JP2000221145A - セラミックス基板の探傷液塗布装置 - Google Patents
セラミックス基板の探傷液塗布装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】探傷液２の塗布処理が短時間で効率的に出来、
クラック１９への探傷液２の浸透が確実で、セラミック
ス基板１の表面へ塗布ムラ、乾燥シミの無い綺麗な表面
状態を得る。 【解決手段】探傷液２をスプレーノズル５で吹き付け、
吸水性のあるローラー８でセラミックス基板１へ上下か
ら押しあてて探傷液２をクラック１９へ浸透させ、洗
浄、乾燥を連続的に実施する。
クラック１９への探傷液２の浸透が確実で、セラミック
ス基板１の表面へ塗布ムラ、乾燥シミの無い綺麗な表面
状態を得る。 【解決手段】探傷液２をスプレーノズル５で吹き付け、
吸水性のあるローラー８でセラミックス基板１へ上下か
ら押しあてて探傷液２をクラック１９へ浸透させ、洗
浄、乾燥を連続的に実施する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミックス基板
のクラック検査の為の、探傷液を塗布する装置に関す
る。
のクラック検査の為の、探傷液を塗布する装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】セラミックス基板のクラックは、目視検
査では検出しにくく検査精度を上げる為に、一般的に探
傷液を塗布してから検査を行う。この探傷液塗布の方法
は以下の通りである。
査では検出しにくく検査精度を上げる為に、一般的に探
傷液を塗布してから検査を行う。この探傷液塗布の方法
は以下の通りである。
【０００３】まず図７（ａ）に示すように、篭状のコン
テナー１０２に複数のセラミックス基板１を入れ、図７
（ｂ）に示すように、このコンテナー１０２を探傷液２
が入った探傷液槽１０１に入れる。この状態でセラミッ
クス基板１の全体へ探傷液２が付くようにバラバラの状
態にし、５〜２０分放置する。次に探傷液槽１０１から
コンテナー１０２を出し、セラミックス基板１をシャワ
ー水洗または水中へ浸し、軽く表面の探傷液２を洗い落
とし、乾燥室へコンテナー１０２ごと入れ、セラミック
ス基板１の表面乾燥を、６〜８時間、８０〜９０℃の雰
囲気で行う。
テナー１０２に複数のセラミックス基板１を入れ、図７
（ｂ）に示すように、このコンテナー１０２を探傷液２
が入った探傷液槽１０１に入れる。この状態でセラミッ
クス基板１の全体へ探傷液２が付くようにバラバラの状
態にし、５〜２０分放置する。次に探傷液槽１０１から
コンテナー１０２を出し、セラミックス基板１をシャワ
ー水洗または水中へ浸し、軽く表面の探傷液２を洗い落
とし、乾燥室へコンテナー１０２ごと入れ、セラミック
ス基板１の表面乾燥を、６〜８時間、８０〜９０℃の雰
囲気で行う。
【０００４】また他の方法として、上記と同様にセラミ
ックス基板１を篭状のコンテナー１０２へ入れ、このコ
ンテナー１０２を、探傷液２を入れた密閉出来る容器に
入れ、この容器内へ、セラミックス基板１のクラックへ
探傷液２を浸透させる目的で不活性ガスを供給して加圧
し、１〜２分放置した後取り出し、前述の方法で、洗
浄、乾燥処理を行う。
ックス基板１を篭状のコンテナー１０２へ入れ、このコ
ンテナー１０２を、探傷液２を入れた密閉出来る容器に
入れ、この容器内へ、セラミックス基板１のクラックへ
探傷液２を浸透させる目的で不活性ガスを供給して加圧
し、１〜２分放置した後取り出し、前述の方法で、洗
浄、乾燥処理を行う。
【０００５】このようにして探傷液を塗布したセラミッ
クス基板１は、図５（ａ）（ｂ）に示すように、クラッ
ク１９に探傷液２が浸透し、目視によって容易に検査を
行うことが出来る。
クス基板１は、図５（ａ）（ｂ）に示すように、クラッ
ク１９に探傷液２が浸透し、目視によって容易に検査を
行うことが出来る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来の方法で
は、セラミックス基板１のクラック１９へ探傷液２を浸
透させる為に、図７（ｂ）に示す探傷液２への浸漬時間
を長く置くか、または、同様の状態で密閉加圧する必要
があり、手間が掛かり非効率的であった。更に、その後
の洗浄、乾燥も長時間必要であるという問題があった。
は、セラミックス基板１のクラック１９へ探傷液２を浸
透させる為に、図７（ｂ）に示す探傷液２への浸漬時間
を長く置くか、または、同様の状態で密閉加圧する必要
があり、手間が掛かり非効率的であった。更に、その後
の洗浄、乾燥も長時間必要であるという問題があった。
【０００７】また、洗浄は人手により行う為、例えば図
５（ａ）に示すように、セラミックス基板１のクラック
１９並びにその周囲に探傷液２の残留ムラが生じ、また
乾燥は図７（ａ）のコンテナー１０２に入れたまま乾燥
室で行う為、セラミックス基板１の重なりによる乾燥シ
ミがセラミックス基板１の表面に生じる。これらはいず
れも、クラック検査の検出精度低下の要因となってい
た。
５（ａ）に示すように、セラミックス基板１のクラック
１９並びにその周囲に探傷液２の残留ムラが生じ、また
乾燥は図７（ａ）のコンテナー１０２に入れたまま乾燥
室で行う為、セラミックス基板１の重なりによる乾燥シ
ミがセラミックス基板１の表面に生じる。これらはいず
れも、クラック検査の検出精度低下の要因となってい
た。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、これらに鑑み
て行われたもので、セラミックス基板に塗布した探傷液
を、上下から押しあてた多孔性のローラーでクラックへ
浸透させるようにした探傷液塗布部と、不要な探傷液を
洗い落とす洗浄部と、乾燥部とからなり、これらを連続
的に備えて探傷液塗布装置を構成したことにより、短時
間で効率的に探傷液塗布処理が出来、また、探傷液のク
ラックへの浸透が確実で、洗浄ムラと重なりによる乾燥
シミを防止出来る為、クラック検査の検出精度を向上出
来るようにしたものである。
て行われたもので、セラミックス基板に塗布した探傷液
を、上下から押しあてた多孔性のローラーでクラックへ
浸透させるようにした探傷液塗布部と、不要な探傷液を
洗い落とす洗浄部と、乾燥部とからなり、これらを連続
的に備えて探傷液塗布装置を構成したことにより、短時
間で効率的に探傷液塗布処理が出来、また、探傷液のク
ラックへの浸透が確実で、洗浄ムラと重なりによる乾燥
シミを防止出来る為、クラック検査の検出精度を向上出
来るようにしたものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態について
詳述する。
詳述する。
【００１０】図１に示すように、本発明の探傷液塗布装
置は、探傷液塗布部Ａ、洗浄部Ｂ、乾燥部Ｃで構成され
ている。
置は、探傷液塗布部Ａ、洗浄部Ｂ、乾燥部Ｃで構成され
ている。
【００１１】探傷液塗布部Ａは、図１に示す探傷液槽１
５から探傷液２を、循環ポンプ１６によりスプレーノズ
ル５へ供給し、セラミックス基板１へ吹き付けた後、ロ
ーラー８で塗布するようになっている。探傷液塗布部Ａ
の詳細を図２（ａ）に示すように、セラミックス基板１
を搬送ローラー１４で矢印方向に搬送しながら、スプレ
ーノズル５よりセラミックス基板１の上下から探傷液２
を吹き付けて塗布する。次に図２（ｂ）に示すように一
対のローラー８をセラミックス基板１の上下から押しあ
てて、探傷液２を擦り込む。
５から探傷液２を、循環ポンプ１６によりスプレーノズ
ル５へ供給し、セラミックス基板１へ吹き付けた後、ロ
ーラー８で塗布するようになっている。探傷液塗布部Ａ
の詳細を図２（ａ）に示すように、セラミックス基板１
を搬送ローラー１４で矢印方向に搬送しながら、スプレ
ーノズル５よりセラミックス基板１の上下から探傷液２
を吹き付けて塗布する。次に図２（ｂ）に示すように一
対のローラー８をセラミックス基板１の上下から押しあ
てて、探傷液２を擦り込む。
【００１２】ここでローラー８は、多孔性の材質からな
り、例えば表１に示すスポンジローラーのような多孔性
樹脂が好適である。またローラー８の径Ｄ１は３５ｍｍ
以下とし、セラミックス基板１の上下から押しあてる圧
力は、３〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2とすることが好ましい。ロ
ーラー８の径Ｄ１を３５ｍｍφ以下とした根拠は、本発
明の探傷液塗布装置は、一般的なセラミックス基板へ対
応出来る汎用機であり、一般的なセラミックス基板の最
小外辺サイズが２５．４ｍｍであることから、これに対
応するため搬送ローラー１４のピッチＰは２５ｍｍと
し、また、搬送ローラー１４の径Ｄ２が１０ｍｍである
ことより、その間に入るローラー８の径Ｄ１は、最大３
５ｍｍとした。
り、例えば表１に示すスポンジローラーのような多孔性
樹脂が好適である。またローラー８の径Ｄ１は３５ｍｍ
以下とし、セラミックス基板１の上下から押しあてる圧
力は、３〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2とすることが好ましい。ロ
ーラー８の径Ｄ１を３５ｍｍφ以下とした根拠は、本発
明の探傷液塗布装置は、一般的なセラミックス基板へ対
応出来る汎用機であり、一般的なセラミックス基板の最
小外辺サイズが２５．４ｍｍであることから、これに対
応するため搬送ローラー１４のピッチＰは２５ｍｍと
し、また、搬送ローラー１４の径Ｄ２が１０ｍｍである
ことより、その間に入るローラー８の径Ｄ１は、最大３
５ｍｍとした。
【００１３】また、ローラー８をセラミックス基板１の
上下から押しあてる圧力を３〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2 とした
のは、３Ｋｇｆ／ｃｍ2 未満では、セラミックス基板１
のクラック１９への探傷液２の浸透が確実でなく、５Ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 を越えると、セラミックス基板１のローラ
ー８部分での搬送速度が遅くなり、セラミックス基板１
の滞留が発生するからである。
上下から押しあてる圧力を３〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2 とした
のは、３Ｋｇｆ／ｃｍ2 未満では、セラミックス基板１
のクラック１９への探傷液２の浸透が確実でなく、５Ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 を越えると、セラミックス基板１のローラ
ー８部分での搬送速度が遅くなり、セラミックス基板１
の滞留が発生するからである。
【００１４】なお、以上の実施形態では、スプレーノズ
ル５から探傷液２を塗布したが、例えばローラ８の中央
部から探傷液２を供給し、ローラ８を通して探傷液２を
塗布するとともに押圧してクラックに浸透させるように
することもできる。また、セラミック基板１の両面を保
証する場合は、上記実施形態のように両面に探傷液２を
塗布するが、片面のみ保証する場合は片面のみ探傷液２
を塗布すればよく、このような場合に、ローラ８を通し
て探傷液２を塗布する方法が好適である。
ル５から探傷液２を塗布したが、例えばローラ８の中央
部から探傷液２を供給し、ローラ８を通して探傷液２を
塗布するとともに押圧してクラックに浸透させるように
することもできる。また、セラミック基板１の両面を保
証する場合は、上記実施形態のように両面に探傷液２を
塗布するが、片面のみ保証する場合は片面のみ探傷液２
を塗布すればよく、このような場合に、ローラ８を通し
て探傷液２を塗布する方法が好適である。
【００１５】さらに、この工程でセラミック基板１に超
音波を作用させてよりクラックへの浸透度を高めること
もできる。
音波を作用させてよりクラックへの浸透度を高めること
もできる。
【００１６】
【表１】
【００１７】次に洗浄部Ｂは、図１に示すようにスプレ
ーノズル６、６ａと、水分除去ローラー９で構成されて
いる。洗浄部Ｂの詳細な説明は、図３（ａ）に示すよう
に、セラミックス基板１へ、上下からスプレーノズル６
で水３を吹き付け探傷液２を洗い落とす。次に図３
（ｂ）に示すように、多孔性の水分除去ローラー９で、
上下よりセラミックス基板１の表面の水３を搾りとって
行く。尚、水分除去ローラー９のセラミックス基板１の
進入側の上方には、更にスプレーノズル６ａを追加して
あるが、これは、水分除去ローラー９が探傷液２で汚れ
やすい為、この汚れを洗い落とす目的で、水３を水分除
去ローラー９へ吹き付けている。洗浄部Ｂの水分除去ロ
ーラー９の材質、サイズ、加圧条件は、探傷液塗布部Ａ
のローラー８と同一としている。
ーノズル６、６ａと、水分除去ローラー９で構成されて
いる。洗浄部Ｂの詳細な説明は、図３（ａ）に示すよう
に、セラミックス基板１へ、上下からスプレーノズル６
で水３を吹き付け探傷液２を洗い落とす。次に図３
（ｂ）に示すように、多孔性の水分除去ローラー９で、
上下よりセラミックス基板１の表面の水３を搾りとって
行く。尚、水分除去ローラー９のセラミックス基板１の
進入側の上方には、更にスプレーノズル６ａを追加して
あるが、これは、水分除去ローラー９が探傷液２で汚れ
やすい為、この汚れを洗い落とす目的で、水３を水分除
去ローラー９へ吹き付けている。洗浄部Ｂの水分除去ロ
ーラー９の材質、サイズ、加圧条件は、探傷液塗布部Ａ
のローラー８と同一としている。
【００１８】さらに、乾燥部Ｃは図１で示すように、セ
ラミックス基板１の水分除去ローラー１０と、エアーブ
ローの為のスプレーノズル７と、乾燥機１１で構成さ
れ、スプレーノズル７へはリングブロー１７を付加し、
乾燥機１１へは熱風発生器１８より熱風を供給してい
る。乾燥部Ｃの詳細は図４（ａ）に示すように、まず水
分除去ローラー１０をセラミックス基板１の上下から押
しあてるが、この水分除去ローラー１０の材質、サイ
ズ、加圧条件は、探傷液塗布部Ａのローラー８と同一と
し、その目的は、洗浄部の水分除去ローラー９と同じ
で、セラミックス基板１の表面へ残留した水３を搾り取
る為のものである。この後、図４（ｂ）に示すエアーブ
ロー用のスプレーノズル７で、セラミックス基板１の上
下からエアー４を吹き付ける。このエアーブローは、セ
ラミックス基板１には穴を有するものがあり、その穴内
部へ水分が残留している為この水分の除去と、表面の水
分除去を目的とし、セラミックス基板１の上下からスプ
レーノズル７で、エアー４を４〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2 の圧
力で、セラミックス基板１の搬送方向と逆の方向から傾
斜角１５〜２０°で吹き付ける。この後、図４（ｃ）で
示すように、セラミックス基板１は乾燥機１１へ搬送さ
れていく。この乾燥機１１の内部温度は、８０〜１５０
℃で、パイプ１２が上下４組からなり、一つのパイプ１
２に２．５ｍｍφの穴径のノズル１３を５カ所付け、こ
のノズル１３より熱風を噴射するようになっている。
ラミックス基板１の水分除去ローラー１０と、エアーブ
ローの為のスプレーノズル７と、乾燥機１１で構成さ
れ、スプレーノズル７へはリングブロー１７を付加し、
乾燥機１１へは熱風発生器１８より熱風を供給してい
る。乾燥部Ｃの詳細は図４（ａ）に示すように、まず水
分除去ローラー１０をセラミックス基板１の上下から押
しあてるが、この水分除去ローラー１０の材質、サイ
ズ、加圧条件は、探傷液塗布部Ａのローラー８と同一と
し、その目的は、洗浄部の水分除去ローラー９と同じ
で、セラミックス基板１の表面へ残留した水３を搾り取
る為のものである。この後、図４（ｂ）に示すエアーブ
ロー用のスプレーノズル７で、セラミックス基板１の上
下からエアー４を吹き付ける。このエアーブローは、セ
ラミックス基板１には穴を有するものがあり、その穴内
部へ水分が残留している為この水分の除去と、表面の水
分除去を目的とし、セラミックス基板１の上下からスプ
レーノズル７で、エアー４を４〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2 の圧
力で、セラミックス基板１の搬送方向と逆の方向から傾
斜角１５〜２０°で吹き付ける。この後、図４（ｃ）で
示すように、セラミックス基板１は乾燥機１１へ搬送さ
れていく。この乾燥機１１の内部温度は、８０〜１５０
℃で、パイプ１２が上下４組からなり、一つのパイプ１
２に２．５ｍｍφの穴径のノズル１３を５カ所付け、こ
のノズル１３より熱風を噴射するようになっている。
【００１９】本発明の探傷液塗布装置の、探傷液塗布部
Ａ、洗浄部Ｂ、乾燥部Ｃの各部のセラミックス基板１を
処理出来る有効幅は５００ｍｍ程度とし、この範囲内で
あれば同時に最多５列迄並行して、セラミックス基板１
の探傷液塗布処理が出来る。
Ａ、洗浄部Ｂ、乾燥部Ｃの各部のセラミックス基板１を
処理出来る有効幅は５００ｍｍ程度とし、この範囲内で
あれば同時に最多５列迄並行して、セラミックス基板１
の探傷液塗布処理が出来る。
【００２０】以上の装置構成により、例えば図５（ａ）
に示すような、セラミックス基板１のクラック１９へ、
図５（ｂ）に示すように探傷液２を自動的に確実に浸透
させることが出来、塗布ムラ、乾燥シミの無い綺麗な処
理面が得られ、また探傷液塗布処理時間も、１０〜１５
秒と短時間で行える。
に示すような、セラミックス基板１のクラック１９へ、
図５（ｂ）に示すように探傷液２を自動的に確実に浸透
させることが出来、塗布ムラ、乾燥シミの無い綺麗な処
理面が得られ、また探傷液塗布処理時間も、１０〜１５
秒と短時間で行える。
【００２１】
【実施例】本発明の実施例について以下に説明する。
【００２２】実施例に用いたセラミックス基板１はＡｌ
2 Ｏ3 含有量９６％アルミナセラミックスからなり、図
６（ａ）に示すように、外辺サイズＬ１＝６２ｍｍ、Ｌ
２＝６０ｍｍ、スルーホール２０の径Ｄ３＝０．４ｍ
ｍ、スルーホール２０とセラミックス基板１の外辺間距
離Ｌ３＝０．８ｍｍのものを用いた。またセラミックス
基板１のスルーホール２０から外辺迄の間に、長さ０．
８ｍｍのクラック１９が入り、図６（ｂ）に示すように
クラック１９の幅Ｗ１並びにＷ２＝２〜４μｍで、その
深さＴ＝０．６４ｍｍでセラミックス基板１の表裏貫通
しているものであり、このクラック１９があることを倍
率３２倍の顕微鏡で確認した。
2 Ｏ3 含有量９６％アルミナセラミックスからなり、図
６（ａ）に示すように、外辺サイズＬ１＝６２ｍｍ、Ｌ
２＝６０ｍｍ、スルーホール２０の径Ｄ３＝０．４ｍ
ｍ、スルーホール２０とセラミックス基板１の外辺間距
離Ｌ３＝０．８ｍｍのものを用いた。またセラミックス
基板１のスルーホール２０から外辺迄の間に、長さ０．
８ｍｍのクラック１９が入り、図６（ｂ）に示すように
クラック１９の幅Ｗ１並びにＷ２＝２〜４μｍで、その
深さＴ＝０．６４ｍｍでセラミックス基板１の表裏貫通
しているものであり、このクラック１９があることを倍
率３２倍の顕微鏡で確認した。
【００２３】このセラミックス基板１を、従来技術の図
７（ｂ）に示す探傷液２の浸積処理により塗布したもの
と、図１に示す本発明による探傷液塗布装置を使用した
もの、各３００シート準備した。この探傷液２は、染色
浸透探傷液で表２に示すものを用いた。尚、本発明の探
傷液塗布装置のセラミックス基板１の処理は、横方向に
５列並行して連続し処理した。
７（ｂ）に示す探傷液２の浸積処理により塗布したもの
と、図１に示す本発明による探傷液塗布装置を使用した
もの、各３００シート準備した。この探傷液２は、染色
浸透探傷液で表２に示すものを用いた。尚、本発明の探
傷液塗布装置のセラミックス基板１の処理は、横方向に
５列並行して連続し処理した。
【００２４】
【表２】
【００２５】以上の探傷液塗布処理を施したセラミック
ス基板１を、同一検査員が、１００Ｗの白熱電球照明下
で、目視にてクラック１９の検査をし検出精度を比較調
査した。まず従来技術による探傷液塗布処理と、本発明
による探傷液塗布装置の処理時間の比較を行った結果、
従来技術による探傷液塗布方式は、セラミックス基板１
を３００シート探傷液２に塗布し洗浄する迄の処理時間
が２０分を要し、その後の乾燥に６時間を要した。これ
に対し、本発明による探傷液塗布装置での処理時間は、
セラミックス基板１を３００シート探傷液塗布、洗浄、
乾燥迄行うのに１５分で済み、従来技術に比較し短時間
で効率的な処理が出来た。
ス基板１を、同一検査員が、１００Ｗの白熱電球照明下
で、目視にてクラック１９の検査をし検出精度を比較調
査した。まず従来技術による探傷液塗布処理と、本発明
による探傷液塗布装置の処理時間の比較を行った結果、
従来技術による探傷液塗布方式は、セラミックス基板１
を３００シート探傷液２に塗布し洗浄する迄の処理時間
が２０分を要し、その後の乾燥に６時間を要した。これ
に対し、本発明による探傷液塗布装置での処理時間は、
セラミックス基板１を３００シート探傷液塗布、洗浄、
乾燥迄行うのに１５分で済み、従来技術に比較し短時間
で効率的な処理が出来た。
【００２６】また以上の探傷液塗布処理したセラミック
ス基板１で、クラック検出精度について比較した結果
は、従来技術により探傷液塗布処理を行ったセラミック
ス基板１のクラック１９の検出精度が８８．３％に対
し、本発明による探傷液塗布装置により処理したセラミ
ックス基板１のクラック１９の検出精度は１００％とい
う結果が得られ、クラック検出精度の向上が確認出来
た。
ス基板１で、クラック検出精度について比較した結果
は、従来技術により探傷液塗布処理を行ったセラミック
ス基板１のクラック１９の検出精度が８８．３％に対
し、本発明による探傷液塗布装置により処理したセラミ
ックス基板１のクラック１９の検出精度は１００％とい
う結果が得られ、クラック検出精度の向上が確認出来
た。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、探傷液槽からスプレー
ノズルへ探傷液を供給し、セラミックス基板へ吹き付
け、多孔性のローラーを、セラミックス基板の上下から
押しあて探傷液をクラック部へ浸透させ、その後、洗
浄、乾燥を連続的に実施する装置としたことにより、探
傷液の塗布処理が効率的に出来、またセラミックス基板
のクラック部への探傷液浸透も確実で、セラミックス基
板表面の塗布ムラ、乾燥シミも無いため、クラック検査
の検出精度を向上させることができる。
ノズルへ探傷液を供給し、セラミックス基板へ吹き付
け、多孔性のローラーを、セラミックス基板の上下から
押しあて探傷液をクラック部へ浸透させ、その後、洗
浄、乾燥を連続的に実施する装置としたことにより、探
傷液の塗布処理が効率的に出来、またセラミックス基板
のクラック部への探傷液浸透も確実で、セラミックス基
板表面の塗布ムラ、乾燥シミも無いため、クラック検査
の検出精度を向上させることができる。
【図１】本発明のセラミックス基板の探傷液塗布装置の
概略の断面図である。
概略の断面図である。
【図２】（ａ）（ｂ）は本発明のセラミックス基板の探
傷液塗布装置の探傷液塗布部の断面図である。
傷液塗布装置の探傷液塗布部の断面図である。
【図３】（ａ）（ｂ）は本発明のセラミックス基板の探
傷液塗布装置の洗浄部の断面図である。
傷液塗布装置の洗浄部の断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は本発明のセラミックス基板の
探傷液塗布装置の乾燥部の断面図である。
探傷液塗布装置の乾燥部の断面図である。
【図５】（ａ）はセラミックス基板の平面図、（ｂ）は
セラミックス基板のクラック部分の断面図である。
セラミックス基板のクラック部分の断面図である。
【図６】（ａ）は本発明の実施例に用いたセラミックス
基板の平面図、（ｂ）はクラック部分の断面図である。
基板の平面図、（ｂ）はクラック部分の断面図である。
【図７】従来の探傷液の塗布方法を説明する図で、
（ａ）はコンテナーとセラミックス基板の斜視図、
（ｂ）は探傷液槽へ浸漬したセラミックス基板の断面図
である。
（ａ）はコンテナーとセラミックス基板の斜視図、
（ｂ）は探傷液槽へ浸漬したセラミックス基板の断面図
である。
１、セラミックス基板 ２、探傷液 ３、水 ４、エアー ５、スプレーノズル ６、６ａ、スプレーノズル ７、スプレーノズル ８、ローラー ９、水分除去ローラー １０、水分除去ローラー １１、乾燥機 １２、パイプ １３、ノズル １４、搬送ローラー １５、探傷液槽 １６、循環ポンプ １７、リングブロー １８、熱風発生器 １９、クラック ２０、スルーホール １０１、探傷液槽 １０２、コンテナー Ａ、探傷液塗布部 Ｂ、洗浄部 Ｃ、乾燥部 Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３、径 Ｐ、ピッチ Ｌ１、Ｌ２、外辺寸法 Ｌ３、外辺間距離 Ｔ、深さ Ｗ１、Ｗ２、幅
Claims (1)
- 【請求項１】セラミックス基板に塗布した探傷液を、上
下から押しあてた多孔性のローラーでクラックへ浸透さ
せるようにした探傷液塗布部と、不要な探傷液を洗い落
とす洗浄部と、乾燥部とからなり、これらを連続的に備
えたことを特徴とするセラミックス基板の探傷液塗布装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02443099A JP3652155B2 (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | セラミックス基板の探傷液塗布装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02443099A JP3652155B2 (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | セラミックス基板の探傷液塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000221145A true JP2000221145A (ja) | 2000-08-11 |
| JP3652155B2 JP3652155B2 (ja) | 2005-05-25 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02443099A Expired - Fee Related JP3652155B2 (ja) | 1999-02-01 | 1999-02-01 | セラミックス基板の探傷液塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3652155B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002059071A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-02-26 | Ibiden Co Ltd | 処理液供給方法 |
| JP2010119997A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Miyako Roller Industry Co | レジスト塗布方法 |
| CN102721704A (zh) * | 2012-06-26 | 2012-10-10 | 潮州三环（集团）股份有限公司 | 电子陶瓷片缺陷自动检测方法及其检测装置 |
| CN108323183A (zh) * | 2018-02-09 | 2018-07-24 | 深圳达闼科技控股有限公司 | 拉曼检测辅助设备、拉曼检测终端及方法 |
| CN108627517A (zh) * | 2018-04-16 | 2018-10-09 | 九豪精密陶瓷(昆山)有限公司 | 陶瓷基片裂痕检测装置 |
| CN113333200A (zh) * | 2021-05-13 | 2021-09-03 | 廖海宁 | 一种基于电子浆料陶瓷基板限位喷涂制备装置 |
| CN115561260A (zh) * | 2022-11-13 | 2023-01-03 | 江苏合微智能科技有限公司 | 基于压力形变的带状物瑕疵检测系统 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104165893A (zh) * | 2014-08-18 | 2014-11-26 | 天津戴卡轮毂制造有限公司 | 荧光渗透检测系统及检测方法 |
-
1999
- 1999-02-01 JP JP02443099A patent/JP3652155B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2002059071A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-02-26 | Ibiden Co Ltd | 処理液供給方法 |
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| CN102721704A (zh) * | 2012-06-26 | 2012-10-10 | 潮州三环（集团）股份有限公司 | 电子陶瓷片缺陷自动检测方法及其检测装置 |
| CN108323183A (zh) * | 2018-02-09 | 2018-07-24 | 深圳达闼科技控股有限公司 | 拉曼检测辅助设备、拉曼检测终端及方法 |
| CN108627517A (zh) * | 2018-04-16 | 2018-10-09 | 九豪精密陶瓷(昆山)有限公司 | 陶瓷基片裂痕检测装置 |
| CN113333200A (zh) * | 2021-05-13 | 2021-09-03 | 廖海宁 | 一种基于电子浆料陶瓷基板限位喷涂制备装置 |
| CN115561260A (zh) * | 2022-11-13 | 2023-01-03 | 江苏合微智能科技有限公司 | 基于压力形变的带状物瑕疵检测系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3652155B2 (ja) | 2005-05-25 |
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