JP2000009089A - 分子ポンプの洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 分子ポンプを製造ラインから取り外すことな
く且つ回転させることなく洗浄する。 【解決手段】 洗浄装置４は、洗浄液槽９,廃液槽１０,
給液槽１１および受液槽１２を有する。洗浄装置４の給
液管７は、停止した分子ポンプ１の給液口５に接続され
る一方、受液管８は排液口６に接続される。そして、洗
浄液槽９内の洗浄液は一旦給液槽１１に供給され、循環
ポンプ１５によって分子ポンプ１内を強制循環される。
こうして、分子ポンプ１内が洗浄され、反応生成物は下
部生成物堆積槽２０に回収され、廃液は廃液槽１０に回
収される。すなわち、分子ポンプ１を回転することなく
洗浄でき、水中でロータを回転するための大容量のモー
タを必要とはしない。また、分子ポンプ１を半導体製造
ラインから取り外すことなく洗浄でき、洗浄処理を迅速
にできる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造装置
における真空チャンバの真空排気に用いられる分子ポン
プの洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、エッチング等を行う半導体製
造装置における真空チャンバ内を真空排気する際には、
種々の真空ポンプが用いられる。そして、上記真空ポン
プ内には、プロセス中に上記真空チャンバ内で発生した
反応生成物が堆積する。したがって、所定の時期に上記
堆積した反応生成物を除去する作業が必要となる。

【０００３】従来、上記真空ポンプに堆積した反応生成
物を除去する場合には、一旦上記真空ポンプを半導体製
造装置から取り外して分解洗浄している。したがって、
分解洗浄等のメンテナンスに非常に時間が掛かるという
問題がある。そこで、真空ポンプを半導体製造装置から
取り外さないで洗浄を行う真空ポンプの洗浄装置が提案
されている。このような真空ポンプの洗浄装置として実
開平６−５３７９３号公報に記載されているようなもの
がある。この真空ポンプは、第１ロータと、この第１ロ
ータに噛み合う第２ロータと、上記第１ロータを回転駆
動する第１回転軸と、上記第２ロータを回転駆動する第
２回転軸と、第１,第２回転軸を相互に逆方向に回転す
る回転駆動手段を有している。そして、上記真空ポンプ
の吸気口側から水を流し込みながら上記第１,第２ロー
タを低速逆回転させることによって、上記真空ポンプを
半導体製造ラインから取り外すことなく短時間に洗浄で
きるようにしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の真空ポンプの洗浄装置では、真空ポンプを製造ライ
ンから取り外すことなく洗浄可能ではあるが、水中で上
記第１,第２ロータを回転するために大きな容量のモー
タが必要である。ところが、上記真空ポンプの一種であ
る分子ポンプのモータの容量は大きくはなく、分子ポン
プに上記洗浄方法を適用する場合には大容量のモータに
変える必要があるという問題がある。

【０００５】そこで、この発明の目的は、分子ポンプを
製造ラインから取り外すことなく且つ回転させることな
く洗浄できる分子ポンプの洗浄装置を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る発明の分子ポンプの洗浄装置は、上
部に開口部を有する給液槽と、一端が上記給液槽に取り
付けられる一方,他端が分子ポンプの吸気側に設けられ
た給液口に接続される給液管と、一端が上記給液槽に取
り付けられる一方,他端が上記分子ポンプの排気側に設
けられた排液口に接続される受液管と、上記給液槽内の
洗浄液を上記分子ポンプを介して循環させる循環ポンプ
を備えたことを特徴としている。

【０００７】上記構成によれば、分子ポンプを洗浄する
際には、上記分子ポンプを停止し、洗浄装置の給液槽に
一端が取り付けられている給液管の他端が上記分子ポン
プの吸気側に設けられた給液口に接続される。さらに、
上記洗浄装置の給液槽に一端が取り付けられている受液
管の他端が上記分子ポンプの排気側に設けられた排液口
に接続される。そして、循環ポンプによって、上記給液
槽内の洗浄液が上記分子ポンプを介して強制循環させら
れる。こうして、上記分子ポンプが、半導体製造ライン
から取り外すことなく且つ回転することなく洗浄され
る。

【０００８】また、請求項２に係る発明は、請求項１に
係る発明の分子ポンプの洗浄装置において、上記受液管
に、上記循環する洗浄液中の浮遊物が沈殿する沈殿槽を
介設したことを特徴としている。

【０００９】上記構成によれば、上記分子ポンプから取
り除かれて上記洗浄液中を浮遊する反応生成物が、上記
洗浄液から分離されて沈殿槽に回収される。

【００１０】また、請求項３に係る発明は、請求項１あ
るいは請求項２に係る発明の分子ポンプの洗浄装置にお
いて、洗浄後の洗浄液が回収される廃液槽と、廃液回収
用ポンプが介設されると共に,一端が上記受液管に接続
される一方,他端が上記廃液槽に接続された廃液回収パ
イプを備えたことを特徴としている。

【００１１】上記構成によれば、上記分子ポンプの洗浄
が終了すると、廃液回収パイプに介設された廃液回収用
ポンプが駆動されて、洗浄液が廃液槽に回収される。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、この発明を図示の実施の形
態により詳細に説明する。図１は、本実施の形態の分子
ポンプの洗浄装置における構成図である。分子ポンプ１
は、半導体製造装置の真空チャンバ２に、バルブ３を介
して取り付けられている。そして、分子ポンプ１の吸気
側には給液口５を設ける一方、排気側には排液口６を設
けている。上記給液口５には洗浄装置４の給液管７を接
続する一方、排液口６には、洗浄装置４の受液管８を接
続する。尚、上記給液口５および排液口６は、新たに設
けてもよいし、従来からある圧力計挿入ポートや排気口
等を利用してもよい。

【００１３】上記洗浄装置４は、内部に、洗浄液槽９,
廃液槽１０,給液槽１１および受液槽１２を有してい
る。そして、洗浄液槽９内の洗浄液は、洗浄液供給用ポ
ンプ１３が介設された洗浄液供給パイプ１４を通って給
液槽１１に供給される。また、受液槽１２内の洗浄液の
上澄み液は、循環ポンプ１５が介設された循環パイプ１
６を通って給液槽１１に戻される。ここで、受液槽１２
には洗浄液の流速を落とすための仕切り板またはフィル
タ１９が設けられており、洗浄液中に浮遊する反応生成
物(分子ポンプ１の付着物)は分離されて給液槽１１側に
循環されないようになっている。また、受液槽１２の底
部には、上記分離された反応生成物を沈殿回収する上記
沈殿槽としての下部生成物堆積槽２０が設けられてい
る。尚、洗浄後の洗浄液は、受液槽１２の下部から、廃
液回収用ポンプ１７が介設された廃液回収パイプ１８を
通って廃液槽１０に回収される。２２は、粗引き等の際
に使用されるバックポンプである。

【００１４】上記構成において、洗浄時には、上記分子
ポンプ１が停止された後、バルブ３が閉鎖されて真空チ
ャンバ２と分子ポンプ１との間が遮断される。そして、
分子ポンプ１の給液口５には洗浄装置４の給液管７を接
続する一方、排液口６には洗浄装置４の受液管８を接続
する。こうして、洗浄の準備が完了すると、洗浄液供給
用ポンプ１３が駆動されて、洗浄液槽９内に蓄積されて
いる水やフロン等の洗浄液が給液槽１１に供給される。

【００１５】そして、上記給液槽１１に所定量の洗浄液
が溜まると、循環ポンプ１５が駆動されて、洗浄液が給
液槽１１→分子ポンプ１→受液槽１２→循環ポンプ１５
→給液槽１１と循環し、分子ポンプ１と洗浄装置４との
間で、閉じた洗浄液循環経路が形成される。こうして、
分子ポンプ１のロータ(図示せず)等に付着している反応
生成物が、洗浄液中に溶解したり、洗浄液によって洗い
流されたりする。そして、洗浄液中に浮遊する反応生成
物は、受液槽１２内の仕切り板またはフィルタ１９によ
って洗浄液と分離されて下部生成物堆積槽２０に回収さ
れる。そして、受液槽１２の上澄み液は給液槽１１に戻
されて再利用される。

【００１６】こうして、上記分子ポンプ１の洗浄が終了
すると、廃液回収用ポンプ１７が駆動される。そして、
下部生成物堆積槽２０に回収されなかった反応生成物が
溶解または浮遊している廃液は、受液槽１２から廃液槽
１０に回収される。また、下部生成物堆積槽２０に回収
された反応生成物２１は、下部生成物堆積槽２０から取
り出されて廃棄される。

【００１７】上述のように、本実施の形態においては、
分子ポンプ１を停止して、分子ポンプ１の給液口５に洗
浄装置４の給液管７を接続する一方、排液口６には洗浄
装置４の受液管８を接続する。そして、分子ポンプ１内
を水またはフロン等の洗浄液を強制循環させて分子ポン
プ１内を洗浄し、反応生成物は下部生成物堆積槽２０に
回収し、廃液は廃液槽１０に回収するようにしている。
したがって、洗浄時には分子ポンプ１を回転する必要が
なく、水中で上記ロータを回転するための大きな容量の
モータを必要とはしない。また、分子ポンプ１を半導体
製造ラインから取り外すことなく洗浄することができる
ので、分解洗浄等のメンテナンスを迅速にできる。さら
に、洗浄後の廃液や除去された反応生成物は、廃液槽１
０や下部生成物堆積槽２０に回収される。

【００１８】尚、上述の洗浄時に、分子ポンプ１のガス
パージ用ポートから窒素ガス等を内部に導入して、上記
ロータの回転駆動系や磁気軸受系への洗浄液の侵入を防
止するようにしても差し支えない。

【００１９】

【発明の効果】以上より明らかなように、請求項１に係
る発明の分子ポンプの洗浄装置は、分子ポンプの吸気側
の給液口に接続される給液管と上記分子ポンプの排気側
の排液口に接続される受液管とが取り付けられた給液槽
を備えて、循環ポンプによって上記給液槽内の洗浄液を
上記分子ポンプを介して循環させるので、上記分子ポン
プを、半導体製造ラインから取り外すことなく且つ回転
することなく、洗浄することができる。したがって、こ
の発明によれば、分子ポンプを洗浄する際に、上記分子
ポンプを半導体製造ラインから取り外す必要が無く、短
時間に迅速に洗浄できる。また、上記分子ポンプのロー
タを洗浄液中で回転する必要がなく、上記分子ポンプの
モータを大容量のモータに変更する必要がない。

【００２０】また、請求項２に係る発明の分子ポンプの
洗浄装置は、上記受液管に、上記循環する洗浄液中の浮
遊物が沈殿する沈殿槽を介設したので、上記分子ポンプ
から取り除かれて上記洗浄液中を浮遊する反応生成物を
上記洗浄液から分離して、上記沈殿槽に回収することが
できる。したがって、上記洗浄液を繰り返し循環させて
使用することが可能となる。

【００２１】また、請求項３に係る発明の分子ポンプの
洗浄装置は、洗浄後の洗浄液を回収するための廃液槽
と、廃液回収用ポンプが介設された廃液回収パイプを備
えているので、上記分子ポンプの洗浄が終了した後の洗
浄液を上記廃液槽に速やかに回収できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の分子ポンプの洗浄装置における構成
図である。

【符号の説明】

１…分子ポンプ、 ２…真空チャン
バ、 ３…バルブ、 ４…洗浄装置、 ５…給液口、 ６…排液口、 ７…給液管、 ８…受液管、 ９…洗浄液槽、 １０…廃液槽、 １１…給液槽、 １２…受液槽、 １３…洗浄液供給用ポンプ、 １５…循環ポン
プ、 １７…廃液回収ポンプ、 １８…廃液回収
パイプ、 １９…フィルタ、 ２０…下部生成
物堆積槽。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上部に開口部を有する給液槽(１１)と、 一端が上記給液槽(１１)に取り付けられる一方、他端が
   分子ポンプ(１)の吸気側に設けられた給液口(５)に接続
   される給液管(７)と、 一端が上記給液槽(１１)に取り付けられる一方、他端が
   上記分子ポンプ(１)の排気側に設けられた排液口(６)に
   接続される受液管(８,１６)と、 上記給液槽(１１)内の洗浄液を上記分子ポンプ(１)を介
   して循環させる循環ポンプ(１５)を備えたことを特徴と
   する分子ポンプの洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の分子ポンプの洗浄装置
   において、 上記受液管(８,１６)に、上記循環する洗浄液中の浮遊
   物が沈殿する沈殿槽(１２,２０)を介設したことを特徴
   とする分子ポンプの洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項１あるいは請求項２に記載の分子
   ポンプの洗浄装置において、 洗浄後の洗浄液が回収される廃液槽(１０)と、 廃液回収用ポンプ(１７)が介設されると共に、一端が上
   記受液管(８,１６)に接続される一方、他端が上記廃液
   槽(１０)に接続された廃液回収パイプ(１８)を備えたこ
   とを特徴とする分子ポンプの洗浄装置。