JP2000214331A - ホログラムフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 干渉露光法を用いたホログラムフィルタの製
造方法において、高い回折効率と均一な回折特性を有す
るホログラムフィルタを製造方法を提供する。 【解決手段】 プリズムを介して略平行な入射光をマス
クに斜め照射し、該マスクを通して得られる回折光と透
過光をホログラム感光材上に露光する干渉露光方法を用
いたホログラムフィルタの作製方法において、干渉露光
時に用いる前記プリズムが、該入射光の入射面となる一
の斜面と対向する他の斜面に、プリズム内で反射された
一部の該入射光を吸収する光吸収層を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、入射光を波長帯域
の異なる複数の光に回折分光及び集光させるホログラム
フィルタの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、本願出願人等はホログラムレ
ンズアレイをカラーフィルタとして用いた投射型カラー
液晶表示装置の開発を行ってきた。このカラーフィルタ
は、ホログラムの回折分光機能を利用して白色光からＲ
ＧＢの各色光を所定方向に取り出すことができるもので
ある。色素や顔料を用いた通常のカラーフィルタのよう
に、吸収による光の損失がほとんどないため、原理的に
高い光利用効率を得ることができる。よって、明るさの
改善が特に求められている投射型カラー液晶表示装置に
おいて有効である。

【０００３】図８は、本願出願人による先願の公開公報
（特開平９−１８９８０９）に開示された投射型カラー
液晶表示装置に用いられる空間光変調素子の構造を模式
的に表した装置断面図である。

【０００４】液晶パネル１１１は、シリコン基板１２１
と、そのシリコン基板１２１上に形成されたアクティブ
マトリクス駆動回路１２２と、そのアクティブマトリク
ス駆動回路１２２によって選択的に制御駆動される画素
電極１２３ｒ、１２３ｇ、１２３ｂを規則的に配列せし
めた画素電極層１２３と、誘電体ミラー膜１２４と、配
向膜１２５と、スペーサで液晶を封止した光変調層１２
６と、配向膜１２７と、透明な共通電極層１２８とを順
に積層させた構造を有している。

【０００５】ホログラムカラーフィルタ１１３は、単位
ホログラムレンズを規則的に配列したいわゆるホログラ
ムレンズアレイで構成されており、Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色
を含んだ読み出し光（白色光）を各色光毎に回折分光
し、液晶パネル１１１内のＲ、Ｇ、Ｂに対応する画素電
極１２３ｒ、１２３ｇ、１２３ｂの位置へ集光する機能
を有する。従って、入射光を無駄なく利用した投射型カ
ラー液晶表示装置を提供することができる。なお、同図
に示すように、画素電極１２３上に誘電体ミラー膜１２
４を備える場合は、集光先は誘電体ミラー膜１２４とな
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】図９は、干渉露光法を
用いたホログラムフィルタの製造方法における露光時の
構成を示す図である。

【０００７】図９に示すように、表面にホログラム感光
材２１７を形成した薄板ガラス２１８上に密着用オイル
２１６を介してホログラムマスター基板であるＥＢ基板
２１３を密着固定する。さらにこのＥＢ基板２１３上に
密着用オイル２１２を介して台形プリズム２１１を置
く。露光光は、この台形プリズム２１１の一方の斜面か
ら入射する。

【０００８】ＥＢ基板２１３とは、図に示すようにガラ
ス基板２１４上にＥＢ（電子ビーム）法を用いてホログ
ラムマスターのマスクパターン（クロムマスク２１５）
を形成した基板をいう。即ち、まずガラス基板にクロム
（Ｃｒ）等などの金属薄膜をスパッタ法等で形成した
後、フォトリソグラフィ工程を用いてパターニングを行
うが、レジストの露光を行う際に、電子ビーム（ＥＢ）
により描画露光し、このレジストパターンを用いて金属
薄膜のエッチングを行い、金属マスク（クロムマスク２
１５）パターンを得たものである。

【０００９】クロムマスクパターンは細かいフリンジパ
ターンからなり、このマスクに入射された光は、一部は
そのまま透過するとともに一部は回折する。これらの透
過光と回折光の２光束の干渉光がホログラム感光材２１
７を直接干渉露光する。この後、ホログラム感光材２１
７を現像すれば、ホログラムフィルタを得ることができ
る。

【００１０】ホログラムフィルタの特性は、液晶表示装
置に使用した場合、スクリーン上の画像特性に大きく反
映する。ホログラムフィルタの回折効率が悪ければ表示
装置の光利用率は下がり、画面は暗くなる。ホログラム
フィルタの特性に場所によるむらがあれば、画面上に階
調むらとして現れる。

【００１１】上述する従来の干渉露光法を用いて作製し
たホログラムフィルタを用いて投射型液晶表示装置を作
製し、そのスクリーン画面を映し出したところ、ホログ
ラムフィルタの特性むらが要因と思われる階調差が画面
上に認められた。

【００１２】本願の発明は、上述した問題に鑑み、ホロ
グラムフィルタの特性むらをなくし、より高い回折効率
を得ることができるホログラムフィルタの製造方法を提
供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明のホログラムフィ
ルタの製造方法の第１の特徴は、プリズムを介して略平
行な入射光をホログラムマスター基板に斜めより照射
し、該ホログラムマスター基板を通して得られる回折光
と透過光とでホログラム感光材を露光する干渉露光方法
を用いたホログラムフィルタの製造方法において、前記
プリズムが、該入射光の入射面となる一の斜面と対向す
る他の斜面に光吸収層を有することである。

【００１４】上記本発明の第１の特徴によれば、干渉露
光工程において、プリズムの一の斜面から入射した光の
うち一部の光は、ホログラムマスター基板面等で反射
し、その一部は該プリズムの他の斜面を介して外部に出
射する。この際、プリズムと空気層の屈折率の差異に伴
い界面で反射が起きるが、光吸収層があれば、プリズム
の該他の斜面に達する光は光吸収層により吸収されるた
め、反射の発生を抑制できる。よって、この反射光によ
り起こる部分的なホログラム感光材の露光かぶりの発生
を抑制できる。この結果、より均一な露光によりホログ
ラムフィルタの回折特性むらを防止できる。

【００１５】本発明のホログラムフィルタの製造方法の
第２の特徴は、略平行な入射光をホログラムマスター基
板に斜めより照射し、該ホログラムマスター基板を介し
て得られる回折光と透過光とで透明支持基板表面に形成
したホログラム感光材を露光する干渉露光方法を用いた
ホログラムフィルタの製造方法において、前記透明支持
基板が、裏面に光吸収層を有することである。

【００１６】上記本発明の第２の特徴によれば、干渉露
光工程において、ホログラム感光材を透過し、支持基板
裏面に達する光を上記光吸収層で吸収できる。よって、
支持基板の外表面で反射した光が、戻り光としてホログ
ラム感光材の露光に寄与することを抑制できる。戻り光
による露光は、本来意図する露光光の入射角と全く異な
る方向からの露光となるため、設計上と異なる干渉露光
がされることとなり、結果的にホログラムフィルタの回
折効率を下げる。支持基板裏面の光吸収層の存在により
反射による戻り光の発生が阻止できるので、ホログラム
フィルタの回折効率の低下を抑制できる。

【００１７】本発明のホログラムフィルタの製造方法の
第３の特徴は、透明基板の裏面に薄膜パターンが形成さ
れたホログラムマスター基板に、略平行な入射光を斜め
から照射し、該ホログラムマスター基板を介して得られ
る回折光と透過光とでホログラム感光材を露光する干渉
露光方法を用いたホログラムフィルタの製造方法におい
て、ホログラムマスター基板に対する露光光の入射角を
θ、ホログラムマスター基板の板厚をｄとするとき、ホ
ログラムマスター基板上の露光光の照射領域が、入射側
端部に２ｄｔａｎθ以上のマージン幅を有することであ
る。

【００１８】ホログラムマスター基板に照射される光の
一部は、裏面の薄膜パターン表面で反射されるが、その
うちの一部の光はさらに透明基板表面で再反射されホロ
グラムマスター基板に入射し、ホログラム感光材上の一
定領域の露光に寄与する。露光かぶりの有無は、ホログ
ラムフィルタの回折特性の差を生じ、さらにこれを用い
た液晶表示装置の画像特性に影響を与える。よって、カ
ラーフィルタとして用いるホログラム感光材上に露光か
ぶりがある領域とない領域が存在すると、画像上の階調
差として把握される。しかし、干渉露光工程において、
ホログラムマスター基板上の露光光の照射領域が入射側
端部に２ｄｔａｎθ以上のマージン幅を有するように調
整すれば、カラーフィルタとして使用する有効なホログ
ラム感光材領域全体に一様な露光かぶりが生じ、回折特
性の均一化を図ることができる。

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。 （第１の実施の形態）図１（ａ）は、第１の実施の形態
に係る干渉露光法を用いたホログラムフィルタの製造方
法における露光時の構成を示す図である。

【００１９】ホログラムフィルタを作製するには、まず
フィルタの支持体となる厚み約１ｍｍのガラス基板１８
上に、厚み約３μｍ〜５μｍのフィルム状のホログラム
感光材１７を貼り付ける。ホログラム感光材１７として
は、例えばデュポン社製オムニデックス（商品名）等の
市販の材料を用いることができる。この他にも、銀塩感
材、フォト・ポリマ、フォトレジストあるいは重クロム
酸ゼラチン等からなるホログラム感光材等を用いること
もできる。なお、フィルム状の感光材の代わりに液状の
感光材を用いて、ガラス基板上にコーティングしてもよ
い。

【００２０】次に、図１（ａ）に示すように、ホログラ
ム感光材１７上にホログラムマスターであるＥＢ基板１
３を、さらにＥＢ基板１３の上に台形プリズム１１をそ
れぞれ間隙に密着用オイル１２を介して固定する。

【００２１】この際、ＥＢ基板１３は、クロムマスク１
５を下にしてホログラム感光材１７とクロムマスク１５
が密着用オイル１６を介して近接対向できるように配置
する。なお密着用オイル１２、１６としては、反射が起
こりにくくするためにガラス基板１４等と屈折率が近い
材料を選択する。

【００２２】第１の実施の形態におけるホログラムフィ
ルタの製造方法の特徴は、干渉露光工程において、台形
プリズム１１として露光光の入射面となる一の斜面に対
向する他の斜面上に光吸収層３０を形成することであ
る。光吸収層３０は、黒板ガラスでもよいし、黒色のフ
ィルムや黒色の印刷体でもよい。露光光として使用する
光の波長を吸収するものであればよい。

【００２３】露光光は、図中右手の台形プリズム１１の
一斜面から入射し、斜めからＥＢ基板１３に入光する。
露光光の一部はそのままクロムマスク１５を透過すると
ともに、一部は回折を受ける。この回折光と透過光によ
り、ホログラム感光材１７は干渉露光される。

【００２４】以下、光吸収層３０の効果について、光吸
収層を有さない場合との比較において説明する。図２に
示すように、台形プリズム１１の一斜面から入射される
光は、そのほとんどがクロムマスク１５を介して透過
光、回折光として感光材に露光されるが、クロムマスク
１５の有する金属反射特性の為、一部の光は表面で反射
される。台形プリズム１１の斜面上に光吸収層３０がな
い場合、この反射光は台形プリズム１１の入射光が入射
された一の斜面と対向する他の斜面方向に反射され外部
に出射する。この際、台形プリズム１１と空気の屈折率
差のため、そのうちの一部の光は台形プリズム１１の斜
面で反射され戻ってくる。この戻り光は再びクロムマス
ク１５を介してホログラム感光材を露光することとな
る。

【００２５】戻り光が照射されるクロムマスク１５上の
領域と直接入射した露光光が照射されるクロムマスク１
５上の領域にはずれがある。図３はこれを模式的に示し
た図である。クロムマスク１５に入射したそれぞれの光
は、回折光もしくは透過光としてホログラム感光材１７
を露光する。よって、ホログラム感光材１７には、台形
プリズム１１の斜面で反射された戻り光によるかぶり露
光が生じない領域ａとかぶり露光が生じる領域ｂができ
てしまう。このような露光むらはカラーフィルタにした
場合に回折特性のむらとなる。

【００２６】回折特性にむらのあるホログラムフィルタ
を用いて液晶表示装置を作製し、スクリーン４０に画像
を映しだすと、ホログラムフィルタの回折特性のむらが
スクリーン上では階調差のある領域Ａと領域Ｂとして目
視で認識されてしまう。

【００２７】このように、光吸収層がない場合は、台形
プリズム１１斜面での反射光の存在に起因するホログラ
ムフィルタの回折特性のむらのため、画像上の階調差が
生じる。これに対し、図１（ａ）に示すように、台形プ
リズム１１の露光光の入射面となる一の斜面に対向する
他の斜面上に光吸収層３０が形成されていれば、クロム
マスク１５表面で反射され、台形プリズム１１の他の斜
面に達する光は、光吸収層３０でほぼ完全に吸収される
ため、反射が生じず、図３に示すような戻り光による露
光むらがホログラム感光材１７で発生しない。その結
果、回折特性が場所により均一なホログラムフィルタを
得ることができ、これを用いた液晶表示装置において、
スクリーン上の階調むらの発生を防ぎ、画像特性を改善
できる。 （第２の実施の形態）図１（ｂ）は、第２の実施の形態
における干渉露光法を用いたホログラムフィルタの製造
方法における露光時の構成を示す図である。

【００２８】第２の実施の形態におけるホログラムフィ
ルタの製造方法の特徴は、図１（ｂ）に示すように、ホ
ログラム感光材１７への干渉露光の際に、ホログラム感
光材１７の支持体となる薄板ガラス１８の裏面に光吸収
層３２を備えたことである。光吸収層３２は、黒色ガラ
ス、黒色フィルム等露光波長の光を吸収できるものであ
れば何でも良い。なお、液晶表示装置の光変調素子中に
ホログラムフィルタを組み入れるときは、上記光吸収層
３２は剥離して用いる。

【００２９】以下、光吸収層３２の効果について、光吸
収層３２を有さない場合との比較において説明する。図
２に示すように、光吸収層３２がない場合は、露光時に
ホログラム感光体１７に照射された光の一部はそのまま
薄板ガラス１８を透過し空気中に射出される。射出され
る際、ガラスと空気との屈折率の差により界面で一部の
光は再反射される。再反射された光は、本来の露光光と
は逆方向からホログラム感光材１７を露光してしまう。

【００３０】このように、本来ホログラムマスター基板
（ＥＢ基板１３）を介して所定方向から入射する光によ
って露光されるのではなく、所定方向とは異なる方向か
ら入る光によりホログラム感光材１７が露光されると、
完成したホログラムフィルタは、図４（ａ）に示すよう
な理想的な回折特性を示さず、図４（ｂ）に示すよう
に、本来の理想的な回折特性とは異なる方向に回折光を
射出ししまう。

【００３１】これに対し、図１（ｂ）に示す第２の実施
の形態におけるように露光時において薄板ガラス１８の
裏面に光吸収層３２を備えた場合は、ホログラム感光体
１７を透過し、薄板ガラス１８に達した光は光吸収層３
２によって吸収されるので薄板ガラス１８表面での反射
の発生が抑制される。よって、反射光による露光の影響
が抑制され、これに起因する実質的なホログラムフィル
タの回折効率の低下を抑制できる。この結果、この製造
方法で作製したホログラムフィルタを使用することによ
り、液晶表示装置の光利用効率を向上させることができ
る。

【００３２】なお、第１の実施の形態に示すように、第
２の実施の形態における製造方法においても、露光時に
使用する台形プリズム１１の斜面に光吸収層３０を備え
てもよい。 （第３の実施の形態）図５は、第３の実施の形態に係る
干渉露光法を用いたホログラムフィルタの製造方法にお
ける露光時の概略構成を示す図である。第３の実施の形
態におけるホログラムフィルタの製造方法の露光時にお
ける基本構成は、図１（ａ）、図１（ｂ）に示した第１
の実施の形態における露光時の構成と共通する。ここで
は、説明の便宜のため、アパーチャ３６を通過した光が
ＥＢ基板１３を透過する様子を概略的に示している。

【００３３】入射光は、台形プリズム１１を介してＥＢ
基板１３に斜めから入射される。ＥＢ基板１３は、クロ
ムマスク１５とガラス基板１４とからなる。入射光はこ
れを透過直進する光と回折される光とに別れ、ホログラ
ム感光材１７を干渉露光する。このとき、一部の露光光
はクロムマスク１５面の有する金属的性質により反射さ
れる。

【００３４】第１の実施の形態においては、クロムマス
ク１５で反射された光が台形プリズム１１に入光し、さ
らにプリズム斜面で反射する光の影響について考慮した
が、ここでは台形プリズム１１と密着用オイル１２およ
びガラス基板１４との屈折率の微妙な相違から生じる各
層界面での反射光の影響について考慮する。

【００３５】図６（ｂ）に示すように、アパーチャ３６
を通して図中右手上方から斜めに入射した光の多くはそ
のままクロムマスク１５を透過直進もしくは回折される
が、一部の光はクロムマスク１５表面で反射される。さ
らにその一部は台形プリズム１１と密着用オイル１２の
界面、あるいは密着用オイル１２とガラス基板１４の界
面で再反射され、クロムマスク１５に戻ってくる。この
戻り光の一部はクロムマスク１５を透過または回折さ
れ、ホログラム感光材１７の露光に寄与することとな
る。なお、図には便宜的に直進透過光のみを示してい
る。これらの戻り光は、ホログラム感光材１７の一定領
域（図中左側）において露光のかぶりを発生させる。

【００３６】図７は、このような露光形態で作製された
ホログラム感光材１７をカラーフィルタとして用いた従
来の液晶表示装置のスクリーン４０上の画像の様子を示
す。

【００３７】露光かぶりが発生していないホログラム感
光材領域をカラーフィルタとする図中右側に対応するス
クリーン上の画像と露光かぶりが発生しているホログラ
ム感光材領域をカラーフィルタとする図中左側の領域と
では、目視でわかる階調差が発生する。特に、ライン状
の階調差は目立ちやすいため、画面を評価する上で問題
となり易い。

【００３８】図５を参照すれば明らかなように、図中右
手より斜めに入射された露光光のうちクロムマスク１５
表面で反射され、さらにガラス基板１４表面等で再反射
されて起こる露光かぶりが発生する領域の境界は、露光
光がクロムマスク１５に入射するときの入射角とＥＢ基
板１３の厚みに依存する。

【００３９】いま、この露光光の入射角をθ、ＥＢ基板
１３の厚みをｄとすると、クロムマスク１５上で露光光
のかぶりが起こらない領域の範囲は、アパーチャ３６に
より露光光が絞りこまれた結果最も端にくるクロムマス
ク１５上の露光領域端（露光光入射側端）から２ｄｔａ
ｎθの幅にほぼ相当する。図１に示すように、クロムマ
スク１５とホログラム感光材１７とは密着用オイルを介
して接しているため、ホログラム感光材１７上で露光か
ぶりが発生しない領域幅もほぼ２ｄｔａｎθに対応す
る。

【００４０】本実施の形態におけるホログラムフィルタ
の製造方法では、露光光が入射角θで入射され、ＥＢ基
板１３の厚みをｄとする場合において、同図に示すよう
に、ＥＢ基板１３上の露光光の照射領域として入射側端
部より２ｄｔａｎθ以上の幅の領域を露光光照射のマー
ジン領域として確保するようアパーチャを調整し、この
マージン領域を除く領域を有効なホログラムフィルタ領
域としている。

【００４１】即ち、図５に示すように、露光かぶりがあ
る領域のみを有効なホログラムフィルタ領域として利用
することになり、実質的にスクリーン上に段階的な階調
差が現れないため、目視上は良好な均一画像を得ること
ができる。

【００４２】以上、実施の形態に沿って本願発明の内容
について説明したが、本願発明は上述する実施の形態に
制限されるものではない。例えば、各実施の形態は独立
に実施可能であるばかりでなく、第１の実施の形態から
第３の実施の形態を任意に組み合わせても良い。これ以
外にも種々の変更改良が可能であることは当業者であれ
ば自明であろう。

【００４３】

【発明の効果】本発明の第１の特徴は、上述したように
干渉露光法を用いたホログラムフィルタの製造方法にお
いて、干渉露光時に用いる前記プリズムが、該入射光の
入射面となる一の斜面と対向する他の斜面にプリズム内
で反射された一部の該入射光を吸収する光吸収層を有す
ることである。これによれば、プリズムの斜面に設けら
れた光吸収層の存在により、界面での光反射の発生を抑
制できる。このため、この反射光により起こる部分的な
ホログラム感光材の露光かぶりが抑制できる。部分的な
露光かぶりの存在により生じるスクリーン画像上の階調
差が消滅するため、画像特性が改善される。

【００４４】また、本発明の第２の特徴は、ホログラム
感光材を形成する透明支持基板の裏面に光吸収層を有す
ることである。これによれば、支持基板の外表面での反
射光の発生を抑制し、これらの反射光の戻り光がホログ
ラム感光材を露光するのを抑制し、不要な露光によるホ
ログラムフィルタの回折効率の低下を抑制できる。

【００４５】さらに本発明の第３の特徴は、ホログラム
マスター基板に対する露光光の入射角をθ、ホログラム
マスター基板の板厚をｄとするとき、ホログラムマスタ
ー基板上の露光光の照射領域が、入射側端部に２ｄｔａ
ｎθ以上のマージン幅を有することである。これによれ
ば、カラーフィルタとして使用する有効なホログラム感
光材領域全体に一様に、ホログラムマスター基板で発生
する反射に起因する露光かぶりが生じるため、部分的な
露光かぶりの存在により生じるスクリーン画像上の階調
差が消滅し、画像特性が改善される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１、第２の実施の形態にかかる干渉
露光法を用いたホログラムフィルタの製造方法における
露光工程の構成を示す図である。

【図２】本発明の第１、第２の実施の形態におけるホロ
グラムフィルタの製造方法の効果を説明するための図で
ある。

【図３】本発明の第１の実施の形態におけるホログラム
フィルタの製造方法の効果を説明するための図である。

【図４】ホログラムフィルタにおいて、露光工程で不要
な露光を受けたことによる回折特性の不良例を説明する
ための図である。

【図５】本発明の第３の実施の形態にかかるホログラム
フィルタの製造方法を示す露光工程の構成図である。

【図６】本発明の第３の実施の形態におけるホログラム
フィルタの製造方法の効果を説明するための図である。

【図７】本発明の第３の実施の形態におけるホログラム
フィルタの製造方法の効果を説明するための図である。

【図８】ホログラムフィルタを用いた従来の光変調素子
の装置断面図である。

【図９】従来のホログラムフィルタの製造方法に係る露
光工程における構成図である。

【符号の説明】

１１ 台形プリズム １２、１６ 密着用オイル １３ ＥＢ基板 １４ ガラス基板 １５ クロムマスク １７ ホログラム感光材 １８ 薄板ガラス ３０、３２ 光吸収層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 AA25 AA34 AA51 AA60 AA64 CA01 CA05 CA09 CA15 CA17 CA22 CA28 CA30 2K008 AA00 BB04 DD13 DD15 DD22 HH19 HH20 HH25

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プリズムを介して略平行な入射光をホロ
   グラムマスター基板に斜めより照射し、該ホログラムマ
   スター基板を通して得られる回折光と透過光とでホログ
   ラム感光材を露光する干渉露光方法を用いたホログラム
   フィルタの製造方法において、 前記プリズムが、該入射光の入射面となる一の斜面と対
   向する他の斜面に光吸収層を有することを特徴とするホ
   ログラムフィルタの製造方法。
2. 【請求項２】 略平行な入射光をホログラムマスター基
   板に斜めより照射し、該ホログラムマスター基板を介し
   て得られる回折光と透過光とで透明支持基板表面に形成
   したホログラム感光材を露光する干渉露光方法を用いた
   ホログラムフィルタの製造方法において、 前記透明支持基板が、裏面に光吸収層を有することを特
   徴とするホログラムフィルタの製造方法。
3. 【請求項３】 透明基板の裏面に薄膜パターンが形成さ
   れたホログラムマスター基板に、略平行な入射光を斜め
   から照射し、該ホログラムマスター基板を介して得られ
   る回折光と透過光とでホログラム感光材を露光する干渉
   露光方法を用いたホログラムフィルタの製造方法におい
   て、 ホログラムマスター基板に対する露光光の入射角をθ、
   ホログラムマスター基板の板厚をｄとするとき、ホログ
   ラムマスター基板上の露光光の照射領域が、入射側端部
   に２ｄｔａｎθ以上のマージン幅を有することを特徴と
   するホログラムフィルタの製造方法。