JP2000204254A - Silsesquioxane electrolyte composition and electrophotographic charge generation element - Google Patents
Silsesquioxane electrolyte composition and electrophotographic charge generation elementInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は変性シルセスキオキ
サン(シロキサンポリマー)を含む電解質組成物に関
し、固体電解質層中にその組成物を含む電子写真帯電発
生要素に関する。本発明は、特に電子写真技術の分野に
おいて有用である。[0001] The present invention relates to an electrolyte composition containing a modified silsesquioxane (siloxane polymer), and to an electrophotographic charge generating element containing the composition in a solid electrolyte layer. The invention is particularly useful in the field of electrophotography.
【0002】[0002]
【従来の技術】電荷搬送要素は、一般に支持体及び一定
の条件下に電荷がそこを横切って移動する電荷搬送層を
含む。電荷搬送要素は電子写真の帯電発生要素を含む。BACKGROUND OF THE INVENTION Charge transport elements generally include a support and a charge transport layer across which charges move under certain conditions. The charge transport element includes an electrophotographic charge generating element.
【0003】そのような帯電発生要素(電子写真要素と
しても知られている)の使用において、入射光はその要
素の種々の層の全域に分離帯電を引き起こす。帯電発生
層内に生成された電子−空孔の対の電子及び孔は分離
し、そして反対方向に移動して導電層とその要素の反対
側の表面との間に帯電を生じさせる。その帯電が静電電
位の図形(静電潜像ともいう)を形成する。その静電潜
像は種々の手段、例えばその表面に予備形成されている
均一の電位を像様に放射誘発放電することにより形成さ
れる。典型的には、静電潜像は次いで、その静電潜像を
電子画像現像剤と接触させることによりトナー画像に現
像され、次にトナー画像は受像材料に融着される。所望
であれば、静電潜像は現像前に別の表面に転送すること
ができ、或いはトナー像は溶融前に転送することもでき
る。In the use of such a charge generating element (also known as an electrophotographic element), incident light causes a separate charge across the various layers of the element. The electrons and holes of the electron-vacancy pair created in the charge generating layer separate and move in opposite directions to create a charge between the conductive layer and the opposite surface of the element. The charging forms a figure of electrostatic potential (also called an electrostatic latent image). The electrostatic latent image is formed by various means, for example, by image-wise radiation-induced discharge of a uniform potential preformed on the surface. Typically, the electrostatic latent image is then developed into a toner image by contacting the electrostatic latent image with an electronic image developer, and the toner image is then fused to an image receiving material. If desired, the electrostatic latent image can be transferred to another surface before development, or the toner image can be transferred before fusing.
【0004】保護被膜(overcoat)の抵抗率
(resistivity)は電子写真システムに大き
な因果関係を有している。保護被膜が高い固有抵抗を有
する場合、電圧低下に対する時間定数は、電子写真要素
の工程時間に比較して過度に長いものとなり、保護被膜
には、下にある光受容体の光放電の後でも残留電位が残
る。残留電位の大きさは、初期電位、種々の層の誘電率
及び各層の厚さに依存する。[0004] The resistivity of an overcoat has a significant consequence in electrophotographic systems. If the protective coating has a high resistivity, the time constant for the voltage drop will be excessively long compared to the processing time of the electrophotographic element, and the protective coating will have a time constant even after photodischarge of the underlying photoreceptor. Residual potential remains. The magnitude of the residual potential depends on the initial potential, the dielectric constant of the various layers and the thickness of each layer.
【0005】シルセスキオキサンは、時々式(RSiO
1.5)z で表される、通常トリアルコキシシランの加水分
解及び縮合により製造されるシロキサンポリマーであ
る。そのポリマーの一部は、ポリエーテル又はポリジア
ルコキシシランを含む変性がなされてきた。一般に、そ
のような物質の被膜は厚さ0.5〜10μmであり、水
性アルコール溶媒系により塗布されている。それらは長
年、多くの供給者(例えば、Dow Corning,
General Electric及びOptical
Technologies)より市販されてきた。多
くの特許が、種々の目的で耐摩耗性被膜を提供するため
にそのようなポリマーを利用することについて記載して
いる(例えば、米国特許第4,027,073号、同第
4,159,206号、同第4,277,287号、同
第4,324,712号、同第4,407,920号、
同第4,439,509号、同第4,595,602号
及び同第4,923,775号参照)。そのようなポリ
マーの典型的な用途には、アクリルレンズ、光受容体及
び透明艶出材料の上の耐引掻性被膜が含まれ、また光導
電体要素の保護被膜としての用途が含まれる。例えば、
米国特許第4,159,206号には、メタノール/水
溶媒系にコロイドシリカと、ジアルキルジアルコキシシ
ラン及びアルキルトリアルコキシシランの混合物とを含
む、中性にチャージされた耐久性被覆組成物が記載され
ている。シランの混合物は反応してシルセスキオキサン
を生成すると考えられる。[0005] Silsesquioxanes are sometimes represented by the formula (RSiO
1.5 ) A siloxane polymer represented by z , usually produced by hydrolysis and condensation of trialkoxysilane. Some of the polymers have been modified to include polyethers or polydialkoxysilanes. Generally, coatings of such materials are 0.5 to 10 μm thick and are applied with a hydroalcoholic solvent system. They have been in use for many years with many suppliers (eg, Dow Corning,
General Electric and Optical
(Technologies). A number of patents describe the use of such polymers to provide abrasion resistant coatings for various purposes (eg, US Pat. Nos. 4,027,073, 4,159,459). No. 206, No. 4,277,287, No. 4,324,712, No. 4,407,920,
Nos. 4,439,509, 4,595,602 and 4,923,775). Typical uses for such polymers include scratch resistant coatings on acrylic lenses, photoreceptors and transparent glazing materials, and also include use as protective coatings on photoconductor elements. For example,
U.S. Pat. No. 4,159,206 describes a neutrally charged durable coating composition comprising colloidal silica and a mixture of dialkyldialkoxysilane and alkyltrialkoxysilane in a methanol / water solvent system. Have been. It is believed that the mixture of silanes reacts to form silsesquioxane.
【0006】ポリマーと無機固体イオンと導体の表面導
電率は、1×10-8〜10(Ω/□) -1の範囲である
[表面導電率は厚さで除した導電率に等しく(Ω/□)
-1で表される]。表面抵抗率は抵抗率を厚さで除した値
いに等しくΩ/□で表される。例えば、厚さ5μmを有
する層の抵抗率1×1014Ω/−cmは表面抵抗率2×
1017に等しい。固体電解質は再充電可能なリチウム電
池、電気化学センサー及び表示装置に用いられる。The surface conductivity of the polymer, the inorganic solid ion and the conductor is in the range of 1 × 10 −8 to 10 (Ω / □) −1 [the surface conductivity is equal to the conductivity divided by the thickness (Ω). / □)
-1 ]. The surface resistivity is equal to the resistivity divided by the thickness and expressed in Ω / □. For example, a layer having a thickness of 5 μm has a resistivity of 1 × 10 14 Ω / −cm and a surface resistivity of 2 × 10 Ω / −cm.
It is equal to 10 17 . Solid electrolytes are used in rechargeable lithium batteries, electrochemical sensors and displays.
【0007】さらに最近、米国特許第5,693,44
2号及び第5,731,117号には、電子写真帯電発
生要素の保護被膜として用いられるガラス状固体電解質
に、シルセスキオキサンが使用されることが記載されて
いる。プロピルトリメトキシシランがそのようなポリマ
ーに誘導されてより多くの有機的性質をその層に付与
し、且つグリシドキシエーテル置換シランがヨウ化リチ
ウムと錯体を形成して付加導電率(added con
ductivity)を与える。More recently, US Pat. No. 5,693,44
No. 2 and 5,731,117 describe the use of silsesquioxane as a glassy solid electrolyte used as a protective coating for electrophotographic charge generating elements. Propyltrimethoxysilane is derived from such polymers to impart more organic properties to the layer, and glycidoxyether-substituted silanes form a complex with lithium iodide to provide added conductivity.
duty).
【0008】電子写真帯電発生要素に像を形成させると
きには、典型的にそれらは、使用の間に種々の気体を生
成するコロナ導線の近くに位置させる。もし適切に防護
されていなければ、これら放出された気体はその要素の
光導電体層に有害な影響を与おそれがある。言及された
特許のガラス状固体電解質層は、望ましい耐摩耗性及び
表面抵抗率を付与する保護被膜として、当該技術分野に
おける進歩を提供するが、コロナ放電から受ける損傷に
対する耐性を増大させるニーズがあることが見出され
た。[0008] When the electrophotographic charge generating elements are to be imaged, they are typically located near corona conductors that generate various gases during use. If not properly protected, these released gases can have a deleterious effect on the photoconductor layer of the element. The glassy solid electrolyte layer of the mentioned patent offers an advance in the art as a protective coating that imparts the desired abrasion resistance and surface resistivity, but there is a need to increase resistance to damage from corona discharge Was found.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】一般に、保護被覆され
ていない光導電体では時間が過ぎてから潜像の広がりが
検出されることはないが、帯電保護被膜を追加すると、
特に湿度の高いときには像の崩壊が経時的に起こるよう
になる。しかし上に指摘したように、保護被膜層はその
他の理由のために必要である(例えば、耐摩耗性及びそ
の他の機械的性質)。このように産業界には、耐摩耗
性、表面抵抗率及びコロナ放電からの保護を犠牲にする
ことなしに、そのような要素における潜像の広がりを低
減する(特に高い湿度で用いられるとき)ニーズが存在
する。In general, the spread of a latent image is not detected after a lapse of time in an unprotected photoconductor, but when a charge protective film is added,
Especially when the humidity is high, the image collapses with time. However, as noted above, a protective coating layer is necessary for other reasons (eg, wear resistance and other mechanical properties). The industry thus reduces the spread of latent images in such elements without sacrificing wear resistance, surface resistivity and protection from corona discharge (particularly when used at high humidity). Needs exist.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】前記問題は、順に: (a)導電層、(b)光導電体帯電発生層、及び(c)
1種又はそれ以上の多いシルセスキオキサンを含むシル
セスキオキサン塩錯体を含む固体電解質層であって、そ
の中に存在する全シリル(−OSi−)単位の1〜50
モル%が加水分解性(HYDROLYZABLE)基を
2個のみ有するシランから誘導されたものである固体電
解質層、を含んでなる電子写真の帯電発生要素によって
克服した。The problems are, in order ,: (a) a conductive layer, (b) a photoconductor charge generation layer, and (c) a conductive layer.
A solid electrolyte layer comprising a silsesquioxane salt complex comprising one or more silsesquioxanes, wherein 1 to 50 of the total silyl (-OSi-) units present therein.
The problem was overcome by an electrophotographic charge generating element comprising a solid electrolyte layer in which mole percent was derived from a silane having only two hydrolyzable (HYDROLYZABLE) groups.
【0011】本発明はまた、上記の電子写真帯電発生要
素及び電子写真トナーの析出像を含んでなる現像された
電子写真要素を提供する。The present invention also provides a developed electrophotographic element comprising the above electrophotographic charge generating element and a deposited image of an electrophotographic toner.
【0012】本発明はまた、溶媒中にシルセスキオキサ
ン塩錯体を含んでなる電解質被覆組成物であって、その
組成物が1種又はそれ以上のシルセスキオキサンを含
み、その中に存在する全シリル(−OSi−)単位の1
〜50モル%が加水分解性基を2個のみ有するシランか
ら誘導されたものである被覆組成物を提供する。The present invention also provides an electrolyte coating composition comprising a silsesquioxane salt complex in a solvent, wherein the composition comprises one or more silsesquioxane, wherein the composition comprises one or more silsesquioxane salts. Of all silyl (-OSi-) units
Provided is a coating composition wherein 5050 mol% is derived from a silane having only two hydrolyzable groups.
【0013】本発明者らは、本発明の電解質被覆組成物
が、固体層として適用されたときコロナ放電に由来する
潜像の広がりに対してより大きな耐性を提供することを
見出した。この利点は多数回使用の後では特に顕著であ
る。このように本発明によれば、多様な像が形成された
後でさえも像の識別性が維持される。さらに、固体電解
質層もまた、優れた耐摩耗性、低い脆弱さ及び望ましい
電荷搬送性を提供する。The present inventors have found that the electrolyte coating compositions of the present invention provide greater resistance to the spread of latent images due to corona discharge when applied as a solid layer. This advantage is particularly pronounced after multiple uses. Thus, according to the present invention, the discriminability of the images is maintained even after various images are formed. In addition, the solid electrolyte layer also provides excellent wear resistance, low brittleness and desirable charge transport properties.
【0014】これらの利点は、具体的二置換シロキサン
部分をシルセスキオキサンポリマーに組み込むことによ
って、すなわち、ポリマー又はポリマー混合物中の全シ
リル単位の50モル%以下だけが、2個のみの加水分解
性基(以下に定義されるような)を有するシランから誘
導されるようなシルセスキオキサンポリマーの、具体的
混合物を用いることによって達成された。これらのシロ
キサン部分が固体電解質層の表面へ移動しないというこ
とは、驚くべきことであった。These advantages are achieved by incorporating specific disubstituted siloxane moieties into the silsesquioxane polymer, ie, only 50 mol% or less of the total silyl units in the polymer or polymer mixture have only two hydrolysates. This was achieved by using a specific mixture of silsesquioxane polymers, such as those derived from silanes having a functional group (as defined below). It was surprising that these siloxane moieties did not migrate to the surface of the solid electrolyte layer.
【0015】その上、本発明の電解質組成物は、下の層
又は環境に対して害を与えない水性アルコール溶媒混合
物から好都合に塗布することができる。In addition, the electrolyte compositions of the present invention can be conveniently applied from aqueous alcohol solvent mixtures that do not harm the underlying layers or the environment.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】本発明は、特別に変性されたシル
セスキオキサンポリマーもしくはポリマー混合物の、電
子写真帯電発生要素における保護被覆すなわち固体電解
質層中での新規な用途に基づくものである。シルセスキ
オキサンは錯塩の形で存在するのでその層もまた電荷を
搬送する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is based on the novel use of a specially modified silsesquioxane polymer or polymer mixture in a protective coating or solid electrolyte layer in an electrophotographic charge generating element. Since silsesquioxane exists in the form of a complex salt, the layer also carries charges.
【0017】本発明の帯電発生要素は、導電層、帯電発
生層及び電荷搬送層としての固体電解質層を含む。この
要素はさらに、別個の支持体を含むことができるが、そ
の支持体もまた導電層であることができる。本明細書で
記載される固体電解質層は本発明の組成物から処方され
ることができ、そして広範な分野の装置で(例えば、光
起電性要素、表示装置及びセンサー)用いることができ
るが、それらは、電子写真要素として配列される帯電発
生要素に好適に用いられる。これらの要素は正又は負に
帯電することができ、以下により詳細に論じるように、
広い多様な形態を持つことができる。The charge generation element of the present invention includes a conductive layer, a charge generation layer, and a solid electrolyte layer as a charge transport layer. The element can further include a separate support, which can also be a conductive layer. The solid electrolyte layers described herein can be formulated from the compositions of the present invention and can be used in a wide variety of devices (eg, photovoltaic elements, displays, and sensors). They are suitably used for charge generating elements arranged as electrophotographic elements. These elements can be positively or negatively charged, and as discussed in more detail below,
Can have a wide variety of forms.
【0018】本発明の帯電発生要素において、帯電発生
層は導電層の上に重なっている。固体電解質層は帯電発
生層の上に覆い被さっている。得られる要素は、本明細
書ではあたかもその要素が水平に配置された平板の形態
であるかのように記載されている。しかしながら、その
要素は如何なる特定の形態にも限定されず、方向を示す
用語は単に相対的な位置を示すに過ぎず、周囲に関して
絶対的な方向を示すものではないということは理解され
るべきである。固体電解質層もまた、ここでは便宜上、
帯電発生層の保護被覆として示す。この語は、帯電発生
層の領域を限定するものとして理解されるべきではな
く、また、これが非常に好適ではあるが、その保護被膜
が最も上にあることを必ずしも意味してはいない。In the charge generation element of the present invention, the charge generation layer overlies the conductive layer. The solid electrolyte layer covers the charge generation layer. The resulting element is described herein as if the element were in the form of a horizontally arranged flat plate. However, it is to be understood that the elements are not limited to any particular form, and that directional terms indicate only relative positions and not absolute directions with respect to the surroundings. is there. The solid electrolyte layer is also referred to here for convenience.
Shown as a protective coating for the charge generation layer. The term should not be understood as limiting the area of the charge generating layer, and although this is highly preferred, it does not necessarily mean that the protective coating is on top.
【0019】一般に、固体電解質層は少なくとも0.5
μm、好ましくは少なくとも1μmで、且つ一般に10
μmまでの厚さを有している。その要素のその他の層は
この技術分野で慣用となっているであろう厚さを有する
ことができる。Generally, the solid electrolyte layer has at least 0.5
μm, preferably at least 1 μm, and generally 10 μm.
It has a thickness of up to μm. Other layers of the element can have a thickness that would be conventional in the art.
【0020】固体電解質層は、シルセスキオキサンと帯
電キャリヤーとの錯体を含んでなり、それらは両方とも
以下により詳細に定義される。接頭語の「セスキ」は1
と1/2化学論の酸素を表し、「シロキサン」は珪素含
有物質を表す。シルセスキオキサンは従って、一般構造
式(RSiO1.5)z によって表され、ここでRは有機基
でありzは繰り返し単位の数を表す。この式は、場合に
よっては、{Si(O 1/2)3 R}z とも書かれ、シルセ
スキオキサンの有用な略記法であるが、完全に硬化した
シルセスキオキサンに対しての場合を除いてこの物質を
完全には特徴付けてはいない。シルセスキオキサンは不
完全硬化状態でも用いられうるので、このことは重要で
ある。さらなる述語については米国特許第5,731,
117号及び、グレイザー等(Glaser et a
l.)によるJ.Non−Crystalline S
olids,113(1989)7387に記載されて
いる。この語には、それぞれ、1個、2個、3個又は4
個の原子に結合された種々のシリル単位における珪素原
子を表すために、頭文字「M」、「D」、「T」および
「Q」が用いられる。The solid electrolyte layer is composed of a silsesquioxane and a band.
Comprising complexes with electric carriers, both of which are
It is defined in more detail below. The prefix "sesqui" is 1
And 1 / of oxygen in chemistry.
Represents a substance. Silsesquioxane therefore has the general structure
The formula (RSiO1.5)zWhere R is an organic group
And z represents the number of repeating units. This expression is
Therefore, {Si (O 1/2)ThreeR}zAlso written, Silse
A useful abbreviation for squioxane, but fully cured
Except for silsesquioxane,
Not fully characterized. Silsesquioxane is not
This is important because it can be used in a fully cured state.
is there. For further predicates see US Pat. No. 5,731,
No. 117 and Glaser et a.
l. ). Non-Crystalline S
Olids, 113 (1989) 7387
I have. The term includes 1, 2, 3, or 4 respectively
Source in various silyl units bound to a single atom
The acronyms "M", "D", "T" and
"Q" is used.
【0021】本明細書で使用する「シルセスキオキサ
ン」は、種々のシロキサンの共重合により製造される
「変性シルセスキオキサン」はもとより、当業界で述べ
られている慣用のポリマーのどちらをも指す。慣用のシ
ルセスキオキサンの例は下記の構造式IIに示されてお
り、変性シルセスキオキサンの例は下記の構造式I及び
IVで示される。As used herein, “silsesquioxane” refers to any of the conventional polymers described in the art, as well as “modified silsesquioxane” produced by copolymerization of various siloxanes. Also refers to. Examples of conventional silsesquioxanes are shown in Structural Formula II below, and examples of modified silsesquioxanes are in Structural Formulas I and
Indicated by IV.
【0022】本発明で用いられるシルセスキオキサンは
硬化の様々な段階で存在し且つ使用できる一方、その硬
化の状態で識別することができる。硬化の状態は、通常
ポリマーマトリックス中で反応された加水分解性基の数
で示される。好ましい態様においては、部分的に硬化し
たポリマーは下にある層が熱感受性であるという理由か
ら用いられる。例えば下記の構造式Iにおいて、「m」
モル%存在するシリル単位(又はm’単位)はグレイザ
ー等による出版物で定義されたように、T0 ,T1 ,T
2 及びT3 として識別される硬化の状態を有しうる。完
全に硬化したシルセスキオキサンはT3 である。部分硬
化ポリマーでは、実質的に全てのシリル単位はT2 又は
T3 である。このように、硬化の程度はT3 に対するT
2 の比によって定量されることができ、その比は硬化の
増加に従って小さくなる。While the silsesquioxanes used in the present invention can be present and used at various stages of curing, they can be distinguished by their state of cure. The state of cure is usually indicated by the number of hydrolysable groups reacted in the polymer matrix. In a preferred embodiment, a partially cured polymer is used because the underlying layer is heat sensitive. For example, in the following structural formula I, "m"
The silyl units (or m 'units) present in mole% are T 0 , T 1 , T 1 , as defined in the publication by Glaser et al.
It can have the state of cure which is identified as 2 and T 3. Fully cured silsesquioxane is T 3. The partially cured polymer, substantially all of the silyl units are T 2 or T 3. Thus, the degree of cure is T 3 relative to T 3 .
It can be quantified by the ratio of 2 , which ratio decreases with increasing cure.
【0023】さらに、構造式I及びIVにおいて「n」モ
ル%存在するシリル単位は、グレイザー等によって記載
されたように、それらの硬化状態によってD1 又はD2
と表されることができる。同様に、D2 に対するD1 の
比が硬化の状態を示しており、硬化の増進につれて小さ
くなる。「D」シリル単位は、もしシルセスキオキサン
に共有結合していなければ固体電解質層中に存在するで
あろう。Furthermore, the silyl units present in "n" mol% in structural formulas I and IV can be D 1 or D 2 depending on their curing state, as described by Glazer et al.
Can be expressed as Similarly, shows the state of the ratio of D 1 is cured for D 2, it becomes smaller as the promotion of curing. "D" silyl units will be present in the solid electrolyte layer if not covalently linked to silsesquioxane.
【0024】一般に、本発明の実施において有用な、シ
ルセスキオキサンにおける炭素原子と珪素原子のモル比
は少なくとも1.1:1である。好ましくは、そのモル
比は少なくとも1.2:1である。Generally, the carbon to silicon mole ratio in the silsesquioxane useful in the practice of the present invention is at least 1.1: 1. Preferably, the molar ratio is at least 1.2: 1.
【0025】本発明のいくつかの態様において、本発明
に有用なシルセスキオキサンは、一般に次の構造式I:In some embodiments of the present invention, silsesquioxanes useful in the present invention generally have the structural formula I:
【0026】[0026]
【化6】 (式中、−A−は構造式Ia:Embedded image (Wherein -A- is a structural formula Ia:
【0027】[0027]
【化7】 で表され、且つ−B−は構造式Ib:Embedded image And -B- has the structural formula Ib:
【0028】[0028]
【化8】 で表される)で表される。Embedded image ).
【0029】さらに本発明の電解質組成物は、構造式II
及びIII :Further, the electrolyte composition of the present invention has a structural formula II
And III:
【0030】[0030]
【化9】 で表されるホモポリマー又はコポリマーの混合物を含む
ことができる。Embedded image And mixtures of homopolymers or copolymers represented by
【0031】これらの構造式の構成成分は以下により詳
細に定義される。特に有用なシルセスキオキサンは、2
つのタイプのシリル単位が共重合されていることを示す
次の構造式IV:The components of these structural formulas are defined in more detail below. Particularly useful silsesquioxanes are 2
The following structural formula IV shows that two types of silyl units are copolymerized:
【0032】[0032]
【化10】 によって示すことができる。Embedded image Can be indicated by:
【0033】上記の構造式において、HYDROLYZ
ABLEは、ヒドロキシ又は、一価の、ポリマー生成の
間に採用された条件下で容易に加水分解する「加水分解
性基」を示す。ポリマー中のそのHYDROLYZAB
LE基は、立体的な束縛又はその他の理由で生成の間に
加水分解されなかった個々の基を表す。通常、本発明に
有用なポリマーにおいて、HYDROLYZABLE基
はほとんどヒドロキシ基である。しかしながら、その他
のHYDROLYZABLE基には、これらに限定され
るものではないが、水素、ハロ基(例えば、ヨウ化物、
臭化物及び塩化物)、1〜6の炭素を有するアルコキシ
基、アリールオキシ基〔ここでアリール部分は置換され
又は置換されないことができる(例えばアミノフェニ
ル)〕、炭素原子を7以下有する置換又は非置換のアル
キルカルボキシ基(例えばアセトキシ及びエチルカルボ
キシ)、及び、−(O−アルキレン)p −O−アルキル
基(ここで「アルキレン」部分は2〜6の炭素を有する
置換又は非置換のアルキレン基であり、pは1〜3の整
数であり、「アルキル」部分は1〜6の炭素を有する置
換又は非置換のアルキル基である)を含んで存在する。
その他の有用なHYDROLYZABLE基には、1〜
6の炭素原子を有する一級及び二級アミノ基、例えば−
N(アルキル)2 (ここでアルキル基はそれぞれ独立し
て1〜6の炭素原子を有することができる)及び−NH
(アルキル)(ここでアルキル基は1〜6の炭素原子を
有する)、並びに、アルキルカルボキシ基(又はカルボ
キシルアルキル基)〔ここで「アルキル」部分は1〜6
の炭素原子を有している(例えばアセトキシメチル及び
アセトキシエチル)〕である。実質的に全てのHYDR
OLYZABLE基がヒドロキシ基であることが好まし
い。In the above structural formula, HYDROLYZ
ABLE refers to hydroxy or monovalent, "hydrolysable groups" that readily hydrolyze under the conditions employed during polymer formation. HYDROLYZAB in polymer
LE groups represent individual groups that have not been hydrolyzed during formation due to steric constraints or other reasons. Usually, in the polymers useful in the present invention, the HYDROLYZABLE group is mostly a hydroxy group. However, other HYDROLYZABLE groups include, but are not limited to, hydrogen, halo groups (eg, iodide,
Bromide and chloride), alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, aryloxy groups (where the aryl moiety can be substituted or unsubstituted (eg, aminophenyl)), substituted or unsubstituted having 7 or less carbon atoms. Alkylcarboxy groups (e.g., acetoxy and ethylcarboxy) and-(O-alkylene) p- O-alkyl groups wherein the "alkylene" moiety is a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 6 carbons , P is an integer from 1 to 3 and the “alkyl” moiety is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbons).
Other useful HYDROLYZABLE groups include 1-
Primary and secondary amino groups having 6 carbon atoms, for example-
N (alkyl) 2, where each alkyl group can independently have from 1 to 6 carbon atoms, and -NH
(Alkyl) wherein the alkyl group has 1 to 6 carbon atoms, and an alkylcarboxy group (or carboxylalkyl group) wherein the "alkyl" moiety is 1 to 6
(For example, acetoxymethyl and acetoxyethyl)]. Virtually all HYDR
Preferably, the OLYZABLE group is a hydroxy group.
【0034】わずかな百分率の珪素原子は2又は3の
「非加水分解性」有機基を担うことができ、或いはわず
かな百分率の珪素原子は別の金属原子、例えばアルミニ
ウムによって置き換えられることができ、或いはまたわ
ずかな百分率の珪素原子は、本明細書に記されるLIN
K−ACTIVE及びINACTIVEの定義の範囲内
にはない有機基を担うこともできるであろう。A small percentage of silicon atoms can carry two or three "non-hydrolyzable" organic groups, or a small percentage of silicon atoms can be replaced by another metal atom, for example, aluminum; Alternatively, a small percentage of the silicon atoms may have a LIN as described herein.
It could also carry organic groups that are not within the definition of K-ACTIVE and INACTIVE.
【0035】本発明に有用なシルセスキオキサン及びそ
の他のポリマーは、比較的大きなオリゴマー又はポリマ
ーである。構造式I及びIVにおいて「m」及び「n」の
両方で表されるシリル単位の合計数(すなわち、シリル
単位の合計数)は、それぞれのポリマーについて少なく
とも10であるべきである。シリル単位の数が増加する
と、シルセスキオキサンは、実際には非常に大きな単一
の分子になる。高度に架橋されたポリマーのように、理
論上、シリル単位の数に上限は存在せず、シリル単位の
合計数は非常に大きな数でありうる。好ましくは、シル
セスキオキサンポリマーは少なくとも25の合計シリル
単位を、m及びnによって定義されたモル比に分割され
て有している。シルセスキオキサン並びに、構造式II及
びIII のポリマー構造の相対的な重量%が下記のように
調整されるとすれば、m’及びn’は、同様にそれぞれ
少なくとも10、好ましくはそれぞれ少なくとも20で
ある。The silsesquioxanes and other polymers useful in the present invention are relatively large oligomers or polymers. The total number of silyl units represented by both “m” and “n” in structural formulas I and IV (ie, the total number of silyl units) should be at least 10 for each polymer. As the number of silyl units increases, silsesquioxane actually becomes a very large single molecule. As in highly crosslinked polymers, there is in theory no upper limit on the number of silyl units, and the total number of silyl units can be very large. Preferably, the silsesquioxane polymer has at least 25 total silyl units, divided into molar ratios defined by m and n. Given that the relative weight percentages of the silsesquioxane and the polymer structures of structural formulas II and III are adjusted as follows, m 'and n' are likewise at least 10, preferably at least 20 respectively. It is.
【0036】構造式IVにおいて、R’及びR''は独立し
て、1〜10の炭素原子を有する置換もしくは非置換ア
ルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、t−ブチル、クロロメチル、ヘキシル、ベンジ
ル及びオクチル)、又は炭素環に6〜10の炭素原子を
有する置換もしくは非置換アリール基(例えば、フェニ
ル、m−もしくはp−エチルフェニル、m−もしくはp
−メチルフェニル及びナフチル)である。このように、
R’及びR''基は同一又は相異なる基であることができ
る。しかしながら好ましくは、R’及びR''はそれぞ
れ、メチル、エチル又はフェニルである。最も好ましく
は、それぞれメチルである。In Formula IV, R ′ and R ″ are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, chloromethyl , Hexyl, benzyl and octyl), or substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 10 carbon atoms in the carbocycle (e.g. phenyl, m- or p-ethylphenyl, m- or p
-Methylphenyl and naphthyl). in this way,
The R ′ and R ″ groups can be the same or different groups. However, preferably, R ′ and R ″ are each methyl, ethyl or phenyl. Most preferably, each is methyl.
【0037】R’及びR''は両方とも非加水分解性基で
あるので(「加水分解性」は上で定義されているの
で)、R’及びR''を含むシリル単位はただ2つだけの
HYDROLYZABLE基を有するシランから誘導さ
れる。そのような1つ又はそれより多くのシランは、本
発明の実施に有用なシルセスキオキサンを製造するため
に使用されることができる。Since R ′ and R ″ are both non-hydrolyzable groups (as “hydrolysable” is defined above), there are only two silyl units containing R ′ and R ″. Derived from silanes with only HYDROLYZABLE groups. One or more such silanes can be used to produce silsesquioxanes useful in the practice of the present invention.
【0038】構造式I及びIVにおいて、nはシリル(−
OSi−)の合計に基づいて少なくとも1モル%、好ま
しくは少なくとも10モル%で、且つ50モル%以下、
好ましくは25モル%以下であることが必須である。そ
れに対応して、mは50〜99モル%、好ましくは75
〜99モル%である。従って、当業者であれば種々のタ
イプのシリル単位から所望の性質を与えるために、m及
びnを調整することは容易にできるであろう。In structural formulas I and IV, n is silyl (-
At least 1 mol%, preferably at least 10 mol%, and up to 50 mol%, based on the sum of OSi-),
It is essential that the content is preferably 25 mol% or less. Correspondingly, m is 50-99 mol%, preferably 75
~ 99 mol%. Thus, those skilled in the art will readily be able to adjust m and n to provide the desired properties from the various types of silyl units.
【0039】構造式II及びIII によって表されるポリマ
ーの混合物にとっては、そのポリマーの混合物が、HY
DROLYZABLE基をただ2つだけ有するシランか
ら誘導されたシリル単位をただ1〜50モル%だけ(そ
の混合物の全ポリマー中のシリル単位の合計数に基づい
て)含有するように、個々のポリマーの重量%が調整さ
れることは望ましいことである。For a mixture of polymers represented by structural formulas II and III, the mixture of polymers is HY
The weight of each individual polymer such that it contains only 1 to 50 mol% (based on the total number of silyl units in the total polymer of the mixture) of silyl units derived from silanes having only two DROLYZABLE groups. It is desirable that the percentage be adjusted.
【0040】前記構造におけるjの値いは0.5より小
さいか又はそれに等しく、0より大きいか又はそれに等
しい。好ましくは、jは0より大きいか又はそれに等し
く、0.4より小さいか又はそれに等しい。より好まし
くは、それは0.1〜0.4である。jの値いはT2 珪
素原子のT2 +T3 珪素原子の合計に関するモル百分率
に対応している。jが0〜0.5であるとき、そのこと
はT3 /T2 の1:1〜0:1に反映している。好まし
い比率は0.7:1〜0:1である。The value of j in the above structure is less than or equal to 0.5 and greater than or equal to 0. Preferably, j is greater than or equal to 0 and less than or equal to 0.4. More preferably, it is between 0.1 and 0.4. Atay of j corresponds to the molar percentage about the total of T 2 + T 3 silicon atoms of T 2 silicon atoms. When j is 0 to 0.5, this is reflected in T 3 / T 2 of 1: 1 to 0: 1. The preferred ratio is between 0.7: 1 and 0: 1.
【0041】前記構造において、合計値x+y,x’+
y’及びx''+y''は独立して実質的に1に等しい。x
及びy(そして同様に、x’及びy’、並びにx''及び
y'')の値い、すなわち「活性」単位(LINK−AC
TIVE基を担うシリル基)の相対モル濃度及び「不活
性」単位(INACTIVE基を担うシリル基)は、所
望の固有抵抗を供給するために変化しうる。本発明の好
適な態様において「活性」基はポリマーのシリル基の4
5モル%より少ないことを示す。言い換えれば、(x+
x’+x'')/(x+y+x’+y’+x''+y'')は
0.45より小さいか又はそれと等しい。構造式IVにお
いて、x/(x+y)は0.45より小さいか又はそれ
と等しい。In the above structure, the sum x + y, x '+
y ′ and x ″ + y ″ are independently substantially equal to one. x
And y (and similarly, x ′ and y ′, and x ″ and y ″), ie, the “active” units (LINK-AC
The relative molarity of the silyl groups carrying the TIVE groups) and the "inactive" units (silyl groups carrying the INACTIVE groups) can be varied to provide the desired resistivity. In a preferred embodiment of the invention, the "active" group is the 4 of the polymer's silyl group.
Less than 5 mol%. In other words, (x +
x ′ + x ″) / (x + y + x ′ + y ′ + x ″ + y ″) is less than or equal to 0.45. In Structural Formula IV, x / (x + y) is less than or equal to 0.45.
【0042】INACTIVEは炭素原子1〜12を有
する芳香族又は非芳香族基を表す。INACTIVEは
シロキサン縮合反応に関与することができず、且つ電荷
を運ぶことのない基である。次のような一価又は二価の
有機基が、適当なINACTIVE基の例である:炭素
1〜12を有する置換又は非置換のアルキル基(ベンジ
ル基を含む直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基を含
む)、炭素1〜12を有する置換又は非置換のフルオロ
アルキル基(直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基を含
む)、5員又は6員炭素環を含む置換又は非置換のシク
ロアルキル基(例えば、置換又は非置換のシクロペンチ
ル及びシクロヘキシル基)及び、6〜10員炭素環を含
む置換又は非置換のアリール基(例えば、置換又は非置
換のフェニル及びナフチル基)。一価の基はシルセスキ
オキサンの単一のシリル単位のSi原子に結合されてい
る。二価の基は2つのシリル単位のSi原子に結合され
ている。INACTIVE基はそのポリマーの全体にわ
たって全て同一又は相異なるものであることができる。
一価INACTIVE基の具体的例には、これらに限定
されるものではないが、メチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、t−ブチル基、n−デシル基、ペルフルオロオクチ
ル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ジメチルフェニ
ル基、ベンジル基、ナフチル基及びトリメチルシロキサ
ン基が含まれる。代表的な二価INACTIVE基は、
そのシルセスキオキサンの2つのシリル基に結合する
1,4−もしくは1,3−フェニレン基である。INACTIVE represents an aromatic or non-aromatic group having 1 to 12 carbon atoms. INACTIVE is a group that cannot participate in the siloxane condensation reaction and carries no charge. The following monovalent or divalent organic groups are examples of suitable INACTIVE groups: substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 12 carbons (linear or branched alkyl groups including benzyl groups) ), A substituted or unsubstituted fluoroalkyl group having 1 to 12 carbons (including a linear or branched alkyl group) and a substituted or unsubstituted cycloalkyl group containing a 5- or 6-membered carbon ring ( For example, a substituted or unsubstituted cyclopentyl and cyclohexyl group) and a substituted or unsubstituted aryl group containing a 6- to 10-membered carbon ring (eg, a substituted or unsubstituted phenyl and naphthyl group). The monovalent group is attached to the Si atom of a single silyl unit of the silsesquioxane. The divalent group is bonded to the Si atoms of the two silyl units. The INACTIVE groups can be all the same or different throughout the polymer.
Specific examples of monovalent INACTIVE groups include, but are not limited to, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n- Includes decyl, perfluorooctyl, cyclohexyl, phenyl, dimethylphenyl, benzyl, naphthyl and trimethylsiloxane groups. Representative divalent INACTIVE groups are
It is a 1,4- or 1,3-phenylene group bonded to two silyl groups of the silsesquioxane.
【0043】LINKは、上記でINACTIVEを定
義するために記載された一価の基に対応する二価の基を
表す。上記のように、例えばLINKは、鎖中にアリー
レン基を有することができる炭素原子1〜12を有する
置換もしくは非置換のアルキレン基(例えば、メチレ
ン、エチレン、メチレンフェニレン又はイソプロピレ
ン)、鎖中にアリーレン基を有することができる炭素原
子1〜12を有する置換もしくは非置換のフルオロアル
キレン基(例えば、フルオロメチレン及びアルキレンの
定義において用いられたものと同様のその他の基)、炭
素環中に炭素原子5〜10を含む置換もしくは非置換の
シクロアルキレン基(例えばシクロヘキシレン)、又は
炭素環中に炭素原子6〜10を含む置換又は非置換のア
リーレン基(例えばフェニレン)であることができる。LINK represents a divalent radical corresponding to the monovalent radical described above for defining INACTIVE. As described above, for example, LINK is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms that can have an arylene group in the chain (eg, methylene, ethylene, methylene phenylene or isopropylene); A substituted or unsubstituted fluoroalkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may have an arylene group (for example, fluoromethylene and other groups similar to those used in the definition of alkylene); It may be a substituted or unsubstituted cycloalkylene group containing 5 to 10 (eg, cyclohexylene) or a substituted or unsubstituted arylene group containing 6 to 10 carbon atoms in the carbocycle (eg, phenylene).
【0044】ACTIVEはシルセスキオキサン又はポ
リマー混合物中にあり、固体電解質層中の帯電キャリヤ
ーと錯体を形成する基である。本発明の好適な態様にお
いて、ACTIVEは、炭素原子4〜20、窒素原子、
酸素原子又は硫黄原子を(例えば、直鎖状、分枝状、炭
素環状又は複素環状等の適当な形態で)含む一価の有機
基である。多くのACTIVE基には、少なくとも1つ
のオキシ基、チオ基、エステル基、イミノ基又はアミノ
基が含まれる。カチオンと錯体を形成する適当なACT
IVE基には、エチレンオキシド、プロピレンオキシド
及びテトラメチレンオキシドなどの中性の環及び鎖、エ
チレンイミン、アルキレンスルフィド、グリシドオキシ
エーテル、エポキシド、ピロリジノン、アミノアルコー
ル、アミン、カルボン酸及びその共役塩、スルホン酸及
びその共役塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、スル
ホニウム塩及びアルソニウム塩など含まれる。ACTIVE is a group that is present in the silsesquioxane or polymer mixture and forms a complex with the charge carrier in the solid electrolyte layer. In a preferred embodiment of the present invention, ACTIVE has 4-20 carbon atoms, nitrogen atom,
It is a monovalent organic group containing an oxygen atom or a sulfur atom (for example, in a suitable form such as linear, branched, carbocyclic or heterocyclic). Many ACTIVE groups include at least one oxy, thio, ester, imino, or amino group. Suitable ACT to form a complex with cation
IVE groups include neutral rings and chains such as ethylene oxide, propylene oxide and tetramethylene oxide, ethylene imine, alkylene sulfide, glycidoxy ether, epoxide, pyrrolidinone, amino alcohol, amine, carboxylic acid and its conjugate salts, sulfone Acids and their conjugate salts, ammonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts and arsonium salts are included.
【0045】本発明の少なくとも幾つかの態様におい
て、ACTIVE基はシロキサン縮合反応に触媒として
関与することができる。そのような基の例には、一級、
二級、三級及び四級アミンがある。そのような触媒作用
のある活性シリル単位の濃度は、好都合な反応速度を与
えるために変えられることができる。本発明の幾つかの
好適な態様において、ポリマー中のシリル単位の0.5
〜30モル%に次の活性基の任意のものが含まれる:In at least some embodiments of the present invention, the ACTIVE group can participate as a catalyst in the siloxane condensation reaction. Examples of such groups include primary,
There are secondary, tertiary and quaternary amines. The concentration of such catalytically active silyl units can be varied to give a convenient reaction rate. In some preferred embodiments of the present invention, 0.5% of the silyl units in the polymer
3030 mol% includes any of the following active groups:
【0046】[0046]
【化11】 上記の基において、d及びeは−LINK−ACTIV
E中の合計炭素数が4〜25となるように選ばれる。Embedded image In the above groups, d and e are -LINK-ACTIV
The total number of carbon atoms in E is selected to be 4 to 25.
【0047】次の基もまた−ACTIVE基の具体例で
ある:The following groups are also specific examples of the -ACTIVE group:
【0048】[0048]
【化12】 (式中、eは2〜5、dは1〜6である。)Embedded image (In the formula, e is 2 to 5 and d is 1 to 6.)
【0049】[0049]
【化13】 (式中、eは2〜5、dは1〜6である。)Embedded image (In the formula, e is 2 to 5 and d is 1 to 6.)
【0050】[0050]
【化14】 (式中、dは1〜6である。)Embedded image (In the formula, d is 1 to 6.)
【0051】上に示された基において、Rは水素、置換
又は非置換アルキル基、置換又は非置換フルオロアルキ
ル基であり、それぞれ炭素1〜12を有し(上記で定義
された他のアルキル基及びフルオロアルキル基と同
様)、gは1〜12である。Rはまた、10以下の炭素
原子を有する置換又は非置換アルキルカルボキシ基(例
えばアセトキシ及びエチルカルボキシ)であることがで
きる。−LINK−ACTIVE中の合計炭素数は4〜
25である。−LINK−ACTIVE基の幾つかの具
体例には、これらに限定されるものではないが、アミノ
プロピル、ジメチルアミノペンチル、プロピルエチレン
ジアミン、プロピルエチレントリアミン、3−グリシド
キシプロピル、2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチル、3−アクリロキシプロピル、3−メタクリ
ロキシプロピル、3−イソシアナトプロピル、及びN−
[2−(ビニルベンジルアミノ)エチル]−3−アミノ
プロピルが含まれる。そのACTIVE基の置換基が互
いに反応して、例えばアミンによるエポキシドの開環に
よるように、ポリマー中の架橋をさらに増進することも
可能である。In the groups shown above, R is hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted fluoroalkyl group, each having from 1 to 12 carbons (other alkyl groups as defined above). And fluoroalkyl group) and g is 1-12. R can also be a substituted or unsubstituted alkyl carboxy group having 10 or fewer carbon atoms (eg, acetoxy and ethyl carboxy). -LINK-ACTIVE has a total carbon number of 4 to
25. Some specific examples of -LINK-ACTIVE groups include, but are not limited to, aminopropyl, dimethylaminopentyl, propylethylenediamine, propylethylenetriamine, 3-glycidoxypropyl, 2- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyl, 3-acryloxypropyl, 3-methacryloxypropyl, 3-isocyanatopropyl, and N-
[2- (vinylbenzylamino) ethyl] -3-aminopropyl is included. It is also possible that the substituents of the ACTIVE groups react with each other to further enhance crosslinking in the polymer, for example by ring opening of the epoxide with an amine.
【0052】シルセスキオキサンの「活性」及び「不活
性」の両方のシリル基について考察する。そのポリマー
には、異なる「活性」シリル基の混合物、異なる「不活
性」シリル単位の混合物又はその両方の混合物を含むこ
とができる。−LINK−ACTIVE及び−INAC
TIVE基はシルセスキオキサンポリマーを製造するた
めに用いられるシロキサン重縮合反応中に実質的に加水
分解されるべきではない。それは、その有機置換基が失
われ、得られるポリマーが非常に高い架橋度を示すこと
になるからである。その上、−LINK−ACTIVE
及び−INACTIVE基は立体障害の原因となるほど
大きくてはならない。例えば、−LINK−ACTIV
E基における炭素及びヘテロ原子の数の適当な最大値は
25であり、−INACTIVE基では12である。Consider both the "active" and "inactive" silyl groups of silsesquioxane. The polymer can include a mixture of different "active" silyl groups, a mixture of different "inactive" silyl units, or a mixture of both. -LINK-ACTIVE and -INAC
The TIVE groups should not be substantially hydrolyzed during the siloxane polycondensation reaction used to make the silsesquioxane polymer. This is because the organic substituent is lost and the resulting polymer will exhibit a very high degree of crosslinking. Besides, -LINK-ACTIVE
And the -INACTIVE group must not be so large as to cause steric hindrance. For example, -LINK-ACTIV
A suitable maximum for the number of carbon and heteroatoms in the E group is 25, and for the -INACTIVE group is 12.
【0053】固体電解質層に用いられる帯電キャリヤー
はシルセスキオキサンにおけるACTIVE基の選択に
基づいて選ばれる。「帯電キャリヤー」なる用語は、本
明細書では、ACTIVE基と錯体を形成して固体電解
質層内で電荷を運ぶ動きやすい(mobile)化学種
又は化学種の組み合わせを生成する物質を表記するため
に用いられる。帯電キャリヤーは塩又は塩の混合物であ
ることができる。動きやすい種は、塩の一方もしくは双
方のイオン、又はいろいろな塩の混合物の一方もしくは
双方のイオンである。帯電キャリヤーはまた、孤立した
物質として塩ではない物質であることができ、又はそれ
を含むことができる。後者のタイプの帯電キャリヤーの
例にはヨウ素分子の複合生成物がある。このタイプの帯
電キャリヤーは、供与体−受容体又は、結果として起こ
る電荷の離脱によって実質的なイオンとしての性質を持
つようなACTIVE基との電荷移動錯体を生成する、
動きやすい種を提供する。The charge carrier used for the solid electrolyte layer is selected based on the selection of the ACTIVE group in the silsesquioxane. The term "charge carrier" is used herein to describe a substance that forms a mobile species or combination of species that forms a complex with an ACTIVE group to carry charge within the solid electrolyte layer. Used. The charge carrier can be a salt or a mixture of salts. The mobile species is one or both ions of a salt, or one or both ions of a mixture of different salts. The charge carrier can also be or include a substance that is not a salt as an isolated substance. An example of the latter type of charge carrier is a complex product of molecular iodine. This type of charge carrier forms a donor-acceptor or charge-transfer complex with an ACTIVE group that has substantial ionic character through the resulting release of charge.
Provide a mobile species.
【0054】本発明の実施においては広く多様な帯電キ
ャリヤーを用いることができる。特定の用途のために適
当な帯電キャリヤーの選択は、比較的簡単な試行錯誤の
問題である。帯電キャリヤーはACTIVE基と錯体を
形成することができ、そのシルセスキオキサン−帯電キ
ャリヤー錯体が導電性となるようなものでなければなら
ない。本発明の好適な態様おいて、帯電キャリヤーはA
CTIVE基と錯体を形成することができ、そのシルセ
スキオキサン−帯電キャリヤー錯体は湿気がなくても導
電性となるようなものでなければならない。塩について
は、これは一般に「マトリックス中に溶解している」と
標記される。この「溶解している」ことについての説明
は米国特許第5,731,117号に与えられている。A wide variety of charge carriers can be used in the practice of the present invention. Selecting an appropriate charge carrier for a particular application is a relatively simple matter of trial and error. The charge carrier must be capable of forming a complex with the ACTIVE group, such that the silsesquioxane-charge carrier complex is conductive. In a preferred embodiment of the present invention, the charge carrier is A
The silsesquioxane-charged carrier complex must be capable of forming a complex with the CTIVE group and be electrically conductive without moisture. For salts, this is generally labeled "dissolved in the matrix." A description of this "dissolving" is given in U.S. Pat. No. 5,731,117.
【0055】特定のACTIVE基との錯体の形成は多
様な手段によって測定されることができる。例えば、フ
ィッシ等(Fish et al.)〔Makromo
l.chem.Rapid Commun.第7巻(1
986)、第115〜120頁〕は、塩又はその他の帯
電キャリヤーがそのポリマー中に増加したとき、ガラス
転移温度(Tg)の上昇を測定することにより錯体形成
の追跡が可能であることを教示している。分析の間の硬
化によりTgの変化を計算に入れるように注意しなけれ
ばならない。The formation of a complex with a particular ACTIVE group can be measured by various means. For example, Fish et al. (Makromo)
l. chem. Rapid Commun. Volume 7 (1
986), pp. 115-120] teach that when salts or other charged carriers increase in the polymer, it is possible to track the complex formation by measuring the increase in glass transition temperature (Tg). are doing. Care must be taken to account for changes in Tg due to cure during analysis.
【0056】帯電キャリヤー及びACTIVE基は、低
い周囲相対湿度下での(水が帯電キャリヤーを失う態様
を除いて)特定の導電性及びその逆の抵抗を与えるよう
に選択される。多くの異なる目的に用いられる固体電解
質には特別の範囲が望ましい。例えば、電子写真要素の
保護被膜として用いられる固体電解層は、固体電解質層
の望ましい表面抵抗少なくとも1×1010Ω/□、より
望ましくは少なくとも1×1014Ω/□を有している。The charge carrier and the ACTIVE group are selected to provide a particular conductivity under low ambient relative humidity (except in the case where water loses the charge carrier) and vice versa. Specific ranges are desirable for solid electrolytes used for many different purposes. For example, a solid electrolyte layer used as a protective coating in an electrophotographic element has a desired surface resistance of the solid electrolyte layer of at least 1 × 10 10 Ω / □, more preferably at least 1 × 10 14 Ω / □.
【0057】帯電キャリヤー及びACTIVE基はま
た、本発明の特定の態様において望まれるその他の性質
を付与するように選択されることができる。例えば、電
子写真要素の固体電解質層に用いられる帯電キャリヤー
は、特定の摩擦帯電性、すなわち極性及びトナーとキャ
リヤー材料に関する摩擦電気系列における配置の両方を
付与するために選択されることができる。The charge carrier and the ACTIVE group can also be selected to impart other properties desired in certain aspects of the invention. For example, the charge carrier used in the solid electrolyte layer of the electrophotographic element can be selected to provide both a particular triboelectric charge, i.e., a polarity and an arrangement in the triboelectric series for the toner and carrier material.
【0058】別の例としては、帯電キャリヤー及びAC
TIVE基は「ブルーミング」をなくすように又は減ら
すように選択されうる。帯電キャリヤーとしてアンモニ
ウム塩も使用可能である;しかしながら、これらの塩は
「ブルーミングする」、すなわち固体電解質層の表面に
移動してその表面又は上の層でアンモニウム活性の度合
いを高めることになる。アンモニウム塩は、通常シルセ
スキオキサンを硬化するために用いられる。As another example, a charge carrier and AC
TIVE groups can be selected to eliminate or reduce "blooming." Ammonium salts can also be used as charge carriers; however, these salts will "bloom", ie, migrate to the surface of the solid electrolyte layer and increase the degree of ammonium activity at or above that layer. Ammonium salts are commonly used to cure silsesquioxane.
【0059】帯電キャリヤーは無機又は有機のアルカリ
塩であることができ、一方又は双方のイオンは錯体の中
で移動性がある。そのような適当な塩には、それらに限
定されるものではないが、LiCl,CH3 COOL
i,LiNO3 ,LiNO2 ,LiBr,LiN3 ,L
iBH4 ,LiI,LiSCN,LiClO4 ,LiC
F3 SO3 ,LiBF4 ,LiBPh4 ,NaBr,N
aN3 ,NaBH4 ,NaI,NaSCN,NaClO
4 ,NaCF3 SO3 ,NaBF4 ,NaBPh 4 ,K
SCN,KClO4 ,KCF3 SO3 ,KBF4 ,KB
Ph4 ,RbSCN,RbClO4 ,RbCF3 S
O3 ,RbBF4 ,RbBPh4 ,CsSCN,CsC
lO4 ,CsCF3 SO3 ,CsBF4 ,CsBPh4
が含まれる。ここで用いられる「Ph」はフェニル基
(置換又は非置換)を表す。The charge carrier is an inorganic or organic alkali.
It can be a salt, one or both ions being in the complex
There is mobility. Such suitable salts include, but are not limited to:
Although not specified, LiCl, CHThreeCOOL
i, LiNOThree, LiNOTwo, LiBr, LiNThree, L
iBHFour, LiI, LiSCN, LiClOFour, LiC
FThreeSOThree, LiBFFour, LiBPhFour, NaBr, N
aNThree, NaBHFour, NaI, NaSCN, NaClO
Four, NaCFThreeSOThree, NaBFFour, NaBPh Four, K
SCN, KCLOFour, KCFThreeSOThree, KBFFour, KB
PhFour, RbSCN, RbCLOFour, RbCFThreeS
OThree, RbBFFour, RbBPhFour, CsSCN, CsC
10Four, CsCFThreeSOThree, CsBFFour, CsBPhFour
Is included. "Ph" used here is a phenyl group
(Substituted or unsubstituted).
【0060】シルセスキオキサン電解質被覆組成物又は
それにより得られる固体層における帯電キャリヤーの適
当な濃度は、シルセスキオキサンの重量に関して0.1
〜10重量%である。一般に好ましい帯電キャリヤーは
LiIであり、一般に好ましい濃度はシルセスキオキサ
ンの重量に関して0.5〜2重量%である。A suitable concentration of the charge carrier in the silsesquioxane electrolyte coating composition or the solid layer obtained therefrom is 0.1% by weight of silsesquioxane.
-10% by weight. A generally preferred charge carrier is LiI, and a generally preferred concentration is 0.5 to 2% by weight with respect to the weight of silsesquioxane.
【0061】本発明の幾つかの態様において、シルセス
キオキサンポリマーは、それらのシリル単位が構造式
I,II及びIVにおいて「m」モル%で存在するシリル単
位に含まれている限り、米国特許第5,731,117
号の第12〜14欄に記載された構造によりた表され
る。[0061] In some embodiments of the present invention, the silsesquioxane polymers are prepared in the United States as long as their silyl units are included in the silyl units present in "m" mole percent in structural formulas I, II and IV. Patent No. 5,731,117
It is represented by the structure described in columns 12-14 of the number.
【0062】本発明で用いられる固体電解質層には、広
く多様な補助添加物、例えば金属酸化物粒子及び有機高
分子のビーズを含む充填剤などが含まれる。The solid electrolyte layer used in the present invention contains a wide variety of auxiliary additives such as a filler containing metal oxide particles and organic polymer beads.
【0063】本発明の幾つかの態様において、固体電解
質層にはここで「二次的活性剤」(“secondar
y active agent”)と表現されるものが
含まれる。二次的活性剤は、前記のシルセスキオキサン
ポリマーに対して定義されている、1つ又はそれより多
くのACTIVE基を含む非シルセスキオキサン化合物
である。特定の固体電解質層において、二次的活性剤の
ACTIVE基はシルセスキオキサンポリマーのそれと
同一であるか又はそれとは異なっていることができる。
単一の二次的活性剤又はたくさんの二次的活性剤が固体
電解質層中に存在しうる。二次的活性剤は電荷搬送体に
含まれていてもよいし、また含まれていなくともよい。
もし二次的活性剤が含まれると、供給される追加の電荷
搬送体は5又は10%よりは少ない分だけ導電性を増大
させる。二次的活性剤はさらなる機能、例えば可塑化機
能又は潤滑機能などを付与することができる。In some embodiments of the present invention, the solid electrolyte layer may now include a “secondary activator” (“secondary activator”).
y active agent "). The secondary active agent is a non-silsesquioxane containing one or more ACTIVE groups as defined for the silsesquioxane polymer described above. In certain solid electrolyte layers, the ACTIVE group of the secondary activator can be the same as or different from that of the silsesquioxane polymer.
A single secondary activator or a number of secondary activators may be present in the solid electrolyte layer. The secondary activator may or may not be included in the charge carrier.
If a secondary activator is included, the additional charge carrier provided will increase conductivity by less than 5 or 10%. Secondary activators can provide additional functions, such as a plasticizing function or a lubricating function.
【0064】本発明に用いられる固体電解質層は、米国
特許第5,731,117号に記されているシルセスキ
オキサンの製造方法と同様な方法で製造される。そのポ
リマーは無機/有機物質の仲間であり、一般に「ゾル−
ゲル法」と呼ばれるタイプの手順により中程度の温度で
生成されることができる。この方法において、適宜のア
ルコキシ化珪素(又は適宜のシリル単位を与えるその他
の重合性シラン)が適宜の溶媒媒体中で加水分解されて
「ゾル」を生成する。次いで溶媒媒体が除去され、縮合
して架橋ゲルを生成する。多様な溶媒が使用できる。
水、低級アルコール(例えば、含水のメタノール、エタ
ノール及びイソプロパノール)、及びそれらの混合物
(例えば、水性メタノール又はエタノール溶液)が一般
に好ましい。水性アルコール溶媒混合物が溶媒媒体とし
て最も好ましい。好都合なことには、シルセスキオキサ
ンは酸性アルコールから塗布されるが、これは珪酸型R
Si(OH)3 が周囲条件で何ヶ月もの間溶液中で安定
で有りうるためである。次いで重縮合反応に先立って、
帯電キャリヤーが適宜の濃度で何らかの補助添加物と共
に添加される。縮合の濃度は、それを受ける試料の硬化
の量に関連し、硬化工程で最も重要な2つの変数である
温度及び時間に関係する。The solid electrolyte layer used in the present invention is produced by a method similar to the method for producing silsesquioxane described in US Pat. No. 5,731,117. The polymer is a class of inorganic / organic substances, commonly referred to as "sol-
It can be produced at moderate temperatures by a type of procedure called "gel method". In this method, an appropriate alkoxylated silicon (or other polymerizable silane that provides an appropriate silyl unit) is hydrolyzed in an appropriate solvent medium to form a “sol”. The solvent medium is then removed and condensed to form a crosslinked gel. A variety of solvents can be used.
Water, lower alcohols (eg, aqueous methanol, ethanol and isopropanol), and mixtures thereof (eg, aqueous methanol or ethanol solutions) are generally preferred. Hydroalcoholic solvent mixtures are most preferred as the solvent medium. Conveniently, the silsesquioxane is coated from an acidic alcohol, which is a silica type R
This is because Si (OH) 3 can be stable in solution for months at ambient conditions. Then, prior to the polycondensation reaction,
A charge carrier is added at appropriate concentrations with any auxiliary additives. The concentration of the condensation is related to the amount of cure of the sample it receives, and is related to the two most important variables in the curing process, temperature and time.
【0065】本発明に用いられる固体電解質層の製造に
おいて、−LINK−ACTIVE基及びINACTI
VE基を得られるシルセスキオキサンに求められる割合
で含む反応性前駆体シランには、それらに限定されるも
のではないが、次のものが含まれる:メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、n−プロピルト
リメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、
(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシ
ラン、メチルトリアセトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、3−
アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、3−ア
ミノプロピルトリス(メトキシエトキシエトキシ)シラ
ン、3−(1−アミノプロピル)−3,3−ジメチル−
1−プロペニルトリメトキシシラン、N−(6−アミノ
ヘキシル)アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2
−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリス(2−
エチルヘキソキシ)シラン、N−2−(アミノエチル)
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−
(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、(アミノエチルアミノメチル)−フェネチル
トリメトキシシラン、4−アミノブチルトリエトキシシ
ラン、(N,N−ジメチル−3−アミノプロピル)トリ
メトキシシラン、N−メチルアミノプロピル−トリメト
キシシラン、N−[(3−トリメトキシシリル)プロピ
ル]エチレンジアミン三酢酸三ナトリウム塩、N−トリ
メトキシシリルプロピル−N,N,N−トリメチルアン
モニウムクロリド、N−トリメトキシシリルプロピルト
リ−N−ブチルアンモニウムブロミド、2−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、
3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、3−イ
ソシアナトプロピルジメチルクロロシラン、5,6−エ
ポキシヘキシルトリエトキシシラン、(3−グリシドキ
シプロピル)トリメトキシシラン、(3−グリシドキシ
プロピル)メチルジエトキシシラン及び(3−グリシド
キシプロピル)メチルジメトキシシラン。In the production of the solid electrolyte layer used in the present invention, the -LINK-ACTIVE group and the INACTI
Reactive precursor silanes containing the required ratio of VE groups to the resulting silsesquioxane include, but are not limited to, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane,
(3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-aminopropyldimethyl Ethoxysilane, 3-
Aminopropyldiisopropylethoxysilane, 3-aminopropyltris (methoxyethoxyethoxy) silane, 3- (1-aminopropyl) -3,3-dimethyl-
1-propenyltrimethoxysilane, N- (6-aminohexyl) aminopropyltrimethoxysilane, N-2
-(Aminoethyl) -3-aminopropyltris (2-
Ethylhexoxy) silane, N-2- (aminoethyl)
-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-
(Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, (aminoethylaminomethyl) -phenethyltrimethoxysilane, 4-aminobutyltriethoxysilane, (N, N-dimethyl-3-aminopropyl) trimethoxysilane, N -Methylaminopropyl-trimethoxysilane, N-[(3-trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine triacetic acid trisodium salt, N-trimethoxysilylpropyl-N, N, N-trimethylammonium chloride, N-trimethoxysilyl Propyltri-N-butylammonium bromide, 2- (3,4-
Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane,
3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyldimethylchlorosilane, 5,6-epoxyhexyltriethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) methyldiethoxy Silane and (3-glycidoxypropyl) methyldimethoxysilane.
【0066】構造式IVのシルセスキオキサンを製造する
ために有用な、ただ2つのHYDROLYZABLE基
のみを有する反応性シランには、これらに限定されるも
のではないが、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジ
メトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシ
シラン及び1,7−ジクロロオクタメチルテトラシロキ
サンが含まれる。ジメチルジメトキシシランが最も好ま
しい反応体である。Reactive silanes having only two HYDROLLYZABLE groups useful for preparing silsesquioxanes of structural formula IV include, but are not limited to, dimethyldimethoxysilane, diethyldimethoxysilane , Diisopropyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldiethoxysilane and 1,7-dichlorooctamethyltetrasiloxane. Dimethyldimethoxysilane is the most preferred reactant.
【0067】本発明の要素の帯電発生層と固体電解質層
の間に下塗層又は接着剤層を含むこともまた望ましいで
あろう。下塗層は帯電発生層と固体電解質層との間に良
好な機械的結合を与えるが、帯電に関係する性質を阻害
しないように選択される。下塗層の乾燥厚さは0.1〜
1.0μmであり、好ましくは0.5μmより薄い。下
塗も、それから下塗が塗布される溶媒も光導電体層に損
傷を与えないことが重要である。適当な溶媒には、水、
低級アルコールなどの水混和性溶媒及びそれらの混合物
が含まれる。適当な下塗には、それらの溶媒に溶解する
か又はエマルジョンを形成するポリマーが含まれる。適
当な下塗類の例には、それらに限定されるものではない
が、アクリル、ポリウレタン、ピロリドン、ポリアミ
ド、ポリエステル及びシランカップリング剤を含む無機
アルコキシドが含まれる。特定の下塗の好適な例には、
ポリ(メチルアクリレート−共−メチルメタクリレート
−共−メタクリル酸)(重量比70/25/5)があ
り、その合成は米国特許第5,731,117号(上に
記した)に記載されている。具体的下塗の別の例にはポ
リ(ビニルピロリドン−メタクリル酸)(重量比95/
5)がある。具体的下塗のさらに別の例には、部分的加
水分解アミノプロピルトリメトキシシラン及びグリシド
キシプロピルトリメトキシシランがある。It may also be desirable to include a subbing or adhesive layer between the charge generating layer and the solid electrolyte layer of the element of the present invention. The undercoat layer is selected so as to provide good mechanical bonding between the charge generating layer and the solid electrolyte layer, but not to impair the properties related to charging. The dry thickness of the undercoat layer is 0.1 ~
1.0 μm, preferably less than 0.5 μm. It is important that neither the undercoat, nor the solvent from which it is applied, damage the photoconductor layer. Suitable solvents include water,
Water-miscible solvents such as lower alcohols and mixtures thereof are included. Suitable primers include polymers that dissolve in these solvents or form emulsions. Examples of suitable primers include, but are not limited to, acrylic, polyurethane, pyrrolidone, polyamide, polyester and inorganic alkoxides, including silane coupling agents. Suitable examples of certain primers include:
There is poly (methyl acrylate-co-methyl methacrylate-co-methacrylic acid) (weight ratio 70/25/5), the synthesis of which is described in U.S. Pat. No. 5,731,117 (described above). . Another example of a specific primer is poly (vinylpyrrolidone-methacrylic acid) (weight ratio 95 /
5). Still other examples of specific primers include partially hydrolyzed aminopropyltrimethoxysilane and glycidoxypropyltrimethoxysilane.
【0068】好適な態様において、下塗層は上記のよう
なポリ(メチルアクリレート−共−メチルメタクリレー
ト−共−メタクリル酸)を含む組成物からなるが、ここ
で定義されたACTIVE基を含む化合物(非イオン界
面活性剤を含む)は含んでない。In a preferred embodiment, the subbing layer comprises a composition comprising poly (methyl acrylate-co-methyl methacrylate-co-methacrylic acid) as described above, but with a compound containing an ACTIVE group as defined herein ( (Including nonionic surfactants).
【0069】本発明の電子写真要素は、固体電解質保護
被膜層に加えて、通常単一層又は単一活性層要素と呼ば
れるもの、及び通常多活性又は多重活性層要素帯電発生
物質と呼ばれるものの両方を含む、様々なタイプである
ことができる。The electrophotographic element of the present invention may include, in addition to the solid electrolyte protective coating layer, both those commonly referred to as single layer or single active layer elements, and those commonly referred to as multiactive or multiple active layer element charge generating materials. It can be of various types, including.
【0070】単一活性層及び多重活性層電子写真要素、
それらの製造及び通常の使用は公知であり、例えば米国
特許第4,701,396号、同第4,666,802
号、同第4,578,334号、同第4,719,16
3号、同第4、175、960号、同第4,514,4
81号及び同第3,615,414号により詳細に記載
されている。Single active layer and multiple active layer electrophotographic element,
Their manufacture and normal use are known and are described, for example, in U.S. Pat.
Nos. 4,578,334 and 4,719,16
No. 3, No. 4, 175, 960, No. 4, 514, 4
Nos. 81 and 3,615,414.
【0071】ポリマー結合剤溶液を生成するための適当
な有機溶媒は広く多様な有機溶媒から選択されることが
でき、また米国特許第5,731,117号にも記載さ
れている。Suitable organic solvents for forming the polymer binder solution can be selected from a wide variety of organic solvents and are also described in US Pat. No. 5,731,117.
【0072】CGLすなわち光導電体層のための被覆組
成物において、結合剤に対する帯電発生物質又は、帯電
発生物質と電荷搬送剤の両方の最適比は、採用される特
定の物質によって広い範囲で変えることができる。通常
は、層中の帯電発生物質及び電荷搬送剤の両方の合計濃
度が、その層の乾燥重量に基づいて20〜90重量%の
範囲内にあるときに有用な結果が得られる。本発明の単
一活性層電子写真要素の好ましい態様において、被覆組
成物は10〜70重量%の帯電発生物質及び10〜90
重量%の電荷搬送剤を含んでいる。In the CGL, ie the coating composition for the photoconductor layer, the optimum ratio of charge generating material or charge generating material to charge transport agent to binder varies widely depending on the particular material employed. be able to. Typically, useful results are obtained when the total concentration of both the charge generating material and the charge transport agent in the layer is in the range of 20-90% by weight, based on the dry weight of the layer. In a preferred embodiment of the single active layer electrophotographic element of the present invention, the coating composition comprises 10-70% by weight of a charge generating material and 10-90%.
It contains a weight percent charge transport agent.
【0073】どのような帯電発生物質及び電荷搬送剤も
本発明の要素に使用することができる。そのような物質
には無機及び有機の(有機モノマー系、有機金属系及び
有機ポリマー系を含む)物質、例えば、とりわけ、酸化
亜鉛、酸化鉛、セレン、フタロシアニン、ペリレン、ア
リールアミン、ポリアリールアルカン及びポリカルバゾ
ールなどの物質が含まれる。[0073] Any charge generating material and charge transport agent can be used in the elements of the present invention. Such materials include inorganic and organic (including organic monomeric, organometallic, and organic polymer based) materials, such as, for example, zinc oxide, lead oxide, selenium, phthalocyanine, perylene, arylamine, polyarylalkane, and the like. Substances such as polycarbazole are included.
【0074】本発明の電子写真要素には、種々の導電性
の層又は支持体、例えば、紙(20%より高い相対湿度
の)、アルミニウム−紙積層体、金属箔(例えば、アル
ミニウム箔及び亜鉛箔)、金属板(例えば、アルミニウ
ム、銅、亜鉛、黄銅及び亜鉛メッキ板)、金属蒸着層
(例えば、銀、クロム、バナジウム、金、ニッケル及び
アルミニウム)、並びに半導体層(例えば、ヨウ化第一
銅及び酸化錫インジウム)が採用されうる。金属又は半
導体の層は、紙又は慣用の写真フィルム基材、例えばポ
リ(エチレンテレフタレート)、酢酸セルロース、ポリ
スチレン等の上に被覆されることができる。クロム、ニ
ッケルのような導電性物質が、透明フィルム支持体上
に、電子写真要素が反対側から露光されることに備える
ように十分に薄い層として真空蒸着されることができ
る。The electrophotographic element of the present invention includes various conductive layers or supports, such as paper (of greater than 20% relative humidity), aluminum-paper laminates, metal foils (eg, aluminum foil and zinc). Foil), metal plates (for example, aluminum, copper, zinc, brass and galvanized plates), metal deposition layers (for example, silver, chromium, vanadium, gold, nickel and aluminum), and semiconductor layers (for example, first iodide) Copper and indium tin oxide) may be employed. The metal or semiconductor layer can be coated on paper or a conventional photographic film substrate such as poly (ethylene terephthalate), cellulose acetate, polystyrene and the like. Conductive materials, such as chromium, nickel, can be vacuum deposited on the transparent film support as a thin enough layer to provide for the electrophotographic element to be exposed from the opposite side.
【0075】本発明の電子写真要素は、一般に電子写真
要素で有用なものとして知られているさらに多様な層、
例えばサビング層(subbing layer)、バ
リヤー層〔例えば帯電防止層(charge bloc
king layer)〕及びスクリーニング層を含む
ことができる。The electrophotographic element of the present invention can further comprise a variety of layers commonly known as useful in electrophotographic elements,
For example, a subbing layer, a barrier layer [eg, a charge block
king layer)] and a screening layer.
【0076】本発明の電子写真帯電発生要素は、その表
面上に帯電された像の図形を生じさせるための適宜の像
形成源(imaging source)を用いて像を
形成することができる。次いで、現像され又は付着され
た階調付けされた像(toned image)を要素
上に供給するために、適当に帯電されたトナーが適用さ
れる。その要素に像を形成しそして現像するための方法
及び物質は、当業者にとっては、この分野の技術に関す
る考慮すべき文献から自明であろう。The electrophotographic charge generating element of the present invention can form an image using any suitable imaging source for producing a charged image pattern on its surface. An appropriately charged toner is then applied to provide a developed or deposited toned image on the element. Methods and materials for imaging and developing the element will be apparent to those skilled in the art from the relevant literature regarding art in the art.
【0077】[0077]
【実施例】以下の実施例は説明の目的でなされるもので
あり、決して本発明を限定するものではない。The following examples are given for illustrative purposes and do not limit the invention in any way.
【0078】比較例1のシルセスキオキサンの製造:全
ての薬剤は、Gelest(Tullytown,P
A)から購入したDMS−E12エポキシプロポキシプ
ロピル末端ポリジメチルシロキサン(分子量900〜1
100)を除き、Aldrich Chemical
Companyから購入した。酸掃去剤ビス[N−エチ
ル−N−(2−ヒドロキシエチル)アニリノ]ジフェニ
ルメタンは実験室で慣用の方法を用いて製造した。1リ
ットルゾル−ゲル処方は2リットルの丸底フラスコ中で
次のように製造した。氷酢酸(54.0g、0.9モ
ル)を、予め製造され撹拌されているDMS−E12
(2.0g)、メチルトリメトキシシラン(275.4
g、2.02モル)、3−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン(30.6g、0.130モル)及び3−
アミノプロピルトリメトキシシラン(25.0g、0.
139モル)の混合物に滴で添加し、反応混合物を一夜
撹拌した。酸性化したシランは、次いで水(156g、
8.67モル)を滴で添加することによって加水分解
し、反応混合物を一夜撹拌した。次いでエタノール(5
23g)を滴で添加することにより約20重量%の固形
分まで希釈した。その透明な溶液を3週間撹拌した。酸
掃去剤(4.0g、8.1ミリモル)及びヨウ化リチウ
ム(1.5g、11.2ミリモル)を添加し、溶液を
0.4μmガラスフィルターを通して濾過し4℃で貯蔵
した。Preparation of the silsesquioxane of Comparative Example 1 All drugs were used in Gelest (Tullytown, P.L.).
DMS-E12 epoxypropoxypropyl-terminated polydimethylsiloxane purchased from A) (molecular weight 900-1)
100) except Aldrich Chemical
Purchased from Company. The acid scavenger bis [N-ethyl-N- (2-hydroxyethyl) anilino] diphenylmethane was prepared in the laboratory using conventional methods. The 1 liter sol-gel formulation was prepared in a 2 liter round bottom flask as follows. Glacial acetic acid (54.0 g, 0.9 mol) was added to previously prepared and stirred DMS-E12.
(2.0 g), methyltrimethoxysilane (275.4)
g, 2.02 mol), 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (30.6 g, 0.130 mol) and 3-
Aminopropyltrimethoxysilane (25.0 g, 0.
139 mol) was added dropwise and the reaction mixture was stirred overnight. The acidified silane was then added to water (156 g,
8.67 mol) was added dropwise and the reaction mixture was stirred overnight. Then ethanol (5
23 g) was diluted to a solids content of about 20% by weight by dropwise addition. The clear solution was stirred for 3 weeks. Acid scavenger (4.0 g, 8.1 mmol) and lithium iodide (1.5 g, 11.2 mmol) were added, and the solution was filtered through a 0.4 μm glass filter and stored at 4 ° C.
【0079】実施例1のシルセスキオキサンの製造:本
発明の範囲内のシルセスキオキサンの合成は、比較例1
に記載したものと同様に、但しその反応混合物を1週間
撹拌した後、そのエタノール溶液にジメチルジメトキシ
シラン(20.0g、0.166モル)を添加すること
を除き、実施した。反応混合物は、2%の酸掃去剤及び
0.75%のヨウ化リチウムを添加する前にさらに2週
間撹拌し、溶液は上記同様濾過した。Preparation of the silsesquioxane of Example 1: The synthesis of the silsesquioxane within the scope of the present invention is described in Comparative Example 1.
The reaction was carried out as described in Example 1, except that the reaction mixture was stirred for one week and then dimethyldimethoxysilane (20.0 g, 0.166 mol) was added to the ethanol solution. The reaction mixture was stirred for an additional two weeks before adding 2% acid scavenger and 0.75% lithium iodide, and the solution was filtered as above.
【0080】実施例2のシルセスキオキサンの製造:本
発明の範囲内の第2のシルセスキオキサンの合成は、実
施例1と同様に、但しDMS−E12が反応混合物から
除くことを除いて、実施した。光受容体上へのシルセスキオキサンの塗布: アクリル下
塗用溶液〔米国特許第5,731,117号(前記)の
実施例1に記載されているもの〕をウエブ速度6m/
分、乾燥機温度27℃で光受容体の表面上に塗布した。
この層の厚さの範囲は0.1〜0.5μm、典型的には
0.25μmであった。上記のシルセスキオキサンを含
むそれぞれのゾル−ゲル溶液を、次いでこの下塗層の上
に別の系列で、ウエブ速度3m/分、第1から第5まで
の乾燥機それぞれ104.5℃、104.5℃、82
℃、71℃及び27℃の温度分布で塗布した。得られた
ウエブは続いてシートに切断し、82℃で24時間硬化
した。得られた固体電解質層の硬化は、安全カミソリの
刃(a razorblade)でその被膜を削り落と
した試料をChemagnetic CMX−300固
体素子(Solid State)NMR分光光度計を
用い、59.5607MHzで操作して得られる固体素
子29Si NMR分光により同定した。Preparation of the silsesquioxane of Example 2 The synthesis of the second silsesquioxane within the scope of the present invention is similar to that of Example 1, except that DMS-E12 is omitted from the reaction mixture. And implemented. Application of silsesquioxane on photoreceptor: Acrylic primer solution (as described in Example 1 of U.S. Pat. No. 5,731,117 (supra)) at a web speed of 6 m / m
Min. At a dryer temperature of 27 ° C. on the surface of the photoreceptor.
The thickness of this layer ranged from 0.1 to 0.5 μm, typically 0.25 μm. Each sol-gel solution containing the silsesquioxane described above was then applied on this subbing layer in a separate series at a web speed of 3 m / min, first to fifth dryers at 104.5 ° C. each, 104.5 ° C, 82
Coating was carried out at a temperature distribution of ° C, 71 ° C and 27 ° C. The resulting web was subsequently cut into sheets and cured at 82 ° C. for 24 hours. The hardening of the obtained solid electrolyte layer was performed at 59.5607 MHz using a Chemical Magnetic CMX-300 solid state NMR spectrophotometer on a sample from which the coating was scraped off with a safety razor blade. The solid device thus obtained was identified by 29 Si NMR spectroscopy.
【0081】得られた3つの電子写真帯電発生要素の試
料は、次のようにして評価した。The obtained three samples of the electrophotographic charge generating element were evaluated as follows.
【0082】固体電解質層の増強されたコロナ抵抗は、
下記の表Iに示すように、10分における画像の画像幅
を比較することによって観察した。画像幅は、フィルム
が陰性コロナに2分間暴露された後、周囲相対湿度(R
H)(46〜48%)及び高相対湿度(82〜92%)
で測定された。全ての場合、本発明(実施例1及び2)
の要素は両相対湿度水準で、比較例のシルセスキオキサ
ン含有固体電解質層を含む比較例の要素より画像の広が
りが少なかった。The enhanced corona resistance of the solid electrolyte layer is
Observed by comparing the image width of the image at 10 minutes, as shown in Table I below. The image width was determined by the ambient relative humidity (R) after the film was exposed to a negative corona for 2 minutes.
H) (46-48%) and high relative humidity (82-92%)
Was measured. In all cases, the invention (Examples 1 and 2)
The element had less image spread at both relative humidity levels than the element of the comparative example including the silsesquioxane-containing solid electrolyte layer of the comparative example.
【0083】 表I ──────────────────────────── 周囲RH 高RH 時 間 画像幅 時 間 画像幅 (分) (mm) (分) (mm) 比較例1 10 3.58 10 5.12 実施例1 10 3.07 10 4.58 実施例2 10 3.34 10 3.63 ──────────────────────────── Table I周 囲 Peripheral RH High RH Time Image width Time Image width (min) (mm) (Min) (mm) Comparative Example 1 10 3.58 10 5.12 Example 1 10 3.07 10 4.58 Example 2 10 3.34 10 3.63 ──────────────────
【0084】そのゾル−ゲル及び複合体フィルムの電気
的性質は、互いに同等であることが見出された。そのフ
ィルムはその帯電、掃去レベルを監視することにより比
較した。この手順では、帯状のフィルムが次のようなサ
イクルで5000回試験運転した(exercise
d)。フィルムは、初期設定600Vの初期電圧に帯電
し、Wratten 92フィルター(630nmで10
%カットする)を通してキセノンフラッシュに暴露し
た。この値は1サイクルの後で測定した。フィルムは次
いで、緑色LEDを用いて−500Vから−200Vま
でそのフィルムを放電させるに必要な暴露の10倍の正
面暴露を行うことによって掃去した。5000サイクル
の後、その間相対湿度は30%に、温度は27℃に保つ
が、帯電直後(「Vzero」)及び掃去直後
「Verase 」)の電圧が測定した。1サイクルに続いて
の掃去後の電圧は、5000サイクルに続いての掃去後
の電圧より減少しており、その試験運転によりもたらさ
れた掃去電圧の差の値(「ΔVerase 」)を与えた。The electrical properties of the sol-gel and composite films were found to be equivalent to each other. The films were compared by monitoring their charge, scavenge levels. In this procedure, the strip of film was run 5,000 times in the following cycle (exercise)
d). The film was charged to an initial voltage of an initial setting of 600 V and a Wratten 92 filter (10 at 630 nm).
% Cut) to xenon flash. This value was measured after one cycle. The film was then scavenged by using a green LED from -500 V to -200 V with a frontal exposure 10 times the exposure required to discharge the film. After 5000 cycles, the relative humidity was kept at 30% and the temperature was kept at 27 ° C., but the voltage was measured immediately after charging (“V zero ”) and immediately after scavenging “V erase ”. The voltage after the sweep after one cycle is lower than the voltage after the sweep after 5000 cycles, and the value of the difference between the sweep voltages caused by the test operation (“ΔV erase ”) ).
【0085】高強度フラッシュ及び掃去サイクル下での
電気的性質は、以下の表IIに示される。3つの要素に対
する報告された電圧は同じである。このことはシルセス
キオキサンの電気的性質がジアルキル−又はジアリール
ジアルコキシシロキサンシリル単位の導入によっても乱
されないことを示している。The electrical properties under high intensity flash and sweep cycles are shown in Table II below. The reported voltages for the three elements are the same. This indicates that the electrical properties of silsesquioxane are not disturbed by the introduction of dialkyl- or diaryldialkoxysiloxanesilyl units.
【0086】 表II ─────────────────────────── 試料 Vzero Verase ΔVerase ─────────────────────────── 比較例1 −575 −145 0 実施例1 −575 −125 0 実施例2 −515 −140 15 ─────────────────────────── Table II {Sample V zero V erase ΔV erase } {Comparative Example 1-575-145 0 Example 1-575-125 0 Example 2-515-140 15} ─────────────────
【0087】脆性は、米国規格研究所試験規格(Ame
rican National Standards
Institute Test Standard)P
H1.31写真フィルムの脆性、方法B、「くさび脆性
試験」(WEDGEBRITTLENESS TES
T)に従って、それらの電子写真要素の試料をテストす
ることにより評価した。手順の説明は次の通りである。
全ての試料は70℃、15%RHでテストした。試料の
大きさは15mm×305mmであった。くさび角度は9°
であった。くさびの長さは15.2cmであった。くさび
の大きい方の開き(opening)は2.5cmであっ
た。くらびの小さい方の開きは1.5mmであった。試料
は15mmスウィング−アルバート平行刃カッター(Th
wing−Albert parallel baad
e cutter)を用いて切断し、指定された環境で
少なくとも24時間調整した。くさびはクランプ機構で
ループ型固定治具の一端を支持するように装着し、その
ループの他端はそのくさびを介して引っ張る(ひったく
る)ようにした。試料は、ループを形成したとき関心の
ある側を外側に向けるようにしてくらびに設置された。
基準の印(a reference mark)をくさ
びの開きのところで試料の上に付けた。この印でデータ
収集のためのゼロ点とした。次いで試料は、くさびを介
して急な動作(a snap motion)で物理的
に可能なだけ早く引っ張った。この操作はそれぞれの要
素毎に合計6回繰り返した。試料の検査には、ひび割れ
の箇所を確かめるために、光電送された透過光(pip
ed transmittedlight)及び/又は
表面反射光を必要とした。2つの手法は透過光による迅
速な観察を考慮しているが、反射光が問題の試料の確認
のために用いられることも考慮している。画像帯がその
テストに対応する2つの被膜を有しているためにこのよ
うな結果となる。両層の脆さの挙動は透過光により観察
されたが、最上表面の性質は、必要なときには2層を分
離することも考慮して、反射様式で観察することができ
た。試料は、テストの前に試料の上に記された基準の印
を用い、その基準の印から最も遠いひび割れの位置を定
めることにより読み取った。最も遠いひび割れは最初に
生じたひび割れであり、ループの破壊最大径を示してい
る。くさびに付いた目盛りは最初の破壊でのループ径を
与えインチの単位を有している。番号が大きければ大き
いほど、試片はそれだけ一層脆い。6つの試片をテスト
し、結果を平均し、そして標準偏差を決定した。下記表
III に示す番号は、最初のひび割れが観察されたループ
の径(インチ/cm)である。The brittleness was determined by the American National Standards Institute test standard (Ame
rican National Standards
Institute Test Standard) P
H1.31 Brittleness of photographic film, Method B, "Wedge brittleness test" (WEDGEBRITTLENESS TES)
Evaluation was made by testing samples of the electrophotographic elements according to T). The description of the procedure is as follows.
All samples were tested at 70 ° C., 15% RH. The size of the sample was 15 mm × 305 mm. 9 ° wedge angle
Met. The length of the wedge was 15.2 cm. The larger wedge opening was 2.5 cm. The smaller opening of the clutch was 1.5 mm. The sample was a 15 mm swing-Albert parallel blade cutter (Th
wing-Albert parallel bad
eCutter) and conditioned in the designated environment for at least 24 hours. The wedge was mounted so as to support one end of a loop-type fixing jig by a clamp mechanism, and the other end of the loop was pulled (snipped) through the wedge. The sample was placed in the shadow with the side of interest facing outward when the loop was formed.
A reference mark was placed on the sample at the opening of the wedge. This mark was used as the zero point for data collection. The sample was then pulled through the wedge in a snap motion as soon as physically possible. This operation was repeated a total of six times for each element. In order to inspect the sample, the transmitted light (pip
ed transmitted light and / or surface reflected light was required. The two approaches allow for quick observation with transmitted light, but also consider that reflected light is used to identify the sample in question. This is the case because the image band has two coatings corresponding to the test. The brittle behavior of both layers was observed by transmitted light, but the nature of the top surface could be observed in a reflective fashion, taking into account the separation of the two layers when necessary. The sample was read prior to the test by using the fiducial mark on the sample and locating the crack furthest from the fiducial mark. The furthest crack is the first crack to occur, indicating the maximum diameter of the loop. The scale on the wedge gives the loop diameter at the first break and has units of inches. The higher the number, the more brittle the specimen. Six coupons were tested, the results were averaged, and the standard deviation was determined. The table below
The number shown in III is the diameter (inches / cm) of the loop where the first crack was observed.
【0088】脆性及び硬化%を表III に示す。評価され
た固体電解質層の機械的性質の違いを反映している1つ
の特徴は脆性である。本発明で用いられるシルセスキオ
キサンを含む層は、そのポリマーがやや高い硬化度を有
しているとはいえ、やや低い脆性を有していた。固体素
子珪素NMRからのT2 /T3 比か低ければ低いほど、
そのポリマーの硬化度がそれだけ高いことを示してい
る。The brittleness and percent cure are shown in Table III. One feature that reflects differences in the mechanical properties of the evaluated solid electrolyte layers is brittleness. The silsesquioxane-containing layer used in the present invention had slightly lower brittleness, although the polymer had a slightly higher degree of cure. The lower the T 2 / T 3 ratio from solid state silicon NMR, the more
This indicates that the degree of cure of the polymer is higher.
【0089】 表 III ────────────────────────── 要素 脆性 硬化(T2 /T3 ) ────────────────────────── 比較例1 0.38 0.36 実施例1 0.32 0.33 実施例2 0.36 0.29 ────────────────────────── Table III {Element brittle hardening (T 2 / T 3 )} {Comparative Example 1 0.38 0.36 Example 1 0.32 0.33 Example 2 0.36 0.29} ────────────────────
フロントページの続き (72)発明者 ジェーン ロビン カウデリー−コーバン アメリカ合衆国,ニューヨーク 14580, ウェブスター,フォレスト ローン ドラ イブ 558 (72)発明者 ジョン アンソニー シニクロフィ アメリカ合衆国,ニューヨーク 14617, ロチェスター,イートン ロード 251 (72)発明者 リンダ グッデン パートン アメリカ合衆国,ニューヨーク 14580, ウェブスター,コベントリー ドライブ 823 (72)発明者 デビッド スティーブン ウェイス アメリカ合衆国,ニューヨーク 14622, ロチェスター,イーストウッド テラス 67Continued on the front page (72) Inventor Jane Robin Cowdery-Corban United States, New York 14580, Webster, Forest Lawn Drive 558 (72) Inventor John Anthony Cinicloffy United States, New York 14617, Rochester, Eaton Road 251 (72) Inventor Linda Gooden Parton United States, New York 14580, Webster, Coventry Drive 823 (72) Inventor David Stephen Wayes United States, New York 14622, Rochester, Eastwood Terrace 67
Claims (5)
んでなる電解質被覆組成物であって、その組成物が1種
又はそれ以上のシルセスキオキサンを含み、その中に存
在する全シリル(−OSi−)単位の1〜50モル%が
加水分解性基をただ2個のみ有するシランから誘導され
たものである電解質被覆組成物。1. An electrolyte coating composition comprising a silsesquioxane salt complex in a solvent, wherein the composition comprises one or more silsesquioxanes and all silyls present therein. An electrolyte coating composition wherein 1 to 50 mol% of (-OSi-) units are derived from a silane having only two hydrolyzable groups.
なくとも10、n’は少なくとも10であり、 合計値x+y,x’+y’及びx''+y''はそれぞれ独
立して1、(x+x’+x'')/(x+y+x’+y’
+x''+y'')は0.45より小さいか又はそれと等し
く、 HYDROLYZABLEはヒドロキシ、水素、ハロ、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルカルボキシ
基、−(O−アルキレン) P −O−アルキル基(ここで
アルキレン部分はアルキレン基、アルキル部分はアルキ
ル基であり、pは1〜3である)、一級もしくは二級ア
ミノ基、又はアルキルカルボキシ基(ここでアルキル部
分はアルキル基である)であり、 LINKはアルキレン基、フルオロアルキレン基、シク
ロアルキレン基又はアリーレン基であり、 ACTIVEは炭素原子4〜20、窒素原子、酸素原子
又は硫黄原子を含む一価の有機基であって、帯電キャリ
ヤーと錯体を形成することができ、そしてINACTI
VEは炭素原子1〜12を含む一価又は二価の基であっ
て、シロキサン縮合に関与することができず、且つ電荷
を選ぶことがない基である)で表されるポリマー混合物
を含んでなる請求項1に記載の被覆組成物。(A) Structural formula I: (Wherein -A- is a structural formula Ia: And -B- has the structural formula Ib: (B) Structural Formulas II and III: (Where 0 ≦ j ≦ 0.5, m is 50 to 99 mol%, n is 1 to 50 mol%, m ′ is at least 10, and n ′ is at least 10. The total value x + y, x ′ + y ′ And x ″ + y ″ are each independently 1, (x + x ′ + x ″) / (x + y + x ′ + y ′)
+ X "+ y") is less than or equal to 0.45, and HYDROLLYZABLE is hydroxy, hydrogen, halo,
An alkoxy group, an aryloxy group, an alkylcarboxy group, a-(O-alkylene) P- O-alkyl group (where the alkylene part is an alkylene group and the alkyl part is an alkyl group, p is 1-3), primary Or a secondary amino group, or an alkylcarboxy group (where the alkyl moiety is an alkyl group), LINK is an alkylene group, fluoroalkylene group, cycloalkylene group or arylene group, and ACTIVE is carbon atom 4 to 20, A monovalent organic group containing a nitrogen, oxygen or sulfur atom, capable of forming a complex with a charged carrier;
VE is a monovalent or divalent group containing 1 to 12 carbon atoms, and is a group which cannot participate in siloxane condensation and has no charge.) The coating composition according to claim 1.
リル単位を有し、且つ構造式IV: 【化5】 (式中、0≦j≦0.5、 mは50〜99モル%、nは1〜50モル%、 x+yは1、x/(x+y)は0.45より小さいか又
はそれと等しく、 HYDROLYZABLEはヒドロキシ、水素、ハロ、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルカルボキシ
基、−(O−アルキレン) P −O−アルキル基(ここで
アルキレン部分はアルキレン基、アルキル部分はアルキ
ル基であり、pは1〜3である)、一級もしくは二級ア
ミノ基、又はアルキルカルボキシ基(ここでアルキル部
分は1つのアルキル基である)であり、 R’及びR''は独立してアルキル基又はアリール基であ
り、 LINKはアルキレン基、フルオロアルキレン基、シク
ロアルキレン基又はアリーレン基であり、 ACTIVEは炭素原子4〜20の、窒素原子、酸素原
子又は硫黄原子を含む一価の有機基であって、帯電キャ
リヤーと錯体を形成することができ、そしてINACT
IVEは炭素原子1〜12を含む一価又は二価の基であ
って、シロキサン縮合に関与することができず、且つ電
荷を選ぶことがない基である)で表される請求項2に記
載の被覆組成物。3. The silsesquioxane has at least 10 silyl units and has the structural formula IV: (Where 0 ≦ j ≦ 0.5, m is 50 to 99 mol%, n is 1 to 50 mol%, x + y is 1, x / (x + y) is less than or equal to 0.45, and HYDROLLYZABLE is Hydroxy, hydrogen, halo,
An alkoxy group, an aryloxy group, an alkylcarboxy group, a-(O-alkylene) P- O-alkyl group (where the alkylene part is an alkylene group and the alkyl part is an alkyl group, p is 1-3), primary Or a secondary amino group, or an alkylcarboxy group (where the alkyl moiety is one alkyl group), R ′ and R ″ are independently an alkyl group or an aryl group, and LINK is an alkylene group, a fluoro group. ACTIVE is a monovalent organic group having 4 to 20 carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom, which can form a complex with a charged carrier. And INACT
IVE is a monovalent or divalent group containing 1 to 12 carbon atoms, and is a group which cannot participate in siloxane condensation and has no charge.) Coating composition.
組成物から形成される固体電解質層、を含んでなる電子
写真の帯電発生要素。4. A solid electrolyte formed from: (a) a conductive layer, (b) a photoconductor charge generation layer, and (c) the electrolyte coating composition according to any one of claims 1 to 3. An electrophotographic charge-generating element comprising a layer.
素及び電子写真トナーの析出像を含んでなる現像された
電子写真要素。5. A developed electrophotographic element comprising the electrophotographic charge generating element of claim 4 and a deposited image of an electrophotographic toner.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US22342998A | 1998-12-30 | 1998-12-30 | |
| US09/223429 | 1998-12-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000204254A true JP2000204254A (en) | 2000-07-25 |
Family
ID=22836459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11375292A Pending JP2000204254A (en) | 1998-12-30 | 1999-12-28 | Silsesquioxane electrolyte composition and electrophotographic charge generation element |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000204254A (en) |
| DE (1) | DE19960530A1 (en) |
-
1999
- 1999-12-15 DE DE1999160530 patent/DE19960530A1/en not_active Ceased
- 1999-12-28 JP JP11375292A patent/JP2000204254A/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19960530A1 (en) | 2000-07-06 |
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