ITTO930987A1 - Dispositivo e metodo per formare un rivestimento mediante pirolisi - Google Patents
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Description
D E S C R I Z I O N E dell?invenzione industriale avente per titolo:
"DISPOSITIVO E METODO PER FORMARE UN RIVESTIMENTO MEDIANTE PIROLISI"
La presente invenzione si riferisce ad un dispositivo per formare, mediante pirolisi, un rivestimento di metallo o composto metallico su una faccia di un substrato di vetro caldo in movimento portando detta faccia a contatto con un r.eagente gassoso, comprendente mezzi di supporto per trasportare il substrato attraverso una camera di rivestimento, almeno un ingresso per il reagente gassoso per fornire e distribuire reagente gass alla camera di rivestimento e almeno un'uscita per i gas di scarico per evacuare gas di scarico dalla camera di rivestimento, ed anche a un metodo per formare un rivestimento di metallo o composto metallico su un substrato di vetro caldo in movimento mediante pirolisi di un reagente in fase gassosa.
Il rivestimento di metallo o coraposto metallico formato su un substrato di vetro caldo mediante pirolisi viene usato per modificare il colore apparente del vetro e/o per conferire altre propriet? richieste nei confronti della radiazione incidente, ad esempio la propriet? di riflettere la radiazione infrarossa. A questo scopo si pu? ricorrere ad un singolo rivestimento sul substrato di vetro, oppure ad un rivestimento multi-strato. Esempi potrebbero essere rivestimenti di ossido di stagno SnO2, ossido di stagno SnO2 drogato con fluoro, biossido di titanio T?O2, nitruro di titanio TiN, nitruro di silicio S?3N4, silice SiO2 oppure SiOx, allumina AI2O3, pentossido di vanadio o ossido di tungsteno WO3 o ossido di molibdeno M0O3, ed in generale di ossidi, solfuri, nitruri o carburi, e la sovrapposizione di due o pi? di questi rivestimenti.
Il rivestimento pu? essere formato su di una lastra di vetro che si muove in un forno a tunnel oppure su un nastro di vetro durante la sua formazione, mentre ? ancora caldo. Il rivestimento pu? essere formato all'interno del forno che segue il dispositivo di formazione del nastro di vetro o all'interno della vasca di galleggiamento sulla faccia superiore del nastro di vetro mentre questo galleggia su un bagno di stagno fuso.
Per formare il rivestimento, il substrato viene portato a contatto, in una camera di rivestimento, con un mezzo gassoso comprendente una o pi? sostanze in fase gassosa. La camera di rivestimento ? alimentata con un reagente gassoso attraverso una o pi? feritoie, la cui lunghezza ? almeno pari alla larghezza da rivestire, alimentate da uno o pi? ugelli di eiezione. A seconda del tipo di rivestimento che si vuole formare e della reattivit? delle sostanze usate, se si devono usare pi? sostanze, queste vengono distribuite nella camera di rivestimento o sotto forma di miscela da un singolo ugello di eiezione attraverso una feritoia, oppure separatamente da diversi ugelli di eiezione attraverso feritoie separate.
Metodi e dispositivi per formare tale rivestimento sono descritti per esempio nel brevetto francese N. 2 348 166 o nella domanda di brevetto francese N. 2 648 453 Al Questi metodi e dispositivi portano alla formazione di rivestimenti particolarmente resistenti con propriet? ottiche vantaggiose.
Anche se tali dispositivi possono essere in grado di formare rivestimenti di qualit? accettabile, un loro svantaggio ? che un po' di materiale di rivestimento si deposita in modo spurio su altre superfici adiacenti alla camera di rivestimento, in particolare sul soffitto di questa, e che col tempo tali depositi possono accumularsi e disturbare il flusso di reagente gassoso attraverso la camera di rivestimento, originando cos? un rivestimento non uniforme, o possono anche cadere sulla superficie del vetro dando difetti ancora pi? seri.
Uno scopo della presente invenzione ? quello di fornire un dispositivo e un metodo in cui si evita pi? facilmente detto svantaggio.
Abbiamo scoperto che questo obiettivo pu? essere raggiunto disponendo uno schermo mobile nella camera di rivestimento.
Cos?, secondo l'invenzione, si fornisce un dispositivo per formare, per pirolisi, un rivestimento di metallo o composto metallico su una faccia di un substrato di vetro caldo in movimento portando la faccia a contatto con un reagente gassoso, comprendente mezzi di supporto per trasportare il substrato attraverso una camera di rivestimento, almeno un ingresso del reagente gassoso sotto forma di una feritoia che si apre direttamente nella camera di rivestimento e si estende trasversalmente al percorso del substrato per fornire e distribuire reagente, gassoso alla camera di rivestimento, e almeno un?uscita per gas di scarico per evacuare gas di scarico dalla camera di rivestimento, caratterizzato dalla presenza di mezzi schermanti mobili posti nella camera'di rivestimento, adiacenti al soffitto di questa, per ridurre la formazione di depositi sul soffitto della camera di rivestimento .
Il dispositivo secondo l'invenzione ? un dispositivo semplice che permette il deposito continuo di un rivestimento su un nastro di vetro sporcando in misura miniina il soffitto della camera di rivestimento, fornendo cos? .un vantaggio in termini del tempo di inattivit? richiesto per la pulitura e migliorando di.conseguenza la produttivit? del dispositivo. E' sorprendente che l?introduzione di mezzi schermanti mobili nella camera di rivestimento non disturbi il processo di rivestimento. Questo ? particolarmente vero quando il soffitto della camera di rivestimento ? vicino al substrato di vetro, come ? in generale il caso nei procedimenti CVD.
Preferibilmente il dispositivo comprende anche mezzi per introdurre ed estrarre i mezzi schermanti nella e dalla camera di rivestimento, evitando la necessit? di muoverli a mano.
In una forma di realizzazione dell'invenzione i mezzi schermanti comprendono una pluralit? di cavi che si estendono attraverso la camera di rivestimento trasversalmente alla direzione di movimento del substrato di vetro caldo. Quando si usano una pluralit? di cavi come mezzi schermanti, il diametro dei cavi e la loro distanza reciproca ? un fattore importante per schermare con successo il soffitto della camera di rivestimento dal gas reagente. Noi preferiamo che il diametro dei cavi corrisponda al 20 % - 60 % della distanza (A) tra la superficie del rivestimento e il soffitto della camera di rivestimento e che i cavi siano separati .da una distanza equivalente a 1 - 5 volte4 ?
In una variante di questa realizzazione i mezzi schermanti comprendono barre lisce che si estendono su tutta la larghezza della camera di rivestimento e possono esser portate dentro e fuori dalla camera di rivestimento per scopi di pulitura. Sebbene possa essere pi? facile asportare materiale depositato da barre lisce che non da cavi, ? pi? difficile mantenere diritte le barre nelle condizioni di temperatura esistenti nella camera di rivestimento.
In un?ulteriore variante, i mezzi schermanti comprendono un nastro, fitto per esempio di maglia di acciaio, che si estende attraverso la camera di rivestimento trasversalmente alla direzione di movimento del substrato di vetro caldo.
Preferibilmente il dispositivo comprende mezzi di pulitura disposti all?esterno della camera di rivestimento per rimuovere depositi dai mezzi schermanti. Cos?, nell'uso, eventuali depositi spuri formati sui mezzi schermanti possono esserne rimossi dai mezzi di pulitura consentendo di riportare i mezzi schermanti, in uno stato pulito, nella camera di rivestimento.
Si preferisce massimamente -che i mezzi di pulitura comprendano una camera di raffreddamento e mezzi di guida che fanno passare i mezzi schermanti attraverso tale camera. La temperatura nella camera di rivestimento pu? essere per esempio 600?C circa. Raffreddando rapidamente i mezzi schermanti, l?urto termico impartito in questo modo pu? essere sufficiente per far s? che eventuale materiale di rivestimento che ha aderito ad essi se ne stacchi, cosicch? i mezzi schermanti sono puliti efficacemente. Questo ? un metodo di pulitura particolarmente vantaggioso quando i mezzi schermanti sono sotto forma di cavi. La camera di raffreddamento pu? comprendere una camicia d'acqua o pu? essere sotto forma di un serbatoio d'acqua attraverso cui passano i mezzi schermanti.
Come metodo di pulitura alternativo o aggiuntivo, i mezzi schermanti sono portati a ?contatto con un dispositivo di pulitura, come una spazzola o un raschietto, disposto all'esterno della camera di rivestimento per rimuovere depositi dai mezzi schermanti .
L'uso di cavi, di un nastro o altro elemento flessibile come mezzi schermanti permette di tenderli in modo da garantire che essi giacciano in un piano diritto prestabilito, che preferibilmente ? parallelo sia alla superficie del substrato sia al soffitto della camera di rivestimento. Cos?, in una forma preferita di realizzazione dell'invenzione, i mezzi schermanti comprendono un elemento flessibile e mezzi per tenderli nella camera di rivestimento.
L'elemento flessibile pu? essere sotto forma di un anello continuo che ? mosso costantemente mentre il processo di rivestimento continua.
Il dispositivo pu? comprendere mezzi per portare i mezzi schermanti dentro e fuori dalla camera di rivestimento, e quindi dentro e fuori dai mezzi di pulitura disposti all'esterno' della camera di rivestimento. Nel caso di cavi, si possono prevedere per questo scopo pulegge azionate da un motore. Nel caso di un nastro si pu? usare un rullo azionato da un motore.
In una forma alternativa di realizzazione, i mezzi schermanti comprendono una cortina in movimento di gas inerte adiacente al soffitto della camera di rivestimento. In particolare la cortina di gas inerte fluisce nella stessa direzione del flusso di gas reagente nella camera di rivestimento.
La cortina di gas inerte pu? in generale sopprimere la formazione di depositi. L'uso di una cortina di gas inerte ? vantaggioso in quanto non richiede la presenza di elementi meccanici mobili. E' davvero sorprendente che l'aggiunta di una corrente di gas nella camera di rivestimento non riduca l'efficienza del processo di rivestimento.
Con il termine "gas inerte" noi intendiamo un gas che non influisce in modo significativo sulla reazione del gas reagente alla superficie del substrato e che sar? abitualmente scelto tra azoto, anidride carbonica, argon e loro miscele. Preferibilmente il gas inerte ? secco, poich? l'eventuale vapore acqueo presente pu? reagire con il gas reagente, a seconda della natura di questo.
In generale il flusso di gas inerte attraverso la camera di rivestimento dovr? essere parallelo al flusso di gas reagente e tale da evitare miscelazione significativa col gas reagente, in modo che il gas inerte formi efficacemente una cortina che scherma il soffitto della camera di rivestimento dal gas reagente. Ci? nonostante si avr? inevitabilmente una miscelazione di gas inerte e gas reagente al loro confine reciproco. Abbiamo trovato che ? efficace una cortina di gas relativamente fredda, avente per esempio una temperatura inferiore a 400?C circa quando entra nella camera di rivestimento, con una portata di gas inerte fra 0,4 e 1>5 Nm3/cm ora, per esempio 0,7 m3/cm di larghezza del substrato/ora.
Il gas inerte pu? essere iniettato nella camera di rivestimento attraverso una pluralit? di passaggi d'ingresso nel soffitto della camera di rivestimento e scaricato da questa attraverso l'uscita per il gas di scarico. Secondo una forma di realizzazione dell'invenzione, ci? pu? essere ottenuto per il fatto che il dispositivo comprende una camera di alimentazione di gas inerte e il soffitto della camera di rivestimento ? munito di una pluralit? di passaggi per il gas inerte che comunicano con la camera di alimentazione di gas inerte e si aprono nella camera di rivestimento. Si ? trovato che ? conveniente una distanza tra 5 e 70 rum tra i passaggi d'ingresso. E* preferibile rendere tale distanza pi? piccola possibile, per esempio fra 5 mm e 20 min.
Al posto dei passaggi indicati sopra, la camera di rivestimento pu? essere munita di elementi di soffitto porosi che separano la camera di rivestimento dalla camera di alimentazione di gas inerte, tale costruzione fornendo un modo particolarmente semplice per ottenere un'iniezione uniforme del gas inerte.
Preferibilmente la portata di gas inerte attraverso la camera di rivestimento ? controllata usando una pompa a velocit? variabile e/o prevedendo valvole variabili di limitazione del gas nel circuito del gas inerte.
Abbiamo trovato che ? particolarmente vantaggioso combinare le diverse forme di realizzazione dei mezzi schermanti, cio? usare sia cavi mobili sia una cortina di gas inerte introdotta nella camera di rivestimento attraverso elementi di soffitto porosi.
L'invenzione fornisce anche un metodo per formare per pirolisi un rivestimento di metallo o composto metallico su una faccia di un substrato di vetro caldo in movimento portando la faccia a contatto con un reagente gassoso, comprendente le operazioni di: ? trasportare il substrato attraverso una camera di rivestimento;
- fornire e distribuire gas reagente alla camera di rivestimento mediante almeno un ingresso di gas reagente sotto forma di una feritoia che si apre direttamente nella camera di rivestimento e si estende trasversalmente al percorso del substrato; e - scaricare i gas di scarico dalla camera di rivestimento ,
caratterizzato dal fatto che si fanno muovere mezzi schermanti nella camera di rivestimento, adiacenti al soffitto di questa, per ridurre la formazione di depositi sul soffitto della camera di rivestimento.
Preferibilmente l?ingresso o gli ingressi per il gas reagente comprendono un ugello di eiezione avente una feritoia che si apre direttamente nella camera di rivestimento, si estende trasversalmente al percorso del substrato e ha una lunghezza almeno sostanzialmente uguale alla larghezza di rivestimento del substrato (cio? alla larghezza di quella parte del substrato che si desidera rivestire). In una forma di realizzazione dell'invenzione la feritoia ? formata da un distributore longitudinale le cui pareti longitudinali interne sono sostanzialmente parallele tra loro e formano un angolo tra 20? e 40?C con il piano di movimento del substrato.
Il piano assiale dell'ugello pu? essere inclinato di un angolo tra 20? e 40? rispetto al piano di movimento del substrato. Preferibilmente il piano assiale dell'ugello ? sostanzialmente perpendicolare al piano di movimento del substrato per evitare addensamenti .
Sono stati sviluppati due tipi di impianto che permettono la formazione continua in linea di un rivestimento per pirolisi di uno o pi? reagenti in fase vapore (CVD) su un nastro di vetro caldo fabbricato con il procedimento float, I due tipi di impianto per depositare un rivestimento possono essere descritti come un impianto asimmetrico e un impianto simmetrico.
Un impianto asimmetrico ? gi? stato descritto nei brevetti GB 1 524 326 e GB 2 033 374 (BFG Glassgroup), mentre un impianto simmetrico ? stato descritto nei brevetti GB 2 234 264 e GB 2 247691 (Glaverbel) .
Entrambi i tipi di impianto possono essere posti sopra il nastro di vetro dopo che esso emerge dalla vasca di galleggiamento o sopra il nastro che si trova ancora nella vasca di galleggiamento. Essi permettono di coprire sostanzialmente l'intera larghezza del nastro di vetro per esempio 3,20 m circa.
Questi impianti possono essere spostabili e quindi possono essere messi in posizione per produrre vetro rivestito e ritirati ogni volta che ? necessario.
Un sistema per la deposizione di uno strato in una vasca di galleggiamento pu? comprendere mezzi per garantire una geometria e un funzionamento accurati anche alle temperature elevate che esistono in una vasca di galleggiamento. Il dispositivo che deposita il rivestimento pu? essere accoppiato a un carrello che porta una pluralit? di rulli atti a impegnarsi con travi di guida fisse. Preferibilmente il dispositivo comprende anche mezzi per regolare l'altezza della camera di rivestimento sopra il substrato di vetro. Cos?, possono essere previsti martinetti per consentire di regolare la distanza tra il vetro e il soffitto della camera di rivestimento CVD a un valore che in generale ? inferiore a 50 mm (preferibilmente tra 3 e 30 mm).
La vasca di galleggiamento pu? essere sigillata, nel punto dove passa il dispositivo, mediante un sistema a soffietto.
L'invenzione sar? ora illustrata con riferimento ai disegni allegati in cui :
- la figura 1 mostra in sezione verticale un impianto asimmetrico secondo l'invenzione;
- la figura 1A ? una sezione schematica secondo la linea I-I di figura 1; e
- la figura 2 mostra in sezione verticale parte di un impianto asimmetrico alternativo secondo l 'invenzione.
Le figure 1 e 1A mostrano l'insieme di un impianto asimmetrico, che comprende tre parti principali:
(i) due ugelli 10 di eiezione di reagente vaporizzato o gassoso, ognuno dei quali ha un'altezza di 85 cm e incorpora una feritoia 12a, 12b, ogni feritoia avendo un percorso di flusso del gas di 15 cm, una dimensione dell' apertura di 8 mm e una distanza tra le pareti di 4 mm;
(ii) una camera di rivestimento 14, consistente di una volta piana che definisce un canale aperto verso il basso, sopra il vetro 16; e
(iii) una feritoia 18 per l'estrazione dei vapori usati .
Il nastro di vetro 16 ? sostenuto da rulli 20 e mosso nella direzione indicata dalla freccia A.
Il flusso di vapori nella camera di rivestimento 14 lungo il vetro 16 ? controllato prevalentemente per aspirazione.
Quando si devono portare reagenti caldi a contatto con il vetro 16 in un punto posto all'esterno della vasca di galleggiamento, l'intero impianto ? preferibilmente isolato.
Il numero di fenditure successive 12a,b di alimentazione dei reagenti dipende dalla natura del rivestimento da formare. Queste fenditure 12a,b sono inclinate verso la camera di rivestimento 14.
Il dispositivo pu? essere posto sopra il vetro 16 in modo che i reagenti fluiscano nella direzione di movimento A del nastro o in direzione opposta.
I mezzi di alimentazione per i reagenti gassosi sono costituiti da un condotto di distribuzione 22 collegato ad un adattatore 26 che sbocca nell'ugello 10
La volta o soffitto 38 della camera di rivestimento 14 ? a una distanza (?) di 20 mm dal vetro 16. La larghezza di ognuna delle fenditure 12a e 12b ? di 4 mm. La lunghezza della camera di rivestimento 14 ? scelta in modo che il reagente rimanga da 6 a 10 secondi a contatto con il vetro 16. In pratica la lunghezza della camera di rivestimento 14 ? scelta una volta per tutte, secondo la velocit? pi? usuale di spostamento del vetro 16 - cio? circa 14 m/min per vetro da 4 min - e la concentrazione del reagente ? regolata ogni volta che ? necessario in base alla natura e allo spessore del rivestimento da ottenere.
L'impianto ? sigillato mediante giunti in fibra di carbonio (specialmente quando ? situato in una vasca di galleggiamento), o con falde di Refrasil (marchio depositato) o Cerafelt (marchio depositato).
Per impedire che la camera di rivestimento 14 sia sporcata da depositi spuri che possono cadere sul vetro 16 e creare difetti nel rivestimento formato su di esso, l'impianto comprende un sistema per trattenere depositi spuri. Un certo numero di cavi metallici 40, fatti di acciaio inossidabile, sono disposti sotto la volta 38 della camera di rivestimento 14. Questi cavi raccolgono di preferenza il materiale solido che si forma sopra il vetro 16 e deviano le correnti di gas lontano dalla volta che rimane pulita. I cavi si muovono trasversalmente mentre il vetro 16 si sposta, rendendo cos? possibile estrarre progressivamente la parte sporca e sostituirla con una parte pulita.
L'impianto ? formato da pezzi metallici ricotti fissati l'uno all'altro mediante bulloni piuttosto che per saldatura, per evitare distorsioni dovute al calore .
Con riferimento alla figura 1A si pu? vedere che ogni cavo metallico 40 passa attraverso una camera di raffreddamento 42 disposta all'esterno della camera di rivestimento 14. La camera di raffreddamento 42 comprende una bobina di raffreddamento superiore e una inferiore 44, 46 attraverso le quali passa un liquido di raffreddamento, per esempio scorre acqua a temperatura ambiente. Uscendo dalla camera di raffreddamento 42 ogni cavo passa su una puleggia 48 azionata da un motore. Un dispositivo tenditore, indicato nel complesso dal riferimento 50, applica tensione al cavo 40 per garantire che questo segua un percorso rettilineo attraverso la camera di rivestimento 14, parallelo sia alla superficie del rivestimento del substrato di vetro 16, sia al soffitto 38 della camera di rivestimento. Il dispositivo tenditore 50 pu? essere formato da contrappesi su uno dei due lati del nastro di vetro.
Anche se non lo si ? rappresentato in figura 1A, si possono disporre camere di raffreddamento e dispositivi tenditori simili sull'altro lato della camera di rivestimento 14, consentendo di muovere il cavo prima in una direzione attraverso la camera di rivestimento e poi nella direzione opposta, l'entit? del movimento in ogni direzione essendo sufficiente per garantire che tutto il tratto di cavo che passa attraverso la camera di rivestimento sia fatto passare successivamente attraverso una o pi? camere di rivestimento. Tuttavia preferiamo usare un cavo ad anello chiuso, che consente il movimento soltanto in una direzione, essendoci allora bisogno solo di una puleggia azionata da un motore e di un dispositivo tenditore per ogni cavo.
Invece che attraverso la camera-di raffreddamento 42, i cavi 40 possono passare attraverso un bagno d'acqua, dove il contatto diretto con l'acqua genera l'urto termico richiesto per staccare il materiale depositato .
In varianti della costruzione rappresentata nelle figure 1 e 1A, i cavi 40 possono essere sostituiti da una fascia continua di maglia d'acciaio o nastro d'acciaio o da barre di acciaio levigate.
Nella forma di realizzazione rappresentata in figura 2, un nastro di vetro 216 ? sostenuto su rulli 220 e il dispositivo comprende mezzi schermanti composti da una cortina in movimento di azoto adiacente al soffitto della camera di rivestimento.
Il soffitto 238 della camera di rivestimento 214 presenta una pluralit? di passaggi 243 di ingresso dell 'azoto che partono da una camera 241 di alimentazione dell'azoto. I passaggi 243 presentano ognuno dimensioni dell'apertura di 2 mm e sono distanziati tra loro di 2 cm. I passaggi sono inclinati nella direzione del flusso di gas reagente che attraversa la camera di rivestimento 214 provenendo dall'ugello di ingresso del gas reagente 212. Cos? l'azoto che passa attraverso i passaggi 243 ? fatto fluire attraverso la camera di rivestimento 214 nella stessa direzione del gas reagente. L'azoto ? fornito alla camera di alimentazione ,241 a temperatura ambiente e con una portata di circa 0,7 Nm^/cm di larghezza del substrato/ora. Poich? l'apparecchiatura ? a temperatura elevata, la temperatura dell ' azoto sale fino a circa 300?C quando esso entra nella camera di rivestimento 214. Comunque, l'azoto nella camera di rivestimento 214 ? a temperatura inferiore a quella del gas reagente. L'azoto forma una cortina 240 che separa il gas reagente dal soffitto 238 della camera di rivestimento 214. Sia il gas reagente che l'azoto escono dalla camera di rivestimento attraverso l'uscita 218 per i gas di scarico.
In una forma di realizzazione alternativa, i passaggi 243 possono essere sostituiti da elementi di soffitto metallici porosi per la camera di rivestimento .
Abbiamo trovato che ? particolarmente vantaggioso combinare le caratteristiche delle figure 1 e 2, cio? usare sia cavi in movimento sia una cortina di azoto fornita attraverso elementi di soffitto porosi nella camera di rivestimento.
ESEMPIO
L'esempio che segue illustra l'uso di un impianto asimmetrico come quello descritto con riferimento alle figure 1 e 1A. L'impianto permette di depositare, per esempio, rivestimenti di ossido di stagno Sn02, ossido di stagno Sn02 drogato con fluoro, biossido di titanio TiOo, nitruro di titanio TiN, nitruro di silicio Si3N4, e in generale di ossidi, solfuri, nitruri o carburi.
Per formare rivestimenti di ossido di stagno Sn02 o biossido di titanio TiO2 , si usano due feritoie successive 12a, 12b. Il reagente che porta il metallo (Sn o Ti) (fornito in corrispondenza della prima feritoia 12a) ? un tetracloruro, liquido a temperatura ambiente, vaporizzato in una corrente di gas di trasporto costituito da azoto anidro a circa 600?C. La vaporizzazione ? facilitata dall?atomizzazione di questi reagenti nel gas di trasporto .
Per produrre l'ossido, le' molecole di tetracloruro sono portate in presenza di vapore acqueo fornito alla seconda feritoia 12b. Il vapore acqueo ? surriscaldato a circa 600?C ed ? anch?esso iniettato in un gas di trasporto, che ? aria riscaldata a circa 600?C. Si pu? formare Sn02 per esempio usando le proporzioni di SnCl4 e H2O date nella descrizione di brevetto britannico GB 2026 454
Nel caso della formazione di ossido di stagno Sn02 conduttore, il drogante ? fluoro e al vapore acqueo si aggiunge HF. La pressione parziale di HF ? pHF = 0,2 pSnCl4. Si pu? anche introdurre un altro drogante, cloruro di antimonio liquido SbCl5 che viene mescolato direttamente con il cloruro di stagno SnCl4, con il quale pu? mescolarsi in proporzioni qualsiasi. La presenza del cloruro di antimonio SbCl5 rende possibile colorare il rivestimento di ossido di stagno Sn02 che pu? allora assorbire (e riflettere) parte della radiazione solare nel vicino infrarosso.
La portata di gas (gas di trasporto reagente) in ogni feritoia 12 ? 1 m3/cm di feritoia/ora alla temperatura di lavoro.
Per depositare rivestimenti di ossido di stagno SnO2 o biossido di titanio TiO2 si sceglie Inconel 600 o eventualmente una lega ancora?pi? refrattaria (Hastalloy) per le parti di dispositivo che sono a contatto con cloruro di stagno SnCl4 o cloruro di titanio TiCl4, e Monel 220 per la feritoia per il vapore acqueo e HF.
I cavi 40 hanno un diametro di 8 mm e sono disposti paralleli a una distanza reciproca di 50 ram. Essi sono disposti vicino al soffitto 38 della camera di rivestimento 14 e sono sottoposti a una tensione esercitata da due contrappesi, uno per lato, di 15 kg ognuno, per garantire la loro disposizione rettilinea e parallela. Si raccomanda di prendere delle precauzioni per evitare urti ai cavi durante il loro movimento, per evitare il distacco di materiale depositato sulla superficie dei cavi, che potrebbe originare difetti nel rivestimento formato sul vetro. I cavi sono mossi attraverso la camera di rivestimento a una velocit? di 1 m/sec, mentre il substrato si muove a una velocit? di 10 m/minuto.
II soffitto della camera di rivestimento durante il funzionamento del dispositivo ? poco soggetto a sporcarsi, riducendo cos? la necessit? di fermare il dispositivo per scopi di pulitura.
Claims (1)
- R I V E N D I C A Z I 0 N I 1. - Dispositivo per formare, per pirolisi, un rivestimento di metallo o composto metallico su una faccia di un substrato di vetro caldo in movimento portando la faccia a contatto con un reagente gassoso, comprendente mezzi di supporto (20, 220) per trasportare il substrato (16, 216) attraverso una camera di rivestimento (14, 214), almeno un ingresso del reagente gassoso sotto forma di una feritoia (12, 212) che si apre direttamente nella camera di rivestimento e si estende trasversalmente al percorso del substrato per fornire e distribuire reagente gassoso alla camera di rivestimento, e . almeno un'uscita (18, 218) per i gas di scarico per evacuare gas di scarico dalla camera di rivestimento, caratterizzato dalla presenza di mezzi schermanti mobili (40, 240) posti nella camera di rivestimento, adiacenti al soffitto (38, 238) di questa, per ridurre la formazione di depositi sul soffitto della camera di rivestimento. 2. - Dispositivo secondo la riv. 1, comprendente inoltre mezzi (48) per portare i mezzi schermanti dentro e fuori dalla camera di rivestimento. 3. - Dispositivo secondo la riv. 1 o 2, in cui i mezzi schermanti comprendono un elemento flessibile (40) e mezzi (50) per tenderlo nella camera di rivestimento . 4. - Dispositivo secondo la riv. 3, in cui i mezzi schermanti comprendono almeno un cavo (40) che si estende attraverso la camera di rivestimento trasversalmente alla direzione di movimento del substrato di vetro caldo. 5. - Dispositivo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 4, in cui i mezzi schermanti comprendono un nastro che si estende attraverso la camera di rivestimento trasversalmente alla direzione di movimento del substrato di vetro-caldo. 6. - Dispositivo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, comprendente inoltre mezzi di pulitura disposti all'esterno della camera di rivestimento per rimuovere depositi dai mezzi schermanti . 7. - Dispositivo secondo la riv. 6, in cui i mezzi di pulitura comprendono una camera di raffreddamento (42) e mezzi di guida (48) per far passare i mezzi schermanti attraverso la camera. 8. - Dispositivo secondo la riv. 6 o 7, in cui i mezzi di pulitura comprendono un dispositivo di pulitura a contatto coi mezzi schermanti. 9. - Dispositivo secondo la riv. 8, in cui il dispositivo di pulitura comprende una spazzola o un raschietto . 10.- Dispositivo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui i mezzi schermanti comprendono una cortina in movimento di gas inerte (240) adiacente al soffitto : della camera di rivestimento . 11.- Dispositivo secondo la riv. 10, in cui la cortina di gas inerte (240) fluisce nella stessa direzione del flusso di gas reagente nella camera di rivestimento . 12.- Dispositivo secondo la r-iv. 10 o 11, comprendente una camera di alimentazione del gas inerte (241), il soffitto della camera di rivestimento essendo munito di una pluralit? di passaggi (243) per il gas inerte che comunicano con la camera di alimentazione del gas inerte e si aprono nella camera di rivestimento. 13.- Dispositivo secondo la riv. 10 o 11, comprendente una camera di alimentazione del gas inerte, la camera di rivestimento avendo elementi di soffitto porosi che la separano dalla camera di alimentazione del gas inerte. 14.- Dispositivo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui il soffitto (38, 238) della camera di rivestimento ? posto a una distanza inferiore a 50 mm dalla faccia del substrato di vetro caldo (16, 216) da rivestire. 15.-- Dispositivo secondo la riv. 14, in cui il soffitto (38, 238) della camera di rivestimento ? posto a una distanza da 3 a 30 mm dalla faccia del substrato di vetro caldo (16, 216) da rivestire. 16.- Metodo per formare per pirolisi un rivestimento di metallo o composto metallico su una faccia di un substrato di vetro caldo in movimento portando la faccia a contatto con un reagente gassoso, comprendente le operazioni-di : - trasportare il substrato attraverso una .camera di rivestimento; - fornire e distribuire gas reagente alla camera di rivestimento mediante almeno un ingresso di gas reagente sotto forma di una feritoia che si apre direttamente nella camera di rivestimento e si estende trasversalmente al percorso del substrato; e - scaricare i gas di scarico dalla camera di rivestimento , caratterizzato dal fatto che si fanno muovere mezzi schermanti nella camera di rivestimento adiacenti al soffitto di questa, per ridurre la formazione di depositi sul soffitto della camera di rivestimento. 17.- Metodo secondo la riv. 16, comprendente inoltre l'operazione di portare i mezzi schermanti dentro e fuori dalla camera di rivestimento. 18.- Metodo secondo la riv.? 16 o 17, comprendente inoltre l'uso di mezzi di pulitura disposti all'esterno della camera di rivestimento. 19.- Metodo secondo la riv. 18, in cui i mezzi schermanti son fatti passare attraverso mezzi di pulitura comprendenti una camera di raffreddamento. 20.- Metodo secondo la riv. 18 o 19, in cui i mezzi schermanti sono portati a contatto con un dispositivo di pulitura per rimuoverne i depositi. 21.- Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 16 a 20, comprendente l'operazione di far muovere una cortina di gas inerte adiacente al soffitto della camera, per ridurre la formazione di depositi sul soffitto della camera di rivestimento. 22.- Metodo secondo la riv. 21, in cui la cortina di gas inerte fluisce nella stessa direzione del flusso di gas reagente nella camera di rivestimento . 23.- Metodo secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 16 a 22, in cui il soffitto della camera di rivestimento ? posto a una distanza inferiore a 50 mm dalla faccia del substrato di vetro caldo da rivestire. 24.- Metodo secondo la riv. 23, in cui il soffitto della camera di rivestimento ? posto a una distanza da 3 a 30 mm dalla faccia del substrato di vetro caldo da rivestire
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