ITRM20130146A1 - Elettrodeposizione su schiume metalliche - Google Patents

Elettrodeposizione su schiume metalliche

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ITRM20130146A1
ITRM20130146A1 IT000146A ITRM20130146A ITRM20130146A1 IT RM20130146 A1 ITRM20130146 A1 IT RM20130146A1 IT 000146 A IT000146 A IT 000146A IT RM20130146 A ITRM20130146 A IT RM20130146A IT RM20130146 A1 ITRM20130146 A1 IT RM20130146A1
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IT
Italy
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metal
graphene
alloy
electrodeposition
foam
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IT000146A
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Francesco Bertocchi
Stefano Guarino
Vincenzo Tagliaferri
Nadia Ucciardello
Original Assignee
Stefano Guarino
Jaber Innovation S R L
Vincenzo Tagliaferri
Nadia Ucciardello
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Description

"ELETTRODEPOSIZIONE SU SCHIUME METALLICHE"
DESCRIZIONE
La presente invenzione si riferisce ad un metodo per la preparazione di schiume metalliche con rivestimento in matrice metallica e grafene mediante un processo di elettrodeposizione e alle schiume metalliche ad elevate prestazioni ottenibili con tale metodo.
STATO DELLA TECNICA ANTERIORE
Le schiume metalliche sono materiali noti descritti ad esempio nella domanda di brevetto US2012/0175534. Le schiume metalliche sono materiali porosi con strutture a celle aperte con una superficie esterna che può consistere essenzialmente in uno più o rivestimenti metallici depositati ad esempio mediante elettrodeposizione.
Schiume metalliche di questo tipo hanno molti campi di applicazione, possono essere utilizzate per la produzione di elettrodi per accumulatori elettrici o batterie nonché per elettrodi per celle a combustibile.
Inoltre, materiali di questo tipo possono essere impiegati come materiali di supporto per catalizzatori che sono utilizzati in impianti per processi chimici e anche in dispositivi catalitici di veicoli a motore. Inoltre le schiume metallica possono essere utilizzate per l'isolamento acustico.
E’ stato ora sorprendentemente scoperto che alcune proprietà delle schiume metalliche note nello stato della tecnica possono essere notevolmente migliorate modificando il loro rivestimento metallico.
Scopo della presente invenzione è quello di fornire nuove schiume metalliche rivestite e metodi per la loro preparazione, con proprietà fisiche e/o chimiche migliorate rispetto alle schiume metalliche ottenute con i metodi della tecnica nota.
SOMMARIO DELL'INVENZIONE
La soluzione proposta nella seguente invenzione è un metodo per la preparazione di schiume metalliche con un rivestimento in metallo (o sue leghe) e grafene in grado di conferire alle schiume metalliche proprietà meccaniche (ad esempio resistenza a compressione, capacità di assorbimento di energia, flessibilità e/o resistenza alla trazione) migliori delle schiume metalliche prive di questo tipo di rivestimento. La presente invenzione si basa sull’osservazione che variando la quantità di grafene usata nel metodo di preparazione, eventualmente in combinazione con altri parametri del metodo come la porosità delle schiume metalliche, lo spessore e/o il metallo di rivestimento, è possibile modulare le proprietà meccaniche delle schiume metalliche a celle aperte migliorandole notevolmente. Sono state infatti ottenute schiume metalliche rivestite con una conducibilità termica migliorata fino al 150% e una tensione di snervamento migliorata fino al 50% rispetto alle schiume metalliche non rivestite.
Pertanto, un primo oggetto della presente invenzione è un metodo per la preparazione di schiume metalliche a celle aperte con un rivestimento in metallo o una sua lega e grafene comprendente i seguenti passaggi:
a) elettrodeposizione di un primo strato di metallo o di una sua lega e grafene su detta schiuma metallica;
b) elettrodeposizione di un secondo strato di metallo o di una sua lega su detta schiuma metallica.
Un secondo oggetto dell’invenzione è un metodo per la preparazione di schiume metalliche a celle aperte con un rivestimento in metallo o una sua lega e grafene comprendente i seguenti passaggi:
a’) elettrodeposizione di un primo strato di metallo o di una sua lega su detta schiuma metallica;
b’) elettrodeposizione di un secondo strato di metallo o di una sua lega e grafene su detta schiuma metallica;
c’) elettrodeposizione di un terzo strato di metallo o di una sua lega su detta schiuma metallica.
Un terzo oggetto dell’invenzione è una schiuma metallica a celle aperte rivestita in cui detto rivestimento comprende un primo strato di metallo o una sua lega e grafene, un secondo strato di metallo o una sua lega.
Un quarto oggetto dell’invenzione è una schiuma metallica a celle aperte rivestita in cui detto rivestimento comprende un primo strato di metallo o di una sua lega, un secondo strato di metallo o una sua lega e grafene, un terzo strato di metallo o una sua lega.
BREVE DESCRIZIONE DELLE FIGURE
Figura 1. In Fig.1 è riportato uno schema della cella utilizzata in una forma di realizzazione del metodo della presente invenzione. Si può osservare che il catodo è costituito dalla schiuma di alluminio a celle aperte, circondato dall’anodo in materiale metallico.
Figura 2. In Fig. 2 sono riportati immagini di analisi microscopiche che evidenziano lo strato di grafene e di metalli depositati su un particolare di schiuma metallica.
Figura 3. In Fig.3 sono riportate delle immagini ingrandite al microscopio delle singole fasi di deposizione su schiume metalliche.
Figura 4. In Fig. 4 è riportato uno schema del sistema di misura della conducibilità termica di un campione di schiuma a celle aperte con rivestimento in metallo e grafene
DESCRIZIONE DETTAGLIATA DELL'INVENZIONE
Come precedentemente indicato, la presente invenzione riguarda un metodo per la preparazione di schiume metalliche a celle aperte con un rivestimento in metallo (o una sua lega) e grafene comprendente i seguenti passaggi di elettrodeposizione: a) elettrodeposizione di un primo strato di metallo o di una sua lega e grafene su detta schiuma metallica;
b) elettrodeposizione di un secondo strato di metallo o una sua lega su detta schiuma metallica.
Nel metodo della presente invenzione potranno essere usate preferibilmente schiume metalliche scelte tra schiume metalliche di alluminio, rame, nichel, ferro, titanio, magnesio, piombo e le leghe basate sui predetti metalli, mentre la dimensione dei pori della struttura a celle aperte sarà generalmente nell’intervallo che va dai micrometri ai centimetri o se espressa come dimensione di pori per pollice compresa tra 3 e 30 ppi. La densità di corrente del passaggio di elettrodeposizione a) potrà variare ad esempio da 0,02 a 0,2 mA/cm<2>, mentre la densità di corrente passaggio di elettrodeposizione b) potrà variare ad esempio in un intervallo di 0,2-40 mA/cm<2>.
Il metodo della presente invenzione potrà comprendere un altro passaggio di elettrodeposizione di metallo o di una sua lega precedente al passaggio a). L’elettrodeposizione di uno strato metallico sulla schiuma metallica prima dei passaggi a) e b) migliora ulteriormente la conducibilità termica e resistenza meccanica della schiuma rivestita e potrà essere condotto ad esempio ad una densità di corrente compresa tra 0,2-40 mA/cm<2>
La temperatura del metodo è compresa generalmente in un intervallo tra 20-100°C. La durata complessiva del metodo sarà chiaramente in funzione del valore della densità di corrente e può variare ad esempio da 5 minuti a 3 ore. La selezione dei parametri dei diversi passaggi del metodo quali densità di corrente, temperatura e durata dell‘elettrodeposizione influiscono sulle proprietà del rivestimento, come spessore, durezza, duttilità e omogeneità.
I metalli utilizzati nei passaggi di elettrodeposizione sono ad esempio nichel, zinco, stagno, cromo, ferro, rame, titanio, argento, oro, platino e altri elementi del gruppo del platino, come Ru, Os, Rh, Pd e Jr e loro leghe come ad esempio ottone, bronzo, monel, leghe di ferro-cromo, e loro combinazioni. Per determinate applicazioni, scambiatori di calore, radiatori, celle a combustibile, sono particolarmente preferite rame, leghe di rame, nichel e leghe di nichel. Preferibilmente, ma non necessariamente potrà essere usato lo stesso metallo nei diversi passaggi di elettrodeposizione del metodo.
I bagni elettrolitici dei diversi passaggi di elettrodeposizione possono contenere gli stessi reagenti usati nella elettrodeposizione convenzionale di metalli, leghe metalliche o materiali compositi a matrice metallica ad esempio potranno essere CuSO4 e CuCl. Il bagno elettrolitico del secondo passaggio b) di elettrodeposizione, sarà preferibilmente basico e conterrà grafene preferibilmente in una concentrazione in peso compresa tra 1 e 5%. Il grafene sarà preferibilmente scelto tra ossido di grafene (GO), nanopiastrine di grafene (GNP), e GO o GNP funzionalizzati con particelle metalliche.
L’ossido di grafene è un materiale stratificato prodotto dall’ossidazione della grafite mediante forti trattamenti acidi ed ossidativi. L’unità di base del GO è il piano di grafene ossidato, che reca gruppi ossidrilici ed epossidici sul piano, oltre a gruppi carbonilici e carbossilici ai bordi.
La presenza di questi gruppi funzionali rende il GO fortemente idrofilo e, a differenza della grafite, un cattivo conduttore elettrico (ibridazione sp2 a sp3). Con una riduzione chimica o termica è possibile ripristinare, quasi totalmente, l’ibridazione originaria della grafite rendendo il GO (GOr) un buon conduttore elettrico e termico.
Le nanopiastrine di grafene (GNP o Graphene NanoPlatelets) si presentano sotto forma di una polvere grigio-nera parzialmente volatile. Lo spessore medio stimato delle particelle preferibile per l’applicazione varia da pochi nanometri (Grafene few layer) sino a circa 30 nanometri.
Le dimensioni superficiali di tali nanopiastrine vanno dai 5 ai 200 microns, preferibilmente da 20 a 30 micron. Il contenuto di carbonio calcolato è maggiore del 98%, mentre la densità di bulk varia da un minimo di 0,010 g/cm3 sino a 0,050 g/cm3. I bagni elettrolitici durante i vari passaggi di elelttrodeposizione potranno essere vantaggiosamente posti in agitazione magnetica per favorire l’uniformità del rivestimento finale ottenuto.
Secondo una forma di realizzazione nei passaggi di elettrodeposizione la schiuma metallica funge da catodo. Il catodo sarà circondato da tutti i lati da un anodo sacrificale. L'anodo forma una gabbia cubica intorno alla schiuma (si veda ad esempio FIG. 1). La distanza dell’ anodo dalla superficie esterna della schiuma da rivestire potrà essere ad esempio di circa 2 cm.
Secondo una forma di realizzazione prima di effettuare i passaggi di elettrodeposizione il metodo potrà comprendere un passaggio in cui la schiuma metallica è sottoposta ad un procedimento di sabbiatura (ad esempio con sferette di vetro), la superficie delle schiume sarà così vantaggiosamente attivata.
Secondo una forma di realizzazione del metodo il bagno elettrolitico del passaggio a) comprende CuSO4 e nanopiastrine di grafene, il bagno elettrolitico del passaggio b) comprende H2SO4, CuSO4 e CuCl e il bagno elettrolitico del passaggio precedente al passaggio a) comprende H2SO4, CuSO4 e CuCl.
Ulteriore oggetto della presente invenzione sono schiume metalliche a celle aperte rivestite in cui detto rivestimento comprende un primo strato di metallo (o una sua lega) e grafene, un secondo strato di metallo o una sua lega. In una forma di realizzazione il rivestimento comprenderà anche un altro strato di metallo (o una sua lega) posto tra la schiuma metallica e lo strato di metallo e grafene, .
I metalli utilizzati nel rivestimento di dette schiume metalliche sono ad esempio nichel, zinco, stagno, cromo, ferro, rame, titanio, argento, oro, platino e altri elementi del gruppo del platino, come Ru, Os, Rh, Pd e Jr e loro leghe come ad esempio ottone, bronzo, monel, leghe di ferro-cromo, e loro combinazioni. Le schiume metalliche saranno preferibilmente scelte tra schiume metalliche di alluminio, rame, nichel, ferro, titanio, magnesio, piombo e le leghe basate sui predetti metalli.
Secondo una forma di realizzazione lo spessore del rivestimento è sostanzialmente uniforme, il che significa che la deviazione dalla spessore medio non è maggiore di circa il 20%. Generalmente lo spessore sarà compreso in un intervallo da 1-1000 micron, preferibilmente da 20 a 500 µm. Lo spessore dello strato di metallo e grafite sarà preferibilmente al massimo di 100 micron.
Secondo una forma di realizzazione le schiume metalliche a celle aperte rivestite come sopra descritte saranno ottenute con il metodo di elettrodeposizione della presente descrizione.
Ulteriore oggetto della presente invenzione sono manufatti comprendenti le schiume metalliche della presente descrizione in forma di griglie per batterie, componenti per scambiatori di calore per impianti chimici e industriali, scambiatori di calore per elettrodomestici, per trasformatori di corrente di alta potenza, per scambiatori di calore per i settori automotive, aeronautico e aerospaziale, celle a combustibile, sistemi elettronici di potenza, sistemi per la produzione dell'energia con piccoli salti termici, scambiatori di calore per camini in ambienti aggressivi, componentistica integrata con proprietà di scambio termico e strutturale dei settori industriali, del trasporto e aerospaziale.
Sono di sotto riportati esempi che hanno lo scopo di illustrare meglio la presente invenzione e alcune forme di realizzazione specifiche, tali esempi non sono in alcun modo da considerare come una limitazione della precedente descrizione e delle successive rivendicazioni.
ESEMPI
Metodi per la valutazione delle proprietà delle schiume metalliche con e senza rivestimento
Per poter valutare il comportamento meccanico delle schiume con e senza rivestimento, in termini di tensione di snervamento e di energia di deformazione, sono stati eseguiti dei test di compressione, utilizzando una cella di carico da 10 KN. La velocità di compressione è stata fissata a 10 mm/min, al fine di evidenziare al meglio l’ampia zona di plateau che è relazionabile alla capacità di assorbimento di energia da parte delle schiume.
Per l’esecuzione delle prove termiche, è stato invece messo a punto un piccolo apparato sperimentale del quale si riporta lo schema in Fig 4.
Sono state utilizzate due celle di Peltier, appoggiate sulle basi della schiume, poste tra due piastre alettate. Ciascuna cella, collegata elettricamente ad un alimentatore, permette di impostare un flusso termico unidirezionale dal basso verso l’alto che interessa la schiuma e crea un gradiente termico all’interno di essa. La schiuma è stata isolata per contenere la dispersione del calore in direzione laterale. Per misurare la temperatura alle basi della schiuma sono state utilizzate due termocoppie di “tipo J” Ferro-Costantana. Il flusso termico scambiato risulta essere:
Dove V e i rappresentano tensione e corrente imposte dagli alimentatori alle celle di Peltier. La conoscenza di questo valore e dell’altezza del provino h ha permesso il calcolo del prodotto tra la conducibilità della schiuma e la superficie a contatto con la cella:
Preparazione dell’ossido di grafene
L’ossido di grafene (GO) è stato sintetizzato a partire da un sottoprodotto della Grafite flakes trattato per via chimica con acido solforico, acido nitrico e permanganato di potassio (metodo Hummers). Il prodotto ottenuto è fortemente idrofilo e quindi facilmente disperdibile in acqua. In soluzione presenta il tipico colore giallo/marrone indice del buon grado di ossidazione del grafene (rapporto C/O 2:1). Le analisi confermano la presenza dei gruppi funzionali sui piani e lungo i bordi del grafene. La dimensione superficiale media va da 1 a 6 micron. Sono state provate soluzioni di GO in acqua a concentrazioni diverse. Il materiale è stato successivamente ridotto mediante annealing termico.
Preparazione di nanopiastrine di grafene
Le nanopiastrine di grafene (GNP) sono state preparate a partire da grafite intercalata con acido solforico (Grafite Espandibile). Fornendo energia alla grafite espandibile, sottoforma di calore o di microonde, essa si espande formando dei granuli dalla morfologia worm-like con densità apparente molto bassa (~ 0,005 g/cm<3>). Questo materiale viene bagnato con un solvente e trattato con ultrasuoni per raggiungere la completa esfoliazione dei pacchetti di grafene. Successivamente il materiale viene asciugato ed essiccato in forno sottovuoto. Le dimensioni dei pacchetti di grafene variano in base ai parametri utilizzati in fase di espansione e sonificazione. Gli spessori possono variare da pochi nanometri (few layers) a più di 30 nm. Le dimensioni superficiali variano invece da 5 µm a ~ 200 µm. Il materiale si presenta sottoforma di polvere, in parte volatile, dalla densità apparente che può variare da 0,05 a 0,01 g/cm<3>.
Esempio 1
Come materiale di partenza è stata utilizzata una schiuma di alluminio con una porosità di 10 ppi. L’elettrodeposizione è stata suddivisa in tre fasi. Il bagno della prima e terza fase è costituita da: 60g/l di H2SO4, 190 g/l di CuSO4 e 100 ppm di CuCl. Il bagno della seconda fase è costituito da: 250 g/l di CuSO4e 1 g/l di GNP.
L’anodo è costituito da un cubo cavo di rame per tutte le fasi.
I parametri dell’elettrodeposizione per la prima e terza fase sono:
Corrente = 2,3 A; tempo = 50 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
I parametri della seconda fase sono:
Corrente = 0,02 A; tempo = 30 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
La temperatura è stata mantenuta costante a 25°C.
E’ stata prodotta una schiuma con rivestimento di rame e nanopiastrine (nanoplatelet) di grafene, uniformemente distribuito. La schiuma rivestita così ottenuta ha mostrato, rispetto a quella di alluminio di partenza, un miglioramento della conducibilità termica del 100% ed un miglioramento della tensione di snervamento del 50%.
Esempio 2
La schiuma di alluminio ha una porosità di 10 ppi. L’elettrodeposizione è stata suddivisa in tre fasi.
Il bagno della prima e terza fase è costituita da: 60g/l di H2SO4, 190 g/l di CuSO4 e 100 ppm di CuCl.
Il bagno della seconda fase è costituito da: 250 g/l di CuSO4 e 2g/l di GNP.
L’anodo è costituito da un cubo cavo di rame per tutte le fasi.
I parametri dell’elettrodeposizione per la prima e terza fase sono: Corrente = 2,3 A ; tempo = 50 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
I parametri della seconda fase sono: Corrente = 0,02 A; tempo = 60 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
La temperatura è stata mantenuta costante a 25°C.
E’ stata prodotta una schiuma con rivestimento di rame e nanopiastrine (nanoplatelet) di grafene, uniformemente distribuito. La schiuma rivestita così ottenuta ha mostrato, rispetto a quella di alluminio di partenza, un miglioramento della conducibilità termica del 130% ed un miglioramento della tensione di snervamento del 60%.
Esempio 3
La schiuma di alluminio ha una porosità di 10 ppi. L’elettrodeposizione è stata suddivisa in tre fasi.
Il bagno della prima e terza fase è costituita da: 225 g/l di NiSO4, 30 g/l di NiCl2 e 30 g/l di H3BO3
Il bagno della seconda fase è costituito da: 250 g/l di CuSO4 e 2g/l di GNP.
L’anodo è costituito da un cubo cavo di nichel per la prima e la terza fase e da un cubo cavo di rame per la seconda fase.
I parametri dell’elettrodeposizione per la prima e terza fase sono: Corrente = 1,5 A ; tempo = 60 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
I parametri della seconda fase sono: Corrente = 0,02 A; tempo = 60 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
E’ stata prodotta una schiuma con rivestimento costituito da nichel, rame nanoplatelet di grafene, uniformemente distribuito. La schiuma rivestita così ottenuta ha mostrato, rispetto a quella di alluminio di partenza, un miglioramento della conducibilità termica del 70 % ed un miglioramento della tensione di snervamento del 50%.
Esempio 4
Come materiale di partenza è stata utilizzata una schiuma di rame con una porosità di 10 ppi. L’elettrodeposizione è stata suddivisa in due fasi. Il bagno della prima fase è costituito da: 250 g/l di CuSO4e 1 g/l di GNP. Il bagno della seconda fase è costituito da: 60g/l di H2SO4, 190 g/l di CuSO4 e 100 ppm di CuCl.
L’anodo è costituito da un cubo cavo di rame per tutte le fasi.
I parametri della prima fase sono:
Corrente = 0,01 A; tempo = 60 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
I parametri dell’elettrodeposizione per la seconda fase sono:
Corrente = 2,3 A; tempo = 90 minuti e agitazione = 3,5 rpm.
La temperatura è stata mantenuta costante a 25°C.
E’ stata prodotta una schiuma con rivestimento di rame e nanopiastrine (nanoplatelet) di grafene, uniformemente distribuito. La schiuma rivestita così ottenuta ha mostrato, rispetto a quella di partenza, un miglioramento della conducibilità termica del 150% ed un miglioramento della tensione di snervamento del 50%.

Claims (14)

  1. RIVENDICAZIONI 1. Metodo per la preparazione di schiume metalliche a celle aperte con un rivestimento in metallo o una sua lega e grafene comprendente i seguenti passaggi: a) elettrodeposizione di un primo strato di metallo o di una sua lega e grafene su detta schiuma metallica; b) elettrodeposizione di un secondo strato di metallo o una sua lega su detta schiuma metallica. 2. Metodo secondo la rivendicazione 1 in cui detta schiuma metallica è in alluminio, rame, nichel, ferro, titanio, magnesio, piombo o in una lega basata su detti metalli. 3. Metodo secondo la rivendicazione 1 o 2 in cui in detto passaggio di elettrodeposizione a) il grafene nel bagno elettrolitico è in una concentrazione compresa tra 1 e 5% in peso. 4. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 3 in cui detto grafene è scelto tra Ossido di Grafene (GO), nanopiastrine di grafene (GNP), Ossido di Grafene (GO) funzionalizzato con particelle metalliche, nanopiastrine di grafene (GNP) funzionalizzate con particelle metalliche. 5. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 4 comprendente un altro passaggio di elettrodeposizione di metallo o di una sua lega su detta schiuma metallica precedente al passaggio a). 6. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 5 in cui in detti passaggi di elettrodeposizione detto metallo è scelto tra nichel, zinco, stagno, cromo, ferro, rame, titanio, argento, oro, platino, osmio, rutenio, rodio e palladio. 7. Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 6 in cui detta schiuma metallica prima di essere sottoposta ad elettrodeposizione è sottoposta a sabbiatura. 8. Metodo secondo la rivendicazione 5 in cui: --il bagno elettrolitico del passaggio a) comprende CuSO4 e nanopiastrine di grafene. - il bagno elettrolitico del passaggio b) comprende H2SO4, CuSO4 e CuCl; -il bagno elettrolitico del passaggio precedente al passaggio a) comprende H2SO4, CuSO4 e CuCl. 9. Schiuma metallica a celle aperte rivestita in cui detto rivestimento comprende: -un primo strato di metallo o una sua lega e grafene; -un secondo strato di metallo o una sua lega. 10. Schiuma metallica secondo la rivendicazione precedente in cui detto rivestimento comprende un ulteriore strato di metallo o di una sua lega posto tra detta schiuma metallica e detto primo strato. 11. Schiuma metallica secondo la rivendicazione 9 o 10 in cui detto rivestimento è sostanzialmente uniforme con uno spessore compreso tra 1 e 1000 micron. 12. Schiuma metallica secondo una qualsiasi delle rivendicazione da 9 a 11 in cui detto metallo è scelto tra nichel, zinco, stagno, cromo, ferro, rame, titanio, argento, oro, platino, osmio, rutenio, rodio e palladio. 13. Schiuma metallica secondo una qualsiasi delle rivendicazione da 9 a 12 ottenibile mediante elettrodeposizione. 14. Manufatto comprendente una schiuma metallica secondo una qualsiasi delle rivendicazione da 9 a 13 in forma di griglia per batterie, scambiatori di calore, trasformatori di corrente di alta potenza, celle a combustibile, sistemi elettronici di potenza, sistemi per la produzione dell'energia. RIVENDICAZIONI 1. A method for the preparation of an open-cell metal foams with a metal or an alloy thereof and graphene comprising the following steps: a) electrodeposition of a first layer of metal or an alloy thereof and graphene on said metal foam; b) electrodeposition of a second layer of metal or an alloy thereof on said metal foam.
  2. 2. The method according to claim 1 wherein said metal foam is in aluminium, copper, nickel, iron, titanium, magnesium, lead or an alloy based on said metals.
  3. 3. The method according to claim 1 or 2 wherein in said step of electrodeposition a) the graphene in the electrolytic bath is in a concentration of between 1 and 5% by weight.
  4. 4. The method according to any one of claims 1 to 3 wherein said graphene is selected from graphene oxide (GO), graphene nanoplatelets (GNP), graphene oxide (GO) functionalized with metal particles, graphene nanoplatelets (GNP) functionalized with metal particles.
  5. 5. The method according to any of claims 1 to 4 comprising another step of electrodeposition of metal or an alloy thereof on said metal foam before step a).
  6. 6. The method according to any one of claims 1 to 5 wherein in said steps of electrodeposition said metal is selected from nickel, zinc, tin, chromium, iron, copper, titanium, silver, gold, platinum, osmium, ruthenium, rhodium and palladium.
  7. 7. The method according to any of claims 1 to 6 wherein said metal foam before being subjected to electrodeposition is subjected to sandblasting.
  8. 8. The method according to claim 5 wherein: - The electrolytic bath of step a) comprises CuSO4 and graphene nanoplatelets. - The electrolytic bath of step b) comprises H2SO4, CuSO4 and CuCl; -The electrolytic bath in the step before the step a) comprises H2SO4, CuSO4 and CuCl.
  9. 9. An open-cell metal foam coated wherein said coating comprises: -a first layer of metal or an alloy thereof and graphene; -a second layer of metal or an alloy thereof.
  10. 10. The metal foam according to the preceding claim wherein said coating comprises a further layer of metal or an alloy thereof placed between said metal foam and said first layer.
  11. 11. The metal foam according to claim 9 or 10 wherein said coating is substantially uniform with a thickness between 1 and 1000 microns.
  12. 12. The metal foam according to any one of claims 9 to 11 wherein said metal is selected from nickel, zinc, tin, chromium, iron, copper, titanium, silver, gold, platinum, osmium, ruthenium, rhodium and palladium.
  13. 13. The metal foam according to any one of claims 9 to 12 obtainable by electrodeposition.
  14. 14. A manufactured article comprising a metal foam according to any one of claims 9 to 13 in the form of grid for batteries, heat exchangers, high power current transformers, fuel cells, power electronic systems.
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