JP2000206690A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 作業性、経済性に優れた、ＣＴＰシステムに
適合した走査露光用平版印刷版、安価な短波半導体レー
ザの発振波長に対し高感度な平版印刷版用原版を提供す
る。 【解決手段】下記一般式（１）で表されるナフト［１，
８−ｂｃ］フラン−５−オン誘導体、とチタノセン化合
物と、ラジカルもしくは酸によって反応しその物理的も
しくは化学的特性が変化して保持される化合物とを含有
する。 【化１】 （式中、Ｘ₁からＸ₅はそれぞれ独立に一価の非金属原子
団を表し、Ｚはアリール基、またはヘテロアリール基を
あらわす）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規な光開始系、特
に、高感度でかつ、安定性に優れた光開始系を含有する
感光性組成物に関する。また、本発明は、特に、ディジ
タル信号に基づいた走査露光により製版可能な平版印刷
版用原版用の材料として優れた光重合性組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、平版印刷版としては親水性支持体
上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するＰＳ版
が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフ
イルムを介してマスク露光（面露光）後、非画像部を溶
解除去することにより所望の印刷版を得ていた。近年、
画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、
出力する、ディジタル化技術が広く普及してきている。
そして、その様なディジタル化技術に対応した新しい画
像出力方式が種々実用される様になってきた。その結果
レーザ光のような指向性の高い光をディジタル化された
画像情報に従って走査し、リスフイルムを介す事無く、
直接印刷版を製造するコンピュータ トゥ プレート
（ＣＴＰ）技術が切望されており、これに適応した印刷
版用原版を得ることが重要な技術課題となっている。

【０００３】従来のＣＴＰシステムとして優れているの
は、チタノセンを光開始剤とする光重合系感材で、特に
特開平９−２７２０９６、特開平８−２６２７１５記載
のカルボメロシアニン系色素との組合せが知られてい
る。しかしこのシステムは、光源としてＡｒレーザー
（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）
の様な比較的長波長の可視光源を使用するため、５００
ｎｍ付近で高感度な感材を使用する事が問題であった。
すなわち、結果として、段ボール包装からの版の取り出
し、プレートセッターのカセットへの装填、プレートセ
ッターへの版の挿入等の作業は、すべて暗い赤灯セーフ
ライト下で行う必要があり、作業性が著しく悪かった。
従って、より明るい黄色もしくは白色のセーフライト下
で取り扱う事のできるＣＴＰシステムを構築する事が強
く望まれていた。

【０００４】一方、近年のレーザ技術の進歩は目覚まし
く、例えば、ＩｎＧａＮ系の材料を用い、３５０ｎｍ〜
４５０ｎｍ域で連続発振可能な半導体レーザが実用され
るに至った。これらの短波光源を用いたＣＴＰシステム
を構築できれば、より明るいセーフライト下での作業が
可能な、感光域が短波である感材が使用できるようにな
る。さらに、半導体レーザは構造上、安価な製造が可能
であり、ＣＴＰシステム用光源として非常に好ましいも
のである。これらのことから、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ
の比較的短波な半導体レーザを用いたＣＴＰシステムに
適した平版印刷版用原版を得ることが、本産業分野にお
いて強く望まれるようになっているが、従来のものでは
感度が十分でなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、作業
性、経済性に優れた、ＣＴＰシステムに適合した走査露
光用平版印刷版を提供することにあり、安価な短波半導
体レーザの発振波長に対し高感度な平版印刷版用原版を
提供する事にある。また、本発明の他の目的は、広く３
５０ｎｍから４５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光
開始系を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（１）
で表されるナフト［１，８−ｂｃ］フラン−５−オン誘
導体とチタノセン化合物を組み合わせた場合に、感度・
安定性に非常に優れた光開始系が得られ、特に３５０ｎ
ｍから４５０ｎｍでの露光に適した光開始系が得られる
事を見いだしたものである。さらに、この開始系と、ラ
ジカルもしくは酸によって反応しその物理的もしくは化
学的特性が変化して保持される化合物、具体的にはエチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物とから
なる光重合性組成物を用いた光重合型平版印刷版用原版
により、短波半導体レーザの発振波長に対し十分な感度
を有し、しかも、明るいセーフライト下でも取り扱う事
のできる平版印刷版用原版が得られる事を見いだし、本
発明に到達したものである。

【０００７】

【化２】

【０００８】（式中、Ｘ₁からＸ₅はそれぞれ独立に一価
の非金属原子団を表し、Ｚは置換もしくは無置換のアリ
ール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基
をあらわす）

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について詳細
に説明する。 「Ａ．光開始系」本発明の光開始系はナフト［１，８−
ｂｃ］フラン−５−オン誘導体（以下、ナフトフラノン
化合物という）とチタノセン化合物と、ラジカルもしく
は酸によって反応しその物理的もしくは化学的特性が変
化して保持される化合物からなる。本発明のナフトフラ
ノン化合物、チタノセン化合物は個々に光開始剤として
作用しうる事が知られているが、本発明は、両者を同時
に併用することで、特にナフトフラノン化合物の吸収帯
に対応する波長域での感度が著しく向上する事を見いだ
したものである。本発明に於ける２種の化合物の機能は
明確ではないが、主としてナフトフラノン化合物が増感
色素として機能し、露光光を吸収、励起状態を生成し、
共存するチタノセン化合物からの開始ラジカル発生を促
進するものと考えられる（この様なプロセスを以下、色
素増感という）。

【００１０】本発明のナフトフラノン系増感色素の優れ
る第１の点はチタノセンの感光性を著しく向上せしめる
事である。また、ナフトフラノン系増感色素が優れる第
２の点は、その吸収極大波長を３５０から４５０ｎｍ域
に設定できる事にある。後述するチタノセン化合物の多
くは、それ自体、紫外域の吸収に加え、５００ｎｍ付近
までの可視域にも弱い吸収を持ち、そこでも感光性を有
する。これに対し、ナフトフラノン色素系色素と組み合
わせた場合、チタノセンの感度を顕著に高める事ができ
るので、結果として、例えばチタノセン化合物の使用量
を比較的少量にとどめることにより、短波での感光性を
十分に高めながら、同時に、チタノセン自体による５０
０ｎｍ域での感光性は実質問題のない程度の低感度にす
ることが可能となる。

【００１１】本発明におけるナフトフラノン系増感色素
が特に色素増感能に優れる理由は色素増感の機構が不明
のため、詳述する事はできないが、以下の様に考えるこ
とができる。すなわち、本発明のナフトフラノン系増感
色素はrigidな構造を有するため、例えば特開平９−２
７２０９６、特開平８−２６２７１５記載のカルボメロ
シアニン系色素に比較して、色素の光吸収により生じる
励起状態の寿命が永くなり、色素増感反応の効率が高く
なったのかもしれない。また、本発明におけるナフトフ
ラノン系色素は、他の一般的な色素に比較して、電子供
与性が低い（電気化学的な酸化・還元電位が相対的に正
側である。分子軌道法的なＨＯＭＯ、ＬＵＭＯ軌道エネ
ルギーが負に大きい。）化合物群と考えられ、そのこと
が、色素増感効率向上に有利に作用しているのかもしれ
ない。特公平６１−３３０２号、特公平６１−５５５１
３号にはナフトフラノン系化合物をアミン化合物と併用
することで高感度な光開始系をなす事が開示されてい
る。この系での、ナフトフラノンの作用機構は光吸収で
生成する励起状態からの水素引き抜きによるものと推定
されており、アミン化合物の機能は水素供与であると考
える事ができる。チタノセン化合物が、アミン化合物同
様の水素供与体として機能する事は、とうてい類推する
事ができない。従って、ナフトフラノン化合物とチタノ
センとの併用によりアミン併用系よりも顕著に高感度な
開始系が得られる事は驚きであった。

【００１２】（Ａ１）増感色素 本発明に用いられるナフトフラノン系増感色素は下記一
般式（１）であらわされるものである。

【００１３】

【化３】

【００１４】（式中、Ｘ₁からＸ₅はそれぞれ独立に一価
の非金属原子団を表し、Ｚは置換もしくは無置換のアリ
ール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基
をあらわす）

【００１５】一般式（１）について詳しく説明する。Ｘ
₁からＸ₅はそれぞれ独立に一価の非金属原子団をあらわ
す。この様な置換基の好ましい具体例としては、水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン原子（−
Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチ
オ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アル
キルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイル
オキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスル
ホキシ基、

【００１６】アリールスルホキシ基、アシルチオ基、ア
シルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリ
ールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−ア
リールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−
Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、

【００１７】アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、

【００１８】アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以
下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、
アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−
アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスル
フィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル
基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールスルファモイル基、

【００１９】ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役
塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホ
スフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォノ
基（−ＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ
基（−ＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、ア
ルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、
アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスフォ
ナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォノオキシ
基（−ＯＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役
塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が
挙げられる。

【００２０】これらの置換基における、アルキル基の好
ましい例としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖
状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることがで
き、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、
２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を
挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
ル基がより好ましい。

【００２１】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。置換アルキル基の置換基は
任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、

【００２２】Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエ
チル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、ア
セチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプ
ロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル
基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル
基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキ
シカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メ
チルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバ
モイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイ
ルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カル
バモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル
基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイ
ルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、

【００２３】Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−
メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。

【００２４】これらの置換基におけるアリール基の具体
例としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成
したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成し
たものを挙げることができ、具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙
げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフ
チル基がより好ましい。

【００２５】置換アリール基の具体例としては、前述の
アリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を
除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置
換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル
基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、
トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエ
チルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチ
ルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−
フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル
基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェ
ノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル
基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スル
ホフェニル）カルバモイルフェニル基、

【００２６】スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモ
イルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフ
ェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニ
ル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホス
フォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル
基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
フェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プ
ロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブ
チニルフェニル基、等を挙げることができる。

【００２７】ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン、等の５員、または６員環芳香族置換基が
使用できる。

【００２８】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル
基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル
基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
挙げられる。

【００２９】アシル基（Ｇ₁ＣＯ−）におけるＧ₁として
は、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙
げることができる。これら置換基の内、更により好まし
いものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、
−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。

【００３０】以上述べた、Ｘ₁からＸ₅は、感光性、感光
波長、安定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選
択される。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出
防止といった観点、現像を行う場合には現像処理液への
溶解性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価
格、合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を
考慮して適宜選択される。この様な観点で、特に好まし
い置換基の例としては、水素原子、ハロゲン原子（−
Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、炭素数１から６の低級ア
ルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、アリル基、２−メチルプロペニル基など）、ア
ルキル置換アミノアルキレン基（アルキル基としては炭
素数が１から６迄の直鎖状あるいは分岐状アルキル基炭
素数が５から７までの環状アルキル基があげられ、アル
キレン基としては炭素数１から３までのモノ−、ジ−、
トリ−メチレン基がある）をあげることができる。

【００３１】次に、一般式（１）中のＺについて説明す
る。Ｚは置換もしくは無置換のアリール基、または置換
もしくは無置換のヘテロアリール基をあらわす。アリー
ル基としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形
成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成
したものを用いることができる。置換アリール基の置換
基としては１価の非金属原子団を用いることができ、具
体的にはＸ₁からＸ₅の例としてあげたものを何れも用い
る事ができる。

【００３２】Ｚとして特に好ましいアリール基の具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フ
ルオレニル基、を挙げることができ、置換アリール基の
具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェ
ニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エ
チルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モ
ルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベン
ゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモ
イルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチル
ベンゾイルアミノフェニル基、

【００３３】カルボキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、ク
ロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシ
フェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−
（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフ
ェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェ
ニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォ
ノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォ
ノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル
基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナト
フェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−
ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチル
プロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２
−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を
挙げることができる。

【００３４】ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン、等の５員、または６員環芳香族置換基が
使用できる。置換ヘテロアリール基の例としては、一価
の非金属原子団を用いることができ、具体的にはＸ₁か
らＸ₅の例としてあげたものを何れも用いる事ができ
る。特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例え
ば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベ
ンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、
ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾ
ール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジ
ン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、
プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフ
チリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバ
ゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペ
リミジン、フェナンスロリン、フェナルザジン、フラザ
ン等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良
く、また置換基を有していても良い。

【００３５】以上述べた、Ｚは、感光性、感光波長、安
定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選択され
る。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出防止と
いった観点、現像を行う場合には現像処理液への溶解
性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価格、
合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を考慮
して適宜選択される。後述する一般的合成法によれば、
Ｚは対応するＺ−ＣＯＯＨなるカルボン酸誘導体に起因
するので、比較的安価なＺＣＯＯＨを用いる事が経済的
に有利である。

【００３６】この様な観点からはＺＣＯＯＨとしてフェ
ニル核置換安息香酸類や、核置換ナフトエ酸類が好適で
ある。具体的には、安息香酸、ｏ−トルイル酸、ｍ−ト
ルイル酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−イソプロピル安息
香酸、p-ブチル安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香
酸、３，４−ジメチル安息香酸、３，５−ジメチル安息
香酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸（バラトルム酸）、２，３
−ジメトキシ安息香酸（ｏ−ベラトルム酸）、ｏ−エト
キシ安息香酸、３−メトキシ−４−メチル安息香酸、ｐ
−エトキシ安息香酸、ｐ−プロポキシ安息香酸、ｏ−ブ
ロム安息香酸、ｐ−ブロム安息香酸、ｏ−クロル安息香
酸、ｍ−クロル安息香酸、ｐ−フルオロ安息香酸、３，
４−ジクロル安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−
ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒ
ドロキシ−３−メトキシ安息香酸、

【００３７】ｏ−ビフェニルカルボン酸、４−ビフェニ
ルカルボン酸、ｏ−ベンゾイル安息香酸、ｐ−アセトア
ミド安息香酸、ｍ−ジメチルアミノ安息香酸、ｐ−メチ
ルアミノ安息香酸、ｍ−シアノ安息香酸、等の安息香酸
類や、ナフトエ酸、２−クロル−１−ナフトエ酸、５−
クロル−１−ナフトエ酸、８−クロル−１−ナフトエ
酸、４−フルオロ−１−ナフトエ酸、４−ブロム−１−
ナフトエ酸、５−ヨード−１−ナフトエ酸、５，８−ジ
クロル−１−ナフトエ酸、１−クロル−２−ナフトエ
酸、３−クロル−２−ナフトエ酸、５−クロル−２−ナ
フトエ酸、４，５−ジクロル−２−ナフトエ酸、１−ブ
ロム−２−ナフトエ酸、４，５−ジクロル−２−ナフト
エ酸、１−ブロム−２−ナフトエ酸、２−メチル−１−
ナフトエ酸、８−メチル−２−ナフトエ酸等が挙げられ
る。また、本発明のナフトフラノン化合物は、Ｚの構造
を選択することで、容易に感光波長を制御できる。例え
ば、５００ｎｍ付近迄の長波領域で高感度な開始系を得
る目的に対しては、特公昭６１−５５５１３号記載に記
載される様に、ＺＣＯＯＨとして、４−ジアルキルアミ
ノ安息香酸類を用いる事により達成できる。

【００３８】以下に、本発明の増感色素の例を、より、
具体的な記述として、化学構造式（Ｄ１）から（Ｄ３
７）で示すが、本発明の増感色素は上述の構造用件を満
たすものをいずれも好適に使用でき、本発明は、以下の
化学構造式によって制限を受けるものではない。

【００３９】

【化４】

【００４０】

【化５】

【００４１】

【化６】

【００４２】

【化７】

【００４３】以上にのべた一般式（１）で示される増感
色素は公知の合成法およびその関連合成法を用いて合成
できる。例えば、下式に示す様に、１，５−ジヒドロキ
シナフタレン類と安息香酸類との縮合環化反応によりで
きる。本発明の増感色素の長所の一つは、この様に、安
価な原料を用い、短工程で容易に製造できる事にある。
より具体的な合成法は、例えば、特公平６１−３３０２
８号、特公平６１−５５５１３号に詳しく記載されてい
る。

【００４４】

【化８】

【００４５】（式中、Ｌはヒドロキシル基、アルコキシ
基、アシルオキシ基、ハロゲン原子等のアニオン性脱離
基をあらわす。）

【００４６】本発明の増感色素に関しては、さらに、感
光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うこと
も可能である。例えば、増感色素と、付加重合性化合物
構造（例えば、アクリロイル基やメタクリロイル基）と
を、共有結合、イオン結合、水素結合等の方法により結
合させる事で、露光膜の高強度化や、露光後の膜からの
色素の不要な析出抑制を行う事ができる。また、増感色
素と後述のチタノセン化合物やその他のラジカル発生パ
ート（例えば、ハロゲン化アルキル、オニウム、過酸化
物、ビイミダゾール、オニウム、ビイミダゾール等の還
元分解性部位や、ボレート、アミン、トリメチルシリル
メチル、カルボキシメチル、カルボニル、イミン等の酸
化解裂性部位）との結合により、特に開始系の濃度の低
い状態での感光性を著しく高める事ができる。さらに、
本感光層の好ましい使用態様である、（アルカリ）水系
現像液への処理適性を高める目的に対しては、親水性部
位（カルボキシル基並びにそのエステル、スルホン酸基
並びにそのエステル、エチレンオキサイド基等の酸基も
しくは極性基）の導入が有効である。特にエステル型の
親水性基は、感光層中では比較的疎水的構造を有するた
め相溶性に優れ、かつ、現像液中では、加水分解により
酸基を生成し、親水性が増大するという特徴を有する。
その他、例えば、感光層中での相溶性向上、結晶析出抑
制のために適宜置換基を導入する事ができる。例えば、
ある種の感光系では、アリール基やアリル基等の不飽和
結合が相溶性向上に非常に有効である場合があり、ま
た、分岐アルキル構造導入等の方法により、色素π平面
間の立体障害を導入する事で、結晶析出が著しく抑制で
きる。また、ホスホン酸基やエポキシ基、トリアルコキ
シシリル基等の導入により、金属や金属酸化物等の無機
物への密着性を向上させる事ができる。そのほか、目的
に応じ、増感色素のポリマー化等の方法も利用できる。

【００４７】これらの増感色素のどの構造を用いるか、
単独で使用するか２種以上併用するか、添加量はどう
か、といった使用法の詳細は、最終的な感材の性能設計
にあわせて適宜設定できる。例えば、増感色素を２種以
上併用することで、感光層への相溶性を高める事ができ
る。増感色素の選択は、感光性の他、使用する光源の発
光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光
係数の大きな色素を使用する事により、色素の添加量は
比較的少なくできるので、経済的であり、かつ感光層の
膜物性の点からも有利である。感光層の感光性、解像度
や、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響を
受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適宜
選択する。例えば、吸光度が０．１以下の低い領域では
感度が低下する。また、ハレーションの影響により低解
像度となる。但し、例えば５μｍ以上の厚い膜を硬化せ
しめる目的に対しては、この様な低い吸光度の方がかえ
って硬化度をあげられる場合もある。また、吸光度が３
以上の様な高い領域では、感光層表面で大部分の光が吸
収され、より内部での硬化が阻害され、例えば印刷版と
して使用した場合には膜強度、基板密着性の不十分なも
のとなる。比較的薄い膜厚で使用する平版印刷版として
の使用に際しては、増感色素の添加量は、感光層の吸光
度が０．１から１．５の範囲、好ましくは０．２５から
１の範囲となるように設定するのが好ましい。平版印刷
版として利用する場合には、これは、通常、感光層成分
１００重量部に対し、０．０５〜３０重量部、好ましく
は０．１〜２０重量部、さらに好ましくは０．２〜１０
重量部の範囲である。

【００４８】（Ａ２）チタノセン化合物 本発明において光重合性開始系として用いられるチタノ
セン化合物は、前記した増感色素との共存下で光照射し
た場合、活性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物で
あればいずれであってもよく、例えば、特開昭５９−１
５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６
３−４１４８３号、特開昭６３−４１４８４号、特開平
２−２４９号、特開平２−２９１号、特開平３−２７３
９３号、特開平３−１２４０３号、特開平６−４１１７
０号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択し
て用いることができる。

【００４９】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニ−１−イル（以下「Ｔ−１」ともいう。）、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テ
トラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−
１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロフエニ−１−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフエニ−
１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエニ−１−
イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，３，５，６−テトラフルオロフエニ−１−イル、ジ
−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−
ジフルオロフエニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエ
ニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−
イル）フェニル）チタニウム（以下「Ｔ−２」ともい
う。）等を挙げることができる。

【００５０】本発明のチタノセン化合物に関しても、先
の増感色素と同様、さらに、感光層の特性を改良するた
めの様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、
増感色素や、付加重合性不飽和化合物その他のラジカル
発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、
結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる
置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。

【００５１】これらのチタノセン化合物の使用法に関し
ても、先述の付加重合性化合物、増感色素同様、感材の
性能設計により適宜、任意に設定できる。例えば、２種
以上併用することで、感光層への相溶性を高める事がで
きる。チタノセン化合物の使用量は通常多い方が感光性
の点で有利であり、感光層成分１００重量部に対し、
０.５〜８０重量部、好ましくは１〜５０重量部、範囲
で用いることで十分な感光性が得られる。一方、本発明
の主要な目的である、黄色等、白色灯化での使用に際し
ては、５００ｎｍ付近の光によるカブリ性の点からチタ
ノセンの使用量は少ない事が好ましいが、本発明の増感
色素との組み合わせによりチタノセンの使用量は６重量
部以下、さらに１．９重量部以下、さらには１．４重量
部以下にまで下げても十分な感光性を得ることができ
る。

【００５２】「Ｂ．光重合性組成物」本発明の光開始系
は、広く、例えば、ラジカル反応性、もしくは酸反応性
化合物と併用した、感光性樹脂材料、光記録材料に用い
る事ができるが、特に次のような光重合性組成物として
使用した場合に、優れた特性を示す。即ち、本発明に用
いられる好ましい光重合性組成物は、前記「Ａ．光開始
系」に加え、さらに、ラジカルもしくは酸によって反応
しその物理的もしくは化学的特性が変化して保持される
化合物の１つである、「Ｂ１．少なくとも一個のエチレ
ン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物（以下、
付加重合性化合物という）」を含有してなる。さらに特
に、平版印刷版への適用に際しては、必要に応じ、「Ｂ
２．バインダーポリマー」を含んでなる。以下、これら
の成分について具体的に説明する。

【００５３】（Ｂ１）付加重合性化合物 本発明に使用される少なくとも一個のエチレン性不飽和
二重結合を有する付加重合性化合物は、末端エチレン性
不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有す
る化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業分
野において広く知られるものであり、本発明においては
これらを特に限定無く用いる事ができる。これらは、例
えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体
およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれ
らの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステ
ル類、アミド類があげられ、好ましくは、不飽和カルボ
ン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が
用いられる。

【００５４】また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メル
カプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エ
ステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネー
ト類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多
官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用さ
れる。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電
子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミ
ド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン
類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシル
オキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン
酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコ
ール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適で
ある。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の
代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテ
ル等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。

【００５５】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００５６】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００５７】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。

【００５８】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマ
レート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトー
ルテトラマレート等がある。その他のエステルの例とし
て、例えば、特公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４
７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アル
コール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭
５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族
系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のア
ミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。さらに、
前述のエステルモノマーは混合物としても使用すること
ができる。

【００５９】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。

【００６０】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（Ｖ）で示される水酸基を含有するビニ
ルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。

【００６１】 CH₂＝C(R)COOCH₂CH(R′)OH （Ｖ） （ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【００６２】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。

【００６３】さらに、特開昭６３−２７７６５３，特開
昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常
に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることがで
きる。

【００６４】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。

【００６５】これらの、付加重合性化合物について、ど
の様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、
添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な
感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば
次のような観点から選択される。感光スピードの点では
１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多
くの場合、２官能以上がこのましい。また、画像部すな
わち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のも
のが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基（例
えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチ
レン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用
することで、感光性と、強度を両方を調節する方法も有
効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合
物は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピー
ドや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合が
ある。また、感光層中の他の成分（例えばバインダーポ
リマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対し
ても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であ
り、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用に
より相溶性を向上させうる事がある。また、支持体、オ
ーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の
構造を選択することもあり得る。感光層中の付加重合性
化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であ
るが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じた
り、感光層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、
感材成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液
からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点
から、好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に
対して５〜８０重量％、好ましくは２５〜７５重量％で
ある。また、これらは単独で用いても２種以上併用して
もよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素
に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変
化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量
を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗
りといった層構成・塗布方法も実施しうる。

【００６６】（Ｂ２）バインダーポリマー 本発明の好ましい実施形態である、平版印刷版への適用
に際しては、感光層にさらにバインダーポリマーを使用
することが好ましい。バインダーとしては線状有機高分
子重合体を含有させることが好ましい。このような「線
状有機高分子重合体」としては、どれを使用しても構わ
ない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可
能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性で
ある線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分
子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、
水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途
に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子
重合体を用いると水現像が可能になる。このような線状
有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有す
る付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公
昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特
公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、
特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン
酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水
酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたも
のなどが有用である。

【００６７】特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アク
リレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。

【００６８】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号等に記載される、酸基を含
有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。

【００６９】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし９０重量％を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは３０〜８５
重量％である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。

【００７０】「Ｃ．その他の成分」感光層には、さらに
その用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加
することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示す
る。 （Ｃ１）共増感剤 ある種の添加剤（以後、共増感剤という）を用いること
で、感光層の感度をさらに向上させる事ができる。これ
らの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化
学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、先述の開
始系の光吸収により開始される光反応、と、それに引き
続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラ
ジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等）と、共増感剤が
反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定され
る。これらは、大きくは、（ａ）還元されて活性ラジカ
ルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを
生成しうるもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応し、
より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移
動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合
物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場
合も多い。

【００７１】（ａ）還元されて活性ラジカルを生成する
化合物 炭素−ハロゲン結合を有する化合物：還元的に炭素−ハ
ロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えら
れる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリ
アジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好
適に使用できる。窒素−窒素結合を有する化合物：還元
的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生する
と考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾー
ル類等が好適に使用される。酸素−酸素結合を有する化
合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカル
を発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過
酸化物類等が好適に使用される。 オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−
窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられ
る。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、
トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジ
ニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。 フェロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカル
を生成しうる。

【００７２】（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物 アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。 アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素
上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するもの
と考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル
基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。
具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニ
ルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類
等があげられる。 含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化
合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。 α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボ
ニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成
しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換し
たものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル
−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフ
ォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシ
アミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化した
オキシムエーテル類をあげる事ができる。 スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等をあ
げる事ができる。

【００７３】（ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに
変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物：例え
ば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等があげられる。

【００７４】これらの共増感剤のより具体的な例は、例
えば、特開平９−２３６９１３中に、感度向上を目的と
した添加剤として、多く記載されている。以下に、その
一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものは
ない。

【００７５】

【化９】

【００７６】これらの共増感剤に関しても、先の増感色
素と同様、さらに、感光層の特性を改良するための様々
な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素
やチタノセン、付加重合性不飽和化合物その他のラジカ
ル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向
上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上さ
せる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。こ
れらの共増感剤は、単独でまたは２種以上併用して用い
ることができる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物１００重量部に対し０．０５〜１００重量
部、好ましくは１〜８０重量部、さらに好ましくは３〜
５０重量部の範囲が適当である。

【００７７】（Ｃ２）重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
重量％〜約５重量％が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％〜
約１０重量％が好ましい。

【００７８】（Ｃ３）着色剤等 さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を
添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後
の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版
性を向上させる事ができる。着色剤としては、多くの染
料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色剤
としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては
例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブ
ラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、
クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン
系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料および
顔料の添加量は全組成物の約０．５重量％〜約５重量％
が好ましい。

【００７９】（Ｃ４）その他の添加剤 さらに、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑
剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフ
タレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェー
ト、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリ
アセチルグリセリン等があり、バインダーポリマーを使
用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物
とバインダーポリマーとの合計重量に対し１０重量％以
下添加することができる。

【００８０】また、後述する膜強度（耐刷性）向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、ＵＶ開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。その
他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の
現像除去性を高めるための添加剤、中間層を設ける事を
可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物
や、ホスホン化合物、等、基板と比較的強い相互作用を
有する化合物の添加や下塗りにより、密着性が向上し、
耐刷性を高める事が可能であり、一方ポリアクリル酸
や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や下
塗りにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上
が可能となる。

【００８１】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、２〜５０重量％が適当である。

【００８２】感光層の支持体被覆量は、主に、感光層の
感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるもの
で、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が
少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多
すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版と
しては、その被覆量は乾燥後の重量で約０．１g/m²〜約
１０g/m²の範囲が適当である。より好ましくは０．５〜
５g/m²である。

【００８３】「支持体」本発明の主要な目的の一つであ
る、平版印刷版を得るには上記感光層を、表面が親水性
の支持体上に設ける事が望ましい。親水性の支持体とし
ては、従来公知の、平版印刷版に使用される親水性支持
体を限定無く使用することができる。使用される支持体
は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例え
ば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金
属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチ
ックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、
上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙若し
くはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面に
たいし、必要に応じ親水性の付与や、強度向上、等の目
的で適切な公知の物理的、化学的処理を施しても良い。

【００８４】特に、好ましい支持体としては、紙、ポリ
エステルフィルム又はアルミニウム板があげられ、その
中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応
じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供
できるアルミニウム板は特に好ましい。また、特公昭４
８−１８３２７号に記載されているようなポリエチレン
テレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合
された複合体シートも好ましい。

【００８５】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着
されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合
金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、
マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チ
タン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０重量
％以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ま
しくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．
２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【００８６】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、粗面化（砂目立て）処理、珪酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。アルミニウム板の表面の
粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、
機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面
化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法によ
り行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法
を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法と
しては塩酸、硝酸等の電解液中で交流又は直流により行
う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示
されているように両者を組み合わせた方法も利用するこ
とができる。また、アルミニウム板を粗面化するに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するために、例え
ば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等によ
る脱脂処理が行われる。

【００８７】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭４７−５１２５号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単
独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。ま
た、米国特許第３６５８６６２号に記載されているよう
なシリケート電着も有効である。

【００８８】さらに、特公昭４６−２７４８１号、特開
昭５２−５８６０２号、特開昭５２−３０５０３号に開
示されているような電解グレインを施した支持体と、上
記陽極酸化処理および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処
理も有用である。また、特開昭５６−２８８９３号に開
示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、
電解グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順
に行ったものも好適である。

【００８９】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。さらに
特願平５−３０４３５８号に開示されているようなラジ
カルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合さ
せたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。

【００９０】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも上げる
ことができる。この様な表面層としては例えばＵＳ３０
５５２９５や、特開昭５６−１３１６８号記載の無機顔
料と結着剤とからなる層、特開平９−８０７４４記載の
親水性膨潤層、特表平８−５０７７２７記載の酸化チタ
ン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾルゲル膜
等を上げる事ができる。これらの親水化処理は、支持体
の表面を親水性とするために施される以外に、その上に
設けられる光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、か
つ感光層の密着性の向上等のために施されるものであ
る。

【００９１】「保護層」本発明の望ましい態様である、
走査露光用平版印刷版においては、通常、露光を大気中
で行うため、光重合性組成物の層の上に、さらに、保護
層を設ける事が好ましい。保護層は、感光層中で露光に
より生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸
素や塩基性物質等の低分子化合物の感光層への混入を防
止し、大気中での露光を可能とする。従って、この様な
保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過
性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の透過は
実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後
の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様
な、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国
特許第３、４５８、３１１号、特開昭５５−４９７２９
号に詳しく記載されている。

【００９２】保護層に使用できる材料としては例えば、
比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事
がよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビア
ゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知
られていが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成
分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった
基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使
用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水
溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含
有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタ
ールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の
共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコール
の具体例としては７１〜１００％加水分解され、分子量
が３００から２４００の範囲のものをあげる事ができ
る。

【００９３】具体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−
１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１
１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１
２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−Ｈ
Ｃ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０
５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２
０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２
１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ
−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等
があげられる。

【００９４】保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使
用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブ
リ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には
使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置
換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程
酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかし
ながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存
時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不
要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を親油性の重合層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。

【００９５】これに対し、これら２層間の接着性を改善
すべく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第
２９２、５０１号、米国特許第４４、５６３号には、主
にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、
アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリド
ン−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０重量％
混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着
性が得られることが記載されている。本発明における保
護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用す
る事ができる。このような保護層の塗布方法について
は、例えば米国特許第３,４５８,３１１号、特開昭５５
−４９７２９号に詳しく記載されている。

【００９６】さらに、保護層に他の機能を付与する事も
できる。例えば、露光に使う、３５０ｎｍから４５０ｎ
ｍの光の透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の光を効率
良く吸収しうる、着色剤（水溶性染料等）の添加によ
り、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさ
らに高める事ができる。

【００９７】本発明の光重合性組成物を用いた感光材料
を画像形成材料として使用する際には、通常、画像露光
したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を
得る。これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使
用する際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４
２７号に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、
第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭
酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ
剤やモノエタノールアミンまたはジエタノールアミンな
どのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。この
ようなアルカリ溶液の濃度が０．１〜１０重量％、好ま
しくは０．５〜５重量％になるように添加される。

【００９８】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、２−フ
ェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭５
０−２６６０１号、同５８−５４３４１号、特公昭５６
−３９４６４号、同５６−４２８６０号の各公報に記載
されている現像液も優れている。

【００９９】その他、本発明の平版印刷版用原版の製版
プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光
から現像までの間に、全面を加熱しても良い。この様な
加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度
や耐刷性の向上、や、感度の安定化といった利点が生じ
得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、
現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面露光を
行う事も有効である。通常現像前の加熱は１５０℃以下
の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、
非画像部迄がかぶってしまう等の問題を生じる。現像後
の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は２００〜
５００℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作
用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部
の熱分解といった問題を生じる。

【０１００】本発明による走査露光平版印刷版の露光方
法は、公知の方法を制限なく用いる事ができる。望まし
い、光源の波長は３５０ｎｍから４５０ｎｍであり、具
体的にはＩｎＧａＮ系半導体レーザが好適である。露光
機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベ
ッド方式等の何れでも良い。また、本発明の感光層成分
は、高い水溶性のものを使用する事で、中性の水や弱ア
ルカリ水に可溶とすることもできるが、この様な構成の
平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像とい
った方式を行う事もできる。

【０１０１】また、本発明による光重合性組成物に対す
るその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低
圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キ
セノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レ
ーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使
用できる。３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの入手可能なレーザ
ー光源としては以下のものを利用することができる。ガ
スレーザーとして、Ａｒイオンレーザー（３６４ｎｍ、
３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレーザー
（３５６ｎｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｈｅ−
Ｃｄレーザー（４４１ｎｍ、３２５ｎｍ、１ｍＷ〜１０
０ｍＷ）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ
₄）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５ｎｍ、５
ｍＷ〜１Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合
わせ（４３０ｎｍ、１０ｍＷ）、半導体レーザー系とし
て、ＫＮｂＯ₃ リング共振器（４３０ｎｍ、３０ｍ
Ｗ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡ
ｓ半導体の組み合わせ（３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍ
Ｗ〜１００ｍＷ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎ
Ｐ、ＡｌＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３００ｎｍ〜３
５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３
５０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜３０ｍＷ） その他、パルスレーザーとしてＮ₂レーザー（３３７ｎ
ｍ、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１ｎｍ、
パルス１０〜２５０ｍＪ） 特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザー（市販Ｉｎ
ＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０ｎｍ、５〜３０
ｍＷ）が波長特性、コストの面で好適である。

【０１０２】また走査露光方式の平版印刷版露光装置と
しては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方
式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源
の中で連続発振可能なものが好ましく利用することがで
きる。現実的には感材感度と製版時間の関係で、以下の
露光装置が特に好ましい。 ・内面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上の半導体レーザ
ーとなる様に、ガスレーザーあるいは固体レーザー光源
を１個以上使用するシングルビーム〜トリプルビームの
露光装置 ・フラットベッド方式で総出力２０ｍＷ以上となる様
に、半導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザ
ーを１個以上使用したマルチビーム（１〜１０本）の露
光装置 ・外面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上となる様に、半
導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザーを１
個以上使用したマルチビーム（１〜９本）の露光装置 ・外面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上となる様に、半
導体レーザーあるいは固体レーザーを１個以上使用した
マルチビーム（１０本以上）の露光装置 以上のようなレーザー直描型の平版印刷版においては、
一般に感材感度Ｘ（Ｊ／ｃｍ²）、感材の露光面積Ｓ
（ｃｍ²）、レーザー光源１個のパワーｑ（Ｗ）、レー
ザー本数ｎ、全露光時間ｔ（ｓ）との間に式（ｅｑ 1）
が成立する。 Ｘ・Ｓ＝ｎ・ｑ・ｔ −−（ｅｑ 1） ｉ）内面ドラム（シングルビーム）方式の場合 レーザー回転数ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌ
ｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ
（ｓ）の間には一般的に式（ｅｑ 2）が成立する。 ｆ・Ｚ・ｔ＝Ｌｘ −−（ｅｑ 2）

【０１０３】ｉｉ）外面ドラム（マルチビーム）方式の
場合 ドラム回転数Ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ
（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ
（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式（ｅｑ 3）
が成立する。 Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ −−（ｅｑ 3） ｉｉｉ）フラットヘッド（マルチビーム）方式の場合 ポリゴンミラーの回転数Ｈ（ラジアン／ｓ）、感材の副
走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露
光時間ｔ（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式
（ｅｑ 4) が成立する。 Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ −−（ｅｑ 4） 実際の印刷版に要求される解像度（２５６０ｄｐｉ）、
版サイズ（Ａ１／Ｂ１、副走査長４２ｉｎｃｈ）、２０
枚／１時間程度の露光条件と本発明の感光性組成物の感
光特性（感光波長、感度：約０．１ｍＪ／ｃｍ²）を上
記式に代入することで、本発明の感材においては総出力
２０ｍＷ以上のレーザーを用いたマルチビーム露光方式
との組み合わせが特に好ましいことが理解できる。さら
に操作性、コスト等を掛け合わせることにより外面ドラ
ム方式の半導体レーザーマルチビーム（１０本以上）露
光装置との組み合わせが最も好ましいことになる。

【０１０４】また、本発明による光重合性組成物の用途
としては走査露光用平版印刷版の他、広く、光硬化樹脂
の用途として知られるものに制限なく適用できる。例え
ば、必要に応じカチオン重合性化合物と併用した液状の
光重合性組成物に適用することで、高感度な光造形用材
料が得られる。また、光重合にともなう、屈折率の変化
を利用し、ホログラム材料とすることもできる。光重合
に伴う、表面の粘着性の変化を利用して様々な転写材料
（剥離感材、トナー現像感材等）にも応用できる。マイ
クロカプセルの光硬化にも適用できる。フォトレジスト
等の電子材料製造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹
脂材料にも応用できる。

【０１０５】さらに、本発明によるナフトフラノン化合
物、チタノセンからなる開始系は、感光性に優れ、かつ
安定性に優れた光開始系であり、上記に詳述した光重合
性組成物以外にも、種々の利用法を使用することができ
る。例えば、光による高効率でのラジカル生成は例え
ば、トリフェニルメタン系ロイコ染料の酸化発色を高感
度で引き起こす事ができる。また、ある種のポリメチン
系色素に対し、ラジカル付加による消色反応を引き起こ
すことができる。また、本開始系は光によりラジカルと
同時に、酸成分も発生するので、酸により吸収の変化す
る化合物や、酸により架橋反応を起こす樹脂組成物、酸
により分解し溶解性が向上しうる樹脂組成物と組み合わ
せる事で、高感度な画像形成材料を作成する事ができ
る。

【０１０６】

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 「参考実験」一般的に用いられる、セーフライトの発光
強度分布を測定し、短波側での発光強度分布の立ち上が
る位置を測定した。また、それぞれのセーフライト下で
の作業性を評価した。

【０１０７】

【表１】

【０１０８】この様に、作業性を考慮すると黄色灯が望
まれ、黄色灯下での取り扱い可能な感材は、少なくとも
５２０ｎｍ、望ましくは４９０ｎｍより長波での感光性
が低い事が必要である。

【０１０９】「実施例１〜２０、比較例１〜２」 （支持体の調製）厚さ０．３mmのアルミニウム板を１０
重量％水酸化ナトリウムに６０℃で２５秒間浸漬してエ
ッチングした後、流水で水洗後２０重量％硝酸で中和洗
浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を
用いて１重量％硝酸水溶液中で３００クーロン／dm²の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて１
重量％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５秒間浸漬
後３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４０秒
間デスマット処理した後、２０重量％硫酸水溶液中、電
流密度２A/dm²において、陽極酸化皮膜の厚さが２．７g
/m²になるように、２分間陽極酸化処理した。その表面
粗さを測定したところ、０．３μm（ＪＩＳＢ０６０１
によるＲａ表示）であった。

【０１１０】このように処理された基板の裏面に下記の
ゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し１００℃で１
分間乾燥し、乾燥後の塗布量が７０mg/m²のバックコー
ト層を設けた支持体を作成した。

【０１１１】 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート ５０ 重量部 水 ２０ 重量部 メタノール １５ 重量部 リン酸 ０．０５重量部

【０１１２】上記成分を混合、撹拌すると約５分で発熱
が開始した。６０分間反応させた後、以下に示す液を加
えることによりバックコート塗布液を調製した。

【０１１３】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂（分子量２０００） ４ 重量部 ジメチルフタレート ５ 重量部 フッ素系界面活性剤 ０．７重量部 （Ｎ−ブチルペルフルオロオクタン スルホンアミドエチルアクリレート／ ポリオキシエチレンアクリレート共重合体：分子量２万） メタノールシリカゾル ５０ 重量部 （日産化学工業（株）製，メタノール３０重量％） メタノール ８００ 重量部

【０１１４】（感光層の調製）このように処理されたア
ルミニウム板上に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗
布量が１．４g/m²となるように塗布し、８０℃２分間乾
燥させ感光層を形成させた。

【０１１５】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート １．５ ｇ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合モル比７５／２５） ２．０ ｇ 光重合開始系 （表２） 増感色素（Ｄ１〜Ｄ１４、Ｈ−１、Ｈ−２） ０．０５ｇ チタノセン化合物（Ｔ−１） ０．０３ｇ フッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７Ｐ） ０．０３ｇ 熱重合禁止剤Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル ０．０１ｇ アミンアルミニウム塩 顔料分散物 ２．０ ｇ 顔料分散物の組成 組成： Pigment Blue １５：６ 15重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 10重量部 （共重合モル比８３／１７） シクロヘキサノン 15重量部 メトキシプロピルアセテート 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 40重量部 メチルエチルケトン ２０ ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ ｇ

【０１１６】なお、増感色素Ｄ１〜Ｄ１４の構造は前記
例示のものであり、増感色素Ｈ-１、Ｈ-２、チタノセン
化合物Ｔ−１の構造は以下に示す。

【０１１７】

【化１０】

【０１１８】（保護層の調製）この感光層上にポリビニ
ルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の
３重量％の水溶液を乾燥塗布重量が２g/m²となるように
塗布し、１００℃で２分間乾燥した。

【０１１９】（感光性、セーフライト適性の評価）この
様に得られた感材上に、富士写真フイルム（株）製の富
士ステップガイド（△Ｄ＝０．１５で不連続的に透過光
学濃度が変化するグレースケール）を密着させ、光学フ
ィルターを通したキセノンランプにより既知の露光エネ
ルギーとなるように露光を行った。その後、下記組成の
現像液に２５℃、１０秒間浸漬し、現像を行い、画像が
完全に除去される最高の段数を読み感度を算出した。こ
の段数が高い程高感度である。短波半導体レーザへの露
光適性を見積もる目的では、光学フィルターとしてケン
コーＢＰ−４１を用い、４１０ｎｍのモノクロミックな
光で露光を行い、黄色灯安全性を見積もる目的ではＢＰ
−４９を用い４９０ｎｍのモノクロミックな光で露光を
実施した。４１０ｎｍでの感度が高く、４９０ｎｍでの
感度が低い事が望ましい。表１に、この様にして求め
た、４１０ｎｍ感度（ｍＪ／ｃｍ²）／４９０ｎｍ感度
（ｍＪ／ｃｍ²）の比を示す。この値が大きいほど、望
ましい。結果を表２に、増感色素の溶液中での吸収極
大、測定に用いた溶媒とともに示す。

【０１２０】 (現像液の組成) ＤＰ−４（富士写真フイルム社製） ６５．０ｇ 水 ８８０．０ｇ リポミンＬＡ（２０％水溶液、ライオン（株）社製） ５０．０ｇ

【０１２１】

【表２】

【０１２２】この様に本発明による平版印刷版は黄色灯
下でカブリに対応する４９０ｎｍの波長での感光性に比
較して、短波半導体レーザの発振波長に対応する４１０
ｎｍの感度が著しく高く、セーフライト適性に優れた平
版印刷版である。一方、従来公知のカルボメロシアニン
増感色素を用いた比較例の平版印刷版はむしろ４９０ｎ
ｍでの感光性が高く、セーフライト適性は全くない。

【０１２３】「実施例２１〜３７、比較例３〜６」光重
合性層を下記組成とし、塗布量１．０ｇ／ｍ²となる用
にした以外は実施例１〜２０と同様にして平版印刷版用
原版をえた。同様に、３６０ｎｍ、４１０ｎｍもしくは
４８０ｎｍ露光を行い、クリア感度を求めた（表３）。

【０１２４】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０ 重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ２０ 重量部 （共重合モル比 ８０／２０） 光重合開始系 （表３中に記載） 増感色素 チタノセン化合物 共増感剤 フッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７Ｐ） ０．３重量部 熱重合禁止剤Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル ０．１重量部 アミンアルミニウム塩 顔料分散物 ０．６重量部 顔料分散物の組成 組成： Pigment Blue １５：６ 15重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 10重量部 （共重合モル比８３／１７）

【０１２５】なお、使用した増感色素およびのチタノセ
ン化合物Ｔ−１の構造は前記のとおりであり、チタノセ
ン化合物Ｔ−２、共増感剤Ｈ−３〜Ｈ−８、チタノセン
化合物の代わりに用いたＡ−１の構造は、以下のとおり
である。

【０１２６】

【化１１】

【０１２７】

【表３】

【０１２８】この様に、本発明の平版印刷版は非常に高
感度であり、走査露光方式に十分な感度を示す。比較例
３と実施例21〜37との比較により明らかであるように、
本発明のナフトフラノン系増感色素はチタノセン化合物
の感光性を著しく増大せしめる。比較例４、５と実施例
１との比較で明らかなように、本発明の開始系は、ナフ
トフラノン化合物単独やナフトフラノン／アミン化合物
の併用による従来技術に比較して、著しく感度が高い。
また、公知のチタノセン／メロシアニンからなる組み合
わせ開始系（比較例６）に比較しても遙かに高い感度を
有する。

【０１２９】「実施例３８」開始系を下記のような組成
に変え、光重合層の膜厚を１．５ｇ／ｍ²に変えた以外
は実施例２１〜３７と同様に、平版印刷版用原版を調製
した。

【０１３０】 開始系 光重合層全固形分中の含有量 増感色素 Ｄ９ １．２wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−５ ７．０wt%

【０１３１】得られた平版印刷版用原版にたいし、４１
０ｎｍの単色光を用い、露光エネルギー密度０．２５ｍ
Ｊ／ｃｍ²となる条件で、走査露光を行った。次に、版
を１００℃で、１０秒間加熱後、先述の現像処理を実施
した。視認性に優れた、青色の画像を有する平版印刷版
が得られた。得られた版を用い、ハイデルベルグ社ＫＯ
Ｒ-Ｄ機を用い、オフセット印刷を実施したところ、画
像濃度、汚れ性に優れた印刷物を５万枚以上得ることが
できた。

【０１３２】「実施例３９」実施例３８の版を露光前に
黄色灯下に１時間さらした後、全く同様に製版・印刷を
実施した。実施例３８と全く同様の良好な結果が得られ
た。

【０１３３】「実施例４０」実施例３８の版を、湿度６
５％、４５℃の強制保存条件下で３日間保存後、実施例
４４と同様に、製版・印刷を実施した。実施例３８と同
様の良好な結果が得られた。

【０１３４】「実施例４１」開始系を下記のような組成
に変え、光重合層の膜厚を２．０ｇ／ｍ²に変えた以外
は実施例３８と同様に、平版印刷版用原版を調製した。

【０１３５】 開始系 光重合層全固形分中の含有量 増感色素 Ｄ１１ １．５wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−５ ５．０wt%

【０１３６】得られた平版印刷版用原版にたいし４１０
ｎｍの単色光を用い、版面での露光エネルギー密度０．
３ｍＪ／ｃｍ²となる条件で、走査露光を行った。次
に、版を１００℃で、１０秒間加熱後、先述の現像処理
を実施した。視認性に優れた、青色の画像を有する平版
印刷版が得られた。得られた版を、さらに、３００℃で
５分間加熱後、ハイデルベルグ社ＫＯＲ−Ｄ機を用い、
オフセット印刷を実施したところ、画像濃度、汚れ性に
優れた印刷物を２０万枚以上得ることができた。

【０１３７】「実施例４２」ＰＥＴフイルム上に下記組
成からなる感光層を塗布量２．０ｇ／ｍ²となるように
塗設した。

【０１３８】 光重合層全固形分中の含有量 バインダー樹脂（ポリメチルメタクリレート） ９０ wt% 増感色素 Ｄ１ １．５wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−５ ５．０wt% 酸消色染料（ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩） ２．０wt%

【０１３９】得られた、青色の感材を、メタルハライド
ランプにて、３０秒間露光を行った。青色が完全に消色
し、淡黄色の透明フイルムに変化した。この様に、本開
始系は酸発生剤としても機能する。

【０１４０】「実施例４３」ＰＥＴフイルム上に下記組
成からなる感光層を塗布量２．０ｇ／ｍ²となるように
塗設した。

【０１４１】 光重合層全固形分中の含有量 バインダー樹脂（ポリベンジルメタクリレート） ９０ wt% 増感色素 Ｄ６ １．５wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−５ ５．０wt% 酸化発色染料（ロイコクリスタルバイオレット） ２．０wt%

【０１４２】得られた、淡黄色透明の感材を、メタルハ
ライドランプにて、６０秒間露光を行った。鮮やかな青
色に発色した。上記は、本開始系のラジカル生成によ
る、ロイコ色素の酸化発色と考えられる。

【０１４３】

【発明の効果】本発明の平版印刷版用原版はＩｎＧａＮ
の様な短波長の半導体レーザによる走査露光に適した十
分な感度を有し、かつ耐刷性・汚れ性に優れた平版印刷
版を与える。本発明の走査露光用平版印刷版用原版は黄
色灯下でのカブリが著しく改良されており、版を取り扱
う作業性が大幅に改善する事ができる。また、本発明の
光開始系は感度に優れると同時に、非常に保存安定性に
優れたものである。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 101/16 Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ ４Ｊ１００ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/031 7/031 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AB03 AC01 AC08 AD01 BC12 BC14 BC31 BC34 BC43 BC46 BC51 CA01 CA20 CA39 FA10 2H096 AA06 BA05 EA23 4J002 AB031 BG011 BH001 BJ001 CD202 CF272 CH021 CH051 CK021 CK022 EH078 EH108 EH158 EL076 EN096 EN116 EP016 EP028 EP038 EU188 EW126 EX036 EZ007 FD010 FD020 FD090 FD142 FD148 FD150 FD156 FD157 FD200 GP03 HA05 4J011 PA35 PA36 PA37 PA46 PA47 PA69 PA70 PA74 PA90 PB30 PB40 PC01 PC08 4J027 AB03 AC03 AC05 AC06 AE01 AG01 AG04 BA01 BA03 BA14 BA19 BA20 BA21 BA23 BA24 BA26 BA27 CA03 CA09 CA10 CA12 CA14 CA25 CA29 CA34 CB00 CB10 CC05 CC07 CD08 CD09 CD10 4J100 AL61P AL62P AL63P AL65P AL66P AL67P AL79P AL80P AL82P AM24P AM25P BA02P BA03P BA08P BC43P BC45P BC75P CA01 CA03 JA37

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるナフト
   ［１，８−ｂｃ］フラン−５−オン誘導体、とチタノセ
   ン化合物と、ラジカルもしくは酸によって反応しその物
   理的もしくは化学的特性が変化して保持される化合物と
   を含有する感光性組成物。 【化１】 （式中、Ｘ₁からＸ₅はそれぞれ独立に一価の非金属原子
   団を表し、Ｚはアリール基、またはヘテロアリール基を
   あらわす）
2. 【請求項２】 前記ラジカルもしくは酸によって反応し
   その物理的もしくは化学的特性が変化して保持される化
   合物がエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化
   合物である請求項１記載の感光性組成物。