JP2000202236A - 窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方法 - Google Patents
窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方法Info
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】排ガス中の窒素酸化物濃度を平準化することが
できるため、脱硝塔などの装置の大きさが抑えられ、設
備費や運転経費を低減することができる脱硝方法を提供
する。 【解決手段】窒素酸化物を含有する排ガス中の窒素酸化
物を除去する脱硝方法において、前記排ガスを水と接触
させて窒素酸化物を吸収及び放散して窒素酸化物濃度を
平準化する濃度調節工程と、前記濃度調節工程を経た排
ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝工程を設けたことを
特徴とする窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方
法。
できるため、脱硝塔などの装置の大きさが抑えられ、設
備費や運転経費を低減することができる脱硝方法を提供
する。 【解決手段】窒素酸化物を含有する排ガス中の窒素酸化
物を除去する脱硝方法において、前記排ガスを水と接触
させて窒素酸化物を吸収及び放散して窒素酸化物濃度を
平準化する濃度調節工程と、前記濃度調節工程を経た排
ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝工程を設けたことを
特徴とする窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、窒素酸化物を含有
する排ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝方法に関し、
更に詳しくは、窒素酸化物濃度が変動する排ガス中の窒
素酸化物濃度を平準化して脱硝処理する脱硝方法に関す
る。
する排ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝方法に関し、
更に詳しくは、窒素酸化物濃度が変動する排ガス中の窒
素酸化物濃度を平準化して脱硝処理する脱硝方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工場、石油化学工場、製鉄所
などからは、比較的高濃度の窒素酸化物含有ガスが排出
されるが、その窒素酸化物を脱硝処理する方法として、
吸収液で窒素酸化物を吸収除去する湿式脱硝方法や触媒
を用いて窒素酸化物を分解除去する乾式脱硝方法が用い
られている。
などからは、比較的高濃度の窒素酸化物含有ガスが排出
されるが、その窒素酸化物を脱硝処理する方法として、
吸収液で窒素酸化物を吸収除去する湿式脱硝方法や触媒
を用いて窒素酸化物を分解除去する乾式脱硝方法が用い
られている。
【０００３】前記湿式脱硝方法においては、水酸化アル
カリやアンモニア等のアルカリ成分のみのアルカリ水溶
液を吸収液として用いたアルカリ吸収法、過マンガン酸
塩や亜塩素酸塩等の酸化剤を溶解したアルカリ水溶液を
吸収液として用いた酸化吸収法、チオ硫酸塩や硫化物等
の還元剤を溶解したアルカリ水溶液を吸収液として用い
た還元吸収法、又は、過酸化水素含有のアルカリ金属の
水酸化物及び／又は炭酸塩水溶液などが知られている。
カリやアンモニア等のアルカリ成分のみのアルカリ水溶
液を吸収液として用いたアルカリ吸収法、過マンガン酸
塩や亜塩素酸塩等の酸化剤を溶解したアルカリ水溶液を
吸収液として用いた酸化吸収法、チオ硫酸塩や硫化物等
の還元剤を溶解したアルカリ水溶液を吸収液として用い
た還元吸収法、又は、過酸化水素含有のアルカリ金属の
水酸化物及び／又は炭酸塩水溶液などが知られている。
【０００４】また、乾式脱硝方法においては、排ガス中
にアンモニアなどの還元性物質を添加して、チタン酸化
物触媒、鉄酸化物触媒又は活性炭などの触媒と接触させ
て窒素酸化物を窒素に分解して除去する方法が多く用い
られている。
にアンモニアなどの還元性物質を添加して、チタン酸化
物触媒、鉄酸化物触媒又は活性炭などの触媒と接触させ
て窒素酸化物を窒素に分解して除去する方法が多く用い
られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】窒素酸化物を含有した
排ガス中の窒素酸化物濃度は、操業形態が、短い時間で
のバッチ操作の繰り返しなどの理由のため、一般的に変
動が大きい。特に、半導体製造工場の半導体洗浄工程か
ら排出されるガスや製鉄所のコ−クス炉などからは、比
較的高濃度の窒素酸化物含有ガスと、殆ど窒素酸化物を
含有しないガスとが交互に排出されている。因みに、半
導体製造工場で排出されている排ガス中の窒素酸化物濃
度は、最高１０００ｐｐｍから最低０ｐｐｍの間で変動
して交互に排出されている。
排ガス中の窒素酸化物濃度は、操業形態が、短い時間で
のバッチ操作の繰り返しなどの理由のため、一般的に変
動が大きい。特に、半導体製造工場の半導体洗浄工程か
ら排出されるガスや製鉄所のコ−クス炉などからは、比
較的高濃度の窒素酸化物含有ガスと、殆ど窒素酸化物を
含有しないガスとが交互に排出されている。因みに、半
導体製造工場で排出されている排ガス中の窒素酸化物濃
度は、最高１０００ｐｐｍから最低０ｐｐｍの間で変動
して交互に排出されている。
【０００６】また、窒素酸化物を含有する排ガス中の窒
素酸化物を除去する脱硝装置は、脱硝処理を確実に行う
ために、排ガス中の窒素酸化物の最高濃度に基づいて、
装置の大きさや運転条件が決められており、窒素酸化物
濃度が変動する場合などには、排出される窒素酸化物総
量に比較して、脱硝塔などの装置の大きさ、湿式脱硝方
法における吸収液循環量、又は、乾式脱硝方法における
触媒充填量などの運転条件が過大となっているため、装
置の設備費や運転経費が嵩む問題があった。
素酸化物を除去する脱硝装置は、脱硝処理を確実に行う
ために、排ガス中の窒素酸化物の最高濃度に基づいて、
装置の大きさや運転条件が決められており、窒素酸化物
濃度が変動する場合などには、排出される窒素酸化物総
量に比較して、脱硝塔などの装置の大きさ、湿式脱硝方
法における吸収液循環量、又は、乾式脱硝方法における
触媒充填量などの運転条件が過大となっているため、装
置の設備費や運転経費が嵩む問題があった。
【０００７】従って、本発明は、比較的高濃度の窒素酸
化物含有ガスと、殆ど窒素酸化物を含有しないガスとの
交互排出など、窒素酸化物濃度が変動する排ガスにおい
て、脱硝装置に供給される排ガス中の窒素酸化物濃度を
平準化することにより、ＳＶ（空塔速度）の増加や湿式
脱硝方法における吸収液循環量や乾式脱硝方法における
触媒充填量の削減を図ることが可能となり、従って、脱
硝塔などの装置の大きさが抑えられることにより、設備
費や運転経費を低減することができる脱硝方法を提供す
る目的で成されたものである。
化物含有ガスと、殆ど窒素酸化物を含有しないガスとの
交互排出など、窒素酸化物濃度が変動する排ガスにおい
て、脱硝装置に供給される排ガス中の窒素酸化物濃度を
平準化することにより、ＳＶ（空塔速度）の増加や湿式
脱硝方法における吸収液循環量や乾式脱硝方法における
触媒充填量の削減を図ることが可能となり、従って、脱
硝塔などの装置の大きさが抑えられることにより、設備
費や運転経費を低減することができる脱硝方法を提供す
る目的で成されたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明の要旨は、請求項１に記載した発明において
は、窒素酸化物を含有する排ガス中の窒素酸化物を除去
する脱硝方法において、前記排ガスを水と接触させて窒
素酸化物を吸収及び放散して窒素酸化物濃度を平準化す
る濃度調節工程と、前記濃度調節工程を経た排ガス中の
窒素酸化物を除去する脱硝工程を設けたことを特徴とす
る窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方法である。
の本発明の要旨は、請求項１に記載した発明において
は、窒素酸化物を含有する排ガス中の窒素酸化物を除去
する脱硝方法において、前記排ガスを水と接触させて窒
素酸化物を吸収及び放散して窒素酸化物濃度を平準化す
る濃度調節工程と、前記濃度調節工程を経た排ガス中の
窒素酸化物を除去する脱硝工程を設けたことを特徴とす
る窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方法である。
【０００９】前記において、窒素酸化物の濃度調節工程
における水としては、工業用水、水道用水、純水又は海
水を用いることができるが、入手の容易性や経費等の関
係から工業用水を用いるのが好ましく、濃度調節工程に
おける排ガスと水との接触装置としては、充填塔、棚段
塔又はスプレ−塔などの吸収放散塔が用いられるが、吸
収効率やハンドリングの容易性等から合成樹脂製の円筒
状充填材を用いた充填塔が好ましい。しかし本発明はそ
れらの構造には限定されない。
における水としては、工業用水、水道用水、純水又は海
水を用いることができるが、入手の容易性や経費等の関
係から工業用水を用いるのが好ましく、濃度調節工程に
おける排ガスと水との接触装置としては、充填塔、棚段
塔又はスプレ−塔などの吸収放散塔が用いられるが、吸
収効率やハンドリングの容易性等から合成樹脂製の円筒
状充填材を用いた充填塔が好ましい。しかし本発明はそ
れらの構造には限定されない。
【００１０】前記窒素酸化物の濃度調節工程において
は、排ガス中の窒素酸化物濃度が比較的高濃度の時は、
水による窒素酸化物の吸収量も多くなり、脱硝工程に供
給される排ガス中の窒素酸化物濃度は、初期濃度よりも
一定量低下したガスが供給され、また、窒素酸化物濃度
が少ないか、又は、含有しない場合には、前記の高濃度
の時に吸収した窒素酸化物が放散され、脱硝工程に供給
される排ガス中の窒素酸化物濃度は、初期濃度よりも一
定量上昇したガスが供給され、従って、排ガス中の窒素
酸化物濃度が大きく変動しても、脱硝工程に供給される
窒素酸化物濃度は吸収及び放散されて平準化供給される
ことになる。
は、排ガス中の窒素酸化物濃度が比較的高濃度の時は、
水による窒素酸化物の吸収量も多くなり、脱硝工程に供
給される排ガス中の窒素酸化物濃度は、初期濃度よりも
一定量低下したガスが供給され、また、窒素酸化物濃度
が少ないか、又は、含有しない場合には、前記の高濃度
の時に吸収した窒素酸化物が放散され、脱硝工程に供給
される排ガス中の窒素酸化物濃度は、初期濃度よりも一
定量上昇したガスが供給され、従って、排ガス中の窒素
酸化物濃度が大きく変動しても、脱硝工程に供給される
窒素酸化物濃度は吸収及び放散されて平準化供給される
ことになる。
【００１１】また、脱硝工程においては、湿式脱硝方
法、又は、乾式脱硝方法のいずれでもよいが、一般的に
排ガス中の窒素酸化物は、一酸化窒素濃度が低く、二酸
化窒素濃度が高いことから、湿式脱硝方法の方が脱硝効
率が高いため、湿式脱硝方法を用いるのが好ましく、湿
式脱硝方法を用いる場合には、充填塔、棚段塔又はスプ
レ−塔等の湿式脱硝装置が用いられるが、吸収効率やハ
ンドリングの容易性等から合成樹脂製の円筒状充填材を
用いた充填塔が好ましい。しかし本発明はそれらの構造
には限定されない。
法、又は、乾式脱硝方法のいずれでもよいが、一般的に
排ガス中の窒素酸化物は、一酸化窒素濃度が低く、二酸
化窒素濃度が高いことから、湿式脱硝方法の方が脱硝効
率が高いため、湿式脱硝方法を用いるのが好ましく、湿
式脱硝方法を用いる場合には、充填塔、棚段塔又はスプ
レ−塔等の湿式脱硝装置が用いられるが、吸収効率やハ
ンドリングの容易性等から合成樹脂製の円筒状充填材を
用いた充填塔が好ましい。しかし本発明はそれらの構造
には限定されない。
【００１２】前記脱硝工程に湿式脱硝装置を用いる場合
における吸収液としては、アルカリ成分のみのアルカリ
水溶液、酸化剤を混合したアルカリ水溶液、還元剤を混
合したアルカリ水溶液、又は、過酸化水素を含有したア
ルカリ水溶液など、従来の湿式脱硝装置で用いられてい
る吸収液を用いることができるが、過酸化水素を含有し
たアルカリ溶液などを用いると、半導体製造工場排出さ
れる排水を有効利用でき、排水処理用の薬品費の低減と
吸収液の薬品費が不要となるため、極めて経済的であ
り、また、吸収効率も高く、吸収処理後に排出される吸
収液の処理における処理負荷も低くでき、後段の排水処
理装置における化学的処理の薬品費の低減や生物学的処
理の微生物の生育阻害防止を図ることができるため好ま
しい。
における吸収液としては、アルカリ成分のみのアルカリ
水溶液、酸化剤を混合したアルカリ水溶液、還元剤を混
合したアルカリ水溶液、又は、過酸化水素を含有したア
ルカリ水溶液など、従来の湿式脱硝装置で用いられてい
る吸収液を用いることができるが、過酸化水素を含有し
たアルカリ溶液などを用いると、半導体製造工場排出さ
れる排水を有効利用でき、排水処理用の薬品費の低減と
吸収液の薬品費が不要となるため、極めて経済的であ
り、また、吸収効率も高く、吸収処理後に排出される吸
収液の処理における処理負荷も低くでき、後段の排水処
理装置における化学的処理の薬品費の低減や生物学的処
理の微生物の生育阻害防止を図ることができるため好ま
しい。
【００１３】また、乾式脱硝装置を用いる場合において
は、排ガス中にアンモニアなどの還元性物質を添加し、
触媒と接触させて窒素酸化物を窒素に分解して除去する
方法が用いられる。更に、前記触媒としては、チタン酸
化物、鉄酸化物又は活性炭などの粒子状や円筒状、円柱
状、ハニカム状又は鞍状などに成形された一般的な触媒
を用いることができるが、耐久性や反応性などから、ハ
ニカム状のチタン酸化物触媒を用いるのが好ましい。
は、排ガス中にアンモニアなどの還元性物質を添加し、
触媒と接触させて窒素酸化物を窒素に分解して除去する
方法が用いられる。更に、前記触媒としては、チタン酸
化物、鉄酸化物又は活性炭などの粒子状や円筒状、円柱
状、ハニカム状又は鞍状などに成形された一般的な触媒
を用いることができるが、耐久性や反応性などから、ハ
ニカム状のチタン酸化物触媒を用いるのが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施の形
態の系統図であり、図２は窒素酸化物濃度調節工程前の
排ガス中の窒素酸化物濃度経時変化グラフ、図３は窒素
酸化物濃度調節工程後の排ガス中の窒素酸化物濃度経時
変化グラフ、図４は脱硝工程後の処理ガス中の窒素酸化
物濃度経時変化グラフ、図５は脱硝工程に供給される排
ガス中の窒素酸化物濃度とＳＶの関係を示したグラフで
ある。
て図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施の形
態の系統図であり、図２は窒素酸化物濃度調節工程前の
排ガス中の窒素酸化物濃度経時変化グラフ、図３は窒素
酸化物濃度調節工程後の排ガス中の窒素酸化物濃度経時
変化グラフ、図４は脱硝工程後の処理ガス中の窒素酸化
物濃度経時変化グラフ、図５は脱硝工程に供給される排
ガス中の窒素酸化物濃度とＳＶの関係を示したグラフで
ある。
【００１５】１は窒素酸化物を含有する排ガスを、水と
接触させて窒素酸化物を吸収及び放散し、窒素酸化物濃
度を平準化する濃度調節工程の窒素酸化物の吸収放散塔
であり、内部に合成樹脂、セラミック等で製造された円
筒状、円柱状、鞍状等の充填材が充填されて充填層６が
設けられ、また、底部には吸収液の一定量が滞留される
液溜まり部が形成され、充填層６よりも下部には、窒素
酸化物を含有した排ガスの導入管１０、液溜まり部と連
通して水を水循環ポンプ８で抜き出して充填層６へ循環
する水循環管１６、工業用水等の新規な水を供給する水
供給管１７、及び水排出管１８などが接続されている。
更に、上部には窒素酸化物濃度が平準化された排ガスを
後段の脱硝工程に供給する接続管１１、水循環管１６が
接続されている。
接触させて窒素酸化物を吸収及び放散し、窒素酸化物濃
度を平準化する濃度調節工程の窒素酸化物の吸収放散塔
であり、内部に合成樹脂、セラミック等で製造された円
筒状、円柱状、鞍状等の充填材が充填されて充填層６が
設けられ、また、底部には吸収液の一定量が滞留される
液溜まり部が形成され、充填層６よりも下部には、窒素
酸化物を含有した排ガスの導入管１０、液溜まり部と連
通して水を水循環ポンプ８で抜き出して充填層６へ循環
する水循環管１６、工業用水等の新規な水を供給する水
供給管１７、及び水排出管１８などが接続されている。
更に、上部には窒素酸化物濃度が平準化された排ガスを
後段の脱硝工程に供給する接続管１１、水循環管１６が
接続されている。
【００１６】２は前記窒素酸化物の吸収放散塔１を経た
排ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝工程の湿式脱硝塔
であり、内部に合成樹脂、セラミック等で製造された円
筒状、円柱状、鞍状等の充填材が充填されて充填層７が
形成され、底部には、吸収液の一定量が滞留される液溜
まり部が形成され、また、充填層７よりも下部には、窒
素酸化物濃度の濃度調節工程から排出された排ガスの接
続管１１、液溜まり部と連通し、吸収液を吸収液循環ポ
ンプ４で抜き出して充填層７へ循環する吸収液循環管１
３、吸収液供給ポンプ５を介して吸収液タンク３から新
規の吸収液を供給する吸収液供給管１４、及び吸収液排
出管１５などが接続されている。更に、上部には吸収液
循環管１３及び処理ガスを大気中に排出する処理ガスの
排出管１２が接続されている。
排ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝工程の湿式脱硝塔
であり、内部に合成樹脂、セラミック等で製造された円
筒状、円柱状、鞍状等の充填材が充填されて充填層７が
形成され、底部には、吸収液の一定量が滞留される液溜
まり部が形成され、また、充填層７よりも下部には、窒
素酸化物濃度の濃度調節工程から排出された排ガスの接
続管１１、液溜まり部と連通し、吸収液を吸収液循環ポ
ンプ４で抜き出して充填層７へ循環する吸収液循環管１
３、吸収液供給ポンプ５を介して吸収液タンク３から新
規の吸収液を供給する吸収液供給管１４、及び吸収液排
出管１５などが接続されている。更に、上部には吸収液
循環管１３及び処理ガスを大気中に排出する処理ガスの
排出管１２が接続されている。
【００１７】以下、前記構成の脱硝装置により窒素酸化
物を含有した排ガスから窒素酸化物を吸収除去する湿式
脱硝方法について述べる。窒素酸化物の濃度調節工程で
は、窒素酸化物を含有した排ガスは、導入管１０から窒
素酸化物の吸収放散塔１に供給され、充填層６を上向流
で流通し、また、水が水循環管１６から供給され、充填
層６を下向流で流通することにより、排ガスと水が向流
接触し、供給される排ガス中の窒素酸化物濃度により、
排ガス中の窒素酸化物が吸収及び水中の窒素酸化物が放
散される。
物を含有した排ガスから窒素酸化物を吸収除去する湿式
脱硝方法について述べる。窒素酸化物の濃度調節工程で
は、窒素酸化物を含有した排ガスは、導入管１０から窒
素酸化物の吸収放散塔１に供給され、充填層６を上向流
で流通し、また、水が水循環管１６から供給され、充填
層６を下向流で流通することにより、排ガスと水が向流
接触し、供給される排ガス中の窒素酸化物濃度により、
排ガス中の窒素酸化物が吸収及び水中の窒素酸化物が放
散される。
【００１８】即ち、排ガス中の窒素酸化物濃度が比較的
高濃度の時は、充填層６における水による窒素酸化物の
吸収量も多くなり、脱硝工程に供給される排ガス中の窒
素酸化物濃度は、初期濃度よりも一定量低下したガスが
供給される。また、窒素酸化物濃度が少ないか、又は、
含有しない場合には、前記の高濃度の時に吸収した窒素
酸化物が放散され、脱硝工程に供給される排ガス中の窒
素酸化物濃度は、初期濃度よりも一定量上昇したガスが
供給されることになる。従って、排ガス中の窒素酸化物
濃度が大きく変動しても、脱硝工程に供給される窒素酸
化物濃度は吸収及び放散されて平準化供給されることに
なる。
高濃度の時は、充填層６における水による窒素酸化物の
吸収量も多くなり、脱硝工程に供給される排ガス中の窒
素酸化物濃度は、初期濃度よりも一定量低下したガスが
供給される。また、窒素酸化物濃度が少ないか、又は、
含有しない場合には、前記の高濃度の時に吸収した窒素
酸化物が放散され、脱硝工程に供給される排ガス中の窒
素酸化物濃度は、初期濃度よりも一定量上昇したガスが
供給されることになる。従って、排ガス中の窒素酸化物
濃度が大きく変動しても、脱硝工程に供給される窒素酸
化物濃度は吸収及び放散されて平準化供給されることに
なる。
【００１９】吸収放散塔１の充填層６を下降した水は、
底部に設けられた液溜まり部に滞留されたのち、水循環
管１６に具備された循環ポンプ８で吸引されて抜き出さ
れ、水循環管１６から充填層６の上部に循環供給され
る。
底部に設けられた液溜まり部に滞留されたのち、水循環
管１６に具備された循環ポンプ８で吸引されて抜き出さ
れ、水循環管１６から充填層６の上部に循環供給され
る。
【００２０】更に、水の一部は、液溜まり部から水抜き
出し管１８で吸収放散塔１外に抜き出され、図示しない
排水処理装置で処理されたのち、河川等に放流される
が、水の抜き出し量は、水の劣化度合（不純物の含有量
等）により制御される。また、減量した水は、水供給管
１７から工業用水等の新規な水が供給される。
出し管１８で吸収放散塔１外に抜き出され、図示しない
排水処理装置で処理されたのち、河川等に放流される
が、水の抜き出し量は、水の劣化度合（不純物の含有量
等）により制御される。また、減量した水は、水供給管
１７から工業用水等の新規な水が供給される。
【００２１】脱硝工程では、吸収放散塔１を経て窒素酸
化物濃度が平準化された排ガスが、接続管１１から湿式
脱硝塔２に供給され、充填層７を上向流で流通し、ま
た、吸収液が吸収液循環管１３から供給され、充填層７
を下向流で流通することにより、排ガスと吸収液が向流
接触して排ガス中の窒素酸化物が吸収除去される。
化物濃度が平準化された排ガスが、接続管１１から湿式
脱硝塔２に供給され、充填層７を上向流で流通し、ま
た、吸収液が吸収液循環管１３から供給され、充填層７
を下向流で流通することにより、排ガスと吸収液が向流
接触して排ガス中の窒素酸化物が吸収除去される。
【００２２】吸収液は、湿式脱硝塔２の底部に設けられ
た液溜まり部に滞留されたのち、吸収液循環管１３に具
備された循環ポンプ４で吸引されて抜き出され、吸収液
循環管１３から充填層７の上部に循環供給される。ま
た、循環される吸収液は、吸収液タンク３から吸収液供
給ポンプ５で抜き出された吸収液が液溜まり部に供給さ
れて濃度が調製される。
た液溜まり部に滞留されたのち、吸収液循環管１３に具
備された循環ポンプ４で吸引されて抜き出され、吸収液
循環管１３から充填層７の上部に循環供給される。ま
た、循環される吸収液は、吸収液タンク３から吸収液供
給ポンプ５で抜き出された吸収液が液溜まり部に供給さ
れて濃度が調製される。
【００２３】更に、吸収液の一部は、液溜まり部から吸
収液抜き出し管１５で湿式脱硝塔２外に抜き出され、図
示しない排水処理装置で処理されたのち、河川等に放流
されるが、吸収液の抜き出し量は、吸収液の組成により
制御される。また、窒素酸化物が除去された処理ガス
は、処理ガス排出管１２から大気中に排出される。
収液抜き出し管１５で湿式脱硝塔２外に抜き出され、図
示しない排水処理装置で処理されたのち、河川等に放流
されるが、吸収液の抜き出し量は、吸収液の組成により
制御される。また、窒素酸化物が除去された処理ガス
は、処理ガス排出管１２から大気中に排出される。
【００２４】前記脱硝方法により、半導体製造工程から
排出される排ガス中の窒素酸化物を除去処理する例につ
いて以下に詳述する。半導体製造工程から排出される排
ガスは、図２の窒素酸化物濃度経時変化グラフで示すよ
うに、窒素酸化物濃度が、０ｐｐｍから１０００ｐｐｍ
の間で間欠的に変動しており、その排ガスを、窒素酸化
物の濃度調節工程である窒素酸化物の吸収放散塔に供給
して処理することにより、図３の窒素酸化物濃度経時変
化グラフで示すように、約５００ｐｐｍ前後に平準化さ
れる。
排出される排ガス中の窒素酸化物を除去処理する例につ
いて以下に詳述する。半導体製造工程から排出される排
ガスは、図２の窒素酸化物濃度経時変化グラフで示すよ
うに、窒素酸化物濃度が、０ｐｐｍから１０００ｐｐｍ
の間で間欠的に変動しており、その排ガスを、窒素酸化
物の濃度調節工程である窒素酸化物の吸収放散塔に供給
して処理することにより、図３の窒素酸化物濃度経時変
化グラフで示すように、約５００ｐｐｍ前後に平準化さ
れる。
【００２５】前記濃度調節工程で窒素酸化物濃度が平準
化された排ガスを、脱硝工程である湿式脱硝塔に供給し
て脱硝処理することにより、図４の窒素酸化物濃度経時
変化グラフで示すように、殆どの窒素酸化物を安定して
吸収除去することができる。
化された排ガスを、脱硝工程である湿式脱硝塔に供給し
て脱硝処理することにより、図４の窒素酸化物濃度経時
変化グラフで示すように、殆どの窒素酸化物を安定して
吸収除去することができる。
【００２６】尚、前記の湿式吸収塔におけるＳＶ（空塔
速度）は、吸収塔入口の窒素酸化物濃度が約１０００ｐ
ｐｍ及び約５００ｐｐｍの排ガスを、チオ硫酸塩溶液に
よる還元吸収法で脱硝処理し、吸収塔出口の窒素酸化物
濃度を１００ｐｐｍに維持するためのＳＶを求めてグラ
フ化した、図５の窒素酸化物濃度とＳＶの関係を示した
グラフから明確な通り、供給される排ガス中の窒素酸化
物濃度に依存しており、ＳＶ値は、供給する排ガス中の
窒素酸化物濃度が５００ｐｐｍでは、約１０００ｐｐｍ
の約２倍となる。従って、排ガス中の窒素酸化物濃度を
低い値で平準化することにより、排ガス処理量も多くで
きるため、湿式脱硝塔などの装置を小型化でき、また、
吸収液の循環量などを少なくすることができる。
速度）は、吸収塔入口の窒素酸化物濃度が約１０００ｐ
ｐｍ及び約５００ｐｐｍの排ガスを、チオ硫酸塩溶液に
よる還元吸収法で脱硝処理し、吸収塔出口の窒素酸化物
濃度を１００ｐｐｍに維持するためのＳＶを求めてグラ
フ化した、図５の窒素酸化物濃度とＳＶの関係を示した
グラフから明確な通り、供給される排ガス中の窒素酸化
物濃度に依存しており、ＳＶ値は、供給する排ガス中の
窒素酸化物濃度が５００ｐｐｍでは、約１０００ｐｐｍ
の約２倍となる。従って、排ガス中の窒素酸化物濃度を
低い値で平準化することにより、排ガス処理量も多くで
きるため、湿式脱硝塔などの装置を小型化でき、また、
吸収液の循環量などを少なくすることができる。
【００２７】
【発明の効果】本発明は、比較的高濃度の窒素酸化物含
有ガスと、殆ど窒素酸化物を含有しないガスが交互に排
出される排ガスなど、窒素酸化物濃度が変動する排ガス
の脱硝方法において、脱硝装置に供給される窒素酸化物
含有ガス中の窒素酸化物を平準化することにより、ＳＶ
（空塔速度）の増加や吸収液循環量の減少などを図るこ
とができるため、脱硝塔などの装置の大きさを抑えるこ
とができ、また、運転経費の低減を図ることができる。
有ガスと、殆ど窒素酸化物を含有しないガスが交互に排
出される排ガスなど、窒素酸化物濃度が変動する排ガス
の脱硝方法において、脱硝装置に供給される窒素酸化物
含有ガス中の窒素酸化物を平準化することにより、ＳＶ
（空塔速度）の増加や吸収液循環量の減少などを図るこ
とができるため、脱硝塔などの装置の大きさを抑えるこ
とができ、また、運転経費の低減を図ることができる。
【図１】本発明の一実施の形態の系統図
【図２】窒素酸化物濃度調節工程前の排ガス中の窒素酸
化物濃度経時変化グラフ
化物濃度経時変化グラフ
【図３】窒素酸化物濃度調節工程後の排ガス中の窒素酸
化物濃度経時変化グラフ
化物濃度経時変化グラフ
【図４】脱硝工程後の処理ガス中の窒素酸化物濃度経時
変化グラフ
変化グラフ
【図５】脱硝工程に供給される排ガス中の窒素酸化物濃
度とＳＶの関係を示したグラフ
度とＳＶの関係を示したグラフ
１：吸収放散塔 ２：湿式脱硝塔 ３：吸収液タンク ４：吸収液循環ポンプ ５：吸収液供給ポンプ ６：吸収剤層 ７：充填層 ８：水循環ポンプ １０：排ガスの導入管 １１：接続管 １２：処理ガス排出管 １３：吸収液循環管 １４：吸収液供給管 １５：吸収液排出管 １６：水循環管 １７：水供給管 １８：水排出管
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D002 AA12 AC03 AC10 BA02 BA03 BA05 BA06 CA01 CA07 DA01 DA07 DA11 DA12 DA14 DA21 DA22 DA35 DA41 DA52 EA01 EA02 GA02 GA03 GB01 GB02 HA03
Claims (1)
- 【請求項１】窒素酸化物を含有する排ガス中の窒素酸化
物を除去する脱硝方法において、前記排ガスを水と接触
させて窒素酸化物を吸収及び放散して窒素酸化物濃度を
平準化する濃度調節工程と、前記濃度調節工程を経た排
ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝工程を設けたことを
特徴とする窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11009959A JP2000202236A (ja) | 1999-01-19 | 1999-01-19 | 窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11009959A JP2000202236A (ja) | 1999-01-19 | 1999-01-19 | 窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000202236A true JP2000202236A (ja) | 2000-07-25 |
Family
ID=11734491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11009959A Pending JP2000202236A (ja) | 1999-01-19 | 1999-01-19 | 窒素酸化物濃度が変動する排ガスの脱硝方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000202236A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7288140B2 (en) | 2001-12-25 | 2007-10-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Wet process gas treatment apparatus |
| JP2013027817A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | National Agriculture & Food Research Organization | 臭気量平準化方法及び装置 |
| CN103170232A (zh) * | 2013-04-12 | 2013-06-26 | 陈洪会 | 一种湿法氧化脱硝的集成装置 |
-
1999
- 1999-01-19 JP JP11009959A patent/JP2000202236A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7288140B2 (en) | 2001-12-25 | 2007-10-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Wet process gas treatment apparatus |
| JP2013027817A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | National Agriculture & Food Research Organization | 臭気量平準化方法及び装置 |
| CN103170232A (zh) * | 2013-04-12 | 2013-06-26 | 陈洪会 | 一种湿法氧化脱硝的集成装置 |
| CN103170232B (zh) * | 2013-04-12 | 2016-04-06 | 陈洪会 | 一种湿法氧化脱硝的集成装置 |
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