JP2000218155A - 自動合成装置 - Google Patents

自動合成装置

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JP2000218155A JP11019665A JP1966599A JP2000218155A JP 2000218155 A JP2000218155 A JP 2000218155A JP 11019665 A JP11019665 A JP 11019665A JP 1966599 A JP1966599 A JP 1966599A JP 2000218155 A JP2000218155 A JP 2000218155A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 温調下で行う生成反応を含む合成プロトコル
の実行時間を短縮する。 【解決手段】 液体分注部３による分注が開始されると
同時に温度調整部２７は反応ブロック１の温度を予備昇
温温度に昇温する動作を開始し、反応ブロック１の温度
が予備昇温温度に到達すると、分注工程が終了するまで
反応ブロック１の温度を予備昇温温度に維持する。分注
工程が終了すると、温度調整部２７は反応ブロック１の
温度を目標温度保持部２６に保持されている目標温度に
昇温して維持し、反応ブロック１が目標温度に昇温され
た下での生成反応を行い、生成反応工程を終えると、温
度調整部２７は電気ヒーターＨＴへの駆動信号の送出を
停止するとともに、冷却制御部２８は強制冷却部ＣＵへ
反応ブロック１の強制冷却を行うように駆動信号を送出
して反応ブロック１を強制冷却しながら降温する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、化合物を自動的
に合成する自動合成装置に係り、特には、反応ブロック
の昇温・降温に要する時間を短縮するための技術に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】製薬、ライフサイエンス、化学、材料等
の研究分野において用いられる従来の自動合成装置は、
図８に示すように、生成反応を行う反応容器５２が多数
個配列されている反応ブロック５１を備えていて、シリ
ンジ５３により反応容器５２に試薬や溶媒が予め設定さ
れた分注手順に従って分注されるとともに、試薬および
溶媒が供給された各反応容器５２において生成反応が同
時平行的に進行する構成になっている。したがって、自
動合成装置では、複数の化合物が試験的に同時合成され
ることになる。そして、各反応容器５２で合成された化
合物は、各反応容器５２毎に回収される。
【０００３】この従来の自動合成装置には、反応ブロッ
ク５１における実測温度と目標温度とに基づいて反応ブ
ロック５１での温度を目標温度に昇温して維持する温度
調整を行う温度調整機構５４が設けられている。すなわ
ち、従来の装置は、温度センサ（図示省略）により反応
ブロック５１の温度を実測して、この実測温度と予め設
定された目標温度とを比較するとともに、温度比較結果
に基づいて、反応ブロック５１の温度が目標温度になる
ように電気ヒーター（図示省略）を駆動するという構成
を備えている。目標温度を生成反応に適すると思われる
温度に設定しておけば、温度調整機構５４による温調に
より目標温度下で生成反応が行われ、生成反応を促進さ
せることができる。
【０００４】従来装置では、各反応容器５２へ試薬や溶
媒を分注する分注工程を、反応ブロック５１の温度が常
温付近の所定温度（例えば２５℃）の状態で行い、分注
工程を完了した後、電気ヒーターを駆動して、反応ブロ
ック５１の温度を常温付近の所定温度からその温度より
も高温の目標温度に昇温する動作を開始し、反応ブロッ
ク５１の温度が目標温度に到達すると、反応ブロック５
１の温度を目標温度に維持して生成反応を所定時間行う
ように構成している。また、生成反応を終えると、電気
ヒーターの駆動を停止して、反応ブロック５１の温度を
目標温度から常温付近の所定温度に降温し、反応ブロッ
ク５１の温度が常温付近の所定温度に戻ると、各反応容
器５２に分注した試薬や溶媒を排出する排液工程を行っ
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の自動合成装置は、反応ブロック５１に反応容器５２を
９６個や３８４個といった数十個から数百個備えてお
り、反応ブロック５１を温調する際の各反応容器５２の
均熱性や温度安定性などを図るために、反応ブロック５
１のサイズや重量を大きく形成しており、それに伴って
反応ブロック５１の熱容量が大きい。そのため、反応ブ
ロック５１の温度を昇降温するのに要する時間が長くな
る。
【０００６】その結果、従来装置では、分注工程を完了
してから反応ブロック５１の温度が目標温度に到達する
までに長時間を要し、分注工程を開始してから排液工程
が終了するまでに要する時間が長くなるという問題があ
る。
【０００７】また、従来装置では、反応ブロック５１を
降温する際は、電気ヒーターの駆動を停止するだけで、
反応ブロック５１が自然に冷却するのに任せていたの
で、反応ブロック５１の温度を目標温度から常温付近の
所定温度まで降温するのに長時間を要し、分注工程を開
始してから排液工程が終了するまでに要する時間が長く
なるという問題もある。
【０００８】この種の自動合成装置を用いて行う１回の
合成プロトコルでは、通常、第１の試薬や溶媒の分注、
生成反応（第１反応）、第１の試薬や溶媒の排液、第２
の試薬や溶媒の分注、生成反応（第２反応）、第２の試
薬や溶媒の排液、…というように、試薬や溶媒の種類を
変えながら分注工程、生成反応工程、排液工程を１回以
上繰り返し、最終的な化合物を得て回収する。上述した
ように、温調下で生成反応を行う１つの段階における分
注工程開始から排液工程終了までに要する時間が長くな
れば、１回の合成プロトコルを実行するのに要するトー
タル時間が極めて長くなり、自動分析装置を有効利用す
ることができない。
【０００９】この種の自動合成装置は高価であるので、
装置を有効利用できることが切望されているが、温調下
で行う生成反応を含む合成プロトコルの実行時間を短縮
するための有効な処置が採られていないのが実情であ
る。
【００１０】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、温調下で行う生成反応を含む合成プ
ロトコルの実行時間を短縮して装置を有効利用すること
ができる自動分析装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、生成反応を行う反応容器
が複数個配列されている反応ブロックと、反応容器に試
薬および溶媒を分注する試薬・溶媒分注手段と、反応ブ
ロックの温度を目標温度に昇温して維持する温度調整を
行う温度調整手段とを備え、試薬・溶媒分注手段により
試薬および溶媒が分注供給された反応容器において温度
調整手段による温調下で生成反応が行えるように構成さ
れた自動合成装置において、試薬・溶媒分注手段による
反応容器への試薬および溶媒の分注供給が完了するまで
に、反応ブロックの温度を所定の予備昇温温度に昇温す
るように構成したことを特徴とするものである。
【００１２】請求項２に記載の発明は、生成反応を行う
反応容器が複数個配列されている反応ブロックと、反応
容器に試薬および溶媒を分注する試薬・溶媒分注手段
と、反応ブロックの温度を目標温度に昇温して維持する
温度調整を行う温度調整手段とを備え、試薬・溶媒分注
手段により試薬および溶媒が分注供給された反応容器に
おいて温度調整手段による温調下で生成反応が行えるよ
うに構成された自動合成装置において、反応ブロックを
強制冷却する強制冷却手段を備えたことを特徴とするも
のである。
【００１３】〔作用〕請求項１に記載の発明によれば、
試薬・溶媒分注手段による反応容器への試薬および溶媒
の分注供給が完了するまでに、反応ブロックの温度を所
定の予備昇温温度に昇温し、反応容器への試薬および溶
媒の分注供給が完了した時点で、反応ブロックの温度を
常温付近の所定温度よりも高い温度に予備的に昇温して
おく。
【００１４】このように構成したことにより、反応容器
への試薬および溶媒の分注供給が完了した後、反応ブロ
ックの温度を目標温度に昇温させる際に、反応ブロック
の昇温開始時の温度と目標温度との温度差を、従来より
も小さくすることができるので、反応容器への試薬およ
び溶媒の分注供給が完了した後、反応ブロックの温度を
目標温度に昇温させるのに要する時間を従来よりも短縮
することができる。
【００１５】なお、上記「予備昇温温度」は、生成反応
に影響を与えない範囲内の温度である。従って、反応容
器へ試薬および溶媒を分注供給している途中で反応ブロ
ックの温度を所定の予備昇温温度に昇温しても生成反応
に悪影響は起きない。
【００１６】請求項２に記載の発明によれば、反応ブロ
ックの温度を目標温度から降温する際に、強制冷却手段
によって反応ブロックを強制冷却する。これにより、自
然冷却に任せていた従来装置よりも生成反応を終えて反
応ブロックの温度を目標温度から降温する際に要する時
間を短縮することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態を説明する。図１はこの発明の一実施例に係
る有機自動合成装置の全体構成を示すブロック図であ
り、図２は実施例装置の反応系の構成を示す平面図、図
３は実施例装置の反応ブロックの要部構成を示す概略図
である。
【００１８】実施例の自動構成装置は、図１に示すよう
に、実際の生成反応が行われる反応系と反応系の動きを
司る制御系とからなる。以下、実施例装置の反応系の構
成から先に説明する。
【００１９】実施例装置は、生成反応を行う反応容器２
が多数個配列されている反応ブロック１と、予め設定さ
れた分注手順（分注プロトコル）に従って反応容器（反
応ベッセル）２に試薬および溶媒を分注する液体分注部
３を備えている。各反応容器２は、図２に示すように、
縦横マトリックス状の配列で反応ブロック１に設置され
ている。反応ブロック１に設置される反応容器２の数
は、特定の数に限らないが、例えば９６個や３８４個と
いった数十から数百の容器数が例示される。実施例装置
の場合、試薬および溶媒が共通の分注機構により反応容
器２に分注供給される形態であるが、試薬と溶媒がそれ
ぞれ別の分注機構によって分注供給されるような形態で
もよい。
【００２０】液体分注部３は、シリンジ４、およびシリ
ンジ４を左右（Ｘ）・前後（Ｙ）・上下（Ｚ）に移動さ
せるシリンジ移動機構部５を備え、制御系側からの指令
信号に従ってシリンジ移動機構部５が作動してシリンジ
４が必要な位置へ移動させられる構成になっている。
【００２１】一方、反応ブロック１の傍らには、使用量
の多い薬液などが入っている大きめの頻用試薬容器（頻
用試薬バイアル）６と、使用量の少ない薬液などが入っ
ている小さめの常用試薬容器（常用試薬バイアル）７と
が、それぞれ必要本数設置されている。また、溶媒が入
っている溶媒容器（ガロンビン）８も、反応ブロック１
の傍らに必要本数設置されており、各溶媒容器８はそれ
ぞれ送液ライン９によってシリンジ４と接続されてい
る。
【００２２】薬液を反応容器２に分注供給する場合、図
１の中の点線で図示するように、シリンジ４を分注対象
の薬液が入っている頻用試薬容器６あるいは常用試薬容
器７の位置まで移動させてシリンジ針４ａから薬液を吸
引させた後、シリンジ４を薬液分注対象の反応容器２の
位置へ移動させてから、吸引薬液をシリンジ針４ａから
反応容器２へ注入させる。
【００２３】溶媒を反応容器２に分注供給する場合、分
注対象の溶媒が入っている溶媒容器８から送液ライン９
経由で溶媒をシリンジ４に導入させるとともに、シリン
ジ４を溶媒分注対象の反応容器２の位置へ移動させて、
導入溶媒をシリンジ針４ａから反応容器２へ注入させ
る。
【００２４】なお、通常は上述のように、頻用試薬容器
６あるいは常用試薬容器７の位置で液の吸引を行い、反
応容器２の位置で液の注入を行うようにシリンジ４を移
動させるのであるが、実施例装置の場合、逆に、反応容
器２の位置で液の吸引を行い、頻用試薬容器６あるいは
常用試薬容器７の位置で液の注入を行うようにシリンジ
４を移動させることも可能な構成となっている。
【００２５】実施例装置の反応ブロック１の場合、図３
に示すように、各反応容器２の注入口を蓋するシート状
の共通セプタム１０と、反応容器２の底側内部を塞ぐよ
うに各反応容器２毎に取り付けられた加圧透過型フィル
タ１１と、反応容器２の底に連通するように各反応容器
２毎に配管されたドレイン１２が設けられているととも
に、反応容器２の注入口側にガスボンベＧＢからの加圧
気体（例えば高圧不活性ガス）を導入するガス導入ライ
ン１３が設けられている。したがって、試薬注入あるい
は溶媒注入の際には、シリンジ針４ａが共通セプタム１
０を貫通して反応容器２の中まで進入することになる。
また、各反応容器２の中には適当量の固相反応用のレン
ジ粒１４がそれぞれ投入されている他、ガス導入ライン
１３の末端には、開閉弁１５が設けられており、反応容
器２に加圧気体を導入する時は開閉弁１５が閉じられる
ように構成されている。
【００２６】また、実施例装置には、反応生成実施中の
反応ブロック１を振動させて各反応容器２の中のレンジ
粒１４を揺する振動部１６が設置されている他、反応過
程で各反応容器２に生じる不要物を排出する排出用トレ
イ１７、および、生成反応により各反応容器２で得られ
た最終的な化合物を各反応容器２毎に回収する回収用ブ
ロック１８も、それぞれ反応ブロック１の下側位置と待
機位置の間を移動可能に配設されている。
【００２７】さらに、実施例装置の反応ブロック１に
は、反応ブロック１を加熱する電気ヒーターＨＴと３個
の温度センサＴＳとが設けられている。電気ヒーターＨ
Ｔは制御系側から送られてくる駆動信号に従って反応ブ
ロック１に熱を供給する構成となっている。温度センサ
ＴＳは反応ブロック１の中に離れて設置されていて、各
温度センサＴＳから実測温度が制御系側へ電気信号のか
たちで送られる構成となっている。
【００２８】また、実施例装置には、反応ブロック１を
強制冷却する強制冷却部ＣＵも設けられている。この強
制冷却部ＣＵは、例えば、図４に示すように、所定温度
（例えば、０℃〜８℃の任意の温度）の冷却水を製造供
給する冷却水供給装置３０と、反応ブロック１内に配設
された冷却管３１と、冷却水供給装置３０からの冷却水
を冷却管３１の一端側に導く供給管３２と、冷却管３１
の他端側から排出される水を冷却水供給装置３０に戻す
帰還管３３とを備えており、冷却管３１内に冷却水ＣＷ
を一方向に流して、反応ブロック１の熱を冷却管３１内
に流れる冷却水ＣＷに吸熱し、反応ブロック１の外に排
出することで反応ブロック１を強制冷却するように構成
されている。なお、帰還管３３を介して冷却水供給装置
３０に戻された、反応ブロック１の熱で温められた水
は、冷却水供給装置３０内で所定温度に冷却されて供給
管３２に送出されるようになっていて、冷却水を再使用
するように構成されている。
【００２９】また、図４では、供給管３２に送出された
冷却水を、冷却管３１を経由せずに帰還管３３に流すバ
イパス管３４が反応ブロック１の近くに設けられている
とともに、バイパス管３４に設けられた開閉弁３５と、
供給管３２のうち、バイパス管３４との分岐部分よりも
冷却管３１側に設けられた開閉弁３６と、帰還管３３の
うち、バイパス管３４との接続部分よりも冷却管３１側
に設けられ、バイパス管３４から帰還管３３に流れる冷
却水が冷却管３１に逆流するのを防止する逆止め弁３７
とを備えている。この構成では、反応ブロック１を降温
しないときには、開閉弁３５を開いておくとともに開閉
弁３６を閉じておき、冷却水を供給管３２、バイパス管
３４、帰還管３３を介して循環させておき、反応ブロッ
ク１の降温を開始するときに、開閉弁３５を閉じるとと
もに開閉弁３６を開いて、冷却水を冷却管３１に流すよ
うにする。例えば、反応ブロック１の降温の開始時に、
冷却水供給装置３０からの冷却水の供給を開始するよう
に構成してもよいが、通常、冷却水供給装置３０は、反
応ブロック１から離れた場所に設置されるので、そのよ
うな構成の場合、実際に冷却管３１に冷却水が流れ始め
るまでにロス時間が生じることになる。これに対して、
図４に示す構成では、反応ブロック１を降温しないとき
にも、反応ブロック１の近くまで冷却水を循環させてい
るので、反応ブロック１の降温を開始するとすぐに冷却
管３１に冷却水を流すことができ、反応ブロック１の降
温時間の短縮に寄与する。
【００３０】冷却水供給装置３０の駆動や開閉弁３５、
３６の開閉制御は、制御系側から送られてくる駆動信号
によって実行されるようになっている。
【００３１】なお、図４では、冷却水を冷却管３１に流
す状態とバイパス管３４に流す状態との切替えを開閉弁
３５、３６の開閉制御で行うように構成しているが、例
えば、供給管３２とバイパス管３４との分岐部分に三方
弁を設けて、この三方弁の切替え制御により、冷却水を
冷却管３１に流す状態とバイパス管３４に流す状態とで
切替えるように構成してもよい。
【００３２】また、例えば、バイパス管３４の先端部を
帰還管３３に接続せずに冷却水供給装置３０に直接接続
するなどして、バイパス管３４を流れた冷却水と、冷却
管３１から排出された水とを別系統で冷却水供給装置３
０に戻すように配管してもよい。
【００３３】さらに、図４では、冷却管３１から排出さ
れた水を冷却水供給装置３０に戻すように構成している
が、例えば、冷却管３１から排出された水は廃棄すると
ともに、廃棄された分の水を冷却水供給装置３０に補充
するように構成してもよい。
【００３４】なお、実施例の自動合成装置による生成反
応プロセスでは、必要な試薬や溶媒が分注供給された各
反応容器２のレンジ粒１４の内で固相反応が進行して目
的の化合物が得られる。生成反応を終えた後に行う排液
工程では、ガスボンベＧＢの加圧気体をガス導入ライン
１３から導入し、各反応容器２内の試薬や溶媒を加圧透
過型フィルタ１１を透過させてドレイン１２から排出用
トレイ１７へ押し流して排出する。また、最後の生成反
応を終えて、最後に分注した試薬や溶媒を排出すると、
レンジ粒１４の内部に生成した化合物を取り出す抽出用
（酸性）薬液を各反応容器２の注入口から送り込む。そ
して、化合物が抽出されたら、ガスボンベＧＢの加圧気
体をガス導入ライン１３から導入し、化合物を抽出用薬
液と一緒に加圧透過型フィルタ１１を透過させてドレイ
ン１２から回収用ブロック１８へ押し流して化合物を回
収する。
【００３５】次に、実施例装置の制御系の構成を説明す
る。実施例の自動合成装置の場合、装置稼働に必要な種
々の画面を表示する映像表示モニタ１９や装置稼働に必
要な種々の制御を適時に実行するコントロール部２０を
備えるとともに、入力操作用のキーボード（操作卓）２
１やマウス（ポインティングデバイス）２２を備えてい
る他、温調下で生成反応行う際の反応ブロック１の昇温
時間および降温時間を短縮するための特徴的な構成を備
えている。以下、この特徴的な構成を中心として具体的
に説明する。
【００３６】実施例装置のコントロール部２０は、装置
稼働に必要な画面を映像表示モニタ１９に映し出す画面
表示部２３と、キーボード２１やマウス２２による入力
操作により予め設定された薬剤および溶媒を分注手順
（分注プロトコル）通り分注させるための指令信号を液
体分注部３へ送出する分注制御部２４を備えている。
【００３７】各反応容器２に対する試薬および溶媒の分
注手順は、映像表示モニタ１９に映し出された適宜の設
定画面に従ってキーボード２１やマウス２２を用いて設
定できるように構成されている。合成プロトコルの実行
の際は、設定された分注手順に応じて分注制御部２４か
ら指令信号が液体分注部３へ送られる。
【００３８】また、コントロール部２０は、溶媒の名称
（種類）と沸点といった溶媒データを記憶する溶媒デー
タベース２５を備えている。この溶媒データベース２５
へのデータ登録やデータの削除、溶媒データベース２５
の登録内容の変更は、映像表示モニタ１９に映し出され
た適宜の設定画面に従ってキーボード２１やマウス２２
を用いて行えるように構成されている。
【００３９】さらに、コントロール部２０は、キーボー
ド２１やマウス２２の入力操作によって予め設定される
反応ブロック１における生成反応時の目標温度を保持す
る目標温度保持部２６と、反応ブロック１に設置された
３個の温度センサＴＳから送られてくる実測温度の平均
値に基づいて電気ヒーターＨＴへ駆動信号を送出して分
注工程中に反応ブロック１の温度を後述する予備昇温温
度に昇温させたり、分注工程が終了した後、反応ブロッ
ク１の温度を目標温度保持部２６に保持されている目標
温度に昇温して維持したりする温度調整を行う温度調整
部２７とを備えている。反応系側の電気ヒーターＨＴと
温度センサＴＳ、および、制御系側の目標温度保持部２
６と温度調整部２７は、この発明における温度調整手段
を構成する。
【００４０】なお、複数回の生成反応を行う場合、各生
成反応ごとに温調下で行うか否かがキーボード２１やマ
ウス２２の入力操作によって設定可能に構成され、目標
温度保持部２６には、温調下で行う生成反応ごとの目標
温度を保持できるように構成されている。
【００４１】またさらに、コントロール部２０は、強制
冷却部ＣＵに駆動信号を送出する冷却制御部２８も備え
ている。この冷却制御部２８は、温調下で行う生成反応
を終えて、反応ブロック１を冷却する際に強制冷却部Ｃ
Ｕに駆動信号を送出し、図４に示す構成では、反応ブロ
ック１内の冷却管３１に冷却水を流して反応ブロック１
を強制冷却するように構成されている。反応系側の強制
冷却部ＣＵと制御系側の冷却制御部２８とは、この発明
における強制冷却手段を構成する。
【００４２】その他、上記で説明した手順や条件などの
設定以外にも、１回の合成プロトコルを実行するのに必
要な手順や条件などがあれば、キーボード２１やマウス
２２を用いて設定されるように構成されている。
【００４３】また、上記で説明した反応系側の構成部品
に対する制御以外にも、１回の合成プロトコルを実行す
るのに必要な反応系側の構成部品に対する制御があれ
ば、コントロール部２０によって制御されるように構成
されている。
【００４４】なお、上記の実施例装置の制御系の構成
は、パーソナルコンピュータおよびソフトウエア（コン
ピュータプログラム）を中心に構築されている。
【００４５】続いて、上記構成を有する実施例装置の動
作を説明する。１回の合成プロトコルは、図５のフロー
チャートに示すように、分注工程（ステップＳ１）、生
成反応工程（ステップＳ２）、排液工程（ステップＳ
３）を１回以上行って、最後の生成反応を終えると（ス
テップＳ４）、最終的に得られた化合物を回収する、ろ
取工程を行う（ステップＳ５）。各回の分注工程では、
各回の分注工程ごとに設定された試薬や溶媒が各反応容
器２に分注される。また、各回の生成反応工程では、各
回の生成反応工程ごとに設定された条件に従って振動部
１６によるレンジ粒１４の振動（撹拌）や温度調整部２
７による反応ブロック１の温調なども行われる。
【００４６】次に、反応ブロック１の温調が実施された
下で生成反応を行う場合の実施例装置による分注工程、
生成反応工程、排液工程の動作を図６（ａ）に示すタイ
ムチャートを参照して説明する。
【００４７】まず、例えば、液体分注部３による分注が
開始されると同時に、温度調整部２７は、反応ブロック
１の温度を、常温付近の所定温度Ｔｂ（例えば２５℃）
から所定の予備昇温温度Ｔｓに昇温する動作を開始す
る。すなわち、温度調整部２７は、分注の開始と同時
に、３個の温度センサＴＳから送られてくる実測温度の
平均値と予備昇温温度Ｔｓとの温度差が「０」となるよ
うに電気ヒーターＨＴへ駆動信号を送出する。そして、
反応ブロック１の温度が予備昇温温度Ｔｓに到達する
と、各反応容器２への試薬および溶媒の分注供給が完了
（分注工程が終了）するまで、反応ブロック１の温度を
予備昇温温度Ｔｓに維持する。
【００４８】なお、上記「予備昇温温度Ｔｓ」は、生成
反応に影響を与えない範囲内の温度であって、例えば、
目標温度保持部２６に保持されている生成反応時の反応
ブロック１の目標温度をＴｔとすると、以下の式で決定
する。
【００４９】Ｔｓ＝Ｔｂ＋（（Ｔｔ−Ｔｂ）／２）
【００５０】また、温調下での生成反応を行うために各
反応容器２に分注された溶媒の沸点を溶媒データベース
２５から取り出して、この溶媒の沸点（Ｔｆとする）を
用いて以下の式で予備昇温温度Ｔｓを決定してもよい。
【００５１】Ｔｓ＝Ｔｂ＋（（Ｔｆ−Ｔｂ）／２）
【００５２】次に、各反応容器２への試薬および溶媒の
分注供給が完了（分注工程が終了）すると、温度調整部
２７は、反応ブロック１の温度を、目標温度保持部２６
に保持されている目標温度Ｔｔに昇温する動作を開始す
る。すなわち、温度調整部２７は、３個の温度センサＴ
Ｓから送られてくる実測温度の平均値と目標温度保持部
２６に保持されている目標温度Ｔｔとの温度差が「０」
となるように電気ヒーターＨＴへ駆動信号を送出する。
そして、反応ブロック１の温度が目標温度保持部２６に
保持されている目標温度Ｔｔに到達すると、予め設定さ
れた反応時間の間、反応ブロック１の温度を目標温度保
持部２６に保持されている目標温度Ｔｔに維持し、目標
温度に温調された下での生成反応が行われる。
【００５３】反応ブロック１の温度が目標温度保持部２
６に保持されている目標温度Ｔｔに到達してから反応時
間が経過して生成反応工程を終えると、温度調整部２７
は、電気ヒーターＨＴへの駆動信号の送出を停止すると
ともに、冷却制御部２８は、強制冷却部ＣＵへ反応ブロ
ック１の強制冷却を行うように駆動信号を送出する。
【００５４】そして、３個の温度センサＴＳから送られ
てくる実測温度の平均値（反応ブロック１の温度）が常
温付近の所定温度Ｔｂになると、冷却制御部２８は、強
制冷却部ＣＵへ反応ブロック１の強制冷却を停止する駆
動信号を送出する。その後、排液工程が行われる。
【００５５】以上に詳述したように、この実施例の自動
合成装置によれば、各反応容器２への試薬および溶媒の
分注供給が完了するまでに反応ブロック１を予備昇温温
度Ｔｓに昇温しているので、各反応容器２への試薬およ
び溶媒の分注供給が完了した後、反応ブロック１の温度
を目標温度保持部２６に保持されている目標温度Ｔｔに
昇温させる際に、反応ブロック１の昇温開始時の温度と
目標温度Ｔｔとの温度差を、従来よりも小さくすること
ができ、反応容器１への試薬および溶媒の分注供給が完
了した後、反応ブロック１の温度を目標温度Ｔｔに昇温
させるのに要する時間を従来よりも短縮することができ
る。なお、各反応容器２への試薬および溶媒の分注供給
が完了した時点で反応ブロック１の温度が予備昇温温度
Ｔｓに到達していることが好ましいが、各反応容器２へ
の試薬および溶媒の分注供給が完了した時点で反応ブロ
ック１の温度が予備昇温温度Ｔｓにまでは到達していな
い場合でも、反応ブロック１の温度は、常温付近の所定
温度Ｔｂよりも昇温されており、反応ブロック１の昇温
開始時の温度と目標温度Ｔｔとの温度差は、従来よりも
小さくなっているので、反応容器１への試薬および溶媒
の分注供給が完了した後、反応ブロック１の温度を目標
温度Ｔｔに昇温させるのに要する時間を従来よりも短縮
することができる。
【００５６】また、上述したように「予備昇温温度Ｔ
ｓ」は、生成反応に影響を与えない範囲内の温度である
ので、各反応容器２へ試薬および溶媒を分注供給してい
る途中で反応ブロック１の温度を予備昇温温度Ｔｓに昇
温しても生成反応に悪影響は起きない。
【００５７】さらに、この実施例の自動合成装置によれ
ば、反応ブロック１を強制冷却する機構（強制冷却部Ｃ
Ｕおよび冷却制御部２８）を備えているので、自然冷却
に任せていた従来装置よりも生成反応を終えて反応ブロ
ック１の温度を目標温度Ｔｔから降温する際に要する時
間も短縮することができる。
【００５８】図６（ｂ）は反応ブロック１の温調が実施
された下で生成反応を行う場合の従来装置による分注工
程、生成反応工程、排液工程の動作を示すタイムチャー
トである。図６（ａ）と図６（ｂ）とを比較しても明ら
かなように、この実施例の自動合成装置によれば、反応
ブロック１の昇温時にｔ１、降温時にｔ２（従来装置に
よる反応ブロック５１の降温に要する時間ｔｐから実施
例装置による反応ブロック１の降温に要する時間ｔｅを
差分した時間）の時間を短縮することができ、反応ブロ
ック１の温調が実施された下で生成反応を行う場合の、
分注工程の開始から排液工程の終了までの時間を従来装
置よりも（ｔ１＋ｔ２）短縮することができる。従っ
て、温調下で行う生成反応を含む合成プロトコルの実行
時間を従来装置よりも短縮することができ、高価な自動
分析装置の有効利用を図ることができる。
【００５９】ところで、温調下での生成反応を続けて行
う場合、例えば、図７に示すように、ｎ回目（ｎは１、
２、…）の生成反応を終えてから反応ブロック１を降温
する際、反応ブロック１の温度が、（ｎ＋１）回目の生
成反応時の目標温度Ｔｔ２（または、（ｎ＋１）回目の
分注工程で分注する溶媒の沸点）から決まる予備昇温温
度Ｔｓ２になるまで降温するようにし、温度調整部２７
は、ｎ回目の排液工程および（ｎ＋１）回目の分注工程
の間、反応ブロック１の温度を上記予備昇温温度Ｔｓ２
に維持して、（ｎ＋１）回目の分注工程が終了するまで
に、反応ブロック１の温度を所定の予備昇温温度Ｔｓ２
に昇温するように構成してもよい。このように構成すれ
ば、ｎ回目の生成反応を終えてから反応ブロック１を降
温する際に、反応ブロック１の温度を常温付近の所定温
度Ｔｂに一旦降温する場合よりも降温時の時間を一層短
縮することができる。
【００６０】この発明は、上記実施の形態に限られるこ
とはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６１】（１）実施例装置では、各反応容器２への
試薬や溶媒の分注供給が完了するまでに、反応ブロック
１の温度を所定の予備昇温温度に昇温するための構成
と、反応ブロック１を強制冷却するための構成との双方
を備えたが、いずれか一方の構成のみを備えるように構
成してもよい。
【００６２】（２）実施例の説明では、反応ブロック１
の温度を予備昇温温度Ｔｓに昇温する動作を、液体分注
部３による分注が開始されると同時に開始すると説明し
たが、反応ブロック１の温度を予備昇温温度Ｔｓに昇温
する動作を、分注開始よりも前、または、後のタイミン
グから開始してもよい。
【００６３】（３）実施例装置では、冷却水を用いて反
応ブロック１を強制冷却するように構成したが、液体窒
素などの冷却水以外の冷却媒体を用いて反応ブロック１
を強制冷却するように構成してもよいし、冷却気体を用
いて空冷するように構成してもよいし、ペルチェ素子で
反応ブロック１の熱を吸熱して反応ブロック１を強制冷
却するように構成してもよい。
【００６４】（４）実施例装置では３個の温度センサＴ
Ｓの実測温度を平均して温調などを行う構成であった
が、３個の温度センサＴＳの実測温度の中の最高温度を
選んで温調などを行う構成であってもよい。また、反応
ブロック１に設ける温度センサの数は特定の数に限られ
ず、例えば１個であってもよい。
【００６５】（５）実施例装置では、反応系が１組であ
ったが、１組の制御系でコントロールされる同一の反応
系が二組設けられている構成の装置が、変形例として挙
げられる。
【００６６】（６）実施例装置は有機自動合成装置であ
り、また、固相反応により化合物が合成される構成であ
ったが、その発明の装置は、無機自動合成装置であって
もよいし、また、液相反応により化合物が合成される構
成の装置であってもよい。
【００６７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、試薬・溶媒分注手段による反
応容器への試薬および溶媒の分注供給が完了するまで
に、反応ブロックの温度を所定の予備昇温温度に昇温す
るように構成したので、反応容器への試薬および溶媒の
分注供給が完了した後、反応ブロックの温度を目標温度
に昇温させる際に、反応ブロックの昇温開始時の温度と
目標温度との温度差を、従来よりも小さくすることがで
き、反応容器への試薬および溶媒の分注供給が完了した
後、反応ブロックの温度を目標温度に昇温させるのに要
する時間を従来よりも短縮することができる。従って、
温調下で行う生成反応を含む合成プロトコルの実行時間
を短縮することができ、高価な自動分析装置の有効利用
を図ることができる。
【００６８】請求項２に記載の発明によれば、反応ブロ
ックを強制冷却する強制冷却手段を備えているので、生
成反応を終えて反応ブロックの温度を目標温度から降温
する際に要する時間を従来よりも短縮することができ
る。従って、温調下で行う生成反応を含む合成プロトコ
ルの実行時間を短縮することができ、高価な自動分析装
置の有効利用を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施例に係る有機自動合成装置の
全体構成を示すブロック図である。
【図２】実施例装置の反応系の構成を示す平面図であ
る。
【図３】実施例装置の反応ブロックの要部構成を示す概
略図である。
【図４】強制冷却部の一例の構成を示す図である。
【図５】１回の合成プロトコルを実行する際の各工程を
流れを示すフローチャートである。
【図６】反応ブロックの温調が実施された下で生成反応
を行う場合の実施例装置と従来装置による分注工程、生
成反応工程、排液工程の動作を示すタイムチャートであ
る。
【図７】反応ブロックの温調が実施された下で生成反応
を行う場合の実施例装置による反応ブロックの昇降温の
変形例を示すタイムチャートである。
【図８】従来の自動合成装置の要部構成を示す概略図で
ある。
【符号の説明】
１：反応ブロック ２：反応容器 ３：液体分注部 ２４：分注制御部 ２６：目標温度保持部 ２７：温度調整部 ２８：冷却制御部 ＨＴ：電気ヒーター ＴＳ：温度センサ ＣＵ：強制冷却部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 生成反応を行う反応容器が複数個配列さ
    れている反応ブロックと、反応容器に試薬および溶媒を
    分注する試薬・溶媒分注手段と、反応ブロックの温度を
    目標温度に昇温して維持する温度調整を行う温度調整手
    段とを備え、試薬・溶媒分注手段により試薬および溶媒
    が分注供給された反応容器において温度調整手段による
    温調下で生成反応が行えるように構成された自動合成装
    置において、試薬・溶媒分注手段による反応容器への試
    薬および溶媒の分注供給が完了するまでに、反応ブロッ
    クの温度を所定の予備昇温温度に昇温するように構成し
    たことを特徴とする自動合成装置。
  2. 【請求項２】 生成反応を行う反応容器が複数個配列さ
    れている反応ブロックと、反応容器に試薬および溶媒を
    分注する試薬・溶媒分注手段と、反応ブロックの温度を
    目標温度に昇温して維持する温度調整を行う温度調整手
    段とを備え、試薬・溶媒分注手段により試薬および溶媒
    が分注供給された反応容器において温度調整手段による
    温調下で生成反応が行えるように構成された自動合成装
    置において、反応ブロックを強制冷却する強制冷却手段
    を備えたことを特徴とする自動合成装置。
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