JP2000208704A - 誘導素子の集積回路 - Google Patents
誘導素子の集積回路Info
- Publication number
- JP2000208704A JP2000208704A JP11371460A JP37146099A JP2000208704A JP 2000208704 A JP2000208704 A JP 2000208704A JP 11371460 A JP11371460 A JP 11371460A JP 37146099 A JP37146099 A JP 37146099A JP 2000208704 A JP2000208704 A JP 2000208704A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- integrated circuit
- inductive element
- frequency
- inductive
- shielding means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/20—Inductors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D88/00—Three-dimensional [3D] integrated devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Inductance-Capacitance Distribution Constants And Capacitance-Resistance Oscillators (AREA)
Abstract
が一緒に存在し、集積回路の大きさに増加することなく
電磁相互作用が減少される集積回路を提供することを目
的とする。 【解決手段】 本発明は、少なくとも一つの誘導素子
と、抵抗性、容量性及び半導体の素子を含み得る活性領
域とを有する誘導素子及び活性領域(5)の一部が重な
り合う集積回路に係わる。集積回路は誘導素子は発生さ
れる電磁界に関して活性領域を絶縁する遮蔽手段(6)
を有する。本発明は減少された寸法を有する集積回路の
中で高いQを有する誘導素子の実施の可能性及び誘導素
子と他の素子との間の電磁相互作用が減少する実施化を
提供する。
Description
子と活性領域と称される領域とを有し、活性領域は抵抗
性、容量性及び半導体の素子を含み得、誘電素子及び活
性領域の一部が重なり合う集積回路に係わる。
許第5,370,766号に開示されている。この方法
の目的は集積回路の全表面を減少させることである。本
発明は次の考案と関連がある。即ち誘導素子及び活性領
域の重なり合いは誘導素子と活性領域の素子との間で相
互インダクタンス及び寄生結合の出現を生じ得、誘導素
子のクオリティファクタQのかなりの低下及び回路の周
波数の厳密さの減少に繋がる。
問題を最小化する既知の解決策は、誘導素子を他の素子
から離間して配置することを含む。このような集積化は
大型化の問題を引き起こす。実際、これを実現するため
には、誘導素子は回路の全表面の四分の一を必要とし得
る。
くとも誘導素子及び活性領域が一緒に存在し、集積回路
の大きさを大幅に増加することなく電磁相互作用が減少
される集積回路を提供することによって上記欠点を大き
く克服することである。本発明の更なる目的は、高いQ
を示す誘導素子を少なくとも有するコンパクトな集積回
路の集積化を可能にすることである。
明によって誘導素子が発生させる電磁界から活性領域を
絶縁する遮蔽手段を有することを特徴とする。このよう
な集積回路においては、誘導素子により生成される電磁
界は遮蔽手段によって大きくブロックされ、又活性領域
の素子との相互作用は制限される。本発明の実施例で
は、遮蔽手段は誘導素子と活性領域との間に位置し、開
フレームを形成する。
素子に相互インダクタンスを生ずることを防ぐことにあ
る。本実施例では、開フレームを形成する遮蔽手段は誘
導素子によって生じる電磁界で誘起された電流を流せな
い。結果として、これらの遮蔽手段と誘導素子との間に
存在する相互インダクタンスは非常に小さい。
は、遮蔽手段は誘導素子によって発生されることを意図
された磁界のベクトルに垂直に置かれた低抵抗材料のプ
レートを有し、誘導素子によってプレートに誘起されう
る電流に垂直なバンド及びスロットの交互の配置によっ
て形成され、バンドは開フレームに接続されている。
は電界の回路の活性領域への伝搬を阻止し、そこで誘起
されうる電流に関して開フレームとして機能する。誘導
素子で生じうる相互インダクタンスは従って略ゼロであ
る。本発明の望ましい実施例では、遮蔽手段は更に誘導
素子を完全に囲む壁を有する低抵抗材料のビアホール
(via hole)を含み、上記ビアホールはその高
さ全体に亘る少なくとも一つのスロットを有する。
るとき、その他の誘導素子と相互インダクタンスを形成
する。この相互インダクタンスは誘導素子のQを低下さ
せる傾向がある。ビアホールは誘導素子と回路内に存在
する他の誘導素子との磁気的相互作用を制限することに
よりこのような相互インダクタンスの巻きを制限するこ
とを可能にする。スロットはビアホールの表面で電流ル
ープの形成を防ぐようにビアホールの高さ全体に亘って
設けられる。
ビアホールは共に電位を有する基準端子に接続される。
本発明の目的は、回路の素子間の容量結合を制限するこ
とである。ビアホール及びプレートをお互いに同じ電位
に接続することで、回路の様々な素子間で形成されうる
寄生キャパシタンスは制限される。集積回路は基本的に
夫々が低抵抗材料で作られた層の重ね合わせによって形
成されるため、ビアホールの壁はトラックを積み重ねる
ことによって形成され、夫々は誘導素子の表面によって
画成された周辺の周りの上記層の内一つで切り欠かれ、
一方上記トラックが相互接続される。本発明のこの実施
例は簡単で且つ費用削減できる。既存の層を使用するこ
とによるビアホールの実施は回路の寸法を増加させな
い。
つの誘導素子を有し、その二つの誘導素子は供給端子と
電位を有する基準端子との間で接続され、夫々の端子は
一巻きによって形成され、上記巻きはコイル巻線と対称
及び反対方向を有し、上記向き合う巻きの夫々の部分は
電源供給端子から最も遠く離れている。コイル巻線の方
向の選択は、電流が巻線を通るときに形成される相互イ
ンダクタンスの値に影響し、結果として、Qの値に影響
する。この選択は誘導素子のQを最適化するようなされ
る。
記素子の中で電磁相互作用の減少を最大化するようにビ
アホールによって囲まれると有利である。本発明は誘導
素子が容量性、抵抗性又は半導体の素子のいずれであっ
ても、他の素子と並設するどの集積回路にも利用され得
る。集積回路は、例えば、発振器、活性負荷ミキサ又は
フィルタであってもよい。従って本発明の集積回路の適
用法の一つでは、従って同調電圧の値に依存する値の周
波数を有する出力信号を伝搬することを意図された発振
器に係わり、発振器は本発明による集積回路の形態で実
現され、その活性領域は少なくとも誘導素子に接続され
たバリキャップダイオードを含み同調電圧によりバイア
スされることを特徴とする。
するための装置に有利に使用される。本発明は、無線周
波数と称される所与の周波数範囲内で選択された周波数
を有する無線信号を受信し、無線信号と称される電子的
信号へ変換することを可能にするアンテナ及びフィルタ
システムと、発振周波数と称される同調電圧の関数とし
て同調され得る周波数を有する局部発振器と、無線信号
及び局部発振器からの信号を受信し、無線周波数と発振
周波数との差に等しく且つ一定の周波数を有する出力信
号を送信するためのミキサと、ミキサの出力信号を使用
する信号処理装置とを有し、局部発振器は前記発振器に
よることを特徴とする無線信号を受信するための装置に
係わる。
の実施例の記述を参照して、明らかとなろう。図1は、
本発明による集積回路の特定の実施例の断面図である。
回路1は電位を有する基準端子に接続された基板2によ
り形成され、基板の上には低抵抗材料(3、M1、M
2、M3及びM4)の第1、第2、第3、第4及び第5
の層が重畳されている。ポリシリコンで形成された基板
2、ポリシリコンで形成された第1の層3及び金属合金
で形成された第2の層M1は活性、不活性及び半導体の
素子を有する回路の活性領域5を実現可能にする。ここ
で説明される集積回路では、上記誘導素子4及び活性領
域5の一部が重なり合うよう誘導素子4は回路の第5の
層M4を形成する材料で実現される。遮蔽手段6は誘導
素子4によって発生された電磁界に関して活性領域5を
絶縁するために設けられている。遮蔽手段6が誘導素子
4によって発生される磁界のベクトルに垂直に置かれる
一方で、遮蔽手段6は第2の層M1と第5の層M4との
間に位置する層、例えば本例では第3の層M2の上で実
現される。
は誘導素子4と接触しない。誘導素子4が組込まれる第
5の層M4と遮蔽手段6が組込まれる第3の層M2とは
実際第4の層M3の厚さによって分離される。誘導素子
4及び上記遮蔽手段6を併せて考慮するとL−C素子を
形成し得る。誘導素子4と上記遮蔽手段6との間に形成
されたコンデンサCは誘導素子のQを下げる。このコン
デンサの値は誘導素子から遮蔽手段を分離する距離の関
数である。この値を最小化するためには、上記遮蔽手段
は誘導素子からある距離置かれる。
抵抗材料から形成されていれば更に改善されうる。図2
は前述の遮蔽手段6の望ましい実施例を示している。こ
れらの遮蔽手段6は誘導素子4によって発生された磁界
のベクトルに垂直に配置され、バンド8及びスロット9
の交互の配置によって形成された低抵抗材料のプレート
を有する。バンド8は、例えば、金属合金又はポリシリ
コンによって作られる。プレートは誘導素子によって発
生された磁界のベクトルに垂直に配置されるため、プレ
ートが一片で作られていれば誘導電流Iがプレートに現
われうる。この電流Iに垂直に配置されたスロット9 及
びバンド8の交互の配置はこの誘導電流の流れを妨げる
開フレームを形成する。この電流が遮蔽手段では略ゼロ
に近いため、これらの遮蔽手段と誘導素子との間に現れ
る相互インダクタンスも略ゼロに近い。これは誘導素子
のQを下げないことを可能にする。定位置に保つため
に、バンドは閉じていないフレーム10に外側に付けら
れる。フレーム10のスロット11はフレーム上での電
流ループの形成を妨げる。
及びバンド8の共同で形成された組立体7は電位又は接
地を有する基準端子に接続される。対称回路には回路の
仮想接地が選択される。集積回路は非常に多くの場合基
準端子に接続された基板を有する。誘導素子のQはプレ
ートと誘導素子との間に現われ得る第1の寄生キャパシ
タンスの値と、プレートと基板との間に現われ得る第2
の寄生キャパシタンスの値との関数である。プレートが
基準端子に接続されることで第1の寄生キャパシタンス
の制限を可能にする。更に、プレートが基板と同じ電位
に置かれることから、第2の寄生キャパシタンスの形成
を妨げることを可能にし、誘導素子のQは下がらない。
位への接続は電界のプレートと基板、従って活性領域の
素子間の送信を防ぐ。活性領域5の誘導素子によって発
生され得る磁界はプレートによってかなり減衰される。
図3は本発明の特定な実施例よる集積回路の二つの誘導
素子の平面図を示している。夫々方形巻き{T1、1、
T2、T1,3、T1,4}及び{T2,1,T2,
2,T2,3,T2,4}を有するこれら二つの誘導素
子4a、4bは互いに対称に且つ隣に配置される。誘導
素子4a及び4bは共に供給端子VCCと電位を有する
基準端子GNDとの間に接続される。電流I1は供給端
子から電位を有する基準端子まで二つの誘導素子を介し
て流れる。本実施例は回路内に現われ、誘導素子のQ、
結果として回路の性能を下げる相互インダクタンスを最
小化することを可能にする。各巻き{T1、1、T2、
T1、3、T1、4}及び{T2、1、T2、2、T
2、3、T2、4}は直列の四つのインダクタの組立体
として作用し、各インダクタは巻きの一部分に夫々対応
する。二つの隣接する巻きの間の相互インダクタンス
は、巻きが巻かれる方向の選択に依存する。巻線の方向
の選択はお互いが直接対向する上記巻きの部分が供給端
子から最も離れているように形成される。対向して配置
された巻きの部分は、その部分が供給端子に近付くほど
高くなる相互インダクタンスを形成する。誘導素子4a
及び4bの巻きのためにここで選択された巻線の方向は
各巻きT1、4及びT2、4の第4部分でのみ結合する
ため、相互インダクタンスを減少することができる。
回路の断面図を示している。この集積回路は先の段落で
説明された二つの誘導素子のような二つの誘導素子4
a、4bを有する。二つのビアホール12a及び12b
は誘導素子4a及び4bの周りに形成される。ここで実
現された導電性材料の各ビアホール12a、12bは方
形ベースを有し、その壁は誘導素子4a、4bのうちい
ずれか一つを完全に囲む。各ビアホール12a、12b
は高さ全体に亘って囲む誘導素子4a、4bによって誘
起された電流の循環の全ての可能性を遮断するスロット
13a、13bを有する。これらのビアホール12a、
12bは二つの誘導素子4a、4bの間の相互インダク
タンスを最小化することを可能にする。ここで説明され
た実施例では各ビアホール12a、12bは層M3及び
M4の夫々の部分の接合によって実現される。これらの
ビアホールは誘導素子4a及び4bの間で適切な絶縁を
確実にしこれらの誘導素子の間の磁気相互作用を制限す
る確実性は充分に高い。一般的な方法では、集積回路内
にあるこの誘導素子又は誘導素子の一部分と他の素子と
の間の相互インダクタンスが最小化されるように、集積
回路の中に含まれた各誘導素子又は誘導素子の一部分
を、このようなビアホールを有する遮蔽手段によって絶
縁され得る。
及びビアホールは共に電位を有する基準端子に接続され
る。一方では、プレートと基板との間、他方ではプレー
トと誘導素子との間、更にはプレートとビアホールとの
間での寄生容量性結合は夫々に応じてかなり制限され
る。本発明の選択された実施例の集積回路に含まれた誘
導素子は高いQを与える。
された発振器の機能系統を示す図である。この発振器V
COは同調電圧Vtunに依存する値の周波数FLOを
有する電圧信号Vloを生成する。この発振器は供給端
子VCCに接続された誘導素子4と、バリキャップダイ
オードVCDを有する活性領域5とを有する。ダイオー
ドVCDは同調電圧Vtunによりバイアスされる。
す図であり、この装置は所与の周波数範囲内で選択され
た無線周波数と称される周波数FRを有する無線信号の
受信と、電子的信号Vfrへの変換とを可能にするアン
テナ及びフィルタシステムAFを有する。この受信装置
は更に局部発振器VCOと、無線信号Vfr及び発振周
波数と称され同調され得る周波数FLOを有する局部発
振器VCOから送られる信号Vloを受信し、無線周波
数FRと発振周波数FLOとの差に等しい一定の周波数
FIを有する出力信号Vfiを送信するミキサMIXと
を含む周波数変換器FCを含む。
unにより生成される発振周波数FLOの値の選択は、
中間周波数FIが例えばミキサMIXの出力に配置され
うるフィルタシステム(図示せず)により固定されるた
め無線周波数FRの値に印加する。この受信装置はミキ
サMIXの出力信号を有用することを意図する信号処理
装置PUを含む。
る。
まれたプレートの平面図である。
子の平面図である。
面図である。
を示す図である。
の機能的系統を示す図である。
Claims (9)
- 【請求項1】 少なくとも一つの誘導素子と抵抗性、容
量性及び半導体の素子を含む活性領域と称される領域と
を有し、誘導素子及び活性領域の一部が重なり合う集積
回路であって、上記誘導素子が発生させる電磁界から上
記活性領域を絶縁する遮蔽手段を有することを特徴とす
る集積回路。 - 【請求項2】 上記遮蔽手段は、上記誘導素子と上記活
性領域との間に配置され開フレームを形成することを特
徴とする請求項1記載の集積回路。 - 【請求項3】 上記遮蔽手段は、上記誘導素子によって
発生される磁界のベクトルに垂直に配置され、上記誘導
素子によってプレートに誘起されうる電流に垂直なバン
ド及びスロットの交互の配置によって形成される低抵抗
材料のプレートを有し、上記バンドは上記開フレームに
接続されていることを特徴とする請求項1記載の集積回
路。 - 【請求項4】 上記遮蔽手段は更に上記誘導素子を完全
に囲む壁を有する低抵抗材料のビアホールを含み、上記
ビアホールは高さ全体に亘って少なくとも一つのスロッ
トを有することを特徴とする請求項3記載の集積回路。 - 【請求項5】 上記プレート及び上記ビアホールは共に
電位を有する基準端子に接続されていることを特徴とす
る請求項4記載の集積回路。 - 【請求項6】 上記集積回路は基本的に層の積み重ねに
よって形成され、上記各層は低抵抗材料によって実現さ
れ、上記ビアホールの壁はトラックの積み重ねによって
形成され、上記各トラックは誘導素子の表面に画成され
た周辺の周りの上記層のうちの一つで切り欠かれ、上記
トラックは周辺で相互接続されることを特徴とする請求
項4記載の集積回路。 - 【請求項7】 上記集積回路は二つの誘導素子を有し、
上記二つの誘導素子は供給端子と電位を有する基準端子
との間に接続され、夫々の素子は一巻きによって形成さ
れ、上記巻きはコイル巻線と対称且つ反対方向を有し、
上記向き合う巻きの夫々の部分は電源供給端子から最も
遠く離れていることを特徴とする請求項4記載の集積回
路。 - 【請求項8】 同調電圧の値に依存する値の周波数を有
する出力信号を送信するための発振器であって、請求項
1記載の集積回路の形態で実現され、活性領域は誘導素
子に接続されたバリキャップダイオードを少なくとも含
み同調電圧によりバイアスされることを特徴とする発振
器。 - 【請求項9】 無線信号を受信する装置であって、 無線周波数と称される所与の周波数範囲内で選択された
周波数を有する無線信号を受信し、無線信号と称される
電子的信号へ変換することを可能にするアンテナ及びフ
ィルタシステムと、 発振周波数と称される同調電圧の関数として同調され得
る周波数を有する局部発振器と、 無線信号及び局部発振器からの信号を受信し、無線周波
数と発振周波数との差に等しく且つ一定の周波数を有す
る出力信号を送信するためのミキサと、 ミキサの出力信号を使用する信号処理装置とを有し、局
部発振器は前記発振器によることを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9816569 | 1998-12-29 | ||
| FR9816569 | 1998-12-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000208704A true JP2000208704A (ja) | 2000-07-28 |
Family
ID=9534613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11371460A Pending JP2000208704A (ja) | 1998-12-29 | 1999-12-27 | 誘導素子の集積回路 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6529720B1 (ja) |
| EP (1) | EP1017102B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000208704A (ja) |
| KR (1) | KR100771726B1 (ja) |
| CN (1) | CN1165995C (ja) |
| DE (1) | DE69940590D1 (ja) |
| SG (1) | SG75997A1 (ja) |
| TW (1) | TW441086B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002184945A (ja) * | 2000-12-11 | 2002-06-28 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気素子一体型半導体デバイス |
| JP2003068862A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sharp Corp | スパイラルインダクタ及び高周波半導体装置 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2810451A1 (fr) * | 2000-06-20 | 2001-12-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Circuit integre incluant un element inductif de facteur de qualite eleve et presentant une grande compacite |
| EP1213762A1 (fr) * | 2000-12-05 | 2002-06-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Dispositif d'isolation d'un élement électrique |
| US7200378B2 (en) * | 2001-12-14 | 2007-04-03 | Freescale Semiconductor, Inc. | Rocking potential-well switch and mixer |
| JP4214700B2 (ja) * | 2002-01-22 | 2009-01-28 | 株式会社村田製作所 | コモンモードチョークコイルアレイ |
| JP2004221475A (ja) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Mitsubishi Electric Corp | 誘導素子 |
| US20050101318A1 (en) * | 2003-11-07 | 2005-05-12 | Brett Williams | Wireless network access methods, communications device configuration methods, configuration devices, communications systems, and articles of manufacture |
| EP1553812A3 (fr) | 2003-12-11 | 2013-04-03 | STMicroelectronics S.A. | Puce à semiconducteur et circuit comprenant une inductance blindée |
| US7151430B2 (en) * | 2004-03-03 | 2006-12-19 | Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) | Method of and inductor layout for reduced VCO coupling |
| US7436281B2 (en) * | 2004-07-30 | 2008-10-14 | Texas Instruments Incorporated | Method to improve inductance with a high-permeability slotted plate core in an integrated circuit |
| US7323948B2 (en) * | 2005-08-23 | 2008-01-29 | International Business Machines Corporation | Vertical LC tank device |
| US8248200B2 (en) * | 2006-03-24 | 2012-08-21 | Panasonic Corporation | Inductance component |
| DE102006044570A1 (de) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Atmel Duisburg Gmbh | Integrierte Schaltungsanordnung und integrierte Schaltung |
| EP2269199B1 (en) * | 2008-04-21 | 2016-06-08 | Nxp B.V. | Planar inductive unit and an electronic device comprising a planar inductive unit |
| CN101894861A (zh) * | 2009-05-22 | 2010-11-24 | 联发科技股份有限公司 | 半导体装置 |
| WO2011027423A1 (ja) * | 2009-09-02 | 2011-03-10 | キヤノンアネルバ株式会社 | 周波数変換装置 |
| CN105099005B (zh) * | 2015-08-16 | 2017-11-24 | 中国科学院电工研究所 | 一种无线能量传输系统的磁场屏蔽装置 |
| US9954487B1 (en) | 2016-10-07 | 2018-04-24 | International Business Machines Corporation | Tuning LC tank circuits |
| CN108231735B (zh) * | 2017-12-21 | 2020-01-14 | 南京中感微电子有限公司 | 压控振荡器 |
| CN112753102A (zh) * | 2018-09-21 | 2021-05-04 | 华为技术有限公司 | 一种平面电感器及半导体芯片 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5070317A (en) | 1989-01-17 | 1991-12-03 | Bhagat Jayant K | Miniature inductor for integrated circuits and devices |
| US5173671A (en) | 1990-12-18 | 1992-12-22 | Raytheon Company | Monolithic lumped element networks |
| US5370766A (en) | 1993-08-16 | 1994-12-06 | California Micro Devices | Methods for fabrication of thin film inductors, inductor networks and integration with other passive and active devices |
| US5478773A (en) * | 1994-04-28 | 1995-12-26 | Motorola, Inc. | Method of making an electronic device having an integrated inductor |
| US6057224A (en) * | 1996-03-29 | 2000-05-02 | Vlsi Technology, Inc. | Methods for making semiconductor devices having air dielectric interconnect structures |
| DE69718741T2 (de) | 1996-10-10 | 2003-11-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V., Eindhoven | Integrierter Oszillator und einen solchen Oszillator verwendendes Funktelefon |
| AU6468198A (en) | 1997-05-02 | 1998-11-27 | Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Patterned ground shields for integrated circuit inductors |
| US5959522A (en) * | 1998-02-03 | 1999-09-28 | Motorola, Inc. | Integrated electromagnetic device and method |
| US6268778B1 (en) * | 1999-05-03 | 2001-07-31 | Silicon Wave, Inc. | Method and apparatus for fully integrating a voltage controlled oscillator on an integrated circuit |
-
1999
- 1999-12-20 US US09/467,597 patent/US6529720B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-21 DE DE69940590T patent/DE69940590D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-21 EP EP99204456A patent/EP1017102B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-24 CN CNB991229487A patent/CN1165995C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-27 KR KR1019990062540A patent/KR100771726B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-27 JP JP11371460A patent/JP2000208704A/ja active Pending
- 1999-12-29 SG SG1999006659A patent/SG75997A1/en unknown
-
2000
- 2000-03-31 TW TW089106080A patent/TW441086B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002184945A (ja) * | 2000-12-11 | 2002-06-28 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気素子一体型半導体デバイス |
| JP2003068862A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sharp Corp | スパイラルインダクタ及び高周波半導体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1259769A (zh) | 2000-07-12 |
| DE69940590D1 (de) | 2009-04-30 |
| KR100771726B1 (ko) | 2007-10-30 |
| CN1165995C (zh) | 2004-09-08 |
| EP1017102B1 (fr) | 2009-03-18 |
| SG75997A1 (en) | 2000-10-24 |
| KR20000048416A (ko) | 2000-07-25 |
| EP1017102A1 (fr) | 2000-07-05 |
| TW441086B (en) | 2001-06-16 |
| US6529720B1 (en) | 2003-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000208704A (ja) | 誘導素子の集積回路 | |
| US5959522A (en) | Integrated electromagnetic device and method | |
| US7642618B2 (en) | Semiconductor devices with inductors | |
| US6580334B2 (en) | Monolithically integrated transformer | |
| US7348871B2 (en) | Inductance variable device | |
| TW548798B (en) | High Q inductor with faraday shield and dielectric well buried in substrate | |
| US8183971B2 (en) | 8-shaped inductor | |
| US7002233B2 (en) | Integrated circuit including an inductive element having a large quality factor and being highly compact | |
| US7847666B2 (en) | Differential inductor for use in integrated circuits | |
| JP2002100733A (ja) | 高周波集積回路装置 | |
| JP2012521089A (ja) | 磁気結合が低減された集積回路インダクタ | |
| US6809623B2 (en) | High Q on-chip inductor | |
| US6762655B2 (en) | Circuit arrangement | |
| US20030160675A1 (en) | I-inductor as high-frequency microinductor | |
| JP2002246476A (ja) | 絶縁デバイス、集積回路、発信器及び無線信号受信装置 | |
| JP2006032805A (ja) | 電圧制御発振回路およびそれを用いた半導体集積装置、無線通信装置 | |
| WO1996042110A1 (en) | Semiconductor device | |
| US6842080B1 (en) | LC oscillator formed on a substrate | |
| JP2003318715A (ja) | 高周波スイッチ回路及び通信機器 | |
| EP1211799B1 (en) | Lc oscillator | |
| JPH0883717A (ja) | トランス素子 | |
| JPH11274842A (ja) | アンテナ装置と、送信装置及び/又は受信装置 | |
| Valkodai | A CAD Program for Modeling Thin Film Micro-inductors and Transformers for RFIC Design: Y Aravind R. Valkodai | |
| JPS61164313A (ja) | 同調装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061225 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070313 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20080428 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090623 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090625 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091117 |