JP2000214341A - モ―ド形状変換器、その製造方法及びモ―ド形状変換器を用いた集積光学素子 - Google Patents
モ―ド形状変換器、その製造方法及びモ―ド形状変換器を用いた集積光学素子Info
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Abstract
形状変換器を用いる集積光学素子を提供する。 【解決手段】 光ファイバと光学素子の機能遂行部の入
出力側との間に位置して前記光ファイバのモードと前記
機能遂行部の入出力端のモードを結合するモード形状変
換器は、基板と、前記基板にコーティングされ、前記コ
ーティングされた層のうち所定部分がエッチングされた
下部クラッドと、前記エッチングされた部分に形成され
る下位リブ光導波路と、前記下位リブ光導波路及びエッ
チングされない下部クラッド上に形成されるコアと、前
記コア上に前記下位リブ光導波路と並んで所定形状に形
成される上位リブ光導波路と、前記上位リブ光導波路及
び前記コア上に形成される上部クラッドと、を含むこと
を特徴とする。
Description
器、その製造方法及び前記モード形状変換器を用いた集
積光学素子に関し、特に、光学素子の入出力端に位置し
て光ファイバを通じて光学素子に/から入/出力される
光を結合するモード形状変換器、その製造方法及び前記
モード形状変換器を用いた集積光学素子に関する。
様々な光学素子を一枚の基板内に製造する技術を言う。
このような集積光学技術を利用すると、単位光学素子間
の整列が容易になるために、狭い面積に複雑な構成を有
する多機能の光学素子を容易に製造できる。
造にはリブ光導波路(rib waveguide)がある。リブ光導
波路は平面光導波路の一部だけをエッチングして作った
チャネル光導波路(channel waveguide)であって、次の
ような長所がある。第一に、コア(core)とクラッド(cl
ad)に対する屈折率選択の幅が広い。第二に、コアとク
ラッド間の屈折率差に拘わらず、断面積の広い単一モー
ド光導波路を構成することができる。第三に、エッチン
グ深さを主工程変数として用いてモード分布及び伝搬定
数(propagation constant)などの光特性を容易に調節す
ることができる。第四に、方形導波路(rectangular wav
eguide)に比べてエッチング深さが小さいために、より
精密なパターン具現が可能である。第五に、コア層のエ
ッチング時に生ずる損傷、例えば異方性(anisotropic)
エッチングによるパターン大きさの誤差、材料がストレ
ス(stress)を有する場合、エッチング工程中に発生する
クラック現象、エッチング副産物の蓄積による損傷など
が減らせる。
光ファイバが光学素子の光導波路と結合される時、結合
損失が非常に大きいという短所がある。単一モード光フ
ァイバは、縦横比が1:1である円状のモード分布を有
し、その大きさは約10μmと比較的大きいが、リブ光
導波路のモードは横幅が縦幅より大きい楕円形であり、
その大きさも光ファイバのそれに比べて小さい場合が多
い。このため、前記リブ光導波路と光ファイバ間の接続
部分でモード形状(mode shape)との間でミスアラインメ
ント(misalignment)が生ずる。このようなモード形状の
ミスアラインメントによって、光波は接続部分を通過す
る間に接続部分の不連続(discontinuity)の影響を受
け、反射又は散乱されながら結合損失(coupling loss)
を有することになる。これを解決するために、集積光学
素子の入出力端にモード形状変換器(mode shape conver
ter)を挿入する。このモード形状変換器は、光ファイバ
モードを光学素子の機能遂行に適したモード形状に徐々
に変化させて結合損失を低減させる役割を果たす。
あって、米国特許第5,078,516号明細書に開示し
ている。図1のモード形状変換器は、第1光導波路10
0、第2光導波路102、及び基板104で構成され
る。参照符号106は入力部、108は出力部である。
符号110は、第1光導波路100、第2光導波路10
2及び基板104の屈折率を表す。前記第1光導波路1
00は、光学素子の機能遂行に適する小さいモード大き
さを有するように設計される。前記第2光導波路102
は、前記第1光導波路100に比べて屈折率が小さく、
光ファイバとの入出力結合に好都合な大きいモードを有
するように設計される。前記入力部106の光導波路は
前記第2光導波路102だけで構成される。前記第2光
導波路102は、光波を深さ方向(depth direction)に
限定するために空気(air)を上部クラッドとして、前記
基板104を下部クラッドとして使用する。また、光波
を長さ方向(longitudinal direction)に限定するために
コアの一部をエッチングしてリブ光導波路形態に構成す
る。
導波路100だけで構成される。前記出力部108の第
1光導波路100の構造は、前記入力部106のリブ光
導波路構造とは違って、ストリップローデッド光導波路
(strip loaded waveguide)構造を有する。空気を上部ク
ラッドとして用い、前記第2光導波路102を下部クラ
ッドとして用いる。
は光ファイバから入力されて結合されたモードが損失無
しに光学素子の機能遂行に適したモード形状に変化する
ようモード変換領域を置く。モード変換領域を通過しな
がら大きいモード大きさを有するリブ光導波路は小さい
モード大きさを有するストリップローデット光導波路に
変換される。前記第1光導波路100と第2光導波路1
02の幅は同時に増加するが、前記第1光導波路100
の屈折率が前記第2光導波路102の屈折率に比べて大
きいので、導波光は前記第1光導波路100に漸次移動
し、前記出力部108に達すると、大部分の導波光のパ
ワーが前記第1光導波路100側に集まる。
部106のモードプロファイルであり、図2(b)は前
記出力部108のモードプロファイルを示す。
えた集積光学素子は、次のような問題点を有する。第一
に、相異なる屈折率を有する材質の二つのコアが必要で
あり、凸凹状の第2光導波路上に第1光導波路を高精度
に形成すべきなので、製造工程が複雑である。第二に、
図2(a)に示すように、入力部106のモード大きさ
は大きいが、相変わらず楕円形の導波モードを有するリ
ブ光導波路構造であるため、円形モードを有する光ファ
イバとの結合損失の最小化に限界がある。第三に、入力
部光導波路のモード大きさを増大させるために縮小テー
パリング(down-tapering)構造を用いるために、光導波
路テーパの長さが増加し、モード変換中に発生する導波
損失が増加する。
は、拡大テーパリング(up-tapering)構造を有する、単
一媒質(single medium)の二重光導波路を備えるモード
形状変換器、及びその製造方法及び前記モード形状変換
器を用いる集積光学素子を提供することにある。
めに、本発明の一実施形態によれば、光ファイバと光学
素子の機能遂行部の入出力側との間に位置して前記光フ
ァイバのモードと前記機能遂行部の入出力端のモードを
結合するモード形状変換器において、基板と、前記基板
にコーティングされ、前記コーティングされた層のうち
所定部分がエッチングされた下部クラッドと、前記エッ
チングされた部分に形成される下位リブ光導波路と、前
記下位リブ光導波路及びエッチングされない下部クラッ
ド上に形成されるコアと、前記コア上に前記下位リブ光
導波路と並んで所定形状に形成される上位リブ光導波路
と、前記上位リブ光導波路及び前記コア上に形成される
上部クラッドと、を含むことを特徴とする。
バと光学素子の機能遂行部の入出力側との間に位置して
前記光ファイバのモードと前記機能遂行部の入出力端の
モードを結合するモード形状変換器を製造する方法にお
いて、基板に下部クラッドをコーティングする第1段階
と、前記下部クラッド上に食刻マスクをパタニングし、
前記エッチングマスクのパターンを用いて前記下部クラ
ッドを所定長さにエッチングする第2段階と、前記エッ
チングされた下部クラッドにコアをコーティングして下
位リブ光導波路及びコアを形成する第3段階と、前記コ
アに他のエッチングマスクをパタニングし、この他のエ
ッチングマスクパターンを用いて前記コアをエッチング
して上位リブ光導波路を形成する第4段階と、前記コア
及び前記上位リブ光導波路に上部クラッドをコーティン
グする第5段階と、からなることを特徴とする。
能遂行部と、この機能遂行部の入力端に位置して入力さ
れる光ファイバモードを前記光学素子の機能遂行に適し
たモードに変換する第1モード形状変換器と、前記機能
遂行部の出力端に前記第1モード形状変換器と反対方向
に位置して前記機能遂行部から出力されるモードを光フ
ァイバモードに変換する第2モード形状変換器と、を備
える集積光学素子において、前記第1モード形状変換器
及び第2モード形状変換器は、基板と、前記基板にコー
ティングされ、前記コーティングされた層のうち所定の
部分がエッチングされた下部クラッドと、前記エッチン
グされた部分に形成される下位リブ光導波路と、前記下
位リブ光導波路及びエッチングされない下部クラッド上
に形成されるコアと、前記コア上に前記下位リブ光導波
路と並んで所定形状に形成される上位リブ光導波路と、
前記上位リブ光導波路及び前記コア上に形成される上部
クラッドと、を含むことを特徴とする。
態を添付図面を参照しつつ詳細に説明する。図3は、本
発明によるモード形状変換器の構造図である。図3のモ
ード形状変換器は、基板300、下部クラッド302、
下位リブ光導波路304、コア306、上位リブ光導波
路308、及び上部クラッド310を含む。符号312
は結合領域(coupling region)、314は変換領域(conv
ersion region)、316は安定化領域(stabilization r
egion)である。下位リブ光導波路、コア、上位リブ光導
波路304,306,308のいずれも同一の材質から
形成される。
各々図3の結合領域312、変換領域314、及び安定
化領域316の断面と該当領域におけるモードを示した
ものである。光ファイバと連結される結合領域312の
円形モードが変換領域314を通過しながら漸次楕円形
モードに変換され、安定化領域316では光学素子の機
能遂行に適した楕円形モードになる。
下位リブ光導波路304及び上位リブ光導波路308の
平面図である。ここで、WLi、WUiは前記下位及び上位
リブ光導波路の入力側の幅を各々示し、WLf、WUfは前
記下位及び上位リブ光導波路の出力側の幅を各々示す。
図5(a)及び図5(b)に示すように、光導波路は各
領域によって可変な構造を有することが判る。前記下位
リブ光導波路304の幅は徐々に減少して‘0’にな
り、前記上位リブ光導波路308の幅は光学素子の機能
遂行に適した光導波路の幅まで漸次増加する。ここで、
前記光学素子の機能とは、光波の変調、スイッチング又
はフィルタリングを言う。前記結合領域312は光ファ
イバと結合される領域であって、結合効率を高めるため
に、結合領域のモードが光ファイバのモードと同一な大
きさと形状を有するよう設計される。この領域は単一媒
質で構成されたコアを有する二重リブ光導波路構造にな
っている。前記二重リブ光導波路は、単一リブ光導波路
である上位リブ光導波路308と、この上位リブ光導波
路の下に逆様になった状態で配置された下位リブ光導波
路304とが備えられた光導波路である。前記上位リブ
光導波路308は光学素子の機能遂行部に連結される光
導波路である。前記下位リブ光導波路304は、前記二
重リブ光導波路の基本モード(fundamental mode)が光フ
ァイバの円形モードとうまく一致するようにその幅と深
さを調節する。
で結合された光波を光学素子の機能遂行に適したモード
形状に変換させる領域であって、変換途中に発生する輻
射損失を最小化するために断熱条件(adiabatic conditi
on)が満足されるように設計される。この領域は光導波
路に沿って下位リブ光導波路の幅が漸次縮まることによ
って結合領域の円形モードを光学素子の機能遂行に適し
た楕円形のリブ光導波路モードに変換させる。前記下位
リブ光導波路304の幅が縮まると、前記下位リブ光導
波路304に限定される光パワーは漸次減少し、光波は
上位リブ光導波路308に移動する。
04,308の幅変化は輻射損失が最小になるように設
計する。
発生する高次モード(higher-ordermode)を取り除き、光
学素子の機能遂行に適したモードを光学素子の機能遂行
部に伝達する。この領域は上位リブ光導波路308だけ
で構成される。前記安定化領域316は変換された光波
に対して機能遂行に適したモードだけを残し、残り高次
モードは基板に輻射させる。
次のように設計製作される。まず、光学素子の機能遂行
部に適した光導波路構造を決定する。本発明では楕円形
モード形状を有するリブ光導波路を採用する。次に、光
ファイバのモード形状と一致する入力部光導波路構造を
決定する。縮小テーパリング法のように入力部の光導波
路の面積を縮めて光ファイバのモード形状と光導波路の
モード形状を一致させると、光導波路断面形状の僅かな
変化にも影響して有効な入力結合が困難になる。従っ
て、効率的な入力結合と光導波路断面形状の誤差許容度
を高めるために、拡大テーパリング法のように断面積の
大きい光導波路構造を設計する。本発明では単一リブ光
導波路(上位リブ光導波路)の下に大きな断面積を有す
る、逆になったリブ光導波路(下位リブ光導波路)を備え
た二重リブ光導波路を構成してモード大きさが大きく、
円形のモードを有するよう設計する。
波路テーパを設計する。大きい円形モードを楕円形モー
ドに変換させるためには深さ方向のテーパが必要である
が、本発明では幅方向(width direction)テーパリング
だけで深さ方向のテーパリング効果が与えられるよう下
位及び上位リブ光導波路304,308を設計する。前
記下位リブ光導波路304の幅を徐々に縮めると、前記
下位リブ光導波路304を進行する光波が徐々に前記上
位リブ光導波路308に集まる。前記上位及び下位リブ
光導波路308,304の幅の変化はモード変換過程で
発生する輻射損失を最小化するように決定される。
行われる。図6は、本発明によるモード形状変換器の結
合領域の断面図である。符号600は基板、602は下
部クラッド、604は下位リブ光導波路、606はコ
ア、608は上位リブ光導波路、610は上部クラッド
である。WUiは前記上位リブ光導波路608の入力側の
幅、Dtは前記コア606の厚さ、DUiは前記上位リブ
光導波路608の形成のためのエッチング深さ、DLiは
前記下位リブ光導波路604の形成のためのエッチング
深さ、WLiは前記下位リブ光導波路604の入力側の幅
である。各パラメータは次のように決定できる。例え
ば、光学素子の機能遂行に適した上位リブ光導波路構造
を設計して一部パラメータDt、DUi、WUfを決定する
と、光ファイバのモードと最大の結合効率を有するよう
結合領域の断面を決定付ける残りパラメータ、即ち
WLi、DLi、WUiを下記の式(1)によって決定でき
る。結合効率は二重リブ光導波路のモードと光ファイバ
モードの重なり積分(overlap integral)から得られる。
重なり積分は結合モード理論(coupled mode theory)に
基づいて下記の式(1)で示される。
各々光ファイバと結合領域のモード分布である。前記式
(1)によれば、二つのモード分布が同一な上に、正確
に整列されると、重なり積分値は‘1’になる。上述の
ように設計製作された下位及び上位リブ光導波路のパタ
ーン及びエッチング深さに基づいてモード形状変換器を
製造する。図7乃至図13は本発明によるモード形状変
換器の製造工程を示す図である。前記モード形状変換器
の材質としては半導体材料(Si、GaAs、InP)、誘電体材
料(LiNbO3)、ポリマー(polymer)などを利用するこどが
てきる。
を用いた製造工程である。図7に示す段階では、シリコ
ン基板700にポリマーをコーティングして下部クラッ
ド702を形成する。図8に示す段階では前記下部クラ
ッド702上に、ダークフィールドマスク(dark field
mask)を用いた写真工程(photolithography)で下位リブ
光導波路を形成するためにエッチングマスクパターン7
04を形成する。図9に示す段階では前記マスクパター
ン及びエッチング深さに基づいて前記下部クラッド70
2を乾式食刻する。図10に示すD段階では前記エッチ
ングされた下部クラッド706にポリマーをコーティン
グしてコア708を形成する。図11に示す段階では前
記コア708上に上位リブ光導波路の形成のためにブラ
イトフィールドマスク(bright field mask)を前記下位
リブ光導波路パターンに整列し、写真工程で前記上位リ
ブ光導波路のエッチングマスクパターン710を形成す
る。図12に示す段階では前記エッチングマスクパター
ン710によって前記過程で決定された深さに対応する
よう前記コア708を乾式食刻してコア712と上位リ
ブ光導波路714を形成する。図13に示す段階では前
記コア712及び上位リブ光導波路714上にポリマー
をコーティングして上部クラッド716を形成する。
ファイバモード及び本発明による二重リブ光導波路モー
ドを示す。本発明では光ファイバと二重リブ光導波路間
の結合程度を確認するために、有限差分法(finite diff
erence method)を用いた断面モード解析方法と前記重畳
積分式を用いて結合効率を計算した。図14(a)に示
した光ファイバモードで光ファイバのコアとクラッドの
屈折率は、各々1.461と1.457であり(非屈折率
Δn=0.27%)、前記光ファイバコアの直径は9μm
である。このような光ファイバモードは、1.55μm波
長で光波強さの1/e2幅と1/e2深さのいずれも1
0.61μmである円形モードである。
n)に使用された二重リブ光導波路の各パラメータは次の
ようである。コアの屈折率は1.5337、クラッドの
屈折率は1.5169である(非屈折率Δn=1.2%)。
上位リブ光導波路の幅WUfは5μm、エッチング深さD
Uiは1.5μm、コアの厚さDtは4.0μmである。こ
の時、下位リブ光導波路の幅と深さを変化させ、最大の
結合効率を有する下位リブ光導波路の幅WLi及びエッチ
ング深さDLiを求める。WLiが11.5μm、DLiが7.
5μmである時、重なり積分値が0.9889と最大値
を表し、これを損失に換算すると0.05dBと小さい
結合損失を有する。この時、結合領域のモードは図14
(b)のように光波強さの1/e2幅と1/e2深さが各
々10.61μmと10.26μmであり、縦横比が1.
034である。
波を安定化領域のリブ光導波路に伝達するために下位及
び上位リブ光導波路の幅を変化させる領域である。前記
上位リブ光導波路の幅は、モード形状変換器の入力側の
幅WUiから光学素子に連結される出力側の幅WUfまで変
化する。前記下位リブ光導波路の幅は、長さ方向に漸次
減少して‘0’になる。この結果、前記変換領域は、光
波を前記下位リブ光導波路から前記上位リブ光導波路に
移動させる。
ーム伝搬方法(3D beam propagationmethod)のシミュレ
ーション結果である。濃い部分が光の強さの大きい部分
である。
光導波路に位置した光波が変換領域を通過しながら漸次
上位リブ光導波路側に移動することが判る。前記上位リ
ブ光導波路に移動した光波は、安定化領域に進入して高
次モードを輻射させた後、光学素子に伝達される。
を備えた集積光学素子の概略図である。図16の集積光
学素子は、入力端モード形状変換器1000、機能遂行
部1002、及び入力端モード形状変換器1000と反
対に挿入される出力端モード形状変換器1004を備え
る。
力端モード形状変換器1004は、各々光ファイバ10
06、1008と連結される。前記入力端モード形状変
換器1000は前記第1光ファイバ1006から入力さ
れた光波モードを変換して前記機能遂行部1002に出
力し、前記出力端モード形状変換器1004は前記機能
遂行部1002から出力されるモードを円形モードに変
換して前記第2光ファイバ1008に出力する。従っ
て、前記出力端モード形状変換器1004は前記入力端
モード形状変換器1000と反対方向に挿入される。
アを使用し、下位リブ光導波路による凸凹パターンが結
合領域と変換領域の一部に限って存在するために、上位
リブ光導波路のパターン形成が容易であり、製造工程が
簡単である。また、モード形状変換器の入力部光導波路
が円形モードを有するために、結合効率が高い。また、
入力光導波路のために光導波路幅を拡大させる拡大テー
パリング構造を用いたために、光導波路のテーパ長さを
減少できると共に、モード変換中に発生する導波損失も
低減できる。
な説明では具体的な実施例に上げて説明してきたが、こ
れに限られることなく本発明の範囲内で様々な変形が可
能であることは自明である。従って、本発明の範囲は、
前記実施例によって限られてはいけなく、特許請求の範
囲とそれに均等なものによって定められるべきである。
ードプロファイルであり、(b)図1のモード形状変換
器の出力部のモードプロファイルである。
る。
モードを示す図である。(b)図3の変換領域の断面と
該領域におけるモードを示す図である。(c)図3の安
定化領域の断面と該領域におけるモードを示す図であ
る。
ある。(b)図3の上位リップ光導波路の平面図であ
る。
断面図である。
うち、最初の工程を示す図である。
(b)本発明による二重リップ光導波路モードを示す図
である。
伝搬方法によるシミュレーション結果を示す図である。
積光学素子の概略図である。
Claims (12)
- 【請求項1】 光ファイバと光学素子の機能遂行部の入
出力側との間に位置して前記光ファイバのモードと前記
機能遂行部の入出力端のモードを結合するモード形状変
換器において、 基板と、 前記基板にコーティングされ、前記コーティングされた
層のうち所定部分がエッチングされた下部クラッドと、 前記エッチングされた部分に形成された下位リブ光導波
路と、 前記下位リブ光導波路及びエッチングされない下部クラ
ッド上に形成されたコアと、 前記コア上に前記下位リブ光導波路と並んで所定形状に
形成された上位リブ光導波路と、 前記上位リブ光導波路及び前記コア上に形成された上部
クラッドと、を含むことを特徴とするモード形状変換
器。 - 【請求項2】 前記下位リブ光導波路は、前記光ファイ
バモードと結合されたモードを有する結合領域と、 前記結合領域のモードを前記上位リブ光導波路に伝達す
るようにその幅が結合領域の幅から漸次減少して‘0’
になる変換領域と、を備えることを特徴とする請求項1
に記載のモード形状変換器。 - 【請求項3】 前記結合領域の幅は、前記結合領域のモ
ードを前記上位リブ光導波路に伝達する時に発生する輻
射損失が最小になるように減少されていることを特徴と
する請求項2に記載のモード形状変換器。 - 【請求項4】 前記結合領域の入力側の断面は、前記コ
アの厚さ、前記上位リブ光導波路の厚さ、及び前記上位
リブ光導波路の出力側の幅を所定値に定めた時、前記光
ファイバモードと前記結合領域のモードとの結合効率が
最大になるようにその幅と厚さが決定されていことを特
徴とする請求項2に記載のモード形状変換器。 - 【請求項5】 前記上位リブ光導波路は、 前記下位リブ光導波路の結合領域と整列された結合領域
と、 前記下位リブ光導波路の変換領域と整列され、前記下位
リブ光導波路から伝達されるモードが前記機能遂行部に
適したモードに変換された変換領域と、 前記変換領域から導波されるモードを前記機能遂行部に
出力する安定化領域と、を備えることを特徴とする請求
項2に記載のモード形状変換器。 - 【請求項6】 前記上位リブ光導波路の結合領域の入力
側の幅は、前記コアの厚さ、上位リブ光導波路の厚さ及
び前記上位リブ光導波路の出力側の幅を所定の値に定め
た時、前記光ファイバモードと上位及び下位リブ光導波
路の結合領域モードとの結合効率が最大になるように決
定されていることを特徴とする請求項5に記載のモード
形状変換器。 - 【請求項7】 前記上位リブ光導波路の変換領域の幅
は、前記結合領域のモードが前記機能遂行部の動作に適
したモードに変化する時に発生する輻射損失が最小にな
るように変更ていることを特徴とする請求項5に記載の
モード形状変換器。 - 【請求項8】 前記上位リブ光導波路、コア及び下位リ
ブ光導波路は同一材質から形成されていることを特徴と
する請求項1に記載のモード形状変換器。 - 【請求項9】 光ファイバと光学素子の機能遂行部の入
出力側との間に位置して前記光ファイバのモードと前記
機能遂行部の入出力端のモードを結合するモード形状変
換器を製造する方法において、 基板に下部クラッドをコーティングする第1段階と、 前記下部クラッド上にエッチングマスクをパタニング
し、このエッチングマスクのパターンを用いて前記下部
クラッドを所定長さにエッチングする第2段階と、 前記エッチングされた下部クラッドにコアをコーティン
グして下位リブ光導波路及びコアを形成する第3段階
と、 前記コアに他のエッチングマスクをパタニングし、この
他のエッチングマスクパターンを用いて前記コアをエッ
チングして上位リブ光導波路を形成する第4段階と、 前記コア及び前記上位リブ光導波路に上部クラッドをコ
ーティングする第5段階と、からなることを特徴とする
モード形状変換器の製造方法。 - 【請求項10】 前記第2段階又は第3段階のパターン
は、所定のパラメータに基づいて決定され、前記パラメ
ータは前記モード形状変換器の入力側モードと光ファイ
バモードとの結合効率が最大になるようにその値が決定
されることを特徴とする請求項9に記載のモード形状変
換器の製造方法。 - 【請求項11】 前記パターンの幅は、前記モード形状
変換器の入力側モードが前記機能遂行部の動作に適した
モードに変換する時のモード輻射損失が最小になるよう
に変更されることを特徴とする請求項10に記載のモー
ド形状変換器の製造方法。 - 【請求項12】 機能遂行部と、この機能遂行部の入力
端に位置して入力される光ファイバモードを前記光学素
子の機能遂行に適したモードに変換する第1モード形状
変換器と、前記機能遂行部の出力端に前記第1モード形
状変換器と反対方向に位置して前記機能遂行部から出力
されるモードを光ファイバモードに変換する第2モード
形状変換器と、を備える集積光学素子において、 前記第1モード形状変換器及び第2モード形状変換器
は、 基板と、 前記基板にコーティングされ、前記コーティングされた
層のうち所定の部分がエッチングされた下部クラッド
と、 前記エッチングされた部分に形成される下位リブ光導波
路と、 前記下位リブ光導波路及び食刻されない下部クラッド上
に形成されるコアと、 前記コア上に前記下位リブ光導波路と並んで所定形態に
形成される上位リブ光導波路と、 前記上位リブ光導波路及び前記コア上に形成される上部
クラッドと、を含むことを特徴とする集積光学素子。
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