JP2000214034A - 半導体圧力センサ及びその製造方法 - Google Patents
半導体圧力センサ及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2000214034A JP2000214034A JP1974199A JP1974199A JP2000214034A JP 2000214034 A JP2000214034 A JP 2000214034A JP 1974199 A JP1974199 A JP 1974199A JP 1974199 A JP1974199 A JP 1974199A JP 2000214034 A JP2000214034 A JP 2000214034A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pedestal
- package
- die
- pressure sensor
- recess
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 90
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 4
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000006353 environmental stress Effects 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si].[Si] SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半田の熱収縮による台座の割れを防止し、信
頼性の高い半導体圧力センサを提供する。 【解決手段】 ダイアフラム11を有する半導体基板1
とダイアフラム11に圧力を導入するための圧力導入孔
21が形成された台座2とを接合し、台座2の半導体基
板1との接合面と反対側の面とパッケージ3のダイ31
とを接合してなる半導体圧力センサにおいて、パッケー
ジ3には台座2を収納する凹部22を形成するとともに
底面にダイ31が設けられ、台座2の外側面とパッケー
ジ3の凹部34の内側面及び台座2の底面とダイ31の
上面とが当接するように台座2を凹部22に嵌め込み、
ストッパー9により台座2をパッケージ3に固定するこ
とにより、台座2がパッケージ3のダイ31とが接合さ
れるようにした。
頼性の高い半導体圧力センサを提供する。 【解決手段】 ダイアフラム11を有する半導体基板1
とダイアフラム11に圧力を導入するための圧力導入孔
21が形成された台座2とを接合し、台座2の半導体基
板1との接合面と反対側の面とパッケージ3のダイ31
とを接合してなる半導体圧力センサにおいて、パッケー
ジ3には台座2を収納する凹部22を形成するとともに
底面にダイ31が設けられ、台座2の外側面とパッケー
ジ3の凹部34の内側面及び台座2の底面とダイ31の
上面とが当接するように台座2を凹部22に嵌め込み、
ストッパー9により台座2をパッケージ3に固定するこ
とにより、台座2がパッケージ3のダイ31とが接合さ
れるようにした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、台座を介してダイ
アフラムの形成された半導体基板とパッケージのダイと
を接合してなる半導体圧力センサ及びその製造方法に関
するものである。
アフラムの形成された半導体基板とパッケージのダイと
を接合してなる半導体圧力センサ及びその製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、産業上の様々な分野で圧力センサ
が用いられている。中でも、信頼性、コスト、小型軽量
化の点から車載関係や家電製品等において半導体圧力セ
ンサの使用が急増している。
が用いられている。中でも、信頼性、コスト、小型軽量
化の点から車載関係や家電製品等において半導体圧力セ
ンサの使用が急増している。
【0003】この半導体圧力センサは、図2に示すよう
に、ダイアフラム11を形成したシリコンチップ(半導
体基板)1の一方の面にピエゾ抵抗12を形成した構造
が使用される。このシリコンチップ1は台座2を介して
パッケージ3のダイ31に接合される。シリコンチップ
1と台座2とは陽極接合により接合されており、台座2
のシリコンチップ1との接合面と反対側の面とパッケー
ジ3のダイ31とは半田6により半田接合されている。
これらの接合により、物理的に強固な接合を得ることが
できる。なお、台座2にはダイアフラム11に圧力を導
入するための圧力導入孔21が形成されている。
に、ダイアフラム11を形成したシリコンチップ(半導
体基板)1の一方の面にピエゾ抵抗12を形成した構造
が使用される。このシリコンチップ1は台座2を介して
パッケージ3のダイ31に接合される。シリコンチップ
1と台座2とは陽極接合により接合されており、台座2
のシリコンチップ1との接合面と反対側の面とパッケー
ジ3のダイ31とは半田6により半田接合されている。
これらの接合により、物理的に強固な接合を得ることが
できる。なお、台座2にはダイアフラム11に圧力を導
入するための圧力導入孔21が形成されている。
【0004】台座2はパッケージ3等からシリコンチッ
プ1へ及ぼされる応力を緩和するためのものであり、材
料としては、シリコンチップ1と熱膨張係数の近いガラ
スやシリコン基板が使用される。台座2のパッケージ3
のダイ31との接合面には半田と容易に共晶接合する材
料からなる金属薄膜層4が形成され、ダイ31の台座2
との接合面は半田と容易に共晶接合する材料からなるメ
ッキ層5が施されている。
プ1へ及ぼされる応力を緩和するためのものであり、材
料としては、シリコンチップ1と熱膨張係数の近いガラ
スやシリコン基板が使用される。台座2のパッケージ3
のダイ31との接合面には半田と容易に共晶接合する材
料からなる金属薄膜層4が形成され、ダイ31の台座2
との接合面は半田と容易に共晶接合する材料からなるメ
ッキ層5が施されている。
【0005】シリコンチップ1表面の電極パッド13と
リード7とは金又はアルミ製のワイヤ8で接続されてい
る。シリコンチップ1の表面には、複数のピエゾ抵抗1
2が拡散により形成されており、複数のピエゾ抵抗12
を互いに結線することによりホイートストンブリッジ回
路を形成している。リード7から電流等をホイートスト
ンブリッジ回路に供給し、ピエゾ抵抗12の抵抗値の変
化を電圧の変化として検出することにより、圧力導入管
32を介して伝わる圧力変化33を電気的な信号の変化
として取り出すことができる。
リード7とは金又はアルミ製のワイヤ8で接続されてい
る。シリコンチップ1の表面には、複数のピエゾ抵抗1
2が拡散により形成されており、複数のピエゾ抵抗12
を互いに結線することによりホイートストンブリッジ回
路を形成している。リード7から電流等をホイートスト
ンブリッジ回路に供給し、ピエゾ抵抗12の抵抗値の変
化を電圧の変化として検出することにより、圧力導入管
32を介して伝わる圧力変化33を電気的な信号の変化
として取り出すことができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような半導体圧力センサにあっては、上記の半田6によ
る接合に際して、半田6の融点より高い温度で接合する
必要がある。この温度では、半田6、パッケージ3のダ
イ31、台座2、シリコンチップ1との間で互いに応力
を及ぼし合うということはないが、融点より高い温度
(一般的には200℃より高温)であるため、半導体圧
力センサを使用する温度まで冷却するにつれて、半田6
とシリコンチップ1が接合された台座2との物理的な特
性が異なるために、お互いに力を及ぼし合う状態とな
る。
ような半導体圧力センサにあっては、上記の半田6によ
る接合に際して、半田6の融点より高い温度で接合する
必要がある。この温度では、半田6、パッケージ3のダ
イ31、台座2、シリコンチップ1との間で互いに応力
を及ぼし合うということはないが、融点より高い温度
(一般的には200℃より高温)であるため、半導体圧
力センサを使用する温度まで冷却するにつれて、半田6
とシリコンチップ1が接合された台座2との物理的な特
性が異なるために、お互いに力を及ぼし合う状態とな
る。
【0007】一般的には、シリコンチップ1や台座2よ
りも半田6の熱膨張係数の方が大きく、室温レベルにお
いては半田6がシリコンチップ1や台座2よりも収縮し
ている。そして、半田6の収縮に伴って、半田6からの
応力がシリコン基板からなるシリコンチップ1に接合さ
れた台座2を圧縮するように作用し、台座2にクラック
等の割れが生じる原因になっている。実使用時に環境ス
トレス(例えば、高温から低温への温度変化、あるいは
低温から高温への温度変化)が繰り返し加わった場合に
は、クラックが成長して、やがて所定の圧力に耐えられ
なくなり、破壊に至るといった問題があった。
りも半田6の熱膨張係数の方が大きく、室温レベルにお
いては半田6がシリコンチップ1や台座2よりも収縮し
ている。そして、半田6の収縮に伴って、半田6からの
応力がシリコン基板からなるシリコンチップ1に接合さ
れた台座2を圧縮するように作用し、台座2にクラック
等の割れが生じる原因になっている。実使用時に環境ス
トレス(例えば、高温から低温への温度変化、あるいは
低温から高温への温度変化)が繰り返し加わった場合に
は、クラックが成長して、やがて所定の圧力に耐えられ
なくなり、破壊に至るといった問題があった。
【0008】本発明は、上記の点に鑑みてなしたもので
あり、その目的とするところは、半田の熱収縮による台
座の割れを防止し、信頼性の高い半導体圧力センサ及び
その製造方法を提供することにある。
あり、その目的とするところは、半田の熱収縮による台
座の割れを防止し、信頼性の高い半導体圧力センサ及び
その製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
ダイアフラムを有する半導体基板と前記ダイアフラムに
圧力を導入するための圧力導入孔が形成された台座とを
接合し、該台座の前記半導体基板との接合面と反対側の
面とパッケージのダイとを接合してなる半導体圧力セン
サにおいて、前記パッケージには前記台座を収納する凹
部を形成するとともに底面に前記ダイが設けられ、前記
台座の外側面と前記パッケージの凹部の内側面及び台座
の底面とダイの上面とが当接するように台座をパッケー
ジの凹部に嵌め込み、ストッパーにより台座をパッケー
ジに固定することにより、台座がパッケージのダイとが
接合されるようにしたことを特徴とするものである。
ダイアフラムを有する半導体基板と前記ダイアフラムに
圧力を導入するための圧力導入孔が形成された台座とを
接合し、該台座の前記半導体基板との接合面と反対側の
面とパッケージのダイとを接合してなる半導体圧力セン
サにおいて、前記パッケージには前記台座を収納する凹
部を形成するとともに底面に前記ダイが設けられ、前記
台座の外側面と前記パッケージの凹部の内側面及び台座
の底面とダイの上面とが当接するように台座をパッケー
ジの凹部に嵌め込み、ストッパーにより台座をパッケー
ジに固定することにより、台座がパッケージのダイとが
接合されるようにしたことを特徴とするものである。
【0010】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体圧力センサの製造方法であって、前記パッケージに
は前記台座を収納する凹部が形成され、該凹部の底面に
前記ダイが設けられ、前記台座の外側面と前記パッケー
ジの内側面及び台座の底面とダイの上面とが当接するよ
うに台座をパッケージに嵌め込み、ストッパーにより台
座をパッケージに固定し、その後、台座のダイとの接合
面とは反対側の面に、ダイアフラムを有する半導体基板
を接合させるようにしたことを特徴とするものである。
導体圧力センサの製造方法であって、前記パッケージに
は前記台座を収納する凹部が形成され、該凹部の底面に
前記ダイが設けられ、前記台座の外側面と前記パッケー
ジの内側面及び台座の底面とダイの上面とが当接するよ
うに台座をパッケージに嵌め込み、ストッパーにより台
座をパッケージに固定し、その後、台座のダイとの接合
面とは反対側の面に、ダイアフラムを有する半導体基板
を接合させるようにしたことを特徴とするものである。
【0011】請求項3記載の発明は、請求項2記載の発
明において、前記ストッパーを溶接によりパッケージに
固定することにより、台座をパッケージに固定するよう
にしたことを特徴とするものである。
明において、前記ストッパーを溶接によりパッケージに
固定することにより、台座をパッケージに固定するよう
にしたことを特徴とするものである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
を図面に基づき説明する。本発明の半導体圧力センサ
は、図2に示した半導体圧力センサと基本的構成は同等
であるので、同一個所には同一符号を付して説明を省略
する。
を図面に基づき説明する。本発明の半導体圧力センサ
は、図2に示した半導体圧力センサと基本的構成は同等
であるので、同一個所には同一符号を付して説明を省略
する。
【0013】図1は本発明の一実施形態に係る半導体圧
力センサの概略構成を示す断面図である。本実施形態で
は、台座2の外径を、パッケージ3に形成された凹部3
4の内径と略等しくしておく。凹部34の底面にはダイ
31が設けられている。台座2をパッケージ3の凹部3
4に収納したときには、台座2の外側面とパッケージ3
の凹部34の内側面とが当接するとともに、台座2の底
面とパッケージ3のダイ31の上面とが当接するように
なる。
力センサの概略構成を示す断面図である。本実施形態で
は、台座2の外径を、パッケージ3に形成された凹部3
4の内径と略等しくしておく。凹部34の底面にはダイ
31が設けられている。台座2をパッケージ3の凹部3
4に収納したときには、台座2の外側面とパッケージ3
の凹部34の内側面とが当接するとともに、台座2の底
面とパッケージ3のダイ31の上面とが当接するように
なる。
【0014】また、台座2の上面側、つまり、パッケー
ジ3のダイ31の上面と当接する面と反対側の面側に
は、シリコンチップ1が接合される部分より外側の外周
近傍に段部22が形成されている。
ジ3のダイ31の上面と当接する面と反対側の面側に
は、シリコンチップ1が接合される部分より外側の外周
近傍に段部22が形成されている。
【0015】台座2をパッケージ3の凹部34に収納し
た状態で、台座2に形成された段部22にストッパー9
を嵌め込む。ストッパー9は段部22の形状に合致する
ように形成されている。ここで、溶接等によりストッパ
ー9をパッケージ3に固定する。これにより、台座2が
パッケージ3に固定され、ダイ31に接合されるのであ
る。
た状態で、台座2に形成された段部22にストッパー9
を嵌め込む。ストッパー9は段部22の形状に合致する
ように形成されている。ここで、溶接等によりストッパ
ー9をパッケージ3に固定する。これにより、台座2が
パッケージ3に固定され、ダイ31に接合されるのであ
る。
【0016】本実施形態によれば、半田を用いることな
しに、台座2をパッケージ3に固定し、ダイ31に接合
できるので、半田と台座2との物理的特性の相異が原因
で生じる台座2の割れを防止することができる。
しに、台座2をパッケージ3に固定し、ダイ31に接合
できるので、半田と台座2との物理的特性の相異が原因
で生じる台座2の割れを防止することができる。
【0017】次に、本実施形態の半導体圧力センサの製
造方法を説明する。まず、パッケージ3には凹部34を
形成しておき、台座2の外径を、パッケージ3に形成さ
れた凹部34の内径と略等しくしておく。凹部34の底
面にはダイ31が位置するようにしておく。また、台座
2の上面側、つまり、パッケージ3のダイ31の上面と
当接する面と反対側の面側には、シリコンチップ1が接
合される部分より外側の外周近傍に段部22を設けてお
く。
造方法を説明する。まず、パッケージ3には凹部34を
形成しておき、台座2の外径を、パッケージ3に形成さ
れた凹部34の内径と略等しくしておく。凹部34の底
面にはダイ31が位置するようにしておく。また、台座
2の上面側、つまり、パッケージ3のダイ31の上面と
当接する面と反対側の面側には、シリコンチップ1が接
合される部分より外側の外周近傍に段部22を設けてお
く。
【0018】次に、台座2をパッケージ3の凹部34に
収納する。この時、台座2の外側面とパッケージ3の凹
部34の内側面とが当接するとともに、台座2の底面と
パッケージ3のダイ31の上面とが当接するようにす
る。
収納する。この時、台座2の外側面とパッケージ3の凹
部34の内側面とが当接するとともに、台座2の底面と
パッケージ3のダイ31の上面とが当接するようにす
る。
【0019】次に、台座2の段部22の形状に合致する
ように形成されたストッパー9を段部22に嵌め込み、
溶接等によりストッパー9をパッケージ3に固定する。
ように形成されたストッパー9を段部22に嵌め込み、
溶接等によりストッパー9をパッケージ3に固定する。
【0020】次に、台座2のダイ31との接合面とは反
対側の面に、ダイアフラム11を有する半導体基板1を
陽極接合等により接合させる。なお、台座2の材料がシ
リコンの場合には、シリコン−シリコン接合を用いても
良い。
対側の面に、ダイアフラム11を有する半導体基板1を
陽極接合等により接合させる。なお、台座2の材料がシ
リコンの場合には、シリコン−シリコン接合を用いても
良い。
【0021】
【発明の効果】以上のように、請求項1記載の発明によ
れば、ダイアフラムを有する半導体基板と前記ダイアフ
ラムに圧力を導入するための圧力導入孔が形成された台
座とを接合し、該台座の前記半導体基板との接合面と反
対側の面とパッケージのダイとを接合してなる半導体圧
力センサにおいて、前記パッケージには前記台座を収納
する凹部を形成するとともに底面に前記ダイが設けら
れ、前記台座の外側面と前記パッケージの凹部の内側面
及び台座の底面とダイの上面とが当接するように台座を
パッケージの凹部に嵌め込み、ストッパーにより台座を
パッケージに固定することにより、台座がパッケージの
ダイとが接合されるようにしたので、半田を用いること
なしに、台座をパッケージに固定し、ダイに接合できる
ので、半田と台座との物理的特性の相異が原因で生じる
台座の割れを防止することができ、半田の熱収縮による
台座の割れを防止し、信頼性の高い半導体圧力センサ及
びその製造方法が提供できた。
れば、ダイアフラムを有する半導体基板と前記ダイアフ
ラムに圧力を導入するための圧力導入孔が形成された台
座とを接合し、該台座の前記半導体基板との接合面と反
対側の面とパッケージのダイとを接合してなる半導体圧
力センサにおいて、前記パッケージには前記台座を収納
する凹部を形成するとともに底面に前記ダイが設けら
れ、前記台座の外側面と前記パッケージの凹部の内側面
及び台座の底面とダイの上面とが当接するように台座を
パッケージの凹部に嵌め込み、ストッパーにより台座を
パッケージに固定することにより、台座がパッケージの
ダイとが接合されるようにしたので、半田を用いること
なしに、台座をパッケージに固定し、ダイに接合できる
ので、半田と台座との物理的特性の相異が原因で生じる
台座の割れを防止することができ、半田の熱収縮による
台座の割れを防止し、信頼性の高い半導体圧力センサ及
びその製造方法が提供できた。
【0022】請求項2又は請求項3記載の発明によれ
ば、前記半導体圧力センサの製造方法であって、前記パ
ッケージには前記台座を収納する凹部が形成され、該凹
部の底面に前記ダイが設けられ、前記台座の外側面と前
記パッケージの内側面及び台座の底面とダイの上面とが
当接するように台座をパッケージに嵌め込み、ストッパ
ーにより台座をパッケージに固定し、その後、台座のダ
イとの接合面とは反対側の面に、ダイアフラムを有する
半導体基板を接合させるようにしたので、半田を用いる
ことなしに、台座をパッケージに固定し、ダイに接合で
きるので、半田と台座との物理的特性の相異が原因で生
じる台座の割れを防止することができ、半田の熱収縮に
よる台座の割れを防止し、信頼性の高い半導体圧力セン
サの製造方法が提供できた。
ば、前記半導体圧力センサの製造方法であって、前記パ
ッケージには前記台座を収納する凹部が形成され、該凹
部の底面に前記ダイが設けられ、前記台座の外側面と前
記パッケージの内側面及び台座の底面とダイの上面とが
当接するように台座をパッケージに嵌め込み、ストッパ
ーにより台座をパッケージに固定し、その後、台座のダ
イとの接合面とは反対側の面に、ダイアフラムを有する
半導体基板を接合させるようにしたので、半田を用いる
ことなしに、台座をパッケージに固定し、ダイに接合で
きるので、半田と台座との物理的特性の相異が原因で生
じる台座の割れを防止することができ、半田の熱収縮に
よる台座の割れを防止し、信頼性の高い半導体圧力セン
サの製造方法が提供できた。
【図1】本発明の一実施形態に係る半導体圧力センサの
概略構成を示す断面図である。
概略構成を示す断面図である。
【図2】従来例に係る半導体圧力センサの概略構成を示
す断面図である。
す断面図である。
1 シリコンチップ 2 台座 3 パッケージ 4 金属薄膜層 5 メッキ層 6 半田 7 リード 8 ワイヤ 9 ストッパー 11 ダイアフラム 12 ピエゾ抵抗 13 電極パッド 21 圧力導入孔 22 段部 31 ダイ 32 圧力導入管 33 圧力変化 34 凹部
Claims (3)
- 【請求項1】 ダイアフラムを有する半導体基板と前記
ダイアフラムに圧力を導入するための圧力導入孔が形成
された台座とを接合し、該台座の前記半導体基板との接
合面と反対側の面とパッケージのダイとを接合してなる
半導体圧力センサにおいて、前記パッケージには前記台
座を収納する凹部を形成するとともに底面に前記ダイが
設けられ、前記台座の外側面と前記パッケージの凹部の
内側面及び台座の底面とダイの上面とが当接するように
台座をパッケージの凹部に嵌め込み、ストッパーにより
台座をパッケージに固定することにより、台座がパッケ
ージのダイとが接合されるようにしたことを特徴とする
半導体圧力センサ。 - 【請求項2】 前記パッケージには前記台座を収納する
凹部が形成され、該凹部の底面に前記ダイが設けられ、
前記台座の外側面と前記パッケージの内側面及び台座の
底面とダイの上面とが当接するように台座をパッケージ
に嵌め込み、ストッパーにより台座をパッケージに固定
し、その後、台座のダイとの接合面とは反対側の面に、
ダイアフラムを有する半導体基板を接合させるようにし
たことを特徴とする請求項1記載の半導体圧力センサの
製造方法。 - 【請求項3】 前記ストッパーを溶接によりパッケージ
に固定することにより、台座をパッケージに固定するよ
うにしたことを特徴とする請求項2記載の半導体圧力セ
ンサの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1974199A JP2000214034A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 半導体圧力センサ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1974199A JP2000214034A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 半導体圧力センサ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000214034A true JP2000214034A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=12007771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1974199A Pending JP2000214034A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 半導体圧力センサ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000214034A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10205127A1 (de) * | 2002-02-07 | 2003-08-28 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit Sensor- bzw. Aktoroberfläche und Verfahren zu seiner Herstellung |
-
1999
- 1999-01-28 JP JP1974199A patent/JP2000214034A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10205127A1 (de) * | 2002-02-07 | 2003-08-28 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit Sensor- bzw. Aktoroberfläche und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US6987312B2 (en) | 2002-02-07 | 2006-01-17 | Infineon Technologies, Ag | Semiconductor device with sensor and/or actuator surface and method for producing it |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20050194685A1 (en) | Method for mounting semiconductor chips and corresponding semiconductor chip system | |
| US7568390B2 (en) | Semiconductor acceleration sensor device and method for manufacturing the same | |
| US4168630A (en) | Semiconductor pressure converter | |
| JP2005210131A (ja) | 半導体チップをパッケージングする方法および半導体チップ構造 | |
| JP2012225925A (ja) | 封止構造を有するセンサデバイス | |
| JPS6153876B2 (ja) | ||
| JPH08193897A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| US20070089511A1 (en) | Semiconductor device | |
| JP2000214034A (ja) | 半導体圧力センサ及びその製造方法 | |
| JP2000046667A (ja) | 半導体圧力センサ素子 | |
| JPH11160179A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JPH10274583A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JP2000214026A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JP2000214033A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JP2000009566A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JP2000249611A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JP2000221090A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JP2000249612A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JPH07280832A (ja) | 加速度検出装置 | |
| JP2000214032A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| JPH06241889A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH09101219A (ja) | 圧力センサ | |
| JP2001127208A (ja) | 半導体チップの実装構造及びその製造方法 | |
| JPH0566979B2 (ja) | ||
| TW500914B (en) | Low thermal stress high sensitivity silicon base micro pressure sensor structure |