JP2000077009A - Cathode ray tube - Google Patents

Cathode ray tube

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JP2000077009A
JP2000077009A JP10241890A JP24189098A JP2000077009A JP 2000077009 A JP2000077009 A JP 2000077009A JP 10241890 A JP10241890 A JP 10241890A JP 24189098 A JP24189098 A JP 24189098A JP 2000077009 A JP2000077009 A JP 2000077009A
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Japan
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electron beam
lens
grid
phosphor screen
electrode
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JP10241890A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirobumi Ueno
博文 上野
Tsutomu Takegawa
勉 武川
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Toshiba Corp
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】蛍光体スクリーン全面で電子ビームのフォーカ
ス特性を良好に保ち、かつ蛍光体スクリーン全面で電子
ビームスポットの楕円歪を抑制できるカラー陰極線管を
提供することを目的とする。 【解決手段】電子ビームを蛍光体スクリーンの周辺部に
偏向する際に、プリフォーカスレンズ部とサブレンズ部
との間、及びサブレンズ部と主レンズ部との間に、それ
ぞれ第一及び第二の4極子レンズ部を形成する。プリフ
ォーカスレンズ部を構成する第2グリッドG2は、第3
グリッドG3の第1セグメントG3−1との対向面に設
けられた電子ビーム通過孔の周辺に水平方向を長軸とす
る非円形状の溝102(B、R、G)を有している。さ
らに、第3グリッドG3の第1セグメントG3−1は、
第2グリッドG2の対向面に設けられた電子ビーム通過
孔の周辺に水平方向を長軸とする非円形状の溝103
(B、R、G)を有している。
(57) [Object] To provide a color cathode ray tube capable of maintaining good electron beam focus characteristics over the entire phosphor screen and suppressing elliptic distortion of an electron beam spot over the entire phosphor screen. . When deflecting an electron beam to a peripheral portion of a phosphor screen, a first and a second lens are provided between a prefocus lens unit and a sub lens unit and between a sub lens unit and a main lens unit, respectively. Is formed. The second grid G2 that constitutes the prefocus lens unit is the third grid G2.
A non-circular groove 102 (B, R, G) having a long axis in the horizontal direction is provided around the electron beam passage hole provided on the surface of the grid G3 facing the first segment G3-1. Further, the first segment G3-1 of the third grid G3 is
A non-circular groove 103 having a long axis in the horizontal direction around an electron beam passage hole provided on the opposing surface of the second grid G2.
(B, R, G).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、陰極線管に関
し、特に、画面全面で良好な画質を得ることのできるイ
ンライン型カラー陰極線管に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode ray tube, and more particularly to an in-line type color cathode ray tube capable of obtaining good image quality over the entire screen.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、インライン型カラー陰極線管
は、インライン型電子銃構体と、偏向ヨークとを備えて
いる。インライン型電子銃構体は、同一平面上を通るセ
ンタービーム及び一対のサイドビームからなる水平方向
に一列配置された3電子ビームを放出する。偏向ヨーク
は、インライン型電子銃構体から放出された3電子ビー
ムを水平方向及び垂直方向に偏向する非斉一磁界を発生
する。この非斉一磁界は、水平方向に形成されるピンク
ッション型の偏向磁界と、垂直方向に形成されるバレル
型の偏向磁界とによって形成される。インライン型電子
銃構体から放出された3電子ビームは、蛍光体スクリー
ンの中央に集束される。また、この3電子ビームは、偏
向ヨークが発生する非斉一磁界により、蛍光体スクリー
ン上でセルフコンバージェンスされながら、水平方向及
び垂直方向に走査される。
2. Description of the Related Art In general, an in-line type color cathode ray tube has an in-line type electron gun assembly and a deflection yoke. The in-line type electron gun assembly emits three electron beams arranged in a row in the horizontal direction, each including a center beam and a pair of side beams passing on the same plane. The deflection yoke generates an asymmetric magnetic field that deflects the three electron beams emitted from the in-line type electron gun assembly in the horizontal and vertical directions. The non-uniform magnetic field is formed by a pincushion-type deflection magnetic field formed in the horizontal direction and a barrel-type deflection magnetic field formed in the vertical direction. The three electron beams emitted from the in-line type electron gun assembly are focused on the center of the phosphor screen. The three electron beams are scanned in the horizontal and vertical directions while being self-converged on the phosphor screen by the non-uniform magnetic field generated by the deflection yoke.

【0003】このインライン型電子銃構体、例えばQP
F(Quadra Potential Focus)
型ダブルフォーカス方式の電子銃構体は、水平方向に一
列に配置された3個のカソードK、カソードから蛍光体
スクリーン方向に順次配置された第1グリッドG1、第
2グリッドG2、第3グリッドG3、第4グリッドG
4、第1乃至第3セグメントを有する第5グリッドG
5、及び第6グリッドG6を備えている。
This in-line type electron gun structure, for example, QP
F (Quadra Potential Focus)
The double-focus type electron gun assembly has three cathodes K arranged in a row in the horizontal direction, a first grid G1, a second grid G2, and a third grid G3 sequentially arranged from the cathode in the direction of the phosphor screen. 4th grid G
4. Fifth grid G having first to third segments
5 and a sixth grid G6.

【0004】これらの各グリッドに所定の電圧を印加す
ることにより、電子銃構体は、電子ビーム発生部、プリ
フォーカスレンズ部、サブレンズ部、及び主レンズ部を
形成する。電子ビーム発生部は、カソードK、第1グリ
ッドG1、及び第2グリッドによって形成される。プリ
フォーカスレンズ部は、第2グリッドG2及び第3グリ
ッドG3によって形成される。サブレンズ部は、第3グ
リッド、第4グリッド、及び第5グリッドの第1セグメ
ントG5−1によって形成される。主レンズ部は、第5
グリッドの第3セグメントG5−3によって形成され
る。
By applying a predetermined voltage to each of these grids, the electron gun assembly forms an electron beam generating section, a prefocus lens section, a sub lens section, and a main lens section. The electron beam generator is formed by the cathode K, the first grid G1, and the second grid. The prefocus lens portion is formed by the second grid G2 and the third grid G3. The sub lens portion is formed by the first segment G5-1 of the third grid, the fourth grid, and the fifth grid. The main lens section is the fifth
It is formed by the third segment G5-3 of the grid.

【0005】また、この電子銃構体は、第5グリッドの
第1乃至第3セグメントG5−1〜G5−3により、電
子ビームの偏向量によってレンズ強度が変化する4極子
レンズが形成される。すなわち、偏向ヨークによって、
蛍光体スクリーン周辺に電子ビームが偏向される場合、
その偏向量に応じて、第1セグメントG5−1及び第3
セグメントG5−3に、あらかじめ設定された電圧が印
加される。この電圧は、電子ビームを蛍光体スクリーン
中心に集束する場合すなわち偏向量0の場合に最も低
く、電子ビームが蛍光体スクリーンコーナーに偏向され
た場合すなわち偏向量が最大の場合に最も高くなるよう
なパラボラ状となっている。
Further, in this electron gun assembly, a quadrupole lens whose lens intensity changes depending on the deflection amount of the electron beam is formed by the first to third segments G5-1 to G5-3 of the fifth grid. That is, by the deflection yoke,
When the electron beam is deflected around the phosphor screen,
Depending on the amount of deflection, the first segment G5-1 and the third segment G5-1
A preset voltage is applied to the segment G5-3. This voltage is the lowest when the electron beam is focused at the center of the phosphor screen, that is, when the deflection amount is zero, and becomes the highest when the electron beam is deflected to the phosphor screen corner, that is, when the deflection amount is the maximum. It is parabolic.

【0006】蛍光体スクリーンコーナーに電子ビームが
偏向された場合、第1及び第3セグメントG5−1及び
G5−3に印加される電圧は、最大となる。このため、
第4グリッドG4との電位差は、最大となり、サブレン
ズ部のレンズ強度が強くなる。同時に、第6グリッドと
の電位差は、最小となり、主レンズ部のレンズ強度が弱
くなる。同時に、第1乃至第3セグメントG5−1乃至
G5−3との間に生ずる電位差によって4極子レンズが
形成され、このレンズ強度が最も強くなる。
When the electron beam is deflected to the corner of the phosphor screen, the voltage applied to the first and third segments G5-1 and G5-3 becomes maximum. For this reason,
The potential difference from the fourth grid G4 becomes maximum, and the lens strength of the sub-lens portion increases. At the same time, the potential difference from the sixth grid is minimized, and the lens strength of the main lens unit is weakened. At the same time, a quadrupole lens is formed by the potential difference generated between the first to third segments G5-1 to G5-3, and the lens strength is maximized.

【0007】この4極子レンズは、偏向ヨークが発生す
る非斉一磁界の偏向収差を補正するために作用し、この
レンズ強度は、電子ビームが蛍光体スクリーンに到達す
るまでの距離の増大によるフォーカスずれを補正するよ
うに変化する。
This quadrupole lens works to correct the deflection aberration of the non-uniform magnetic field generated by the deflection yoke, and the lens strength is defocused due to an increase in the distance until the electron beam reaches the phosphor screen. Is changed to correct.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】一般に、インライン型
電子銃を備えたインライン型カラーブラウン管では、偏
向収差を十分に補正できないため、図1の(a)に示し
たように、蛍光体スクリーン中央部に位置する電子ビー
ムのビームスポットB1は、実質的に円形であるのに対
して、蛍光体スクリーン周辺部に偏向された電子ビーム
のビームスポットB2は、横方向に長い楕円状に歪む問
題がある。すなわち、ビームスポットB2は、水平方向
に広がった楕円形の高輝度なコア部分1及びコア部分1
の周辺に広がった低輝度なハロー(halo)部分2を有する
ように形成される。
In general, in an in-line type color cathode ray tube having an in-line type electron gun, deflection aberration cannot be sufficiently corrected. Therefore, as shown in FIG. Is substantially circular, whereas the beam spot B2 of the electron beam deflected to the periphery of the phosphor screen is distorted in an elliptical shape that is long in the lateral direction. . That is, the beam spot B2 is composed of an elliptical high-brightness core portion 1 and a core portion 1 that are spread in the horizontal direction.
Is formed so as to have a low-luminance halo portion 2 spread around the periphery.

【0009】この問題に対し、上述したようなQPF型
ダブルフォーカス方式の電子銃構体は、電子ビームの偏
向量に応じて4極子レンズを形成することにより、蛍光
体スクリーン周辺部に偏向された電子ビームB2のハロ
ー部分2を図1の(b)のように解消することができる
が、蛍光体スクリーン水平軸Hの端部、対角軸の端部で
ビームスポットB2が横長に潰れる楕円歪は残る。この
ため、シャドウマスクとの干渉によりモアレが発生し、
ビームスポットで構成した画像の画質が低下するという
問題が発生する。
In order to solve this problem, the electron gun assembly of the QPF type double focus system described above forms a quadrupole lens according to the amount of deflection of the electron beam, so that the electron beam deflected to the peripheral portion of the phosphor screen. Although the halo portion 2 of the beam B2 can be eliminated as shown in FIG. 1B, the elliptical distortion in which the beam spot B2 is crushed horizontally at the end of the phosphor screen horizontal axis H and the end of the diagonal axis is as follows. Remains. For this reason, moire occurs due to interference with the shadow mask,
There is a problem that the image quality of the image formed by the beam spots is deteriorated.

【0010】この対策として、第2グリッドG2の第3
グリッドG3との対向側に、横長の溝を形成した電子銃
構体が提案されている。この電子銃構体では、第2グリ
ッドG2及び第3グリッドG3で形成するプリフォーカ
スレンズの水平方向Hの集束力を弱め、かつ垂直方向V
の集束力を強くして、主レンズ部に対する水平方向Hの
仮想物点径を縮小し、かつ垂直方向Vの仮想物点径を拡
大している。これにより、蛍光体スクリーンに到達する
電子ビームのビームスポットの垂直径を拡大して、蛍光
体スクリーン周辺での電子ビームの楕円歪を緩和し、モ
アレを軽減している。
As a countermeasure against this, the third grid G2
An electron gun structure having a horizontally long groove formed on the side opposite to the grid G3 has been proposed. In this electron gun assembly, the focusing power in the horizontal direction H of the prefocus lens formed by the second grid G2 and the third grid G3 is weakened, and the vertical direction V
Is increased, the virtual object point diameter in the horizontal direction H with respect to the main lens portion is reduced, and the virtual object point diameter in the vertical direction V is increased. Thereby, the vertical diameter of the beam spot of the electron beam reaching the phosphor screen is enlarged, the elliptic distortion of the electron beam around the phosphor screen is reduced, and moire is reduced.

【0011】ところが、この方法では、第2グリッドG
2に形成した横長溝を深くするほど蛍光体スクリーン周
辺部でのビームスポットB2の楕円歪は、緩和されるわ
けではなく、主レンズ部に対する水平方向の仮想物点径
を縮小するのと相反し、電子ビームの水平方向径が拡大
する。このため、球面収差が大きな主レンズ部の周辺部
を電子ビームが通過することになる。したがって、図1
の(c)に示すように、蛍光体スクリーン中央部でのビ
ームスポットB1は、垂直径が拡大されて縦長となり、
解像度が劣化する。また、蛍光体スクリーン水平軸Hの
端部、対角軸の端部でビームスポットB2に水平方向に
ハロー部分2が発生し、画像の画質が低下するという問
題が発生する。
However, in this method, the second grid G
The elliptical distortion of the beam spot B2 at the periphery of the phosphor screen is not alleviated as the width of the elongated groove formed in the main lens 2 becomes deeper, which is contrary to the reduction of the virtual virtual object point diameter with respect to the main lens portion. As a result, the horizontal diameter of the electron beam increases. For this reason, the electron beam passes through the periphery of the main lens portion having a large spherical aberration. Therefore, FIG.
As shown in (c), the beam spot B1 at the center of the phosphor screen has a vertical diameter that is enlarged and becomes vertically elongated.
Resolution deteriorates. Further, a halo portion 2 is generated in the beam spot B2 in the horizontal direction at the end of the phosphor screen horizontal axis H and the end of the diagonal axis, which causes a problem that the image quality is reduced.

【0012】また、別の対策として、図2に示すよう
に、第3グリッドG3を第1セグメントG3−1及び第
2セグメントG3−2に分割した電子銃構体が提案され
ている。この電子銃構体では、第1及び第2セグメント
G3−1及びG3−2で、電子ビームの偏向量に応じて
レンズ強度が変化する4極子レンズ形成する。この4極
子レンズは、第5グリッドで形成される4極子レンズと
は逆の非点収差となるように設定されている。
As another countermeasure, as shown in FIG. 2, an electron gun assembly in which a third grid G3 is divided into a first segment G3-1 and a second segment G3-2 has been proposed. In this electron gun assembly, the first and second segments G3-1 and G3-2 form a quadrupole lens whose lens strength changes according to the amount of deflection of the electron beam. This quadrupole lens is set to have astigmatism opposite to that of the quadrupole lens formed by the fifth grid.

【0013】このような2重4極子方式の電子銃構体で
は、電子ビームが偏向されるに従い第3グリッドG3の
第1及び第2セグメントG3−1及びG3−2によって
第1の4極子レンズが形成され、第5グリッドG5の第
1乃至第3セグメントG5−1乃至G5−3によって第
2の4極子レンズが形成される。このような電子銃構体
を備えた陰極線管では、第1の4極子レンズ、サブレン
ズ部、第2の4極子レンズ、主レンズ部、偏向磁界を総
合的にーつのレンズと考えた場合の水平方向と垂直方向
のレンズ倍率差を低減している。
In such a double quadrupole type electron gun assembly, the first quadrupole lens is formed by the first and second segments G3-1 and G3-2 of the third grid G3 as the electron beam is deflected. The first to third segments G5-1 to G5-3 of the fifth grid G5 form a second quadrupole lens. In a cathode ray tube having such an electron gun assembly, the first quadrupole lens, the sub lens unit, the second quadrupole lens, the main lens unit, and the horizontal lens when the deflection magnetic field is considered as one lens in total. The difference in lens magnification between the direction and the vertical direction is reduced.

【0014】これにより、蛍光体スクリーン周辺での電
子ビーム横つぶれを理論的には解消することができる。
また、蛍光体スクリーン中央に集束される電子ビームに
対しては、4極子レンズが作用せず、電子ビームが縦長
となる現象も起こらない。すなわち、蛍光体スクリーン
全面で画質劣化は発生しない。
[0014] Thus, the lateral collapse of the electron beam around the phosphor screen can be theoretically eliminated.
Further, the quadrupole lens does not act on the electron beam focused at the center of the phosphor screen, and the phenomenon that the electron beam becomes vertically long does not occur. That is, the image quality does not deteriorate over the entire phosphor screen.

【0015】ただし、この方法においても、第3グリッ
ドG3の第1及び第2セグメントG3−1及びG3−2
で形成する第1の4極子レンズを強くするほど、ビーム
スポットの歪みに対して効果は大きくなるが、第1の4
極子レンズを強くすることで、ビームスポットの水平方
向径は、拡大するため、球面収差が大きな主レンズ部の
周辺部を電子ビームが通過することになる。したがっ
て、蛍光体スクリーン水平軸Hの端部、対角軸の端部で
ビームスポットB2に水平方向にハロー部分2が発生
し、画像の画質が低下するという問題が発生する。
However, in this method, the first and second segments G3-1 and G3-2 of the third grid G3 are also used.
As the first quadrupole lens formed in step (1) is strengthened, the effect on the distortion of the beam spot is increased.
By strengthening the pole lens, the horizontal diameter of the beam spot is enlarged, so that the electron beam passes through the periphery of the main lens portion having a large spherical aberration. Accordingly, a halo portion 2 is generated in the beam spot B2 in the horizontal direction at the end of the horizontal axis H of the phosphor screen and at the end of the diagonal axis, thereby causing a problem that the image quality is reduced.

【0016】上述したように、カラー陰極線管の画質を
良好にするためには、蛍光体スクリーン上全面にわたり
電子ビームスポットの横つぶれすなわち楕円歪みを抑制
することが必要である。
As described above, in order to improve the image quality of the color cathode ray tube, it is necessary to suppress the collapsing of the electron beam spot, that is, the elliptical distortion over the entire surface of the phosphor screen.

【0017】従来のQPF型ダブルフォーカス方式の電
子銃構体では、4極子レンズを形成するグリッドに電子
ビームの偏向量に応じたパラボラ状に変化する電圧を印
加することにより、偏向収差による電子ビームの垂直方
向のハローの発生を解消することができるが、蛍光体ス
クリーン周辺での電子ビームの横つぶれは残る。
In a conventional QPF-type double focus type electron gun assembly, a voltage which changes in a parabolic manner in accordance with the amount of deflection of the electron beam is applied to a grid forming a quadrupole lens. The generation of the vertical halo can be eliminated, but the horizontal collapse of the electron beam around the phosphor screen remains.

【0018】この電子ビームの横つぶれを緩和するた
め、第2グリッドG2に横長の溝を形成することによ
り、蛍光体スクリーン周辺での電子ビームの横つぶれを
緩和することができるが、電子ビームの水平方向にハロ
ーが発生し易くなる。
By forming a horizontally long groove in the second grid G2 in order to reduce the collapsing of the electron beam, the collapsing of the electron beam around the phosphor screen can be reduced. Halo tends to occur in the horizontal direction.

【0019】また、従来のような2重4極子方式の電子
銃構体を採用しても、蛍光体スクリーン周辺での電子ビ
ームの横つぶれを十分に解消することは困難である。こ
の発明は、上記問題を解決するためになされたものであ
り、蛍光体スクリーン全面で電子ビームのフォーカス特
性を良好に保ち、かつ蛍光体スクリーン全面で電子ビー
ムスポットの楕円歪を抑制できるカラー陰極線管を提供
することを目的とする。
Further, even if a conventional double quadrupole electron gun assembly is employed, it is difficult to sufficiently eliminate the lateral collapse of the electron beam around the phosphor screen. The present invention has been made to solve the above problems, and a color cathode ray tube capable of maintaining good electron beam focus characteristics over the entire phosphor screen and suppressing elliptic distortion of an electron beam spot over the entire phosphor screen. The purpose is to provide.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載の陰極線管は、電子ビ
ームを発生する電子ビーム発生部と、前記電子ビーム発
生部から発生された電子ビームを予備集束する少なくと
も2つの対向配置された第1及び第2の電極を有するプ
リフォーカスレンズ部と、前記プリフォーカスレンズ部
によって予備集束された電子ビームを更に予備集束する
サブレンズ部と、前記サブレンズ部で予備収束された電
子ビームを最終的に蛍光体スクリーン上の中央に集束す
る主レンズ部とを備えた電子銃構体と、前記電子銃構体
によって前記蛍光体スクリーン上に集束された電子ビー
ムを、電子ビームの進行方向に対して直交する垂直方向
及び水平方向に偏向する偏向磁界を発生する偏向ヨーク
と、を備えた陰極線管において、前記プリフォーカスレ
ンズの前記第1の電極は、前記第2の電極との対向面に
設けられた電子ビーム通過孔の周辺に水平方向を長軸と
する非円形状の溝を有し、前記第2の電極は、前記第1
の電極との対向面に設けられた電子ビーム通過孔の周辺
に水平方向を長軸とする非円形状の溝を有し、さらに、
電子ビームの偏向に伴って、前記プリフォーカスレンズ
と前記サブレンズの間に第1多極子レンズを形成すると
ともに、前記サブレンズと前記主レンズの間に前記第1
多極子レンズとは常に逆の非点収差作用を有する第2多
極子レンズを形成する手段を備えたことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a cathode ray tube, comprising: an electron beam generator for generating an electron beam; and an electron beam generator. A pre-focus lens unit having at least two opposed first and second electrodes for pre-focusing the electron beam, and a sub-lens unit for further pre-focusing the electron beam pre-focused by the pre-focus lens unit. An electron gun assembly having a main lens unit that finally focuses the electron beam preliminarily focused by the sub-lens unit on the center of the phosphor screen; and an electron gun assembly focused on the phosphor screen by the electron gun assembly. A deflection yoke for generating a deflection magnetic field for deflecting the electron beam in a vertical direction and a horizontal direction orthogonal to the traveling direction of the electron beam. In the tube, the first electrode of the prefocus lens has a non-circular groove having a long axis in the horizontal direction around an electron beam passage hole provided on a surface facing the second electrode. , The second electrode is connected to the first electrode
A non-circular groove having a long axis in the horizontal direction around an electron beam passage hole provided on a surface facing the electrode,
With the deflection of the electron beam, a first multipole lens is formed between the prefocus lens and the sub lens, and the first multipole lens is formed between the sub lens and the main lens.
The present invention is characterized in that there is provided a means for forming a second multipole lens having an astigmatism effect always opposite to that of the multipole lens.

【0021】請求項2に記載の陰極線管は、電子ビーム
を発生する電子ビーム発生部と、前記電子ビーム発生部
から発生された電子ビームを予備集束する少なくとも2
つの対向配置された第1及び第2の電極を有するプリフ
ォーカスレンズ部と、前記プリフォーカスレンズ部によ
って予備集束された電子ビームを更に予備集束するサブ
レンズ部と、前記サブレンズ部で予備収束された電子ビ
ームを最終的に蛍光体スクリーン上の中央に集束する主
レンズ部とを備えた電子銃構体と、前記電子銃構体によ
って前記蛍光体スクリーン上に集束された電子ビーム
を、電子ビームの進行方向に対して直交する垂直方向及
び水平方向に偏向する偏向磁界を発生する偏向ヨーク
と、を備えた陰極線管において、前記プリフォーカスレ
ンズの前記第1の電極は、前記第2の電極との対向面に
設けられた電子ビーム通過孔の周辺に水平方向を長軸と
する非円形状の溝を有し、前記第2の電極は、前記第1
の電極との対向面に水平方向を長軸とする非円形状の電
子ビーム通過孔を有し、さらに、電子ビームの偏向に伴
って、前記プリフォーカスレンズと前記サブレンズの間
に第1多極子レンズを形成するとともに、前記サブレン
ズと前記主レンズの間に前記第1多極子レンズとは常に
逆の非点収差作用を有する第2多極子レンズを形成する
手段を備えたことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a cathode ray tube, comprising: an electron beam generator for generating an electron beam; and at least two beams for pre-focusing the electron beam generated from the electron beam generator.
A prefocus lens unit having two opposed first and second electrodes; a sub lens unit for further prefocusing the electron beam preliminarily focused by the prefocus lens unit; An electron gun assembly having a main lens portion that finally focuses the electron beam at the center on the phosphor screen, and the electron beam focused on the phosphor screen by the electron gun assembly, A deflection yoke that generates a deflection magnetic field that deflects in a vertical direction and a horizontal direction perpendicular to the direction, wherein the first electrode of the prefocus lens is opposed to the second electrode. A non-circular groove having a long axis in the horizontal direction around an electron beam passage hole provided on the surface, wherein the second electrode is provided with the first electrode;
A non-circular electron beam passage hole having a long axis in the horizontal direction on a surface facing the first electrode, and a first lens between the prefocus lens and the sub-lens as the electron beam is deflected. Means for forming a pole lens and means for forming a second multipole lens having an astigmatism effect always opposite to that of the first multipole lens between the sub lens and the main lens. I do.

【0022】この発明の陰極線管によれば、プリフォー
カスレンズの第1の電極は、集束性のレンズ作用を有
し、水平方向を長軸とする非円形状の溝により、第1の
電極を通過した電子ビームのプリフォーカスレンズに対
する仮想物点は、水平方向の径が縮小し、垂直方向の径
が拡大する。また、第1の電極を通過した電子ビーム
は、水平方向の発散角が拡大し、垂直方向の発散角が縮
小する。
According to the cathode ray tube of the present invention, the first electrode of the prefocus lens has a converging lens function, and the first electrode is formed by a non-circular groove having a long axis in the horizontal direction. The virtual object point of the passing electron beam with respect to the prefocus lens has a reduced diameter in the horizontal direction and an increased diameter in the vertical direction. In addition, the divergence angle of the electron beam passing through the first electrode in the horizontal direction increases and the divergence angle in the vertical direction decreases.

【0023】一方、プリフォーカスレンズの第2の電極
は、発散性のレンズ作用を有し、水平方向を長軸とする
非円形状の溝により、第2の電極を通過した電子ビーム
のプリフォーカスレンズに対する仮想物点は、水平方向
の径が拡大し、垂直方向の径が縮小する。また、第3グ
リッドG3を通過した電子ビームは、水平方向の発散角
が縮小し、垂直方向の発散角が拡大する。
On the other hand, the second electrode of the prefocus lens has a divergent lens function, and is formed by a non-circular groove having a major axis extending in the horizontal direction to prefocus the electron beam passing through the second electrode. The virtual object point with respect to the lens has a larger diameter in the horizontal direction and a smaller diameter in the vertical direction. The divergence angle of the electron beam passing through the third grid G3 in the horizontal direction is reduced and the divergence angle in the vertical direction is increased.

【0024】これらの作用を組み合わせることによっ
て、仮想物点径に対する相互の作用は、相殺されること
になり、円形の仮想物点を得ることができる。また、電
子ビームの発散角に対する作用は、第1の電極に形成し
た溝よりも、第2の電極に形成した溝の方が大きい。こ
のため、プリフォーカスレンズを通過した電子ビームの
水平方向は、従来と同じ程度の仮想物点径でありなが
ら、従来より小さい発散角とすることができる。
By combining these actions, the mutual action on the virtual object point diameter is canceled, and a circular virtual object point can be obtained. The effect on the divergence angle of the electron beam is greater in the groove formed in the second electrode than in the groove formed in the first electrode. For this reason, the horizontal direction of the electron beam that has passed through the prefocus lens can have a divergence angle smaller than the conventional one while having the same virtual object diameter as the conventional one.

【0025】このため、主レンズに入射する電子ビーム
の水平方向径が縮小される。したがって、主レンズの使
用領域が縮小され、従来のように、電子ビームの一部が
球面収差の大きな主レンズの周縁部を通過することがな
くなり、球面収差の影響を大幅に改善することが可能と
なる。これにより、蛍光体スクリーン上に到達する電子
ビームのビームスポットを略円形とすることが可能とな
る。
For this reason, the horizontal diameter of the electron beam incident on the main lens is reduced. Therefore, the area of use of the main lens is reduced, and a portion of the electron beam does not pass through the periphery of the main lens having a large spherical aberration as in the conventional case, and the influence of the spherical aberration can be greatly improved. Becomes Thereby, the beam spot of the electron beam reaching the phosphor screen can be made substantially circular.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、この発明に係る陰極線管の
一実施の形態について図面を参照して説明する。図3
は、この発明の陰極線管の一例としてのインライン型カ
ラー陰極線管の構造を概略的に示す断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a cathode ray tube according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG.
1 is a sectional view schematically showing a structure of an in-line type color cathode ray tube as an example of a cathode ray tube of the present invention.

【0027】このインライン型カラー陰極線管は、実質
的に矩形状のパネル10と漏斗状のファンネル11とが
一体に接合された外囲器を有している。このパネル10
は、その内面に、それぞれ青、緑、赤に発光するドット
状の3色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン12を備え
ている。また、パネル10の内側に、蛍光体スクリーン
12に対向して、シャドウマスク13が設けられてい
る。
This in-line type color cathode ray tube has an envelope in which a substantially rectangular panel 10 and a funnel-like funnel 11 are integrally joined. This panel 10
Is provided with a phosphor screen 12 composed of a dot-shaped three-color phosphor layer that emits blue, green, and red light, respectively, on its inner surface. In addition, a shadow mask 13 is provided inside the panel 10 so as to face the phosphor screen 12.

【0028】また、このインライン型カラー陰極線管
は、インライン型電子銃構体17と、偏向ヨーク20と
を備えている。インライン型電子銃構体17は、ファン
ネル11の円筒状のネック15内に配設されている。こ
の電子銃構体17は、同一水平面上を通るセンタービー
ム16G、及び一対のサイドビーム16B、16Rから
なる一列配置された3電子ビームを管軸方向すなわちZ
軸方向に向けて放出する。偏向ヨーク20は、ファンネ
ル11の径大部18とネック15との境界部付近の外側
に装着されている。この偏向ヨーク20は、インライン
型電子銃構体17から放出された3電子ビーム16
(R、G、B)を水平方向すなわちH軸及び垂直方向す
なわちV軸に偏向する非斉一磁界を発生する。この非斉
一磁界は、水平方向に形成されるピンクッション型の水
平偏向磁界と、垂直方向に形成されるバレル型の垂直偏
向磁界とによって形成される。
The in-line type color cathode ray tube has an in-line type electron gun assembly 17 and a deflection yoke 20. The in-line type electron gun structure 17 is disposed in the cylindrical neck 15 of the funnel 11. The electron gun assembly 17 applies three electron beams arranged in a line, consisting of a center beam 16G and a pair of side beams 16B and 16R, passing on the same horizontal plane, in the tube axis direction, that is, Z direction.
Discharges axially. The deflection yoke 20 is mounted outside the vicinity of the boundary between the large diameter portion 18 of the funnel 11 and the neck 15. The deflection yoke 20 is adapted to receive the three electron beams 16 emitted from the in-line type electron gun assembly 17.
An asymmetric magnetic field is generated which deflects (R, G, B) in the horizontal direction, ie, the H axis, and in the vertical direction, ie, the V axis. This non-uniform magnetic field is formed by a pincushion-type horizontal deflection magnetic field formed in the horizontal direction and a barrel-type vertical deflection magnetic field formed in the vertical direction.

【0029】インライン型電子銃構体17から放出され
た3電子ビーム16(R、G、B)は、蛍光体スクリー
ン12の中央に集束される。また、この3電子ビーム1
6(R、G、B)は、偏向ヨーク20によって発生され
る非斉一磁界により、蛍光体スクリーン12上でセルフ
コンバージェンスされながら、水平方向及び垂直方向に
走査される。これにより、カラー画像が表示される。
The three electron beams 16 (R, G, B) emitted from the in-line type electron gun assembly 17 are focused on the center of the phosphor screen 12. The three electron beams 1
6 (R, G, B) is scanned in the horizontal and vertical directions while being self-converged on the phosphor screen 12 by the non-uniform magnetic field generated by the deflection yoke 20. Thereby, a color image is displayed.

【0030】図4は、図3に示したインライン型カラー
陰極線管に適用される3電子ビームを放出するインライ
ン型QPF(Quadra Potential Fo
cus)型ダブルフォーカス方式の電子銃構体の構造を
概略的に示す図である。
FIG. 4 shows an in-line type QPF (Quadra Potential Foal) for emitting three electron beams applied to the in-line type color cathode ray tube shown in FIG.
FIG. 2 is a diagram schematically showing the structure of a cus) type double focus type electron gun assembly.

【0031】図4に示すように、この電子銃構体17
は、水平方向すなわちH軸方向に一列に配置された3個
のカソードK(B、R、G)と、これらのカソードK
(B、R、G)をそれぞれ個別に加熱する3個の図示し
ないヒータと、カソードK(B、R、G)から順次蛍光
体スクリーンに向かってZ軸に沿って配置された第1乃
至第6グリッドG1乃至G6とを有している。これら第
1乃至第6グリッドG1乃至G6は、所定間隔をおいて
互いに隣接して配置されている。
As shown in FIG. 4, this electron gun
Is composed of three cathodes K (B, R, G) arranged in a line in the horizontal direction, that is, the H-axis direction, and these cathodes K
And three heaters (not shown) for individually heating (B, R, G), and first to fourth heaters arranged along the Z-axis from the cathode K (B, R, G) to the phosphor screen sequentially. It has six grids G1 to G6. These first to sixth grids G1 to G6 are arranged adjacent to each other at a predetermined interval.

【0032】第3グリッドG3は、Z軸方向に沿って順
次配置された第1セグメントG3−1と、第2セグメン
トG3−2とを有している。また、第5グリッドG5
は、Z軸方向に沿って順次配置された第1乃至第3セグ
メントG5−1乃至G5−3を有している。
The third grid G3 has a first segment G3-1 and a second segment G3-2 which are sequentially arranged along the Z-axis direction. In addition, the fifth grid G5
Has first to third segments G5-1 to G5-3 sequentially arranged along the Z-axis direction.

【0033】第1グリッドG1及び第2グリッドG2
は、板状電極であり、その板面に、それぞれ3個のカソ
ードK(B、R、G)に対応して水平方向に一列に配置
された3個の略円形の電子ビーム通過孔を有している。
第3グリッドG3の第1セグメントG3−1及び第2セ
グメントG3−2は、筒状電極であり、隣接するグリッ
ドとの対向面にそれぞれ3個のカソードK(B、R、
G)に対応して水平方向に一列に配置された3個の略円
形の電子ビーム通過孔を有している。第4グリッドG4
は、厚板状電極であり、その板面にそれぞれ3個のカソ
ードK(B、R、G)に対応して水平方向に一列に配置
された3個の略円形の電子ビーム通過孔を有している。
First grid G1 and second grid G2
Is a plate-shaped electrode, and has on its plate surface three substantially circular electron beam passage holes arranged in a row in the horizontal direction corresponding to the three cathodes K (B, R, G), respectively. are doing.
The first segment G3-1 and the second segment G3-2 of the third grid G3 are cylindrical electrodes, and each of the three cathodes K (B, R,
It has three substantially circular electron beam passage holes arranged in a line in the horizontal direction corresponding to G). Fourth grid G4
Is a thick plate-shaped electrode having three substantially circular electron beam passage holes arranged in a row in the horizontal direction corresponding to three cathodes K (B, R, G) on the plate surface. are doing.

【0034】第5グリッドG5の第1セグメントG5−
1及び第3セグメントG5−3は、筒状電極であり、隣
接するグリッドとの対向面にそれぞれ3個のカソードK
(B、R、G)に対応して水平方向に一列に配置された
3個の略円形の電子ビーム通過孔を有している。第5グ
リッドG5の第2セグメントG5−2は、厚板状電極で
あり、その板面にそれぞれ3個のカソードK(B、R、
G)に対応して水平方向に一列に配置された3個の略円
形の電子ビーム通過孔を有している。
The first segment G5- of the fifth grid G5
The first and third segments G5-3 are cylindrical electrodes, each having three cathodes K on a surface facing an adjacent grid.
It has three substantially circular electron beam passage holes arranged in a row in the horizontal direction corresponding to (B, R, G). The second segment G5-2 of the fifth grid G5 is a thick plate-like electrode, and three cathodes K (B, R,
It has three substantially circular electron beam passage holes arranged in a line in the horizontal direction corresponding to G).

【0035】第6グリッドG6は、筒状電極であり、隣
接するグリッドとの対向面にそれぞれ3個のカソードK
(B、R、G)に対応して水平方向に一列に配置された
3個の略円形の電子ビーム通過孔を有している。
The sixth grid G6 is a cylindrical electrode, and has three cathodes K on its surface facing the adjacent grid.
It has three substantially circular electron beam passage holes arranged in a row in the horizontal direction corresponding to (B, R, G).

【0036】第2グリッドG2は、第3グリッドG3の
第1セグメントG3−1との対向面に、図5に示すよう
に、3個の電子ビーム通過孔G2b、G2r、G2gに
それぞれ対応して形成された、水平方向を長軸とする3
個の非円形の溝102B、102R、102Gを有して
いる。すなわち、これらの3個の溝102(B、R、
G)は、水平方向すなわちH軸方向の径が垂直方向すな
わちV軸方向の径より大きくなるように形成されてい
る。図5に示した例では、これらの3個の溝102
(B、R、G)は、横長溝であり、H軸方向を長辺と
し、V軸方向を短辺とする長方形に形成されている。
As shown in FIG. 5, the second grid G2 corresponds to the three electron beam passage holes G2b, G2r, and G2g on the surface of the third grid G3 facing the first segment G3-1. 3 with the horizontal direction as the major axis
It has a plurality of non-circular grooves 102B, 102R, 102G. That is, these three grooves 102 (B, R,
G) is formed such that the diameter in the horizontal direction, that is, the H-axis direction is larger than the diameter in the vertical direction, that is, the V-axis direction. In the example shown in FIG. 5, these three grooves 102
(B, R, G) are horizontally long grooves, each having a rectangular shape having a long side in the H-axis direction and a short side in the V-axis direction.

【0037】第3グリッドG3の第1セグメントG3−
1は、第2グリッドG2との対向面に、図6に示すよう
に、3個の電子ビーム通過孔G3b、G3r、G3gに
それぞれ対応して形成された、水平方向を長軸とする3
個の非円形の溝103B、103R、103Gを有して
いる。すなわち、これらの3個の溝103(B、R、
G)は、水平方向すなわちH軸方向の径が垂直方向すな
わちV軸方向の径より大きくなるように形成されてい
る。図6に示した例では、これらの3個の溝103
(B、R、G)は、横長溝であり、H軸方向を長辺と
し、V軸方向を短辺とする長方形に形成されている。
The first segment G3- of the third grid G3
Numeral 1 is formed on the surface facing the second grid G2 so as to correspond to the three electron beam passage holes G3b, G3r, and G3g, respectively, as shown in FIG.
It has three non-circular grooves 103B, 103R and 103G. That is, these three grooves 103 (B, R,
G) is formed such that the diameter in the horizontal direction, that is, the H-axis direction is larger than the diameter in the vertical direction, that is, the V-axis direction. In the example shown in FIG. 6, these three grooves 103
(B, R, G) are horizontally long grooves, each having a rectangular shape having a long side in the H-axis direction and a short side in the V-axis direction.

【0038】この電子銃構体17では、各カソードK
(B、R、G)には、約150Vの電圧が印加されてい
る。第1グリッドG1は、接地されている。第2グリッ
ドは、第4グリッドG4に管内で接続され、これらのグ
リッドには、約800Vの電圧が印加されている。第3
グリッドG3の第1セグメントG3−1は、第5グリッ
ドG5の第2セグメントG5−2に管内で接続され、こ
れらのグリッドには、約6KVの電圧が印加されてい
る。
In this electron gun assembly 17, each cathode K
A voltage of about 150 V is applied to (B, R, G). The first grid G1 is grounded. The second grid is connected in a tube to a fourth grid G4, and a voltage of about 800 V is applied to these grids. Third
The first segment G3-1 of the grid G3 is connected in a tube to the second segment G5-2 of the fifth grid G5, and a voltage of about 6 KV is applied to these grids.

【0039】第3グリッドG3の第2セグメントG3−
2は、第5グリッドG5の第1セグメントG5−1及び
第3セグメントG5−3とともに管内で接続され、電子
ビームの偏向量に応じた電圧が印加されている。この電
圧は、第5グリッドG5の第2セグメントG5−2に印
加される約6KVの電圧を基準電圧とし、この基準電圧
に電子ビームの偏向量にともなって増大するパラボラ状
の電圧を重畳した電圧である。すなわち、この電圧は、
電子ビームが偏向されることなく蛍光体スクリーンの中
央部に向かう無偏向時に最も低い6KVとなり、蛍光体
スクリーンの周辺部に偏向する偏向時に次第に高くな
り、蛍光体スクリーンのコーナ部に向かうときに最も高
く6.5KVなるようなパラボラ状の電圧である。
The second segment G3- of the third grid G3
2 is connected in the tube together with the first segment G5-1 and the third segment G5-3 of the fifth grid G5, and a voltage according to the deflection amount of the electron beam is applied. This voltage is a voltage obtained by using a voltage of about 6 KV applied to the second segment G5-2 of the fifth grid G5 as a reference voltage, and superimposing a parabolic voltage that increases with the deflection amount of the electron beam on this reference voltage. It is. That is, this voltage is
When the electron beam is deflected toward the center of the phosphor screen without being deflected, it is 6KV, which is the lowest when deflected toward the periphery of the phosphor screen, gradually increases when deflected toward the periphery of the phosphor screen, and becomes the highest when traveling toward the corner of the phosphor screen. This is a parabolic voltage that is as high as 6.5 KV.

【0040】第6グリッドG6には、約26KVの電圧
が印加されている。上述したインライン型電子銃構体の
各グリッドにそれぞれ所定の電圧が印加されることによ
り、この電子銃構体17は、電子ビーム発生部、プリフ
ォーカスレンズ部、サブレンズ部、及び主レンズ部を形
成する。
A voltage of about 26 KV is applied to the sixth grid G6. By applying a predetermined voltage to each grid of the above-described in-line type electron gun assembly, the electron gun assembly 17 forms an electron beam generator, a prefocus lens unit, a sub lens unit, and a main lens unit. .

【0041】電子ビーム発生部は、カソード、第1グリ
ッドG1、及び第2グリッドG2によって構成される。
この電子ビーム発生部は、電子ビームを蛍光体スクリー
ンに向けて放出し、かつ主レンズ部に対する仮想物点を
形成する。
The electron beam generator includes a cathode, a first grid G1, and a second grid G2.
The electron beam generator emits the electron beam toward the phosphor screen and forms a virtual object point with respect to the main lens unit.

【0042】プリフォーカスレンズ部は、第2グリッド
G2、及び第3グリッドG3によって構成される。この
プリフォーカスレンズ部は、電子ビーム発生部から放出
された電子ビームを予備集束する。
The prefocus lens section is constituted by a second grid G2 and a third grid G3. The prefocus lens unit preliminarily focuses the electron beam emitted from the electron beam generation unit.

【0043】サブレンズ部は、第3グリッドG3、第4
グリッドG4、及び第5グリッドG5によって構成され
る。このサブレンズ部は、プリフォーカスレンズ部で予
備集束された電子ビームをさらに予備集束する。
The sub-lens section includes the third grid G3, the fourth
It is constituted by a grid G4 and a fifth grid G5. The sub lens unit further preliminarily focuses the electron beam preliminarily focused by the prefocus lens unit.

【0044】主レンズ部は、第5グリッド及び第6グリ
ッドG6によって構成される。この主レンズ部は、サブ
レンズ部で予備集束された電子ビームを最終的に蛍光体
スクリーン上に集束する。
The main lens section is constituted by a fifth grid and a sixth grid G6. The main lens unit finally focuses the electron beam prefocused by the sub lens unit on the phosphor screen.

【0045】また、第3グリッドG3において、無偏向
時には、第1セグメントG3−1及び第2セグメントG
3−2にそれぞれ6KVの電圧が印加され、両セグメン
ト間に電位差が生じない。これに対して、第3グリッド
G3において、偏向時には、第1セグメントG3−1に
6KVの電圧が印加される一方で第2セグメントG3−
2に電子ビームの偏向量に応じてパラボラ状に変化する
電圧が印加される。このため、両セグメント間に電位差
が生じ、プリフォーカスレンズ部とサブレンズ部との間
に、偏向収差を補償する第一の4極子レンズ部を形成す
る。この第一の4極子レンズ部は、負の非点収差、すな
わち垂直方向の集束力が水平方向の集束力より強い非点
収差を有するように設定されている。
In the third grid G3, when there is no deflection, the first segment G3-1 and the second segment G3-1
A voltage of 6 KV is applied to 3-2, and no potential difference occurs between both segments. On the other hand, in the third grid G3, at the time of deflection, a voltage of 6 KV is applied to the first segment G3-1 while the second segment G3-
2 is applied with a voltage that changes in a parabolic manner according to the amount of deflection of the electron beam. For this reason, a potential difference occurs between the two segments, and a first quadrupole lens unit for compensating for the deflection aberration is formed between the prefocus lens unit and the sub lens unit. The first quadrupole lens unit is set such that negative astigmatism, that is, astigmatism in which the focusing power in the vertical direction is stronger than the focusing power in the horizontal direction.

【0046】また、第5グリッドG5において、無偏向
時には、第1乃至第3セグメントG5−1乃至G5−3
にそれぞれ6KVの電圧が印加され、各セグメント間に
電位差が生じない。これに対して、第5グリッドG5に
おいて、偏向時には、第2セグメントG5−2に6KV
の電圧が印加される一方で第1及び第3セグメントG5
−1及びG5−3に電子ビームの偏向量に応じてパラボ
ラ状に変化する電圧が印加される。このため、各セグメ
ント間に電位差が生じ、サブレンズ部と主レンズ部との
間に、偏向収差を補償する第二の4極子レンズ部を形成
する。この第二の4極子レンズ部は、正の非点収差、す
なわち水平方向の集束力が垂直方向の集束力より強い非
点収差を有するように設定されている。
In the fifth grid G5, when there is no deflection, the first to third segments G5-1 to G5-3.
And a voltage of 6 KV is applied to each segment, so that there is no potential difference between the segments. On the other hand, in the fifth grid G5, 6 KV is applied to the second segment G5-2 during deflection.
And the third and third segments G5
A voltage that changes in a parabolic manner according to the amount of deflection of the electron beam is applied to −1 and G5-3. For this reason, a potential difference occurs between the segments, and a second quadrupole lens unit for compensating for the deflection aberration is formed between the sub lens unit and the main lens unit. The second quadrupole lens unit is set so as to have positive astigmatism, that is, astigmatism in which the horizontal focusing power is stronger than the vertical focusing power.

【0047】つまり、電子ビームを蛍光体スクリーンの
周辺部に偏向する際には、第3グリッドG3の両セグメ
ント間の電位差により、負の非点収差を有するような第
一の4極子レンズ部が形成され、第5グリッドG5の各
セグメント間の電位差により、正の非点収差を有するよ
うな第二の4極子レンズ部が形成される。このとき形成
される第一の4極子レンズ部は、第二の4極子レンズ部
とは常に逆の非点収差作用を有するように設定される。
That is, when deflecting the electron beam to the peripheral portion of the phosphor screen, the first quadrupole lens portion having negative astigmatism is caused by the potential difference between both segments of the third grid G3. The second quadrupole lens unit having the positive astigmatism is formed by the formed potential difference between the segments of the fifth grid G5. The first quadrupole lens unit formed at this time is set so as to always have an astigmatism action opposite to that of the second quadrupole lens unit.

【0048】ここで、プリフォーカスレンズ部を形成す
る第2グリッドG2及び第3グリッドG3の第1セグメ
ントG3−1のそれぞれの対向面に設けられた横長溝の
効果について説明する。
Here, the effect of the oblong grooves provided on the opposing surfaces of the first segment G3-1 of the second grid G2 and the third grid G3 forming the prefocus lens portion will be described.

【0049】第2グリッドG2は、プリフォーカスレン
ズ部の集束側に位置している。このため、第2グリッド
G2の横長溝102(B、R、G)により、第2グリッ
ドG2の電子ビーム通過孔G2(b、r、g)を通過し
た電子ビームのプリフォーカスレンズ部に対する仮想物
点は、水平方向の径が縮小し、垂直方向の径が拡大す
る。すなわち、第2グリッドG2を通過する電子ビーム
の仮想物点は、垂直方向に伸びた楕円形となる。また、
第2グリッドG2を通過した電子ビームは、水平方向の
発散角が拡大し、垂直方向の発散角が縮小する。
The second grid G2 is located on the converging side of the prefocus lens unit. For this reason, the virtual object 102 with respect to the prefocus lens part of the electron beam which passed through the electron beam passage hole G2 (b, r, g) of the 2nd grid G2 by the horizontally long groove 102 (B, R, G) of the 2nd grid G2. A point has a smaller horizontal diameter and a larger vertical diameter. That is, the virtual object point of the electron beam passing through the second grid G2 has an elliptical shape extending in the vertical direction. Also,
The electron beam that has passed through the second grid G2 has an increased divergence angle in the horizontal direction and a reduced divergence angle in the vertical direction.

【0050】一方、第3グリッドG3の第1セグメント
G3−1は、プリフォーカスレンズ部の発散側に位置し
ている。このため、第3グリッドG3の横長溝103
(B、R、G)により、第3グリッドG3の電子ビーム
通過孔G3(b、r、g)を通過した電子ビームのプリ
フォーカスレンズ部に対する仮想物点は、水平方向の径
が拡大し、垂直方向の径が縮小する。すなわち、第3グ
リッドG3を通過する電子ビームの仮想物点は、水平方
向に伸びた楕円形となる。また、第3グリッドG3を通
過した電子ビームは、水平方向の発散角が縮小し、垂直
方向の発散角が拡大する。
On the other hand, the first segment G3-1 of the third grid G3 is located on the diverging side of the prefocus lens portion. For this reason, the oblong groove 103 of the third grid G3
Due to (B, R, G), the virtual object point of the electron beam that has passed through the electron beam passage holes G3 (b, r, g) of the third grid G3 with respect to the prefocus lens portion has an increased horizontal diameter, The vertical diameter shrinks. That is, the virtual object point of the electron beam passing through the third grid G3 has an elliptical shape extending in the horizontal direction. The divergence angle of the electron beam passing through the third grid G3 in the horizontal direction is reduced and the divergence angle in the vertical direction is increased.

【0051】これらの作用を組み合わせることによっ
て、仮想物点径に対する相互の作用は、相殺されること
になり、円形の仮想物点を得ることができる。また、電
子ビームの発散角に対する作用は、第2グリッドG2に
形成した横長溝102(B、R、G)よりも、第3グリ
ッドG3の第1セグメントG3−1に形成した横長溝1
03(B、R、G)の方が大きい。
By combining these actions, the mutual action on the virtual object point diameter is canceled, and a circular virtual object point can be obtained. In addition, the effect on the divergence angle of the electron beam is greater than that of the elongated groove 102 (B, R, G) formed in the second grid G2 than in the elongated groove 1 formed in the first segment G3-1 of the third grid G3.
03 (B, R, G) is larger.

【0052】すなわち、水平方向についてのみ考えれ
ば、第2グリッドG2の横長溝102(B、R、G)に
よって形成される集束性のレンズ作用により、仮想物点
径は縮小され、続いて、第1セグメントG3−1の横長
溝103(B、R、G)によって形成される発散性のレ
ンズ作用により、集束レンズ側で縮小した仮想物点径を
拡大し、もとの円形の仮想物点を得ることができる。そ
の一方で、電子ビームの発散角は、第2グリッドG2の
横長溝102(B、R、G)によって拡大され、第1セ
グメントG3−1の横長溝103(B、R、G)によっ
てより強く縮小される。
That is, considering only the horizontal direction, the virtual object point diameter is reduced by the converging lens function formed by the horizontally long grooves 102 (B, R, G) of the second grid G2. Due to the divergent lens action formed by the oblong groove 103 (B, R, G) of one segment G3-1, the reduced virtual object point diameter on the focusing lens side is enlarged, and the original circular virtual object point Obtainable. On the other hand, the divergence angle of the electron beam is enlarged by the horizontally long grooves 102 (B, R, G) of the second grid G2, and is stronger by the horizontally long grooves 103 (B, R, G) of the first segment G3-1. Scaled down.

【0053】その結果、プリフォーカスレンズ部を通過
した電子ビームの水平方向は、従来と同じ程度の仮想物
点径であり、かつ従来より小さい発散角とすることがで
きる。
As a result, the horizontal direction of the electron beam that has passed through the prefocus lens portion has the same virtual object point diameter as the conventional one, and can have a smaller divergence angle than the conventional one.

【0054】電子ビームを蛍光体スクリーンの中央部に
集束する無偏向時には、上述したように、第一の4極子
レンズ部及び第二の4極子レンズ部は形成されない。し
たがって、上述したようなプリフォーカスレンズ部を通
過した電子ビームは、サブレンズ部によって予備集束さ
れ、主レンズ部によって最終的に蛍光体スクリーン上に
集束される。これにより、蛍光体スクリーン中央に到達
した電子ビームは、略円形のビームスポットとなる。
When the electron beam is focused on the central portion of the phosphor screen without deflection, the first quadrupole lens unit and the second quadrupole lens unit are not formed as described above. Therefore, the electron beam that has passed through the prefocus lens unit as described above is preliminarily focused by the sub lens unit, and is finally focused on the phosphor screen by the main lens unit. As a result, the electron beam reaching the center of the phosphor screen becomes a substantially circular beam spot.

【0055】電子ビームを蛍光体スクリーンの周辺に偏
向する偏向時には、偏向量に応じてレンズ強度が変化す
る第一及び第二の4極子レンズ部が形成される。第一の
4極子レンズ部は、上述したように、負の非点収差をも
ち、第二の4極子レンズ部は、正の非点収差をもつ。ま
た、同時に、第3グリッドG3の第2セグメントG3−
2と第4グリッドG4との電位差が大きくなり、サブレ
ンズ部のレンズ強度が強くなる。一方、第5グリッドG
5の第3セグメントG5−3と第6グリッドG6との電
位差が小さくなり、主レンズ部のレンズ強度が弱くな
る。
At the time of deflection for deflecting the electron beam to the periphery of the phosphor screen, first and second quadrupole lens portions whose lens strength changes according to the amount of deflection are formed. As described above, the first quadrupole lens unit has negative astigmatism, and the second quadrupole lens unit has positive astigmatism. At the same time, the second segment G3-
The potential difference between the second and fourth grids G4 increases, and the lens strength of the sub-lens portion increases. On the other hand, the fifth grid G
The potential difference between the third segment G5-3 of No. 5 and the sixth grid G6 decreases, and the lens strength of the main lens unit decreases.

【0056】図7は、図4に示したこの発明の電子銃構
体において、蛍光体スクリーンの周辺部に偏向された電
子ビームに適用される垂直方向及び水平方向のレンズ作
用を説明するための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining the vertical and horizontal lens action applied to the electron beam deflected to the periphery of the phosphor screen in the electron gun structure of the present invention shown in FIG. It is.

【0057】すなわち、偏向時には、図7に示すよう
に、プリフォーカスレンズ部を通過した電子ビームは、
第一の4極子レンズ部QL1、サブレンズ部SL、第二
の4極子レンズ部QL2、主レンズ部ML、及び偏向ヨ
ークの偏向収差DYにより、蛍光体スクリーン12上に
集束される。
That is, at the time of deflection, as shown in FIG. 7, the electron beam that has passed through the prefocus lens portion is
The light is focused on the phosphor screen 12 by the first quadrupole lens unit QL1, the sub lens unit SL, the second quadrupole lens unit QL2, the main lens unit ML, and the deflection aberration DY of the deflection yoke.

【0058】図7に示すように、垂直方向すなわちV軸
方向について、プリフォーカスレンズ部を通過した電子
ビームは、第一の4極子レンズ部QL1によって集束さ
れ、サブレンズ部SLによって予備集束され、第二の4
極子レンズ部QL2によって発散され、主レンズ部ML
及び偏向収差によって集束され、蛍光体スクリーン上に
到達する。水平方向すなわちH軸方向について、プリフ
ォーカスレンズ部を通過した電子ビームは、第一の4極
子レンズ部QL1によって発散され、サブレンズ部SL
によって予備集束され、第二の4極子レンズQL2によ
ってさらに予備集束され、主レンズ部MLによって集束
され、偏向収差によって発散され、蛍光体スクリーン上
に到達する。
As shown in FIG. 7, in the vertical direction, that is, in the V-axis direction, the electron beam that has passed through the prefocus lens unit is focused by the first quadrupole lens unit QL1, and preliminarily focused by the sub lens unit SL. Second 4
Diverged by the polar lens unit QL2 and the main lens unit ML
And the light is focused by the deflection aberration and reaches the phosphor screen. In the horizontal direction, that is, in the H-axis direction, the electron beam that has passed through the prefocus lens unit is diverged by the first quadrupole lens unit QL1, and the sub lens unit SL
, And further pre-focused by the second quadrupole lens QL2, converged by the main lens unit ML, diverged by the deflection aberration, and reaches the phosphor screen.

【0059】図8は、図2に示した従来の電子銃構体に
おいて、蛍光体スクリーンの周辺部に偏向された電子ビ
ームに適用される垂直方向及び水平方向のレンズ作用を
説明するための図である。
FIG. 8 is a view for explaining the vertical and horizontal lens action applied to the electron beam deflected to the periphery of the phosphor screen in the conventional electron gun structure shown in FIG. is there.

【0060】図8に示すように、従来の電子銃構体で
は、プリフォーカスレンズ部を通過した電子ビームの水
平方向の発散角α1が大きいため、主レンズ部MLに入
射する電子ビームの水平方向径が拡大される。このた
め、電子ビームの一部が、球面収差の大きな主レンズ部
MLの周縁部を通過することになり、蛍光体スクリーン
12上に到達する電子ビームのビームスポットが歪む。
As shown in FIG. 8, in the conventional electron gun assembly, since the horizontal divergence angle α1 of the electron beam passing through the prefocus lens portion is large, the horizontal diameter of the electron beam incident on the main lens portion ML is large. Is enlarged. For this reason, a part of the electron beam passes through the periphery of the main lens portion ML having large spherical aberration, and the beam spot of the electron beam reaching the phosphor screen 12 is distorted.

【0061】これに対して、図7に示したように、この
発明の電子銃構体では、プリフォーカスレンズ部を形成
する第2グリッドG2及び第3グリッドG3の第1セグ
メントG3−1は、それぞれ対向する面に、水平方向に
長軸を有する非円形状の溝102(B、R、G)および
103(B、R、G)を有している。このため、従来と
同様に、プリフォーカスレンズ部に対する仮想物点の形
状を略円形とするとともに、プリフォーカスレンズ部を
通過した電子ビームの水平方向の発散角α2を縮小する
ことができる。このため、主レンズ部MLに入射する電
子ビームの水平方向径が縮小される。したがって、主レ
ンズ部MLの使用領域が縮小され、従来のように、電子
ビームの一部が球面収差の大きな主レンズ部MLの周縁
部を通過することがなくなり、球面収差の影響を大幅に
改善することが可能となる。これにより、蛍光体スクリ
ーン12上に到達する電子ビームのビームスポットを略
円形とすることが可能となる。
On the other hand, as shown in FIG. 7, in the electron gun structure of the present invention, the first segments G3-1 of the second grid G2 and the third grid G3 forming the prefocus lens portion are respectively formed. Non-circular grooves 102 (B, R, G) and 103 (B, R, G) having a major axis in the horizontal direction are provided on opposing surfaces. Therefore, as in the related art, the shape of the virtual object point with respect to the prefocus lens unit can be made substantially circular, and the divergence angle α2 of the electron beam passing through the prefocus lens unit in the horizontal direction can be reduced. Therefore, the horizontal diameter of the electron beam incident on the main lens unit ML is reduced. Therefore, the use area of the main lens portion ML is reduced, and a part of the electron beam does not pass through the peripheral portion of the main lens portion ML having a large spherical aberration unlike the related art, and the influence of the spherical aberration is greatly improved. It is possible to do. Thereby, the beam spot of the electron beam reaching the phosphor screen 12 can be made substantially circular.

【0062】この結果、図9に示すように、蛍光体スク
リーンの中央、水平軸端、対角軸端、及び垂直軸端に到
達した電子ビームは、水平方向のにじみが少ない、かつ
横つぶれの少ない略真円状のビームスポット形状を有す
る。
As a result, as shown in FIG. 9, the electron beam arriving at the center, the horizontal axis end, the diagonal axis end, and the vertical axis end of the phosphor screen has little horizontal bleeding and is flattened. It has a small substantially circular beam spot shape.

【0063】なお、この発明の陰極線管は、図4で説明
したような構成の2重4極子方式の電子銃構体のみに適
用される物ではなく、他の2重4極子方式の電子銃構体
にも適用することができる。
It should be noted that the cathode ray tube of the present invention is not applied only to the double quadrupole type electron gun structure having the structure described with reference to FIG. Can also be applied.

【0064】図10は、この発明の陰極線管に適用され
る他の構成の電子銃構体の構造を概略的に示す図であ
る。すなわち、図10に示すように、この電子銃構体
は、図4に示した電子銃構体と同様に、3個のカソード
K(B、R、G)、及び第1乃至第6グリッドG1乃至
G6を有している。この電子銃構体の第5グリッドG5
は、Z軸方向に順に配置された第1セグメントG5−
4、及び第2セグメントG5−5を有している。第5グ
リッドG5の第1セグメントG5−4は、第3グリッド
G3の第1セグメントG3−1に管内で接続され、これ
らのグリッドには、約6KVの基準電圧が印加されてい
る。第5グリッドG5の第2セグメントG5−5は、第
3グリッドG3の第2セグメントG3−2に管内で接続
され、これらのグリッドには、約6KVの基準電圧に、
電子ビームの偏向量に応じてパラボラ状に変化する電圧
が重畳されている。
FIG. 10 is a diagram schematically showing the structure of an electron gun assembly having another configuration applied to the cathode ray tube of the present invention. That is, as shown in FIG. 10, this electron gun structure has three cathodes K (B, R, G) and first to sixth grids G1 to G6, similarly to the electron gun structure shown in FIG. have. Fifth grid G5 of this electron gun structure
Is the first segment G5- arranged sequentially in the Z-axis direction.
4 and a second segment G5-5. The first segment G5-4 of the fifth grid G5 is connected in a tube to the first segment G3-1 of the third grid G3, and a reference voltage of about 6 KV is applied to these grids. The second segment G5-5 of the fifth grid G5 is connected in a tube to the second segment G3-2 of the third grid G3, which has a reference voltage of about 6 KV,
A voltage that changes in a parabolic manner according to the amount of deflection of the electron beam is superimposed.

【0065】電子ビームを偏向する際には、第3グリッ
ドG3の第1セグメントG3−1と第2セグメントG3
−2との間に、負の非点収差を有する第一の4極子レン
ズ部が形成される。また、第5グリッドG5の第1セグ
メントG5−4と第2セグメントG5−5との間に、正
の非点収差を有する第二の4極子レンズ部が形成され
る。
When deflecting the electron beam, the first segment G3-1 and the second segment G3 of the third grid G3 are used.
A first quadrupole lens unit having negative astigmatism is formed between the first quadrupole lens unit and the second quadrupole lens unit. Further, a second quadrupole lens unit having positive astigmatism is formed between the first segment G5-4 and the second segment G5-5 of the fifth grid G5.

【0066】このように、第5グリッドG5を第一及び
第二のセグメントG5−4及びG5−5で構成しても、
第2グリッドG2及び第3グリッドG3の第1セグメン
トG3−1の各対向面に、3個の電子ビーム通過孔に対
応して、水平方向を長軸とする非円形の溝を設けること
により、上述した電子銃構体と同様の効果を得ることが
可能となる。
As described above, even if the fifth grid G5 is composed of the first and second segments G5-4 and G5-5,
By providing a non-circular groove having a major axis in the horizontal direction on each of the opposing surfaces of the first segment G3-1 of the second grid G2 and the third grid G3, corresponding to the three electron beam passage holes. The same effect as that of the above-described electron gun structure can be obtained.

【0067】また、この発明の陰極線管は、図4に示し
たような構造の電子銃構体、及び図10に示したような
構造の電子銃構体に対して、第3グリッドG3の第1セ
グメントG3−1の第2グリッドG2との対向面に、図
11に示したような横長孔113B、113R、113
Gを設けた電極を用いても良い。すなわち、第3グリッ
ドG3の第1セグメントG3−1は、第2グリッドG2
との対向面に、図11に示すように、電子ビーム通過孔
及び水平方向を長軸とする3個の非円形の溝としての機
能を兼ね備えた3個の非円形の横長孔113B、113
R、113Gを有している。すなわち、これらの3個の
横長孔113(B、R、G)は、水平方向すなわちH軸
方向の径が垂直方向すなわちV軸方向の径より大きくな
るように形成されている。図11に示した例では、これ
らの3個の孔113(B、R、G)は、横長孔であり、
H軸方向を長辺とし、V軸方向を短辺とする長方形に形
成されている。
Further, the cathode ray tube of the present invention is different from the electron gun assembly having the structure shown in FIG. 4 and the electron gun assembly having the structure shown in FIG. On the surface of G3-1 facing the second grid G2, horizontally long holes 113B, 113R, 113 as shown in FIG.
An electrode provided with G may be used. That is, the first segment G3-1 of the third grid G3 is equal to the second grid G2.
As shown in FIG. 11, three non-circular oblong holes 113B, 113 having both functions as an electron beam passage hole and three non-circular grooves having a major axis in the horizontal direction.
R, 113G. That is, these three horizontally elongated holes 113 (B, R, G) are formed such that the diameter in the horizontal direction, that is, the H-axis direction is larger than the diameter in the vertical direction, that is, the V-axis direction. In the example shown in FIG. 11, these three holes 113 (B, R, G) are horizontally long holes,
It is formed in a rectangular shape having a long side in the H-axis direction and a short side in the V-axis direction.

【0068】このような構造の第3グリッドG3の第1
セグメントG3−1を適用したとしても、上述した電子
銃構体と同様の効果を得ることが可能となる。上述した
ように、この発明の陰極線管によれば、電子ビームを蛍
光体スクリーンの周辺部に偏向する際に、プリフォーカ
スレンズ部とサブレンズ部との間に第一の4極子レンズ
部を形成し、サブレンズ部と主レンズ部との間に、第一
の4極子レンズ部とは常に逆の非点収差を有する第二の
4極子レンズ部を形成する。また、プリフォーカスレン
ズ部を構成する第1の電極としての第2グリッドG2
は、第2の電極としての第3グリッドG3の第1セグメ
ントG3−1との対向面に設けられた電子ビーム通過孔
G2(b、r、g)の周辺に水平方向を長軸とする非円
形状の溝102(B、R、G)を有している。さらに、
第3グリッドG3の第1セグメントG3−1は、第2グ
リッドG2の対向面に設けられた電子ビーム通過孔G3
(b、r、g)の周辺に水平方向を長軸とする非円形状
の溝103(B、R、G)を有している。
The first grid G3 having such a structure has the first
Even when the segment G3-1 is applied, the same effect as that of the above-described electron gun structure can be obtained. As described above, according to the cathode ray tube of the present invention, when the electron beam is deflected to the peripheral portion of the phosphor screen, the first quadrupole lens portion is formed between the prefocus lens portion and the sub lens portion. Then, a second quadrupole lens unit having astigmatism always opposite to the first quadrupole lens unit is formed between the sub lens unit and the main lens unit. Also, a second grid G2 as a first electrode constituting the prefocus lens unit
Is located around the electron beam passage hole G2 (b, r, g) provided on the surface of the third grid G3 as the second electrode facing the first segment G3-1, and has a non-linear axis extending in the horizontal direction. It has a circular groove 102 (B, R, G). further,
The first segment G3-1 of the third grid G3 is formed by an electron beam passage hole G3 provided on the surface facing the second grid G2.
A non-circular groove 103 (B, R, G) having a long axis in the horizontal direction is provided around (b, r, g).

【0069】このような構成とすることにより、電子ビ
ームを蛍光体スクリーンの中央に集束する無偏向時にお
いても、偏向装置によって蛍光体スクリーンの周辺に偏
向する偏向時においても、横つぶれが極めて少ない電子
ビームスポットを提供することができる。これにより、
蛍光体スクリーン全面で電子ビームのフォーカス特性を
良好に保ち、かつ蛍光体スクリーン全面で電子ビームス
ポットの楕円歪を抑制して、画面全面において画質を改
善することができる。
By adopting such a configuration, there is very little horizontal collapse even when the electron beam is not deflected at the center of the phosphor screen and when the electron beam is deflected to the periphery of the phosphor screen by the deflecting device. An electron beam spot can be provided. This allows
The electron beam focus characteristics can be kept good over the entire phosphor screen, and the elliptic distortion of the electron beam spot can be suppressed over the entire phosphor screen, so that the image quality can be improved over the entire screen.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、前記電
子ビーム発生部から発生された電子ビームを予備集束す
る少なくとも2つの対向配置された第1及び第2の電極
を有するプリフォーカスレンズ部と、前記プリフォーカ
スレンズ部によって予備集束された電子ビームを更に予
備集束するサブレンズ部と、前記サブレンズ部で予備収
束された電子ビームを最終的に蛍光体スクリーン上の中
央に集束する主レンズ部とを備えた電子銃構体と、前記
電子銃構体によって前記蛍光体スクリーン上に集束され
た電子ビームを、電子ビームの進行方向に対して直交す
る垂直方向及び水平方向に偏向する偏向磁界を発生する
偏向ヨークと、を備えた陰極線管において、前記プリフ
ォーカスレンズの前記第1の電極は、前記第2の電極と
の対向面に設けられた電子ビーム通過孔の周辺に水平方
向を長軸とする非円形状の溝を有し、前記第2の電極
は、前記第1の電極との対向面に設けられた電子ビーム
通過孔の周辺に水平方向を長軸とする非円形状の溝を有
し、さらに、電子ビームの偏向に伴って、前記プリフォ
ーカスレンズと前記サブレンズの間に第1多極子レンズ
を形成するとともに、前記サブレンズと前記主レンズの
間に前記第1多極子レンズとは常に逆の非点収差作用を
有する第2多極子レンズを形成する手段を備えたことを
特徴とする陰極線管を提供することができる。
As described above, according to the present invention, an electron beam generator for generating an electron beam and at least two opposed arrangements for prefocusing the electron beam generated from the electron beam generator are provided. A pre-focus lens unit having first and second electrodes, a sub-lens unit for further pre-focusing the electron beam pre-focused by the pre-focus lens unit, and an electron beam pre-focused by the sub-lens unit. An electron gun assembly having a main lens portion that is focused on the center of the phosphor screen, and an electron beam focused on the phosphor screen by the electron gun assembly is orthogonal to the traveling direction of the electron beam. And a deflection yoke that generates a deflection magnetic field that deflects in the vertical and horizontal directions. The first electrode has a non-circular groove having a long axis in the horizontal direction around an electron beam passage hole provided on a surface facing the second electrode, and the second electrode has A non-circular groove having a major axis in the horizontal direction is provided around an electron beam passage hole provided on a surface facing the first electrode. Forming a first multipole lens between the sub-lenses and forming a second multipole lens between the sub-lens and the main lens, which has astigmatism always opposite to that of the first multipole lens. A cathode ray tube characterized by comprising means for performing the above.

【0071】この陰極線管によれば、蛍光体スクリーン
全面で電子ビームのフォーカス特性を良好に保ち、かつ
蛍光体スクリーン全面で電子ビームスポットの楕円歪を
抑制することができる。
According to this cathode ray tube, it is possible to maintain good electron beam focusing characteristics over the entire phosphor screen and to suppress elliptic distortion of the electron beam spot over the entire phosphor screen.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1の(a)乃至(c)は、従来の電子銃構体
による蛍光体スクリーン上の第1象限における電子ビー
ムスポットを概略的に示す図である。
FIGS. 1A to 1C are diagrams schematically showing an electron beam spot in a first quadrant on a phosphor screen using a conventional electron gun assembly.

【図2】図2は、従来の電子銃構体の構造を概略的に示
す水平断面図である。
FIG. 2 is a horizontal sectional view schematically showing a structure of a conventional electron gun assembly.

【図3】図3は、この発明の陰極線管の一例としてのイ
ンライン型カラー陰極線管の構造を概略的に示す水平断
面図である。
FIG. 3 is a horizontal sectional view schematically showing a structure of an in-line type color cathode ray tube as an example of the cathode ray tube of the present invention.

【図4】図4は、図3に示した陰極線管に適用されるイ
ンライン型電子銃構体の構造を概略的に示す水平断面図
である。
FIG. 4 is a horizontal sectional view schematically showing the structure of an in-line type electron gun assembly applied to the cathode ray tube shown in FIG.

【図5】図5は、図4に示した電子銃構体の第2グリッ
ドの構造を概略的に示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view schematically showing a structure of a second grid of the electron gun assembly shown in FIG. 4;

【図6】図6は、図4に示した電子銃構体の第3グリッ
ドの第1セグメントの構造を概略的に示す斜視図であ
る。
FIG. 6 is a perspective view schematically showing a structure of a first segment of a third grid of the electron gun structure shown in FIG. 4;

【図7】図7は、図4に示したこの発明の電子銃構体に
おいて、蛍光体スクリーンの周辺部に偏向された電子ビ
ームに適用される垂直方向及び水平方向のレンズ作用を
説明するための図である。
FIG. 7 is a view for explaining the vertical and horizontal lens action applied to the electron beam deflected to the periphery of the phosphor screen in the electron gun structure of the present invention shown in FIG. 4; FIG.

【図8】図8は、図2に示した従来の電子銃構体におい
て、蛍光体スクリーンの周辺部に偏向された電子ビーム
に適用される垂直方向及び水平方向のレンズ作用を説明
するための図である。
FIG. 8 is a view for explaining vertical and horizontal lens action applied to an electron beam deflected to a peripheral portion of a phosphor screen in the conventional electron gun structure shown in FIG. 2; It is.

【図9】図9は、この発明の電子銃構体による蛍光体ス
クリーン上の第1象限における電子ビームスポットを概
略的に示す図である。
FIG. 9 is a diagram schematically showing an electron beam spot in a first quadrant on a phosphor screen by the electron gun assembly of the present invention.

【図10】図10は、図3に示した陰極線管に適用され
る他のインライン型電子銃構体の構造を概略的に示す水
平断面図である。
FIG. 10 is a horizontal sectional view schematically showing the structure of another in-line type electron gun assembly applied to the cathode ray tube shown in FIG.

【図11】図11は、図4及び図10に示した電子銃構
体の第3グリッドの第1セグメントの他の構造を概略的
に示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view schematically showing another structure of the first segment of the third grid of the electron gun structure shown in FIGS. 4 and 10;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…パネル 11…ファンネル 12…蛍光体スクリーン 13…シャドウマスク 15…ネック 16(R、G、B)…電子ビーム 17…電子銃構体 20…偏向ヨーク K(R、G、B)…カソード G1…第1グリッド G2…第2グリッド G3…第3グリッド G3−1…第1セグメント G3−2…第2セグメント G4…第4グリッド G5…第5グリッド G5−1…第1セグメント G5−2…第2セグメント G5−3…第3セグメント G6…第6グリッド 102(R、G、B)…横長溝 103(R、G、B)…横長溝 Reference Signs List 10 panel 11 funnel 12 phosphor screen 13 shadow mask 15 neck 16 (R, G, B) electron beam 17 electron gun assembly 20 deflection yoke K (R, G, B) cathode G1 First grid G2 Second grid G3 Third grid G3-1 First segment G3-2 Second segment G4 Fourth grid G5 Fifth grid G5-1 First segment G5-2 Second Segment G5-3: Third segment G6: Sixth grid 102 (R, G, B): Horizontal elongated groove 103 (R, G, B): Horizontal elongated groove

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武川 勉 神奈川県川崎市川崎区日進町7番地1 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 5C041 AA02 AA14 AB05 AB07 AC05 AC07 AC19 AC35 AD02 AE01 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Tsutomu Takekawa 7-1 Nisshin-cho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term (reference) in Toshiba Electronic Engineering Corporation 5C041 AA02 AA14 AB05 AB07 AC05 AC07 AC19 AC35 AD02 AE01

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電子ビームを発生する電子ビーム発生部
と、前記電子ビーム発生部から発生された電子ビームを
予備集束する少なくとも2つの対向配置された第1及び
第2の電極を有するプリフォーカスレンズ部と、前記プ
リフォーカスレンズ部によって予備集束された電子ビー
ムを更に予備集束するサブレンズ部と、前記サブレンズ
部で予備収束された電子ビームを最終的に蛍光体スクリ
ーン上の中央に集束する主レンズ部とを備えた電子銃構
体と、 前記電子銃構体によって前記蛍光体スクリーン上に集束
された電子ビームを、電子ビームの進行方向に対して直
交する垂直方向及び水平方向に偏向する偏向磁界を発生
する偏向ヨークと、 を備えた陰極線管において、 前記プリフォーカスレンズの前記第1の電極は、前記第
2の電極との対向面に設けられた電子ビーム通過孔の周
辺に水平方向を長軸とする非円形状の溝を有し、前記第
2の電極は、前記第1の電極との対向面に設けられた電
子ビーム通過孔の周辺に水平方向を長軸とする非円形状
の溝を有し、 さらに、電子ビームの偏向に伴って、前記プリフォーカ
スレンズと前記サブレンズの間に第1多極子レンズを形
成するとともに、前記サブレンズと前記主レンズの間に
前記第1多極子レンズとは常に逆の非点収差作用を有す
る第2多極子レンズを形成する手段を備えたことを特徴
とする陰極線管。
1. A prefocus lens comprising: an electron beam generator for generating an electron beam; and at least two opposed first and second electrodes for prefocusing an electron beam generated from the electron beam generator. A sub-lens section for further pre-focusing the electron beam preliminarily focused by the pre-focus lens section, and a main lens for finally converging the electron beam pre-focused by the sub lens section to the center on the phosphor screen. An electron gun assembly having a lens unit; and a deflection magnetic field for deflecting the electron beam focused on the phosphor screen by the electron gun assembly in vertical and horizontal directions orthogonal to the traveling direction of the electron beam. A deflection yoke that is generated, wherein the first electrode of the prefocus lens faces the second electrode. A non-circular groove having a long axis in the horizontal direction around an electron beam passage hole provided in the first electrode, wherein the second electrode is provided with an electron beam passage provided on a surface facing the first electrode. A non-circular groove having a long axis in the horizontal direction is provided around the hole, and a first multipole lens is formed between the prefocus lens and the sub lens with the deflection of the electron beam. And a means for forming a second multipole lens having an astigmatism effect always opposite to that of the first multipole lens between the sub lens and the main lens.
【請求項2】電子ビームを発生する電子ビーム発生部
と、前記電子ビーム発生部から発生された電子ビームを
予備集束する少なくとも2つの対向配置された第1及び
第2の電極を有するプリフォーカスレンズ部と、前記プ
リフォーカスレンズ部によって予備集束された電子ビー
ムを更に予備集束するサブレンズ部と、前記サブレンズ
部で予備収束された電子ビームを最終的に蛍光体スクリ
ーン上の中央に集束する主レンズ部とを備えた電子銃構
体と、 前記電子銃構体によって前記蛍光体スクリーン上に集束
された電子ビームを、電子ビームの進行方向に対して直
交する垂直方向及び水平方向に偏向する偏向磁界を発生
する偏向ヨークと、 を備えた陰極線管において、 前記プリフォーカスレンズの前記第1の電極は、前記第
2の電極との対向面に設けられた電子ビーム通過孔の周
辺に水平方向を長軸とする非円形状の溝を有し、前記第
2の電極は、前記第1の電極との対向面に水平方向を長
軸とする非円形状の電子ビーム通過孔を有し、 さらに、電子ビームの偏向に伴って、前記プリフォーカ
スレンズと前記サブレンズの間に第1多極子レンズを形
成するとともに、前記サブレンズと前記主レンズの間に
前記第1多極子レンズとは常に逆の非点収差作用を有す
る第2多極子レンズを形成する手段を備えたことを特徴
とする陰極線管。
2. A prefocus lens comprising: an electron beam generator for generating an electron beam; and at least two opposed first and second electrodes for pre-focusing the electron beam generated from the electron beam generator. A sub-lens section for further pre-focusing the electron beam preliminarily focused by the pre-focus lens section, and a main lens for finally converging the electron beam pre-focused by the sub lens section to the center on the phosphor screen. An electron gun assembly having a lens unit; and a deflection magnetic field for deflecting the electron beam focused on the phosphor screen by the electron gun assembly in vertical and horizontal directions orthogonal to the traveling direction of the electron beam. A deflection yoke that is generated, wherein the first electrode of the prefocus lens faces the second electrode. A non-circular groove having a major axis in the horizontal direction around the electron beam passage hole provided in the second electrode, and the second electrode has a major axis in the horizontal direction on a surface facing the first electrode. A first multipole lens is formed between the prefocus lens and the sub-lens as the electron beam is deflected, and the sub-lens and the main lens are formed. A cathode ray tube comprising means for forming a second multipole lens having an astigmatism effect always opposite to that of the first multipole lens between lenses.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100777714B1 (en) * 2001-07-06 2007-11-19 삼성에스디아이 주식회사 Electron gun for colored cathode ray tube

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