JP2000206653A - 熱現像感光材料 - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 第1に、生保存時の階調変動が抑えられ、ま
た印刷製版用途に用いる場合は、硬調で、ロール製品と
しても巻癖の付きにくい溶媒塗布系の熱現像感光材料を
提供し、第2に、湿度増感及び生保存時の階調変動が抑
えられ、また印刷製版用途に用いる場合は、硬調で、ロ
ール製品としても巻癖の付きにくい水系塗布系の熱現像
感光材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン
化銀粒子及び還元剤を有し、酸素透過率50ml/at
m・m2・25℃・day以下の包装材料、又は水分透
過率10g/atm・m2・25℃・day以下の包装
材料で包装されている熱現像感光材料。
た印刷製版用途に用いる場合は、硬調で、ロール製品と
しても巻癖の付きにくい溶媒塗布系の熱現像感光材料を
提供し、第2に、湿度増感及び生保存時の階調変動が抑
えられ、また印刷製版用途に用いる場合は、硬調で、ロ
ール製品としても巻癖の付きにくい水系塗布系の熱現像
感光材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン
化銀粒子及び還元剤を有し、酸素透過率50ml/at
m・m2・25℃・day以下の包装材料、又は水分透
過率10g/atm・m2・25℃・day以下の包装
材料で包装されている熱現像感光材料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像感光材料に
関し、詳しくは溶媒塗布系の熱現像感光材料及びポリマ
ーラテックスを用いる水系塗布系の熱現像感光材料の、
生保存時の階調変動、硬調化技術を採用した系での軟調
化及びロール製品とした時の巻癖の問題を解消し、また
ポリマーラテックスを用いる水系塗布系の熱現像感光材
料の湿度増感を防止するものである。
関し、詳しくは溶媒塗布系の熱現像感光材料及びポリマ
ーラテックスを用いる水系塗布系の熱現像感光材料の、
生保存時の階調変動、硬調化技術を採用した系での軟調
化及びロール製品とした時の巻癖の問題を解消し、また
ポリマーラテックスを用いる水系塗布系の熱現像感光材
料の湿度増感を防止するものである。
【0002】
【従来の技術】従来印刷製版や医療の分野では、画像形
成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題とな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー
・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより効
率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成
することができる写真用途の光熱写真材料に関する技術
が必要とされている。この技術として、例えば、米国特
許第3,152,904号、同3,487,075号及
びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバ
ー写真材料(Dry Silver Photogra
phic Materials)」(Handbook
of Imaging Materials, Ma
rcelDekker,Inc.第48頁,1991)
等に記載されているように、支持体上に有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する
熱現像感光材料が知られている。
成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題とな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザー
・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより効
率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成
することができる写真用途の光熱写真材料に関する技術
が必要とされている。この技術として、例えば、米国特
許第3,152,904号、同3,487,075号及
びD.モーガン(Morgan)による「ドライシルバ
ー写真材料(Dry Silver Photogra
phic Materials)」(Handbook
of Imaging Materials, Ma
rcelDekker,Inc.第48頁,1991)
等に記載されているように、支持体上に有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びバインダーを含有する
熱現像感光材料が知られている。
【0003】これらの熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している。該熱現像感
光材料は常温で安定であるが、露光後高温(例えば、8
0℃〜140℃)に加熱することで現像される。加熱す
ることで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤と
の間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還
元反応は露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用
によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によ
って生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域
と対照をなし、画像の形成がなされる。この反応過程
は、外部から水等の処理液を供給することなしで進行す
る。
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している。該熱現像感
光材料は常温で安定であるが、露光後高温(例えば、8
0℃〜140℃)に加熱することで現像される。加熱す
ることで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤と
の間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還
元反応は露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用
によって促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によ
って生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域
と対照をなし、画像の形成がなされる。この反応過程
は、外部から水等の処理液を供給することなしで進行す
る。
【0004】この様な熱現像感光材料の作製では、塗布
組成物をメチルエチルケトンやアセトンなどの有機溶媒
に溶解させた状態にして塗布することがしばしば行われ
る。そしてこれら有機溶媒を用いた感光材料において
は、特開平6−301140号等に記載されているよう
に塗布後の残存溶媒量を一定にすることで、現像温度変
動や経時による濃度変動を少なくすることが知られてい
る。
組成物をメチルエチルケトンやアセトンなどの有機溶媒
に溶解させた状態にして塗布することがしばしば行われ
る。そしてこれら有機溶媒を用いた感光材料において
は、特開平6−301140号等に記載されているよう
に塗布後の残存溶媒量を一定にすることで、現像温度変
動や経時による濃度変動を少なくすることが知られてい
る。
【0005】しかしながら層中の溶媒量を調整するだけ
では、生保存時の階調変動は防げないのが実状である。
では、生保存時の階調変動は防げないのが実状である。
【0006】また印刷製版用としては硬調な画像を得ら
れる感光材料が必要であり、その硬調化技術として米国
特許第5,545,505号や同5,464,738号
に記載されているようにヒドラジン誘導体を使用するこ
とが知られているが、これらの硬調化技術を採用した溶
媒塗布系の感光材料では軟調化が著しく起こり問題であ
る。
れる感光材料が必要であり、その硬調化技術として米国
特許第5,545,505号や同5,464,738号
に記載されているようにヒドラジン誘導体を使用するこ
とが知られているが、これらの硬調化技術を採用した溶
媒塗布系の感光材料では軟調化が著しく起こり問題であ
る。
【0007】一方、ポリマーラテックスを用いる感光層
においては熱現像感光材料を水系塗布で行うことが知ら
れている。、その場合溶媒の30wt%以上が水である
塗布組成物を分散若しくは溶解させた状態にして塗布す
ることがしばしば行われる。そしてこれらの感光材料に
おいては、特開平10−62899号、同10−690
23、同10−81067等に記載されているが、水系
塗布であるということにより1)感光材料中に水分が多
く残存する。2)感光材料中の水を除去しても包装の外
部から水が透過し水になじみやすい感光材料中に水を保
持してしまう等の問題が起きた。これにより上記の黒色
画像を形成する反応過程で反応促進、又は非画像部の反
応を進行させたりしてしまい湿度増感が問題になってい
る。且つ生保存時の階調変動は防げないのが実状であっ
た。
においては熱現像感光材料を水系塗布で行うことが知ら
れている。、その場合溶媒の30wt%以上が水である
塗布組成物を分散若しくは溶解させた状態にして塗布す
ることがしばしば行われる。そしてこれらの感光材料に
おいては、特開平10−62899号、同10−690
23、同10−81067等に記載されているが、水系
塗布であるということにより1)感光材料中に水分が多
く残存する。2)感光材料中の水を除去しても包装の外
部から水が透過し水になじみやすい感光材料中に水を保
持してしまう等の問題が起きた。これにより上記の黒色
画像を形成する反応過程で反応促進、又は非画像部の反
応を進行させたりしてしまい湿度増感が問題になってい
る。且つ生保存時の階調変動は防げないのが実状であっ
た。
【0008】更にこれらの熱現像感光材料を印刷製版材
料とする場合は、製品形態がロール状態なので、巻癖が
つきやすい。
料とする場合は、製品形態がロール状態なので、巻癖が
つきやすい。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、第1に、生保
存時の階調変動が抑えられ、また印刷製版用途に用いる
場合は、硬調で、ロール製品としても巻癖の付きにくい
溶媒塗布系の熱現像感光材料を提供することにある。第
2に、湿度増感及び生保存時の階調変動が抑えられ、ま
た印刷製版用途に用いる場合は、硬調で、ロール製品と
しても巻癖の付きにくい水系塗布系の熱現像感光材料を
提供することにある。
鑑みてなされたものであり、その目的は、第1に、生保
存時の階調変動が抑えられ、また印刷製版用途に用いる
場合は、硬調で、ロール製品としても巻癖の付きにくい
溶媒塗布系の熱現像感光材料を提供することにある。第
2に、湿度増感及び生保存時の階調変動が抑えられ、ま
た印刷製版用途に用いる場合は、硬調で、ロール製品と
しても巻癖の付きにくい水系塗布系の熱現像感光材料を
提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記第1の目的
は、支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン化銀粒子及
び還元剤を有し、酸素透過率50ml/atm・m2・
25℃・day以下の包装材料、又は水分透過率10g
/atm・m2・25℃・day以下の包装材料で包装
されている熱現像感光材料、ヒドラジン誘導体を含有す
ること、感光層を有する側の最表面のスムースター値が
40mmHg以下であること、支持体上の感光層を有す
る側とは反対側の最表面のスムースター値が80mmH
g以上であること、少なくとも一層に疎水性バインダー
を含むこと、によって達成される。
は、支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン化銀粒子及
び還元剤を有し、酸素透過率50ml/atm・m2・
25℃・day以下の包装材料、又は水分透過率10g
/atm・m2・25℃・day以下の包装材料で包装
されている熱現像感光材料、ヒドラジン誘導体を含有す
ること、感光層を有する側の最表面のスムースター値が
40mmHg以下であること、支持体上の感光層を有す
る側とは反対側の最表面のスムースター値が80mmH
g以上であること、少なくとも一層に疎水性バインダー
を含むこと、によって達成される。
【0011】本発明の第2の目的は、支持体上に有機銀
粒子、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びポリマーラ
テックを有し、酸素透過率50ml/atm・m2・2
5℃・day以下の包装材料、又は水分透過率10g/
atm・m2・25℃・day以下の包装材料で包装さ
れている熱現像感光材料、ヒドラジン誘導体を含有する
こと、感光層を有する側の最表面のスムースター値が4
0mmHg以下であること、支持体上の感光層を有する
側とは反対側の最表面のスムースター値が80mmHg
以上であること、によって達成される。
粒子、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤及びポリマーラ
テックを有し、酸素透過率50ml/atm・m2・2
5℃・day以下の包装材料、又は水分透過率10g/
atm・m2・25℃・day以下の包装材料で包装さ
れている熱現像感光材料、ヒドラジン誘導体を含有する
こと、感光層を有する側の最表面のスムースター値が4
0mmHg以下であること、支持体上の感光層を有する
側とは反対側の最表面のスムースター値が80mmHg
以上であること、によって達成される。
【0012】即ち本発明者は、酸素透過率又は水分透過
率の小さい材料で包装することにより、生保存時の階調
変動、硬調化技術を採用した系での軟調化及びロール製
品とした時の巻癖、水系塗布系の湿度増感の問題を解消
でき、更に驚くべきことに処理後の画像保存性も改良さ
れることを見出し本発明に至った。
率の小さい材料で包装することにより、生保存時の階調
変動、硬調化技術を採用した系での軟調化及びロール製
品とした時の巻癖、水系塗布系の湿度増感の問題を解消
でき、更に驚くべきことに処理後の画像保存性も改良さ
れることを見出し本発明に至った。
【0013】以下、本発明について詳細に説明する。
【0014】本発明の熱現像感光材料は、製造された後
に酸素透過率50ml/atm・m2・25℃・day
以下の包装材料で包装されることがひとつの特徴であ
る。好ましくは0〜20ml/atm・m2・25℃・
day以下である。
に酸素透過率50ml/atm・m2・25℃・day
以下の包装材料で包装されることがひとつの特徴であ
る。好ましくは0〜20ml/atm・m2・25℃・
day以下である。
【0015】本発明に採用できる包装材料としては、ポ
リエチレン(高圧法、低圧法どちらでもよい)、ポリプ
ロピレン(無延伸、延伸どちらでもよい)、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ酢酸ビニル、ナイロン(延伸、無延伸)、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカーボネート、
ビニロン、エバール、ポリエチレンテレフタレート(P
ET)、その他のポリエステル、塩酸ゴム、アクリロニ
トリルブタジエン共重合体、エポキシ−リン酸系樹脂
(特開昭63−63037号に記載のポリマー、特開昭
57−32952号に記載のポリマー)の様な合成樹脂
素材や、パルプが挙げられる。
リエチレン(高圧法、低圧法どちらでもよい)、ポリプ
ロピレン(無延伸、延伸どちらでもよい)、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ酢酸ビニル、ナイロン(延伸、無延伸)、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカーボネート、
ビニロン、エバール、ポリエチレンテレフタレート(P
ET)、その他のポリエステル、塩酸ゴム、アクリロニ
トリルブタジエン共重合体、エポキシ−リン酸系樹脂
(特開昭63−63037号に記載のポリマー、特開昭
57−32952号に記載のポリマー)の様な合成樹脂
素材や、パルプが挙げられる。
【0016】これらは単一素材のものが好ましいが、フ
ィルムとして用いる際には、そのフィルムを積層接着す
るが、塗布層としてもよく、また単一層のものでもよ
い。
ィルムとして用いる際には、そのフィルムを積層接着す
るが、塗布層としてもよく、また単一層のものでもよ
い。
【0017】更には、例えば上記の合成樹脂フィルムの
間にアルミ箔又はアルミ蒸着合成樹脂を使用するなど、
各種ガスバリアー膜を用いると、より好ましい。
間にアルミ箔又はアルミ蒸着合成樹脂を使用するなど、
各種ガスバリアー膜を用いると、より好ましい。
【0018】これらの積層膜又は単一層の膜厚の合計
は、1〜3000μm、より好ましくは10〜2000
μm、更に好ましくは50〜1000μmであることが
好ましい。
は、1〜3000μm、より好ましくは10〜2000
μm、更に好ましくは50〜1000μmであることが
好ましい。
【0019】本発明の他の特徴は、熱現像感光材料が製
造された後に水分透過率10g/atm・m2・25℃
・day以下の包装材料で包装されることである。更に
は0〜5g/atm・m2・25℃・day以下である
ことが好ましい。
造された後に水分透過率10g/atm・m2・25℃
・day以下の包装材料で包装されることである。更に
は0〜5g/atm・m2・25℃・day以下である
ことが好ましい。
【0020】ここに言う包装材料の水分透過率は、JI
S K7129−1992の測定法による水蒸気透過度
である。測定条件は、試験温度40℃、相対湿度90%
RHとする。
S K7129−1992の測定法による水蒸気透過度
である。測定条件は、試験温度40℃、相対湿度90%
RHとする。
【0021】本発明の水分透過率を満たす包装材料とし
ては、ポリエチレン系樹脂、ナイロン系樹脂、ポリプロ
ピレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体
系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体系樹脂、セロハン系樹
脂、ビニロン系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂等が挙げら
れる。ポリプロピレン系樹脂、ナイロン系樹脂等の樹脂
は、延伸されていてもよく、更に塩化ビニリデン系樹脂
をコートされていてもよい。また、ポリエチレン系樹脂
は、低密度あるいは高密度のものも用いることができ
る。
ては、ポリエチレン系樹脂、ナイロン系樹脂、ポリプロ
ピレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体
系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体系樹脂、セロハン系樹
脂、ビニロン系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂等が挙げら
れる。ポリプロピレン系樹脂、ナイロン系樹脂等の樹脂
は、延伸されていてもよく、更に塩化ビニリデン系樹脂
をコートされていてもよい。また、ポリエチレン系樹脂
は、低密度あるいは高密度のものも用いることができ
る。
【0022】上記の高分子材料の中で、ポリエチレン
(PE)、ナイロン(Ny)、塩化ビニリデン樹脂(P
VDC)をコートしたナイロン(KNy)、無延伸ポリ
プロピレン(CPP)、延伸ポリプロピレン(OP
P)、PVDCをコートしたポリプロピレン(KO
P)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、PVD
Cをコートしたセロハン(KPT)、ポリエチレン−ビ
ニルアルコール共重合体(エバール)を用いることが好
ましい。これらの樹脂を用いることにより、本発明にお
いての適性な機械的強度、水分透過率を有する包装材料
を容易に得ることができる。
(PE)、ナイロン(Ny)、塩化ビニリデン樹脂(P
VDC)をコートしたナイロン(KNy)、無延伸ポリ
プロピレン(CPP)、延伸ポリプロピレン(OP
P)、PVDCをコートしたポリプロピレン(KO
P)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、PVD
Cをコートしたセロハン(KPT)、ポリエチレン−ビ
ニルアルコール共重合体(エバール)を用いることが好
ましい。これらの樹脂を用いることにより、本発明にお
いての適性な機械的強度、水分透過率を有する包装材料
を容易に得ることができる。
【0023】本発明においては、無機化合物が蒸着され
た高分子材料も用いることができ、そのような高分子材
料としては、従来公知の材料を用いることができる。こ
こでの無機化合物が蒸着される高分子材料としては、上
記のものを用いることができる。蒸着する無機化合物と
しては、アルミニウム、酸化アルミニウム(Al
2O3)、酸化ケイ素(SiOx)等が挙げられる。蒸着
膜の膜厚としては、50〜1000Åの範囲が挙げられ
る。蒸着する方法としては、化学気相成長法、物理気相
成長法、蒸着法、スパッタ法等の公知の方法を用いるこ
とができる。本発明の包装材料が多層構成の場合、それ
ぞれの層の膜厚は所望の水分透過率、機械的強度等によ
り適宜設定されるが、包装材料全体としての厚みを50
0μm以下にする。多層包装材料の製法は、特に限定は
ないが、例えば樹脂層と樹脂層を接着剤等で貼り合わせ
る方法や、樹脂層と樹脂層を溶融樹脂で貼り合わせる方
法、押出法、あるいは積層法等が挙げられる。
た高分子材料も用いることができ、そのような高分子材
料としては、従来公知の材料を用いることができる。こ
こでの無機化合物が蒸着される高分子材料としては、上
記のものを用いることができる。蒸着する無機化合物と
しては、アルミニウム、酸化アルミニウム(Al
2O3)、酸化ケイ素(SiOx)等が挙げられる。蒸着
膜の膜厚としては、50〜1000Åの範囲が挙げられ
る。蒸着する方法としては、化学気相成長法、物理気相
成長法、蒸着法、スパッタ法等の公知の方法を用いるこ
とができる。本発明の包装材料が多層構成の場合、それ
ぞれの層の膜厚は所望の水分透過率、機械的強度等によ
り適宜設定されるが、包装材料全体としての厚みを50
0μm以下にする。多層包装材料の製法は、特に限定は
ないが、例えば樹脂層と樹脂層を接着剤等で貼り合わせ
る方法や、樹脂層と樹脂層を溶融樹脂で貼り合わせる方
法、押出法、あるいは積層法等が挙げられる。
【0024】本発明に採用できる高分子材料としては、
具体的には下記のものが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。尚、以下において、(最外部)/
(中間部)/(熱現像材料との接触部)の層構成を各々
表す。例えば、SiOx PET、Al2O3 PET
は、PET上にそれぞれSiOx、Al2O3を蒸着した
ものを表す。
具体的には下記のものが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。尚、以下において、(最外部)/
(中間部)/(熱現像材料との接触部)の層構成を各々
表す。例えば、SiOx PET、Al2O3 PET
は、PET上にそれぞれSiOx、Al2O3を蒸着した
ものを表す。
【0025】 (1)OPP/SiOx PET/CPP (2)OPP/SiOx PET/PE (3)OPP/Al2O3 PET/CPP (4)Al2O3 PET/Ny/CPP (5)PET/Al2O3 PET/PE (6)KOP/Ny/PE (7)PE/KNy/PE (8)KPT/PE/Ny/PE (9)OPP/CPP (10)PET/エバール/PE (11)OPP/エバール/PE 上記各具体例において、各層の膜厚は、本発明の範囲に
適合するような水分透過度が得られるように設定すれば
よい。
適合するような水分透過度が得られるように設定すれば
よい。
【0026】本発明においては、酸素透過率50ml/
atm・m2・25℃・day以下の条件と水分透過率
10g/atm・m2・25℃・day以下の条件をと
もに満たす包装材料を用いることが好ましい。
atm・m2・25℃・day以下の条件と水分透過率
10g/atm・m2・25℃・day以下の条件をと
もに満たす包装材料を用いることが好ましい。
【0027】本発明は、熱現像感光材料が硬調化剤とし
てヒドラジン誘導体を含有するとき、その効果を遺憾な
く発揮する。
てヒドラジン誘導体を含有するとき、その効果を遺憾な
く発揮する。
【0028】ヒドラジン誘導体としては、下記一般式
〔H〕で表される化合物が好ましい。
〔H〕で表される化合物が好ましい。
【0029】
【化1】
【0030】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1D
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1D1)
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1D
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。
【0031】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
【0032】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
D0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び
−G0−D0基は置換基を有していてもよい。
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
D0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び
−G0−D0基は置換基を有していてもよい。
【0033】A0として特に好ましいものはアリール基
及び−G0−D0基である。
及び−G0−D0基である。
【0034】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
【0035】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
【0036】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スル
ホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等)、又はオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スル
ホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等)、又はオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。
【0037】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0038】
【化2】
【0039】
【化3】
【0040】
【化4】
【0041】
【化5】
【0042】
【化6】
【0043】
【化7】
【0044】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。
【0045】これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で
合成することができる。
合成することができる。
【0046】ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲン化
銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6モル〜
10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モルの範囲が
好ましい。
銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6モル〜
10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モルの範囲が
好ましい。
【0047】また本発明の熱現像感光材料には、米国特
許第5,545,505号に記載のヒドロキシルアミン
化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アンモニ
ウム化合物、米国特許第5,545,507号に記載の
ヒドロキサム酸化合物、米国特許第5,558,983
号に記載のN−アシル−ヒドラジン化合物、米国特許第
5,545,515号に記載のアクリロニトリロ化合
物、米国特許第5,937,449号に記載のベンズヒ
ドロールやジフェニルフォスフィンやジアルキルピペリ
ジンやアルキル−β−ケトエステルなどの水素原子ドナ
ー化合物、などの硬調化促進剤を添加することが好まし
い。その中でも下記一般式(P)で表される4級オニウ
ム化合物及び一般式(Na)で表されるアミノ化合物が
好ましく用いられる。
許第5,545,505号に記載のヒドロキシルアミン
化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アンモニ
ウム化合物、米国特許第5,545,507号に記載の
ヒドロキサム酸化合物、米国特許第5,558,983
号に記載のN−アシル−ヒドラジン化合物、米国特許第
5,545,515号に記載のアクリロニトリロ化合
物、米国特許第5,937,449号に記載のベンズヒ
ドロールやジフェニルフォスフィンやジアルキルピペリ
ジンやアルキル−β−ケトエステルなどの水素原子ドナ
ー化合物、などの硬調化促進剤を添加することが好まし
い。その中でも下記一般式(P)で表される4級オニウ
ム化合物及び一般式(Na)で表されるアミノ化合物が
好ましく用いられる。
【0048】
【化8】
【0049】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X-はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。
【0050】
【化9】
【0051】一般式〔Na〕において、R11、R12及び
R13は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
ルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、置換アリール基、又は飽和若しくは不飽和のヘテ
ロ環を表す。R11、R12及びR13で環を形成してもよ
い。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合物である。
これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀
吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を有するため
には分子量100以上の化合物が好ましく、さらに好ま
しくは分子量300以上であり、前記一般式〔H〕にお
けるAにおける耐拡散基と同義のものが挙げられる。ま
た、好ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チ
オエーテル基、チオン基、チオウレア基等が挙げられ
る。
R13は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
ルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、置換アリール基、又は飽和若しくは不飽和のヘテ
ロ環を表す。R11、R12及びR13で環を形成してもよ
い。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合物である。
これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀
吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を有するため
には分子量100以上の化合物が好ましく、さらに好ま
しくは分子量300以上であり、前記一般式〔H〕にお
けるAにおける耐拡散基と同義のものが挙げられる。ま
た、好ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チ
オエーテル基、チオン基、チオウレア基等が挙げられ
る。
【0052】一般式〔Na〕で表される造核促進剤より
更に好ましい造核促進剤として下記一般式〔Na2〕で
表される化合物が挙げられる。
更に好ましい造核促進剤として下記一般式〔Na2〕で
表される化合物が挙げられる。
【0053】
【化10】
【0054】一般式〔Na2〕において、R1、R2、R
3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又は飽
和若しくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互いに連
結して環を形成することができる。又、R1とR2、R3
とR4が同時に水素原子であることはない。XはS、S
e又はTe原子を表す。L1及びL2は各々2価の連結基
を表す。具体的には以下に示す基又はその組み合わせ及
びそれらに適当な置換基(例えばアルキレン基、アルケ
ニレン基、アリーレン基、アシルアミノ基、スルホンア
ミド基等)を有する基が挙げられる。
3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又は飽
和若しくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互いに連
結して環を形成することができる。又、R1とR2、R3
とR4が同時に水素原子であることはない。XはS、S
e又はTe原子を表す。L1及びL2は各々2価の連結基
を表す。具体的には以下に示す基又はその組み合わせ及
びそれらに適当な置換基(例えばアルキレン基、アルケ
ニレン基、アリーレン基、アシルアミノ基、スルホンア
ミド基等)を有する基が挙げられる。
【0055】−CH2−、−CH=CH−、−C2H
4−、ピリジンジイル、−N(Z1)−(Z1は水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す)、−O−、−S
−、−(CO)−、−(SO2)−、−CH2N−。
4−、ピリジンジイル、−N(Z1)−(Z1は水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す)、−O−、−S
−、−(CO)−、−(SO2)−、−CH2N−。
【0056】又、L1又はL2で表される連結基は、該連
結基中に少なくとも1つ以上の以下の構造を含むことが
好ましい。
結基中に少なくとも1つ以上の以下の構造を含むことが
好ましい。
【0057】−[CH2CH2O]−、−[C(CH3)
HCH2O]−、−[OC(CH3)HCH2O]−、−
[OCH2C(OH)HCH2]−。
HCH2O]−、−[OC(CH3)HCH2O]−、−
[OCH2C(OH)HCH2]−。
【0058】以下に一般式〔Na〕又は〔Na2〕で表
される造核促進剤の具体例を挙げる。
される造核促進剤の具体例を挙げる。
【0059】
【化11】
【0060】
【化12】
【0061】
【化13】
【0062】
【化14】
【0063】一般式(P)において、R1〜R4で表され
る置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基
等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アル
キニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール
基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジ
ニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基
等が挙げられる。
る置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基
等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アル
キニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール
基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジ
ニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基
等が挙げられる。
【0064】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。
【0065】R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、ス
ルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有しても
よい。
アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、ス
ルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有しても
よい。
【0066】R1、R2、R3及びR4としては、水素原子
及びアルキル基が好ましい。
及びアルキル基が好ましい。
【0067】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
【0068】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
【0069】
【化15】
【0070】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4及
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4及
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
【0071】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
【0072】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4及
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4及
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
【0073】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換或いは無置換のアリール置換アル
キル基が挙げられる。
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換或いは無置換のアリール置換アル
キル基が挙げられる。
【0074】Xp -は分子全体の電荷を均衡さすに必要な
対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホ
ナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電荷
を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場
合にはnpは0である。
対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホ
ナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電荷
を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の場
合にはnpは0である。
【0075】
【化16】
【0076】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6、
R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6、
R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
【0077】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
【0078】nは1或いは2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
【0079】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【0080】
【化17】
【0081】
【化18】
【0082】
【化19】
【0083】
【化20】
【0084】
【化21】
【0085】
【化22】
【0086】
【化23】
【0087】
【化24】
【0088】
【化25】
【0089】
【化26】
【0090】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は Chemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は Chemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
【0091】これら4級オニウム化合物の添加量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料中に添加できる。
【0092】4級オニウム化合物及びアミノ化合物は、
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の構成層中のいかなる層に添加してもよい
が、好ましくは感光層を有する側の構成層の少なくとも
1層、更には感光層及び/又はその隣接層に添加する。
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の構成層中のいかなる層に添加してもよい
が、好ましくは感光層を有する側の構成層の少なくとも
1層、更には感光層及び/又はその隣接層に添加する。
【0093】本発明の熱現像感光材料は、感光層を有す
る側の最表面のスムースター値が40mmHg以下か、
感光層を有する側とは反対側の最表面のスムースター値
が80mmHg以上であることが好ましい。
る側の最表面のスムースター値が40mmHg以下か、
感光層を有する側とは反対側の最表面のスムースター値
が80mmHg以上であることが好ましい。
【0094】ここにスムースター値は、下記の条件で測
定された吸引圧の値(mmHg)で定義する。測定は東
栄電気工業社製スムースターSM−6Bによって行う。
高いmmHgの値は表面の凹凸が大きいことおよび/ま
たは凹凸の数が多いことに対応する。なお、測定する前
に23℃、相対湿度48%で2時間調湿し、同じ環境下
で上記装置で測定する。
定された吸引圧の値(mmHg)で定義する。測定は東
栄電気工業社製スムースターSM−6Bによって行う。
高いmmHgの値は表面の凹凸が大きいことおよび/ま
たは凹凸の数が多いことに対応する。なお、測定する前
に23℃、相対湿度48%で2時間調湿し、同じ環境下
で上記装置で測定する。
【0095】本発明において、感光層を有する側の最表
面のスムースター値は好ましくは0.1mmHgから3
5mmHgの範囲であり、更に好ましくは1mmHgか
ら32mmHgの範囲である。
面のスムースター値は好ましくは0.1mmHgから3
5mmHgの範囲であり、更に好ましくは1mmHgか
ら32mmHgの範囲である。
【0096】感光層を有する側の反対側の最表面のスム
ースター値は好ましくは85mmHgから400mmH
gの範囲であり、更に好ましくは90mmHgから25
0mmHgの範囲である。
ースター値は好ましくは85mmHgから400mmH
gの範囲であり、更に好ましくは90mmHgから25
0mmHgの範囲である。
【0097】スムースター値は、感光材料の構成層中の
ポリビニルブチラールやセルロースアセテートブチレー
トやポリエステルやポリマーラテックス等のバインダー
の量、マット剤の粒径、形状、添加量等の組合せや、硬
膜剤や可塑剤等のバインダー物性を変化させる化合物の
種類や量、塗布乾燥条件等によって決まる。本発明にお
いてはこれらの技術を組み合わせることでスムースター
値を最適の範囲にする。この範囲にすることでロール形
態での巻癖をさらにつきにくくすることができる。
ポリビニルブチラールやセルロースアセテートブチレー
トやポリエステルやポリマーラテックス等のバインダー
の量、マット剤の粒径、形状、添加量等の組合せや、硬
膜剤や可塑剤等のバインダー物性を変化させる化合物の
種類や量、塗布乾燥条件等によって決まる。本発明にお
いてはこれらの技術を組み合わせることでスムースター
値を最適の範囲にする。この範囲にすることでロール形
態での巻癖をさらにつきにくくすることができる。
【0098】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure第17029及び29963
に記載されており、次のものがある:有機酸の塩(例え
ば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン酸、ス
テアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の塩);銀の
カルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カ
ルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプ
ロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒド
とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸(例えば、アルデヒ
ド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルア
ルデヒド等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル
酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5
−チオジサリチル酸))とのポリマー反応生成物の銀錯
体、チオン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−カル
ボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−(チアゾ
リン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル−4−チ
アゾリン−2−チオン))、イミダゾール、ピラゾー
ル、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テ
トラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,
4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択され
る窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリン、5−クロ
ロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチド類
の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸およ
び/またはステアリン酸である。
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure第17029及び29963
に記載されており、次のものがある:有機酸の塩(例え
ば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン酸、ス
テアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の塩);銀の
カルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カ
ルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプ
ロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒド
とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸(例えば、アルデヒ
ド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルア
ルデヒド等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル
酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5
−チオジサリチル酸))とのポリマー反応生成物の銀錯
体、チオン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−カル
ボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−(チアゾ
リン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル−4−チ
アゾリン−2−チオン))、イミダゾール、ピラゾー
ル、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テ
トラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,
4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択され
る窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリン、5−クロ
ロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチド類
の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸およ
び/またはステアリン酸である。
【0099】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
【0100】本発明におけるハロゲン化銀粒子は光セン
サーとして機能するものである。本発明においては、画
像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得
るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒
子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01μ
m〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが好
ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子
が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散であること
が好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%
以下であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下と
なる粒子である。
サーとして機能するものである。本発明においては、画
像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得
るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒
子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01μ
m〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが好
ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子
が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散であること
が好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%
以下であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下と
なる粒子である。
【0101】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
平均値)×100 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
【0102】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
【0103】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みをhμ
mとした場合のアスペクト比=r/hが3以上のものを
いう。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上50
以下である。また粒径は0.1μm以下であることが好
ましく、さらに0.01μm〜0.08μmが好まし
い。これらは米国特許第5,264,337号、第5,
314,798号、第5,320,958号等に記載さ
れており、容易に目的の平板状粒子を得ることができ
る。本発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、
さらに画像の鮮鋭性も向上する。
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みをhμ
mとした場合のアスペクト比=r/hが3以上のものを
いう。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上50
以下である。また粒径は0.1μm以下であることが好
ましく、さらに0.01μm〜0.08μmが好まし
い。これらは米国特許第5,264,337号、第5,
314,798号、第5,320,958号等に記載さ
れており、容易に目的の平板状粒子を得ることができ
る。本発明においてこれらの平板状粒子を用いた場合、
さらに画像の鮮鋭性も向上する。
【0104】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。
【0105】本発明に用いられるハロゲン化銀には、照
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
【0106】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
【0107】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。
【0108】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の間である。
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の間である。
【0109】本発明の熱現像感光材料には還元剤を内蔵
させる。好適な還元剤の例は、米国特許第3,770,
448号、同3,773,512号、同3,593,8
63号、及びResearch Disclosure
第17029及び29963に記載されており、次のも
のがある。アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ−2−シクロヘキ
セノン);還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類
(reductones)エステル(例えば、ピペリジ
ノヘキソースリダクトンモノアセテート);N−ヒドロ
キシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニル−N
−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又はケトンのヒドラゾ
ン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒドラ
ゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホスファーア
ミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類(例えば、
ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、イソプロピ
ルヒドロキノン及び(2,5−ジヒドロキシ−フェニ
ル)メチルスルホン);スルフヒドロキサム酸類(例え
ば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);スルホンアミド
アニリン類(例えば、4−(N−メタンスルホンアミ
ド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒドロキノン類
(例えば、2−メチル−5−(1−フェニル−5−テト
ラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒドロキノキサ
リン類(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロキノキ
サリン);アミドオキシン類;アジン類(例えば、脂肪
族カルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸
の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシ
ルアミンの組み合わせ、リダクトン及び/又はヒドラジ
ン;ヒドロキサン酸類;アジン類とスルホンアミドフェ
ノール類の組み合わせ;α−シアノフェニル酢酸誘導
体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシベン
ゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン類;スルホン
アミドフェノール還元剤;2−フェニルインダン−1,
3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒドロピリジン類
(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエト
キシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビスフェノール類
(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフェニル)メタン、ビス(6−ヒドロキシ−m
−トリ)メシトール(mesitol)、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、
4,5−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6−メチ
ル)フェノール)、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体
及び3−ピラゾリドン類。中でも特に好ましい還元剤は
ヒンダードフェノール類である。ヒンダードフェノール
類としては下記一般式(A)で表される化合物が挙げら
れる。
させる。好適な還元剤の例は、米国特許第3,770,
448号、同3,773,512号、同3,593,8
63号、及びResearch Disclosure
第17029及び29963に記載されており、次のも
のがある。アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ−2−シクロヘキ
セノン);還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類
(reductones)エステル(例えば、ピペリジ
ノヘキソースリダクトンモノアセテート);N−ヒドロ
キシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニル−N
−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又はケトンのヒドラゾ
ン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒドラ
ゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホスファーア
ミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類(例えば、
ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、イソプロピ
ルヒドロキノン及び(2,5−ジヒドロキシ−フェニ
ル)メチルスルホン);スルフヒドロキサム酸類(例え
ば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);スルホンアミド
アニリン類(例えば、4−(N−メタンスルホンアミ
ド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒドロキノン類
(例えば、2−メチル−5−(1−フェニル−5−テト
ラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒドロキノキサ
リン類(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロキノキ
サリン);アミドオキシン類;アジン類(例えば、脂肪
族カルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸
の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシ
ルアミンの組み合わせ、リダクトン及び/又はヒドラジ
ン;ヒドロキサン酸類;アジン類とスルホンアミドフェ
ノール類の組み合わせ;α−シアノフェニル酢酸誘導
体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシベン
ゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン類;スルホン
アミドフェノール還元剤;2−フェニルインダン−1,
3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒドロピリジン類
(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエト
キシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビスフェノール類
(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフェニル)メタン、ビス(6−ヒドロキシ−m
−トリ)メシトール(mesitol)、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、
4,5−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6−メチ
ル)フェノール)、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体
及び3−ピラゾリドン類。中でも特に好ましい還元剤は
ヒンダードフェノール類である。ヒンダードフェノール
類としては下記一般式(A)で表される化合物が挙げら
れる。
【0110】
【化27】
【0111】式中、Rは水素原子、又は炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
10のアルキル基(例えば、−C4H9、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
【0112】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
【0113】
【化28】
【0114】
【化29】
【0115】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
0-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
【0116】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水
性でも疎水性でもよいが、熱現像後のカブリを低減させ
るためには、疎水性透明バインダーを使用することが好
ましい。好ましいバインダーとしては、ポリビニルブチ
ラール、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリア
クリル酸、ポリウレタンなどがあげられる。その中でも
ポリビニルブチラール、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、ポリエステルは特に好まし
く用いられる。
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水
性でも疎水性でもよいが、熱現像後のカブリを低減させ
るためには、疎水性透明バインダーを使用することが好
ましい。好ましいバインダーとしては、ポリビニルブチ
ラール、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリア
クリル酸、ポリウレタンなどがあげられる。その中でも
ポリビニルブチラール、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、ポリエステルは特に好まし
く用いられる。
【0117】ポリマーラテックスを使用する場合、適当
な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ロソルブなどに溶解して用いることができる。
な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ロソルブなどに溶解して用いることができる。
【0118】また、既に良く知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサンなど
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散して用い
ることができる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、水の中にボールミル、コロイドミル、
ジルコニアビーズ分散あるいは超音波によって分散し用
いることができる。
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサンなど
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散して用い
ることができる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、水の中にボールミル、コロイドミル、
ジルコニアビーズ分散あるいは超音波によって分散し用
いることができる。
【0119】ポリマーラテックスを使用する場合のバイ
ンダーとしては、よく知られている天然または合成樹
脂、例えば、ゼラチン、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルクロリド、ポリビニルアセテート、セルロースアセ
テート、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリスチレ
ン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネートなどから
任意のものを選択することができる。当然ながら、コポ
リマーおよびターポリマーも含まれる。好ましいポリマ
ーは、ポリビニルブチラール、ブチルエチルセルロー
ス、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸エステ
ルコポリマー、ポリスチレンおよびブタジエン−スチレ
ンコポリマーである。必要に応じて、これらのポリマー
を2種以上組合せて使用することができる。
ンダーとしては、よく知られている天然または合成樹
脂、例えば、ゼラチン、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルクロリド、ポリビニルアセテート、セルロースアセ
テート、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリスチレ
ン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネートなどから
任意のものを選択することができる。当然ながら、コポ
リマーおよびターポリマーも含まれる。好ましいポリマ
ーは、ポリビニルブチラール、ブチルエチルセルロー
ス、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸エステ
ルコポリマー、ポリスチレンおよびブタジエン−スチレ
ンコポリマーである。必要に応じて、これらのポリマー
を2種以上組合せて使用することができる。
【0120】ここで言う「ポリマーラテックス」とは水
不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散
媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマー
が分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたも
の、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に
部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散し
たものなどいずれでもよい。「合成樹脂エマルジョン
(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(197
8))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖
男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(19
93))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高
分子刊行会発行(1970))」などに記載されている
ポリマーラテックスを使用することもできる。分散粒子
の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜
1000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分
布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つもの
でも単分散の粒径分布を持つものでもよく、いわゆるコ
ア/シェル型のラテックスでもよい。
不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散
媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマー
が分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたも
の、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に
部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散し
たものなどいずれでもよい。「合成樹脂エマルジョン
(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(197
8))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖
男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(19
93))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高
分子刊行会発行(1970))」などに記載されている
ポリマーラテックスを使用することもできる。分散粒子
の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜
1000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分
布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つもの
でも単分散の粒径分布を持つものでもよく、いわゆるコ
ア/シェル型のラテックスでもよい。
【0121】ポリマーラテックスに用いられるポリマー
種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、または
これらの共重合体などがある。またポリマーとしては単
一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでも良い
し、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでも良
い。コポリマーの場合はランダムコポリマーでもブロッ
クコポリマーでも良い。
種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、または
これらの共重合体などがある。またポリマーとしては単
一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでも良い
し、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでも良
い。コポリマーの場合はランダムコポリマーでもブロッ
クコポリマーでも良い。
【0122】ポリマーラテックスの具体例としては、メ
チルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル
酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/2
エチルヘキシルアクリレート/スチレン/アクリル酸コ
ポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリ
ル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/
ジビニルベンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテック
ス、メチルメタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コ
ポリマーのラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリ
レート/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマーの
ラテックスなどが挙げられる。また、このようなポリマ
ーは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用で
きる。例えばアクリル樹脂の例として、セビアンA−4
635,46583、4601(以上ダイセル化学工業
(株)製)、Nipol Lx811、814、82
1、820、857(以上日本ゼオン(株)製)など、
ポリエステル樹脂としては、FINETEX ES65
0、611、675、850(以上大日本インキ化学
(株)製)、WD−size、WMS(以上イーストマ
ンケミカル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYD
RAN AP10、20、30、40(以上大日本イン
キ化学(株)製)など、ゴム系樹脂としてはLACST
AR 7310K、3307B、4700H、7132
C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol L
x416、410、438C、2507(以上日本ゼオ
ン(株)製)など、塩化ビニル樹脂としてはG351、
G576(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビニリ
デン樹脂としてはL502、L513(以上旭化成工業
(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパールS
120、SA100(以上三井石油化学(株)製)など
を挙げることができる。これらのポリマーは単独で用い
てもよいし、必要に応じて2種以上混合して用いても良
い。
チルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル
酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/2
エチルヘキシルアクリレート/スチレン/アクリル酸コ
ポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリ
ル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/
ジビニルベンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテック
ス、メチルメタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コ
ポリマーのラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリ
レート/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマーの
ラテックスなどが挙げられる。また、このようなポリマ
ーは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用で
きる。例えばアクリル樹脂の例として、セビアンA−4
635,46583、4601(以上ダイセル化学工業
(株)製)、Nipol Lx811、814、82
1、820、857(以上日本ゼオン(株)製)など、
ポリエステル樹脂としては、FINETEX ES65
0、611、675、850(以上大日本インキ化学
(株)製)、WD−size、WMS(以上イーストマ
ンケミカル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYD
RAN AP10、20、30、40(以上大日本イン
キ化学(株)製)など、ゴム系樹脂としてはLACST
AR 7310K、3307B、4700H、7132
C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol L
x416、410、438C、2507(以上日本ゼオ
ン(株)製)など、塩化ビニル樹脂としてはG351、
G576(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビニリ
デン樹脂としてはL502、L513(以上旭化成工業
(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパールS
120、SA100(以上三井石油化学(株)製)など
を挙げることができる。これらのポリマーは単独で用い
てもよいし、必要に応じて2種以上混合して用いても良
い。
【0123】上記ポリマーの分子量は数平均分子量で5
000〜1000000が好ましく、より好ましくは1
0000〜100000程度である。
000〜1000000が好ましく、より好ましくは1
0000〜100000程度である。
【0124】全バインダーの50wt%以上として上記
ポリマーラテックスが用いられるのが好ましく、更には
70wt%以上として上記ポリマーラテックスが用いら
れることが好ましい。
ポリマーラテックスが用いられるのが好ましく、更には
70wt%以上として上記ポリマーラテックスが用いら
れることが好ましい。
【0125】ポリマーラテックスの最低造膜温度(MF
T)は−30℃〜90℃、より好ましくは0℃〜70℃
程度である。最低造膜温度をコントロールするために造
膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれ
ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化
合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテック
スの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(197
0))」に記載されている。
T)は−30℃〜90℃、より好ましくは0℃〜70℃
程度である。最低造膜温度をコントロールするために造
膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれ
ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化
合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテック
スの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(197
0))」に記載されている。
【0126】本発明に用いられるポリマーラテックスの
ポリマーは25℃、60%RHでの平衡含水率が2wt
%以下、更には1wt%以下のものであることが好まし
い。
ポリマーは25℃、60%RHでの平衡含水率が2wt
%以下、更には1wt%以下のものであることが好まし
い。
【0127】感光材料の表面を保護したり擦り傷を防止
するために、感光層の外側に非感光層を有することがで
きる。これらの非感光層に用いられるバインダーは感光
層に用いられるバインダーと同じ種類でも異なった種類
でもよい。
するために、感光層の外側に非感光層を有することがで
きる。これらの非感光層に用いられるバインダーは感光
層に用いられるバインダーと同じ種類でも異なった種類
でもよい。
【0128】本発明において溶剤塗布系では、熱現像の
速度を速めるために感光性層のバインダー量が1.5〜
10g/m2であることが好ましい。さらに好ましくは
1.7〜8g/m2である。1.5g/m2未満では未露
光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合があ
る。
速度を速めるために感光性層のバインダー量が1.5〜
10g/m2であることが好ましい。さらに好ましくは
1.7〜8g/m2である。1.5g/m2未満では未露
光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合があ
る。
【0129】水系塗布の感光層の全バインダー量は0.
2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範
囲が好ましい。また架橋のための架橋剤、塗布性改良の
ための界面活性剤などを添加してもよい。
2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範
囲が好ましい。また架橋のための架橋剤、塗布性改良の
ための界面活性剤などを添加してもよい。
【0130】本発明においては、感光性層側にマット剤
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のためには、感光材料の表面にマット剤を配すること
が好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに
対し、重量比で0.5〜30%含有することが好まし
い。また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を
設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット
剤を含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指
紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配す
ることが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の
層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有
することが好ましい。
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のためには、感光材料の表面にマット剤を配すること
が好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに
対し、重量比で0.5〜30%含有することが好まし
い。また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を
設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット
剤を含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指
紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配す
ることが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の
層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有
することが好ましい。
【0131】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。
【0132】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。感光層に通過す
る光の量又は波長分布を制御するために感光層と同じ側
にフィルター染料層および/又は反対側にアンチハレー
ション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良い
し、感光層に染料又は顔料を含ませても良い。
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。感光層に通過す
る光の量又は波長分布を制御するために感光層と同じ側
にフィルター染料層および/又は反対側にアンチハレー
ション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良い
し、感光層に染料又は顔料を含ませても良い。
【0133】これらの非感光性層には前記のバインダー
やマット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロ
キサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベ
リ剤を含有してもよい。
やマット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロ
キサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベ
リ剤を含有してもよい。
【0134】また、本発明の熱現像感光材料には、塗布
助剤として各種の界面活性剤が用いられる。その中でも
フッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑点状
の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
助剤として各種の界面活性剤が用いられる。その中でも
フッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑点状
の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
【0135】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感層/低感層又は低感層/高感層に
しても良い。
調節のため感度を高感層/低感層又は低感層/高感層に
しても良い。
【0136】本発明に用いられる好適な色調剤の例はR
esearch Disclosure第17029号
に開示されている。
esearch Disclosure第17029号
に開示されている。
【0137】本発明の熱現像材料には現像を抑制あるい
は促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上さ
せるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメ
ルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を
含有させることができる。
は促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上さ
せるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメ
ルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を
含有させることができる。
【0138】本発明の熱現像感光材料中にはかぶり防止
剤が含まれて良い。
剤が含まれて良い。
【0139】各種の添加剤は感光層、非感光層、又はそ
の他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の熱現
像感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定
化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良
い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤はRe
search Disclosure Item170
29(1978年6月p.9〜15)に記載されている
化合物を好ましく用いることができる。
の他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の熱現
像感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定
化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良
い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤はRe
search Disclosure Item170
29(1978年6月p.9〜15)に記載されている
化合物を好ましく用いることができる。
【0140】本発明で用いられる支持体は、現像処理後
に所定の光学濃度を得るため、及び現像処理後の画像の
変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレ
ンナフタレート)であることが好ましい。
に所定の光学濃度を得るため、及び現像処理後の画像の
変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレ
ンナフタレート)であることが好ましい。
【0141】その中でも好ましい支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられ
る。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ま
しくは70〜180μm、更に好ましくは110〜17
0μmである。
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられ
る。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ま
しくは70〜180μm、更に好ましくは110〜17
0μmである。
【0142】また寸法安定性や熱現像処理による歪みを
改良するために熱処理したプラスチック支持体を用いる
こともできる。採用するプラスチックとしては、前記の
プラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれら
の支持体を製膜後、画像形成層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、
好ましくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。
改良するために熱処理したプラスチック支持体を用いる
こともできる。採用するプラスチックとしては、前記の
プラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれら
の支持体を製膜後、画像形成層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、
好ましくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。
【0143】本発明に係る支持体の成膜方法及び下引製
造方法は公知の方法を用いることができるが、好ましく
は、特開平9−50094号の段落〔0030〕〜〔0
070〕に記載された方法を用いることである。
造方法は公知の方法を用いることができるが、好ましく
は、特開平9−50094号の段落〔0030〕〜〔0
070〕に記載された方法を用いることである。
【0144】上記の支持体を用いた熱現像感光材料に本
発明に係る包装材料を適用して包装する場合、熱現像時
の歪みが更に改良されたり、経時や高温高湿条件で保存
時の寸法安定に優れる利点が有る。
発明に係る包装材料を適用して包装する場合、熱現像時
の歪みが更に改良されたり、経時や高温高湿条件で保存
時の寸法安定に優れる利点が有る。
【0145】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光層と下引の間の層などである。
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光層と下引の間の層などである。
【0146】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0147】実施例1 (下引済みPET支持体の作製)市販の2軸延伸熱固定
済みの厚さ100μmのPETフィルムの両面に8w/
m2・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引
塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し
乾燥させて下引層A−1とし、また反対側の面に下記帯
電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μm
になるように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層B−
1とした。
済みの厚さ100μmのPETフィルムの両面に8w/
m2・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引
塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し
乾燥させて下引層A−1とし、また反対側の面に下記帯
電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μm
になるように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層B−
1とした。
【0148】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%) t−ブチルアクリレート(20重量%) スチレン(25重量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1lに仕上げる 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30重量%) スチレン(20重量%) グリシジルアクリレート(40重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8w/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引層A−2として、下引層B−1の上には
下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
8w/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引層A−2として、下引層B−1の上には
下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
【0149】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1lに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1lに仕上げる
【0150】
【化30】
【0151】
【化31】
【0152】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
を、200℃に設定した全長150mの熱処理ゾーンに
入れ、張力4kg/cm2、搬送速度10m/分で搬送
した。その後で、40℃のゾーンに20秒間通し、9k
g/cm2の巻き取り張力で巻き取った。
を、200℃に設定した全長150mの熱処理ゾーンに
入れ、張力4kg/cm2、搬送速度10m/分で搬送
した。その後で、40℃のゾーンに20秒間通し、9k
g/cm2の巻き取り張力で巻き取った。
【0153】(乳剤Aの調製)水900ml中にイナー
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(60/38/2)のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウムを含
む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩を銀1モル当た
り1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を銀1モル当たり
1×10-6モルを、pAg7.7に保ちながらコントロ
ールドダブルジェット法で添加した。その後4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ンを添加しNaOHでpHを8、pAg6.5に調整す
ることで還元増感を行い平均粒子サイズ0.06μm、
単分散度10%の投影直径面積の変動係数8%、〔10
0〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳
剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理を行
った。
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(60/38/2)のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウムを含
む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩を銀1モル当た
り1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を銀1モル当たり
1×10-6モルを、pAg7.7に保ちながらコントロ
ールドダブルジェット法で添加した。その後4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ンを添加しNaOHでpHを8、pAg6.5に調整す
ることで還元増感を行い平均粒子サイズ0.06μm、
単分散度10%の投影直径面積の変動係数8%、〔10
0〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳
剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理を行
った。
【0154】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で撹
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で撹
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
【0155】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀Aのプレフォ
ーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハロゲ
ン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム溶液
でpH8.1に調整した後に1Mの硝酸銀溶液147m
lを7分間かけて加え、さらに20分撹拌し限外濾過に
より水溶性塩類を除去した。できたベヘン酸銀は平均粒
子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であった。分
散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6回の水
洗と水の除去を行った後乾燥させた。
ーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハロゲ
ン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム溶液
でpH8.1に調整した後に1Mの硝酸銀溶液147m
lを7分間かけて加え、さらに20分撹拌し限外濾過に
より水溶性塩類を除去した。できたベヘン酸銀は平均粒
子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であった。分
散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6回の水
洗と水の除去を行った後乾燥させた。
【0156】(感光性乳剤の調製)できあがったプレフ
ォーム乳剤を分割し、それにポリビニルブチラール(平
均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液(17w
t%)544gとトルエン107gを徐々に添加して混
合した後に、0.5mmサイズZrO2のビーズミルを
用いたメディア分散機で4000psiで30℃、10
分間の分散を行った。
ォーム乳剤を分割し、それにポリビニルブチラール(平
均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液(17w
t%)544gとトルエン107gを徐々に添加して混
合した後に、0.5mmサイズZrO2のビーズミルを
用いたメディア分散機で4000psiで30℃、10
分間の分散を行った。
【0157】前記支持体上に以下の各層を両面同時塗布
し、試料を作製した。尚、乾燥は60℃、15分間で行
った。
し、試料を作製した。尚、乾燥は60℃、15分間で行
った。
【0158】(バック面側塗布)支持体のB−1層の上
に以下の組成の液を塗布した。
に以下の組成の液を塗布した。
【0159】 セルロースアセテートブチレート 15ml/m2 (10%メチルエチルケトン溶液) 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 90mg/m2 C8F17(CH2CH2O)12C8F17 50mg/m2 C9F17−C6H4−SO3Na 10mg/m2
【0160】
【化32】
【0161】(感光層面側塗布) 感光層1:支持体のA−1層の上に以下の組成の液を塗
布銀量が2.4g/m2になる様に塗布した。
布銀量が2.4g/m2になる様に塗布した。
【0162】 プレフォーム乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液)9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml ヒドラジン誘導体H−26 0.4g 硬調化促進剤P−51 0.3g フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g A−4(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物 0.5g (モーベイ社製、Desmodur N3300)
【0163】
【化33】
【0164】表面保護層:以下の組成の液を感光層の上
になるよう同時塗布した。
になるよう同時塗布した。
【0165】 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 現像剤(20%メタノール溶液) 10ml/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤 C12F25(CH2CH2O)10C12F25 10mg/m2 C8F17−C6H4−SO3Na 10mg/m2 感光層側の表面のスムースター値は25mmHgであ
り、バッキング側の表面のスムースター値は200mm
Hgであった。なおスムースター値の測定は、試料を未
露光のまま、23℃、48%RHで2時間調湿し、同じ
環境で感光層側の表面のスムースター値を東洋電子工業
(株)製SM−6Bにより測定した。
り、バッキング側の表面のスムースター値は200mm
Hgであった。なおスムースター値の測定は、試料を未
露光のまま、23℃、48%RHで2時間調湿し、同じ
環境で感光層側の表面のスムースター値を東洋電子工業
(株)製SM−6Bにより測定した。
【0166】塗膜形成した後の試料を用い、バインダー
を除去した後に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定
したところ、有機銀粒子は、長軸径0.5±0.05μ
m、短軸径0.4±0.05μm、厚み0.01μmの
平板状粒子が全有機銀粒子の90%である単分散度5%
の粒子であった。
を除去した後に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定
したところ、有機銀粒子は、長軸径0.5±0.05μ
m、短軸径0.4±0.05μm、厚み0.01μmの
平板状粒子が全有機銀粒子の90%である単分散度5%
の粒子であった。
【0167】上記で作製した熱現像感光材料を、暗室内
で30cm幅で50mの長さに切断して内径10cmの
ボール紙でできたコアに巻き付けロール形状の試料を作
製した。さらに暗室内で作製した試料を表1に示す材料
でできた60cm×2mの包装材料で巻いた。
で30cm幅で50mの長さに切断して内径10cmの
ボール紙でできたコアに巻き付けロール形状の試料を作
製した。さらに暗室内で作製した試料を表1に示す材料
でできた60cm×2mの包装材料で巻いた。
【0168】《強制劣化試験》上記で作製した包装され
た熱現像感光材料試料を、強制劣化条件として40℃、
80%RHで5日間加温した。
た熱現像感光材料試料を、強制劣化条件として40℃、
80%RHで5日間加温した。
【0169】《露光及び現像処理》その後、780nm
の半導体レーザーを搭載したイメージセッター機である
サイテックス社製Dolev 2dryを用いて300
線で5%刻みで露光量変化させるように網点を露光し、
120℃で25秒の熱現像を行った。その際、露光及び
現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。
の半導体レーザーを搭載したイメージセッター機である
サイテックス社製Dolev 2dryを用いて300
線で5%刻みで露光量変化させるように網点を露光し、
120℃で25秒の熱現像を行った。その際、露光及び
現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。
【0170】《巻癖の試験》上記の強制劣化を施した試
料を幅20cm長さ60cmに切断し、23℃、50%
RHに調湿した部屋で、試料を平らな床に置いたときに
端がどのくらいカールして床から跳ね上がったかを測定
した。跳ね上がりが大きいほど巻癖が強くついているこ
とがわかる。
料を幅20cm長さ60cmに切断し、23℃、50%
RHに調湿した部屋で、試料を平らな床に置いたときに
端がどのくらいカールして床から跳ね上がったかを測定
した。跳ね上がりが大きいほど巻癖が強くついているこ
とがわかる。
【0171】《搬送性試験》上記の強制劣化を施した試
料露光、熱現像処理を連続して100枚行った。その時
に搬送不良をおこした枚数をカウントした。巻癖が強い
試料ほど搬送不良を起こしやすい。
料露光、熱現像処理を連続して100枚行った。その時
に搬送不良をおこした枚数をカウントした。巻癖が強い
試料ほど搬送不良を起こしやすい。
【0172】《軟調化の評価》上記の強制劣化を施した
試料を露光熱現像したものの5%の網点を100倍のル
ーペで網点画質を目視で観察した。全くフリンジのない
ものを5とし、フリンジが出て来るにつれランクを落と
していった。3ランク未満は実用に耐えない。
試料を露光熱現像したものの5%の網点を100倍のル
ーペで網点画質を目視で観察した。全くフリンジのない
ものを5とし、フリンジが出て来るにつれランクを落と
していった。3ランク未満は実用に耐えない。
【0173】《熱現像後の濃度変化の評価》上記の強制
劣化を施した試料を露光熱現像したものとを2つに分
け、片方を経時代用評価としての50℃、60%RHの
サーモ機に5日間投入した。サーモ機に投入する前に濃
度2.5であったものがサーモ投入後にどのくらい濃度
変動したかを濃度計で測定した。
劣化を施した試料を露光熱現像したものとを2つに分
け、片方を経時代用評価としての50℃、60%RHの
サーモ機に5日間投入した。サーモ機に投入する前に濃
度2.5であったものがサーモ投入後にどのくらい濃度
変動したかを濃度計で測定した。
【0174】結果を表2に示す。
【0175】
【表1】
【0176】
【表2】
【0177】実施例2 ハロゲン化銀乳剤を下記Bに、感光層のヒドラジン誘導
体をH−14に、硬調化促進剤をP−42にする以外は
実施例1と同様にして熱現像感光材料を作製した。作製
した熱現像感光材料を、暗室内で30cm幅で50mの
長さに切断して内径10cmのボール紙でできたコアに
巻き付けロール形状の試料を作製した。さらに暗室内で
作製した試料を表3に示す材料でできた60cm×2m
の包装材料できっちり巻いた。実施例1と同様に評価し
た結果を表4に示す。
体をH−14に、硬調化促進剤をP−42にする以外は
実施例1と同様にして熱現像感光材料を作製した。作製
した熱現像感光材料を、暗室内で30cm幅で50mの
長さに切断して内径10cmのボール紙でできたコアに
巻き付けロール形状の試料を作製した。さらに暗室内で
作製した試料を表3に示す材料でできた60cm×2m
の包装材料できっちり巻いた。実施例1と同様に評価し
た結果を表4に示す。
【0178】(ハロゲン化銀乳剤Bの調製)同時混合法
を用いて塩化銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均
厚み0.01μm、平均直径0.05μmの塩臭化銀コ
ア粒子を調製した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀
1モル当たり8×10-8モル添加した。このコア粒子
に、同時混合法を用いてシェルを付けた。その際K2I
rCl6を銀1モル当たり3×10-7モル添加した。得
られた乳剤は平均厚み0.02μm、平均直径0.09
μmのコア/シェル型単分散(変動係数10%)の(1
00)面を主平面として有する塩沃臭化銀(塩化銀90
モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からな
る)平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−280
139号287(3)頁に記載の変性ゼラチンG−8
(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカルバミルで置換し
たもの)を使い脱塩した。
を用いて塩化銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均
厚み0.01μm、平均直径0.05μmの塩臭化銀コ
ア粒子を調製した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀
1モル当たり8×10-8モル添加した。このコア粒子
に、同時混合法を用いてシェルを付けた。その際K2I
rCl6を銀1モル当たり3×10-7モル添加した。得
られた乳剤は平均厚み0.02μm、平均直径0.09
μmのコア/シェル型単分散(変動係数10%)の(1
00)面を主平面として有する塩沃臭化銀(塩化銀90
モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からな
る)平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−280
139号287(3)頁に記載の変性ゼラチンG−8
(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカルバミルで置換し
たもの)を使い脱塩した。
【0179】脱塩後のEAgは50℃で190mVであ
った。4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデンを銀1モル当たり1×10-3モル添
加し更に臭化カリウム及びクエン酸を添加してpH5.
6、EAg123mVに調整して、塩化金酸を2×10
-5モル添加した後に無機硫黄を3×10-6モル添加して
温度60℃で最高感度が出るまで化学熟成を行った。熟
成終了後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり2×10-3
モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾールを3
×10-4モル及びゼラチンを添加した。
った。4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデンを銀1モル当たり1×10-3モル添
加し更に臭化カリウム及びクエン酸を添加してpH5.
6、EAg123mVに調整して、塩化金酸を2×10
-5モル添加した後に無機硫黄を3×10-6モル添加して
温度60℃で最高感度が出るまで化学熟成を行った。熟
成終了後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり2×10-3
モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾールを3
×10-4モル及びゼラチンを添加した。
【0180】
【表3】
【0181】
【表4】
【0182】実施例3 (ハロゲン化銀粒子Cの調製)水700mlにフタル化
ゼラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解して
温度40℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀1
8.6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムを含む
水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブル
ジェット法で10分間かけて添加した。K3〔IrC
l6〕3-を8×10-6モル/Lと臭化カリウムを1モル
/Lで含む水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロ
ールダブルジェット法で30分かけて添加した。その後
pH5.9、pAg8.0に調整した(平均粒子サイズ
0.07μm、投影面積直径の変動係数8%、(10
0)面積率86%の立方体粒子であった。)。
ゼラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解して
温度40℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀1
8.6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムを含む
水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブル
ジェット法で10分間かけて添加した。K3〔IrC
l6〕3-を8×10-6モル/Lと臭化カリウムを1モル
/Lで含む水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロ
ールダブルジェット法で30分かけて添加した。その後
pH5.9、pAg8.0に調整した(平均粒子サイズ
0.07μm、投影面積直径の変動係数8%、(10
0)面積率86%の立方体粒子であった。)。
【0183】上記のハロゲン化銀粒子Cを温度60℃に
昇温して銀1モル当たり8.5×10-5モルのチオ硫酸
ナトリウム、1.1×10-5モルの2,3,4,5,6
−ペンタフロロフェニルジフェニルスルフィンセレニ
ド、3.3×10-6モルの塩化金酸、2.3×10-4モ
ルのチオシアン酸を添加して、120分間熟成した。そ
の後、温度を50℃にして8×10-4モルの増感色素を
撹拌しながら添加し、更に、3.5×10-2モルの沃化
カリウムを添加して30分間撹拌し、30℃に急冷して
ハロゲン化銀粒子の調製を完了した。
昇温して銀1モル当たり8.5×10-5モルのチオ硫酸
ナトリウム、1.1×10-5モルの2,3,4,5,6
−ペンタフロロフェニルジフェニルスルフィンセレニ
ド、3.3×10-6モルの塩化金酸、2.3×10-4モ
ルのチオシアン酸を添加して、120分間熟成した。そ
の後、温度を50℃にして8×10-4モルの増感色素を
撹拌しながら添加し、更に、3.5×10-2モルの沃化
カリウムを添加して30分間撹拌し、30℃に急冷して
ハロゲン化銀粒子の調製を完了した。
【0184】(有機酸銀微結晶分散物の調製)ベヘン酸
40g、ステアリン酸7.3g、蒸留水500mlを9
0℃で15分間混合し、激しく撹拌しながら1N−Na
OH水溶液187mlを15分かけて添加し、1N−硝
酸水溶液61mlを添加して50℃に降温した。次に、
1N−硝酸銀水溶液124mlを添加してそのまま30
分間撹拌した。その後、吸引濾過で固形分を濾過し、濾
水の伝導度が30μS/cmになるまで固形分を水洗し
た。こうして得られた固形分は、乾燥させないでウェッ
トケーキとして取り扱い、乾燥固形分34.8g相当の
ウェットケーキに対して、ポリビニルアルコール12g
および水150mlを添加し、良く混合してスラリーと
した。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ840g
を用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機
(1/4G−サンドグラインダーミル:アイメックス
(株)社製)にて5時間分散し、体積加重平均1.5μ
mの有機酸銀微結晶分散物を得た。
40g、ステアリン酸7.3g、蒸留水500mlを9
0℃で15分間混合し、激しく撹拌しながら1N−Na
OH水溶液187mlを15分かけて添加し、1N−硝
酸水溶液61mlを添加して50℃に降温した。次に、
1N−硝酸銀水溶液124mlを添加してそのまま30
分間撹拌した。その後、吸引濾過で固形分を濾過し、濾
水の伝導度が30μS/cmになるまで固形分を水洗し
た。こうして得られた固形分は、乾燥させないでウェッ
トケーキとして取り扱い、乾燥固形分34.8g相当の
ウェットケーキに対して、ポリビニルアルコール12g
および水150mlを添加し、良く混合してスラリーと
した。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ840g
を用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機
(1/4G−サンドグラインダーミル:アイメックス
(株)社製)にて5時間分散し、体積加重平均1.5μ
mの有機酸銀微結晶分散物を得た。
【0185】(素材固体微粒子分散物の調製)テトラク
ロロフタル酸、4−メチルフタル酸、1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、フタラジン、トリブロモメチ
ルスルフォニルベンゼンについて固体微粒子分散物を調
製した。
ロロフタル酸、4−メチルフタル酸、1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、フタラジン、トリブロモメチ
ルスルフォニルベンゼンについて固体微粒子分散物を調
製した。
【0186】テトラクロロフタル酸に対して、ヒドロキ
シプロピルセルロース0.81gと水94.2mlとを
添加して良く撹拌してスラリーとして10時間放置し
た。その後、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを
100mlとスラリーとを一緒にベッセルに入れて有機
酸銀微結晶分散物の調製に用いたものと同じ型の分散機
で5時間分散してテトラクロロフタル酸の固体微結晶分
散物を得た。固体微粒子の粒子サイズは70wt%が
1.0μm以下であった。
シプロピルセルロース0.81gと水94.2mlとを
添加して良く撹拌してスラリーとして10時間放置し
た。その後、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを
100mlとスラリーとを一緒にベッセルに入れて有機
酸銀微結晶分散物の調製に用いたものと同じ型の分散機
で5時間分散してテトラクロロフタル酸の固体微結晶分
散物を得た。固体微粒子の粒子サイズは70wt%が
1.0μm以下であった。
【0187】その他の素材については所望の平均粒径を
得るために適宜分散剤の使用量および分散時間を変更し
て、固体微粒子分散物を得た。
得るために適宜分散剤の使用量および分散時間を変更し
て、固体微粒子分散物を得た。
【0188】(乳剤層塗布液の調製)先に調製した有機
酸銀微結晶分散物に対して下記の各組成物を添加して乳
剤塗布液を調製した。
酸銀微結晶分散物に対して下記の各組成物を添加して乳
剤塗布液を調製した。
【0189】 有機酸銀微結晶分散物 1モル ハロゲン化銀粒子C 0.05モル バインダー:スチレン−ブタジエン系コポリマーのラテックス (大日本インキ化学工業(株)製、LACSTAR 3307B 平均粒径0.1〜0.15μm) 430g テトラクロロフタル酸 5g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −3,5,5−トリメチルヘキサン 98g フタラジン 9.0g トリブロモメチルフェニルスルホン 12g 4−メチルフタル酸 7g N−(2−メトキシフェニル)−N′−ホルミルヒドラジン 15g (乳剤保護層塗布液の調製)固形分27.5%のポリマ
ーラテックス(メチルメタクリレート/スチレン−2−
エチルヘキシルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメ
タクリレートメタアクリル酸=59/9/26/5/1
の共重合体でガラス転移温度55℃)109gにH2O
3.75gを加え、造膜助剤としてベンジルアルコール
4.5g、化合物D0.45g、化合物E0.125
g、化合物F0.0125gモル、及びポリビニルアル
コール(クラレ(株)製、PVA−217)2.25g
を加え、更にH2Oを加えて、150gとし、塗布液と
した。
ーラテックス(メチルメタクリレート/スチレン−2−
エチルヘキシルアクリレート/2−ヒドロキシエチルメ
タクリレートメタアクリル酸=59/9/26/5/1
の共重合体でガラス転移温度55℃)109gにH2O
3.75gを加え、造膜助剤としてベンジルアルコール
4.5g、化合物D0.45g、化合物E0.125
g、化合物F0.0125gモル、及びポリビニルアル
コール(クラレ(株)製、PVA−217)2.25g
を加え、更にH2Oを加えて、150gとし、塗布液と
した。
【0190】(バック面3塗布液の調製)ポリビニルア
ルコールに対して、下記の各組成物を添加してバック面
塗布液を調製した。
ルコールに対して、下記の各組成物を添加してバック面
塗布液を調製した。
【0191】 ポリビニルアルコール 30g 染料C 5g 水 250g 真球状シリカ 1.8g (洞海化学社製、シルデックスH121、平均サイズ12μm)
【0192】
【化34】
【0193】(バック面4塗布液の調製)上記真球状シ
リカの料を2.5gにした以外はバック面3塗布液と同
様にして調製した。
リカの料を2.5gにした以外はバック面3塗布液と同
様にして調製した。
【0194】上記のように調製した乳剤層塗布液をポリ
エチレンテレフタレート支持体上に銀が1.6g/m2
になるように、その上に乳剤層保護層塗布液を乾燥膜厚
2μmとなるように同時重層塗布した。乾燥後、乳剤層
と反対の面上にバック面塗布液を780nmの光学濃度
が0.7になるように塗布し、試料を作製した。尚、乾
燥は、60℃で30分間行った。
エチレンテレフタレート支持体上に銀が1.6g/m2
になるように、その上に乳剤層保護層塗布液を乾燥膜厚
2μmとなるように同時重層塗布した。乾燥後、乳剤層
と反対の面上にバック面塗布液を780nmの光学濃度
が0.7になるように塗布し、試料を作製した。尚、乾
燥は、60℃で30分間行った。
【0195】感光層側の表面のスムースター値は20m
mHgであり、バッキング側の表面のスムースター値は
バック面3が40mmHg、バック面4が150mmH
gであった。
mHgであり、バッキング側の表面のスムースター値は
バック面3が40mmHg、バック面4が150mmH
gであった。
【0196】上記で作製した熱現像感光材料を、同様に
包装材料で巻いたロール形状の試料とし、実施例1と同
様にして評価した。また湿度増感についても以下の様に
して評価した。
包装材料で巻いたロール形状の試料とし、実施例1と同
様にして評価した。また湿度増感についても以下の様に
して評価した。
【0197】《湿度増感評価の評価》 1)熱現像処理後の経時での400nmでの光学透過濃
度の評価 作製した試料を2つに分け、片方を経時代用評価として
25℃、80%RHの恒温機に3日間投入した。その未
露光試料を120℃で25秒で熱現像を行い、(株)日
立製作所製分光光度計U−3000を用いて、未露光部
の部分の400nmにおける透過濃度を測定した。保存
前の透過濃度から保存後の透過濃度の変動率を評価し
た。変動率が大きいほど、次工程であるPS版の露光に
長時間要したり、細かな網点や線が再現されないという
問題を引き起こしやすい(変動率が大きいと増感してい
ることを意味している)。
度の評価 作製した試料を2つに分け、片方を経時代用評価として
25℃、80%RHの恒温機に3日間投入した。その未
露光試料を120℃で25秒で熱現像を行い、(株)日
立製作所製分光光度計U−3000を用いて、未露光部
の部分の400nmにおける透過濃度を測定した。保存
前の透過濃度から保存後の透過濃度の変動率を評価し
た。変動率が大きいほど、次工程であるPS版の露光に
長時間要したり、細かな網点や線が再現されないという
問題を引き起こしやすい(変動率が大きいと増感してい
ることを意味している)。
【0198】2)熱現像処理条件変化での性能変動の評
価 作製した試料を2つに分け、片方を経時代用評価として
25℃、80%RHの恒温機に3日間投入した。前記イ
メージセッター機を用いて300線で5%刻みで露光量
変化させるように網点を露光し、120℃で25秒の熱
現像を行った。その際、露光及び現像は23℃、50%
RHに調湿した部屋で行った。現像済み試料の濃度を光
学濃度計(コニカ社製:PDA−65)で測定し濃度3
における保存前感度を100とし、保存前感度から恒温
機に3日間投入後のサンプルの変動率を感度とし評価し
た(変動率が大きいと増感していることを意味してい
る)。
価 作製した試料を2つに分け、片方を経時代用評価として
25℃、80%RHの恒温機に3日間投入した。前記イ
メージセッター機を用いて300線で5%刻みで露光量
変化させるように網点を露光し、120℃で25秒の熱
現像を行った。その際、露光及び現像は23℃、50%
RHに調湿した部屋で行った。現像済み試料の濃度を光
学濃度計(コニカ社製:PDA−65)で測定し濃度3
における保存前感度を100とし、保存前感度から恒温
機に3日間投入後のサンプルの変動率を感度とし評価し
た(変動率が大きいと増感していることを意味してい
る)。
【0199】包装材料の酸素透過率と各評価結果の関係
を表5、表6に、水分透過率と各評価結果との関係を表
7、表8に示す。
を表5、表6に、水分透過率と各評価結果との関係を表
7、表8に示す。
【0200】
【表5】
【0201】
【表6】
【0202】
【表7】
【0203】
【表8】
【0204】
【発明の効果】本発明によれば、溶媒塗布系の熱現像感
光材料及び水系塗布系の熱現像感光材料の、生保存時の
階調変動、硬調化技術を採用した系での軟調化及びロー
ル製品とした時の巻癖の問題を解消でき、水系塗布系の
熱現像感光材料の湿度増感が抑えられ、加えて処理後の
画像保存性も改良される。
光材料及び水系塗布系の熱現像感光材料の、生保存時の
階調変動、硬調化技術を採用した系での軟調化及びロー
ル製品とした時の巻癖の問題を解消でき、水系塗布系の
熱現像感光材料の湿度増感が抑えられ、加えて処理後の
画像保存性も改良される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03C 1/498 502 G03C 1/498 502
Claims (9)
- 【請求項1】 支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン
化銀粒子及び還元剤を有し、酸素透過率50ml/at
m・m2・25℃・day以下の包装材料で包装されて
いることを特徴とする熱現像感光材料。 - 【請求項2】 ヒドラジン誘導体を含有することを特徴
とする請求項1に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項3】 支持体上に有機銀粒子、感光性ハロゲン
化銀粒子及び還元剤を有し、水分透過率10g/atm
・m2・25℃・day以下の包装材料で包装されてい
ることを特徴とする熱現像感光材料。 - 【請求項4】 ヒドラジン誘導体を含有することを特徴
とする請求項3に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項5】 前記包装材料の水分透過率が10g/a
tm・m2・25℃・day以下であることを特徴とす
る請求項1又は2に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項6】 感光層を有する側の最表面のスムースタ
ー値が40mmHg以下であることを特徴とする請求項
1、2、3、4又は5に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項7】 支持体上の感光層を有する側とは反対側
の最表面のスムースター値が80mmHg以上であるこ
とを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6に記載
の熱現像感光材料。 - 【請求項8】 少なくとも一層に疎水性バインダーを含
むことを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は
7に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項9】 少なくとも1層にポリマーラテックスを
含むことを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又
は7に記載の熱現像感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11269604A JP2000206653A (ja) | 1998-11-13 | 1999-09-24 | 熱現像感光材料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-323550 | 1998-11-13 | ||
| JP32355098 | 1998-11-13 | ||
| JP11269604A JP2000206653A (ja) | 1998-11-13 | 1999-09-24 | 熱現像感光材料 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006072465A Division JP2006178499A (ja) | 1998-11-13 | 2006-03-16 | 熱現像感光材料 |
| JP2006072466A Division JP2006178500A (ja) | 1998-11-13 | 2006-03-16 | 熱現像感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000206653A true JP2000206653A (ja) | 2000-07-28 |
Family
ID=26548849
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11269604A Pending JP2000206653A (ja) | 1998-11-13 | 1999-09-24 | 熱現像感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000206653A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1582919A1 (en) | 2004-03-23 | 2005-10-05 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Silver halide photosensitive material and photothermographic material |
| EP1630609A1 (en) | 2004-08-23 | 2006-03-01 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Printing plate material and printing plate |
| EP1635216A1 (en) | 2004-09-14 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothermographic material |
| EP1700710A1 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-13 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Printing method, sheet material and mounting method of printing plate |
| WO2007010777A1 (ja) | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 画像形成方法 |
| EP1750173A1 (en) | 2005-08-04 | 2007-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material and packaged body containing the same |
| US7262000B2 (en) | 2002-10-21 | 2007-08-28 | Fujifilm Corporation | Photothermographic material and image forming method for the photothermographic material |
| EP1953592A1 (en) | 2007-02-02 | 2008-08-06 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Photothermographic material |
-
1999
- 1999-09-24 JP JP11269604A patent/JP2000206653A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7262000B2 (en) | 2002-10-21 | 2007-08-28 | Fujifilm Corporation | Photothermographic material and image forming method for the photothermographic material |
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| EP1630609A1 (en) | 2004-08-23 | 2006-03-01 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Printing plate material and printing plate |
| EP1635216A1 (en) | 2004-09-14 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothermographic material |
| EP1700710A1 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-13 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Printing method, sheet material and mounting method of printing plate |
| WO2007010777A1 (ja) | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 画像形成方法 |
| EP1750173A1 (en) | 2005-08-04 | 2007-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material and packaged body containing the same |
| EP1953592A1 (en) | 2007-02-02 | 2008-08-06 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Photothermographic material |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060117 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060316 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060418 |