JP2000220690A - 能動的除振装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 除振台を着座位置から平衡位置に円滑かつ短
時間で定位させる。 【解決手段】 除振台と、この除振台を駆動および支持
する空気ばねアクチュエータを有し、除振台を防振支持
する能動的支持脚と、除振台の振動を検出する振動検出
手段ＡＣと、除振台の位置を検出する位置検出手段ＰＯ
と、振動検出手段と位置検出手段の両出力に基づいて空
気ばねアクチュエータに駆動力を発生させるためのフィ
ードバック補償器１９、２０、２２〜２５と、除振台の
目標位置を指定する位置目標値出力部２１と、空気ばね
アクチュエータが発生すべき定常出力を指定する圧力目
標値出力部２６とを備えた能動的除振装置において、圧
力目標値出力部に、その出力を定常出力に対応する値に
達するまでランプ状または段階状に上昇させ、またはそ
の値からランプ状または段階状に下降させる機能を設け
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、レチクルの回路パ
ターンを半導体ウエハに焼き付ける半導体露光装置また
は液晶基板製造装置あるいは電子顕微鏡などに用いられ
る能動的除振装置に関する。より詳しくは、除振台に伝
播してくる外部振動を抑制するとともに、除振台に搭載
される精密機器自身が発生する振動を積極的に打ち消す
ことが可能な能動的除振装置、この装置を備えた露光装
置およびこれを用いたデバイス製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、電子ビームを使う電子顕微鏡ま
たはステッパなどに代表される半導体露光装置では、除
振装置上にＸＹステージが搭載されている。この除振装
置は、空気ばね、コイルばね、防振ゴムなどの振動吸収
手段により振動を減衰させる機能を持つ。しかし、上述
の如き振動吸収手段を備えた受動的除振装置においては
床から伝播する振動についてはある程度減衰できても、
同装置上に搭載されているＸＹステージ自身が発生する
振動は有効に減衰できない、という問題がある。つま
り、ＸＹステージ自身の高速移動によって生じる反力は
除振装置を揺らせることになり、この振動はＸＹステー
ジの位置決め整定性を著しく阻害するものである。さら
に、受動的除振装置においては、床から伝播する振動の
絶縁（除振）とＸＹステージ自身の高速移動で発生する
振動の抑制（制振）性能の間にトレードオフの問題があ
る。これらの問題を解消するため、近年は能動的除振装
置を使用する傾向にある。能動的除振装置は可調整機構
の範囲内で除振と制振のトレードオフが解消できるし、
なによりもフィードフォワード制御を積極的に適用する
ことによって受動的除振装置では達成できない性能を取
得することができる。

【０００３】さて、上述の能動的除振装置では、平衡位
置での除振および制振特性を満たすことはもちろんのこ
と重要であるが、除振台が着座している位置から平衡位
置の定常状態へと遷移させる過程も装置性能を確保する
うえで重要である。具体的には、着座状態にある除振台
を、動作開始指令によって立ち上げていく際、除振台の
姿勢を暴れさせることなく平衡位置へと移行させること
が必要である。何故ならば、平衡位置への遷移過程で除
振台の姿勢を暴れさせると、除振台上に搭載された精密
ユニットの機械接触または衝突などの事態を招いてしま
うからである。また、衝突などを発生させなくとも、除
振台の姿勢を暴れさせてしまう、ということは平衡位置
までの収束性を著しく阻害するものであって、能動的除
振装置を組み込んでいる半導体露光装置を実際の稼働状
態へと移行させるタイムラグを大きくするという問題に
つながる。

【０００４】ここで、除振台の姿勢を乱す原因として
は、半導体露光装置の実稼働状態で除振台の姿勢変化を
最小にするように調整した能動的除振装置が一般にハイ
ゲインの状態にあることが挙げられる。このようなと
き、着座位置から除振台を平衡状態へと移行させるよう
な大振幅動作では、補償器あるいはアクチュエータのド
ライブ回路等を容易に飽和させ、したがって除振台の姿
勢を暴れさせてしまうのである。このような事情は、能
動的除振装置に限るものではなくサーボ系一般でも生じ
る現象である。この問題を回避する為に、駆動時のよう
な大振幅動作と、平衡位置近傍での小振幅動作領域とで
制御系の補償パラメータを変更することが行なわれてい
る。しかし、大振幅動作と小振幅動作とで最適なパラメ
ータを探索することは煩雑であり、しかもパラメータ切
替え時の不安定性の問題を新たに惹起せしめることがあ
る。また、パラメータの切替えをディスクリートの電子
部品で実現しようとする場合、回路規模の増大を招いて
しまうことは避けられない。

【０００５】除振台の暴れを回避するためのもう１つの
手段は、最終の平衡位置の手前に仮の目標位置を定めて
最初に仮の平衡位置まで収束させ、次に最終の平衡位置
へと目標位置を変更して最終的な平衡位置に定位させる
ことである。すなわち、位置の目標値を段階的に切り替
えることによって除振台を振動させることなく目標位置
に定位させようとするものである。例えば、特開平１０
−１０３４０３号公報にこのような技術が開示されてい
る。

【０００６】より詳細な理解を得るべく図面を用いて、
着座している除振台を平衡位置へと立ち上げるための装
置構成を説明する。図２において、１は空気ばね２へ動
作流体の空気を給気・排気するサーボバルブ、３は除振
台４の鉛直方向変位を計測する位置検出手段としての位
置センサ、５は予圧用機械ばね、６は空気ばね２と予圧
用機械ばね５および図示しない機構全体の粘性を表現す
る粘性要素である。これらの構成部品から組み合わされ
る機構は能動的支持脚と呼ばれる。次に、フィードバッ
ク装置７の説明をする。

【０００７】加速度センサを代表とする振動検出手段８
の出力は、フィルタ回路９を通って高周波ノイズを除去
するなどの信号処理が施されて、サーボバルブ２を駆動
する電圧電流変換器１０の前段にフィードバックされて
おり、このループによって機構にダンピングが作用す
る。続いて、位置検出手段３の出力は変位増幅器１１を
通って比較回路１２の入力となっている。この比較回路
１２では、変位増幅器１１と目標値生成部１３の出力と
を比較して位置偏差信号を算出する。そして位置偏差信
号はＰＩ補償器１４に導かれ、この出力と先に説明した
フィルタ回路９の出力とを加算した信号で電圧電流変換
器１０を駆動している。振動検出手段８の出力に基づく
ダンピングループによって機構を安定化して、位置検出
手段３の出力に基づくフィードバックループによって目
標値生成部１３で指定した平衡位置に定常偏差なく位置
決めしている。ここで、Ｐは比例を、Ｉは積分動作をそ
れぞれ意味する。

【０００８】さて、目標値生成部１３では除振台４を定
位させる平衡位置を指定するが、図２に示すように、ｒ
_s1とｒ_s2の目標電圧を切り替え指令信号１５を使って切
り替えるようになっている。ここでｒ_s2は除振台４を最
終的に定位させる位置の目標電圧であり、ｒ_s1はその手
前の位置を指定する目標電圧である。着座している除振
台４を目標電圧ｒ_s2で指定する位置へと最終的に定位さ
せるとき、まず目標電圧ｒ_s1を一定の時間だけ比較回路
１２に与えて除振台４をある程度最終の平衡位置へと接
近させ、そして目標電圧をｒ_s2へ切り替えることによっ
て最終の平衡位置に定位させている。このような切替え
によって、除振台４は振動的応答を呈することなく最終
の平衡位置に定位する。一方、最終の平衡位置を示す目
標電圧ｒ _s2だけを比較回路１２に与えた場合には、除振
台４は振動的応答を伴いながら定位する。つまり、目標
電圧の切替えは、除振台４に余計な動きをさせることな
く平衡位置に定位させることができるので有効な手段で
ある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来技
術によれば、能動的除振装置によって支持された除振台
を着座位置から平衡位置へと定位させる場合、平衡位置
近傍での動作とは異なり大振幅動作となるため補償器あ
るいはアクチュエータなどの飽和を来たす。これは、着
座位置から平衡位置への収束過程で除振台の姿勢の暴れ
を招く。このような除振台の姿勢の乱れは能動的除振装
置で支持された本体構造体の機械接触を招いて損傷を与
え、且つアクチュエータおよびその駆動回路にも著しい
負担を与える、という問題を引き起こしている。また、
着座位置から平衡位置に除振台が定位する収束時間を長
くする結果として、除振台で支持された装置を実稼働に
移行する際の待機時間を長くしているという課題があ
る。また、上述の、目標電圧を切り替えて平衡位置に定
位させる技術によれば、なお収束には時間がかかる。

【００１０】そこで、本発明は、能動的除振装置、この
装置を備えた露光装置およびこれを用いたデバイス製造
方法において、除振台を着座位置から平衡位置に定位さ
せる場合、除振台の姿勢を暴れさせることなく円滑に、
かつ短時間で収束させることを課題とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するた
め、本発明の能動的除振装置は、除振台と、この除振台
を駆動および支持する空気ばねアクチュエータを有し、
前記除振台を防振支持する能動的支持脚と、前記除振台
の振動を検出する振動検出手段と、前記除振台の位置を
検出する位置検出手段と、前記振動検出手段と前記位置
検出手段の両出力に基づいて前記空気ばねアクチュエー
タに駆動力を発生させるためのフィードバック補償器
と、前記除振台の目標位置を指定する位置目標値出力部
と、前記空気ばねアクチュエータが発生すべき定常出力
を指定する圧力目標値出力部とを備えた能動的除振装置
において、前記圧力目標値出力部はその出力を前記定常
出力に対応する値に達するまでランプ状または段階状に
上昇させ、または前記定常出力に対応する値からランプ
状または段階状に下降させる機能を有するものであるこ
とを特徴とする。

【００１２】また、本発明の露光装置は、基板を保持し
て露光位置に位置決めするステージ装置と、このステー
ジ装置を支持する能動的除振装置を備え、前記露光位置
に位置決めされた基板を露光する露光装置において、能
動的除振装置として、前記本発明のものを具備すること
を特徴とする。

【００１３】また、本発明のデバイス製造方法は、ステ
ージ装置により基板を保持して露光位置に位置決めし、
位置決めされた基板を露光するとともに、その際、前記
ステージ装置を能動的除振装置に搭載し、除振して、デ
バイスを製造する方法において、能動的除振装置とし
て、前記本発明のものを用い、その空気ばねアクチュエ
ータの出力を、それが発生すべき定常出力に達するまで
ランプ状または段階状に上昇させ、または前記定常出力
からランプ状または段階状に下降させる工程を有するこ
とを特徴とする。

【００１４】これによれば、除振台を着座位置から平衡
位置へと定位させるフロート動作時もしくは平衡位置か
ら着座位置へと定位させるダウン動作時に、空気ばねア
クチュエータの出力を、平衡位置に対応する定常出力に
達するまでランプ状または段階状に上昇させ、または定
常出力からランプ状または段階状に下降させることによ
り、除振台の位置は円滑かつ短時間で平衡位置または着
座位置に収束する。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、実施例を用いて説明する。

【００１６】

【実施例】図１は本発明の一実施例に係る能動的除振装
置を示す。この図に基づく説明の前に、能動的除振装置
の機械構成を図３を使って説明しておく。同図におい
て、１６は除振台１７に搭載されたＸＹステージ、１８
−１，１８−２，１８−３は除振台１７を支える能動的
支持脚である。１脚の能動的支持脚１８の中には、鉛直
方向と水平方向の各１軸を制御するために必要な加速度
センサＡＣ、位置センサＰＯ、サーボバルブＳＶ、空気
ばねアクチュエータＡＳが内蔵されている。ここで、図
中のＡＣ、ＰＯなどのハイフンの次に付けた記号は図中
の座標系に従う方位と能動的支持脚の配置場所を示して
いる。例えば、Ｙ２とはＹ軸方向であって左側に配置し
た能動的支持脚１８−２の中にあるものを指す。

【００１７】再び図１に戻って、能動的除振装置の動作
説明をする。先ず、振動検出手段の代表である加速度セ
ンサＡＣ−Ｚ１，ＡＣ−Ｚ２，ＡＣ−Ｚ３，ＡＣ−Ｘ
１，ＡＣ−Ｙ２，ＡＣ−Ｙ３の出力は高周波ノイズを除
去する等の適切なフィルタリング処理が施されて、即座
に加速度に関する運動モード抽出演算手段１９への入力
となる。その出力は運動モード加速度信号（ａ_x，ａ_y，
ａ_z，ａθ_x，ａθ_y，ａθ_z）となる。運動モードごとに
最適なダンピングを設定するべく、運動モード加速度信
号（ａ_x，ａ_y，ａ_z，ａθ_x，ａθ_y，ａθ_z）は次段の加
速度信号に関するゲイン補償器２０に導かれている。こ
のゲインを調整することによって運動モードごとに最適
なダンピング特性が得られる。このループを加速度フィ
ードバックループと称する。

【００１８】次に、ＰＯ−Ｚ１，ＰＯ−Ｚ２，ＰＯ−Ｚ
３，ＰＯ−Ｘ１，ＰＯ−Ｙ２，ＰＯ−Ｙ３は、位置検出
手段の代表としての位置センサであり、その出力は位置
目標値出力部２１の出力である（Ｚ₁₀，Ｚ₂₀，Ｚ₃₀，Ｘ
₁₀，Ｙ₂₀，Ｙ₃₀）と比較されて、各軸の位置偏差信号
（ｅ_z1，ｅ_z2，ｅ_z3，ｅ_x1，ｅ_y2，ｅ_y3）となる。これ
らの位置偏差信号は、除振台１７の並進運動と各軸回り
の回転運動の合計６自由度の運動モード位置偏差信号
（ｅ_x，ｅ_y，ｅ_z，ｅθ_x，ｅθ_y，ｅθ_z）を演算出力す
る位置信号に関する運動モード抽出演算手段２２に導か
れる。これらの出力信号は、運動モードごとにほぼ非干
渉で位置の特性を調整するＰＩ補償器２３に導かれてい
る。このループを位置フィードバックループと称する。
先に説明した加速度フィードバックループにおけるゲイ
ン補償器２０の出力信号とこの位置フィードバックルー
プにおけるＰＩ補償器２３の出力信号とは加算されて運
動モード駆動信号（ｄ_x，ｄ_y，ｄ_z，ｄθ_x，ｄθ_y，ｄ
θ_z）となる。続いて、この信号は運動モード分配演算
手段２４への入力となり、各能動的支持脚内のサーボバ
ルブＳＶを駆動するための駆動信号（ｄ_z1，ｄ_z2，
ｄ_z3，ｄ_x1，ｄ_y2，ｄ_y3）を生成する。直接的には、こ
の駆動信号は各能動的支持脚内のサーボバルブＳＶ−Ｚ
１，ＳＶ−Ｚ２，ＳＶ−Ｚ３，ＳＶ−Ｘ１，ＳＶ−Ｙ
２，ＳＶ−Ｙ３の弁開閉を司る電流を通電するための電
圧電流変換器２５（図中、ＶＩ変換と略記）を励磁して
いる。そして、最終的に、空気ばねアクチュエータＡＳ
に駆動力を発生させている。このように、振動検出手段
の出力に基づく加速度フィードバックループと位置検出
手段の出力に基づく位置フィードバックとによって空気
ばねアクチュエータＡＳに駆動力を発生させる装置部分
をフィードバック補償器と呼ぶことにする。

【００１９】なお、ＬＡ−Ｘ，ＬＡ−θ，ＬＡ−Ｙは、
それぞれＸ方向、鉛直軸回りの回転、Ｙ方向のＸＹステ
ージ１６の位置を計測するためのレーザ干渉計であり、
これは露光装置本体２８に装着されている。そして、図
１では、加速度センサＡＣ−Ｚ１，ＡＣ−Ｚ２，ＡＣ−
Ｚ３，ＡＣ−Ｘ１，ＡＣ−Ｙ２，ＡＣ−Ｙ３、位置セン
サＰＯ−Ｚ１，ＰＯ−Ｚ２，ＰＯ−Ｚ３，ＰＯ−Ｘ１，
ＰＯ−Ｙ２，ＰＯ−Ｙ３、およびサーボバルブＳＶ−Ｚ
１，ＳＶ−Ｚ２，ＳＶ−Ｚ３，ＳＶ−Ｘ１，ＳＶ−Ｙ
２，ＳＶ−Ｙ３も露光装置本体２８に装着されている表
現が採られているが、これは、もちろん図３に示した能
動的除振装置を露光装置本体２８の中のユニットとして
いるからである。

【００２０】ここで、圧力目標値出力部２６の出力（ｄ
_z10，ｄ_z20，ｄ_z30，ｄ_x10，ｄ_y20，ｄ_y30）は電圧電流
変換器２５の前段に印加されている。したがって、この
出力はサーボバルブＳＶに定常電流を流す役割を持つ。
着座している除振台１７を平衡位置へ定位させる際、圧
力目標値出力部２６の出力によってサーボバルブＳＶに
定常電流が先行的に流されて、空気ばねアクチュエータ
ＡＳには急速に空気が充填される。平衡位置において空
気ばねアクチュエータＡＳが必要とする空気を急速に充
填するので、加速度センサの出力を零にする制御と、目
標位置に定常偏差なく定位させるためのサーボ系の修正
動作は極く僅かなものとなる。結果として、除振台１７
を位置目標値出力部２１で指定した平衡位置に素早く定
位させることができる。しかし、空気ばねアクチュエー
タＡＳの内圧を急激に上げるので、閉ループ系の修正動
作が間に合わずに、除振台１７の平衡位置からの行き過
ぎを招くこともある。

【００２１】そこで、本発明に従い、従来技術に係る位
置目標値のランプ状の立ち上げ、もしくは段階的な切り
替えとともに、空気ばねアクチュエータＡＳへ作動流体
の空気を充填するためのサーボバルブの電流もランプ状
に立ち上げるか、もしくは段階的に切り替える。すなわ
ち、サーボバルブＳＶへの電流をランプ状に立ち上げる
場合には、平衡位置に除振台を定位させるために必要な
サーボバルブＳＶの定常電流値までランプ状に電流を増
加させる。また、サーボバルブＳＶの電流を段階的に切
り替える場合、除振台１７を立ち上げる初期の一定の時
間内は最終の定常電流よりも低い電流を与えておき、そ
の後、除振台が平衡位置にあるときに必要な流量を流す
ためのサーボバルブＳＶへのバイアス電流へと切り替え
る。

【００２２】図４は、除振台１７を平衡位置へと定位さ
せるときの圧力目標値出力部２６の出力（ｄ_z10，
ｄ_z20，ｄ_z30，ｄ_x10，ｄ_y20，ｄ_y30）を示す。同図
（ａ）は浮上着座指令端子２７に印加する信号であり、
ローレベルのとき浮上の指令となっている。このとき、
同図（ｂ）に示す圧力目標値出力部２６の出力は零から
徐々に増大して、すなわちランプ状に増加して最終の定
常値を設定するようになっている。また、同図（ｃ）
は、圧力目標値出力部２６の出力を階段状に増加して最
終の定常値を設定するときの波形である。

【００２３】なお、上述では除振台４を着座位置から平
衡位置へ定位させる動作に対して説明したが、除振台４
を平衡位置から着座させる動作にも適用できることは言
うまでもない。つまり、位置目標値とサーボバルブＳＶ
の電流とをランプ状に変化させることによって、もしく
は位置目標値とサーボバルブＳＶの電流とを段階的に切
り替えることによって除振台１７を着座させてもよい。
また、段階的な切り替えを行なう場合の段数であるが、
図４（ｃ）では２段階目で最終値に到達させているが、
この段数に制約を設けるものではない。

【００２４】最後に、本実施例の能動的除振装置による
除振台の浮上位置決めの様子を図５に示す。同図（ａ）
の波形はサーボバルブＳＶに流すバイアス電流の様子で
ある。図中、Ａは位置決め開始指令と同時にステップ状
のバイアス電流を流す場合の波形であり、Ｂはサーボバ
ルブにランプ状にバイアス電流を流していく場合の波形
である。このようなサーボバルブＳＶへのバイアス電流
の流し方に対応して、除振台は概ね図５（ｂ）の波形で
示す過渡現象を経て目標位置に定位する。すなわち、従
来のようにステップ状にサーボバルブＳＶに電流を通電
した場合には、オーバシュートとアンダーシュートを繰
り返しながら除振台が平衡位置に定位している（波形
Ａ）。一方、ランプ状にサーボバルブヘの電流を通電し
た場合には、除振台１７を暴れさせることなく目標位置
に定位させている（波形Ｂ）ことが分かる。なお、図５
（ｂ）の縦軸の単位はｍｍであって除振台の並進方向の
変位を示すが、除振台の回転姿勢も振動的にしないこと
はもちろんである。

【００２５】また、図５（ａ）は圧力目標値出力部２６
の出力によってサーボバルブＳＶに通電される電流波形
であるが、もちろん位置目標値出力部２１の出力波形と
して使用することもできる。そして、圧力目標値出力部
２６と位置目標値出力部２１の出力を共に所定の値まで
ランプ状に、もしくは階段状に上昇または下降する機能
を持たせてもよい。

【００２６】＜デバイス製造方法の実施例＞次に本発明
の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明
する。図６は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チ
ップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロ
マシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設
計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステップ２
（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスク
を製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリ
コンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステ
ップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によっ
てウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５
（組立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製
されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、
アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッ
ケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステッ
プ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイ
スの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。
こうした工程を経て、半導体デバイスが完成し、これが
出荷（ステップ７）される。

【００２７】図７は上記ウエハプロセス（ステップ４）
の詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエ
ハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウ
エハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形
成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステ
ップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込
む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハにレジス
トを塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した
露光装置または露光方法によってマスクの回路パターン
をウエハの複数のショット領域に並べて焼付露光する。
ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。
ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以
外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）で
はエッチングが済んで不要となったレジストを取り除
く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、
ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

【００２８】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった大型のデバイスを低コストに製造するこ
とができる。

【００２９】

【発明の効果】本発明の効果は以下の通りである。 （１）除振台を着座位置から平衡位置へと定位させるフ
ロート動作時、もしくは平衡位置から着座位置へと定位
させるダウン動作時に除振台の姿勢を暴れさせることが
ない。したがって、除振台に搭載された精密機器、もし
くは除振台と一体の構造部材を機械接触または衝突させ
てしまうことが回避できる。 （２）除振台を円滑に立ち上げるのでアクチュエータに
かかる負担が軽減される、という効果がある。 （３）平衡位置への収束が速いので、装置を素早く稼働
状態に移行させることができる。 （４）もって、露光装置およびデバイス製造の生産性に
寄与するところ大という効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例に係る能動的除振装置を示
すブロック図である。

【図２】 従来の能動的除振装置の原理を説明する図で
ある。

【図３】 図１の能動的除振装置の機械構成を示す図で
ある。

【図４】 図１の装置における圧力目標値の生成波形例
を示す図である。

【図５】 図１の装置における除振台の浮上位置決めの
様子を従来例と比較して示すグラフである。

【図６】 本発明の露光装置を利用できるデバイス製造
方法を示すフローチャートである。

【図７】 図６中のウエハプロセスの詳細なフローチャ
ートである。

【符号の説明】

１：サーボバルブ、２：空気ばね、３：位置検出手段、
４：除振台、５：予圧用機械ばね、６：粘性要素、７：
フィードバック装置、８：振動検出手段、９：フィルタ
回路、１０：電圧電流変換器、１１：変位増幅器、１
２：比較回路、１３：目標値生成部、１４：ＰＩ補償
器、１５：切替え指令信号、１６：ＸＹステージ、１
７：除振台、１８−１，１８−２，１８−３：能動的支
持脚、１９：加速度に関する運動モード抽出演算手段、
２０：ゲイン補償器、２１：位置目標値出力部、２２：
位置信号に関する運動モード抽出演算手段、２３：ＰＩ
補償器、２４：運動モード分配演算手段、２５：電圧電
流変換器、２６：圧力目標値出力部、２７：浮上着座指
令端子、ＡＣ：加速度センサ、ＡＳ：空気ばねアクチュ
エータ、ＰＯ：位置センサ、ＳＶ：サーボバルブ。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 除振台と、この除振台を駆動および支持
   する空気ばねアクチュエータを有し、前記除振台を防振
   支持する能動的支持脚と、前記除振台の振動を検出する
   振動検出手段と、前記除振台の位置を検出する位置検出
   手段と、前記振動検出手段と前記位置検出手段の両出力
   に基づいて前記空気ばねアクチュエータに駆動力を発生
   させるためのフィードバック補償器と、前記除振台の目
   標位置を指定する位置目標値出力部と、前記空気ばねア
   クチュエータが発生すべき定常出力を指定する圧力目標
   値出力部とを備えた能動的除振装置において、前記圧力
   目標値出力部はその出力を前記定常出力に対応する値に
   達するまでランプ状または段階状に上昇させ、または前
   記定常出力に対応する値からランプ状または段階状に下
   降させる機能を有することを特徴とする能動的除振装
   置。
2. 【請求項２】 前記位置目標値出力部は、前記除振台の
   目標位置を、最終の目標とする平衡位置へ向けてランプ
   状または段階状に上昇しまたはその位置からランプ状ま
   たは段階状に下降するように指定する機能を有すること
   を特徴とする請求項１に記載の能動的除振装置。
3. 【請求項３】 基板を保持して露光位置に位置決めする
   ステージ装置と、このステージ装置を支持する能動的除
   振装置を備え、前記露光位置に位置決めされた基板を露
   光する露光装置において、前記能動的除振装置として、
   請求項１または２のものを具備することを特徴とする露
   光装置。
4. 【請求項４】 ステージ装置により基板を保持して露光
   位置に位置決めし、位置決めされた基板を露光するとと
   もに、その際、前記ステージ装置を能動的除振装置に搭
   載し、除振して、デバイスを製造する方法において、前
   記能動的除振装置として、請求項１または２のものを用
   い、その空気ばねアクチュエータの出力を、それが発生
   すべき定常出力に達するまでランプ状または段階状に上
   昇させ、または前記定常出力からランプ状または段階状
   に下降させる工程を有することを特徴とするデバイス製
   造方法。