JP2000209038A - 高周波電力増幅装置および無線通信機 - Google Patents

高周波電力増幅装置および無線通信機

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JP2000209038A
JP2000209038A JP11300423A JP30042399A JP2000209038A JP 2000209038 A JP2000209038 A JP 2000209038A JP 11300423 A JP11300423 A JP 11300423A JP 30042399 A JP30042399 A JP 30042399A JP 2000209038 A JP2000209038 A JP 2000209038A
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resistor
semiconductor
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frequency power
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Masashi Maruyama
昌志 丸山
Hitoshi Akamine
均 赤嶺
Tsutomu Kobori
勉 小堀
Shinji Moriyama
伸治 森山
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Hitachi Solutions Technology Ltd
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Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 アイドル電流の温度特性を負の温度特性とす
ることにより歪特性向上を図る。 【解決手段】 第1電極および第2電極ならびに制御電
極で構成され前記第1電極と前記第2電極間に流れる電
流を前記制御電極への電位の印加制御で行うトランジス
タと、前記トランジスタの制御電極に印加される直流バ
イアス電位を決定する抵抗分圧回路とを有し、前記制御
電極に入力信号が入力され、前記第1電極から出力信号
を出力し、前記抵抗分圧回路に制御信号が入力される高
周波電力増幅装置であり、前記制御信号が入力されない
ときの出力であるアイドル電流の温度特性が負の温度特
性になるように、前記抵抗分圧回路の一の抵抗は抵抗値
がリニアに変化する温度補償型抵抗で構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高周波電力増幅装置
およびその高周波電力増幅装置を組み込んだセルラー電
話機等の移動体通信機に係わり、特に位相変調(PM)
方式等で使用され低歪みが要求される高周波電力増幅装
置(高周波パワーアンプモジュール)に適用して有効な
技術に関する。
【0002】
【従来の技術】自動車電話,携帯電話等の移動体通信機
の送信部には高周波電力増幅装置が使用されている。
【0003】PDC(Personal Digital Cellular),P
HS(Personal Handyphone System),N−CDMA
(code division multiple access :符号分割多元接
続),W−CDMA等のデジタル携帯電話システムは、
変調方式として位相変調方式が採用されている。
【0004】位相変調方式では、温度変化に対するパワ
ーアンプの歪特性の向上が重要である。歪特性の安定化
を図るために、従来はドレイン電流の安定化(一定化)
が図られている。
【0005】ドレイン電流の安定化を図る技術として
は、(1)ダイオードやサーミスタ等の部品を回路中に
追加する方式、(2)FET(Field-Effect-Transisto
r)の結晶軸方向を変え、内部応力(ピエゾ)によるイ
ンピーダンス変化を抑える方式(電子情報通信学会発行
「電子情報通信学会技術研究報告ED97-182」、1998-0
1、P9〜P14)、(3)FETの電圧(Vg)と電
流(Ids/IdssO)特性において、温度が変化して
もドレイン電流が変化しないバイアス点(クロスポイン
ト:Q点)に動作点を合わせる方式(電子情報通信学会
発行「電子情報通信学会技術研究報告MW97-33」、1997-
06、P37〜P42)等が採用されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】移動体通信システム
(セルラー電話システム)では、アイドル時の隣接チャ
ネル漏洩電力(adjacent channel leakage power:AC
P)を小さくし、隣接チャネルでの通話を良好とする必
要がある。
【0007】従来の高周波パワーアンプのゲートバイア
ス回路は、図25に示すような構成になっている。高周
波パワーアンプ1は、入力端子(Pin)2,出力端子
(Pout )3,第1基準電位端子、たとえば電圧端子
(Vdd)4,コントロール端子(Vgg)5,第2基準電
位端子、たとえばグランド端子(GND)6を有している。
【0008】トランジスタ(FET)7のゲート端子G
(制御端子)と入力端子(Pin)2との間には整合回路
10が設けられている。FET7のドレイン端子D(第
1端子)は電源ライン11を介して電圧端子(Vdd)4
に接続されているとともに、整合回路12を介して出力
端子(Pout)3に接続されている。FET7のソース
端子S(第2端子)はグランド端子(GND)6に接続され
ている。FET7は、たとえばGaAs系化合物半導体
によって構成されるHEMT(High ElectronMobility
Transistor :高電子移動度トランジスタ)である。
【0009】また、FET7のゲート端子Gには2つの
抵抗15,16が接続され、高電位側抵抗R1(15)
はグランド端子(GND)6に接続され、低電位側抵抗R2
(16)はコントロール端子(Vgg)5に接続され、抵
抗分圧回路(ブリーダ回路)を構成している。上記抵抗
15,16はチップ抵抗である。チップ抵抗は抵抗部分
が厚膜抵抗で構成されていることから温度特性を殆ど持
たない。
【0010】携帯電話等の携帯端末は屋外で使用される
ことから、パワーアンプには、たとえば−20℃〜85
℃に亘って安定した温度特性が要求される。高周波電力
増幅装置の増幅器(たとえば、単一のFETまたはFE
Tを複数順次従属接続した多段構成)は、正の温度係数
を持ち、温度によりアイドル電流が変化するため歪特性
を劣化させている。
【0011】従来は、前述のようにゲートバイアス(V
gs)回路を温度特性を殆ど持たないチップ抵抗で構成し
ているため、アイドル電流変化が直接歪みに悪影響を与
えた。
【0012】高周波電力増幅装置のアイドル電流、換言
するならばドレイン電流を一定化するために前述のよう
な各方式が採用されている。
【0013】しかし、上記(1)のダイオードやサーミ
スタ等の部品を追加する手段は、外付け部品を使うこと
になり、部品点数が増加するばかりでなく、FETとの
温度係数を合わせるための回路が大規模になる。
【0014】また、上記(2)のFETの結晶軸方向を
変え、内部応力(ピエゾ)によるインピーダンス変化を
抑える手段は、FETを搭載する基板によって応力が変
わり汎用性に劣る。
【0015】また、上記(3)のQ点利用のものはFE
T特性によりずれる可能性があるため汎用性に劣る。
【0016】一方、このような高周波パワーアンプ1に
おいて、上記ブリーダ回路を構成する二つの抵抗は、チ
ップ抵抗からなり、温度が変化しても抵抗値は一定であ
る。これに対して、FETの内部抵抗は温度の上昇に伴
って変化し、FET7のアイドル電流は増大(たとえば
約0.14%/℃で正の温度特性を有する)し、この結
果動作点が変動し、歪み特性や効率が大きく変動してし
まう。
【0017】他方、携帯端末においては効率の向上が要
請されている。効率とACPとの関係は一方が良くなれ
ば他方は悪くなり、他方が良くなれば一方は悪くなるい
わゆるトレードオフの関係にある。
【0018】このため、従来は効率を多少犠牲にして常
温でのACPのマージンを上げて設計を行っている。
【0019】本発明者は、ACPが±50KHz 離調での
最適アイドル電流値を求めるべく、温度が−20℃,2
5℃,100℃となる状態でのアイドル電流を測定し
た。図26のグラフがこの結果である。同グラフから分
かるように、温度が低いとアイドル電流は大きく、温度
が高くなるにつれてアイドル電流は小さくなる傾向にあ
る。
【0020】また、アイドル電流の温度変化はFETと
それを搭載している基板との間に働く熱ストレスによる
ピエゾ効果でチャネル抵抗の変化や寄生容量の変化がイ
ンピーダンスに影響を及ぼすことが周知である。
【0021】本発明者等はこのインピーダンス変化をキ
ャンセルさせるためVgsを変化させゲートの入力インピ
ーダンスを変えて歪みを改善する手法の基礎検討の結
果、増幅器のアイドル電流を負の温度特性を持たせるこ
とで歪みが一定に保てることを突き止めた。
【0022】そこで、本発明者はブリーダ回路の高電位
側の抵抗R1を正の温度係数を持つ温度補償型抵抗と
し、温度の上昇に伴って高電位側の抵抗R1の抵抗値の
増大を図り、これによりゲート端子Gの電位の低下を図
り、アイドル電流の温度上昇に伴う増大を抑止するとと
もに、ACP特性を低くかつ平坦化させることができる
ことに気が付き本発明をなした。
【0023】本発明の目的は、歪特性の良好な増幅器
(高周波電力増幅装置)および無線通信機を提供するこ
とにある。
【0024】本発明の他の目的は、ACP特性を低くか
つ平坦化することにより、効率の高い増幅器(高周波電
力増幅装置)および無線通信機を提供することにある。
【0025】本発明の他の目的は、抵抗値がリニアに変
化する正の温度係数を持つ温度補償型抵抗を提供するこ
とにある。
【0026】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
【0027】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0028】(1)高周波電力増幅装置は、入力端子
と、出力端子と、コントロール端子と、上記入力端子か
らの信号を受ける制御端子と、上記入力端子からの信号
に応じた信号を出力する第1端子とを有する第1の半導
体増幅素子と、上記第1の半導体増幅素子の第1端子か
ら出力された信号に応じた信号を受ける制御端子と、上
記出力端子に接続され、上記信号に従った信号を出力す
る第1端子とを有する第2の半導体増幅素子と、上記コ
ントロール端子に接続され、上記第1の半導体増幅素子
の制御端子に上記コントロール端子に供給される電圧に
従った直流バイアス電位を印加する抵抗分圧回路からな
るバイアス回路とを有し、上記入力端子から入力されな
いときの出力であるアイドル電流の温度特性が負の温度
特性になるように、上記抵抗分圧回路の高電位側を構成
する抵抗は抵抗値がリニアに変化する温度補償型抵抗で
構成されている。
【0029】上記抵抗分圧回路の高電位側を構成する抵
抗は上記第1の半導体増幅素子が形成された半導体基板
にモノリシックに形成され、他の抵抗は外付け部品であ
る。
【0030】また、上記コントロール端子に接続され、
上記第2の半導体増幅素子の制御端子に上記コントロー
ル端子に供給される電圧に従った直流バイアス電位を印
加する抵抗分圧回路からなるバイアス回路を有し、上記
入力端子から入力されないときの出力であるアイドル電
流の温度特性が負の温度特性になるように、上記抵抗分
圧回路の高電位側を構成する抵抗は抵抗値がリニアに変
化する温度補償型抵抗で構成されている。
【0031】上記第1の半導体増幅素子の制御端子を制
御するバイアス回路と、上記第2の半導体増幅素子の制
御端子を制御するバイアス回路は相互に独立した回路で
ある。
【0032】上記バイアス回路において、抵抗分圧回路
の高電位側を構成する抵抗が正の温度特性を示し、他の
抵抗は実質的に温度に依存しない抵抗である。
【0033】上記抵抗分圧回路の高電位側を構成する抵
抗は半導体増幅素子が形成される半導体基板にモノリシ
ックに形成され、他の抵抗は外付け部品である。
【0034】上記第1の半導体増幅素子と上記第2の半
導体増幅素子との間に従属接続される1乃至複数の第3
の半導体増幅素子を有し、上記第3の半導体増幅素子は
前段の半導体増幅素子の第1端子に接続された制御端子
と、後段の半導体増幅素子の制御端子に接続された第1
端子とを有する。
【0035】上記第1の半導体増幅素子はA級増幅で動
作し、上記第2の半導体増幅素子はAB級増幅で動作
し、他の半導体増幅素子はA級増幅で動作する。
【0036】上記半導体増幅素子はシリコン半導体によ
る電界効果トランジスタからなっている。
【0037】また以上の構成の高周波電力増幅装置は無
線通信機の送信側出力段に組み込まれて使用される。
【0038】(2)上記手段(1)の構成において、上
記半導体増幅素子の制御電極には抵抗と容量で構成され
るラグリードフィルタが組み込まれているとともに上記
ラグリードフィルタを構成する抵抗は抵抗値がリニアに
変化する温度補償型抵抗で構成されている。
【0039】(3)上記手段(1)または手段(2)の
構成において、上記第1の半導体増幅素子の制御端子を
制御するバイアス回路は上記第1端子から出力する出力
信号の振幅を制御する。
【0040】(4)上記手段(1)乃至手段(3)のい
ずれかの構成において、上記半導体増幅素子は化合物半
導体によるMESFETまたは化合物半導体による高電
子移動度トランジスタもしくは化合物半導体によるヘテ
ロ接合バイポーラトランジスタからなっている。
【0041】(5)絶縁性基板と、上記絶縁性基板の少
なくとも一面に形成される温度によって抵抗値がリニア
に変化する導体と、上記導体の一端側に電気的に接続さ
れる電極と、上記導体の他端側に電気的に接続される電
極とを有する。上記導体はシリコン,GaAs,ゲルマ
ニウムのうちのいずれかによって形成されている。例え
ば、上記絶縁性基板は半絶縁性GaAs基板となり、上
記導体は上記半絶縁性GaAs基板の少なくとも一面に
不純物を拡散して形成された構造になっている。
【0042】上記手段(1)によれば、(a)トランジ
スタを多段に組み込んだ高周波電力増幅装置において、
各トランジスタの制御電極に接続される抵抗分圧回路の
高電位側の抵抗は、抵抗値がリニアに変化する温度補償
型抵抗になっていることから、温度が上昇した場合、上
記温度補償型抵抗の抵抗値が順次増大し制御電極の電位
が相対的に低くなり、アイドル電流の温度特性が負とな
る。この結果、保証温度全域での歪が小さく抑えられ歪
特性の向上が達成できる。特に、入力段に温度補償型抵
抗を含むバイアス回路が設けられていることから、歪み
特性が良好になる。
【0043】(b)アイドル電流の低減により隣接チャ
ネル漏洩電力ACPが低く抑えられ、効率の増大も可能
になる。
【0044】(c)抵抗分圧回路の高電位側の抵抗を温
度補償型抵抗にするだけであり、従来のようにドレイン
電流一定化のために全ての部品を別部品(外付け部品)
として取り付ける必要がなく、部品点数の低減および組
み立て工数の低減から高周波電力増幅装置の製造コスト
の低減が達成できる。
【0045】(d)上記(c)から外付け部品の数が少
なくなり、高周波電力増幅装置の小型化が達成できる。
【0046】(e)上記温度補償型抵抗はトランジスタ
を形成する半導体基板にモノリシックに形成されている
ことから、高電位側の抵抗をチップ抵抗(外付け部品)
として組み立てる構造に比較して高周波電力増幅装置の
小型化が達成できる。
【0047】(f)上記構成の高周波電力増幅装置をそ
の送信部に使用した無線通信機においては、歪特性の向
上,効率の増大,小型化および製造コストの低減が達成
できる。特に、効率の向上により、消費電力の削減が達
成でき、この結果、通話時間の延長やバッテリの小型化
が図れる。バッテリの小型化はさらなる無線通信機の多
機能化や小型化となる。
【0048】上記(2)の手段によれば、制御端子には
抵抗と容量で構成されるラグリードフィルタが組み込ま
れていることから、発振の防止なる効果を有する。ま
た、ラグリードフィルタを構成する抵抗もトランジスタ
が形成された半導体基板にモノリシックに形成されてい
ることから高周波電力増幅装置の大型化を阻止できる。
【0049】上記(3)の手段によれば、リニアアンプ
の場合、動作点を動かすと歪みが発生するが、動作点を
固定し、入力電力コントロールによって出力電力を調整
することによって、良好な歪み特性を維持したまま高い
効率で送信を行うことができる。
【0050】上記(4)の手段によれば、上記半導体増
幅素子としては、MESFET,高電子移動度トランジ
スタ,ヘテロ接合バイポーラトランジスタのいずれにお
いても、上記各効果を有することができる。
【0051】上記(5)の手段によれば、(a)抵抗値
がリニアに変化する単体部品としての温度補償型抵抗を
提供することができる。また、抵抗値がリニアに変化す
るGaAs系の単体部品としての温度補償型抵抗を提供
することもできる。
【0052】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【0053】(実施形態1)図1に本発明の一実施形態
(実施形態1)である高周波電力増幅装置の等価回路図
を示す。本実施形態1ではトランジスタ(半導体増幅素
子)として、たとえばGaAs系化合物半導体によって
構成されるHEMT(High Electron Mobility Transis
tor :高電子移動度トランジスタ)を用いた例について
説明する。
【0054】本実施形態1の高周波電力増幅装置(高周
波パワーアンプ:高周波パワーアンプモジュール)1
は、入力端子(Pin)2,出力端子(Pout)3,第1
基準電位端子、たとえば電圧端子(Vdd)4,コントロ
ール端子(Vgg)5,第2基準電位端子、たとえばグラ
ンド端子(GND)6を有している。
【0055】トランジスタ7のゲート電極(制御電極)
に連なるゲート端子Gと、入力端子(Pin)2との間に
は整合回路10が設けられている。トランジスタ7の第
1端子であるドレイン端子Dは電源ライン11を介して
電圧端子(Vdd)4に接続されているとともに、整合回
路12を介して出力端子(Pout)3に接続されてい
る。トランジスタ7のソース電極に連なるソース端子S
(第2端子)はグランド端子(GND)6に接続されてい
る。
【0056】また、トランジスタ7のゲート端子Gには
2つの抵抗15,16が接続され、高電位側抵抗R1
(15)はグランド端子(GND)6に接続され、低電位側
抵抗R2(16)はコントロール端子(Vgg)5に接続
され、抵抗分圧回路(ブリーダ回路)を構成している。
【0057】また、抵抗分圧回路とVgsとの間には抵抗
R3(18)が設けられている。この抵抗R3(18)
は、ゲート電極側へ影響する抵抗分圧回路側のインピー
ダンスの抑制効果がある。
【0058】上記抵抗(低電位側抵抗R2)16は厚膜
抵抗で構成されるチップ抵抗(外付け部品)であるが、
上記抵抗(高電位側抵抗R1)15は抵抗値がリニアに
変化する正の温度係数を持つ温度補償型抵抗で構成され
ている。本実施形態1では、上記高電位側抵抗R1(1
5)はトランジスタ7を形成する半導体基板にモノリシ
ックに形成されている。すなわち、後述するが、上記ト
ランジスタ7はGaAs基板に形成され、高電位側抵抗
R1(15)は上記GaAs基板の表面に不純物を拡散
して形成した拡散領域を抵抗体(導体)とする抵抗であ
る。トランジスタ7および高電位側抵抗R1(15)は
同一の半導体チップ19にモノリシックに形成されてい
る。上記温度補償型抵抗のその正の温度係数は、たとえ
ば約0.12%/℃になっている。
【0059】本実施形態1の高周波電力増幅装置1によ
れば、(1)抵抗分圧回路の一の抵抗(高電位側の抵抗
R1(15)は抵抗値がリニアに変化する温度補償型抵
抗で構成され、他の抵抗(低電位側の抵抗R2(16)
は抵抗値がほぼ一定である厚膜抵抗となっていることか
ら、温度上昇に伴ってVgsが低くなり、アイドル電流が
低下し、歪特性が向上する。
【0060】ここで、歪み特性の向上について説明す
る。図11はIds−Vds特性および負荷線ならびに出力
波形との相関を示す模式図である。負荷線の中心部分が
バイアス点になるようなゲート電圧を選んで使用するA
級増幅の場合、温度が25℃のときは実線で示すように
入力信号の入力波形に対する出力波形(出力電流振幅)
は同図の左側の波形Aで示すように歪みが発生しない
が、温度が上昇し、例えば100℃になった状態では、
出力波形は破線で示すように歪む。
【0061】すなわち、高温になると動作点(バイアス
点)がずれ、出力波形の対称性(正負振幅)が波形Bに
示すように失われ、波形のクリッピングが発生する。
【0062】しかし、抵抗分圧回路(ブリーダ回路)の
高電位側抵抗R1(15)を温度補償型の抵抗としてお
き、低電位側抵抗R2(16)を温度に依存しない一定
型とすることによって、バイアス点は下げられることに
なり、波形の対称性を再現させることができる。すなわ
ち、入力端子に信号が供給されないアイドル状態は負の
特性を示すようになり、アイドル電流を小さくができる
ようになる。
【0063】(2)アイドル電流の低減から効率が高く
なる。
【0064】(3)本実施形態1の高周波電力増幅装置
1は、抵抗分圧回路の高電位側の抵抗R1(15)を抵
抗値がリニアに変化する温度補償型抵抗にするだけであ
り、従来のようにドレイン電流一定化のために別の部品
を取り付ける等が不要となり、部品点数の低減が達成で
きる。
【0065】(4)抵抗分圧回路とVgsとの間には抵抗
R3(18)が設けられていることから、整合回路特性
の安定化および製品の小型化が達成できる。
【0066】(5)部品点数の低減と、部品点数の低減
による組み立て工数の低減から、高周波電力増幅装置1
の製造コストの低減が達成できる。
【0067】(6)部品点数の低減が図れるため、高周
波電力増幅装置の小型化が達成できる。
【0068】本実施形態1では単一のトランジスタを組
み込んだ高周波電力増幅装置1について説明したが、ト
ランジスタを順次複数従属接続した多段構成の高周波電
力増幅装置にも適用できる。この場合、少なくとも初段
(入力段)のトランジスタの抵抗分圧回路の高電位側の
抵抗を抵抗値がリニアに変化する温度補償型抵抗とする
ものである。
【0069】つぎに、本発明のより具体的な例(実施
例)について説明する。
【0070】(実施例1)図2乃至図8は本実施例1の
高周波電力増幅装置(高周波パワーアンプモジュール)
に係わる図である。
【0071】本実施例1の高周波電力増幅装置(高周波
パワーアンプモジュール)1は、図3の斜視図に示すよ
うに、板状の配線基板20の一面側(主面側)にキャッ
プ21が重ねられ、外観的には偏平な矩形体構造になっ
ている。
【0072】高周波マイクロ波増幅装置は、多層構造の
配線基板の一面側にトランジスタ等の能動部品やチップ
抵抗やチップコンデンサ等の受動部品を搭載するととも
に、複数のトランジスタを従属接続させて多段構成の増
幅器を構成したモジュール構成になっている。また、配
線基板の一面側は電磁シールド効果の役割を果たす金属
製のキャップで被われている。キャップは配線基板に直
接固定され、配線基板とキャップによってパッケージが
構成されている。上記パッケージからは電気的に独立し
た外部電極端子(電極端子)が突出している。すなわ
ち、この例では配線基板の下面周縁に表面実装用の外部
電極端子が設けられている。なお、配線基板を支持基板
で支持する構造とし、支持基板にキャップを固定する構
造としてもよい。
【0073】本実施例1の高周波パワーアンプモジュー
ル1は、能動部品として、HEMTを構成する半導体チ
ップを回路的に多段に接続して、移動通信機(携帯電
話)の高周波パワーモジュールを構成している。この例
では、2個のトランジスタ(HEMT)を従属接続した
2段構成の増幅器になっている。図2は本実施例1の高
周波パワーアンプモジュール1の等価回路図である。
【0074】なお、第1基準電位端子(Vdd〔Vd1,V
d2〕端子)は電源電位(たとえば3.5V)に電位固定
される電圧端子である。また、ゲートバイアス端子(V
gg端子)はバイアス電位(たとえば−2.5V)に電位
固定される電圧端子である。また、トランジスタは0V
を参照電位(Vref)にするデプレッション形である。
【0075】キャップ21は、図5に示すように金属板
を矩形箱状に絞り成形して、下面周縁に沿って突出した
周壁22を有する構造となっている。上記周壁22には
切り込みが入れられて弾力的に配線基板20の側面に作
用するフックアーム23が複数設けられている。このフ
ックアーム23の先端内側には、これも成形によって形
成された突出するフック爪24が設けられている。この
フック爪24は配線基板20の周面に設けられた図示し
ない窪んだ引っ掛かり部に弾力的に引っ掛かるようにな
っている。この引っ掛かり部にフック爪24を引っ掛け
ることによって配線基板20にキャップ21が固定さ
れ、図3に示すような偏平な高周波パワーアンプモジュ
ール1となる。
【0076】また、上記フックアーム23は高周波パワ
ーアンプモジュール1の裏面の外部電極端子を実装基板
のランドに導電性の接合材(半田)の溶融によって固定
する際、グランド用ランド部分に付着する接合材(半
田)に濡れて接続されるように配置構成されている。ま
た、この際、配線基板20の係止部、すなわち引っ掛か
り部にはグランド配線(GND層)が設けられており、
このグランド配線部分も半田に濡れるようになってい
る。したがって、キャップ21は電磁シールド効果を奏
することになる。本実施例1では、特に断面図は図示し
ないが配線基板20は多層構造となっている。
【0077】配線基板20の一面(主面)側には、図4
および図5に示すように、チップコンデンサやチップ抵
抗等を構成するチップ部品25やトランジスタ7が固定
されている。チップ部品25の電極部分は図示しない半
田等の導電性接合体を介して導体からなる各配線26に
接続され、トランジスタ7は配線基板20の主面に形成
された導体からなる固定部27に半田等を介して接続さ
れている。
【0078】各トランジスタ7が形成される半導体チッ
プ19には、図1に示す高電位側抵抗R1(15)と抵
抗R3(18)がモノリシックに形成されている。等価
回路および図4では、初段のトランジスタ7(T1)は
高電位側抵抗R1と抵抗R3で示し、最終段のトランジ
スタ7(T2)では高電位側抵抗R4と抵抗R6で示
す。また、最終段のトランジスタ7では、抵抗分圧回路
を構成する二つの抵抗をR4とR5とする。R4が高電
位側の抵抗であり、R5が低電位側の抵抗である。R5
はVggに接続されている。また、最終段のトランジスタ
と初段のトランジスタはカップリングコンデンサC4に
よって接続されている。最終段のトランジスタおよび初
段のトランジスタにはDCカットやインピーダンスの整
合等を合わせるために抵抗やコンデンサが組み込まれて
いる。
【0079】また、図4に示すように、トランジスタ7
の電極と配線26は導電性のワイヤ28で接続されてい
る。図示はしないがトランジスタ7,ワイヤ28等は絶
縁性樹脂からなるオーバコート層で覆われて保護され、
耐湿性向上が図られている。
【0080】つぎに、配線基板20および配線基板20
に搭載される電子部品等について簡単に説明する。図4
は配線基板上の各部品の搭載状態を示す平面図である。
本実施例1の高周波パワーアンプモジュール1は、図4
の配線基板1の平面図および図2の等価回路図で示すよ
うに、トランジスタ(HEMT)T1,T2を従属接続
して2段構成の増幅器とした構造になっている。
【0081】図4に示すように、配線基板20には部分
的に上記配線基板20の周縁から下面に亘って外部電極
端子が設けられている。外部電極端子は入力端子(Pi
n),出力端子(Pout),コントロール端子(Vgg),
電圧端子(Vdd1,Vdd2),グランド端子(GND)
となる。また、これらの端子は所定のパターンの導体
(配線26や固定部27)が設けられている。そして、
各電子部品が搭載され、必要な部分は導電性のワイヤ2
8で接続されている。
【0082】すなわち、図2の等価回路を満足するよう
に、図4に示すように各部品が搭載されている。これら
の図において、T1,T2はトランジスタ、C1〜C1
3はチップコンデンサ、R2,R5はチップ抵抗であ
る。また、図2において示す細長い長方形部分はマイク
ロストリップラインを示す。
【0083】配線基板20は、たとえば、ガラスセラミ
ックスを積層させた低温焼成の配線基板からなり、配線
は高導電性金属、例えば銀系金属を使用している。すな
わち、外層配線はAg−Ptを使用し、内装配線はAg
を使用している。低温焼成は600℃程度となり、融点
の低いAgの使用が可能となる。Agは抵抗値が低い高
導電性金属となるため、高周波特性の向上が達成でき
る。
【0084】図5は配線基板20の主面に各部品(半導
体チップ19やチップ部品25)を搭載する状態と、ワ
イヤボンディングと封止を行う状態を模式的に示した図
である。
【0085】ここで、半導体チップ19について簡単に
説明する。図6は半導体チップ(半導体素子)の模式的
平面図、図7は上記半導体素子の電極パターン等を示す
模式的平面図である。
【0086】半導体チップ19にFET(T1),抵抗
R1,抵抗R3を形成した例である。トランジスタはH
EMTであり、その断面構造は図8に示すようになって
いる。図8は半導体素子の一部の模式的断面図であり、
HEMTの断面図である。
【0087】半導体チップ19は半導体基板31を基に
形成されている。すなわち、化合物からなる半導体基板
31の主面には、エピタキシャル成長によってバッファ
層32,電子供給層33,チャネル層34,電子供給層
35,キャップ層36が順次形成されているとともに、
これらの多層半導体層はエッチング溝によってアイソレ
ート(絶縁分離)されトランジスタ(HEMT)部と抵
抗R部とからなっている。
【0088】これら各部は、たとえば以下の半導体で形
成されている。上記半導体基板31は半絶縁性GaAs
基板からなり、バッファ層32はアンドープのAlGa
As、電子供給層33はN+型のAlGaAs、チャネ
ル層34はアンドープのInGaAs、電子供給層35
はN型AlGaAs、キャップ層36はN+型GaAs
で形成されている。上記電子供給層33は設けなくとも
よい。
【0089】HEMT部では、上記キャップ層36はそ
の中央に沿ってエッチングされるとともに、HEMTの
特性を決めるためにエッチングがなされ電子供給層35
の厚さが決定される。上記リセスの両側のキャップ層3
6上にはそれぞれ電極が設けられ、その一方がソース電
極(S)40となり、他方がドレイン電極(D)41に
なる。また、リセス部分にはゲート電極(G)42が設
けられている。
【0090】抵抗R部では、上記リセスが設けられず、
上記ソース電極およびドレイン電極を形成する際同時に
抵抗用の二つの電極(SD)45が設けられる。
【0091】また、HEMT部および抵抗R部の表面は
層間絶縁膜46で覆われるとともに、この層間絶縁膜4
6は部分的にコンタクト穴が設けられる。そして、上記
層間絶縁膜46上および上記コンタクト穴部分には、所
定のパターンの配線47が形成され、各電極の引出し配
線となる。さらに、半絶縁性GaAs基板31の主面側
全域は、ワイヤボンディング用のパッドを除き絶縁性の
パッシベーション膜48で覆われている。
【0092】このように、トランジスタと抵抗がモノリ
シックに形成されていることから、トランジスタと抵抗
の温度係数は同一になる。GaAsの場合、温度係数は
正の温度係数を持ち、約0.12%/℃となる。
【0093】また、モノリシック化により、部品点数の
低減と、高周波パワーアンプモジュール1の小型化も達
成できる。高周波パワーアンプモジュール1の小型化
は、この製品を組み込んだ電子装置の小型化にも繋が
る。すなわち、高周波パワーアンプモジュール1を組み
込んだ携帯電話等の無線通信機の小型化も達成できるこ
とになる。
【0094】本実施例1では、トランジスタを2段に組
み込んで、800〜1000MHz、さらには1.4〜
1.9GHzの携帯電話用の高周波パワーモジュールと
することができる。
【0095】図9は本実施例1の高周波パワーアンプモ
ジュール1を組み込んだ移動通信機(携帯電話)のブロ
ック図、図10は同じく携帯電話の一部を示す模式図で
ある。携帯電話は、図10に示すように、信号処理部5
0,受信部51,送受信切替52,送信部53,電池5
4,アンテナ55を有している。上記送信部53には高
周波パワーアンプモジュール(増幅器)1が内蔵されて
いる。
【0096】信号処理部50は、図9に示すように、ス
ピーカー56およびマイクロホン57が接続される音声
処理62と、上記音声処理62を制御するCPU63と
を有する。
【0097】また、送信系では、送信部53の高周波パ
ワーアンプモジュール1に接続されかつ周波数シンセサ
イザー64によって制御されるミキサー65と、上記ミ
キサー65と音声処理62との間に組み込まれる変調器
66とを有する構成になっている。また、受信系では、
受信部51に接続されかつ上記周波数シンセサイザー6
4によって制御されるミキサー67と、上記音声処理6
2とミキサー67間に順次組み込まれる復調器68およ
びIF69とを有する構成になっている。
【0098】このような携帯電話では、高周波パワーア
ンプモジュール1のアイドル電流低減により、動作効率
が向上し、低消費電力化が達成できる。この結果、電池
寿命が長くなる。また単位電池当たりの通話時間も長く
なる。
【0099】本実施例1によれば以下の効果を奏する。
【0100】(1)トランジスタを多段に組み込んだ高
周波パワーアンプモジュール(高周波電力増幅装置)1
において、各トランジスタの制御端子に接続される抵抗
分圧回路(バイアス回路)の高電位側の抵抗は、抵抗値
がリニアに変化する温度補償型抵抗になっていることか
ら、温度が上昇した場合、前記温度補償型抵抗の抵抗値
が順次増大し制御電極の電位が相対的に低くなり、アイ
ドル電流の温度特性が負となる。この結果、保証温度全
域での歪が小さく抑えられ歪特性の向上が達成できる。
【0101】図12は本実施例1の携帯電話のアイドル
電流温度特性を示すグラフである。同グラフから分かる
ように、アイドル電流温度特性は、従来の場合には正の
温度係数(+0.14%/℃)を持つが、本実施例1
(本発明)によれば負の温度係数(−0.34%/℃)
を持つようになる。
【0102】(2)アイドル電流の低減により隣接チャ
ネル漏洩電力ACPが低く抑えられ、効率の増大も可能
になる。図13および図14は本実施例1(本発明)の
携帯電話の隣接チャネル漏洩電力(ACP50温度特
性,ACP100温度特性)を示すグラフである。図1
5は本実施例1の携帯電話の効率と温度との相関を示す
グラフである。
【0103】同グラフから分かるように、隣接チャネル
漏洩電力ACPはいずれの場合もその変動が小さく抑え
られるとともに、いずれも低い数値を示すようになる。
この結果、効率の増大が図れる。また、数値が低くなる
ことにより、特性テストも上限が規格上限に近接してい
る場合に行う全数試験に代え、一部の製品を抜取り試験
する生産方式に変更できることから、高周波パワーアン
プモジュール1の試験コストの低減も達成できる。
【0104】なお、図16は本実施例1の携帯電話の温
度とアイドル電流との相関を示す理論値によるグラフで
あり、図12の本発明によるグラフと略一致することが
分かる。
【0105】(3)初段(入力段)および終段(出力
段)の半導体増幅素子のバイアス回路において、抵抗分
圧回路の高電位側の抵抗を温度補償型抵抗にするだけで
あり、従来のようにドレイン電流一定化のために別の部
品を取り付ける等が不要となり、部品点数の低減および
組み立て工数の低減から高周波電力増幅装置の製造コス
トの低減が達成できる。
【0106】(4)前記温度補償型抵抗はトランジスタ
を形成する半導体基板にモノリシックに形成されている
ことから、高電位側の抵抗をチップ抵抗として組み立て
る構造に比較して高周波電力増幅装置の小型化が達成で
きる。
【0107】(5)本実施例1の高周波パワーアンプモ
ジュール1を組み込んだ携帯電話では、アイドル電流温
度特性の負の温度係数化により、歪特性の向上,効率の
増大,小型化および製造コストの低減が達成できる。特
に、効率の向上により、消費電力の削減が達成でき、こ
の結果、通話時間の延長やバッテリの小型化が図れる。
バッテリの小型化はさらなる無線通信機の多機能化や小
型化となる。
【0108】なお、抵抗分圧回路の高電位側抵抗を温度
補償型抵抗とする構造は、少なくとも初段の半導体増幅
素子のみとしてもよい。この場合、初段はA級増幅構成
になっている。また、出力段をAB級増幅で使用し、初
段を含めて他の段の半導体増幅素子はA級増幅とするこ
とも可能であり、これら各構成においても前記実施例同
様な効果が得られる。増幅回路は飽和領域および非飽和
領域で動作する。すなわち、図11に示すように、負荷
線とIV曲線との交点内に入力があれば、非飽和領域で
動作する。
【0109】(実施例2)図17は本発明の他の実施例
(実施例2)である高周波マイクロ波増幅装置に係わる
図である。図17は高周波マイクロ波増幅装置における
配線基板上の各部品の搭載状態を示す平面図、図18は
高周波マイクロ波増幅装置に組み込まれる温度補償型抵
抗を示す斜視図、図19は温度補償型抵抗を示す模式的
断面図である。
【0110】本実施例2では、抵抗分圧回路の高電位側
の温度補償型抵抗R1,R4をチップ抵抗とした例であ
る。
【0111】温度補償型チップ抵抗70は、図18に示
すように長方形の矩形体となり、両端に電極71を有し
ている。この温度補償型チップ抵抗70は、図18およ
び図19に示すように、絶縁性基板72と、前記絶縁性
基板72の少なくとも一面に形成される温度によって抵
抗値がリニアに変化する導体73と、前記導体73の一
端側に電気的に接続される電極71と、前記導体73の
他端側に電気的に接続される電極71とを有する。前記
導体73はシリコン,GaAs,ゲルマニウムのうちの
いずれかによって形成されている。すなわち、正の温度
係数を持つ材料が使用される。
【0112】本実施例2では、前記絶縁性基板72とし
て半絶縁性GaAs基板が使用され、導体73は前記半
絶縁性GaAs基板の一面に不純物を拡散して形成した
半導体領域によって形成されている。
【0113】なお、温度補償型チップ抵抗70は絶縁性
基板72に導体を印刷し、かつ焼成するなどの方法によ
っても製造できる。これらの導体は抵抗値がリニアに変
化することを特徴とするものであり、サーミスタのよう
にエキスポーネンシャルな特性を示すものとは異なる。
【0114】本実施例2によれば、前記実施例1の場合
と略同様の効果を有する。
【0115】また、本実施例2によれば、温度補償型抵
抗は単一の電子部品で構成されていることから、歪特性
の向上,効率の増大,別部品の取付け不要による小型化
および製造コストの低減が達成できる。
【0116】(実施形態2)図20は本発明の他の実施
形態(実施形態2)である高周波電力増幅装置の等価回
路図である。
【0117】本実施形態2では、前記実施例1におい
て、温度補償型抵抗の抵抗R3と容量C20とによって
ラグリードフィルタを構成するものである。この実施形
態でもトランジスタと抵抗R1,R3はモノリシックに
形成される。
【0118】本実施形態2によれば、制御電極には抵抗
と容量で構成されるラグリードフィルタが組み込まれて
いることから、発振の抑制が達成できる。また、ラグリ
ードフィルタを構成する抵抗は温度補償型抵抗となって
いることから、制御電極の電位変動に支障を来さなくな
る。また、ラグリードフィルタを構成する抵抗もトラン
ジスタが形成された半導体基板にモノリシックに形成さ
れていることから、高周波電力増幅装置の大型化を阻止
できる。
【0119】(実施形態3)図21は本発明の他の実施
形態(実施形態3)である高周波電力増幅装置の等価回
路図、図22は実施形態3を具体化した実施例3による
高周波電力増幅装置に組み込まれる半導体素子の電極パ
ターン等を示す模式的平面図である。
【0120】本実施形態3および実施例3では、制御電
極に接続する抵抗分圧回路の抵抗R1のみを半導体チッ
プ19に組み込んだ例である。この例においても前記実
施形態1および実施例1が有する効果を奏することがで
きる。
【0121】(実施形態4)図23は本発明の他の実施
形態(実施形態4)である無線通信機(携帯電話)の一
部を示すブロック図である。本実施形態4では、入力電
力コントロール(AGC:Automatic Gain Contorol )
手段を具備した無線通信機に関する。リニアアンプの場
合、動作点(バイアス点)を動かすと歪みが発生する。
そこで、動作点を固定し、入力電力コントロールによっ
て出力電力を補正し、歪みを発生させないようにするも
のである。
【0122】図23は図9のブロック図において、送信
部53の高周波電力増幅装置1の出力をカプラー70で
検出し、その検出情報を比較回路71で比較し、この比
較回路71の出力信号を入力電力コントロール(AG
C)72に送る。このAGC72では、上記比較回路7
1の出力信号に基づいて出力電力を補正し、歪みの発生
を抑止する。
【0123】(実施形態5)図24は本発明の他の実施
形態(実施形態5)である高周波電力増幅装置1におけ
る半導体増幅素子のバイアス回路の他の例を示す回路図
である。本実施形態5では、バイアス回路の抵抗分圧回
路の高電位側抵抗R1(15)と低電位側抵抗R2(1
6)との間に抵抗14を直列に接続し、抵抗15と抵抗
14の接続部分と、トランジスタ(FET1)の制御端
子Vgsとの間に抵抗17を直列に接続し、抵抗14と抵
抗16の接続部分と、トランジスタ(FET2)の制御
端子Vgsとの間に抵抗18を直列に接続した構造になっ
ている。そして、これらの抵抗のうち、抵抗15をFE
Tを形成する半絶縁性GaAs基板にモノリシックに形
成して温度補償型抵抗とし、他の抵抗は温度に依存しな
いチップ抵抗等のような外付け部品で構成するものであ
る。
【0124】本実施形態5によっても上記実施形態1と
同様な効果がえられるが、FET1,FET2を個別の
バイアスに設定するために抵抗14(R4)を入れる必
要があり、FET2の温度補償感度が低下する嫌いがあ
る。
【0125】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0126】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0127】(1)トランジスタの制御電極に接続され
る抵抗分圧回路の高電位側の抵抗は抵抗値がリニアに変
化する温度補償型抵抗で構成されていることから、温度
上昇に伴って制御電極の電位が低くなりアイドル電流が
低下し歪特性が向上する。
【0128】(2)アイドル電流の低減から効率が高く
なる。
【0129】(3)ドレイン電流を一定にするために抵
抗分圧回路の高電位側の抵抗を抵抗値がリニアに変化す
る温度補償型抵抗にするだけであることから、従来のよ
うに多くの個別部品を取り付ける必要もなく、部品点数
の低減が達成できる。
【0130】(4)部品点数の低減と、部品点数の低減
による組み立て工数の低減から、高周波電力増幅装置の
製造コストの低減が達成できる。
【0131】(5)部品点数の低減高周波電力増幅装置
の小型化が達成できる。
【0132】(6)高周波電力増幅装置におけるアイド
ル電流の低減から、この高周波電力増幅装置を組み込ん
だ無線通信機は、電力消費の低減が達成できる。したが
って、無線通信機における歪特性の向上,効率の増大,
小型化および製造コストの低減が達成できる。特に、効
率の向上により、消費電力の削減が達成でき、この結
果、通話時間の延長やバッテリの小型化が図れる。バッ
テリの小型化はさらなる無線通信機の多機能化や小型化
となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態(実施形態1)である高周
波電力増幅装置の等価回路図である。
【図2】本発明の一実施例(実施例1)である高周波マ
イクロ波増幅装置の等価回路図である。
【図3】本実施例1である高周波電力増幅装置の外観を
示す斜視図である。
【図4】本実施例1の高周波電力増幅装置における配線
基板上の各部品の搭載状態を示す平面図である。
【図5】本実施例1の高周波電力増幅装置の組立状態を
説明する模式図である。
【図6】本実施例1の高周波電力増幅装置に組み込まれ
る半導体素子の模式的平面図である。
【図7】前記半導体素子の電極パターン等を示す模式的
平面図である。
【図8】前記半導体素子の一部の模式的断面図である。
【図9】本実施例1の高周波電力増幅装置を組み込んだ
無線通信機(携帯電話)の一部を示すブロック図であ
る。
【図10】本実施例1の高周波電力増幅装置を組み込ん
だ無線通信機(携帯電話)の一部を示す模式図である。
【図11】IV(Ids−Vds)特性および負荷線ならび
に出力波形との相関を示す模式図である。
【図12】本実施例1の携帯電話のアイドル電流温度特
性を示すグラフである。
【図13】本実施例1の携帯電話の隣接チャネル漏洩電
力(ACP50温度特性)を示すグラフである。
【図14】本実施例1の携帯電話の隣接チャネル漏洩電
力(ACP100温度特性)を示すグラフである。
【図15】本実施例1の携帯電話の効率と温度との相関
を示すグラフである。
【図16】本実施例1の携帯電話の温度とアイドル電流
との相関を示す理論値によるグラフである。
【図17】本発明の他の実施例(実施例2)である高周
波マイクロ波増幅装置における配線基板上の各部品の搭
載状態を示す平面図である。
【図18】本実施例2の高周波マイクロ波増幅装置に組
み込まれる温度補償型抵抗を示す斜視図である。
【図19】本実施例2における温度補償型抵抗を示す模
式的断面図である。
【図20】本発明の他の実施形態(実施形態2)である
高周波電力増幅装置の等価回路図である。
【図21】本発明の他の実施形態(実施形態3)である
高周波電力増幅装置の等価回路図である。
【図22】実施形態3を具体化した実施例3による高周
波電力増幅装置に組み込まれる半導体素子の電極パター
ン等を示す模式的平面図である。
【図23】本発明の他の実施形態(実施形態4)である
無線通信機(携帯電話)の一部を示すブロック図であ
る。
【図24】本発明の他の実施形態(実施形態5)である
高周波電力増幅装置における半導体増幅素子のバイアス
回路の他の例を示す回路図である。
【図25】従来の高周波電力増幅装置の等価回路図であ
る。
【図26】本発明者等による実験で求めたアイドル電流
と隣接チャネル漏洩電力(ACP50)との相関を示す
グラフである。
【符号の説明】
1…高周波電力増幅装置(高周波パワーアンプ:高周波
パワーアンプモジュール)、2…入力端子(Pin)、3
…出力端子(Pout )、4…第1基準電位端子(電源端
子:Vdd)、5…制御端子(Vgg)、6…グランド端子
(GND)、7…トランジスタ(FET)、10…整合回
路、11…電源ライン、12…整合回路、14…抵抗、
15…抵抗(高電位側抵抗R1)、16…抵抗(低電位
側抵抗R2)、17,18…抵抗、18…抵抗R3、1
9…半導体チップ、20…配線基板、21…キャップ、
22…周壁、23…フックアーム、24…フック爪、2
5…チップ部品、26…配線、27…固定部、28…ワ
イヤ、31…半導体基板、32…バッファ層、33…電
子供給層、34…チャネル層、35…電子供給層、36
…キャップ層、40…ソース電極、41…ドレイン電
極、42…ゲート電極、45…電極(SD)、46…層
間絶縁膜、47…配線、48…パッシベーション膜、5
0…信号処理部、51…受信部、52…送受信切替、5
3…送信部、54…電池、55…アンテナ、56…スピ
ーカ、57…マイクロホン、62…音声処理、63…C
PU、64…周波数シンセサイザー、65…ミキサー、
66…変調機、67…ミキサー、68…復調器、69…
IF、70…カプラー、71…比較回路、72…入力電
力コントロール(AGC)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 昌志 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 赤嶺 均 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 小堀 勉 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 森山 伸治 群馬県高崎市西横手町1番地1 日立東部 セミコンダクタ株式会社内

Claims (43)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】入力端子と、出力端子と、コントロール端
    子と、上記入力端子からの信号を受ける制御端子と、上
    記入力端子からの信号に応じた信号を出力する第1端子
    とを有する第1の半導体増幅素子と、上記第1の半導体
    増幅素子の第1端子から出力された信号に応じた信号を
    受ける制御端子と、上記出力端子に接続され、上記信号
    に従った信号を出力する第1端子とを有する第2の半導
    体増幅素子と、上記コントロール端子に接続され上記第
    1の半導体増幅素子の制御端子に上記コントロール端子
    に供給される電圧に従った直流バイアス電位を印加する
    第1のバイアス回路とを有し、上記入力端子から信号が
    入力されないときの出力であるアイドル電流の温度特性
    が負の温度特性になるように、上記第1のバイアス回路
    には、その抵抗値がリニアに変化する第1の抵抗が含ま
    れていることを特徴とする高周波電力増幅装置。
  2. 【請求項2】上記第1のバイアス回路は抵抗分圧回路を
    有し、上記抵抗分圧回路に含まれる抵抗のうち高電位側
    が設けられる抵抗が上記第1の抵抗であり、該第1の抵
    抗は上記第1の半導体増幅素子が形成された半導体基板
    にモノリシックに形成され、他の抵抗は外付け部品であ
    ることを特徴とする請求項1に記載の高周波電力増幅装
    置。
  3. 【請求項3】上記コントロール端子に接続され、上記第
    2の半導体増幅素子の制御端子に上記コントロール端子
    に供給される電圧に従った直流バイアス電位を印加する
    第2のバイアス回路を有し、上記入力端子から信号が入
    力されないときの出力であるアイドル電流の温度特性が
    負の温度特性になるように、上記第2のバイアス回路に
    はその抵抗値がリニアに変化する第2の抵抗が含まれて
    いることを特徴とする請求項2に記載の高周波電力増幅
    装置。
  4. 【請求項4】上記第1の半導体増幅素子の制御端子にバ
    イアス電位を印加する第1のバイアス回路と、上記第2
    の半導体増幅素子の制御端子にバイアス電位を印加する
    第2のバイアス回路は相互に独立した回路であることを
    特徴とする請求項3に記載の高周波電力増幅装置。
  5. 【請求項5】上記入力端子には、それに供給される信号
    の振幅を制御する振幅制御回路の出力が接続されている
    ことを特徴とする請求項4に記載の高周波電力増幅装
    置。
  6. 【請求項6】上記入力端子には、それに供給される信号
    の振幅を制御する振幅制御回路の出力が接続されている
    ことを特徴とする請求項3に記載の高周波電力増幅装
    置。
  7. 【請求項7】上記第1のバイアス回路は、抵抗分圧回路
    を有し、該抵抗分圧回路に含まれる抵抗のうち高電位側
    に設けられる抵抗が上記第1の抵抗であり、該第1の抵
    抗は正の温度特性を示し、他の抵抗は実質的に温度に依
    存しない抵抗であることを特徴とする請求項1に記載の
    高周波電力増幅装置。
  8. 【請求項8】上記抵抗分圧回路の高電位側を構成する抵
    抗は半導体増幅素子が形成される半導体基板にモノリシ
    ックに形成され、他の抵抗は外付け部品であることを特
    徴とする請求項7に記載の高周波電力増幅装置。
  9. 【請求項9】上記第1の半導体増幅素子の制御電極には
    抵抗と容量で構成されるラグリードフィルタが設けら
    れ、上記ラグリードフィルタを構成する抵抗が上記第1
    の抵抗であることを特徴とする請求項1に記載の高周波
    電力増幅装置。
  10. 【請求項10】上記第1の半導体増幅素子と上記第2の
    半導体増幅素子との間に従属接続される1乃至複数の第
    3の半導体増幅素子を有し、上記第3の半導体増幅素子
    は前段の半導体増幅素子の第1端子に接続された制御端
    子と、後段の半導体増幅素子の制御端子に接続された第
    1端子とを有することを特徴とする請求項8に記載の高
    周波電力増幅装置。
  11. 【請求項11】上記第1の半導体増幅素子はA級増幅で
    動作することを特徴とする請求項1に記載の高周波電力
    増幅装置。
  12. 【請求項12】上記第2の半導体増幅素子はAB級増幅
    で動作し、他の半導体増幅素子はA級増幅で動作するこ
    とを特徴とする請求項10に記載の高周波電力増幅装
    置。
  13. 【請求項13】上記半導体増幅素子はシリコン半導体に
    よる電界効果トランジスタからなっていることを特徴と
    する請求項1に記載の高周波電力増幅装置。
  14. 【請求項14】上記半導体増幅素子は化合物半導体によ
    るMESFETからなっていることを特徴とする請求項
    1に記載の高周波電力増幅装置。
  15. 【請求項15】上記半導体増幅素子は化合物半導体によ
    る高電子移動度トランジスタからなっていることを特徴
    とする請求項1に記載の高周波電力増幅装置。
  16. 【請求項16】上記半導体増幅素子は化合物半導体によ
    るヘテロ接合バイポーラトランジスタからなっているこ
    とを特徴とする請求項1に記載の高周波電力増幅装置。
  17. 【請求項17】送信側出力段に高周波電力増幅モジュー
    ルを有する無線通信装置であって、上記高周波電力増幅
    モジュールは、入力端子と、出力端子と、コントロール
    端子と、上記入力端子からの信号を受ける制御端子と、
    上記入力端子からの信号に応じた信号を出力する第1端
    子とを有する第1の半導体増幅素子と、上記第1の半導
    体増幅素子の第1端子から出力された信号に応じた信号
    を受ける制御端子と、上記出力端子に接続され、上記信
    号に従った信号を出力する第1端子とを有する第2の半
    導体増幅素子と、上記コントロール端子に接続され、上
    記第1の半導体増幅素子の制御端子に上記コントロール
    端子に供給される電圧に従った直流バイアス電位を印加
    する第1のバイアス回路とを有し、上記入力端子から信
    号が入力されないときの出力であるアイドル電流の温度
    特性が負の温度特性になるように、上記第1のバイアス
    回路には、その抵抗値がリニアに変化する第1の抵抗を
    含んでいることを特徴とする高周波電力増幅装置とする
    無線通信機。
  18. 【請求項18】上記第1のバイアス回路は、抵抗分圧回
    路を有し、上記抵抗分圧回路に含まれる抵抗のうち高電
    位側に設けられる抵抗が上記第1の抵抗であり、該第1
    の抵抗は上記第1の半導体増幅素子が形成された半導体
    基板にモノリシックに形成され、他の抵抗は外付け部品
    であることを特徴とする請求項17に記載の無線通信
    機。
  19. 【請求項19】上記コントロール端子に接続され、上記
    第2の半導体増幅素子の制御端子に上記コントロール端
    子に供給される電圧に従った直流バイアス電位を印加す
    る第2のバイアス回路を有し、上記入力端子から信号が
    入力されないときの出力であるアイドル電流の温度特性
    が負の温度特性になるように、上記第2のバイアス回路
    には、その抵抗値がリニアに変化する第2の抵抗が含ま
    れていることを特徴とする請求項18に記載の無線通信
    機。
  20. 【請求項20】上記第1の半導体増幅素子の制御端子に
    バイアス電位を印加する第1のバイアス回路と、上記第
    2の半導体増幅素子の制御端子にバイアス電位を印加す
    る第2のバイアス回路は相互に独立した回路であること
    を特徴とする請求項19に記載の無線通信機。
  21. 【請求項21】上記入力端子に接続された振幅制御回路
    を有することを特徴とする請求項20に記載の無線通信
    機。
  22. 【請求項22】上記入力端子に接続された振幅制御回路
    を有することを特徴とする請求項19に記載の無線通信
    機。
  23. 【請求項23】上記第1のバイアス回路は、抵抗分圧回
    路を有し、該抵抗分圧回路に含まれる抵抗のうち高電位
    側に設けられる抵抗が上記第1の抵抗であり、該第1の
    抵抗は正の温度特性を示し、他の抵抗は実質的に温度に
    依存しない抵抗であることを特徴とする請求項17に記
    載の無線通信機。
  24. 【請求項24】上記抵抗分圧回路の高電位側を構成する
    抵抗は半導体増幅素子が形成される半導体基板にモノリ
    シックに形成され、他の抵抗は外付け部品であることを
    特徴とする請求項23に記載の無線通信機。
  25. 【請求項25】上記第1の半導体増幅素子の制御電極に
    は抵抗と容量で構成されるラグリードフィルタが設けら
    れ、上記ラグリードフィルタを構成する抵抗が上記第1
    の抵抗であることを特徴とする請求項17に記載の無線
    通信機。
  26. 【請求項26】上記第1の半導体増幅素子と上記第2の
    半導体増幅素子との間に従属接続される1乃至複数の第
    3の半導体増幅素子を有し、上記第3の半導体増幅素子
    は前段の半導体増幅素子の第1端子に接続された制御端
    子と、後段の半導体増幅素子の制御端子に接続された第
    1端子とを有することを特徴とする請求項24に記載の
    無線通信機。
  27. 【請求項27】上記第1の半導体増幅素子はA級増幅で
    動作することを特徴とする請求項17に記載の無線通信
    機。
  28. 【請求項28】上記第2の半導体増幅素子はAB級増幅
    で動作し、他の半導体増幅素子はA級増幅で動作するこ
    とを特徴とする請求項26に記載の無線通信機。
  29. 【請求項29】上記半導体増幅素子はシリコン半導体に
    よる電界効果トランジスタからなっていることを特徴と
    する請求項17に記載の無線通信機。
  30. 【請求項30】上記半導体増幅素子は化合物半導体によ
    るMESFETからなっていることを特徴とする請求項
    17に記載の無線通信機。
  31. 【請求項31】上記半導体増幅素子は化合物半導体によ
    る高電子移動度トランジスタからなっていることを特徴
    とする請求項17に記載の無線通信機。
  32. 【請求項32】上記半導体増幅素子は化合物半導体によ
    るヘテロ接合バイポーラトランジスタからなっているこ
    とを特徴とする請求項17に記載の無線通信機。
  33. 【請求項33】 絶縁性基板と、上記絶縁性基板の少な
    くとも一面に形成される温度によって抵抗値がリニアに
    変化する導体と、上記導体の一端側に電気的に接続され
    る電極と、上記導体の他端側に電気的に接続される電極
    とを有することを特徴とする抵抗。
  34. 【請求項34】 上記導体はシリコン,GaAs,ゲル
    マニウムのうちのいずれかによって形成されていること
    を特徴とする請求項33に記載の抵抗。
  35. 【請求項35】 半絶縁性GaAs基板の少なくとも一
    面に不純物を拡散して上記導体が形成されていることを
    特徴とする請求項33に記載の抵抗。
  36. 【請求項36】高周波電力増幅装置は、入力端子、出力
    端子、バイアス電圧を受けるバイアス端子、上記入力端
    子に接続された制御電極と、上記入力端子に供給される
    信号に従った信号を出力する第1の電極とを有する第1
    の半導体増幅素子、上記第1の半導体増幅素子の第1の
    電極から出力される信号に従った信号を受ける制御電極
    と、該制御電極に供給された信号に応じた信号を上記出
    力端子へ供給する第1の電極とを有する第2の半導体増
    幅素子、及び、上記バイアス端子に接続され、上記第1
    の半導体増幅素子の制御電極にバイアス電圧を供給する
    第1の抵抗分圧回路とを有し、上記第1の抵抗分圧回路
    に含まれる電圧分圧用の第1の抵抗は、上記第1の半導
    体増幅素子と同じ半導体チップに形成され、電圧分圧用
    の第2の抵抗は、上記半導体チップとは分離されてい
    る。
  37. 【請求項37】上記第2の抵抗は、上記バイアス端子と
    上記制御電極との間に設けられ、上記第1の抵抗は、上
    記制御電極と所定の電位点との間に設けられていること
    を特徴とする請求項36に記載の高周波電力増幅装置。
  38. 【請求項38】上記バイアス端子に接続され、上記第2
    の半導体増幅素子の制御電極にバイアス電圧を供給する
    第2の抵抗分圧回路とを有し、上記第2の抵抗分圧回路
    に含まれる電圧分圧用の第3の抵抗は、上記第2の半導
    体増幅素子と同じ半導体チップに形成され、電圧分圧用
    の第4の抵抗は、上記半導体チップとは分離されている
    ことを特徴とする請求項37に記載の高周波電力増幅装
    置。
  39. 【請求項39】上記第1の半導体増幅素子は、A級増幅
    動作を行うことを特徴とする請求項38に記載の高周波
    電力増幅装置。
  40. 【請求項40】高周波電力増幅装置を有する無線通信機
    であって、該高周波電力増幅装置は、入力端子、出力端
    子、バイアス電圧を受けるバイアス端子、上記入力端子
    に接続された制御電極と、上記入力端子に供給される信
    号に従った信号を出力する第1の電極とを有する第1の
    半導体増幅素子、上記第1の半導体増幅素子の第1の電
    極から出力される信号に従った信号を受ける制御電極
    と、該制御電極に供給された信号に応じた信号を上記出
    力端子へ供給する第1の電極とを有する第2の半導体増
    幅素子、及び、上記バイアス端子に接続され、上記第1
    の半導体増幅素子の制御電極にバイアス電圧を供給する
    第1の抵抗分圧回路とを有し、上記第1の抵抗分圧回路
    に含まれる電圧分圧用の第1の抵抗は、上記第1の半導
    体増幅素子と同じ半導体チップに形成され、電圧分圧用
    の第2の抵抗は、上記半導体チップとは分離されてい
    る。
  41. 【請求項41】上記第2の抵抗は、上記バイアス端子と
    上記制御電極との間に設けられ、上記第1の抵抗は、上
    記制御電極と所定の電位点との間に設けられていること
    を特徴とする請求項40に記載の無線通信機。
  42. 【請求項42】上記バイアス端子に接続され、上記第2
    の半導体増幅素子の制御電極にバイアス電圧を供給する
    第2の抵抗分圧回路とを有し、上記第2の抵抗分圧回路
    に含まれる電圧分圧用の第3の抵抗は、上記第2の半導
    体増幅素子と同じ半導体チップに形成され、電圧分圧用
    の第4の抵抗は、上記半導体チップとは分離されている
    ことを特徴とする請求項41に記載の無線通信機。
  43. 【請求項43】上記第1の半導体増幅素子は、A級増幅
    動作を行うことを特徴とする請求項42に記載の無線通
    信機。
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