapo? rizzata di precursore de l._r iyes t iae? to . ohe zi _a pruzzi _ .la _sj>-? jluzione con sufficiente^ energia da garan tire un impatto sicuro contro il substrato del materiale precursore del rivestimento spiazzato residuo per iniziare il rivestimento di detta fac-^

i _ joia.del substrato; e ohe si faocia fluire verso valle da dot-|ta zona di spruzzo atmosfera oarica di materiale preoursore ! . <"" . >. <. " . ' " ~ >r jdel rivestimento in fase vapore lungo la faocia rivestita ? 1 . . . . .. . . :

I

del substrato e a contatto con essa per un tempo di contatto di almeno 10 secondi, dopo di che si allontana dal substratb [ il materiale residuo di detta corrente oarica di p?ecursorej.

? Quando si adotta questa oaratteristica ? possibile, per i f juna data portata di scarica del precursore , ridurre la forza ! ! jdelle correnti che urteranno contro il vetro nella zona dove jinoominoia la formazione del rivestimento. Ci? ? particolarjjmente utile per ridurre il disturbo dello strato di copertura di. atmosfera a contatto, .con .il- substrato , ..e _ pu?...portare ?-1-la-formazione di- un- -rivestimen-to -di -qualit? molto elevata 3i _?... trovato che una- quantit? -.relativamente- piccola del mato riale-acaricato pu?... penetrare, nello, strato di. copertura- per m^impat.to_s.icuro_-.oon-tr.o._il-.y.etro,..._c.o.s.icch? lo strato, di oo-*-peTtura? pu?...rimanere..largamen.t.e_.ind.is_turbato., .. . . .

i?prO-Cje?imejato.. ?., ut ile._per la_ fo rmazio.ne_.d 1. rivesti? ?Len_ti_che preseriarL0-._una_J3e.bU-lci.s_it? bassa ?, uniformemente Das.s;a ._ Ci? ? particolarmente sorprenden te poich? finora, a i dal substrato

b ritenuto necessario rimuove re /va pori di precursore d eJLri; -vestimento e di prodotti di reazione il pi?, presto possibile -tempi di contatto tra 2 e 5 secondi sono usuali in procedi?? nenti gi? noti ? proprio per ridurre il r is ehio di depo s i t i apuri da quel vapori t che potrebbero portare a un. aumento di nebulosit?, _ _ _ _ Le ragioni per cui l 'uso di tale procedimento debba fa morire migliori livelli qualitativi del rivestimento non so no completamente chiare. Una spiegazione possibile ? che una percentuale sostanziale dello spessore del rivestimento si formi da materiale precursore in fase vapore mentre il sub? strato si sposta lungo _la pftrte_di passaggio della camera d? r i ve s t imen t o ? E * no t o_ che le tecn iche di rivest ime nto in fase vapore favoriscono una struttura cristallina fine e uni~~ forme nel rivestimento* Ci? per? non spiega perch? la messa in opera di ..tali form? di realizzazione di questa invenzioni?

1

debba portare alla formazione,di.un rivestimento che ha uno spessore di gran lunga pi? regolare di quanto ai possa otte?-.

I

jnere usando procedimenti di rivestimento ih fase vapore conr |venzionali. Un'altra spiegazione possibile ? ohe,sebbene soi

Ilo una piacola parte dello spessore del rivestimento si forgimi a partire da.materiale precursore del rivestimento in fa;-i <;>

Ise vapore,.vi sia un oondizionamento della massa principale:

! <! >-.appena formata, del rivestimento durante detto tempo di con-I j <1>

Jtatto di almeno 10 secondi in oui il substrato e esposto al! vapore di preoursore del._rivestimento posioch? la struttura? ioxis.tallina del rivestimento PU? essere modificata in un mo? ido che.?..favorevole per la qualit? del rivestimento, e in jpartioolare..quell'esposizione del rivestimento appena formato al vapore precursore del.r.ivestimento_.permette il riempimento dii jpioooli pori del rivestimento dando oos? un rivestimento piuy iduro, pi?. compatto e pi? resistente alle condizioni atmosfe? j.riohe.

Per esempio la presente invenzione pu? essere vantaggiosemente combinata oon quella descritta in una nostra domanda di brevetto Britannico depositata anch'essa il 20 Dicembre 1985 (Do-<! >manda 1??.85 31 423 ) oon il riferimento dell'agente 0J26

; HilHTSTOiTE 440, la quale descrive e rivendica un prooedimen-:to per formare per pirolisi un rivestimento d? un composto metallico. su una faooia superiore, di un substrato di vetro:

:caldo sotto forma di lastra o nastro durante il suo traspor_to._lungo._un-.percorso_at.trav.erso..una-camera di._riv.es_timento in_oui-si spruzza._verso_.ilhaaso..verso. il.sub.s.trat.o almeno, un.getto...di soluzione di.precursore .del.rivestimento.? oarati i te rizzato dal fatto ohei si scalda una zona di spruzzo di j detta oamera di rivestimento, per far evaporare parte del materiale precursore del rivestimento prima che raggiunga ilj jsubstrato per caricare...l'atmosfera in tale zona.di materiale precursore, del. rivestimento vaporizzato; si spruzza la soluzione,.oon sufficiente energia da garantire l.'impatto sicuro oontro il substrato del materiale precursore del rivestimenspruzzato residuo per dare inizio al rivestimento di det-

_ _ wck faooiajiel substratoJ e si fa fluire^verso valle da det-Ita zona di a pruzzo atmo s fera carica di inater iale pre cursore

! <? >j * i del rivestimento in fase vapora lungo la faccia Rivestita !

- i del BU?Btrato e a contatto con essaper un tempoj?i_oontat<,>+ to di almeno 10 secondi} dopo di che si allontana dal substrato il materiale residuo di detta corrente oarioa di pre? I

!cursore?

l In certe altre forme di realizzazione dell'invenzione

? . !

|preferite in modo speciale} per formar? un rivestimento di| ? . . ?<" >! !

|ossido metallico B? inviano in modo continuo materiale pre-p 'cursore del rivestimento e un gas ossidante in una zona di miscelazione dove si riuniscono detto pateriale pre-|cursore e detto gas ossidante fuori dal contattocon il substrato le dove li si sottopongono a forze di miscelazione in modo da creare un 'atmo e fera . comprender taluni in t ima miscela .di vapora -.precursore- .e .gas._os.sidan te , e s i .fa fluire in modo conti nuo una corrente di tale miscela da detta zona di miscelasijne in un passaggio a cui e esposta detta faccia del substrat.o e. lungo tale paesaggio .

Di nuovo , ci? riduoe il disturbo dello strato di coper^-tura.da parte del materiale.precursore..del rivestimento sca<1>? ric.at.Q.?-.In effetti, e piuttosto sorprendente che lo strato di copertura di gas sopra il substrato non agisca come uno scudo che impediscea tale atmosfera carica di vapore di fojr-I

I

mare un rivestimento sul vetro ,JB?a in questo modo si pu? fojr-<. . ' >. <. " >. . <. . >! <" >mare un rivestimento di qualit? molto elevata, presumibilmejnj te perch? i vapori di precursore del rive.s-timento possono mjje? scolarsi nello strato di copertura sostanzialmente senza d?|? sturbarne il flueso complessivo . j -<. >r! " __ E^particolarmente sorprendente ohe tale miscelazione \

| non provoohi la formazione prematura di prodotti della rea-j ! zione di rivestimento che si introdurrebbero lungo il passag-| gip sopra il substrato e cadrebbero come depositi spuri formando difetti^ sul substrato o in esso. E* anche sorprendente i ohe formare una miscela intima del precursore del rivestimento e di un 'atmosfera ossidante nella zona di miscelazione J far poi fluire tale miscela lungo il passaggio a contatto con il substrato sia sufficiente a ottenere un rivestimento -i -che ? sostanzialmente esente da variazioni di spessore impre--22/;-= r.edibili -_e_che_il_moiio_preoiao in cui_si_introduce 1 mate rial? precursore del--riv-estimen-to--nella-Game-ra-d-i rivesiiiaen to?non?sia-c-riticp?per-ot-tenere -tale regolarit?-di -spessore. dJJ?anohe-degno-di?nota?il?fatto -che,-contrariamenee-a-quanto i-SX-poixeb.be.._as.pe-tiare_,?tale miscelazione..lascia-in-reali* ?uffieie?ie_ma.teriale_preaurso.re_del rives.timen?o_che non h?i reagii o_a diapqsizione_per_la_ fo.rmazione,di_un_rive3_timenio iul-Buhatra-tQ_m.en.tre_q.uel.materiale fluiaQe_irL-fas.e.sapore, carso-valle lungo_i l_pasaaggio.._Ci&_.? in naiio._co.n_trae_tO-.coiL li? insegnamenti.della tecnica precedente?in_questo_campo_.

Si? n0me sia, noi abbiamo tro_vaio_ohS?tali._forme._.di_re_? ilizzaz ione?delliinYjanzio.n.e_pre_fe.r.ite in modo_s.p_eo_iale_fa.ci-p Liiano_la_fQrmaziom.e_di_rives_t.imenti_..d?__qua.LLt?__sl-evata_je u iifoxme_e-peime_t_t_on.o_d.i_?or?are t.ali_r.iv_e_ei_i?_e.n-ti_c_Q:n_un.cL spessore pi?,regolare di quanto ? stato finora possibile.

_ Tali forme di reaiizzazione dell 'invenzione _dann?__anch<^ particolari vantaggi nella formazione di rivestimenti relat ramente spessi, per esempio quelli con spessore superiore a 400 ma. Noi abbiamo trovato ohe la rimozione rapida dell 'ai-- _ aosfera carica di vapore non ? un requisito par un rivestinento eoe tanzialmente esente da difettile eoe! si pu? lascia? re pi?,-tempo per formare il rivestimento fino allo spessore desiderato?

Per esemplo , la presente invenzione pu? essere vantaggi-ol'invenzione descritta in

3amente combinata oon/-una nostra lo.manda_di brevetto-bri-tan= lco depositata il 20 Dicembre 1985, domanda n?B5 ?1-42 A, <:>

- ! con.J.l-._riferimento. dell'Agente.PH.1.8_C.E0_\?8S.T0iiE_5-1-0*...la qua?1__? _.__.?e ..descrive e rivendica un procedimento, per . formare..per pi<*>* ! ' : _ to.liai un rive stimante? di ossido . me t.allic.o _s? una facoia su-I ! _ _perior.a.._di_un._s.ul3s_t.rai.0_di_..yetr_o._c.aldo sotto,forma di lastra I i _ >_na_e_iro._durante.il suo trasporto verso valle lungo un per?:

Corso ohe porta sotto una.,p_amera_d.i_rivestimento che si apre verso il basso, prooeditnento in cui si forma detto rivesti-j :aento partendo da vapore di preoursore del rivestimento e d^ un gas ossidante ohe sono alimentati verso valle lungo un p?s?

!l saggio di detta camera di rivestimento a cui detta faccia del_ S!ubstrato ? es <">posta, ca <">ratterizzato dal fatto ohe si forni-"; ?<" >cono in modo continuo il materiale precursore del rivestim?n-_ to e il gas ossidante in una zona di miscelazione in oui sii _ riuniscono detto materiale precursore e detto gasossidan Ite?fuori dal contatto con il substrato e'in oui li si sotto!-pongono a forze di miscelazione in modo da creare un'atmosf?? ! ra comprendente una miscela intima di vapore di precursore ; !e gas ossidante, e si fa fluire in_mo_do continuo una corren? ite di tale miscela da detta zona di miscelazione in detto j passaggio e lungo di esso a contatto oon la faccia superiore del substrato

! Preferibilmente, il gas ohe forma detto strato di ooperi

jtura ? stato preriscaldato in misura superiore a quanto potrebbe esserlo dal solo trasferimento di calore dal substrato

_3i__? trovato _ _ particolarmente vantaggioso, per una_._qua ! lit? .d.el . rives_timejito__qievata _e?uni fb rme_, __ch_e . _la . terape ratur a dei gas nello strato di copertura sia elevata per creare le c o n d i zioni migliori possibili per la formazione iniziale de 1 rivestimento. Anche oi? favorisce una elevata velocit? di ferma ????? del rivestimento ? _

Uno de i problemi^ a cui sono state dedicate molte rice che e quello delle variazioni dello spessore del rivestimento nel senso della larghezza del - substrato che viene rivsstito . Come particolare esempio di questo problema! si ? trovato ? rivestendo un nastro oaldo appen? formato di vetr i plano , ohe i margini del nast ro vengono rives titl pe r un o spesso re_mino re di una striscia centrale del nastro. Di oonseguenza quelle parti marginali non soddisfano i livelli quia? litativi desiderati e sono trattate come ma<*>* teriale di scarto. Noi abbiamo gi? fatto riferimento alla iluizione del materiale precursore del rivestimento ai lati della camera di rivestimento come una delle possibili caus di questo fenomeno. Recenti ricerche hanno portato alla oonr clusione che ci? 3 anche dovuto a disuguaglianze di tempera<L >1-<? >tura nel senso della larghezza del substrato ohe viene rive-. stito. Per esempio ? noto ohe il materiale tende a raffred? darsi tanto pi? quanto pi? ? vicino alle pareti laterali di quella camera?

part ico larmen t e

In forme/preferite di realizzazione dell invenzione, i'1 gas che forma parti marginali laterali di detto strato di ?_?

? stato preriscaldato in misura maggiore ohe al

dentro? Come si e detto f vi ? naturalmente una perdita di calore attraverso le pareti laterali della camera di rivesti-*_ nento e di ogni passaggio ohe porta a detta came ral e 1?ado

e di sta caratteristica stabilisce una barriera term sa ohe permette di compensare la perdita di calore? Come e? aempio particolare dei vantaggi ottenibili adottando^questa saratteristioa preferita della presente invenziqne_,_abbiamo notato ohe, rivestendo un nastro appena formato di vetro cal.? io, anche se il vetro entra nella camera jdi rivestimento coir in profilo di temperatura sostanzialmente uniforme nel sensi larghezza, in assenza di controllo specifico dell*

sfera a contatto con il nastro nella zona dove inizia la fo:rnazione del rivestimento,fino a un sesto della larghezza deh

su ciascun margine laterale pu? essere di qualit? inaooettabile, e quindi un terzo della larghezza totale del nastro e utile soltanto oome vetro da rifondere? Adottando questa oaratteristica,noi abbiamo trovato ohe si pu? aumentare la lar? ghezza utile rivestita e, in condizioni operative ottime, ? resa di prodotto utile e limitata non tanto dalla qualit? del stimento sui margini del nastro, quanto dalla qualit? d vetro stesso su quei margini? Va tenuto presente che, per vii? ri fattori, alcuni centimetri su ciascun margine di un nastr? di vetro sono di qualit? ottioa irregolare e inaccettabile e devo.no_J.n?Ogn.i_caBO._e.spere?S_cari.ai.i? o_uii lizzati? co.me_ vetro da rifondere . - _ ? Vantaggi os am en-t e-,_ almen o-sui_raargin-i-la?er ali de 1 s ub ? .

strato? si-scalda-il gas in?. detto strato di copertura a una temperatura_magg?ore_di_ quella_di parti ..marginali s otto, star.? -ti-del_substrato..-_L_<,>.adozion.e_di questa, caratteristica, d? or; t,

gipe alla. formazione di un -rivestimento di qualit? -0_ttica_e

durat a_migl iorate.... e__d i_unif oxmit?_d i._s.p.e.s s o.re_migl io r_e_,_.alm 3-i ai margini del substrato , e favorisce la compensazione, d arcLi?e_tenni che__att r aver s.o_ ta li ..pareti .laterali. _

_ Preferibilmente ? il gas per formare detto strato di compertura entra all Estremit? a monte della camera di rivesti<- >_

mento da un <1 >anticamera ad iacente ? Questo ? un modo molto sei liplice per garantire la creazione di detto s trato di oopertu -ra di gas ohe copre il substrato e che pu? allora essere tr i

i c in a to dal substrato in modo da spostarsi a contatto con :.e 3

io almeno per tutta la zona in cui comincia la formazione d al _ Preferibilmente

mbstrato ?estremit? a monte di detta anticamera ? sostar*

zialmente chiusa in modo da il flusso di gas in

ta anticamera da monte t per esemplo da un impianto di forma<1 >~

zicmedel nastro , e da formare una zona tampone da oui s i pi?

ricavare gas per manten ere detto s trato di coper tu ra . _

Vantaggiosamente , il preriscald amento del gas ? effettuato almeno in parte in detta anticamera e da sopra il 11-vello del substrato'* Ci? facilita il controllo diretto dellk temperatura del gas che entra nella camera di rivestimento

- 2.7-?--*

da quel la_an fi c amara.

-H_gaa_nell'anticame.ra pu? ess.exvi.ris.caldato_in qu.als.irf._ ?S.i_modo^conveniente., ma preferibilmente il.preris.oaldamento s in detta anticamera ? effettuato mediante bruciatori, po_icJb.e_.questo_modo di^procedere_?_.trovato.. molteefficace e permette un controllo facile ed accurato del riscaldamento, j I con una risposta rapida a quale iasjl regolazione dei control4 i I ILI dei riscaldatori. _ _ ! Preferibilmente si soffia gas preriscaldato verso 1 j_ alto ai lati di detta anticamera da un livello inferiore a ! -P nello del substrato . C i? favori s ce la compensazione di per?? dite di oalore sui lati al livello del substrato e ha oontemporaneamente un effetto favorevole sulle oondizioni atmosfe-f jriche esistenti nell 'anticamera sopra JL1 substrato , in particolare perch? tende a impedire all 'aria fredda di entrare attraverso le pareti laterali dell 'anticamera. i In alternativa o in aggiunta, in certe forme di realizr zazione dell 'invenzione preferite in modo speciale , si sof? ;

I j jfia gas preriscaldato in detta anticamera nella direzione v?rso valle da un livello superiore a quello del substrato. Si trova ohe oi? favorisce un flusso verso valle di gas nella ! Camera di rivestimento e attraverso essa ed ? partioolarmenr Se vantaggioso in forme di realizzazione dell'invenzione in cui l'anticamera non ? chiusa alla sua estremit? a monte, j_ In alternativa o in aggiunta, ? vantaggioso ohe venga f t.cf f iato-gas ,?pr eris caldaio .. verso.. il _ bas80._in.-dei.ta antioame-_oh.e_aJ;ale gas_B?a_impedito__d.i.-fluir.e_verso?il basso., al c.i_l?__dei..bordi._laterall. del. substrato . ?ue.s_io._..?-_un...altro no<1>- . i ,o conveniente per introdurre gas preriscaldato _ne_l_l_Lsritica- . nera per controllare le condizioni atmosferiche sopra il sub? i ,.tra.to..?- ,L.

_Abbiamo_gi?_fat to _rife ^nen?o_alla_.d_6sid_e_r_a?iLi t? _di_ e-j seroitare un controllo sulla temperatura della copertura di i ? ;as In particolare per compensare perdita di calore attraverr-* o le pareti laterali della camera di rivestimento. Come modo altemat ivo o aggiuntivo di effettuare tale compensazione , t erte forme di re alizzazione dell 'invenzione prevedono ohe

4i controlli la portata di gas che forma detta co-j pertura in modo differenziato nel senso della larghezza del_ i *ubstrato .

V?n t aggi os amente , per una parte sostane ial e dell 'alta z?,

I

za della oamera, si mantiene il materiale atmoaferloo in un flusso complessivo verso valle in parte proiettando un getto di gas i

I

_ ? ella camera nella direzione verso valle. L'adozione di que-t ta caratteristica ? partloolarmen te vani aggiosa n e1 favori-! e un flusso complessivo di materiale atmosferico verso vai*? i e all'interno della camera, mantenendo allo stesso tempo la pressione atmosferica nella camera a un livello tale ohe il materiale atmosferico esterno abbia pooa o nessuna tendenza ielle?paxeti,_per esempio a.causa.dell'aspirazione alla.sua estremit?_a_valle.?.

_ Preferibilmente., ..ei^introduue^almenO -Una corrente ausi li aria di. gas. preriscaldato, nella camera di risree t ligen to___in.. mo- - _ Io..ohe fluisca verso valle in detto strato di oonertura o a" . . . iiaoente ad eseo , e attraverso la zona in cui comincia detti L _ formazione del rivestimento? Tale corrente auslllarla di gas ha LI vantaggio di aumentare la quantit? di moto verso valle d?>1-_ Lo strato di copertura e/o di proteggerlo contro correnti qa-_ mali nella camera? Inoltre 1'uso di tale corrente permette in controllo relativamente fine della temperatura e/o della dello strato di copertura nel suo insieme Un uso particolarmente importante per un procedimento secondo l'invenzione ? nella formazione di rivestimenti di assido di stagno usando cloruro stannoso oome materiale pre*" cursore del rivestimento? Rivestimenti di ossido di stagno, che riducono il potere emissivo d?lie superfici di lastre d:. retro a cui sono applicati nei oonfronti di radiazioni infrarosse di lunghezza d'onda elevata, sono largamente usati pe:? il trasferimento di calore da strutture a vetrate Naturalmente questo ? solo un esempio dello scopo per oui s pu? usare il procedimento? Come altiro esempio, il procedimento pu? essere usato per formare un rivestimento di biossido di titanio o un rivestimento di una miscela di ossidi oome per esemplo una miscela di ossidi di cobalto, ferro e cromo? 1 * invenz i?oo mpr.ende anche? urtlappareoch i ai.ura-pe.r_ fo mare? per? pirolisi-un rivestimento-di. un co mposto- metallico su? ve-t-ro? caldo f- ?-d i-cons eguen za si-fomisoe un-' appare a oh. la -iura?pe r? formare - pe r p inolia i _ un- rive si imeni 0? d i_ un? co mpo si o metallico? su-Una_ face ia - Supe riorc-di-Un? sub si rat o_d :Ljve ir?. . caldo_s.oiio_ forma_di_la8.tra_o._naB.irO-, compre:nd.e.nte_o.rgani .trae pori aior i __pe r__t r a spo ria r.e._d_e_tt_o_ substrato .JLungo unpercorso ta una jdire.z ione , verso-valle ,? una_ stru.tiur.a_a_. tetto che d elimita una camera di rivestimento ohe si apre verso il base su detto par carso , e me zzi per scaricare materiale preourso re del rivestimento in detta camera? caratterizzata dal fat io ci-m a monta % fletta, camera di rivestimento vi ? un 'ariti ? e amara che comunica con la camera di rivestimento .tramite u[ na fenditura di ingresso ohe ? delimitata? ._in__parte dal pe corso del substrato e attraverso cui si fa fluire gas nella camera di rives timen t o in _mo do d a forma re (quando _1<1 >appa re otchiatura ? in funzione) uno strato di copertura ohe co pr e 1 faccia super io re del sub s t rato lungo una prima parte del 1 a lunghezza di detta camera ? e dal fatto che sono previsti me zzi per preriscaldare in modo controllabile il gas ohe forma detto strato di copertura?

Tale apparecchiatura ? particolarmente adatta per la' formazione di rivestimenti di qualit? elevata e spessore regol are in^ un procedimento continuo ? per esempio un procedimento come definito in quanto preoede. L Apparecchiatura PU? esse re posta in qunl siasi punto oonvenien te. Tale appare co h iaturr . ! j i ; ^?t_?_part.?c.olarmente__v:antaggio sa _p.er..il fatto, .che._perme.tte_ j i 1 controllo di condizioni nella, zona dove inizia, la . forma<- >! i ! ione del rivestimento che sarebbero altrimenti diffioili_d? codificare. _ _ _ _ _ ; .

i VantapgioB amente , vi ? una eonduttura di - scarioo con uaa-o-?i>l? imbocchi all 'estremit? a valle di detta camera di i!

rivestim?nto. Una conduttura di soarioo poeta In tale zon^L ? i stremamente utile per generare far ze di aspirazione sul gas all 'estremit? a monte della camera di r ptiraento per mantenere un flusso complessivo verso valle di : ' i <. . . >-i i jaateriale nella camera di rivestimento garantendo con. temporai

Reamente che non vi sia alcuna zona morta nella camera dove possano accumularsi materiale precursore del rivestimento o prodotti di reazione corrosivi e che le forze esercitate sul-! : l 'atmosfera all 'estremit? a monte di tale camera siano alquanto diffuse. Si ? trovato che ci? tende a ridurre disturbi delle correnti atmosferiche esistenti nell ' estremit? a monte ! ! della camera di rivestimento. _

! In forme di realizzazione dell 'invenzione maggiormente ; preferite , all 'estremit? a valle di detta camera di rivesti-^ mento ? prevista una presa di soarioo curva ohe si estende almeno per la maggior parte della larghezza del percorso dei substrato e che definisce in parte almeno un imbocco della conduttura di scarico Tale apparecchiatura e semplice oome - 32-? costruzione ed ..? facile da collocare. L'uso di una presaoui~ _ ? _parti polarmente ?util?_nel__guid_are regolarmente materiale .

.! da aspirare nell 'imbocco della conduttura di scarico e aiuta a etsitare picchi momentanei di contropressione ?he potrebbero frabmentare le correnti atmosferiche nel passaggio? E* particola mante desiderabile usare una presa che si estenda per l ?inte ?? larghezza delia camera di rivestimento e ohq sia regolabi? T <" ~ ~ . ' >. <. " >! e in altezza s?pra il percorso del substrato, per esempio j ediante un montaggio a cerniera? in modo da ottenere la chilueura massima . de .ll 'estremi -t? - . a valle della st .azi-o--n- .e di rivesti ri? r?ento . _ _ _ _ . _ j _ In forme di realizzazione dell 'invenzione preferite in modo speciale^ sopra ii peroorso del substrato ? prevista u-j_ r a parete di barriera ohe si estende per l 'intera larghezza d ell ?estremit? a. valle di detta camera di rivestimento e soH tanzialmente la chiude. Tale parete di barriera pu? essere fornita? per esempio da detta presa di scarico . Questo ? uh Biodo molto semplice di garantire che variazioni nelle condi? immediatamente a valle dell'estremit? della camera di rivestimento non abbiano affetti diretti sulle condizioni nel? camera di rivestimento e viceversa

In forme di realizzazione particolarmente preferite deli-'invenzione , detta stazione di rivestimento ? situata tra li ?usolta da un impianto di formazione del nastro e l 'ingres-i o in un forno di ricottura. Quando si opera in questo modo ,

33 <?>? a_i?tro-ver?__oiie?il?Yetro--.pu??.raggiung.ere__la_s_tazione_JLi_rive:* e?imento.a-una-t.emp.erat.ur.a_che_?i_j?ualla.._rich.ie.s_ta., o ? vici-__ na_?u.qualla_richis.s.ta,..affinch?_le.reazioni.Ai_.rives_tim_er!.to_ pirQlitico_.a?Lb.ian.o_.l?ogo.*_Si-J3PJifiegtftn?a.,..l_<,>-ado_?ifins. di gu,esta caratteristica elimina la nepes:s.it? di u11eriori.japparei:-chiature di riscaldamento che sarebbero neoessarie per inna -zare dalla temperatura ambiente la temperatura del vetro d.a rivestire.

__ VantaggipsaoBnte per almeno parte deIla lungie z za della camera sono previsti mezzi per impedire il flusso di ma? teriale atmosferico al di l? dei lati del percorso del substrato e tra zone poste verticalmente sopra e vertioalmente sotto tale percorso. Tale flusso indesiderabile di ma atmosferico potrebbe provocare deposizione irregolare di ma L teriale di^rivestimento solla faccia superiore e/o inferior del substrato in particolare ai suoi margin i laterali ?

Si-preferisce in modo speciale che i mezzi,ohe_acarioaho .il.materiale precursore del rivestimento siano atti a spruzzare materiale liquido [precursore del rivestimento verso il basso e verso valle. Questa ? un'apparecchiatura molto som? plioe per emettere quantit? relativamente grandi di materia? le precursore del rivestimento come pu? essere necessario t per la formazione di rivestimenti piuttosto spessi e permetjr* te tale emissione sansa infrangere un flusso generale di mai? teriale atmosferico lungo la camera di rivestimento nella I H<. >

direzione verso valle , come ? vantaggioso per la formazione di?.riv_es_timenti-_di qualit?^_eLegata..

_ In?tali, forme di...realizzazione.|_s.i...prefepisce,-in modo speciale_che_tali_me.zzi_d.i_spruzzQ,_aian.o___diaposti_iii_taD-do_d^ spruzzare detta soluzione di precursore del rivestimento irt una.zona.jji apruzzo di detta camera di rivestimento da un<1 >altezza_.s_opra.1.1.parco.rso del substrato di almeno 75 cmJ ohe siano previsti mezzi di riscaldamento per fornire calor a detta zona di spruzzo! che detta struttura a tetto defini sca una parteAipassaggio di detta camera di rivestimento ohe porta a valle di detta zona di spruzzo e conferisce alla camera di rivestimento una lunghezza totale di almeno 2 metri; e ohe siano previsti mezzi per_generare forze di aspirazione sul materiale atmosferico in detto passaggio per in careggiare tale materiale a fluire lungo il percorso del subistrato fino all?estremit? a valle di detto passaggio e a en trare in una conduttura di scarico per allontanare tale materiale dal percorso del substrato.

Un ?appa recchiatura avente queste caratteristiche ? pa: ticolarmente utile. Tale apparecchiatura ? pi? economica da far funzionare delle appareoohiature convenzionali di rivestimento in fase vapore in cui tutto il materiale precursor del rivestimento deve essere vaporizzato prima del contatto con il vetro , ed ? pi? semplice da costruire delle apparso^L- . ohiature a spruzzo note, in particolare perch? si possono fa? _ calmante evitare?i-problami..associati_agli_s.pruzzi...e^all'allon? _ ?I

. __!tanamento.-di grandi quantit?..di.soluzione di precursore del

| ! _ rivej31 imen to spruzzata dalla, zona. .dove... v.isre?fo.rffi.atP . il_ ri? ]

vestimento assicurando, che il _p.al.cre fornito sia sufficiente

_ da..far evaporare ..un percentuale sostanziale del precursore j

_ del rivestimento spruzzato._ _ _ .1

[

_ _ Usando tale apparecchiatura abbiamo trovato eatremamonte

\? :!

Pi??<~>r!f?aoile f-orm-are rivestimenti di qualit? ottica elevata e strp,t?_

I i _ [tura uniforme in modo affidabile e riproducibile ? anche a V!B- _ _

! !

_ locit? elevate di formazione del rivestimento? e senza indur-_

1

| _ re sollecitazioni termiche elevate nel vetro. In particolare abbiamo i

! |

_ ( trovato estremamente pi? faoile formare rivestimenti j

j . <? >I

_ che abbiano un fattore. di nebulosit? basso e uniformemente j

1 ? j i jbasso* _ _ . ;

! Naturalmente, per ottenere tale qualit? elevata e ripro? ? jducibile del rivestimento, 1'apparecchiatura dovrebbe essere

[ ! !usata in modo opportuno, ma la combinazione di caratteristij-

iohe dell'apparecchiatura come definita sopra e particolarmen?

jte utile per facilitare il controllo di condizioni nella ca-

j _

jmera di rivestimento? Per ottenere questi buoni risultati, :

I ; jabbiamo trovato , usando 1 'appareoohiatura, che ? meglio oon?

itrollare le condizioni in modo che una parte BOB tanziale del-

J ?

Ila soluzione di precursore del rivestimento sia fatta evaporare

prima di penetrare nello strato di copertura per arrivare a

contatto del substrato, in modo che lo strato di copertura'non sia molt o disturbato 'dal materiale spruzzato , e in modo ohe l 'atmosfera all 'interno della zona di spruzzo si carichi di sapore di precursore del rivestimento che ? poi aspirato lungo il passaggio dove rimane a contatto con il substrato .

Finora si ? ritenuto necessario scaricare la soluzione ?i precursore da un punto vicino al substrato ? un 'altezza ? ?i spruzzo di 30 om o meno ? abituale per jnon lasciare al ^ nateriale precursore tempo di reagire con l 'atmosfera nella di riveetimento e formare prodotti di reazione che potrebbero d. epositaiei sul substrato e formare difetti sul rivestimento . 3i ? anche ritenuto necessario aspirare via dal aubstrato il pi? presto possibile il materiale precursore del rivestimento in eccesso e i prodotti di reazione , c i nuovo per impedire deposizioni spurie sul substrato, e lunghezze ?ell camera di rivestimento d? 60 a 100 om sono t?piche d? che si trovano nella tecnica nota

Le ragioni per cui l'uso di tale apparecchiatura debba livelli qualitativi elevati del rivestimento non s 1-t no completamente chiare , ma rimane il fatto che con l 'aiuto d? tale apparecchiatura siamo in grado di formare rivestirne^-jti con un fattore di nebulosi t? pi? uniforme e pi? basso di j quanto era possibilie prima. I rivestimenti formati possono j avere una qualit? ottica elevata e uno spessore regolare e j prevedibile. Inoltre , usando tale apparecchiatura , siamo in | grado di formare quei rivestimenti su substrati di vetro pi? - 37 raoidamente i e pere. n spesso ri maggiori _o_BU__Subst ra ti ohe si muovono pi? : amen te ,__di quanto non fossimo in ?rado di fare finora?

Ih effetti questo rappresenta Uno scostamento radicale dall 'ine egn amento della tecnica nota nel campo delle appa? raschiature di rivestimento pirolitico , e forma 1 ' dell 'invenzione descritta in detta nostra domanda di Brevetto Britannico dLe posi tata ar oh 'essa il 20 Dicembre 1985 , domanda ni 85 31423 , con il riferimento dell 'agente OJ26 FLINTSTOffiS 440 ? la quale descrive e rivendica un 'apparecchiatura per formare per pirolisi un rivestimento di composto ???-tallico su una faccia superiore di un substrato di vetro cui? do sotto forma di lastra o nastro ? comprendente organi tra?}? sportatori per trasportare detto substrato verso valle lungo un percorso , una stazione di rivestimento comprenden te una struttura a tetto che delimita una camera di rivestimento che si apre verso il basso su detto pe rcorso , e mezzi per spruzzare una soluzione di precursore del rivestimento in detta oamera verso il basso verso il substrato ? caratterizzata dal fatto che? i mezzi di spruzzo sono disposti in modo da spruzzare detta soluzione di precursore del rivestimento in una zona di spruzzo di detta camera di rivestimento da un 'altezza sopra il peroorso del substrato di almeno 75 omjj di<" ">riscardam entcT

sono previsti mezzi/ per fornire oalore a detta zona di spruz -j ? zoj detta struttura a tetto delimita una parte di passaggio li detta camera di rivestimento.che porta a valie di detta zona-djL-spruzzo-.e_conferisce...alla .camera .di rivestimento unii ..totale di almeno.2 metri.J__e_.sono previsti-mezzi per. generare forze aspiranti^s_u_mate.rial_e__atmosfe.r.ic_o__in_d_e; to passaggio per_inopraggiare tale materiale a fluire lungo il percorso del substrato all'estremit? a valle di detto pai* saggio e a entrare in Una conduttura di scarico per allonta<1 >z nare tale materiale dal peroorso del substrato.

In forme di realizzazione e preferite iellinvenzionet ietta camera di rivestimento comprende un lungo cui si possono condurre verso valle vapore ii precursore del rivestimento e gas ossidante a contatto con detta faccia superiore del substrato durante il trasporto di questot e In cui vi sono mezzi che definiscono una zo?-na di miscelazione in cui si.possono unire, fuori dal contatto con _il_substrato, e mescolare il materiale precurs?re del rivestimento e il gas ossidante per formare un'atmosfera comprendente una miscela intima di vapore del precursore e gas ossidante, detta zona di miscelazione essendo in oomunioazibcon detto passaggio per consentire a una corrente di?det? ts miscela intima di fluire lungo detto passaggio da detta zona di miscelazione

_ Tale;apparecchiatura ? particolarmente adatta per la formazione di rivestimenti di qualit? elevata che siano so-* stanzialmente esenti da variazioni di spessore idibili - 39--i

.-V-eloait?^e levate. -di. .formazione del rive s t imen 10.. e. in _.un... pr?*

Cedimento- continuo ? ?

Di nuovo ci? permetta ua disturbo ridotto dello strato di ooper?

!tura da parte del materiale precursore del rives timento .soar ! : ricato y. e . usando questa apparecchiatura si possono ..formare .

rivestimenti di qualit? .molto eJLevata , presumibilmente per?; I

Lch_?_ i vapori di precursore del r ives timen to pp ssono mescolar-| ; lei nello strato di copertura sostanzialmente senza disturbar?

|n# il flusso complessivo .

Coma esemplo di tali forme di realizzazione , un 'appare c-

: chia tura secondo la presente invenzione pu? vantaggio semente

anohe Incorporare una o pi? caratteristiche dall 'apparecchiai j ' : [tura descritta in detta nostra domanda di brevetto britanni? _

!oo depositata anch 'essa il 20 dioembre 1985 , domanda n. 85 31 424

[con il riferimento dell 'agente PH18 CBOWNSTONE 510? la qua-;

i <1 ; >j le descrive e rivendica un 'apparecchiatura da usare per for?

mare per pirolisi un rivestimento dis ossido metallico su una

[faccia superiore di un substrato di vetro caldo sotto forma; i _

idi lastra 0 nastro , comprendente organi trasportatori per

i trasportare detto substrato in una direzione verso valle luni

<;>go un peroorso e una struttura a tetto che delimita una ca-

lmer? di rivestimento che si apre verso il basso su detto per**

corso e comprende un passaggio lungo cui si possono condurre di <. >verso valle vapore/preoursore del rivestimento e gas oBsidan-

| te a contatto oon detta facoia superiore del substrato .? durante il trasporto di questo r caratterizzata dal fatto che ri sono mezzi che definiscono una zona di miscelazione in cui. ai possono -riunire fuori dal contatto oon il. subetra? bo, il materiale precursore del rivestimento e il gas osaidunte e mescolarli per formare un'atmosfera che comprende una miintima di vapore di precursore e gas ossidante. detta zona di miscelazione comunicando con detto passaggio per oorpsentire a :.una corrente di detta miscela intima di fluire da? letta zona di miscelazione lungo_detto passaggio._

_ Si preferisce in modo. speciale che detta^ struttura a tet-I

fco presenti una marcata diminuzione di altezza sopra il per? del substrato nella direzione verso valle in modo da strozzare il flusso verso valle di vapore dalla zona di soa? del materiale precursore del rivestimento nella camera ai rivestimento. L'adozione di questa caratteristica permette avere una zona di scarica a monte relativamente alta per qare ampio spazio per una buona miscelazione del materiale cursore del rivestimento scaricato nell'atmosfera in tal^ sonay ohe pu? servire come serbatoio di vapori di materiale eli rivestimento che sono poi forzati a fluire in basso versc^ il substrato per mescolarsi con lo strato di copertura e fili? ire oon esso verso l'estremit? a valle della camera di rive1n?<~ >atimento in una corrente concentrata e uniforme ohe reca be-r nefioi per la formazione di materiale di rivestimento dalla! fase vapore.

_ Preferibilmente detti p_ez_zi..Ai__prerisjjaldam_erito..._d_el..-gas sono controllabili in modo da scaldare in misura diversa_il gas ohe forma parti diverse di detto strato di copertura nell s enso della larghezza del peroorso d el substrato. Ci? permette un controllo piu fine della temperatura, del gas destina-? to a formare lo strato di copertura.

_ Vantaggioaamente detti mezzi di prerisoaldamento del ges sono controllabili in modo da scaldare il gas ohe forma pai? ti marginali laterali di detto strato di copertura in misuri maggiore del gas che forma parti centrali di detto strato. Questo ? utile in particolare per ?onsentire di oompensare^_ il maggior raffreddamento dell 'atmosfera in detta camera di. rivestimento ohe si verifica vicino alle pareti laterali di detta panierai in modo da favorire una striscia pi? larg? del substrato che ? rivestita allo spessore desiderato.

In forme preferite di realizzazione dell'invenzione,una ! parete di separazione sopra la fenditura di ingresso compren de ina paratia per regolare l'apertura della fenditura di in?<* >grasso. Ci? d? un ulteriore mezzo per controllare le oorjdi zioni nello strato di gas di copertura che fluisce nella mera di rivestimento, per esempio per variare la velocit? di tale flusso di gas per adattarsi a condizioni prevalenti sotto la zona di scarica del materiale precursore del rive stimento.

_ Preferibilmente tale paratia _ ? costruita a sezioni niobi?? li_.iniipenden.temente per r.egalar.e_la_fsnrl.itur.a. di_ingresso...

in?mieura--differenziata-nal?senso della?larghezza-del-peroo::-?

i-del-su<'>bstrato-?---.oosiooh? si.pu? .effettuare?tale con nel senso dalla

indipenden-temen-ta-in?poaizioni-d-iverse.f l arghezza .del

perooTSO?del-suistrat?.,,,.???..esempio?a_fl.eguito..del rilevamento

-di variazioni di spessore?nel?rivestimento .formato.

- ??fo rme-di._r.ealizzazione dellJ-inverLziorj-Q?preferite in_

modo speciale, sono -pre.v_is_t.i_me.zzi..per?s.c.aldare l'atmosfera in-det_ta_-anticamera._da_un_liv_ello supe_rio_reL.a_qu_e.l.lo_de.l pe in?

corso del substrato? Q.uesta ? un <1>appareoch.iatu.ra molto eea-

pi ic_e_j?_er_ influenzare direttamente la temperatura dello atr i to di copertura di atmosfera a contatto con la faccia supe?

rio re di un substrato ne11 'anticamera._

_ Vantaggio semente. i mezzi di riscaldamento dell*antica ~

mera comprendon o_brucistori ,pp iche . ci? consente un effe11o

di .riscaldamento molto efficiente,.eempi ioe. regolaliilit? e

ris posta rapida a ogni regolazione._

_ Preferibilmente, sono previsti mezzi per soffiare gas

prerisoaldato in detta antioamera. Ci? consente di soffiare

il gas nell <1>anticamera,senza perdite o con perdite ridotte

di calore, su un substrato contenuto in. essa, e significa che una quantit? di gas adeguata per formare lo strato di

copertura pu? essere fornata da un 'anticamera pi? piccola.

_ Vantaggiosamente , sono previsti mezzi per soffiare gas l'alto sui lati della stessa prerisoaldato In detta anticamera verso ?? . da un livello percorso del

inferiore a quello del/ ?ubstrato . Questa ? uri 'apparecchiatuj <; >ta molto eonvenient_e_ed. efficiente pe IL compensare perdite di ! <. >i calore attraverso le pareti laterali dell'anticamera. _ ;

Preferiiilmente. sono previsti mezzi per soffiare gas I

preriscaldato in detta_anticamera verso valle da_un livello; i

s!uperiore a quello del percorso del substrato. Questo ?. un 1! altro modo conveniente di soffiare gas preriscaldato nell'ari? | i ticamera e ha il vantaggio supplementare di favorire un flusi i ! ! p? complessivo verso valle di gas nella camera di rivestimen? i i to e attraverso essa._ ;

In certe forme preferite di realizzazione dell'invenzi?ne sono previsti mezzi per soffiare gas preriscaldato verso; il basso in detta anticamera e per impedire a tale gas di fluj ; ire verso il basso al di l? dei bordi laterali del percorso!

.

j : del substrato. Questo e ancora un altro modo conveniente di; |

Soffiare gas preriscaldato nell'anticamera per controllare i

?L 'atmosfera immediatamente al di sopra del percorso del substrato?

In alcune forme preferite di realizzazione dell'invenzio he detta anticamera presenta un tetto inclinato verso il bas So verso la parte superiore di detta fenditura di ingresso. Ci? favorisce un flusso regolare di gas nella fenditura di ingresso e attraverso essa, per formare lo strato di copertura a oontatto con Un substrato sul percorso.

Vantaggiosamente,sono previsti mezzi per proiettare un getto. ..di. gas.nella camera.verso,valle...per mantenere un flus, so complessivo.ve.rso_valle._.di-__mste.r.iale._atmp_s_ferioQ_per un.aj. parte sostanziaie_jle11'jaltezza_della camera, Tali mezzi aiu taro a mantenera la. pressione atmosferica nella camera di_riveatimentoi riducendo cosi la probabilit? ohe correnti d*a? ria casuali siano aspirate nella camera attraverso le sua pareti disturbando la..distpibuzion_e desiderata di correnti.atmosfel? riche in essai e tale flusso complessivo verso valle aiuta anche a mantenere gi? sul substrato lo strato di copertu? ra di atmosfera.

Preferibilmente, sono previsti, .mezzi per Ricaricare almeno una corr?nteausiliaria di gas preriscaldato nella camera di rivestimento in modo ohe fluisca verso valle in detto_stra Il to di copertura o adiacente ad esso, e attraverso^ la zona in oui comincia la formazione del rivestimento. Si pu? cos? ge?-una

nerare /corrente di gas ausiliaria per rinforzare lo strato di copertura e/o proteggerlo contro correnti casuali ohe po?sono esistere nella camera? Inoltre l'uso di tale corrente j permette un controllo relativamente fine della temperatura e/o della portata dello strato di copertura nel suo insieme? Si descriver? ora con maggiori dettagli questa invenzibne con riferimento ai disegni schematici allegati di varie forme preferite di realizzazione di apparecchiatura secondo jl 'invenzione dando esempidi procedimenti specifici seconrdo l'invenzione realizzati usando taleepparecohiatura.

4<?>5

.Bei..disegni,..ognuna delle...figure...1 - 3-..? una.vista..late rale in-Sezione.,.di._una_fo.rma.di realizzazion.e_di_.apparsoehiktura di rivestimento secondo l 'invenzione , e _

_ la. .fie.._.4.? ...una._s_e.zion.e secondo, la.. linea IY 17. Ai. fig. 3.< FIGURA 1 . ___ . .. . ..

In figura 1.un'apparecchiatura per formare per pirplis un rivestimento di composito metallico su una. faccia superio redi un substrato 1 di vetro riscaldato sotto forma di la-.???<&>_?..?:<?>.??<?? >comprende organi trasportatori, come per esem? pio i rulli 2, per trasportare un subetrato in uria direzioni verso valle 3 lungo un peroorso anoh'esso indicajbo con 1._I;1 percorso 1 porta sotto una stazione di rivestimento 4 comprendente una struttura a tetto 5,che definisce una carnera di rivestimento 6 che si apre verso il basso sul peroorso del substrato, e un ugello di spruzzo rappresentato schemat1? oamente in 7 per spruzzare un getto di soluzione di

re del rivestimento nella oamera 6, in una direzione 8 ver? so il basso verso il substrato 1.

L'ugello di spruzzo 7 ? disposto in modo da spruzzare 3(1 getto di soluzione di precursore del rivestimento in una zoj? . . . . <' >j na di spruzzo 9 della camera di rivestimento 6. Nella formai di realizzazione illustrata l 'ugello di spruzzo 7 ? dispoatjo in modo da spruzzare il materiale precursore del rivestirne?!? ! to per esempio da un 'altezza di almeno 75 o? sopra il per? | oorso 1 del substrato, e preferibilmente da almeno 1 ,2 metri,

GO <? >! i ?d ? di un tipo ben no tq in s? . L <1 >? atto a s za re a_B olii z ione.A i. precursore del r.ivLes_timari_t.o__.nella _d ir e z ion e. 3__v.erso il ..basso verso il substrato 1 __e_n.ella . d irezione verno valla.?3->--e.d._?_ino<'>b.ile^_av:anti_e ini.ia?i*o_JLungo un.a_guida _ ^ ^on^rap^ejaenjtat a.)_?SLJ?Ma JLa^argke_z^a_d_el__p e re o.r^__ 1_ substrato.. _ _ _ _ . _ _ . .

Malia forma di realizzazione illustrata sono previsti mezzi di riscaldamento per fornire calore a detta zona di spruzzo. Tali mezzi di riscaldamento comprendono riscaldato-::i radianti 10 rivolti verso il basso disposti nel tetto del a zona di spruzzo 9? E* prevista una conduttura 1 1_per eoa- -ricare un getto di gaB preriscaldato nella zona di spruzzo $ direzione tale da intersecare il getto spruzzato 8 di ma teriale precursore del rivestimento. La conduttura 11 ha la sua apertura di emissione 12 disposta nella met? superiore del 'altezza fra l'ugello di spruzzo 7 e il substrato 1 , ed ? atta a scaricare qu'el get "to di' gas da monte --r--is-pett? .all'asne di emissione dello spruzzo di precursore del rivestimento 'apertura di emissione 12 ha larghezza minore del percorso del substrato 1 ed ? mossa avanti e indietro attraverso la a di spruzzo in tandem con l 'ugello di spruzzo 7? Il gas emesso dall'apertura 12 ? inirf-almente diretto sostanzialmen^ te orizzontalmente, attraverso il percorso trasversale del ^etto 7 di goccioline, per mantenere una circolazione di gas nella zona di spruzzo 9?

Il.gas-jomesS-O-?-ponyenienteraente. aria? preriscaldata Per esempio a una temp.erat.ura_media,nell'interrailo da 300?C.a I i ! i ! S00?C . I riscaldatori 10 provocano l 'evaporazione di parte r del getto di goccioline spruzzate^durante il loro percorso y

? er_s.o_.il substrato .1 ?. e il vapore cos? formato ? trascinato ! : ! : ! i nel getto di aria preriscaldata emesso dall 'apertura 12 ? j ? La struttura a tetto 5 delimita una parte di passaggio | | <? >I 13 della camera di rivestimento 6 ohe porta a valle della zoj-I . i na di spruzzo 9 e conferisce alla oamera di rivestimento 6 | una lunghezza totale di almeno 2 metri e preferita! Imeni e un ? ! j? lunghezza di almeno 5 metri? Nella forma di realizzazione illustrata, la struttura a tetto 5 oomprendejuna parete a pon? Ite 14 sopra il percorso del substrato che si abbassa sostan-:I i zialmente verticalmente per definire una fenditura di uscita I15? all'estremit? a valle della zona d<?>i spruzzo? ohe separa; i quella zona dal passaggio? e il passaggio 13 ha un'altezza | !Che diminusloe n.ella direzione verso valle da un valore mas? I : ' ! simo in corrispondenza della fenditura di usoita 15? L'altei-! 15 | za della fenditura di uscita/? meno di met? dell 'altezza tra ? i l'ugello di spruzzo 7 e il substrato 1? ! j ! All'estremit? a valle del passaggio 13 si aspira mate-r riale atmosferico inuna conduttura di scarico 16 avente un iimb?eoo 17 definito in parte da una presa discarico curva ! 18 ohe si eetende sopra il percorso del substrato 1 su tutta la larghezza del paesaggio? e sostanzialmente ne chiude l'e?

'=<'>1*8<' >itremit?. a.-valle, in .modo_ da_..impe.d.ire sostanzialmente, il .flesso ? li.materiale.-atmosferico in. ingresso. 0 in uscita dalla.carne? ca-di-.rivestirnent06 all'estremit? a valle del..passaggio 1.3.1. . Pale presa 18 pu5 opzionalmente essere montata a cerniera iri nodo da poter essere regolata per lasciare un gioco minimo on 11 substrato 1? Sempre.all'estremit? a ralle del passag-jio.1l, s.i_.aspira il. materiale atmosferico in opridotti late? cali di scarico 19 posti su ciascun lato della camera di rir restimento, per favorire una_diffusione laterale del materia? le atmosferico ohe scorre lungo la camera di rivestimento?

19

In- reait? , tali condotti di scarico laterali/sl estendono s'o-?tiuaialm?nte per tutta la lunghezza del passaggio fin ~b en ientro la zona di spruzzo, quaai fino alla sua estremit? a j te ,_ per impedire al vapori di precursore del rivestimento 1 <" "" >i<" >passare sotto il percorso

La stazione di rivestimento 4 ? situata tra l'uscita d? in impianto di formazione del nastro (non rappresentato), p?r esempio una vasca di galleggiamento, e l'ingresso in un for?^ di ricottura 20.

Un passaggio dall?impianto di formazione del nastro alj La camera di rivestimento 6 presenta un tetto 21, e 1'estro? ait? a monte della oamera di rivestimento ? determinata da una parete terminale 22 da cui scende una paratia 23 che la? soia uno spazio per il passaggio d?i suhatrato 1 nella geme4-| ra di rivestimento attraverso una fenditura di ingresso 31 ? !

49

_ A..monte.,_della.parati?..23 vi ? un<1>anticamera_25.in cui %

sono previsti_me.z_zi di riscaldamento fi?, Tali mezzi d_i_.rir_ scaldamento possono essere mezzi di riscaldamento radianti, o uno p pi? bruciatori, o possono, comprendere un..radiatore ad alette come rappresentato.? Un.elemento di tetto 27 .scendo ..d?! tetto 21 del passaggio e dalla parete terminale a monte 22 dellapaaera.?? rivestimento, e.forma un. tetto per 1 'anticamera 25 che ? inclinato verso il basso verso la fen Altura di ingresso 24 della camera di rivestimento.

ifel funzionamento, una corrente semi-naturale di gas sar? aspirateneLl'estremit? a monte della camera di rivesti mento 6 dall'anticamera 25,cosicch? 1*ambiente gassoso nell immediate vicinanze della faccia superiore del substrato ? almeno nella zona in cui inizia la formazione del rivestimeli to ? controllato da gas preriscaldato inviato nella^ direzio ne verso valle 3 nella camera 6 in modo che entri nella oamera a contatto con il substrato 1 e formi uno strato di co pertura che oopre il substrato almeno lungo tutta la zona d contatto con il materiale precursore del rivestimento? L'effetto della parete terminale 22 e della paratia 23 ? quello di controllare l'altezza della corrente di materia, le atmosferico che fluisce nella oamera di rivestimento 6 da monte e forma lo strato di copertura che copre il nastro di modo ohe le condizioni atmosferiche nella regione dove i? nizia la formazione del rivestimento possono essere control? Late pi?. facilmente ...

-ESEMPIO? 1- _

-?-Una -forma di-realizaazione- -pratica specifica dell 'ajr-; ?arec chlatura rappres e.n tata-in? fig^?1. ?? laccarne ra di_riv_eat i-*? i lento? 6??... un. _poJ. pi?. larga_di?3- metri- per? ac.cogl i er e... n as tri j li -Veiro- aven-ti-Un-a_larghezza.-.fino-a_3-metri. -La-..struttura_.s , . _ tetto 5- sopra-la . zona_di_s.pru. zzo .9- .della camera di rivesti-_ nent.o_.?_poco_.pi?. .di .1 metro. .so.pra__il livello, del. .percorso.. 1 _ clel__nas_tro... e. l'apertur.a-jii^pruzzo. dell.'uge.llo 7 -di_. ernia siort .. _ i ?.e. delle goccio line ? vioino al livello. Jii ..quel_tett o... _Tal e _ ugello 7 ? atto_a _s_carioare._un . getto .conico.. di goccioline ir _ j ma direzione 8 ad un angolo di 45? . r ispe tt p_ . a 11. ? o r i z zon t al e ]!*a parete a ponte 14 all 'estremit? a valle della zona di spiuz-. !5.P_9 dista 2,2 metri?.dal la parete terminale a monte 22 della camera di rivestimento. Il passaggio 13 lia un 'Altezza che si Riduce _4P om in oorrispondenza della fenditura di uscita I5 a. 25 cm alla sua estremit? a valle. La lunghezza di quel passaggio e 4,5 m? _ _

Quest a appare cc h ia t ura ? pr? ge 11 at a in part io o lar modo ]iar la formazione di rivestimenti di ossido di stagno parten c Lo da cloruro s dannoso come materiale precursore del rivesti t lento ?

Usando tale apparecchiatura r si fo rm? un _r iv e a t ime nt o

i .i ossido di stagno spesso 750 nm su un nastro di vetro floa|t * <i>P<eB>eo 6 rum. che ai spostava a una velocit? di 8 ,5 m/mi n . ?.

51

jvetro entrava nella camera di. rivestimento a una temp_sra.tura

di 600<e>C, e il. precursore del. rivestimento usato era una soi

jluzione .acquosa di cloruro stannoso contenente bifluoruro di

i :

.ammonio per. fornire ioni droganti nel_ rivestimento . Si spru??

Ja? questa soluzione dall 'ugello a una_portata _d.i .220. l/h nte?*

| i

tre ljugello veniva mosso avanti e indietro trasversalmen te I

al percorso del nastro#

Si acceadro i_ riscaldatori radianti nel tetto della zo4

na di spruzzo e si scaric? aria attraverso 1 Apertura 12 a ! f j <:>

! 3 i

Una portata di 6000 /min e a una temperatura di 400?C? C?-I !

pie risultato , parte del getto s prezzato di ma tarlale pre cur?

Bore del rivestimento era evaporata ^Lasciando solo una parte

jper continuare fino all 'impatto sicuro contro il vetro. Il

I i vapore di precursore ?????,rivestimento cos? formato era tra?;

?

?cinato nella corrente di gas preriscald stai emesso dall 'aper?

?

!tura 12, per fluire attraverso la fenditura di uscita 15 e

lungo il passaggio 13 fino alla conduttura di s carico . Que- !

!

sto esempio fa cos? anche uso dell 'invenzione descritta in

fletta nostra domanda di brevetto britannico depositata il 2?

flicembre 1985? domanda ni. 85 31 423, con il riferimento del-

_ ? 'agente 0J26 FLINT STOKE 440.

| Si generarono forze di aspirazione nelle condutture di

scarico 16, 19 per asportare ciria 100.000 mr/h di materiale

!

atmosferico dalla camera di rivestimento a una temperatura

media di circa 350?C, facendo cos? entrare uno strato di co? ;>ert.ura..di._gas__pr.eris.caidato.dal_riscaldatore.2.6.e rioopr.end-P il substrato. Tale prerisoaldamento venne effettuato.,ri??! j scaldando Un.radiatore ad alette .al.calor. rosso.? j _ ? aggiunta, gli aspiratori laterali.19.stendevano. ad_a|-I! ~;irare materiale atmosferico da sotto il livello del nastro jj i impedendo cos? interscambio di materiale?a.tmp.s.fer_icp_tra.. zo4 . ite verticalmente sopra e verticalmente,.sotto.,il peroorao de^ nastro._ _ _ _ _ _

31 trov? che ci? dava un controllo eccezionalmente fini t;?1ljatmpsfera immediatamente sopra il substrato nella, regio de dove il rivestimento cominciava a formarsi. Si trov? ohe ci? era particolarmente utile per dare an rivestimento rego4 lare dello spessore richiesto e per il fatto ohe aument? ! ia larghezza del nastro su cui si form? il rivestimento con quello spessore richiesto. _ j Nel risultato, il rivestimento formato aveva una strut-f j tura cristallina fine all 'interfaccia vetro/rivestimento che] favor? una struttura -di rivestimento uniforme di qualit? eievata e quindi buone qualit? ottiche, e si ebbe cura di evital'inclusione di prodotti di reazione di rivestimento ohe evrebbero portato a difetti.

FIGURA 2

Nella fig. 2 gli elementi che svolgono funzioni analoghe a quelli illustrati in fig. 1 sono stati indicati con gli stessi numeri di riferimento.

lTella_zo.na__djL._s.pru???_.9 all.<1>.estremit_?_a_m.Qn.i_e_&el_la oam. *-a di rivestimento 6 mancano i rigcaldatori---10-e_la--oonduttii di gas

radi emissione/11. E<1 >prevista Un_CPndO-t-tQ_d?__em?as?Qna-J.i gas_. ? avente una fenditura _&i_emis_sjLojre_2-8_jqhe__si. estende su hiintera larghezza della camera di rivestimento, per soariokre materiale precursore del rivestimento aggiuntivo in fase vapore in m?do ohe^aia trascinato nel getto di goccioline?

A valle della fenditura di uscita 15 , sotto la parete a ponte 14? la struttura a tetto 5 continua per definire u-_ na parte di passaggio 13 della camera 6 di rivestimento ohe ha nuovamente altezza ridotta?_ _

n tetto 5 del 13 a di costruzione porosa ed ? sormontato da una camera in pressione 29 ohe pu? essere riempita di aria preriscaldata attraverso una conduttura 30 in modo da introdurre tale aria riscaldata attraverso il tet? to del passagg lo 13 e f o rmare un o Btrato di barriera contro la corrosione del tetto in quella zona e contro la condensa zione di vapori del precursore del rivestimento sul tetto _ Lungo quel passaggio 13 sono previsti diaframmi 31 su. oiascun lato della camera di rivestimento, i quali sporgono verso l 'interno dalle pareti laterali della camera di rive stimento e sopra i margini del substrato t. Questi diaframmi si estendono per l 'intera lunghezza del percorso del substirato oooupata dal passaggio,in realt? si estendono per tutto li percorso fino all'estremit? a monte dell'anticamera 25, <1>issando interrotti solo nella regione dove intercetterebberc Ll?get-to? spruzzai o-8__.di_ materiale__pr.acursore__del riv.e stime nio..

..Sa?-t.o__la.._pare_te_ terminale a .monte _22_ de.l.la_camer.a...di Vestimento 6, la paratia verticale 23 rappresentata In flg. L??&o_ai.l_t.ui_t.a_jla?una__paratia 32 ohe pu? esser fat_ta_n;o;tare. . ?jiascia una-fenditura_?.i_?ngressp_3_1_varift?iXj9_??o.B.?e.ciil__sji : ?u?_oon_tr.oX lar_e_..p iiL_f a.c..i lmente la portata a . cu i i .Lmatejr ialj :

aspira<?>?"

iimo.afe.rioo pu? essere ,.rielja camera di rivestimento ,11 'anticamera 33 per formare uno strato di copertura sul :retro. In aggiunta, ? previeta una conduttura di emissione jLi gas 33 par scaricare gas preriscaldato verso il basso ne] L 'anticamera per formare lo strato di materiale atmosferico Lmmediatamente sopra il substrato T fino almeno alla zona d? <?>re il getto di materiale di rivestimento urta contro i2:ve? bro . L 'estremit? a monte dell 'anticamera ? sostanzialmente shiusa da una parete di barriera 34?_

, <. >35

Sono previsti mezzi/per scaricare gas nell'ambiente del. substrato 1 in modo da formare una corrente continua che soo ce nella direzione verso valle 3 sotto ciascun margine del percorso/del substrato e lungo almeno parte del tratto di dalla camera di rivestimento 6

X mezzi 35 per scaricare gas sotto il nastro oomprendo?? no quattro camere in pressione 36 disposte a due a due ed e ? atendentisi sostanzialmente per l'intera larghezza della et?zione di rivestimento 4? Nella superiore di ciascuna - 55

?amera_in?pressiane-3-6_vi_?_una-fenditura-3-7-bordata-da^unaletta. deflettrice-38- in . modo? che? il-gaa - in iettato? attraver-? IQ 1 effendi tu re 37 s ia d i reti o ne 11 a.direz i o ne ._v.er s o._ va Ile . _i_luiigo._la_a?azione__di. .riyas.timento 4? _Le -fenditure 3-7- si e 4 J^t-endonO-per^l-'. intera lunghezza. di -Ogni, .camera- in?presBione ! 36 r* trasversalmente alla stazione di rivestimento 4? 3a si de li-? id era tal i fenditure potrebbero essere sostituite da un.a...plu-P ialita di apertu <?>re distanziate. Come si <? >vede in fig; 2, sopr Ia ! i <1 >i le camere in pressione 36 e disposta una piastra deflettrioe <1 >? | 39 in modo ohe il gas iniettato non venga soarloato diretta-r e contro il substrato 1. Le camere in pressione 36 posso!? proveniente

rfro essere alimentate con gas prerisoaldato/da entrambi i la-* j stazione

ti della.. . _di rivestimento 4f per esemplo da scambiato-? ? ! ri di calore. 31 pu? usare aria come gas_scarioatq.,._ejiuestaj.. pu? essere facilmente scaldata per scambio termico con i gas i ! c<a>l<di >del forno. Preferibilmente tale gas ? preriscalda? ! _ , to a unatemperatura ohe non. si scosta pi? di 5Q?G dalla tem-4 foratura del substrato quando questo entra nella camera di j I ! rivestimento 6.

Il gas scaricato sotto il substrato pu? essere rimos-f so dall 'ambiente del substrato 1 mediante/oonduttura di eoai - : fico opzionale 40 e questa pu? essere disposta oon il suo im? ?j <? >. <? . >. <? " 1 >hocco ohe si estende trasversalmente sotto il percorso del ; substrato, per esempio allineato ?11*??????? 17 dello scari4 oo sopra il percorsoi

- -Ticino -alUestremit? -a mor-te-della. camera -di- rives timen -to ,-proprio sopra il-livello dei-substrato , -??previsto- un con" do tto -ausiliario- 41- di_emissione_ di .gas _per-scarioare gas ..pjre-I

| riscaldato- nella -camera, adiacente-ai-substrato , - in modo che!

I

fluisca verso _v.alle ,_per-rinforzare_lo-s.trato_di copertura .

! che? entra- n ella -o amera-di-rive si iment o - al - d 1- l?- d e Ila -para-j ? iia-32- per-condizionare-ulteriormente 1 'atmosfera -a - contatto del-substrato-dove -questo -viene? inizialmente a oon-tat-ta. conili materiale -precursore -del- rivestimento ? -_ ESEL?PI0-.2 _ _ _ _ - _ _ _ _ _

i_llappareochiatuxa_di_.fig. .2 per formare un_riy.e s_timeni o_di__o.asido_d i s_tagno__dell o_s_te_sso apesaore di. quei- _ lo_dalU_e.se mpio 1_s.u_un_nas_tro_-_di vetro dello stesso spessora che B? spostava alla stessa velocit?. Il materiale preourusato

i sore del rivestimento^ era cloruro stannico sciolto in dime? i _ tilfornammide , e questo era scaricato da un ugello di spr?zrzo 7 Posto 75 cm sopra il nastro e inclinato di 30? rispetto all 'orizzontale. 3i soarioS vapore di cloruro stannico attr ala fenditura 28. SI a spirarono i vapori formati nella zona di spruzzo 9 lungo il passaggio 13, mediante aspirazioh ne frontale attraverso la sola conduttura di scarico 16, e una portata tale da dare un rives timento dello spessore d<! >jsiderato.

Il vetro entrava nella camera di riveet?mento 6 a una temperatura di 600?C, e dalla conduttura 33 si soario? nell;'

CL5.7-<" >

an t ioamera ..25-aria preriac ald ata a 600?C - a. un a po ri ata._d i _ _ J000_l?m_/li _per?fax<,>la_ iluire^nella oamera_di?r?5reB_timento _ co.?? _ na strato di. .copertura ohe copre i 1 vet ro. _ ..Il...materiale._a.t.mosferioo.. nella zona di spruzzo 9 si me* : 30oA6 intijaament??...e-. lungo- il...pass agg io_ 13 _ si_3? sp ir? _ Un _ fi us s( i sontinuo di atmosfera carica di vapore a contatto con la faglia del substrato su oui ai formava il rivestimento.

Si scaric? aria preriscaldata a ??0?G> con una portata li 3000 ?fa^/? i dai mezzi 35 di emissione sotto il percorso di il substrato ,

Anche questo diede eccellenti risultati in termini del- <? >La larghezza del rivestimento _ di qualit? unif orm?znenta al t a formato.

_ FIGURE 3 & 4 _

_ Nelle figure 3 e 4 _gli _el ementl ohe svolgono fUn zio ni analoghe a quelli rappresentati nelle figure 1 e 2 sono sta? tl indicati con gli stessi numeri di riferimento . _ _ _ Nella _forma - di realizzazione delle figure 3 e 4 la struttura a tetto 5 sul passaggio 13 ? orizzontale? e guindo-li passaggio ha altezza costante f 'altezza della fenditura li uscita 15 i su tutta la sua lunghezza.

t _ All 'estremit? a valle del passaggio 13 manca^ la conduttura di scarico 16 e tale e stremit? ? sostanzialmente chiusi la una parete di barriera 42 invece che dalla presa di Boarico curva. 18 *_ _

L <1 >anticamera 25 - ? s eparata dalla-oamera~di? rivestimento <1 >?-d a-un a? pa-re*e-s che-rmant e -43? ohe? s o end e-dai? suo? te tto? 2-1-*-paret e schermante 43 sopporta-a-sua-vo-lt a-una parai i-a-14-mo?ile^vert-iealmente? ohe? pu?-? s s era re al-i-zzata in una piu- <? >,-di? e ezioni nel aens o-de Ila? larghe zza-del-l a o araera d-i : ?-ive s-t-imen-t o-6-per-oone enti-re? l-apertura-d-i-ff e r en z i a t a d a lle Eand-itura-dri?ingre s so? 2-4.?Co ?e-si ve de in fig. -4}? gl-i? an go-l-i : Lnfe-rio-r i-d-e 1-la parati a 44 sono aspor tati, -come? indioato in ? j-5-r? per-oonsen-t ir-e-una -maggior? portata-di? gas? ai? lati^-d ella ,-?? sono? previsti otturatori? 46- -per? rei- ? golare-lt apertura in questi? angoli ?inferiori:

Sott 0 1 * ani i cam e ra 25 s on o dispo eie-.. soffiarti i_47? pe r solfar ia-preris c aidata ve reo l 'alto - al -di. l? .d ei..margin.i ai parcorso del substrato 1 , e un-<1 >ulteriore_soffiante 4? ? ?t?a_a_s o.f f iar a_..ari a _pr e r.is calda t a_Ti e llia-? t i carne ra_da-morte _pareie_s.che rmant.e_a _moj3 t.e_34-e_ il-suh atr at _^e 1 ULi era_eojao_pr.e_y.is ti _ris oaldator i_49-?? per-esempio?bruoiatori ^ come si vede..in...fig-._-4-jq.ue3ti_ris.caldatori..sono atti a fo .reL-_pi?_.o.a lo r.e? ai _lati?de.l lJ.ant.ic ama ra__che_a l_s.uo_c entro., IISEMPJ:0_3- _ ?

,?L?l?appar-eo.o;hiatura_d.ell.e_figure_3_e_4^4>er_:

rivestimento spesso 4C0. nm, .di. Jo.ss_ido_di_s_t.agno._ drogato... i ?OB fluoro _ su un nastro di .ve t r.o float spesso g min ohe si sp 10-stava a 8,5 m/min per e nirare?n e l_la_ j3S?er.a_jii__rive.&iiine nto a 1 Lna^eBperaiur.a_di_^0_Q.<o>_C .

59

Il precursore? del? rives-timan-to- usato era una soluzione -diL^laruro^di-stagnO? con-tenen-te- bifluoruro di. -ammonio- per. _ L fornire. -ioni droganti nel rivestimento . Si spruzz? questa j soluzione? dalU-Ugello-a-una portata d i 120 l/h a una . pre.s.sJ?Q?

I I

4ne-dj_23-Jjar-?-mentre-ilJ.ugello veniva spostato avanti . e indie-. Ltro_a-Una__fr.equanza di 23 oicli__al_. minuto ._ _ _ _ _ i _ i ; I l .! _ 3JL_s_c ari c ?_n ? l.llariMc amera _2 5. _ar_i fljrerisc al da t a a .6 QC^C I

dalle soffianti 47 e 48 e poi la si espir? nella camera di bistrato di <?>a sopra il ve-f tra. L'aspirazione sopra il livello del substrato aw eri ne ai una portata di 60.000 wr'/h a olroa 350?C per mantenere un ; flusso complessivo verso, valle di .material e nella oame ra d ? i rivestimento .

_ ? j Si accesero i riscaldat .ori radianti 10 sul tetto per . ;

i far evaporare il materiale precursore del rivestimento spr?zi ; _ | zato durante la sua traiettoria .verso il substrato . A oaus^ della turbolenza provocata dal movimento di va e vieni deir j l ?ugello di spruzzo e del getto s pruzzato di materiale orei ; j : ! cursore del rivestimento , il materiale evaporato si mescol? i intimamente con l 'aria nella zona di spruzzo 9 s questa ai-I mos fera oarloa di vapore fU attirata verso il basso nella | f . ' [ j I fenditura di uscita 1$ e lungo il passaggio 13 Il vapore di [ <" . . >i_ precursore del rivestimento si mescol? con lo strato di co per? ! tura di atmosfera a contatto con il vetro e si deposit? uni _ L rivestimento dello spessore richiesto ? Pertanto questo esem?

- ? ??

pio? fa anche -uso dell iLnven aione -descritta n ella -nostra dom?n?-la-di-breveito -b-ritann-ioo -depositata- il -20 dicembre 198-5 ? lomanda-n-. ? 8-5?1142.4 ? , -con? il riferimen to d eli -agente- - PH-18 3B0mTOUE_5-1.0-. _ .L acari g? aria prariee?H?ta a 550?C.a. una portata, di ^3000 3Sm^ /b.

- 35 j ?ai -mezzi -di - emissione/sotto -il -percorso-del-substrato.- - --| -<' >I - Lian-ticamera 2-5- comprerei e va bruciatori-^- -per- -preriscaidare? li suo_in-terno..?Tali-bruciatori- permettono ?

di_&caldara_l 'aria-secondo -qualsiaei_..profilo-di_-t.eiiiperatura-l J lesid.era.to_,.-pe.r esetapio -in^aisura-inaggiora sui-lati-delllan^-ticamera? _

TI risies timento?formato. _con-il? procedimen-t.o_-di-questo - e e uniformit? j i Lempio__era_d i_ qua 1 ita /est re mam ent e_alta\_s.o.st arz ialmen_te_s.u _ L t : tutta_-la__larghe_z za_dsl ..nastro.? _ ?

\ i ESEMPI 4 - 6 _ ! _ In. . _una v ar ian te di ciascuno da gli esempi prece d e.n ti , . s I .

rivestimento su ! usa 1 * apparecchiatura per formare un/ vetro che. e stato taglia: ' ?? in lastre e noi scaldato nuovamente , il procedimento

d o pe r il reato simile?

Si ottengono risultati simili in termini di qualit? del rivestimento .

R I V E N D I C A Z I O N I

1. ~ Procedimento di rivestimento pirolitico , in cui uri Substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro via?ri a ih? una direzione verso valle aotto?una.-Oamera_d i_ rivesti men~ to-che-si - apre? verso -il? basso?' verso- id^subst-rato ,? e- in _cuiai forma un -rivestimen-to-sulla-faccia-auperio-re-di? detto su<'>)-rtrato pariendo-da-mater-iale -precursore -de] ? rive si imen t a ?.. ca pati eri zzato? dal- -fatto -che -si-contro Ila 1 '.ambiente gassoso nelle immediata vioinarvze-della faccia. .super-ior.e--d.el.-su<'>beir4-a,? almeno? nella? zona-in? cud-comincia tale? formazione? cLel?r; vestimenio-j-lntroducendo-gas -.preriscaldato.. in una direzione , verao valle? in? latta -camera In molo _ che_.enir.i_nella camera coniat.to_.con ? il-substrato e. formi_uno__s_trato. _di_co.pertura ch.e_ capre? il.. .sub8.trat.o_almeno_2ungQ__tu_t_ta__4ue!la? zona.# _ _ 2. ? Procedimento secondo la riv. 1f in cui S? mantieni almeno ?In-par.tjaL un? flusso complessivo di gas verso valle lungo la camera di rivestimento aspirando materiale atmosferi c o da quella camera alla sua estremit? a valle.

3. - Procedimento secondo la riv. 1 o 2 , in cui la camera di rivestimento ? sostanzialmente chiusa alla sua

t? a valle per impedire interscambio di materiale atmosferi*? co tra l'estremit? a valle della oamera di rivestimento e una regione pi? a va Ile del peroorso del substrato .

4? Procedimento secondo la riv. 3 < in cui il substrajto di vetro ? un' nastro di vetro oaldo appena formato e si forma il rivestimento dopo che il nastro lascia un impianto li formazione del nastro e prima del_suo ingresso _in_ un_forj^ no di ricottura#

<?>f i 5. ? Procedimento secondo una quale iasi delle rivendi J - -626-3

, precedenti,? in cui-per_ almeno? un a?] part e? d e Ila? lung-h a z- -za-del-la? c anaer a- d -i rive s-t-ime ntio-s-i? imped-i s e e? il? flus s o d i ra a teria-le-atmosferico? al? di? l?-degli -orli? laterali -del- substr a?^ i? tra? zone-ve-rticalmen-te-sopra e ver-ticalmente -soito? ilsubstrato.

- 6?? ^-Procediraento-secondo-Una- qiB-lsiasi. delle rivendicazi&ni-p-r-ecedeM-ti-,? in_ cui~ B.l-s.pruzzaX~<">il^Hteriare^ jL^pr.e: cursore-del-rivestimento-verso_il_ basso e? nella. direzione valle. ?

7.?=-Pro.Qedimento_s.econdo_una? qual siasi -ielle rivendica zioni-pre ce den-t-L*? ip_cu i si. s.pruzza materiale ' jj pre <? >o? r ? ore d el rive stimentO? verso. il__b_aaso _in detta camera di rise si imeni o_e _aitr avere o detto strato d i . copertura.

.-S^-T^Procedimento seoondo_la riv., 7 , -in oui si risoald una_zona? d.i_ spruzzo. _di detta paniera di rivestimento per fai evapo.rare_p.arte . delf<"^ >?? materiale d^pre cura ore del rivestirne to prima ohe raggiar ga il substrato per caricare l'atmosfei ? in tale zona di soluzione vaporizzata di precursore del ri- -ves t amento? si spruzza la soluzione con su ^fidente energia da garantire un impatto sicuro dentro il substrato del mat< riale precursore del rivestimento spruzzato residuo per in i? ziarejil rivestimento di detta faccia del substrato?, e eii da fluire ve reo valle da detta zona di spruzzo atmosfera carica di mate riale precursore del rivestimento in fase v?pore lurigo la faccia rivestita del substrato e a contatto con essa <?>^T6? <*>?

jre^r-un-jtempo-di-coniaito?di-almeno?IO-secondi-,-dopo-di-die?_ I_

! ii-i-ailon-tana-dal-subs-t-rato?il-maiariale. residuo-di-detta corrente carica di precursore*- - --9..-.Eroceiimento-secondo una qualsiasi delle rivendi-?? ?azioni-da .?-a~6-,? per? formare? un rivestimento-di -ossido me? i ! _ ? ;al 1 ioxi-^-in? ou i ai. inviano in modo? c ont inu o. materiale pr e cui*-.. ^ore -del-r-ivesjtimen to. e .gas ossidante- in _una_zona_ di .miscelai? _zione_-dove__s:L e detto ;as ossidante fuori dal contatto oon il substrato e dove li ai sottopongono a forze di miscelazione in modo da creare uri--! ; atmosfera comprendente una miscela intima di vapore di_pre^j cursore e gas ossidante, e si fa fluire una corrente di tale j ? i jaisc.ela in modo continuo da detta _zpna di miscelazione in uri .

! i passaggio a cui ? esposta detta faccia del substrato e lungo i

i

tale passaggio._

10* ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi?; fazioni precederti, in cui si e preriscaldato il gas ohe fo:

detto strato di copertura in misura superiore a quanto p?irebbe esserlo dal solo trasferimento di calore dal substrato* _ |_ 11. ? Procedimento Becondo una qualsiasi delle rivendi?-;

i

Reazioni precedenti, in cui il gas ?he forma parti marginali ilaterall di detto strato di copertura ? stato preriscaldato^ i

jin misura maggiore che al centro .

: 12_. - Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi?? 'cazioni precedenti, in cui almeno sui margini, laterali del BubsJt.r.ato_si.jBcalda_.il_gas._.in_d.etta strato,di-copertura- -a-uA?-

na_t.emperatura .maggio re_&i_..queIla. di part?,marginali- sotto?

starti del substrato. _ _ _ _ _

_ 13? ~ Procedimento seoorn?o una quala.iasi_delle^riveriii-4-.

3?.zioni_precedenti in._oui_il..gap .per...formare.,detto,strato

oo perdura entra .all.'.estr.emit? a_.monte-d.ella?camera -di .ri?^

vestimento. _da unlant lc.ame.ra adiaoente...

. ~ Procedimento secondo la riv. 13, in .cui sue ffet?

faa il prerisoa ldamento _de1_.g.as .almeno in parta ir detta ani

ioamera i da. sopra il.livello del substrato .

15. ~ Procedimento secondo la riv. 14y in oui si affai? _

;ua_ il;preri scaldanien tq del gas in detta '.anticamera med?aate[

! <' >?ruoiatori. _ _ _ _ _ _ ;

i ! __ 16. ? Procedimento secondo una qualsiasi delle rivendi-? <? . . >. <. ' ~ . "" " >ttazioni da 13 a 15^ in cui si soffia gas preriscaldato verao |j

l'alto ai lati di detta anticamera da un livello inferiore a

quello del substrato.

17? ~ Procedimento secondo una qualsiasi delle riverdir-

azioni da 13 a 16, in oui si soffia gas preriscaldato in deft-

anticamera nella direzione verso valle da un livello supe;

riore a quello del substrato.

'?secondo?una?qual-siasi-delle rivend-i-

cazioni da?13 a 17> in cui?Ba soffia gas-prerisoaldatQ ? in?dret ta-aniioamera? verso -il-basso-e-si? impedisce- a-tale-gas-di-flU i iro -verso ll-basso al-di- l? dei bordi?laterali dei-sub strato* ?<Q>r ? Procedimenio secondo?una_qnalsiasi_.de11e_r.ivendi_?icazioni precedenti., in..cuisi co_n-tro.lla._in_modo_d.if?er_enziarr -ta_neL_-Senso_della_.largh.ezza_del_sub.s_tra_t.o__la_por-tata_di._g< ohe_forma ?e.tto_s.trato._di__co.per.t.ura?..

_ 20... r-^Procedimento.secondo, una qualsiaei._deIle.jriven.dicazioni precedenti, in oui per fcna parte sostanziale dell* al.te.zza_della_.oa.ae_ra. si..mantiene . materiale atmosferico, i un flusso complessivo verso valle in parte proiettand? un getto di gas nella camera verso valle.

_ 2.1 . ? Procedimento secondo una qualsiasi ielle riverii icazioni precedenti, in cui si introduce nella camera di rivestimento almeno una corrente ausiliaria di gas preriscaldato in modo ohe scorra verso valle in detto strato di co? pertura o aiiaoente ai esso, e attraverso la zona in cui inizia detta formazione del rivestimento.

22. ? Apparecchiatura per formare per ^pirolisi un rive stimento di composto metallico su.uha faccia superiore di un substrato di vetro caldo sotto forma di lastra o nastro ccm? prendente organi trasportatori per trasportare detto

to lungo un percorso in una direzione verso valle, una strittura a tetto che delimita una camera di rivestimento che apre verso il basso su detto percorso, e mezzi per scaricare materiale precursore del rivestimento in detta camera, caratterizzata dal fatto che a monte di detta oamera di rive-;? stimento vi e un'anticamera che comunica con la camera di j - 66'

riv_estimento_trami_t_e_una fend.itura_di? ingresso. ohe_?_delimi-lta-ta-in -parte -dal percorso del substrato e attraverso? oui- S fa?fluire_gas .nella-camera-di_-riveBtimen-to_in_modo.-da--forma?-.re?(.quando?lJ.apparecchdatura ? in._fi mziorie-)-,ano s-t?a.to_di~c< > pertnra.che?..copre_la facaia?superbor.e_d.e1 substrato-lungo.u-?. -jprlma parte? de lla-lungheeaa-d i_d. e tta camera?? e_dal f ai to nhe^-s ouO-preVisU me zzi_p.er_prer.is_c.al.dare^Lru-niodo_o.on.tro.lla? bile-il-gaS-che-forraa dettO?Sjtrat.O?di-aopertura. _

_ 23.? .Apparse eh i a tu ra_.s_e conio _ la . r_iv 22.,_in_.cui -?. pre?<1>? v is t a una conduttura di scarico con uno pi? imboc eh L a 11 'e? stremlt? a valle di detta camera di rivestimento. .

24. ~ Apparecchiatura secondo_la_riy. 22_p_23

il percorso del suhstrato ? prevista Una parete di ha dell 'estremit? a valle ohe si estende per l'intera larghe zza/della camera di rivestimento e chiude sostanzialmente tale estremit?.

25? ~ Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivenlioazionl da 22 a 24? in oui detta stazione di rivestimento e situata tra l'uscita da un impianto di formazione del naatro e 1<1>lngresso in un forno di ricottura.

26. ? Apparecchiatura secondo una qualeiasi delle_riven iloazioni da 22 a 25, in cui per almeno una parte della lun _ghezza della camera sono_previsti mezzi per impedire il flu?1/ 30 di materiale atmosferico al di l? del lati del percorso del substrato e tra zone verticalmente sopra e verticalmente sotto tale percorso?_

C- 67<'>^;

?7? ?-iPPareooh.iatura-Secondo_una_qualsiasi_delle riveiji-

-????1???-3??-22-?-26-,-1?? oui-i- mezzi- ohe-soarioano il- mate- j _ i riale-preoursore_del_ri-veB?imento_sonO-at.ti a. spruzzaraQ^ ^e-

ip<j>UaL^ i<:>cp?^ ^precursore dal rivestimento verso il basBo e ! i . aella-jlir.ez ?on e ..verso? Italia* - - - -28. ? Apparecchiatura secondo -la riv?__27? in c.uindetti!

' I nez zi-di. Jtpruz zo sono dis_po_aii_in_moio_da_ftpruzzarsLJ?et ta s_? -luzione di precursore del rivestimento in una zona di spruzf ?| zo di detta camera di rivestimento da un*altezza di almeno 75 cm sopra il peroorao dal substrato; sono previa ti mezzi L | idi rlacaldamento per fornire oalora a detta zona di sprazzo? ! I [detta struttura a tatto delimita una parte di passaggio del? I

a paniera di rivestimento che porta a valle di detta zona di I

spruzzo e conferisce alla camera di rivestimento una lunghe?j za totale di almeno 2 metri? e sono previsti mezzi per gene?-j I rare far ze di aspirazione sul materiale atmosferico in .dett? ! ! fassaggio per incoraggiare tale materiale a fluire lungo il;

i percorso j?el_substrato fino allEstremit? a valle di detto i passaggio e a entrare in una conduttura di scarico per allon-| : rtanare tale materiale dal peroorao del substrato. j

29. ? Apparecchiatura secondo una qualeiasi delle river?jdioazloni da 22 a 27? in cui detta camera di rivestimento <; >^comprende, un passaggio lungo oui si possono condurre verso j

_valle vapore di precursore del riveatimento e un gas oasidan-

;te a contatto con detta faoola superiore del substrato durali? te detto -trasporto -del_substrato-,?e--in?oui-vi-flono mezzi eh ? delimitano -una -zona- di miscelazione -in cui -si-possono riuni<1>^-?,?fUori-dal-coatatto? con?il-subs?ratof? il -material s_.pre cu 3ore -del -rivestimento..e.. il._gas ossidante, .e miscelarli.. per formare ...un Vatmo.s fera_.oomprendenie._una. miscela ...intima, di vap? de 1 pr.e cura o re e gas-oe s id an-t e , .d e tt a_zona-di miscelaz io? . i.e-bomunioando_oon detto? passaggio? per-consent ire a -Una ..corm ?????? di? tale- miscela-in-tima-di-fluire lungo __il._paeeagg io _da lei t a_zona_j?i _mi s o e 1 a zi one_. _ _ _

_ 3CL._? Appare echi atura js.e c on.d.o__ una qualsiasi? d_e 11 e riveii da 22 a 29, in cui detta struttura a_tetto_ presen-^ fca una marcata diminuzione di altezza sopra il percors o d el sub strato nella direzione verso valle in modo da strozzare il flusso verso valle di materiale atmosferico dalla zona lik sui si scarica il materiale precursore del rivestimento nel^-la oamera di rivestimento?

3.1. ? Apparecchiatura secondo una qualsias _ i delle lioazloni da 22. a 30? in oui detti mezzi di greriscaldamentp gas sono controllabili in modo da scaldare in misura di versa il gas che forma parti diverse di detto strato di co? pertura nel senso della larghezza del percorso del substrati , 32. ? Apparecchiatura secondo la riv. 3 1? in cui detti! nezzi di .preriscaldamento del gas sono controllabili in modo ?a soaldare il gas che forma parti marginali laterali di dejbto strato di copertura in misura maggiore del gas che forma i - 69

parti?oen-tral-i-d-i?detto?strato.

"?Appareooh-ia-tura-secondo -una-qualaiasi?del1s?rivendioazioni--da-22-a-32,-in-cui-fla?pareie_dl separazione se? pra?la?fenditura-di-dngresa0-comprende una paratia par-regelape-rtura-della-fenditura di-ingresso.

Apparecchiatura secondo la riv. 33>-ln?cui tale. paratia -?~costruita -in..sezioni mobili indipendentemente regolare-!laper.tura dalla fenditura !i...ingrasso^.in-mod?_difi ferenziato.nel senso della.larghezza dal pereorso da1 sub strato^

35-?? ? dppareechiatura-B.e.c.ondo....una_qu,aleiasi?de_llg.__ri-_ 3aniioazioni-da^22__a_3A?_in_-CU?. BQnO previsti mezzi_P_er_riscaldare l'atmosfara in detta anticamera da un livello supdpio-ra a quello.__de1__p_eT_GO_rap_d_el_substrato._ J_

36.-Apparsochiatura --secondo . la riv. 35? in coi tali _mezzl__di riscaldamento nell'anticamera comprendono brucia?* tori?

37. ? Apparecchiatura secondo Una qualsiasi delle riv<in? dicazior da 22.a 36, in cui sono previsti mezzi per soffi?re gas preriscaldato verso l'alto ai lati di detta antlcanu1? ra da un livello inferiore a quello del percorso del substrato.

38. ? Apparecchiatura secondo una qualsiasi delle rivon~ dioazioni da 22 a 37? in cui sono previsti mezzi per soffiftre gas preriscaldato. in de.t?.a__aniicam_era_J7arsc_Jcalle_da_un

Claims (1)

1 ive-llo? su-pe-rio r e-a- tue-ll o-d-e-l? s u-bs-t r a t o .

- 39? - Apparecchiatura? secondo una ^ua-lsiasi-delie? rive dioa zion?-da? 22 a?3Q-j-in cui- sono ~pr evie t-i?mez zi?per~eoff ia re?gas?prer i sc addato-vere o il?bas so- in detta? arti Gamera?e?p ?? <?>impedire?a?taie?ga?-d-i?fluire- verso i-l -bas so?al?d-i?l?-dei b ord??1-a-tera 1i-d-e-l?pe-roorso deV-sub st rato-# --40. - Appare ceh iatu-ra?seoor d o-ura-qu a1siasi? del 1e?rive r~ die a zion-i? da 22 a-39-,? in- cui de-t-t a-anti o ame-r a? pr e s e n-t a-un tetto -inclinat o? ve rs o? il? bas s o vers o? la- parte? superio-re-d-i ie-t-ta?f end itu r a-di?in grasso-,

-41? ~ Apparecchiatura-- secondo una- ?ualsiasi -delle riven?. dicaz ion i- -da 22- a-40-? - in- oui- sono? pr e visi i_me z zi-pe r. - pr? ie t -tare un-getto di gae-nella camera? -nella .direzione .verso. vafL le- -per?raantenere-un- flusso-complessivo verso valle.. di mater iale_atmosferico per... una-parie? sostar ziale-delldaltezza.. della camera.. - - --42-o_^_Appare cchiaiura.. .se cordo.....una?qualsi a si de1le__r ivo?a-, _ in.. cui_s.ono.-.previsti__me.zzi._.p.er_. s.c.a rio are_almeno_una. co rr_ente_ausil iar_ia_.d i gas__pr_er i.soald.at_o_.n.ell a eame.ra__?i_ rivestimento.. in.jno_do__.ch.e s_oo rra .verso, .valle, ._in .de t to strato di copertura o adiacente ad esso } e attraverso la zona, _in..cui .comincia. la formazione, .del ..rivestimento .

PFR TJMDlJ-?IONF C0NFOR??'

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