JP2000212255A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 33
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 70
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 13
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 7
- RCHKEJKUUXXBSM-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-2-(3-formylindol-1-yl)acetamide Chemical compound C12=CC=CC=C2C(C=O)=CN1CC(=O)NCC1=CC=CC=C1 RCHKEJKUUXXBSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 7
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical group O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 26
- 238000005476 soldering Methods 0.000 abstract description 5
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 abstract description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 abstract description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 10
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 10
- -1 phenol compound Chemical class 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 5
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 4
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HRSLYNJTMYIRHM-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[3,5-dimethyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]-2,6-dimethylphenoxy]methyl]oxirane Chemical group CC1=CC(C=2C=C(C)C(OCC3OC3)=C(C)C=2)=CC(C)=C1OCC1CO1 HRSLYNJTMYIRHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- OIAUFEASXQPCFE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3-xylene Chemical compound O=C.CC1=CC=CC(C)=C1 OIAUFEASXQPCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- OZRVXYJWUUMVOW-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical group C1OC1COC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 OZRVXYJWUUMVOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGHRJJRRZDOVPD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutanal Chemical compound CC(C)CC=O YGHRJJRRZDOVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N Isopropylaldehyde Chemical compound CC(C)C=O AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000012966 insertion method Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N (3ar,4s,7r,7as)-3a-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methano-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C([C@H]1C=C2)[C@H]2[C@H]2[C@]1(C)C(=O)OC2=O LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N 0.000 description 1
- KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N (3ar,4s,7r,7as)-rel-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methanoisobenzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)[C@@H]2[C@H]1[C@]1([H])C=C[C@@]2([H])C1 KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSXWOBXNYNULJG-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O XSXWOBXNYNULJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylazaniumyl)methyl]phenolate Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1O FUIQBJHUESBZNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKGBFWIXGAFCRF-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,6-dibutyl-4-[3,5-dibutyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical group CCCCC1=CC(C=2C=C(CCCC)C(OCC3OC3)=C(CCCC)C=2)=CC(CCCC)=C1OCC1CO1 RKGBFWIXGAFCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDPMCLYSJRGNHS-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-bromo-4-[3,5-dimethyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]-2,6-dimethylphenoxy]methyl]oxirane Chemical group CC1=CC(C=2C(=C(C)C(OCC3OC3)=C(C)C=2)Br)=CC(C)=C1OCC1CO1 VDPMCLYSJRGNHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKYRZJJIKCRKRV-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[3,5-diethyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]-2,6-diethylphenoxy]methyl]oxirane Chemical group CCC1=CC(C=2C=C(CC)C(OCC3OC3)=C(CC)C=2)=CC(CC)=C1OCC1CO1 FKYRZJJIKCRKRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJBWJFWNFUKAGS-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(C=1C(=CC=CC=1)O)C1=CC=CC=C1O LJBWJFWNFUKAGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 2-allylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC=C QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTWBHJYRDKBGBR-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbenzaldehyde Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C=O NTWBHJYRDKBGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTALCVXXATYTQJ-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylbenzaldehyde Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C=O DTALCVXXATYTQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000012156 elution solvent Substances 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N tetrabutylphosphanium Chemical compound CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 耐熱性に優れ、かつ曲げ強度を低下させるこ
となく曲げ弾性率および吸水率を小さくした、低応力で
耐湿性にすぐれた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提
供する。 【解決手段】 エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含んで
なるエポキシ樹脂組成物であり、前記エポキシ樹脂がジ
フェニルジグリシジル系樹脂を必須成分として含有し、
前記硬化剤が、アルキルベンゼン類とアルデヒド類を酸
触媒の存在下で反応させたアルキルベンゼン・アルデヒ
ド樹脂と、フェノール類を、反応させてなるフェノール
・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂を必須成分として
含有することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組
成物。
となく曲げ弾性率および吸水率を小さくした、低応力で
耐湿性にすぐれた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提
供する。 【解決手段】 エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含んで
なるエポキシ樹脂組成物であり、前記エポキシ樹脂がジ
フェニルジグリシジル系樹脂を必須成分として含有し、
前記硬化剤が、アルキルベンゼン類とアルデヒド類を酸
触媒の存在下で反応させたアルキルベンゼン・アルデヒ
ド樹脂と、フェノール類を、反応させてなるフェノール
・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂を必須成分として
含有することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組
成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、流動性、機械特
性、半田耐熱性に優れた半導体封止用として好適なエポ
キシ樹脂組成物に関するものである。
性、半田耐熱性に優れた半導体封止用として好適なエポ
キシ樹脂組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】エポキシ樹脂は耐熱性、耐湿性、機械特
性、電気特性、接着性等に優れているため、塗料、接着
剤、電気絶縁材料などの様々な工業材料として使用され
ている。その中でも電気・電子材料分野での需要は近年
大きく増加しており、その物性面での要求特性はますま
す厳しくなっている。従来よりダイオード、トランジス
タ、集積回路(IC)、大規模集積回路(LSI)等の
半導体素子を外部雰囲気や機械的衝撃から保護するため
に種々の封止技術が実施又は検討されている。かかる封
止技術としては、金属やセラミックによるハーメチック
シールが以前から使用されていたが、最近では、樹脂封
止方法が主流となり、中でも経済性、大量生産性、諸特
性の点からエポキシ樹脂による樹脂封止が中心となって
いる。
性、電気特性、接着性等に優れているため、塗料、接着
剤、電気絶縁材料などの様々な工業材料として使用され
ている。その中でも電気・電子材料分野での需要は近年
大きく増加しており、その物性面での要求特性はますま
す厳しくなっている。従来よりダイオード、トランジス
タ、集積回路(IC)、大規模集積回路(LSI)等の
半導体素子を外部雰囲気や機械的衝撃から保護するため
に種々の封止技術が実施又は検討されている。かかる封
止技術としては、金属やセラミックによるハーメチック
シールが以前から使用されていたが、最近では、樹脂封
止方法が主流となり、中でも経済性、大量生産性、諸特
性の点からエポキシ樹脂による樹脂封止が中心となって
いる。
【0003】近年、プリント基板への部品実装方法にお
いて、従来のリードピンを基板ホールに挿入する挿入法
から基板表面に部品を半田付けする表面実装法に変化す
るとともに、半導体パッケージも挿入型のデュアル・イ
ンライン・パッケージ(DIP)から表面実装に適した
小型・薄型のフラットパッケージ、スモールアウトライ
ンパッケージに移行しつつある。このような表面実装へ
の移行に伴い、新たに半田付けの工程が大きな問題とな
っている。すなわち、従来のピン挿入法では半田付け工
程はリード部が部分的に加熱されるだけであったが、表
面実装法ではパッケージ全体が加熱媒体に浸漬され加熱
される。その際にパッケージ自体が200℃以上の高温
に加熱されることとなり、そのため半導体チップと封止
樹脂あるいはリードフレームと封止樹脂との間に剥離が
生じたり、場合によってはその剥離からパッケージ外部
にまで至るクラックが発生し、半導体装置としての信頼
性が大きく低下してしまうといった問題が起こってい
る。上記の問題解決のため封止樹脂に一層の半田耐熱
性、低応力化、耐湿性向上が要求されている。
いて、従来のリードピンを基板ホールに挿入する挿入法
から基板表面に部品を半田付けする表面実装法に変化す
るとともに、半導体パッケージも挿入型のデュアル・イ
ンライン・パッケージ(DIP)から表面実装に適した
小型・薄型のフラットパッケージ、スモールアウトライ
ンパッケージに移行しつつある。このような表面実装へ
の移行に伴い、新たに半田付けの工程が大きな問題とな
っている。すなわち、従来のピン挿入法では半田付け工
程はリード部が部分的に加熱されるだけであったが、表
面実装法ではパッケージ全体が加熱媒体に浸漬され加熱
される。その際にパッケージ自体が200℃以上の高温
に加熱されることとなり、そのため半導体チップと封止
樹脂あるいはリードフレームと封止樹脂との間に剥離が
生じたり、場合によってはその剥離からパッケージ外部
にまで至るクラックが発生し、半導体装置としての信頼
性が大きく低下してしまうといった問題が起こってい
る。上記の問題解決のため封止樹脂に一層の半田耐熱
性、低応力化、耐湿性向上が要求されている。
【0004】封止樹脂の改良検討として、例えば、エポ
キシ樹脂の改良では、高分子量化、低エポキシ当量化に
よるガラス転移温度の向上や高温時の破断強度の改善が
なされたが、上記問題の解決には至っていないのが現状
である。また硬化剤として用いるフェノールノボラック
樹脂の代わりに、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン
のような低OH当量のフェノール化合物や多価フェノー
ルを使用して耐熱性を向上させる検討がなされている
(特開平3−292322号公報)。しかしながら成形
材料としてガラス転移温度や高温時の破断強度の向上は
あるものの、半導体デバイスとして表面実装後の密着性
や半田クラック性、信頼性において向上はほとんど見ら
れなかった。
キシ樹脂の改良では、高分子量化、低エポキシ当量化に
よるガラス転移温度の向上や高温時の破断強度の改善が
なされたが、上記問題の解決には至っていないのが現状
である。また硬化剤として用いるフェノールノボラック
樹脂の代わりに、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン
のような低OH当量のフェノール化合物や多価フェノー
ルを使用して耐熱性を向上させる検討がなされている
(特開平3−292322号公報)。しかしながら成形
材料としてガラス転移温度や高温時の破断強度の向上は
あるものの、半導体デバイスとして表面実装後の密着性
や半田クラック性、信頼性において向上はほとんど見ら
れなかった。
【0005】低応力化の方法として、従来から弾性率を
低下させる方法が種々なされている。すなわち、特に可
撓性樹脂を添加する方法、中でもシリコン樹脂で変性す
る方法が数多くなされている。しかし、シリコン樹脂を
添加しただけではエポキシ樹脂と非相溶であるため封止
樹脂中で相分離が起こり、実装後にクラックが発生しや
すくなるといった問題が起こっている。そこでシリコン
樹脂を予めエポキシ樹脂に反応させたプレポリマーとし
て添加することで、弾性率の低減を図る検討がなされて
いる。この方法は硬化剤であるフェノール樹脂にも応用
され、低応力化の効果が認められている。しかしながら
このようなシリコン樹脂による低応力化は実現できるも
のの、他方でガラス転移温度の低下を招き、半田クラッ
ク性が改善されないという問題が残っている。
低下させる方法が種々なされている。すなわち、特に可
撓性樹脂を添加する方法、中でもシリコン樹脂で変性す
る方法が数多くなされている。しかし、シリコン樹脂を
添加しただけではエポキシ樹脂と非相溶であるため封止
樹脂中で相分離が起こり、実装後にクラックが発生しや
すくなるといった問題が起こっている。そこでシリコン
樹脂を予めエポキシ樹脂に反応させたプレポリマーとし
て添加することで、弾性率の低減を図る検討がなされて
いる。この方法は硬化剤であるフェノール樹脂にも応用
され、低応力化の効果が認められている。しかしながら
このようなシリコン樹脂による低応力化は実現できるも
のの、他方でガラス転移温度の低下を招き、半田クラッ
ク性が改善されないという問題が残っている。
【0006】その他に、溶融粘度の小さいノボラック型
エポキシ樹脂にフェノールノボラック樹脂を組み合わせ
ることで低粘度化して充填材の含有量を上げ、耐湿性や
半田耐熱性を向上させる方法が検討され効果を上げてい
る。またビフェニル型エポキシ樹脂とフェノールアラル
キル樹脂を用いてより低粘度化を図り、高充填化を可能
とすることで上記問題を解決する方法が提案されてい
る。しかしながらこのような方法を用いても、半田付け
の条件がより一層厳しくなったり、半導体素子がより大
型化し、かつ半導体パッケージがより薄型化するところ
では樹脂部分にクラックが発生する事態となり、十分に
満足できるレベルには未だ至っていないのが実状であ
る。
エポキシ樹脂にフェノールノボラック樹脂を組み合わせ
ることで低粘度化して充填材の含有量を上げ、耐湿性や
半田耐熱性を向上させる方法が検討され効果を上げてい
る。またビフェニル型エポキシ樹脂とフェノールアラル
キル樹脂を用いてより低粘度化を図り、高充填化を可能
とすることで上記問題を解決する方法が提案されてい
る。しかしながらこのような方法を用いても、半田付け
の条件がより一層厳しくなったり、半導体素子がより大
型化し、かつ半導体パッケージがより薄型化するところ
では樹脂部分にクラックが発生する事態となり、十分に
満足できるレベルには未だ至っていないのが実状であ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題を解決し、半田耐熱性、耐湿信頼性に優れ、半導体
封止に好適に使用されるエポキシ樹脂組成物を提供する
ことにある。
問題を解決し、半田耐熱性、耐湿信頼性に優れ、半導体
封止に好適に使用されるエポキシ樹脂組成物を提供する
ことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、エポキシ樹脂
(A)、硬化剤(B)、充填剤(C)を含んでなるエポ
キシ樹脂組成物であり、前記エポキシ樹脂(A)が一般
式(1)で表されるエポキシ樹脂を必須成分として含有
し、前記硬化剤(B)が、一般式(2)で表されるアル
キルベンゼン類と一般式(3)で表されるアルデヒド類
を酸触媒の存在下で反応させたアルキルベンゼン・アル
デヒド樹脂(P)と、一般式(4)で表されるフェノー
ル類(Z)を、重量比が1≦(Z)/(P)≦20で酸
触媒の存在下反応させた後、一般式(5)で表される芳
香族アルデヒド類(Y)をフェノール類(Z)とのモル
比が0.1≦(Y)/(Z)<1で反応させてなるフェ
ノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂を必須成分
として含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物に
関するものである。
(A)、硬化剤(B)、充填剤(C)を含んでなるエポ
キシ樹脂組成物であり、前記エポキシ樹脂(A)が一般
式(1)で表されるエポキシ樹脂を必須成分として含有
し、前記硬化剤(B)が、一般式(2)で表されるアル
キルベンゼン類と一般式(3)で表されるアルデヒド類
を酸触媒の存在下で反応させたアルキルベンゼン・アル
デヒド樹脂(P)と、一般式(4)で表されるフェノー
ル類(Z)を、重量比が1≦(Z)/(P)≦20で酸
触媒の存在下反応させた後、一般式(5)で表される芳
香族アルデヒド類(Y)をフェノール類(Z)とのモル
比が0.1≦(Y)/(Z)<1で反応させてなるフェ
ノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂を必須成分
として含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物に
関するものである。
【0009】
【化1】
【0010】
【発明の実施の形態】以下に本発明のエポキシ樹脂組成
物について詳細に説明する。本発明で用いるエポキシ樹
脂(A)は上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂を
必須成分として含有することを特徴とする。具体例とし
ては、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
ビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポ
キシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニ
ル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−
3,3’,5,5’−テトラエチルビフェニル、4,
4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,
3’,5,5’−テトラブチルビフェニル、4,4’−
ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,
5’−テトラメチル−2−クロロビフェニル、4,4’
−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,
5,5’−テトラメチル−2−ブロモビフェニル等が挙
げられ、その中で4,4’−ビス(2,3−エポキシプ
ロポキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エポ
キシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチル
ビフェニルが特に好ましい。
物について詳細に説明する。本発明で用いるエポキシ樹
脂(A)は上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂を
必須成分として含有することを特徴とする。具体例とし
ては、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
ビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポ
キシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニ
ル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−
3,3’,5,5’−テトラエチルビフェニル、4,
4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,
3’,5,5’−テトラブチルビフェニル、4,4’−
ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,
5’−テトラメチル−2−クロロビフェニル、4,4’
−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,
5,5’−テトラメチル−2−ブロモビフェニル等が挙
げられ、その中で4,4’−ビス(2,3−エポキシプ
ロポキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エポ
キシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチル
ビフェニルが特に好ましい。
【0011】本発明におけるエポキシ樹脂(A)は、上
記のエポキシ樹脂とともに他のエポキシ樹脂を、所期の
特性を損なわない範囲で併用することができる。他のエ
ポキシ樹脂としては、例えばオルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポ
キシ樹脂、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ樹
脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。エポキシ樹脂(A)中における一般式(1)で表さ
れるエポキシ樹脂の割合については特に制限はなく、他
のエポキシ樹脂を所期の特性を損なわない範囲で併用で
きるが、十分な効果を得るためには、一般式(1)で表
されるエポキシ樹脂を全エポキシ樹脂中に60重量%以
上、より好ましくは80重量%以上であれば良い。
記のエポキシ樹脂とともに他のエポキシ樹脂を、所期の
特性を損なわない範囲で併用することができる。他のエ
ポキシ樹脂としては、例えばオルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポ
キシ樹脂、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ樹
脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。エポキシ樹脂(A)中における一般式(1)で表さ
れるエポキシ樹脂の割合については特に制限はなく、他
のエポキシ樹脂を所期の特性を損なわない範囲で併用で
きるが、十分な効果を得るためには、一般式(1)で表
されるエポキシ樹脂を全エポキシ樹脂中に60重量%以
上、より好ましくは80重量%以上であれば良い。
【0012】本発明で用いる硬化剤(B)は、上記一般
式(2)で表されるアルキルベンゼン類と一般式(3)
で表されるアルデヒド類を酸触媒の存在下で反応させた
アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂(P)と、一般式
(4)で表されるフェノール類(Z)を、重量比が1≦
(Z)/(P)≦20で酸触媒の存在下反応させた後、
一般式(5)で表される芳香族アルデヒド類(Y)をフ
ェノール類(Z)とのモル比が0.1≦(Y)/(Z)
<1で反応させてなるフェノール・アルキルベンゼン・
アルデヒド樹脂を必須成分として含有することが重要で
あり、これ以外の場合は十分な半田耐熱性や耐湿信頼性
を得ることができなくなる。
式(2)で表されるアルキルベンゼン類と一般式(3)
で表されるアルデヒド類を酸触媒の存在下で反応させた
アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂(P)と、一般式
(4)で表されるフェノール類(Z)を、重量比が1≦
(Z)/(P)≦20で酸触媒の存在下反応させた後、
一般式(5)で表される芳香族アルデヒド類(Y)をフ
ェノール類(Z)とのモル比が0.1≦(Y)/(Z)
<1で反応させてなるフェノール・アルキルベンゼン・
アルデヒド樹脂を必須成分として含有することが重要で
あり、これ以外の場合は十分な半田耐熱性や耐湿信頼性
を得ることができなくなる。
【0013】本発明で使用されるアルキルベンゼン類と
しては、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン等が
あげられ、アルデヒド類との反応性の良いm−キシレン
が特に好ましい。アルデヒド類はアルデヒド基を1個有
する炭化水素で、アルデヒド基以外の炭素数が0〜7で
あり、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒ
ド、イソバレルアルデヒド等が好適に挙げられ、アルキ
ルベンゼン類との反応性が高いホルムアルデヒドが特に
好ましい。アルデヒド基以外の炭素数が8以上では立体
障害が大きく、エポキシ基と水酸基との硬化反応を阻害
し、エポキシ樹脂組成物の硬化性の低下、或いは硬化物
のガラス転移温度が低下するので好ましくない。フェノ
ール類としては、フェノール、クレゾール、t−ブチル
フェノール、t−オクチルフェノール、アリルフェノー
ル等があげられ、水酸基当量と軟化点、及び溶液粘度と
のバランスが良い樹脂を与えるフェノールが特に好まし
い。芳香族アルデヒド類としてはベンズアルデヒド、ト
ルアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、イソプロピル
ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、p−ヒドロキ
シベンズアルデヒド等が好適に挙げられ、この中でベン
ズアルデヒド、サリチルアルデヒドは工業的に生産され
ており安価でかつ容易に入手できる。また以上に挙げた
アルキルベンゼン類、アルデヒド類、フェノール類およ
び芳香族アルデヒド類はそれぞれ一例であり、これらに
限定されるものではない。またこれらは反応に際して単
独でも混合して用いてもよい。
しては、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン等が
あげられ、アルデヒド類との反応性の良いm−キシレン
が特に好ましい。アルデヒド類はアルデヒド基を1個有
する炭化水素で、アルデヒド基以外の炭素数が0〜7で
あり、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒ
ド、イソバレルアルデヒド等が好適に挙げられ、アルキ
ルベンゼン類との反応性が高いホルムアルデヒドが特に
好ましい。アルデヒド基以外の炭素数が8以上では立体
障害が大きく、エポキシ基と水酸基との硬化反応を阻害
し、エポキシ樹脂組成物の硬化性の低下、或いは硬化物
のガラス転移温度が低下するので好ましくない。フェノ
ール類としては、フェノール、クレゾール、t−ブチル
フェノール、t−オクチルフェノール、アリルフェノー
ル等があげられ、水酸基当量と軟化点、及び溶液粘度と
のバランスが良い樹脂を与えるフェノールが特に好まし
い。芳香族アルデヒド類としてはベンズアルデヒド、ト
ルアルデヒド、エチルベンズアルデヒド、イソプロピル
ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、p−ヒドロキ
シベンズアルデヒド等が好適に挙げられ、この中でベン
ズアルデヒド、サリチルアルデヒドは工業的に生産され
ており安価でかつ容易に入手できる。また以上に挙げた
アルキルベンゼン類、アルデヒド類、フェノール類およ
び芳香族アルデヒド類はそれぞれ一例であり、これらに
限定されるものではない。またこれらは反応に際して単
独でも混合して用いてもよい。
【0014】本発明中のアルキルベンゼン・アルデヒド
樹脂は、アルキルベンゼン類(a)とアルデヒド類
(b)を硫酸などの酸触媒の存在下で反応することによ
り容易に得ることができる。一例としてm−キシレン・
ホルムアルデヒド樹脂などは、三菱瓦斯化学(株)から
「ニカノール」という商品名で市販されており、容易に
入手することができる。
樹脂は、アルキルベンゼン類(a)とアルデヒド類
(b)を硫酸などの酸触媒の存在下で反応することによ
り容易に得ることができる。一例としてm−キシレン・
ホルムアルデヒド樹脂などは、三菱瓦斯化学(株)から
「ニカノール」という商品名で市販されており、容易に
入手することができる。
【0015】本発明のフェノール・アルキルベンゼン・
アルデヒド樹脂は、アルキルベンゼン類(a)とアルデ
ヒド類(b)を酸触媒の存在下で反応させたアルキルベ
ンゼン・アルデヒド樹脂と、フェノール類を酸触媒の存
在下で重縮合させ、次いで芳香族アルデヒド類を反応さ
せて得ることができる。一例としてm−キシレンとホル
ムアルデヒドを酸触媒存在下で反応させて得られるm−
キシレン・ホルムアルデヒド樹脂と、フェノールを酸触
媒存在下で重縮合させた後、ついでベンズアルデヒドを
反応させて得られる樹脂の代表構造を一般式(7)に示
す。ただし、本発明はこの例示した構造に限定されるも
のではない。
アルデヒド樹脂は、アルキルベンゼン類(a)とアルデ
ヒド類(b)を酸触媒の存在下で反応させたアルキルベ
ンゼン・アルデヒド樹脂と、フェノール類を酸触媒の存
在下で重縮合させ、次いで芳香族アルデヒド類を反応さ
せて得ることができる。一例としてm−キシレンとホル
ムアルデヒドを酸触媒存在下で反応させて得られるm−
キシレン・ホルムアルデヒド樹脂と、フェノールを酸触
媒存在下で重縮合させた後、ついでベンズアルデヒドを
反応させて得られる樹脂の代表構造を一般式(7)に示
す。ただし、本発明はこの例示した構造に限定されるも
のではない。
【0016】
【化3】 (式中、kは0〜10の整数)
【0017】本発明中、アルキルベンゼン・アルデヒド
樹脂(P)とフェノール類(Z)の重量比が1≦(Z)
/(P)≦20であれば所期の特性が得られ、特に1.
2≦(Z)/(P)≦8.0であることがより好まし
い。(Z)/(P)<1では、フェノール・アルキルベ
ンゼン・アルデヒド樹脂中のフェノール類の比率が小さ
くなり、エポキシ樹脂組成物の硬化性、成形性が著しく
低下する。(Z)/(P)>20ではフェノール・アル
キルベンゼン・アルデヒド樹脂中のアルキルベンゼン・
アルデヒド樹脂の比率が小さくなり、エポキシ樹脂組成
物のゴム領域での低弾性率、低吸水性、リードフレーム
等の金属類及びシリコンチップとの高接着性といったア
ルキルベンゼン・アルデヒド樹脂の効果を十分に発揮で
きない。フェノール類(Z)と芳香族アルデヒド類
(Y)の割合はそのモル比において0.1≦(Y)/
(Z)<1の範囲であることが好ましく、特に0.1≦
(Y)/(Z)≦0.8であることがより好ましい。
(Y)/(Z)≧1では重量平均分子量や軟化点が大き
くなり所望の特性を得ることが困難である。また(Y)
/(Z)<0.1では芳香族アルデヒド類を反応させた
効果が小さくなり、生成物の重量平均分子量や軟化点が
小さくなりすぎて、エポキシ樹脂硬化剤として用いた場
合硬化物の耐熱性が低下し好ましくない。
樹脂(P)とフェノール類(Z)の重量比が1≦(Z)
/(P)≦20であれば所期の特性が得られ、特に1.
2≦(Z)/(P)≦8.0であることがより好まし
い。(Z)/(P)<1では、フェノール・アルキルベ
ンゼン・アルデヒド樹脂中のフェノール類の比率が小さ
くなり、エポキシ樹脂組成物の硬化性、成形性が著しく
低下する。(Z)/(P)>20ではフェノール・アル
キルベンゼン・アルデヒド樹脂中のアルキルベンゼン・
アルデヒド樹脂の比率が小さくなり、エポキシ樹脂組成
物のゴム領域での低弾性率、低吸水性、リードフレーム
等の金属類及びシリコンチップとの高接着性といったア
ルキルベンゼン・アルデヒド樹脂の効果を十分に発揮で
きない。フェノール類(Z)と芳香族アルデヒド類
(Y)の割合はそのモル比において0.1≦(Y)/
(Z)<1の範囲であることが好ましく、特に0.1≦
(Y)/(Z)≦0.8であることがより好ましい。
(Y)/(Z)≧1では重量平均分子量や軟化点が大き
くなり所望の特性を得ることが困難である。また(Y)
/(Z)<0.1では芳香族アルデヒド類を反応させた
効果が小さくなり、生成物の重量平均分子量や軟化点が
小さくなりすぎて、エポキシ樹脂硬化剤として用いた場
合硬化物の耐熱性が低下し好ましくない。
【0017】本発明で用いる硬化剤(B)の必須成分で
あるフェノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂の
水酸基当量は100〜200g/eqが好ましく、特に
120〜150g/eqがより好ましい。水酸基当量が
100g/eq未満では、軟化点、溶液粘度が低く、常
温で液状または半固形状であり、作業性の問題やこれを
用いたエポキシ樹脂組成物の常温保管性の低下が懸念さ
れる。200g/eqを越えると、エポキシ基とフェノ
ール性水酸基との架橋点間距離が大きくなり、樹脂組成
物の硬化性の低下、あるいは硬化物のガラス転移温度が
低下する恐れがある。
あるフェノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂の
水酸基当量は100〜200g/eqが好ましく、特に
120〜150g/eqがより好ましい。水酸基当量が
100g/eq未満では、軟化点、溶液粘度が低く、常
温で液状または半固形状であり、作業性の問題やこれを
用いたエポキシ樹脂組成物の常温保管性の低下が懸念さ
れる。200g/eqを越えると、エポキシ基とフェノ
ール性水酸基との架橋点間距離が大きくなり、樹脂組成
物の硬化性の低下、あるいは硬化物のガラス転移温度が
低下する恐れがある。
【0018】本発明中に用いるフェノール・アルキルベ
ンゼン・アルデヒド樹脂の軟化点は60〜110℃が好
ましく、特に75〜95℃がより好ましい。軟化点が6
0℃未満では、常温で液状または半固形状であり、作業
性の問題や樹脂組成物の硬化性の低下、或いは硬化物の
ガラス転移温度が低下する恐れがある。110℃を越え
ると、エポキシ樹脂との混合時に充分溶融せず、均一分
散できないので硬化性及び成形性が低下し、更に不均一
な成形品となる。
ンゼン・アルデヒド樹脂の軟化点は60〜110℃が好
ましく、特に75〜95℃がより好ましい。軟化点が6
0℃未満では、常温で液状または半固形状であり、作業
性の問題や樹脂組成物の硬化性の低下、或いは硬化物の
ガラス転移温度が低下する恐れがある。110℃を越え
ると、エポキシ樹脂との混合時に充分溶融せず、均一分
散できないので硬化性及び成形性が低下し、更に不均一
な成形品となる。
【0019】本発明中に用いるフェノール・アルキルベ
ンゼン・アルデヒド樹脂の溶液粘度は20〜90μm2
/sが好ましく、特に30〜60μm2/sがより好ま
しい。溶液粘度が 20μm2/s未満では、樹脂中の硬
化反応に関与しない低分子成分が多く、樹脂組成物の硬
化性の低下、或いは硬化物のガラス転移温度が低下する
恐れがある。 90μm2/sを越えると、溶融粘度が高
く流動性が低下し、充填不良等の成形性不良が発生す
る。
ンゼン・アルデヒド樹脂の溶液粘度は20〜90μm2
/sが好ましく、特に30〜60μm2/sがより好ま
しい。溶液粘度が 20μm2/s未満では、樹脂中の硬
化反応に関与しない低分子成分が多く、樹脂組成物の硬
化性の低下、或いは硬化物のガラス転移温度が低下する
恐れがある。 90μm2/sを越えると、溶融粘度が高
く流動性が低下し、充填不良等の成形性不良が発生す
る。
【0020】本発明中に用いるフェノール・アルキルベ
ンゼン・アルデヒド樹脂の重量平均分子量は400〜3
000が好ましく、特に600〜1500がより好まし
い。重量平均分子量が400未満では、常温で液状また
は半固形状であり、作業性の問題や樹脂組成物の硬化性
の低下、或いは硬化物のガラス転移温度が低下する恐れ
がある。3000を越えると、溶融粘度が高く流動性が
低下し、充填不良等の成形性不良が発生する。
ンゼン・アルデヒド樹脂の重量平均分子量は400〜3
000が好ましく、特に600〜1500がより好まし
い。重量平均分子量が400未満では、常温で液状また
は半固形状であり、作業性の問題や樹脂組成物の硬化性
の低下、或いは硬化物のガラス転移温度が低下する恐れ
がある。3000を越えると、溶融粘度が高く流動性が
低下し、充填不良等の成形性不良が発生する。
【0021】本発明における硬化剤(B)は上記のフェ
ノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂とともに、
他の硬化剤を所期の特性を損なわない範囲で併用するこ
とができる。他の硬化剤としては、例えばフェノール、
クレゾール、レゾルシン、キシレノール、ビスフェノー
ルA等のフェノール化合物とホルムアルデヒドとの縮合
反応により得られるノボラック樹脂、無水マレイン酸、
無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水フタル
酸、無水ピロメリット酸等の酸無水物、メタフェニレン
ジアミン、パラフェニレンジアミン、ジアミノジフェニ
ルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフ
ェニルエーテル等の芳香族アミン類等が挙げられる。こ
れらの中で、封止材料用途ではノボラック樹脂、特にフ
ェノールノボラック樹脂が好ましい。硬化剤(B)に含
まれるフェノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂
の割合については特に制限はないが、好ましくは50重
量%以上、より好ましくは70重量%以上である。エポ
キシ樹脂(A)に対する硬化剤(B)の割合について
は、当量比で0.8〜1.2、特に0.95〜1.05
の範囲にあることが好ましい。
ノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂とともに、
他の硬化剤を所期の特性を損なわない範囲で併用するこ
とができる。他の硬化剤としては、例えばフェノール、
クレゾール、レゾルシン、キシレノール、ビスフェノー
ルA等のフェノール化合物とホルムアルデヒドとの縮合
反応により得られるノボラック樹脂、無水マレイン酸、
無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水フタル
酸、無水ピロメリット酸等の酸無水物、メタフェニレン
ジアミン、パラフェニレンジアミン、ジアミノジフェニ
ルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフ
ェニルエーテル等の芳香族アミン類等が挙げられる。こ
れらの中で、封止材料用途ではノボラック樹脂、特にフ
ェノールノボラック樹脂が好ましい。硬化剤(B)に含
まれるフェノール・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂
の割合については特に制限はないが、好ましくは50重
量%以上、より好ましくは70重量%以上である。エポ
キシ樹脂(A)に対する硬化剤(B)の割合について
は、当量比で0.8〜1.2、特に0.95〜1.05
の範囲にあることが好ましい。
【0022】本発明においてエポキシ樹脂(A)と硬化
剤(B)の硬化反応を促進するため、必要に応じて硬化
促進剤を用いることができる。硬化促進剤としては、例
えば、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセ
ン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジアミン、α
−メチルベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミ
ノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチル
アミノメチル)フェノール、トリエタノールアミン、ジ
エチルアミノエタノール等の3級アミン類,2−メチル
イミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2ーエ
チルー4ーメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾ
ール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミ
ダゾール類、トリフェニルホスフィン、トリメチルホス
フィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン
等の有機ホスフィン化合物、テトラフェニルホスホニウ
ム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニ
ウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホス
ホニウム・テトラブチルボレート等のテトラ置換ホスホ
ニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチル
イミダゾール・テトラメチルボレート、N−メチルモル
ホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボ
ロン塩等がある。これらの硬化促進剤は二種以上を併用
してもよく、その添加量はエポキシ樹脂(A)100重
量部に対して0.01〜1重量部の範囲であることが好
ましい。
剤(B)の硬化反応を促進するため、必要に応じて硬化
促進剤を用いることができる。硬化促進剤としては、例
えば、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセ
ン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジアミン、α
−メチルベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミ
ノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチル
アミノメチル)フェノール、トリエタノールアミン、ジ
エチルアミノエタノール等の3級アミン類,2−メチル
イミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2ーエ
チルー4ーメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾ
ール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミ
ダゾール類、トリフェニルホスフィン、トリメチルホス
フィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン
等の有機ホスフィン化合物、テトラフェニルホスホニウ
ム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニ
ウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホス
ホニウム・テトラブチルボレート等のテトラ置換ホスホ
ニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチル
イミダゾール・テトラメチルボレート、N−メチルモル
ホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボ
ロン塩等がある。これらの硬化促進剤は二種以上を併用
してもよく、その添加量はエポキシ樹脂(A)100重
量部に対して0.01〜1重量部の範囲であることが好
ましい。
【0023】本発明における充填剤(C)は、吸湿性低
減、熱伝導性向上、線膨張係数低減のために配合され、
溶融シリカ、結晶シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、アルミナ、珪酸カルシウム、窒化珪素、酸化チ
タン、酸化アンチモン、アスベスト、ガラス等が挙げら
れるが、上記目的の線膨張係数を低下させるには溶融シ
リカが特に好ましい。充填剤(C)の形状は特に限定さ
れないが、成形時の流動性や金型耐磨耗性の点から球状
であることが好ましい。充填剤(C)の配合割合はエポ
キシ樹脂組成物全体の80〜95重量%の範囲であるこ
とが好ましい。本発明において、充填剤をカップリング
剤であらかじめ表面処理することが可能である。カップ
リング剤としてエポキシシラン、アミノシラン、メルカ
プトシランなどのシランカップリング剤が好適に用いら
れる。本発明のエポキシ樹脂組成物にはハロゲン化エポ
キシ樹脂、リン化合物等の難燃剤、三酸化アンチモン等
の難燃助剤、シリコンゴム、ニトリルゴム、変性ポリブ
タジエンなどのエラストマー、高級脂肪酸、高級脂肪酸
の金属塩、高級脂肪酸エステルなどの離型剤を必要に応
じて添加することができる本発明のエポキシ樹脂組成物
は成分(A)〜(C)及びその他の添加剤等をミキサー
等を用いて充分に均一に混合しさらに溶融混練すること
が好ましく、例えばバンバリーミキサー、ニーダー、ロ
ール、単軸もしくは二軸の押出機およびコニーダーなど
の公知の混練方法を用いて製造される。
減、熱伝導性向上、線膨張係数低減のために配合され、
溶融シリカ、結晶シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、アルミナ、珪酸カルシウム、窒化珪素、酸化チ
タン、酸化アンチモン、アスベスト、ガラス等が挙げら
れるが、上記目的の線膨張係数を低下させるには溶融シ
リカが特に好ましい。充填剤(C)の形状は特に限定さ
れないが、成形時の流動性や金型耐磨耗性の点から球状
であることが好ましい。充填剤(C)の配合割合はエポ
キシ樹脂組成物全体の80〜95重量%の範囲であるこ
とが好ましい。本発明において、充填剤をカップリング
剤であらかじめ表面処理することが可能である。カップ
リング剤としてエポキシシラン、アミノシラン、メルカ
プトシランなどのシランカップリング剤が好適に用いら
れる。本発明のエポキシ樹脂組成物にはハロゲン化エポ
キシ樹脂、リン化合物等の難燃剤、三酸化アンチモン等
の難燃助剤、シリコンゴム、ニトリルゴム、変性ポリブ
タジエンなどのエラストマー、高級脂肪酸、高級脂肪酸
の金属塩、高級脂肪酸エステルなどの離型剤を必要に応
じて添加することができる本発明のエポキシ樹脂組成物
は成分(A)〜(C)及びその他の添加剤等をミキサー
等を用いて充分に均一に混合しさらに溶融混練すること
が好ましく、例えばバンバリーミキサー、ニーダー、ロ
ール、単軸もしくは二軸の押出機およびコニーダーなど
の公知の混練方法を用いて製造される。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。本発
明はこれらの実施例によって限定されるものではなく、
実施例及び比較例に記載されている「部」及び「%」
は、すべて「重量部」及び「重量%」を示す。
明はこれらの実施例によって限定されるものではなく、
実施例及び比較例に記載されている「部」及び「%」
は、すべて「重量部」及び「重量%」を示す。
【0025】本発明に用いるフェノール・アルキルベン
ゼン・アルデヒド樹脂の特性値の測定は下記の方法に従
って行った。 水酸基当量:試料をピリジンと過剰量の無水酢酸でアセ
チル化し、試料に消費される無水酢酸より発生する酢酸
を、水酸化ナトリウム水溶液で滴定することにより求め
た。 1.軟化点:JIS K 7234に記載の環球法により
求めた。 2.溶液粘度:試料/エタノール=5/5の溶液(重量
比)を用いて、25℃にて、JIS Z 8803に記載
の方法により測定した。 3.重量平均分子量:東ソー製GPCカラム(G100
0HXL:1本、(G2000HXL:2本、G300
0HXL:1本)を用い、流量1.0ml/分、溶出溶
媒テトラヒドロフラン、カラム温度40℃の分析条件で
示差屈折計を検出器に用いてGPC測定し、標準ポリス
チレンにより換算して求めた。
ゼン・アルデヒド樹脂の特性値の測定は下記の方法に従
って行った。 水酸基当量:試料をピリジンと過剰量の無水酢酸でアセ
チル化し、試料に消費される無水酢酸より発生する酢酸
を、水酸化ナトリウム水溶液で滴定することにより求め
た。 1.軟化点:JIS K 7234に記載の環球法により
求めた。 2.溶液粘度:試料/エタノール=5/5の溶液(重量
比)を用いて、25℃にて、JIS Z 8803に記載
の方法により測定した。 3.重量平均分子量:東ソー製GPCカラム(G100
0HXL:1本、(G2000HXL:2本、G300
0HXL:1本)を用い、流量1.0ml/分、溶出溶
媒テトラヒドロフラン、カラム温度40℃の分析条件で
示差屈折計を検出器に用いてGPC測定し、標準ポリス
チレンにより換算して求めた。
【0026】製造例1 P1:キシレン・ホルムアルデヒド樹脂(三菱化学
(株)製ニカノールG)100部、フェノール200部
およびパラトルエンスルホン酸0.2部の混合物を徐々
に加熱し100℃で2時間反応後、さらにベンズアルデ
ヒド85部を添加し140℃に昇温し2時間反応させ
た。これにメチルイソブチルケトン100部を加え均一
溶液とした。次いで、イオン交換水200部を加え15
分間攪拌後静置し、有機層と水層に分離させ、イオン性
不純物を含む水層部を除去した。この後蒸留工程によ
り、縮合水、未反応フェノール等を除去することによ
り、水酸基当量165g/eq、軟化点95℃、溶液粘
度31μm2/s、重量平均分子量2100のフェノー
ル・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂260部を得
た。
(株)製ニカノールG)100部、フェノール200部
およびパラトルエンスルホン酸0.2部の混合物を徐々
に加熱し100℃で2時間反応後、さらにベンズアルデ
ヒド85部を添加し140℃に昇温し2時間反応させ
た。これにメチルイソブチルケトン100部を加え均一
溶液とした。次いで、イオン交換水200部を加え15
分間攪拌後静置し、有機層と水層に分離させ、イオン性
不純物を含む水層部を除去した。この後蒸留工程によ
り、縮合水、未反応フェノール等を除去することによ
り、水酸基当量165g/eq、軟化点95℃、溶液粘
度31μm2/s、重量平均分子量2100のフェノー
ル・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂260部を得
た。
【0027】製造例2〜4 表1の配合にて製造例1と同様にして目的とする樹脂P
2〜P4を得た。
2〜P4を得た。
【0028】
【表1】
【0029】製造例5 P5:フェノール188部、37%ホルマリン121
部、およびシュウ酸0.9部の混合物を100℃で2時
間反応後、減圧下で内温が170℃に達するまで蒸留し
て水と未反応フェノールを除去し、水酸基当量104g
/eq、軟化点110℃、溶液粘度 88μm2/s、重
量平均分子量2910のフェノール樹脂190部を得
た。
部、およびシュウ酸0.9部の混合物を100℃で2時
間反応後、減圧下で内温が170℃に達するまで蒸留し
て水と未反応フェノールを除去し、水酸基当量104g
/eq、軟化点110℃、溶液粘度 88μm2/s、重
量平均分子量2910のフェノール樹脂190部を得
た。
【0030】実施例1〜5及び比較例1〜4 以下に示す成分を表2に示す配合割合(重量%)で配合
し、ミキサーで混合した後、二軸混練機にて加熱混練
し、冷却、粉砕してエポキシ樹脂組成物を調製した。
し、ミキサーで混合した後、二軸混練機にて加熱混練
し、冷却、粉砕してエポキシ樹脂組成物を調製した。
【0031】
【表2】
【0032】エポキシ樹脂(A)は下記に示した2種類
を用いた (E1)4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキ
シ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル
(融点105℃、エポキシ当量195g/eq) (E2)オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(融点65℃、エポキシ当量216g/eq) 硬化剤(B)として製造例1〜5のフェノール樹脂を用
いた。充填剤(C)として、(C1)平均粒径が7μm
の球状溶融シリカと、(C2)平均粒径が10μmの球
状溶融シリカを併用した。その他の添加剤としては、硬
化促進剤として1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7(DBU)、2−メチルイミダゾール
(2−MZ)、トリフェニルホスフィン(TPP)、離
型剤としてカルナバワックス、難燃剤として臭素化ビス
フェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量400)、
難燃助剤として三酸化アンチモン、着色剤としてカーボ
ンブラック、シランカップリング剤としてγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランをそれぞれ用いた。
を用いた (E1)4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキ
シ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル
(融点105℃、エポキシ当量195g/eq) (E2)オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(融点65℃、エポキシ当量216g/eq) 硬化剤(B)として製造例1〜5のフェノール樹脂を用
いた。充填剤(C)として、(C1)平均粒径が7μm
の球状溶融シリカと、(C2)平均粒径が10μmの球
状溶融シリカを併用した。その他の添加剤としては、硬
化促進剤として1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7(DBU)、2−メチルイミダゾール
(2−MZ)、トリフェニルホスフィン(TPP)、離
型剤としてカルナバワックス、難燃剤として臭素化ビス
フェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量400)、
難燃助剤として三酸化アンチモン、着色剤としてカーボ
ンブラック、シランカップリング剤としてγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランをそれぞれ用いた。
【0033】得られたエポキシ樹脂組成物について、ゲ
ル化時間、硬化性、スパイラルフロー、ガラス転移点
(Tg)、曲げ弾性率、吸水率、半田耐熱性を下記の方
法に従って測定した。その結果を表3に示した。
ル化時間、硬化性、スパイラルフロー、ガラス転移点
(Tg)、曲げ弾性率、吸水率、半田耐熱性を下記の方
法に従って測定した。その結果を表3に示した。
【0034】
【表3】
【0035】1.ゲル化時間:175℃の熱盤上で組成
物を溶融後、へら法で硬化するまでの時間を測定した。 2.硬化性:金型温度175℃とし、注入圧力 6.9M
Pa、硬化時間2分で硬化し、金型から離型10秒後に
ショアD硬度を測定した。 3.スパイラルフロー:EMMI−I−66に準拠し、
180℃、6.9MPa、硬化時間2分で測定した。 4.ガラス転移点:熱機械分析装置(セイコー電子(株)
製TMA−100)により19mmX4mmx4mmの
形状の試験片を用いて、昇温速度5℃/分で測定した。 5.曲げ弾性率:テンシロン(東洋ボールドウィン(株)
製)により、JIS K6911に準拠した3点支持型
の曲げ試験により測定した。 6.吸水率:直径50mm、厚み3mmの円盤状成形品
を120℃、100%RH、80時間吸湿処理を行い、
その前後の重量変化により算出した。 7.半田耐熱性:表面がポリイミドでコーティングされ
た模擬素子(7.5mmX7.5mm)を搭載した80
ピンQFP(クワッドフラッドパッケージ、パッケージ
サイズ14mmX20mmX2.0mm、ダイパッドサ
イズ9mmX9mm銅リードフレーム)をトランスファ
ー成形法により175℃X2分の条件で成形し、175
℃、8時間ポストキュアを行った。その後85℃、85
%RHの条件で24時間及び72時間加湿処理を行い、
続いて最高温度240℃のIRリフロー炉で加熱処理
し、目視にて外部クラック数をそして超音波探傷装置で
内部クラック発生数を調べた。
物を溶融後、へら法で硬化するまでの時間を測定した。 2.硬化性:金型温度175℃とし、注入圧力 6.9M
Pa、硬化時間2分で硬化し、金型から離型10秒後に
ショアD硬度を測定した。 3.スパイラルフロー:EMMI−I−66に準拠し、
180℃、6.9MPa、硬化時間2分で測定した。 4.ガラス転移点:熱機械分析装置(セイコー電子(株)
製TMA−100)により19mmX4mmx4mmの
形状の試験片を用いて、昇温速度5℃/分で測定した。 5.曲げ弾性率:テンシロン(東洋ボールドウィン(株)
製)により、JIS K6911に準拠した3点支持型
の曲げ試験により測定した。 6.吸水率:直径50mm、厚み3mmの円盤状成形品
を120℃、100%RH、80時間吸湿処理を行い、
その前後の重量変化により算出した。 7.半田耐熱性:表面がポリイミドでコーティングされ
た模擬素子(7.5mmX7.5mm)を搭載した80
ピンQFP(クワッドフラッドパッケージ、パッケージ
サイズ14mmX20mmX2.0mm、ダイパッドサ
イズ9mmX9mm銅リードフレーム)をトランスファ
ー成形法により175℃X2分の条件で成形し、175
℃、8時間ポストキュアを行った。その後85℃、85
%RHの条件で24時間及び72時間加湿処理を行い、
続いて最高温度240℃のIRリフロー炉で加熱処理
し、目視にて外部クラック数をそして超音波探傷装置で
内部クラック発生数を調べた。
【0036】
【発明の効果】本発明によるエポキシ樹脂組成物は、耐
熱性に優れ、かつ曲げ強度が低下することなく曲げ弾性
率および吸水率がかなり小さな値となっており、低応力
で耐湿性に優れたものであることがわかる。従って、電
子部品の分野、特に半導体装置ではより薄型化、小型化
が進み、一方素子自体は大型化しているため、より耐熱
性に優れた封止材料が要望されているが、本発明のエポ
キシ樹脂組成物はかかる要望を充分に満足するものと期
待される。
熱性に優れ、かつ曲げ強度が低下することなく曲げ弾性
率および吸水率がかなり小さな値となっており、低応力
で耐湿性に優れたものであることがわかる。従って、電
子部品の分野、特に半導体装置ではより薄型化、小型化
が進み、一方素子自体は大型化しているため、より耐熱
性に優れた封止材料が要望されているが、本発明のエポ
キシ樹脂組成物はかかる要望を充分に満足するものと期
待される。
Claims (3)
- 【請求項1】 エポキシ化合物(A)、硬化剤(B)、
充填剤(C)を含んでなるエポキシ樹脂組成物であっ
て、エポキシ化合物(A)が一般式(1)で表されるエ
ポキシ化合物を必須成分として含有し、硬化剤(B)
が、一般式(2)で表されるアルキルベンゼン類と一般
式(3)で表されるアルデヒド類を酸触媒の存在下で反
応させたアルキルベンゼン・アルデヒド樹脂(P)と、
一般式(4)で表されるフェノール類(Z)を、重量比
が1≦(Z)/(P)≦20で酸触媒の存在下反応させ
た後、一般式(5)で表される芳香族アルデヒド類
(Y)をフェノール類(Z)とのモル比が0.1≦
(Y)/(Z)<1で反応させてなるフェノール・アル
キルベンゼン・アルデヒド樹脂を必須成分として含有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 【化1】 - 【請求項2】 エポキシ化合物(A)が一般式(6)で
表される構造を有するエポキシ化合物を必須成分として
含有することを特徴とする請求項1記載のエポキシ樹脂
組成物。 【化2】 - 【請求項3】 硬化剤(B)の必須成分であるフェノー
ル・アルキルベンゼン・アルデヒド樹脂において、一般
式(2)で表されるアルキルベンゼン類が、m−キシレ
ンであり、一般式(3)で表されるアルデヒド類がホル
ムアルデヒドであり、一般式(5)で表される芳香族ア
ルデヒド類がベンズアルデヒド及び又はサリチルアルデ
ヒドである請求項1又は2記載のエポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11012397A JP2000212255A (ja) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11012397A JP2000212255A (ja) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000212255A true JP2000212255A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=11804141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11012397A Pending JP2000212255A (ja) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000212255A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008047613A1 (fr) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Nipponkayaku Kabushikikaisha | Résine époxyde, procédé servant à produire la résine époxyde, composition de résine époxyde utilisant la résine époxyde et produit durci de la composition de résine époxyde |
| CN103282396A (zh) * | 2010-12-28 | 2013-09-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳烃树脂、光刻法用底层膜形成组合物以及形成多层抗蚀图案的方法 |
| WO2013179915A1 (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族アルデヒド、並びに該芳香族アルデヒドを含有するエポキシ樹脂硬化剤及びエポキシ樹脂組成物 |
-
1999
- 1999-01-20 JP JP11012397A patent/JP2000212255A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008047613A1 (fr) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Nipponkayaku Kabushikikaisha | Résine époxyde, procédé servant à produire la résine époxyde, composition de résine époxyde utilisant la résine époxyde et produit durci de la composition de résine époxyde |
| CN103282396A (zh) * | 2010-12-28 | 2013-09-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳烃树脂、光刻法用底层膜形成组合物以及形成多层抗蚀图案的方法 |
| US8741553B2 (en) * | 2010-12-28 | 2014-06-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Aromatic hydrocarbon resin, underlayer film forming composition for lithography, and method for forming multilayer resist pattern |
| CN103282396B (zh) * | 2010-12-28 | 2015-03-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳烃树脂、光刻法用底层膜形成组合物以及形成多层抗蚀图案的方法 |
| WO2013179915A1 (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族アルデヒド、並びに該芳香族アルデヒドを含有するエポキシ樹脂硬化剤及びエポキシ樹脂組成物 |
| CN104350033A (zh) * | 2012-05-29 | 2015-02-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族醛及含有该芳香族醛的环氧树脂固化剂和环氧树脂组合物 |
| EP2857378A4 (en) * | 2012-05-29 | 2016-01-27 | Mitsubishi Gas Chemical Co | AROMATIC ALDEHYDE, EPOXY RESIN HARDENERS WITH AN AROMATIC ALDEHYDE AND EPOXY RESIN COMPOSITION THEREWITH |
| CN104350033B (zh) * | 2012-05-29 | 2016-06-01 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族醛及含有该芳香族醛的环氧树脂固化剂和环氧树脂组合物 |
| US9745410B2 (en) | 2012-05-29 | 2017-08-29 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Aromatic aldehyde, and epoxy resin curing agent and epoxy resin composition comprising the aromatic aldehyde |
| RU2636937C2 (ru) * | 2012-05-29 | 2017-11-29 | Мицубиси Гэс Кемикал Компани, Инк. | Ароматический альдегид, отверждающий агент для эпоксидной смолы и композиция на основе эпоксидной смолы, содержащая ароматический альдегид |
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