JP2000211082A - 易滑性複合ポリエステルフイルム - Google Patents
易滑性複合ポリエステルフイルムInfo
- Publication number
- JP2000211082A JP2000211082A JP11012982A JP1298299A JP2000211082A JP 2000211082 A JP2000211082 A JP 2000211082A JP 11012982 A JP11012982 A JP 11012982A JP 1298299 A JP1298299 A JP 1298299A JP 2000211082 A JP2000211082 A JP 2000211082A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- polyester film
- continuous
- coating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
ッキング性、耐削れ性に優れ、種々の用途、中でも高密
度磁気記録媒体のベースフイルムとして有用な複合ポリ
エステルフイルムを提供する。 【解決手段】 ポリエステルフイルムの少なくとも片面
に、微細網目凹凸構造を有する連続皮膜層を設けた複合
ポリエステルフイルムであって、該皮膜層は平均粒径1
0〜200nmの不活性微粒子を有し、該皮膜層の外表
面のAFMによるRa(2乗平均粗さ)が3〜20nm
であり、かつ該皮膜層の凹部に存在する該微粒子による
突起の高さが、該皮膜層の凸部高さの0.3〜3倍であ
ることを特徴とする易滑性複合ポリエステルフイルム。
Description
テルフイルムに関し、さらに詳しくは平坦性、製膜・加
工時の易滑性、耐ブロッキング性、耐削れ性に優れ、磁
気記録媒体、各種写真材料、包装材料、電気絶縁材料、
一般工業材料などに用いられる基材フイルム、特に強磁
性金属薄膜型磁気記録媒体の基材フイルムとして好適な
易滑性複合ポリエステルフイルムに関する。
代表される二軸延伸ポリエステルフイルムは、優れた機
械的性質、耐熱性あるいは耐薬品性等を有するため、オ
ーディオテープ、ビデオテープ、コンピューターテー
プ、フロッピーディスク、ビデオフロッピー、写真フイ
ルム、包装用フイルム、コンデンサー用メタライジング
フイルム、電気絶縁フイルム、あるいはOHPフイルム
等の素材として、その需要の伸びは最近特に著しい。
の如き用途への適用を円滑に行うためには、フイルムの
滑り性を改善することが必至である。
合、フイルムの滑り性が不足し、巻取り、巻き返し、塗
布、スリット等の作業に重大な支障を及ぼし、例えば捲
き皺の発生、発生した静電気による塵埃吸着などのトラ
ブルを起こす。例えば、ポリエチレンテレフタレートの
未延伸あるいは一軸延伸のフイルムを加圧成形あるいは
真空成形に付して製造した種々の成形物を重ね合せる
と、表面滑性が不足している場合には成形物を相互に円
滑に抜き取ることができず、従って加工工程における流
れ作業性が著しく低下する。
善する手段として、例えば酸化ケイ素、カオリン、タル
ク、炭酸カルシウムあるいはアルミナ等の種々のフィラ
ーの微小粒子を添加したポリエステルを用いて製膜し、
次いで二軸延伸工程でフイルム厚みが減る際にフィラー
がフイルム面に微小突起として突出する現象を利用する
ことが実用化されている。同様に微小突起を利用する滑
り性の改善技術としては、ポリエステルの重合時に用い
る触媒を重合体に不溶性の粒子に変換させる方法も知ら
れている。
する点では成功をおさめているが、フイルム組成内に微
小粒子が存在するため、当然のことながらフイルムの透
明度を低下させたり、微小粒子の凝集物や微小粒子中に
微量の割合で混在する大粒径粒子によってフイルム表面
に粗大突起、即ちF/Sができ、ビデオテープのD/O
を多発させたり、あるいはフイルム組成内にボイドを生
成するなどの改善されるべき問題を残している。特にジ
アゾフイルム、メタライジングフイルム、写真フイル
ム、あるいは高密度化によるベースフイルムの表面平坦
化を要求している磁気テープやフロッピーディスク等の
素材としてのポリエステルフイルムの透明度の低下ある
いはボイド、粗大突起の生成は重大な障害となる。
フイルムの少なくとも片面に微小粒子を含有する塗膜を
設け、この膜上に微小突起を形成せしめる方法が知られ
ている。この方法は、易滑性は確保できてもポリエステ
ルフイルムの密着性が充分とはいえず、耐削れ性に劣る
という問題をかかえている。
磁性層が強磁性金属薄膜からなる磁気記録媒体のベース
フイルムとしては、高出力を出すための超平坦性とフイ
ルム巻取りのための易滑性という相反する特性が必要で
あるが、易滑性に関してはテープのバックコート層を設
ける面側に易滑性を付与する皮膜を設ける方法が知られ
ている。しかし、従来の皮膜は易滑性を確保することは
できても、蒸着で金属薄膜を設ける時に金属粒子の熱で
フイルムが溶けてしまう、いわゆる熱負け現象の問題が
あった。
る問題を解消し、平坦性、製膜・加工時の易滑性、耐ブ
ロッキング性、耐削れ性に優れ、磁気記録媒体、各種写
真材料、包装材料、電気絶縁材料、一般工業材料などに
用いられる基材フイルム、特に強磁性金属薄膜型磁気記
録媒体の基材フイルムとして好適な易滑性の複合ポリエ
ステルフイルムを提供することにある。
によれば、ポリエステルフイルムの少なくとも片面に、
微細網目凹凸構造を有する連続皮膜層を設けた複合ポリ
エステルフイルムであって、該皮膜層は平均粒径10〜
200nmの不活性微粒子を有し、該皮膜層の外表面の
AFM(原子間力顕微鏡)によるRa(2乗平均粗さ)
が3〜20nmであり、かつ該皮膜層の凹部に存在する
該微粒子による突起の高さが、該皮膜層の凸部高さの
0.3〜3倍であることを特徴とする易滑性複合ポリエ
ステルフイルムによって達成される。
リエステルフイルムを構成するポリエステルとしては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレ
ート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―1,
4―シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリ
エチレン―2,6―ナフタレンジカルボキシレート等を
好ましく例示することができる。これらのうち、ポリエ
チレンテレフタレート及びポリエチレン―2,6―ナフ
タレンジカルボキシレートが特に好ましい。
ってもコポリエステルであってもよい。コポリエステル
の場合、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン
―2,6―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分
としては、例えばジエチレングリコール、プロピレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ポリオキシエチレ
ングリコール、p―キシレングリコール、1,4―シク
ロヘキサンジメタノール等のジオール成分、アジピン
酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸(但しポリエチレン―2,6―ナフタレンジカルボキ
シレートの場合)、2,6―ナフタレンジカルボン酸
(但しポリエチレンテレフタレートの場合)、5―ナト
リウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、
p―オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分
等があげられる。尚、共重合成分の量は、全酸成分に対
し、20モル%以下、更には10モル%以下とするのが
好ましい。
の3官能以上の多官能化合物を共重合させることもでき
る。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば
2モル%以下共重合させることが好ましい。
みは1〜20μm、さらには2〜10μmであることが
好ましい。
不活性粒子を含有していなくても含有していてもよい。
含有せしめる場合には有機系粒子でも無機粒子でもよ
い。
してはポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼ
ン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、
ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等のポリ
マーからなる粒子、及びこれら重合体を成分とするグラ
フト共重合体からなるコアシェル構造粒子が好ましく挙
げられ、また無機系粒子としては、シリカ、アルミナ、
二酸化チタン、長石、カオリン、タルク、グラファイ
ト、炭酸カルシウム、二硫化モリブデン、カーボンブラ
ック、硫酸バリウム等の無機化合物からなる粒子が好ま
しく挙げられる。
例えばエステル交換法による場合のエステル交換反応中
もしくは重縮合反応中の任意の時期、または直接重合法
による場合の任意時期に、好ましくはグリコール中のス
ラリーとして反応系中に添加する。不活性粒子の平均粒
径は0.005〜2μm、更には0.01〜1.8μm
であることが好ましく、また添加量は0.001〜2重
量%、更には0.01〜1.5重量%であることが好ま
しい。
FMによるRa(2乗平均粗さ)が0.1〜5nm、さ
らには0.3〜4nmであることが好ましい。また、こ
のポリエステルフイルムは単層構成のフイルムであって
も、それぞれの層が異なる組成のポリエステルフイルム
からなる2層以上の多層構成のフイルムであっても構わ
ない。
連続皮膜層は、バインダー樹脂、不活性微粒子及び界面
活性剤を含む層からなることが好ましい。
ダー樹脂としては、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロ
ース樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共
重合体等を例示することができる。ポリエステルフイル
ムに対する密着性、突起保持性、易滑性などの点から
は、水溶性若しくは水分散性のポリエステル樹脂、アク
リル樹脂及びアクリル―ポリエステル樹脂が好ましい。
これら樹脂は単一重合体でも共重合体でもよく、また混
合物でも差支えない。
ル樹脂を構成する酸成分としては、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4―シクロヘキサン
ジカルボン酸、2,6―ナフタレンジカルボン酸、4,
4′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン
酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、5―ナトリウム
スルホイソフタル酸、2―カリウムスルホテレフタル
酸、トリメリット酸、トリメシン酸、無水トリメリット
酸、無水フタル酸、p―ヒドロキシ安息香酸、トリメリ
ット酸モノカリウム塩等の多価カルボン酸を例示するこ
とができる。
えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,
3―プロパンジオール、1,4―ブタンジオール、1,
6―ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,
4―シクロヘキサンジメタノール、p―キシリレングリ
コール、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリ
エチレンオキシドグリコール、ポリテトラメチレンオキ
シドグリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、ジメチロールエチルスル
ホン酸ナトリウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等
の多価ヒドロキシ化合物を例示することができる。これ
らの化合物から常法によってポリエステル樹脂をつくる
ことができる。水性塗料をつくる点からは、5―ナトリ
ウムスルホイソフタル酸成分又はカルボン酸塩基を含有
する水性ポリエステル樹脂を用いるのが好ましい。かか
るポリエステル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋
型とすることができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂
のような硬化剤を用いて架橋することもできる。
脂の製造に用いるアクリル成分としては、例えばアクリ
ル酸エステル(アルコール残基としては、メチル基、エ
チル基、n―プロピル基、イソプロピル基、n―ブチル
基、イソブチル基、t―ブチル基、2―エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等を例示できる);メタクリル酸エステル
(アルコール残基は上記と同じ);2―ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2―ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2―ヒドロキシプロピルアクリレート、2―ヒドロ
キシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モ
ノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド、N―メチ
ルメタクリルアミド、N―メチルアクリルアミド、N―
メチロールアクリルアミド、N―メチロールメタクリル
アミド、N,N―ジメチロールアクリルアミド、N―メ
トキシメチルアクリルアミド、N―メトキシメチルメタ
クリルアミド、N―フェニルアクリルアミド等の如きア
ミド基含有モノマー;N,N―ジエチルアミノエチルア
クリレート、N,N―ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート等の如きアミノ基含有モノマー等を挙げることがで
きる。これらモノマーは、スチレンスルホン酸、ビニル
スルホン酸及びそれらの塩(例えばナトリウム塩、カリ
ウム塩、アンモニウム塩等)等の如きスルホン酸基又は
その塩を含有するモノマー;クロトン酸、イタコン酸、
アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、及びそれらの塩
(例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩
等)等の如きカルボキシル基又はその塩を含有するモノ
マー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の無水物を含
有するモノマー;その他ビニルイソシアネート、アリル
イソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、
アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸
モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデ
ン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アリルグリシジルエーテ
ル等の単量体と組合せて用いることができる。この場
合、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き(メ
タ)アクリルモノマーの成分が50モル%以上含まれて
いるのが好ましく、特にメタクリル酸メチルの成分を含
有しているのが好ましい。
分子内の官能基で自己架橋することができるし、メラミ
ン樹脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋するこ
ともできる。
クリル―ポリエステル樹脂は、アクリル変性ポリエステ
ル樹脂とポリエステル変性アクリル樹脂とを包含する意
味で用いており、アクリル樹脂成分とポリエステル樹脂
成分とが互いに結合したものであって、例えばグラフト
タイプ、ブロックタイプ等を包含する。アクリル―ポリ
エステル樹脂は、例えばポリエステル樹脂の両端にラジ
カル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせた
り、ポリエステル樹脂の側鎖にラジカル開始剤を付加し
てアクリル単量体の重合を行わせたり、あるいはアクリ
ル樹脂の側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基
やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛
形ポリマーとする等によって製造することができる。
る成分としては、前記アクリル樹脂、ポリエステル樹脂
を構成する成分として例示した化合物を挙げることがで
きる。
の、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びアクリル―ポ
リエステル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種
の樹脂の連続皮膜中の含有量は20〜80重量%が好ま
しい。20重量%未満であると、フイルムとの密着性が
低下し、一方80重量%を超えると、他成分(不活性微
粒子、界面活性剤等)が不足し、総合的な特性を満足で
きない。
膜層とは、図1に示すように、表面形状が網状になって
おり、且つ網の目の部分にも不活性微粒子を有する連続
皮膜のことである。
る手段としては、バインダー樹脂の一部として、ポリビ
ニルアルコール、ゼラチン、セルロース、スルホン酸塩
基含有スチレン共重合体等の延展性(延伸性)の貧しい
樹脂を用いる方法が好ましく適用できる。これら貧延展
性樹脂の連続皮膜中の含有量は好ましくは5〜50重量
%、さらに好ましくは10〜40重量%である。この量
が5重量%未満であると、連続皮膜が充分な微細網目構
造にならないため易滑性が不足し、一方50重量%を超
えると、連続皮膜自体の耐削れ性の低下を引き起こす、
ので好ましくない。
の材質としては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニ
ルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタク
リレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋
体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフル
オライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹
脂等の如き有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、
カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長
石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウ
ム等の如き無機質のいずれを用いてもよい。また内外部
が性質の異なる物質で構成される多層構造のコアシェル
型粒子を用いてもよい。
〜200nm、さらに好ましくは20〜100nmであ
り、該微粒子の連続皮膜層中の含有量は好ましくは5〜
40重量%、さらに好ましくは5〜20重量%である。
さらに微粒子の粒度は分布が狭いものが好ましく、更に
はほぼ均一であるものが好ましい。この平均粒径が10
nm未満、あるいは含有量が5重量%未満の場合には、
フイルムの滑り性が不足し巻取り性、製膜工程での搬送
性が不足したり、ブロッキングを起こし易くなる。一
方、この平均粒径が200nmを超える、あるいは含有
量が40重量%を超える場合には、皮膜が削れ易くなる
問題が生じる。
面活性剤は、特に限定はされないが、ノニオン型界面活
性剤、アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤な
どが例示できる。この界面活性剤の含有量は5〜40重
量%の範囲が好ましい。
ながら、その外表面のAFM(原子間力顕微鏡)による
Ra(2乗平均粗さ)が3〜20nm、好ましくは4〜
15nmである。このRaが3nm未満の場合には易滑
性が不充分でフイルム巻取り性、製膜工程での搬送性が
不足したり、ブロッキングを起こしやすくなる。一方、
Raが20nmを超える場合には、皮膜層が削れ易くな
る。
に存在する不活性微粒子による突起高さが、該連続皮膜
層の凸部高さの0.3〜3倍、好ましくは0.5〜2倍
である必要がある。この高さが0.3度未満であるとブ
ロッキングを起こしやすくなり、一方、3倍を超えると
削れ易くなる。
率は0.2〜5、さらには0.3〜3、特に0.5〜2
であることが望ましい。この比率が0.2未満である
と、摩擦係数が高くなり、易滑性が不充分となる。一方
5を超えると、ブロッキングを起こし易くなる。
粒子による突起の頻度は1×104〜1×108 個/m
m2 であることが好ましい。この頻度が1×104 個/
mm2 未満であると、易滑性が不充分であり、一方1×
108 個/mm2 を超えると、削れ易くなる。
ー樹脂、不活性微粒子及び界面活性剤以外にも、本発明
に影響を与えない範囲で、他の成分を添加しても差支え
ない。例えば、耐ブロッキング性を更に向上させるため
に、シリコーンワックス、シロキサン共重合体を添加す
る方法が好ましく用いられる。
00nmが好ましく、更に好ましくは3〜30nmであ
る。
来から知られている方法に準じて製造することができ
る。
合、ポリエステルを口金より融点Tm℃〜(Tm+7
0)℃の温度でフイルム状に押出した後、40〜90℃
で急冷固化し未延伸フイルムを得る。しかる後に、該未
延伸フイルムを常法に従って一軸方向(縦方向又は横方
向)に(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(但
し、Tg:ポリエステルのガラス転移温度)において
2.5〜8.0倍の倍率、好ましくは3.0〜7.5倍
の倍率、で延伸し、次いで皮膜を形成する塗液をフイル
ムの少なくとも片面に塗布し、その後に前記方向とは直
角方向にTg〜(Tg+70)℃の温度において2.5
〜8.0倍の倍率、好ましくは3.0〜7.5倍の倍
率、で延伸する。更に必要に応じて縦方向及び/又は横
方向に再度延伸してもよい。
の延伸を行うとよい。全延伸倍率は、面積延伸倍率とし
て通常9倍以上、好ましくは12〜35倍、更に好まし
くは15〜32倍である。更に引き続いて、二軸配向フ
イルムを(Tg+70)〜(Tm−10)℃の温度、例
えば180〜250℃で熱固定結晶化することによって
優れた寸法安定性が付与される。なお、熱固定時間は1
〜60秒間が好ましい。
々の分野に用いられるが、中でも高密度磁気記録媒体、
特に強磁性金属薄膜型磁気記録媒体のベースフイルムと
して有用である。
続皮膜層を形成する面の反対の表面に、真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンプレーティング等の方法により、
鉄、コバルト、クロム又はこれらを主成分とする合金も
しくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、また
その表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドラ
イクカーボン(DLC)等の保護層、含フッ素カルボン
酸系潤滑層を順次設け、更に連続皮膜層の表面に公知の
バックコート層を設けることにより、特に短波長領域の
出力、S/N,C/N等の電磁変換特性に優れ、ドロッ
プアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁
気記録媒体とすることが出来る。この蒸着型電磁記録媒
体は、アナログ信号記録用Hi8、ディジタル信号記録
用ディジタルビデオカセットレコーダー(DVC)、デ
ータ8ミリ、DDSIV用テープ媒体として用いることが
でき、極めて有用である。
明する。尚、本発明において用いた測定法は次の通りで
ある。
メンツ・インコーポレイテッド(Nicomp Ins
truments Inc.)社製のNICOMP M
ODEL 270 SUBMICRON PARTIC
LE SIZER により求められる全粒子の50重量
%の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。
面粗さ Digital Instruments社製の原子間
力顕微鏡Nano ScopeIII AFMのJスキャナ
ーを使用し、以下の条件で測定されるRa(22乗平均
粗さ)を下記の条件で測定し、n=10の平均値を用い
る。 探針;単結合シリコンセンサー 走査モード:タッピングモード 走査範囲:10μm×10μm 画素数:256×256データポイント スキャン速度:2.0Hz 測定環境:室温、大気中
画像解析法により凸部/凹部の比率を算出する。n=1
0の平均値を用いる。
微粒子による突起の高さ (2)で測定した10μm×10μmのAFM像より、
一枚の像につきランダムに10個の突起の高さを測定
し、10枚のAFM像の合計100個の平均値を突起の
高さ(nm)とする。
一枚の像につきランダムに10ケ所の連続皮膜凸部の高
さを測定し、10枚のAFM像の合計100ケ所の連続
凸部の高さを測定し、10枚のAFM像の合計100ケ
所の平均値を凸部高さ(nm)とする。
による突起の頻度 (2)で測定した10μm×10μmのAFM像にて凹
部に存在する突起の数をカウントし、凹部面積で除して
頻度を算出し、10枚のAFM層の平均値を突起の頻度
(個/mm2 )とする。
を置き、重ね合わせたフイルムの下側(ガラス板と接し
ているフイルム)のフイルムを低速ロールにて引取り
(約10cm/分)、上側のフイルムの一端(下側フイ
ルムの引取り方向と逆端)に検出器を固定してフイルム
/フイルム間のスタート時の引張力を検出する。尚、そ
のときに用いるスレッドは重さ1kg、下側面積100
cm2 のものを使用する。
る。 μs=スタート時の引張力(kg)/荷重1kg 尚、評価は下記の基準で行う。 ○;0.7未満 △;0.7以上 0.80未満 ×;0.80以上
に150kg/cm2の圧力を60℃において80%R
Hの雰囲気下65時間かけた後剥離し、その剥離力で評
価する(5cm当たりのg数)。なお、評価は剥離力か
ら下記の基準で行う。 ○:0〜10g/cm未満 △:10g/cm以下〜15g/cm未満 ×:15g/cm以上〜破れ
プリングし、レザー刃を皮膜層の面に対し90°の角
度、深さ0.5mmの条件で当てがい、荷重500g/
0.5インチ、速度6.7cm/secで走行させたと
きに、レザーに付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微鏡
写真撮影(×160倍)して求める。
する。削れ粉の深さ方向の幅が小さいほど、削れ性に優
れている。 ○:3nm未満 △:3nm〜5nm未満 ×:5nm以上
複合ポリエステルフイルムの熱負けの有無の確認を行
う。
方蒸着用として構成され、内部が真空状態(例えば約1
0−3Pa)とされた真空室1内に、図中の反時計廻り
方向(矢印Z方向)に回転し、−20℃に冷却されてい
る冷却キャン2に対向して金属磁性薄膜用の蒸着源3が
配置される。
2中の反時計廻り方向に回転する供給ロール4から矢印
D方向に繰り出して、冷却キャン2の周面に沿って移行
させつつ、蒸着源3から電子ビーム5で加熱、蒸発した
蒸着材料6を付着させ、金属磁性薄膜を蒸着し、しかる
後に巻取りロール7に巻き取られるようになされてい
る。なお、供給ロール4と冷却キャン2との間、及び冷
却キャン2と巻取りロール7との間にそれぞれ、ガイド
ローラー8、9が配設され、供給ロール4から冷却キャ
ン2、及びこの冷却キャン2から巻取りロール7に亘っ
て走行する複合ポリエステルフイルムに所定のテンショ
ンをかけ、複合ポリエステルフイルムが円滑に走行する
ようになされている。
Co−Ni合金が収容されたものであり、この蒸着源
(金属磁性材料)に対し、電子ビーム発生源11から電
子ビーム5を加速照射して金属磁性材料6を加熱、蒸発
させ、これを冷却キャン2の周面に沿って走行する複合
ポリエステルフイルム上に付着(蒸着)させて金属磁性
薄膜を形成し、磁気記録媒体を作製する。この時、蒸着
源3と冷却キャン2との間には防着板12を設け、シャ
ッタ13を位置調整可能に設けて、複合ポリエステルフ
イルムに対して所定の角度で入射する蒸着粒子のみを通
過させる。こうして斜め蒸着法によって金属磁性薄膜が
形成されるようになっている。
表面を冷却キャンに接する向きとし、連続皮膜を形成す
る反対のフイルム面に膜厚180nmの金属磁性薄膜を
形成する際、下記基準で熱負けの評価を実施する。(ポ
リエステルフイルムの幅は500mm) ○:熱負け △:直径5mm以上の熱負けが3個/10m長以上発生 ×:直径5mm以上の熱負けが10個/10m長以上発
生
ン酸ジメチルとエチレングリコールとを、エステル交換
触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アン
チモンを、安定剤として亜燐酸を、添加して常法により
重合し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレン
―2,6―ナフタレート(PEN)を得た。
を170℃で6時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度
280〜300℃にて溶融して、ダイよりシート状に押
出し、急冷して厚さ82μmの未延伸フイルムを得た。
速・高速のロール間でフイルム温度95℃にて縦方向に
3.2倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの一
方の面に表1の連続皮膜層の組成の水溶性塗液を、他の
面に他面皮膜層の水溶性塗液を各々0.020μm、
0.009μm(延伸乾燥後)の厚みになるよう塗布
し、続いてステンターに供給し、150℃にて横方向に
5.6倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを20
0℃の熱風で4秒間熱固定し、厚み4.9μmの易滑性
複合ポリエステルフイルムを得た。このフイルムの特性
を表1に示す。
組成を表1のように変更する以外は、実施例1と同様の
手法で易滑性複合ポリエステルフイルムを得た。このフ
イルムの特性を表1に示す。
テレフタレートとエチレングリコールとを、エステル交
換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化ア
ンチモンを、安定剤として亜燐酸を添加して常法により
重合し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレン
テレフタレート(PET)を得た。
℃で3時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度280〜
300℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急
冷して厚さ82μmの未延伸フイルムを得た。
速・高速のロール間でフイルム温度95℃にて縦方向に
3.2倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの一
方の面に表1の皮膜層の組成の水溶性塗液を、他の面に
実施例1と同じ他面皮膜の組成の水溶性塗液を各々0.
020μm、0.009μm(延伸乾燥後)の厚みにな
るよう塗布し、続いてステンターに供給し、110℃に
て横方向に4.1倍に延伸した。得られた二軸延伸フイ
ルムを220℃の熱風で4秒間熱固定し、厚み6.0μ
mの複合ポリエステルフイルムを得た。このフイルムの
特性を表1に示す。
布厚を表1のように変更する以外は実施例2と同じ方法
で複合ポリエステルフイルムを得た。このフイルムの特
性を表1に示す。
滑性複合ポリエステルフイルムは摩擦係数が低く、フイ
ルム間のブロッキングがなく、また耐削れ性に優れて蒸
着時の熱負けもない。これに対し、本発明の要件を満た
さないものはこれら特性を同時に満足することができな
い。
工時の易滑性、耐ブロッキング性、耐削れ性に優れ、種
々の用途、中でも高密度磁気記録媒体のベースフイルム
として有用な複合ポリエステルフイルムを提供すること
ができる。
た図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 ポリエステルフイルムの少なくとも片面
に、微細網目凹凸構造を有する連続皮膜層を設けた複合
ポリエステルフイルムであって、該皮膜層は平均粒径1
0〜200nmの不活性微粒子を有し、該皮膜層の外表
面のAFMによるRa(2乗平均粗さ)が3〜20nm
であり、かつ該皮膜層の凹部に存在する該微粒子による
突起の高さが、該皮膜層の凸部高さの0.3〜3倍であ
ることを特徴とする易滑性複合ポリエステルフイルム。 - 【請求項2】 連続皮膜層の凸部/凹部の面積比率が
0.2〜5である請求項1に記載の易滑性複合ポリエス
テルフイルム。 - 【請求項3】 連続皮膜層の凹部に存在する不活性微粒
子による突起の頻度が104 〜108 個/mm2 である
請求項1に記載の易滑性複合ポリエステルフイルム。 - 【請求項4】 連続皮膜層がバインダー樹脂、不活性微
粒子及び界面活性剤からなる請求項1に記載の易滑性ポ
リエステルフイルム。 - 【請求項5】 連続皮膜層を形成するバインダー樹脂
が、水溶性若しくは水分散性の、ポリエステル樹脂、ア
クリル樹脂及びアクリル―ポリエステル樹脂からなる群
より選ばれる少なくとも一種の樹脂を含む請求項1又は
4に記載の易滑性複合ポリエステルフイルム。 - 【請求項6】 ポリエステルフイルムがポリエチレンテ
レフタレート又はポリエチレン―2,6―ナフタレンジ
カルボキシレートからなるフイルムである請求項1記載
の易滑性複合ポリエステルフイルム。 - 【請求項7】 微細網目凹凸構造を有する連続皮膜層を
フイルムの片面に有する請求項1記載の複合ポリエステ
ルフイルムの該連続皮膜層の上にバックコート層を設
け、かつフイルムの反対面に磁気記録層を設けてなる磁
気記録媒体。 - 【請求項8】 磁気記録層が強磁性金属薄膜層である請
求項7記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01298299A JP3684095B2 (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | 易滑性複合ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01298299A JP3684095B2 (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | 易滑性複合ポリエステルフイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000211082A true JP2000211082A (ja) | 2000-08-02 |
| JP3684095B2 JP3684095B2 (ja) | 2005-08-17 |
Family
ID=11820424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01298299A Expired - Fee Related JP3684095B2 (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | 易滑性複合ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3684095B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100433135C (zh) * | 2005-06-28 | 2008-11-12 | 株式会社东芝 | 磁记录介质,磁记录介质的基底和磁记录装置 |
| US7662264B2 (en) | 2005-04-19 | 2010-02-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for producing magnetic recording medium |
| US7826176B2 (en) | 2006-03-30 | 2010-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium with thicker protective film in edge areas and magnetic recording apparatus using the medium |
| US7898768B2 (en) | 2006-03-16 | 2011-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Patterned medium with magnetic pattern depth relationship |
| US8652338B2 (en) | 2007-09-26 | 2014-02-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| WO2014084008A1 (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-05 | 東レフィルム加工株式会社 | ハードコートフィルムおよび透明導電性フィルム |
| JP2015067682A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 住友大阪セメント株式会社 | ハードコート膜、プラスチック基材、ハードコート膜形成用組成物、タッチパネル |
| JP2015067681A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 住友大阪セメント株式会社 | ハードコート膜、プラスチック基材、ハードコート膜形成用組成物、タッチパネル |
| KR20240144159A (ko) | 2022-01-31 | 2024-10-02 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 적층 폴리에스테르 필름 |
-
1999
- 1999-01-21 JP JP01298299A patent/JP3684095B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7662264B2 (en) | 2005-04-19 | 2010-02-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for producing magnetic recording medium |
| CN100433135C (zh) * | 2005-06-28 | 2008-11-12 | 株式会社东芝 | 磁记录介质,磁记录介质的基底和磁记录装置 |
| US7580223B2 (en) | 2005-06-28 | 2009-08-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording media, substrate for magnetic recording media, and magnetic recording apparatus |
| US7898768B2 (en) | 2006-03-16 | 2011-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Patterned medium with magnetic pattern depth relationship |
| US7826176B2 (en) | 2006-03-30 | 2010-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium with thicker protective film in edge areas and magnetic recording apparatus using the medium |
| US8652338B2 (en) | 2007-09-26 | 2014-02-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| WO2014084008A1 (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-05 | 東レフィルム加工株式会社 | ハードコートフィルムおよび透明導電性フィルム |
| JP5528645B1 (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-25 | 東レフィルム加工株式会社 | ハードコートフィルムおよび透明導電性フィルム |
| JP2015067682A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 住友大阪セメント株式会社 | ハードコート膜、プラスチック基材、ハードコート膜形成用組成物、タッチパネル |
| JP2015067681A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 住友大阪セメント株式会社 | ハードコート膜、プラスチック基材、ハードコート膜形成用組成物、タッチパネル |
| KR20240144159A (ko) | 2022-01-31 | 2024-10-02 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | 적층 폴리에스테르 필름 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3684095B2 (ja) | 2005-08-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3746791B2 (ja) | 低帯電性複合ポリエステルフィルム | |
| KR100554862B1 (ko) | 2축 배향 폴리에스테르 필름, 및 이를 포함하는 적층 폴리에스테르 필름 및 가요성 디스크 | |
| JPWO1998049008A1 (ja) | 低帯電性複合ポリエステルフィルム | |
| JP3684095B2 (ja) | 易滑性複合ポリエステルフイルム | |
| JP2011150744A (ja) | 磁気記録媒体用支持体およびそれを用いたデータストレージ用テープ | |
| EP0845491B1 (en) | Laminate film | |
| EP0811478A2 (en) | Laminate film and magnetic recording medium using the same | |
| JP2954792B2 (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JP3883785B2 (ja) | 易滑性積層フィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JP4216698B2 (ja) | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体 | |
| JP3626588B2 (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム | |
| JP3248333B2 (ja) | 積層ポリエステルフィルム | |
| JP3522777B2 (ja) | ポリエステルフイルム及びその製造方法 | |
| JP3310165B2 (ja) | 積層フイルム | |
| KR100497594B1 (ko) | 저대전성복합폴리에스테르필름 | |
| JP3743701B2 (ja) | 磁気記録媒体用複合ポリエステルフィルム | |
| JPH10157039A (ja) | 積層フイルム | |
| JP4080124B2 (ja) | ポリエチレン―2,6―ナフタレートフィルム | |
| JP3942410B2 (ja) | 積層ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体 | |
| JP2002133642A (ja) | 磁気記録媒体用ポリエステルフィルム | |
| JP3725011B2 (ja) | 磁気記録媒体用複合ポリエステルフィルム | |
| JP3288940B2 (ja) | 磁気記録媒体用積層フイルム | |
| JP2000043216A (ja) | 磁気記録媒体用二軸配向ポリエチレン―2,6―ナフタレートフイルム | |
| JP2000202971A (ja) | 複合ポリエステルフイルム | |
| JP4093935B2 (ja) | 磁気記録媒体用コーティングフィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050120 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050125 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050323 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050510 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050527 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080603 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090603 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090603 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100603 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100603 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110603 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130603 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140603 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |