JP2000223407A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 濃度ウェッジガラスを用いることなく、基板
上のショット領域の位置よらず、隣接ショットとの繋ぎ
の部分（４隅の部分を含め）で積算露光量の急激な変化
の発生を確実に防止する。 【解決手段】 制御装置１９では、基板Ｐ上に上記２行
２列のマトリクス状で隣接して配置された４つのショッ
ト領域に各隣接領域のパターンの転写像の一部同士がそ
れぞれ重複するように転写像を形成しながら露光を行う
際に、マトリクスの行及び列の少なくとも一方向につい
ての隣接辺に対応する可動ブラインドぞれぞれのエッジ
同士がともに前記一方向に対応する方向に沿って同一方
向に連続的に変位するように視野絞り装置７を制御す
る。この結果、隣接４ショット領域の全域で重ね合せ部
分の積算露光量の急激な変化、すなわちパターン線幅の
急激な変化の発生を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置及び露光
方法に係り、更に詳しくは、液晶表示素子（基板）や半
導体素子等を製造するためのリソグラフィ工程で用いら
れ、単位領域のパターンの一部分同士を基板上で互いに
重ね合わせることによって大面積のパターンを形成す
る、いわゆる画面合成を行う露光装置及びその露光方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の露光装置では、露光対象となる
基板の大型化に対処するため、基板の被露光領域を複数
の単位領域（以下、適宜「ショット領域」と呼ぶ）に分
割して各領域に応じた露光を繰り返し、最終的に所望の
パターンを合成する画面合成手法が用いられている。こ
の画面合成を行う際には、パターン投影用のマスク又は
レチクル（以下、レチクル」と総称する）の描画誤差や
投影光学系のレンズの収差、基板を位置決めするステー
ジの位置決め誤差等に起因する各ショット領域の境界位
置でのパターンの切れ目の発生を防止するため、各ショ
ット領域の境界を微小量重ね合わせて露光を行う。しか
し、ショット領域を重ね合わせるとこの部分の露光量が
２倍になり、感光剤（レジスト）の特性によってはパタ
ーンの継ぎ目部分の線幅が変化することになる。このよ
うな場合、特にアクティブマトリックス液晶デバイスで
は、パターン継ぎ目部分でコントラストが断続的に変化
してデバイスの品質が著しく低下してしまう。

【０００３】かかる不都合を解消する露光装置が、特開
平７−２３５４６６号に開示されている。この公報に記
載の露光装置では、透明基板上に遮光性部材を設けて形
成した遮光部と、複数の開口と、この開口の内任意の辺
に遮光性部材の密度を開口の中心からの距離に応じて変
化させて設けた減光部とを有する２つの開口部材を組み
合わせて用いるとともに、減光部材による減光ができな
い辺については、該開口部材それぞれを減光部である辺
の延びた方向に相対的に移動することによってレチクル
上での減光領域を得る。すなわち、この露光装置では、
透過率が連続的に変化する減光部（濃度ウェッジガラ
ス）と遮光部（ブラインド）の連続的位置変化との組み
合わせによって、ショット領域の位置によらず、隣接シ
ョットとの繋ぎの部分（４隅の部分を含め）の露光量を
ほぼ均一に設定する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述した如く、上記公
報に記載の露光装置では、確かに、パターン継ぎ目部分
でコントラストの変化が殆ど生じず、良好な品質のデバ
イスを製造することができる。

【０００５】しかしながら、上記公報に記載の従来技術
には、次の述べるような改善すべき点も存在する。すな
わち、この従来技術では、焦点を結ぶ位置に濃度ウェッ
ジガラスを配置する必要があるため、このガラス上に塵
などが付着すると、それが露光不良の要因となる。かか
る露光不良の発生を防止するために、濃度ウェッジガラ
ス上の塵を事前に検出する塵検出装置を別途設けなけれ
ばならないとともに、塵が検出された際に濃度ウェッジ
ガラスを清掃整備するため濃度ウェッジガラスを光路上
から退避させる機構もまた必要である。結果として、装
置コストの上昇要因となり、清掃作業に要する時間が余
計に必要なため、露光装置のスループットを低下させる
要因ともなっていた。

【０００６】本発明は、かかる事情の下でなされたもの
で、その目的は、濃度ウェッジガラスを用いることな
く、しかも基板上のショット領域（区画領域）の位置よ
らず、隣接ショットとの繋ぎの部分（４隅の部分を含
め）で積算露光量、ひいては線幅の急激な変化の発生を
確実に防止することができる露光装置及び露光方法を提
供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、マスク（Ｒ）のパターンを基板（Ｐ）上の複数の区
画領域（例えばＳ１〜Ｓ４）に転写する露光装置であっ
て、光源（１）と；前記光源からの照明光を前記マスク
に照射する照明光学系（２、４、５、６、８、９、１
６）と；前記照明光学系内の前記マスクと共役な位置に
配置され、前記マスク上の平行四辺形の照明領域を自在
に設定する第１方向のエッジを有する１組の可動ブライ
ンド（４１、４２）及び前記第１方向に交差する第２方
向のエッジを有する１組の可動ブラインド（４３、４
４）を有する視野絞り装置（７）と；前記基板上の前記
第１方向及び前記第２方向にそれぞれ対応する第３方向
及び第４方向をそれぞれ行方向及び列方向とする２行２
列のマトリクス状で隣接して配置された少なくとも４つ
の区画領域（Ｓ１〜Ｓ４）に対し各隣接領域のパターン
の転写像の一部同士がそれぞれ重複するように前記転写
像を形成しながら露光を行うに当たり、前記第３方向及
び第４方向の少なくとも一方向についての隣接辺に対応
する前記可動ブラインドそれぞれのエッジ同士がともに
前記一方向に対応する方向に沿って同一方向に連続的に
変位するように前記視野絞り装置を制御する制御装置
（１９）とを備える。

【０００８】ここで、平行四辺形の照明領域とは、分類
として平行四辺形に含まれる形状、具体的には、ひし
形、長方形、及び正方形の照明領域の全てを含む（後述
する請求項４においても同義である）。

【０００９】これによれば、基板上に上記２行２列のマ
トリクス状で隣接して配置された４つの区画領域に各隣
接領域のパターンの転写像の一部同士がそれぞれ重複す
るように転写像を形成しながら露光を行う際に、制御装
置により、前記マトリクスの行及び列の少なくとも一方
向についての隣接辺に対応する可動ブラインドそれぞれ
のエッジ同士がともに前記一方向に対応する方向に沿っ
て同一方向に連続的に変位するように視野絞り装置が制
御される。この結果、後に実施形態で詳述するような理
由により、隣接する４つの区画領域の全域で重ね合せ部
分の積算露光量の急激な変化、すなわちパターン線幅の
急激な変化の発生を防止することができる。この場合、
３行２列、３行３列、あるいはｍ行ｎ列（ｍ，ｎ＞３）
のマトリクス状配置の場合、部分的に見れば、重複部
（オーバーラップ部）は、隣接する２つの区画領域分の
オーバーラップ領域か、隣接する４つの区画領域分のオ
ーバーラップ領域のいずれかであるから、上記の２行２
列のマトリクス状の隣接４区画領域と同様に、全域で重
ね合せ部分の積算露光量の急激な変化、すなわちパター
ン線幅の急激な変化の発生を防止することが可能にな
る。

【００１０】上記請求項１に記載の露光装置において、
請求項２に記載の発明の如く、前記制御装置は、前記４
つの区画領域に前記露光を行うに当たり、前記第３方向
及び第４方向のうちの残りの一方向についての隣接辺に
対応する前記１組の可動ブラインドそれぞれのエッジ同
士がともに前記残りの一方向に対応する方向に沿って同
一方向に連続的に変位するように前記視野絞り装置を制
御しても良く、あるいは、請求項３に記載の発明の如
く、前記制御装置は、前記４つの区画領域に前記露光を
行うに当たり、前記第３方向及び第４方向のうちの残り
の一方向についての隣接辺に対応する前記１組の可動ブ
ラインドそれぞれのエッジ同士が前記残りの一方向に対
応する方向に沿って互いに逆方向に連続的に変位するよ
うに前記視野絞り装置を制御しても良い。

【００１１】請求項４に記載の発明は、マスク（Ｒ）の
パターンを基板（Ｐ）上の複数の区画領域に転写する露
光装置であって、光源（１）と；前記光源からの照明光
を前記マスクに照射する照明光学系（２、４、５、６、
８、９、１６）と；前記照明光学系内の前記マスクと共
役な位置に配置され、前記マスク上の平行四辺形の照明
領域を自在に設定する第１方向のエッジを有する１組の
可動ブラインド（４１、４２）及び前記第１方向に交差
する第２方向のエッジを有する１組の可動ブラインド
（４３、４４）を有する視野絞り装置（７）と；前記基
板上の前記第１方向及び前記第２方向にそれぞれ対応す
る第３方向及び第４方向をそれぞれの区画領域の隣接２
辺とし相互に隣接して配置された少なくとも３つの平行
四辺形の区画領域に対し各隣接領域のパターンの転写像
の一部同士がそれぞれ重複するように前記転写像を形成
しながら露光を行うに当たり、前記第３方向及び第４方
向の両方向についての隣接辺に対応する前記可動ブライ
ンドそれぞれのエッジ同士がともに同一方向に連続的に
変位するように前記視野絞り装置を制御する制御装置
（１９）とを備える。

【００１２】これによれば、基板上の第１方向及び第２
方向にそれぞれ対応する第３方向及び第４方向をそれぞ
れの区画領域の隣接２辺とし相互に隣接して配置された
少なくとも３つの平行四辺形の区画領域に対し各隣接領
域のパターンの転写像の一部同士がそれぞれ重複するよ
うに前記転写像を形成しながら露光を行う際に、制御装
置により、第３方向及び第４方向の両方向についての隣
接辺に対応する可動ブラインドそれぞれのエッジ同士が
ともに同一方向に連続的に変位するように視野絞り装置
が制御される。この結果、後に実施形態で詳述するよう
な理由により、隣接する３つの区画領域の全域で重ね合
せ部分の積算露光量の急激な変化、すなわちパターン線
幅の急激な変化の発生を防止することができる。

【００１３】上記請求項１〜４に記載の露光装置におい
て、請求項５に記載の発明の如く、前記制御装置（１
９）は、前記各組の可動ブラインド（４１〜４４）が等
速移動するように前記視野絞り装置（７）を制御するこ
とが望ましい。かかる場合、マスクに照射される光量そ
のものの変動がないものとすると、理論上隣接する３つ
又は４つの区画領域の全域に渡って積算露光量を完全に
均一にすることができる。

【００１４】請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光
装置において、請求項６に記載の発明の如く、照明光の
光路を開閉するシャッタ（３）を更に備える場合に、前
記制御装置（１９）は、前記シャッタの開閉動作に同期
して前記視野絞り装置（７）を制御するようにしても良
い。かかる場合には、光源が超高圧水銀ランプ等で、か
つシャッタを高速に開閉できない場合であっても、制御
装置によりシャッタの開閉動作に同期して前記視野絞り
装置が制御されるので、結果的に支障無く、隣接４ショ
ット領域（又は３ショット領域）の全域で重ね合せ部分
の積算露光量の急激な変化、すなわちパターン線幅の急
激な変化の発生を防止することができる。

【００１５】請求項７に記載の発明は、基板（Ｐ）上に
マトリクス状で隣接して配置された少なくとも４つの区
画領域（例えば、Ｓ１〜Ｓ４）に対し各隣接領域のマス
クパターンの転写像の一部同士がそれぞれ重複するよう
に前記転写像を形成しながら露光を行う露光方法におい
て、前記４つの区画領域の重複領域内の積算露光量の分
布が、前記４つの区画領域の内の第１の区画領域の露光
の際の分布と、残りの区画領域の１つである第２の区画
領域の露光の際の分布とが、前記マトリクスの行方向及
び列方向の少なくとも一方の方向に関して対称な第１の
所定の分布となり、かつ残りの第３の区画領域及び第４
の区画領域の露光の際の分布同士が前記第１、第２の区
画領域間の関係と同じ対称関係の第２の所定の分布とな
るように、前記第１ないし第４の区画領域の露光の際
に、前記マスクパターンの転写領域を規定する可動ブラ
インド（４１〜４４）を制御して隣接領域間の重複領域
部分の積算露光量を連続的に変化させることを特徴とす
る。

【００１６】これによれば、例えば、図４に示される基
板上にマトリクス状で隣接して配置された４つの区画領
域Ｓ１〜Ｓ４の露光に際し、４つの区画領域Ｓ１〜Ｓ４
の重複領域ＯＲ５内の積算露光量の分布が、図９（Ａ）
に示される第１の区画領域Ｓ１の露光の際の分布と、図
９（Ｂ）に示される第２の区画領域Ｓ２の露光の際の分
布とが、前記マトリクスの行方向及び列方向の少なくと
も一方の方向に関して対称（この場合Ｙ軸方向に関して
対称）な第１の所定の分布（領域ＯＲ５内の全域に渡り
積算露光量が連続的に変化する平行四辺形状分布）とな
り、かつ残りの第３の区画領域Ｓ３及び第４の区画領域
Ｓ４の露光の際の分布同士が、図９（Ｃ）及び図９
（Ｄ）に示されるように第１、第２の区画領域（Ｓ１、
Ｓ２）間の関係と同じ対称関係（この場合Ｙ軸に関して
対称）の第２の所定の分布（領域ＯＲ５内の半分の領域
に渡る積算露光量が連続的に変化する三角形状分布）と
なるように、第１ないし第４の区画領域（Ｓ１〜Ｓ４）
の露光の際にマスクパターンの転写領域を規定する可動
ブラインド（４１〜４４）を制御して隣接領域間の重複
領域部分の露光量を連続的に変化させる。このため、結
果的に、図４の領域ＯＲ５を含む全ての領域内の全域に
渡り、積算露光量をほぼ均一に設定することができる。
従って、隣接４ショット領域の全域で重ね合せ部分の積
算露光量の急激な変化、すなわちパターン線幅の急激な
変化の発生を防止することができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
〜図１９に基づいて説明する。図１には、一実施形態に
係る露光装置１００の構成が概略的に示されている。こ
の露光装置１００は、いわゆる画面合成（繋ぎ合せ露
光）を行う液晶表示パネル製造用の投影露光装置であ
る。

【００１８】この露光装置１００は、光源１を含む照明
系、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステ
ージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、基板としてのガラスプレ
ート（以下、「プレート」という）Ｐを保持するプレー
トステージＰＳＴ、及びこれらの制御系等を備えてい
る。

【００１９】前記照明系は、光源１と、楕円鏡２、反射
鏡４、波長選択フィルタ５、フライアイインテグレータ
６、ビームスプリッタ１６、反射鏡８及びレンズ系９等
から成る照明光学系と、光源１からの照明光の光路を開
閉するシャッタ３と、前記照明光学系内のビームスプリ
ッタ１６と反射鏡８との間に配置された視野絞り装置と
してのレチクルブラインド７とから構成されている。

【００２０】光源１としては、ここでは、紫外域の輝線
を発する超高圧水銀ランプが用いられている。

【００２１】楕円鏡２は、光源１から発せられた照明光
を第２焦点に集光する集光ミラーである。また、シャッ
タ３は、マイクロコンピュータから成る制御装置１９に
よって不図示の駆動装置を介してその開閉が制御され、
照明光の光路を開閉する。

【００２２】波長選択フィルタ５は露光に必要な波長の
光のみを通過させる波長選択素子で、ここではｇ線（波
長４３６ｎｍ）のみ又はｉ線（波長３６５ｎｍ）のみ又
はｇ線（波長４３６ｎｍ）とｈ線（波長４０５ｎｍ）の
両方を含む波長域を通過させるものとする。

【００２３】レチクルブラインド７は、レチクルＲのパ
ターン面とほぼ共役な位置に配置され、その開口Ｓの大
きさ及び形状が照明光によるレチクルＲ上の照明領域の
形状（大きさを含む）を規定する。開口Ｓの形状は、駆
動機構１８Ａ、１８Ｂを介して制御装置１９によって可
変制御される。なお、このレチクルブラインド７の詳細
な構成については後述する。

【００２４】ここで、この照明系の作用について説明す
ると、光源１からの照明光は楕円鏡２で集光され、シャ
ッタ３が開成されているときに、反射鏡４を介して波長
選択フィルタ５に入射する。この波長選択フィルタ５を
通過した照明光はフライアイインテグレータ６にて均一
な照度分布の光束にされて透過率が９７％程度のビーム
スプリッタ１６を透過してレチクルブラインド７に到達
する。

【００２５】レチクルブラインド７の開口Ｓを通過した
照明光は反射鏡８で反射されてレンズ系９に入射し、こ
のレンズ系９によってレチクルブラインド７の開口Ｓの
像がレチクルＲ上で結像し、レチクルＲ上の所望の矩形
の照明領域が照明される。

【００２６】一方、フライアイインテグレータ６を射出
した光束（照明光）の一部はビームスプリッタ１６で反
射されて積算露光量計１７に入射する。この積算露光量
計１７からの積算露光量の情報は制御装置１９に供給さ
れており、制御装置１９ではこの情報に基づいてシャッ
タ３の開閉を制御する。この場合、シャッタ３の開放時
間によりプレートＰに照射される照明光の光量が制御さ
れる。

【００２７】前記投影光学系ＰＬは、レチクルステージ
ＲＳＴの図１における下方に配置され、その光軸ＡＸの
方向がＺ軸方向とされ、ここでは両側テレセントリック
な光学配置となるように光軸ＡＸ方向に沿って所定間隔
で配置された複数枚のレンズエレメントから成る屈折光
学系が使用されている。この投影光学系ＰＬは所定の投
影倍率Ｍ２（例えば等倍）を有する。このため、照明系
からの照明光によってレチクルＲの照明領域が照明され
ると、このレチクルＲを通過した照明光により、投影光
学系ＰＬを介してレチクルＲの照明領域内の回路パター
ンの像が表面にフォトレジストが塗布されたプレートＰ
上の前記照明領域と共役なショット領域に形成される。

【００２８】前記プレートステージＰＳＴは、投影光学
系ＰＬの図１における下方に配置され、例えば平面モー
タ等から成る不図示のプレート駆動装置により不図示の
ベース上をＸＹ２次元方向に駆動される。このプレート
ステージＰＳＴ上に、不図示のプレートホルダを介して
プレートＰが例えば真空吸着によって固定されている。
また、このプレートステージＰＳＴ上にはレーザ干渉計
３１からのレーザビームを反射する移動鏡１４が固定さ
れ、外部に配置された前記レーザ干渉計３１により、プ
レートステージＰＳＴのＸＹ面内での位置が例えば０．
５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。プレー
トステージＰＳＴの位置情報（又は速度情報）は制御装
置１９に送られ、制御装置１９では前記位置情報（又は
速度情報）に基づいて不図示のプレート駆動装置を介し
てプレートステージＰＳＴのＸＹ面内の移動を制御す
る。

【００２９】この露光装置１００では、画面合成を行う
ときは、あるレチクル（パターン領域）についての１回
の露光が終了した後、レチクルＲを交換するとともにプ
レートステージＰＳＴを駆動してプレートＰの別のショ
ット領域（区画領域）を投影光学系ＰＬに対して位置決
めし、露光する。以下露光終了毎に同様の手順を繰り返
してプレートＰの全領域を露光する。

【００３０】なお、１枚のレチクルに複数種類のパター
ンを形成し、プレートＰのショット領域の変更に連係し
てレチクルブラインド７によってレチクル内の照射領域
を変更して（異なるパターン領域に変更して）画面合成
を行っても勿論良い。

【００３１】次に、図１のレチクルブラインド７及びそ
の駆動系の構成、及び露光中のレチクルブラインド７の
駆動制御方法について更に詳述する。

【００３２】レチクルブラインド７は、図２に示される
ように、Ｙｐ軸方向（第１方向）のエッジを有する１組
みの長方形の可動ブラインド、すなわちＸＬブラインド
４１及びＸＲブラインド４２と、Ｙｐ軸に直交するＸｐ
軸方向（第２方向）のエッジを有する１組の長方形の可
動ブラインド、すなわちＹＵブラインド４３及びＹＤブ
ラインド４４とを有している。この内、ＸＬブラインド
４１、ＸＲブラインド４２は、回転モータ２１、２２に
よって不図示の送りねじ機構を介してＸｐ軸方向にそれ
ぞれ駆動される。また、ＹＵブラインド４３、ＹＤブラ
インド４４は、回転モータ２３、２４によって不図示の
送りねじ機構を介してＹｐ軸方向にそれぞれ駆動され
る。なお、ブラインドの駆動源としてリニアモータを用
いても良い。

【００３３】ここで、以下の説明の便宜上から、可動ブ
ラインド４１〜４４の両端のエッジに、図２に示される
ように、それぞれ識別符号を付しておくものとする。す
なわち、ＸＬブラインド４１の＋Ｘｐ側、−Ｘｐ側のエ
ッジをそれぞれエッジＸＬＲ、ＸＬＬと呼び、ＸＲブラ
インド４２の＋Ｘｐ側、−Ｘｐ側のエッジをそれぞれエ
ッジＸＲＲ、ＸＲＬと呼び、ＹＵブラインド４３の＋Ｙ
ｐ側、−Ｙｐ側のエッジをそれぞれエッジＹＵＵ、ＹＵ
Ｄと呼び、ＹＤブラインド４４の＋Ｙｐ側、−Ｙｐ側の
エッジをそれぞれエッジＹＤＵ、ＹＤＤと呼ぶものとす
る。

【００３４】また、上記可動ブラインド４１〜４４は、
Ｙｐ軸方向、Ｘｐ軸方向が図１におけるＺ軸方向、Ｘ軸
方向にそれぞれ一致する状態で不図示の照明系ハウジン
グに取り付けられている。この場合、前記エッジＹＵ
Ｄ、ＹＤＵ、ＸＬＲ、及びＸＲＬによって開口Ｓの形状
及び大きさが規定される。この開口Ｓの像は、プレート
Ｐ上では、レチクルブラインド７のレチクルＲに対する
レンズ系９の倍率をＭ１として、Ｍ１・Ｍ２倍の正立像
で結像されるものとすると、プレートＰ上では、Ｙｐ軸
方向及びＸｐ軸方向がＹ軸方向（第３方向）及びＸ軸方
向（第４方向）に対応する。

【００３５】上記可動ブラインド４１〜４４の位置は不
図示の位置検出器（例えばエンコーダ、マグネスケー
ル、レゾルバ、あるいは干渉計等）によりそれぞれ検出
されている。また、可動ブラインド４１〜４４の速度
は、不図示の速度検出器（例えばタコジェネレータのよ
うなＦ／Ｖ（周波数−電圧）変換器）によりそれぞれ検
出されている。

【００３６】これらの位置検出器及び速度検出器の出力
は、制御装置１９に供給されており、制御装置１９で
は、これらの位置検出器及び速度検出器の出力に基づ
き、回転モータ２１〜２４を介して可動ブラインド４１
〜４４を独立して制御する。この場合、各可動ブライン
ドは、位置ループとそのマイナーループとして速度制御
ループを有する多重ループ制御系によって制御される。
各可動ブラインドの駆動系は、回転モータの他、位置検
出器と速度検出器を有するが、図１では、ＸＲブライン
ド４２の駆動系とＹＵブラインド４３の駆動系とが纏め
て駆動装置１８Ｂとして示され、ＸＬブラインド４１の
駆動系とＹＤブラインド４４の駆動系とが纏めて駆動装
置１８Ａとして示されている。

【００３７】なお、制御装置１９では、位置検出器の出
力データの差分（時間微分）に基づいて各可動ブライン
ドの速度を求めても良く、この場合は速度検出器は不要
である。

【００３８】本実施形態の露光装置１００では、画面合
成のため、プレートＰ上の複数のショット領域にレチク
ルＲのパターンを転写するに際して、隣接するショット
領域がある場合には、その隣接ショット領域との隣接辺
部分を所定量重ね合せて（オーバーラップして）露光が
行われるが、このオーバーラップ部分の露光量の調整を
その隣接辺を規定する上記可動ブラインド４１〜４４の
連続的な位置の変位によって実現する。このため、制御
装置１９では、その連続的な位置の変位を要するブライ
ンド（以下、便宜上「駆動ブラインド」と呼ぶ）を、シ
ャッタ３を開いている間（露光中）一定速度で駆動する
（これについては、更に詳述する）。

【００３９】一方、隣接するショット領域のない辺を規
定するブラインドは一定位置に固定したままにする必要
がある。このため、制御装置１９では、その固定のまま
にするブラインド（以下、便宜上「固定ブラインド」と
呼ぶ）を、シャッタ３を開いている間（露光中）、一定
の位置にサーボ位置決めする。また、この場合、制御装
置１９によるシャッタ３の開閉は、ブラインドの駆動速
度に対して十分高速で行われるものとする。

【００４０】ここで、プレートＰ上の１ショットに対す
る露光に際しての制御装置１９によるシャッタ３及びブ
ラインドの駆動制御について更に詳述する。

【００４１】一般に、この種の露光装置の場合、露光量
（積算露光量）、すなわち露光時間は感光剤の感度等に
よって決定され、固定のものではないため、本実施形態
の場合には、露光時間に合わせて可動ブラインドの移動
速度（駆動速度）を変更する必要がある。

【００４２】また、本実施形態のように、光源１として
超高圧水銀ランプを用いる場合には、その使用時間とと
もに照度が劣化する。従って、仮に、目標露光量が一定
であったとしても露光時間はランプの使用時間が経過す
るに連れて長くなる。目標露光量（目標積算露光量）を
Ｄ（ｍＪ／ｃｍ²）、露光照度をＩ（ｍＷ／ｃｍ²）とす
れば露光時間Ｔ（ｓｅｃ）は次式で表される。

【００４３】Ｔ＝Ｄ／Ｉ ……（１）

【００４４】上記式（１）において、目標露光量Ｄは予
め不図示のホストコンピュータからデータとして与えら
れるが、露光照度Ｉは変化し得るものである。さらに、
レンズ系９によるレチクルのブラインドに対する倍率を
Ｍ１、投影光学系ＰＬによるプレート（基板）のレチク
ルに対する倍率をＭ２、レチクル上の幅をＤ１、ショッ
ト領域同士の重ね合わせ幅をＷ（ｍｍ）とすれば、Ｄ１
＝Ｍ１・Ｌ、Ｗ＝Ｍ２・Ｄ１となるので露光時間Ｔの間
に可動ブラインドを幅Ｗに相当する距離Ｌ（Ｌ＝Ｗ／
（Ｍ１・Ｍ２））だけ移動しなければならないため、可
動ブラインドの移動速度Ｖ（ｍｍ／ｓｅｃ）は、次式
（２）で表される。

【００４５】Ｖ＝Ｌ／Ｔ＝Ｌ・Ｉ／Ｄ ……（２）

【００４６】幅Ｌの値はレチクルを設計した段階で決ま
っているため露光量Ｄと同様にホストコンピュータから
データとして与えられる。従って、制御装置１９では、
露光照度Ｉの値を知ることにより可動ブラインドの駆動
速度を算出することができる。このため、制御装置１９
では、次のようにして、露光照度Ｉを求めている。すな
わち、露光動作に先立って、シャッタ３を開き、積算露
光量計１７の出力が安定したときの出力値をメモリに記
憶し、この値に一定の係数を乗じて露光照度Ｉを求め
る。この動作は、プレートＰの交換時または複数のプレ
ートを１ロットとした場合のロットの最初に行ってお
く。制御装置１９では、このようにして得られた露光照
度Ｉに基づいて式（２）に基づき可動ブラインドの移動
速度Ｖを決定しメモリに記憶している。

【００４７】そして、実際の露光の際には、制御装置１
９では、まず、レーザ干渉計３１の出力をモニタしつ
つ、露光対象のショット領域が露光位置（レチクルパタ
ーンの投影位置（開口Ｓの像の投影位置））に位置する
ようプレートステージＰＳＴを移動し、その位置に位置
決めする。以後、露光中はこの位置にプレートステージ
ＰＳＴをサーボ位置決め制御する。

【００４８】次に、制御装置１９では対応する位置検出
器の出力に基づいて露光開始位置より助走距離分戻った
位置に各駆動ブラインドを位置決めして待機し、全ての
駆動ブラインドの駆動準備が完了した時点で、駆動を開
始する。

【００４９】そして、制御装置１９では全ての駆動ブラ
インドが、上記速度Ｖに到達し、その後露光開始点に到
達すると同時にシャッタ３を開く。

【００５０】上記の露光時間Ｔが経過し、駆動ブライン
ドが露光終了点に到達すると同時に、制御装置１９では
シャッタ３を閉じる。その後、駆動ブラインドは減速後
停止する。固定ブラインドは、露光中ずっと固定位置で
サーボ位置決めが行われることは勿論である。

【００５１】次に、露光装置１００で行われる具体的な
画面合成について、図３〜図１０を参照して説明する。

【００５２】この場合、可動ブラインドの駆動パターン
としては、図３に示されるショット領域Ａ１〜Ａ４、Ｂ
１〜Ｂ４及びＣ１の９ショット領域で１画面を形成する
場合の露光に際して用いられる次の９通りの駆動パター
ンが予め用意されている。 ショット領域Ａ１の露光の際には、ＹＵブラインド
４３及びＸＬブラインド４１を固定ブラインドとし、Ｙ
Ｄブラインド４４及びＸＲブラインド４２を駆動ブライ
ンドとする第１駆動パターンが用いられる。 ショット領域Ａ２の露光の際には、ＹＵブラインド
４３及びＸＲブラインド４２を固定ブラインドとし、Ｙ
Ｄブラインド４４及びＸＬブラインド４１を駆動ブライ
ンドとする第２駆動パターンが用いられる。 ショット領域Ａ３の露光の際には、ＹＤブラインド
４４及びＸＬブラインド４１を固定ブラインドとし、Ｙ
Ｕブラインド４３及びＸＲブラインド４２を駆動ブライ
ンドとする第３駆動パターンが用いられる。 ショット領域Ａ４の露光の際には、ＹＤブラインド
４４及びＸＲブラインド４２を固定ブラインドとし、Ｙ
Ｕブラインド４３及びＸＬブラインド４１を駆動ブライ
ンドとする第４駆動パターンが用いられる。 ショット領域Ｂ１の露光の際には、ＹＵブラインド
４３のみを固定ブラインドとし、残り３つの可動ブライ
ンド４１、４２、４４を駆動ブラインドとする第５駆動
パターンが用いられる。 ショット領域Ｂ２の露光の際には、ＸＬブラインド
４１のみを固定ブラインドとし、残り３つの可動ブライ
ンド４２、４３、４４を駆動ブラインドとする第６駆動
パターンが用いられる。 ショット領域Ｂ３の露光の際には、ＸＲブラインド
４２のみを固定ブラインドとし、残り３つの可動ブライ
ンド４１、４３、４４を駆動ブラインドとする第７駆動
パターンが用いられる。 ショット領域Ｂ４の露光の際には、ＹＤブラインド
４４のみを固定ブラインドとし、残り３つの可動ブライ
ンド４１、４２、４３を駆動ブラインドとする第８駆動
パターンが用いられる。 ショット領域Ｃ１の露光の際には、４つの可動ブラ
インド４１〜４４の全てを駆動ブラインドとする第９駆
動パターンが用いられる。

【００５３】上記第１〜第９駆動パターンのそれぞれ
で、可動ブラインド４１〜４４のそれぞれが駆動ブライ
ンドである場合のそれぞれの駆動方向は、図２中に実線
矢印で示される方向であるものとする。

【００５４】ここで、説明を簡略化するために、図４に
示されるような相互に隣接する２行２列のマトリクス状
配置のショット領域Ｓ１〜Ｓ４にレチクルパターンを転
写して画面合成を行う場合について説明する。

【００５５】この図４において、各ショット領域には、
実線又は点線の斜線が施されている。この場合、露光の
際の可動ブラインドの駆動パターンとして、ショット領
域Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４のそれぞれについて上記第
１、第２、第３、第４駆動パターンが用いられる。

【００５６】この図４から明らかなように、Ｘ方向、Ｙ
方向に隣接するショット領域間には、幅Ｗの隣接２ショ
ット分のオーバーラップ領域ＯＲ１、ＯＲ２、ＯＲ３、
ＯＲ４が存在する。

【００５７】ここで、一例として、オーバーラップ領域
ＯＲ１（以下、適宜「領域ＯＲ１」と略述する）内の露
光量分布について考察する。

【００５８】ショット領域Ｓ１の露光の際には、露光開
始時点ではＸＲブラインド４２のエッジＸＲＬが領域Ｏ
Ｒ１の−Ｘ側端部に対応した位置にあり、その後等速で
移動し、露光終了時点では、そのエッジＸＲＬは領域Ｏ
Ｒ１の＋Ｘ側端部に対応した位置となる。従って、この
ショット領域Ｓ１の露光の際の領域ＯＲ１内の積算露光
量の分布は−Ｘ側端部から＋Ｘ側端部にかけて目標露光
量Ｄから０までリニアに減少する分布となる。

【００５９】また、ショット領域Ｓ２の露光の際には、
露光開始時点ではＸＬブラインド４１のエッジＸＬＲが
領域ＯＲ１の＋Ｘ側端部に対応した位置にあり、その後
等速で移動し、露光終了時点では、そのエッジＸＬＲは
領域ＯＲ１の−Ｘ側端部に対応した位置となる。従っ
て、このショット領域Ｓ２の露光の際の領域ＯＲ１内の
積算露光量の分布は−Ｘ側端部から＋Ｘ側端部にかけ
て、０から目標露光量Ｄまでリニアに増加する分布とな
る。

【００６０】従って、結果的に、領域ＯＲ１内の積算露
光量は、全領域に渡って目標露光量Ｄとなる。

【００６１】オーバーラップ領域ＯＲ３内の積算露光量
は、上記と同様の理由により、全領域に渡って目標露光
量Ｄとなることは明らかである。

【００６２】次に、オーバーラップ領域ＯＲ２（以下、
適宜「領域ＯＲ２」と略述する）内の露光量分布につい
て考察する。

【００６３】ショット領域Ｓ１の露光の際には、露光開
始時点ではＹＤブラインド４４のエッジＹＤＵが領域Ｏ
Ｒ２の＋Ｙ側端部に対応した位置にあり、その後等速で
移動し、露光終了時点では、そのエッジＹＤＵが領域Ｏ
Ｒ２の−Ｙ側端部に対応した位置となる。従って、この
ショット領域Ｓ１の露光の際の領域ＯＲ２内の積算露光
量の分布は＋Ｙ側端部から−Ｘ側端部にかけて目標露光
量Ｄから０までリニアに減少する分布となる。

【００６４】また、ショット領域Ｓ３の露光の際には、
露光開始時点ではＹＵブラインド４３のエッジＹＵＤが
領域ＯＲ２の＋Ｙ側端部に対応した位置にあり、その後
等速で移動し、露光終了時点では、そのエッジＹＵＤが
領域ＯＲ２の−Ｙ側端部に対応した位置となる。従っ
て、このショット領域Ｓ３の露光の際の領域ＯＲ２内の
積算露光量は＋Ｙ側端部から−Ｙ側端部にかけて、０か
ら目標露光量Ｄまでリニアに増加する分布となる。

【００６５】従って、結果的に、領域ＯＲ２内の積算露
光量は、全領域に渡って目標露光量Ｄとなる。

【００６６】オーバーラップ領域ＯＲ４内の積算露光量
は、上記と同様の理由により、全領域に渡って目標露光
量Ｄとなることは明らかである。

【００６７】このように隣接２ショット分のオーバーラ
ップ領域内では、上記駆動パターンに基づく露光中の可
動ブラインドの駆動制御により、積算露光量が均一に目
標露光量Ｄに設定される。

【００６８】ところで、図４においては、ショット領域
Ｓ１〜Ｓ４が占める領域の中心に、４ショット分のオー
バーラップ領域ＯＲ５が存在する。次に、このオーバー
ラップ領域ＯＲ５内の露光量分布について考察する。

【００６９】ショット領域Ｓ１の露光の際には、露光開
始時点では、図５（Ａ）に示されるように、ＸＲブライ
ンド４２のエッジＸＲＬが領域ＯＲ５の−Ｘ側端部に対
応した位置にあり、かつＹＤブラインド４４のエッジＹ
ＤＵが領域ＯＲ５の＋Ｙ側端部に対応した位置にある。
そして、それぞれの駆動ブラインドが図５（Ａ）に示さ
れる矢印の方向にそれぞれ同一速度で等速移動し、露光
終了時点では、図５（Ｂ）に示されるように、エッジＸ
ＲＬが領域ＯＲ５の＋Ｘ側端部に対応した位置となり、
かつエッジＹＤＵが領域ＯＲ５の−Ｙ側端部に対応した
位置となる。

【００７０】図５（Ａ）〜図５（Ｂ）の間のエッジＸＲ
Ｌ、ＹＤＵの位置変化を考えれば明らかなように、露光
開始からΔｔ時間後の照明光の照射領域は、正方形領域
であり、その領域の一辺の長さは露光開始からの時間の
経過に伴って、すなわち時間Δｔの増加に伴って徐々に
増加する。従って、この場合の領域ＯＲ５内の積算露光
量の分布を目標積算露光量Ｄに対応する値を最大値１と
して等高線表示すれば、図５（Ｃ）のようになる。

【００７１】ショット領域Ｓ２の露光の際には、露光開
始時点では、図６（Ａ）に示されるように、ＸＬブライ
ンド４１のエッジＸＬＲが領域ＯＲ５の＋Ｘ側端部に対
応した位置にあり、かつＹＤブラインド４４のエッジＹ
ＤＵが領域ＯＲ５の＋Ｙ側端部に対応した位置にある。
そして、それぞれの駆動ブラインドが図６（Ａ）に示さ
れる矢印の方向にそれぞれ同一速度で等速移動し、露光
終了時点では、図６（Ｂ）に示されるように、エッジＸ
ＬＲが領域ＯＲ５の−Ｘ側端部に対応した位置にとな
り、かつエッジＹＤＵが領域ＯＲ５の−Ｙ側端部に対応
した位置となる。

【００７２】従って、この場合の領域ＯＲ５内の積算露
光量の分布は、上記ショット領域Ｓ１の露光の際のそれ
と左右対称となることは明らかであり、この場合の領域
ＯＲ５内の積算露光量の分布を等高線表示すれば、図６
（Ｃ）のようになる。

【００７３】ショット領域Ｓ３の露光の際には、露光開
始時点では、図７（Ａ）に示されるように、ＸＲブライ
ンド４２のエッジＸＲＬが領域ＯＲ５の−Ｘ側端部に対
応した位置にあり、かつＹＵブラインド４３のエッジＹ
ＵＤが領域ＯＲ５の＋Ｙ側端部に対応した位置にある。
そして、それぞれの駆動ブラインドが図７（Ａ）に示さ
れる矢印の方向にそれぞれ同一速度で等速移動し、露光
終了時点では、図７（Ｂ）に示されるように、エッジＸ
ＲＬが領域ＯＲ５の＋Ｘ側端部に対応した位置にあり、
かつエッジＹＵＤが領域ＯＲ５の−Ｙ側端部に対応した
位置にある。

【００７４】この場合、ＸＲブラインド４２は時間の経
過に伴い領域ＯＲを徐々に開放する動作をし、ＹＵブラ
インド４３は時間の経過に伴い領域ＯＲを徐々に閉鎖す
る動作をする。従って、領域ＯＲ５内の任意の点につい
て考えてみると、図７（Ａ）中に点線で示す対角線より
左側の点では、その点にエッジＸＲＬが到達するまでの
露光開始からの時間Δｔ１の方が、エッジＹＵＤが到達
するまでの時間Δｔ２より短かく、両者の差δｔ＝（Δ
ｔ２−Δｔ１）＞０の間はその点に照明光が照射され
る。上記の対角線に平行な線上の点では、どの点におい
ても差δｔが同じ時間となる。また、対角線上を含み、
その右側の点では、δｔ≦０となって照射時間が零とな
る。また、左下コーナー付近の点では、δｔが非常に大
きくなることが明らかである。

【００７５】従って、この場合の領域ＯＲ内の積算露光
量の分布を等高線表示すれば、図７（Ｃ）のようにな
る。

【００７６】ショット領域Ｓ４の露光の際には、露光開
始時点では、図８（Ａ）に示されるようにＸＬブライン
ド４１のエッジＸＬＲが領域ＯＲ５の＋Ｘ側端部に対応
した位置にあり、かつＹＵブラインド４３のエッジＹＵ
Ｄが領域ＯＲ５の＋Ｙ側端部に対応した位置にある。そ
して、それぞれの駆動ブラインドが図８（Ａ）に示され
る矢印の方向にそれぞれ同一速度で等速移動し、露光終
了時点では、図８（Ｂ）に示されるように、エッジＸＬ
Ｒが領域ＯＲ５の−Ｘ側端部に対応した位置となり、か
つエッジＹＵＤが領域ＯＲ５の−Ｙ側端部に対応した位
置となる。

【００７７】従って、この場合の領域ＯＲ５内の積算露
光量の分布は、上記ショット領域Ｓ３の露光の際のそれ
と左右対称となることは明らかであり、この場合の領域
ＯＲ５内の積算露光量の分布を等高線表示すれば、図８
（Ｃ）のようになる。

【００７８】図９（Ａ）〜（Ｄ）には、上記の図５
（Ｃ）、図６（Ｃ）、図７（Ｃ）及び図８（Ｃ）の等高
線表示が、３次元座標系（Ｘ、Ｙ、Ｚ）とともに示され
ている。以下の説明では、説明の簡略化のため領域ＯＲ
を１辺が１の正方形であるものとし、その各頂点をそれ
ぞれ点Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈとする。点Ｇは座標系（Ｘ、Ｙ、
Ｚ）の原点（０，０，０）である。ここで、Ｚ軸の値Ｚ
は、ＸＹ面上の各点の積算露光量に相当する。

【００７９】図９（Ａ）において、三角形ＥＦＨに対応
する面の方程式、三角形ＥＧＨに対応する面の方程式
は、それぞれの等高線表示を参照して考えると、それぞ
れ次の式（３）、式（４）のようになる。

【００８０】Ｚ＝１−Ｘ ……（３） Ｚ＝Ｙ ……（４）

【００８１】また、図９（Ｂ）において、三角形ＥＦＧ
に対応する面の方程式、三角形ＦＧＨに対応する面の方
程式は、それぞれの等高線表示を参照して考えると、そ
れぞれ次の式（５）、式（６）のようになる。

【００８２】Ｚ＝Ｘ ……（５） Ｚ＝Ｙ ……（６）

【００８３】また、図９（Ｃ）において、三角形ＥＦＨ
に対応する面の方程式、三角形ＥＧＨに対応する面の方
程式は、それぞれの等高線表示を参照して考えると、そ
れぞれ次の式（７）、式（８）のようになる。

【００８４】Ｚ＝０ ……（７） Ｚ＝１−Ｘ−Ｙ ……（８）

【００８５】また、図９（Ｄ）において、三角形ＥＦＧ
に対応する面の方程式、三角形ＦＧＨに対応する面の方
程式は、それぞれの等高線表示を参照して考えると、そ
れぞれ次の式（９）、式（１０）のようになる。

【００８６】Ｚ＝０ ……（９） Ｚ＝Ｘ−Ｙ ……（１０）

【００８７】従って、領域ＯＲ５を図１０に示されるよ
うな４つの三角形領域ａ，ｂ，ｃ，ｄに分割して、各分
割領域の積算露光量を求めると、次のようになる。

【００８８】すなわち、分割領域ａの各点の積算露光量
Ｚは、式（３）、式（５）、式（７）、式（９）の右辺
の総和で表されるから、次のようになる。

【００８９】 Ｚ＝（１−Ｘ）＋Ｘ＋０＋０＝１ …（１１）

【００９０】従って、この分割領域ａ内ではいずれの点
においても積算露光量Ｚは常に１、すなわち目標積算露
光量Ｄとなる。

【００９１】また、分割領域ｂの各点の積算露光量Ｚ
は、式（４）、式（５）、式（８）、式（９）の右辺の
総和で表されるから、次のようになる。

【００９２】 Ｚ＝Ｙ＋Ｘ＋（１−Ｘ−Ｙ）＋０＝１ ……（１２）

【００９３】従って、この分割領域ｂ内ではいずれの点
においても積算露光量Ｚは常に１、すなわち目標積算露
光量Ｄとなる。

【００９４】また、分割領域ｃの各点の積算露光量Ｚ
は、式（４）、式（６）、式（８）、式（１０）の右辺
の総和で表されるから、次のようになる。

【００９５】 Ｚ＝Ｙ＋Ｙ＋（１−Ｘ−Ｙ）＋（Ｘ−Ｙ）＝１ ……（１３）

【００９６】従って、この分割領域ｃ内ではいずれの点
においても積算露光量Ｚは常に１、すなわち目標積算露
光量Ｄとなる。

【００９７】また、分割領域ｄ内の各点の積算露光量Ｚ
は、式（３）、式（６）、式（７）、式（１０）の右辺
の総和で表されるから、次のようになる。

【００９８】 Ｚ＝（１−Ｘ）＋Ｙ＋０＋（Ｘ−Ｙ）＝１ ……（１４）

【００９９】従って、この分割領域ｄ内ではいずれの点
においても積算露光量Ｚは常に１、すなわち目標積算露
光量Ｄとなる。

【０１００】以上より、４つの分割領域ａ、ｂ、ｃ、ｄ
のいずれの領域内のいずれの点においても積算露光量Ｚ
は常に１になる。換言すれば、オーバーラップ領域ＯＲ
５内の全領域に渡って積算露光量は１、すなわち目標積
算露光量Ｄとなる。

【０１０１】図４の隣接するショット領域がオーバーラ
ップしない領域においては、積算露光量はいずれの点に
おいても目標積算露光量Ｄとなることは明らかである。

【０１０２】以上より、本実施形態における隣接４ショ
ットの画面合成に際しては、全領域に渡り、積算露光量
を均一に目標積算露光量Ｄに設定することができる。

【０１０３】このように、本実施形態では隣接４ショッ
トのいずれの領域においても積算露光量を均一にするこ
とができるので、例えば、図１１に示される１面６ショ
ットの場合や、前述した図３の１面９ショットの場合に
も、同様の理由により、積算露光量を均一にすることが
できることは特に説明を要しないであろう。

【０１０４】また、プレートＰ上にｍ行ｎ列（ｍ，ｎ＞
３）のマトリクス状に配置されたｍ×ｎ個のショット領
域に対してレチクルのパターンを転写して画面合成を行
う場合にも、可動ブラインドの駆動パターンとして上記
第１〜第９駆動パターンのいずれかが用いられる。この
場合も上記と同様の理由により、積算露光量を均一にす
ることができる。

【０１０５】なお、上記の説明では、ＸＬブラインド４
１とＸＲブラインド４２が、駆動ブラインドとなる際
に、これらの駆動（移動）方向が逆方向となる場合につ
いて説明したが、これらはの駆動方向は、図１２に示さ
れるように同じ方向であっても良い。この場合にも、２
行２列のマトリクス状に配置された隣接４ショット領域
のいずれの領域でも上記と同様に積算露光量を均一にす
ることができる。

【０１０６】発明者は、上記４つの可動ブラインドの駆
動方向を種々の方向に設定した場合を想定し、先に説明
したのと同様の方法により、隣接４ショットのオーバー
ラップする領域内の積算露光量の分布を求めた結果、相
互にエッジ方向が同一方向であるＹＵブラインドとＹＤ
ブラインドの組又はＸＬブラインドとＸＲブラインドの
組を同一方向に駆動するようにすれば、残りのブライン
ドの駆動方向がどのような駆動方向であるかによらず、
全領域に渡って積算露光量を均一にできることが確認さ
れた。

【０１０７】ところで、液晶パネルとしては、図１３
（Ａ）に示されるように、プレートＰ上に複数の回路パ
ターン領域Ｐａと、その周囲を取り囲む複数の配線パタ
ーン領域Ｐｂとを形成する場合や、図１３（Ｂ）に示さ
れるように、１画面を複数段に分割し、また各段でのシ
ョット数を変えて露光するような場合（一例として２段
５ショット領域で１画面を構成するものを示した）があ
る。このような場合、ショット領域の配置としては、必
ずしもマトリクス状にならない（ショット間の繋ぎの部
分が十字状でなくＴ字状になる）。

【０１０８】次に、このようなショット間の繋ぎの部分
がＴ字状になる場合の一例として図１４に示されるよう
にプレートＰ上の隣接して配置された３つのショット領
域Ｓ１１、Ｓ１２、Ｓ１３にレチクルパターンを転写し
て画面合成を行う場合について説明する。

【０１０９】この場合、ショット領域Ｓ１１の露光の際
には、可動ブラインドの駆動パターンとしては、ＹＤブ
ラインド４４のみを駆動ブラインドとし、残りの可動ブ
ラインド４１、４２、４３を固定ブラインドとする第１
０駆動パターンが用いられる。また、ショット領域Ｓ１
２の露光の際には、可動ブラインドの駆動パターンとし
て前述した第３駆動パターンが用いられ、ショット領域
Ｓ１３の露光の際には、可動ブラインドの駆動パターン
として前述した第４駆動パターンが用いられる。

【０１１０】上記第３、第４及び第１０駆動パターンの
それぞれで、可動ブラインド４１〜４４のそれぞれが駆
動ブラインドである場合のそれぞれの駆動方向は、前述
した図１２中に実線矢印で示される方向であるものとす
る。

【０１１１】図１４から明らかなように、Ｘ方向、Ｙ方
向に隣接するショット領域間には、幅Ｗの隣接２ショッ
ト分のオーバーラップ領域ＯＲ１１、ＯＲ１３、ＯＲ１
２が存在する。

【０１１２】これら隣接２ショット分のオーバーラップ
領域では、上記駆動パターンに基づく露光中の可動ブラ
インドの駆動制御により、積算露光量が均一に目標露光
量Ｄに設定される。この理由は先に説明したので、ここ
ではその説明を省略する。

【０１１３】次に、図１４においてショット領域Ｓ１１
〜Ｓ１３が占める領域のほぼ中心に存在する３ショット
分のオーバーラップ領域ＯＲ１４内の露光量分布につい
て考察する。

【０１１４】ショット領域Ｓ１１の露光の際には、露光
開始時点では、図１５（Ａ）に示されるように、ＹＤブ
ラインド４４のエッジＹＤＵが領域ＯＲ５の＋Ｙ側端部
に対応した位置にある。その後、ＹＤブラインド４４が
図１５（Ａ）に示される矢印の方向に等速移動し、露光
終了時点では、図１５（Ｂ）に示されるように、エッジ
ＹＤＵが領域ＯＲ１４の−Ｙ側端部に対応した位置とな
る。

【０１１５】図１５（Ａ）〜図１５（Ｂ）の間のエッジ
ＹＤＵの位置変化を考えれば明らかなように、この場合
の領域ＯＲ１４内の積算露光量の分布を目標積算露光量
Ｄに対応する値を最大値１として等高線表示すれば、図
１５（Ｃ）のようになる。

【０１１６】ショット領域Ｓ１２の露光の際には、露光
開始時点では、図１６（Ａ）に示されるように、ＸＲブ
ラインド４２のエッジＸＲＬが領域ＯＲ１４の＋Ｘ側端
部に対応した位置にあり、かつＹＵブラインド４３のエ
ッジＹＵＤが領域ＯＲ１４の＋Ｙ側端部に対応した位置
にある。そして、それぞれの駆動ブラインドが図１６
（Ａ）に示される矢印の方向にそれぞれ同一速度で等速
移動し、露光終了時点では、図１６（Ｂ）に示されるよ
うに、エッジＸＲＬが領域ＯＲ１４の−Ｘ側端部に対応
した位置にとなり、かつエッジＹＵＤが領域ＯＲ１４の
−Ｙ側端部に対応した位置となる。

【０１１７】従って、この場合の領域ＯＲ１４内の積算
露光量の分布を等高線表示すれば、図１６（Ｃ）のよう
になる。

【０１１８】ショット領域Ｓ１３の露光の際には、露光
開始時点では、図１７（Ａ）に示されるように、ＸＬブ
ラインド４１のエッジＸＬＲが領域ＯＲ１４の＋Ｘ側端
部に対応した位置にあり、かつＹＵブラインド４３のエ
ッジＹＵＤが領域ＯＲ１４の＋Ｙ側端部に対応した位置
にある。そして、それぞれの駆動ブラインドが図１７
（Ａ）に示される矢印の方向にそれぞれ同一速度で等速
移動し、露光終了時点では、図１７（Ｂ）に示されるよ
うに、エッジＸＬＲが領域ＯＲ１４の−Ｘ側端部に対応
した位置にあり、かつエッジＹＵＤが領域ＯＲ１４の−
Ｙ側端部に対応した位置にある。

【０１１９】この場合、ＸＬブラインド４１は時間の経
過に伴い領域ＯＲ１４を徐々に開放する動作をし、ＹＵ
ブラインド４３は時間の経過に伴い領域ＯＲ１４を徐々
に閉鎖する動作をする。従って、領域ＯＲ１４内の任意
の点について考えてみると、図１７（Ａ）中に点線で示
す対角線より右側の点では、その点にエッジＸＬＲが到
達するまでの露光開始からの時間Δｔ１の方が、エッジ
ＹＵＤが到達するまでの時間Δｔ２より短かく、両者の
差δｔ＝（Δｔ２−Δｔ１）＞０の間はその点に照明光
が照射される。上記の対角線に平行な線上の点では、ど
の点においても差δｔが同じ時間となる。また、対角線
上を含み、その左側の点では、δｔ≦０となって照射時
間が零となる。また、右下コーナー付近の点では、δｔ
が非常に大きくなることが明らかである。

【０１２０】従って、この場合の領域ＯＲ１４内の積算
露光量の分布を等高線表示すれば、図１７（Ｃ）のよう
になる。

【０１２１】図１８（Ａ）〜（Ｃ）には、上記の図１５
（Ｃ）、図１６（Ｃ）及び図１７（Ｃ）の等高線表示
が、３次元座標系（Ｘ、Ｙ、Ｚ）とともに示されてい
る。以下の説明では、説明の簡略化のため領域ＯＲ１４
を１辺が１の正方形であるものとし、その各頂点をそれ
ぞれ点Ｉ、Ｊ、Ｋ、Ｌとする。点Ｋは座標系（Ｘ、Ｙ、
Ｚ）の原点（０，０，０）である。ここで、Ｚ軸の値Ｚ
は、ＸＹ面上の各点の積算露光量に相当する。

【０１２２】図１８（Ａ）において、四角形ＩＪＫＬに
対応する面の方程式は、その等高線表示を参照して考え
ると、次の式（１５）のようになる。

【０１２３】Ｚ＝Ｙ ……（１５）

【０１２４】また、図１８（Ｂ）において、三角形ＩＪ
Ｋに対応する面の方程式、三角形ＪＫＬに対応する面の
方程式は、それぞれの等高線表示を参照して考えると、
それぞれ次の式（１６）、式（１７）のようになる。

【０１２５】Ｚ＝１−Ｙ ……（１６） Ｚ＝１−Ｘ ……（１７）

【０１２６】また、図１８（Ｃ）において、三角形ＩＪ
Ｋに対応する面の方程式、三角形ＪＫＬに対応する面の
方程式は、それぞれの等高線表示を参照して考えると、
それぞれ次の式（１８）、式（１９）のようになる。

【０１２７】Ｚ＝０ ……（１８） Ｚ＝Ｘ−Ｙ ……（１９）

【０１２８】従って、領域ＯＲ１４を図１９に示される
ような２つの三角形領域ｅ，ｆに分割して、各分割領域
の積算露光量を求めると、次のようになる。

【０１２９】すなわち、分割領域ｅの各点の積算露光量
Ｚは、式（１５）、式（１６）、式（１８）の右辺の総
和で表されるから、次のようになる。

【０１３０】 Ｚ＝Ｙ＋（１−Ｙ）＋０＝１ …（２０）

【０１３１】従って、この分割領域ｅ内ではいずれの点
においても積算露光量Ｚは常に１、すなわち目標積算露
光量Ｄとなる。

【０１３２】また、分割領域ｆの各点の積算露光量Ｚ
は、式（１５）、式（１７）、式（１９）の右辺の総和
で表されるから、次のようになる。

【０１３３】 Ｚ＝Ｙ＋（１−Ｘ）＋（Ｘ−Ｙ）＝１ ……（２１）

【０１３４】従って、この分割領域ｆ内ではいずれの点
においても積算露光量Ｚは常に１、すなわち目標積算露
光量Ｄとなる。

【０１３５】以上より、２つの分割領域ｅ、ｆのいずれ
の領域内のいずれの点においても積算露光量Ｚは常に１
になる。換言すれば、オーバーラップ領域ＯＲ１４内の
全領域に渡って積算露光量は１、すなわち目標積算露光
量Ｄとなる。

【０１３６】図１４の隣接するショット領域がオーバー
ラップしない領域においては、積算露光量はいずれの点
においても目標積算露光量Ｄとなることは明らかであ
る。

【０１３７】以上より、本実施形態における隣接３ショ
ットの画面合成に際しては、全領域に渡り、積算露光量
を均一に目標積算露光量Ｄに設定することができる。

【０１３８】なお、上記の説明では、可動ブラインド４
１〜４４の駆動方向が図１２に実線矢印で示される方向
であるとしたが、これに限定されるものではない。

【０１３９】発明者は、上記４つの可動ブラインドの駆
動方向を種々の方向に設定した場合を想定し、先に説明
したのと同様の方法により、隣接３ショットのオーバー
ラップする領域内の積算露光量の分布を求めた結果、相
互にエッジ方向が同一方向であるＹＵブラインドとＹＤ
ブラインドの組及びＸＬブラインドとＸＲブラインドの
組をともに同一方向に駆動するようにすれば、全領域に
渡って積算露光量を均一にできることが確認された。

【０１４０】以上詳細に説明したように、本実施形態に
よると、濃度ウェッジガラスを用いることなく、可動ブ
ラインドの駆動のみで、プレートＰ上のショット領域
（区画領域）の位置よらず、隣接ショット領域との繋ぎ
の部分（４隅の部分を含め）の露光量をほぼ均一に設定
することができる。このため、本実施形態によると、可
動ブラインドの駆動速度、ブラインドの開始位置の設
定、加速度の設定等のソフ卜変更あるいは設定によって
重ね合わせの位置もある程度の範囲内で自由に設定でき
る。このため、従来の濃度ウェッジとブラインドの駆動
とを組み合わせてショット領域間のオーバーラップ部分
の露光量調整を行う場合のように、濃度ウェッジ側でオ
ーバーラップ部分の重なり量が固定値であった場合と比
較してデバイス設計の自由度が向上するという利点があ
る。

【０１４１】また、本実施形態では可動ブラインドだけ
を駆動すれば良いので、従来のようにブラインドと該ブ
ラインドに比べて重量の大きい濃度ウェッジガラスとが
一体となったものを駆動する場合に比べて、制御性の向
上も期待できる。

【０１４２】さらに、本実施形態では、濃度ウェッジガ
ラスを用いることに伴う前述した数々の不利な点を解消
することができる。具体的には、プレート面、レチクル
パターン面と共役な位置であるブラインド位置に定常的
に塵が存在することがなくなるので、かかる塵の存在に
起因する露光不良の発生を確実に防止することができ
る。また、濃度ウェッジガラスの塵検出装置や清掃整備
をするため濃度ウェッジガラスを光路上から退避させる
機構等も不要であり、その分露光装置のコストを低減す
ることができる。さらには、濃度ウェッジガラスの清掃
のための装置の運転停止も有り得ないので、その分生産
性も向上させることができる。

【０１４３】なお、上記の説明では、画面合成をする際
に、いずれのショットの露光の際にも露光量誤差が発生
しないことを前提に説明を行ったが、仮に、隣接するシ
ョットの露光の際にそれらの間で露光量誤差が多少あっ
ても、本実施形態の露光装置では、上記のオーバーラッ
プ領域内での積算露光量は急激に変化することはなく、
なだらかに変化するので、パターン継ぎ目部分で積算露
光量、ひいてはパターン線幅の急激な変化が殆ど生じ
ず、アクティブマトリクス液晶デバイスの場合であって
も良好な品質のデバイスを製造することができる。

【０１４４】また、上記実施形態では、各ショット領域
を矩形状とし、隣接４ショットの中心の４ショット領域
分のオーバーラップ領域、及び隣接３ショットのほぼ中
央に位置する３ショット領域分のオーバーラップ領域の
形状がそれぞれ正方形状となる場合について説明した
が、本発明がこれに限定されるものではない。すなわ
ち、本発明は、Ｘ方向のオーバーラップ量とＹ方向のオ
ーバーラップ量とを異ならせて、４ショット領域分、３
ショット領域分のオーバーラップ領域の形状を長方形状
とする場合は勿論、平行四辺形状のショット領域にレチ
クルパターンを転写する場合のように、４ショット領域
分、３ショット領域分のオーバーラップ領域が平行四辺
形（ひし形を含む）となる場合であっても、同様に隣接
４ショット領域、隣接３ショット領域の全域渡って積算
露光量を均一に設定することができる。このことは、前
述した式（３）〜式（１０）及び式（１５）〜式（１
９）は一般的な面の方程式であり、式（１１）〜（１
４）及び式（２０）〜式（２１）と等価な式が、３次元
直交座標系上のみでなく、一般的な３次元座標系上でも
同様に成り立つことから明らかである。

【０１４５】なお、上記実施形態では、４枚の長方形の
可動ブラインドを独立して駆動する場合について説明し
たが、本発明がこれに限定されることはなく、例えば、
図２０に示されるように、２枚のＬ字型の可動ブライン
ド５１、５２を用いて視野絞り装置としてのレチクルブ
ラインドを構成しても良い。なお、図２０（Ｂ）は、図
２０（Ａ）を−Ｙｐ方向から見た図である。この図２０
のレチクルブラインドでは、可動ブラインド５１、５２
のそれぞれは、Ｙスライダ５３、５４の一面にそれぞれ
固定されている。一方のＹスライダ５３は、ブロック５
５のブラインド５１側の面に形成された不図示のＹガイ
ドに沿って不図示のモータによって駆動される。また、
ブロック５５は、別のブロック５６のブラインド５１側
の面に形成された不図示のＸガイドに沿って不図示のモ
ータによって駆動されるようになっている。

【０１４６】他方のＹスライダ５４も同様に、ブロック
５７のブラインド５２側の面に形成された不図示のＹガ
イドに沿って不図示のモータによって駆動される。ま
た、ブロック５７は、別のブロック５８のブラインド５
２側の面に形成された不図示のＸガイドに沿って不図示
のモータによって駆動されるようになっている。

【０１４７】このような構成により、可動ブラインド５
１、５２は、それぞれＸｐ−Ｙｐ面内で２次元駆動され
る。

【０１４８】この図２０の可動ブラインドを用いる場合
にも、前述した可動ブラインドの駆動パターンに従っ
て、露光中の駆動ブラインドの駆動を行うことにより、
同様にして隣接する４ショット領域についてオーバーラ
ップ領域を含め、積算露光量をほぼ均一に設定すること
が可能である。この場合も、量ね合わせの幅や位置をあ
る程度の範囲内で自由に設定することができる。

【０１４９】この他、レチクルＲのパターン領域の外周
部に所定幅の遮光体を設ける場合には、矩形枠状の可動
ブラインドを２枚組み合わせて用いることによっても上
記実施形態と実質的に同等な隣接ショット領域のオーバ
ーラップ領域内の積算露光量の制御が可能である。かか
る場合には、一方のブラインドをＸｐ方向に駆動し、他
方のブラインドをＹｐ方向に駆動すれば良いので、駆動
軸が２軸となり、モータ等の駆動系の数を削減すること
ができる。

【０１５０】なお、上記実施形態では、可動ブラインド
の駆動速度に比べ、シャッタ３は非常に高速に開閉駆動
されるものとして、説明を行ったが、かかるシャッタ３
の高速駆動が困難な場合には、次のようにすれば良い。

【０１５１】ここで、可動ブラインド４１〜４４の内、
駆動ブラインドとして選択されるブラインドの駆動制御
方法について他の例を図２１を参照して説明する。

【０１５２】図２１（Ａ）は、図１の積算露光量計１７
で得られる出力を示し、１回のシャッタ開閉動作によっ
て得られたものに相当する。図２１（Ｂ）はこの場合の
駆動ブラインドの移動速度の変化を示す。すなわち、積
算露光量計１７の出力に対して適当な乗数を乗じた電圧
を駆動ブラインドの移動のための速度指令電圧としてそ
のまま用いるものである。この場合、光源１の照度が劣
化しても自動的に駆動ブラインドの速度が追従して遅く
なるため、前述のように積算露光量計１７の出力を予め
測定しておく必要もない。更に、積算露光量計１７の出
力はシャッタ３の開閉に応じて出力されるため、完全に
シャッタ３と同期して駆動ブラインドを移動させること
が可能となる。従って、前述した式（２）による計算は
不要となる。因に上述の適当な乗数とは、図２１（Ｂ）
の移動速度の変化を表す波形に基づいて駆動ブラインド
を移動した際に、駆動ブラインドの移動量が幅Ｌになる
ようにするための乗数である。

【０１５３】このようにしても、上記のオーバーラップ
領域内での積算露光量は急激に変化することはなく、な
だらかに変化するので、パターン継ぎ目部分で積算露光
量及びパターン線幅の変化が殆ど生じず、良好な品質の
デバイスを製造することができる。

【０１５４】なお、上記実施形態では、光源として超高
圧水銀ランプを用いる場合について説明したが、本発明
の露光装置の光源としては、例えば波長２４８ｎｍのパ
ルス紫外光を発生するＫｒＦエキシマレーザ光源等のパ
ルス光源を使用することも可能である。この場合には、
光路開閉のためのシャッタは必ずしも用いる必要はな
い。すなわち、かかる場合には、可動ブラインドが目標
速度に達した時点でパルス発光を開始し、露光中は、パ
ルス毎のエネルギを計測するとともにその積算エネルギ
がプレート上の目標積算露光量に対応する目標値に達し
た時点でパルス発光を停止するようにすれば良い。この
場合、各パルス毎にエネルギ値にバラツキが多少は存在
するため、隣接ショット間のオーバーラップ領域を含め
て積算露光量を完全に均一化することは困難であるが、
オーバーラップ領域内での積算露光量及びパターン線幅
が急激に変化することはなく、なだらかに変化するの
で、アクティブマトリクス液晶デバイスであってもパタ
ーン継ぎ目部分で人間の目で見てわかる程度のコントラ
ストの変化が殆ど生じることはない。

【０１５５】また、上記実施形態では、本発明が液晶表
示パネル製造用の露光装置に適用された場合について説
明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されるもので
はなく、いわゆる画面合成をするもの、例えば半導体素
子製造用のステップ・アンド・スティッチング露光装置
にも好適に適用できる。かかるステップ・アンド・ステ
ィッチング露光装置の光源としては、超高圧水銀ラン
プ、ＫｒＦエキシマレーザ光源（発振波長２４８ｎｍ）
は勿論、ＡｒＦエキシマレーザ光源（発振波長１９３ｎ
ｍ）、あるいはＦ₂レーザ光源（発振波長１５７ｎｍ）
等のレーザ光源等を用いることも可能である。

【０１５６】また、上記実施形態の露光装置は、複数の
レンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装
置本体に組み込み光学調整をするとともに、多数の機械
部品からなるレチクルステージやプレートステージを露
光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合
調整（電気調整、動作確認等）をすることにより製造す
ることができる。なお、露光装置の製造は温度およびク
リーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望
ましい。

【０１５７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る露光
装置及び露光方法によれば、濃度ウェッジガラスを用い
ることなく、しかも基板上のショット領域（区画領域）
の位置よらず、隣接ショットとの繋ぎの部分（４隅の部
分を含め）の積算露光量の急激な変化、ひいてはパター
ン線幅の発生を確実に防止することができるという従来
にない優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図
である。

【図２】図１のレチクルブラインドの詳細な構成を説明
するための図である。

【図３】可動ブラインドの駆動パターンを説明するため
の図であって、９ショット領域で１画面を形成する場合
のショット配列の一例を示す図である。

【図４】相互に隣接する２行２列のマトリクス状配置の
ショット領域にレチクルパターンを転写して画面合成を
行う場合の各ショット領域の配置の一例を示す図であ
る。

【図５】ショット領域Ｓ１の露光の際の図４の領域ＯＲ
５内の積算露光量の分布について説明するための図であ
って、図５（Ａ）は露光開始時点の駆動ブラインドの位
置を示し、図５（Ｂ）は露光終了時点の駆動ブラインド
の位置を示し、図５（Ｃ）は領域ＯＲ内の積算露光量分
布の等高線表示を示す。

【図６】ショット領域Ｓ２の露光の際の領域ＯＲ５内の
積算露光量の分布について説明するための図であって、
図６（Ａ）は露光開始時点の駆動ブラインドの位置を示
し、図６（Ｂ）は露光終了時点の駆動ブラインドの位置
を示し、図６（Ｃ）は領域ＯＲ内の積算露光量分布の等
高線表示を示す。

【図７】ショット領域Ｓ３の露光の際の領域ＯＲ５内の
積算露光量の分布について説明するための図であって、
図７（Ａ）は露光開始時点の駆動ブラインドの位置を示
し、図７（Ｂ）は露光終了時点の駆動ブラインドの位置
を示し、図７（Ｃ）は領域ＯＲ内の積算露光量分布の等
高線表示を示す。

【図８】ショット領域Ｓ４の露光の際の領域ＯＲ５内の
積算露光量の分布について説明するための図であって、
図８（Ａ）は露光開始時点の駆動ブラインドの位置を示
し、図８（Ｂ）は露光終了時点の駆動ブラインドの位置
を示し、図８（Ｃ）は領域ＯＲ内の積算露光量分布の等
高線表示を示す。

【図９】図９（Ａ）〜図９（Ｄ）は、図５（Ｃ）、図６
（Ｃ）、図７（Ｃ）及び図８（Ｃ）の等高線表示を、３
次元座標系（Ｘ、Ｙ、Ｚ）とともに示す図である。

【図１０】領域ＯＲ５を４つの三角形領域ａ，ｂ，ｃ，
ｄに分割した状態を示す図である。

【図１１】６ショット領域で１画面を形成する場合のシ
ョット配列の一例を示す図である。

【図１２】ＸＬブラインドとＸＲブラインドの駆動方向
の他の例を説明するための図である。

【図１３】図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）は、隣接ショ
ット間の繋ぎの部分がＴ字状になる場合の例を示す図で
ある。

【図１４】相互に隣接する３ショット領域にレチクルパ
ターンを転写して画面合成を行う場合の各ショット領域
の配置の一例を示す図である。

【図１５】ショット領域Ｓ１１の露光の際の図１４の領
域ＯＲ１４内の積算露光量の分布について説明するため
の図であって、図１５（Ａ）は露光開始時点の駆動ブラ
インドの位置を示し、図１５（Ｂ）は露光終了時点の駆
動ブラインドの位置を示し、図１５（Ｃ）は領域ＯＲ１
４内の積算露光量分布の等高線表示を示す。

【図１６】ショット領域Ｓ１２の露光の際の領域ＯＲ１
４内の積算露光量の分布について説明するための図であ
って、図１６（Ａ）は露光開始時点の駆動ブラインドの
位置を示し、図１６（Ｂ）は露光終了時点の駆動ブライ
ンドの位置を示し、図１６（Ｃ）は領域ＯＲ１４内の積
算露光量分布の等高線表示を示す。

【図１７】ショット領域Ｓ１３の露光の際の領域ＯＲ１
４内の積算露光量の分布について説明するための図であ
って、図１７（Ａ）は露光開始時点の駆動ブラインドの
位置を示し、図１７（Ｂ）は露光終了時点の駆動ブライ
ンドの位置を示し、図１７（Ｃ）は領域ＯＲ１４内の積
算露光量分布の等高線表示を示す。

【図１８】図１８（Ａ）〜図１８（Ｃ）は、図１５
（Ｃ）、図１６（Ｃ）及び図１７（Ｃ）の等高線表示
を、３次元座標系（Ｘ、Ｙ、Ｚ）とともに示す図であ
る。

【図１９】領域ＯＲ１４を２つの三角形領域ｅ，ｆに分
割した状態を示す図である。

【図２０】レチクルブラインドの他の構成例を示す図で
あって、図２０（Ａ）は２枚のＬ字形の可動ブラインド
５１、５２を用いて構成されたレチクルブラインドの一
例を示す平面図、図２０（Ｂ）は図２０（Ａ）を−Ｙｐ
方向から見た側面図である。

【図２１】駆動ブラインド駆動制御方法について他の例
を説明するための図であって、図１４（Ａ）は、積算露
光量計で得られる出力を示し、図１４（Ｂ）は駆動ブラ
インドの移動速度の変化を示す。

【符号の説明】

１…光源、２…楕円鏡（照明光学系の一部）、３…シャ
ッタ、４…反射鏡（照明光学系の一部）、５…波長選択
フィルタ、６…フライアイインテグレータ、７…レチク
ルブラインド（視野絞り装置）、８…反射鏡、９…レン
ズ系、１６…ビームスプリッタ、１９…制御装置、４１
…ＸＬブラインド（可動ブラインド）、４２…ＸＲブラ
インド（可動ブラインド）、４３…ＹＵブラインド（可
動ブラインド）、４４…ＹＤブラインド（可動ブライン
ド）、１００…露光装置、Ｒ…レチクル（マスク）、Ｐ
…プレート（基板）、Ｓ１〜Ｓ４ 区画領域。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北野 博 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 Ｆターム(参考） 5F046 BA03 CA02 CA04 CB05 CB23 CC02 DA02 DB01 DC02

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスクのパターンを基板上の複数の区画
   領域に転写する露光装置であって、 光源と；前記光源からの照明光を前記マスクに照射する
   照明光学系と；前記照明光学系内の前記マスクと共役な
   位置に配置され、前記マスク上の平行四辺形の照明領域
   を自在に設定する第１方向のエッジを有する１組の可動
   ブラインド及び前記第１方向に交差する第２方向のエッ
   ジを有する１組の可動ブラインドを有する視野絞り装置
   と；前記基板上の前記第１方向及び前記第２方向にそれ
   ぞれ対応する第３方向及び第４方向をそれぞれ行方向及
   び列方向とする２行２列のマトリクス状で隣接して配置
   された少なくとも４つの区画領域に対し各隣接領域のパ
   ターンの転写像の一部同士がそれぞれ重複するように前
   記転写像を形成しながら露光を行うに当たり、前記第３
   方向及び第４方向の少なくとも一方向についての隣接辺
   に対応する前記可動ブラインドそれぞれのエッジ同士が
   ともに前記一方向に対応する方向に沿って同一方向に連
   続的に変位するように前記視野絞り装置を制御する制御
   装置とを備える露光装置。
2. 【請求項２】 前記制御装置は、前記４つの区画領域に
   前記露光を行うに当たり、前記第３方向及び第４方向の
   うちの残りの一方向についての隣接辺に対応する前記１
   組の可動ブラインドそれぞれのエッジ同士がともに前記
   残りの一方向に対応する方向に沿って同一方向に連続的
   に変位するように前記視野絞り装置を制御することを特
   徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記制御装置は、前記４つの区画領域に
   前記露光を行うに当たり、前記第３方向及び第４方向の
   うちの残りの一方向についての隣接辺に対応する前記１
   組の可動ブラインドそれぞれのエッジ同士が前記残りの
   一方向に対応する方向に沿って互いに逆方向に連続的に
   変位するように前記視野絞り装置を制御することを特徴
   とする請求項１に記載の露光装置。
4. 【請求項４】 マスクのパターンを基板上の複数の区画
   領域に転写する露光装置であって、 光源と；前記光源からの照明光を前記マスクに照射する
   照明光学系と；前記照明光学系内の前記マスクと共役な
   位置に配置され、前記マスク上の平行四辺形の照明領域
   を自在に設定する第１方向のエッジを有する１組の可動
   ブラインド及び前記第１方向に交差する第２方向のエッ
   ジを有する１組の可動ブラインドを有する視野絞り装置
   と；前記基板上の前記第１方向及び前記第２方向にそれ
   ぞれ対応する第３方向及び第４方向をそれぞれの区画領
   域の隣接２辺とし相互に隣接して配置された少なくとも
   ３つの平行四辺形の区画領域に対し各隣接領域のパター
   ンの転写像の一部同士がそれぞれ重複するように前記転
   写像を形成しながら露光を行うに当たり、前記第３方向
   及び第４方向の両方向についての隣接辺に対応する前記
   可動ブラインドそれぞれのエッジ同士がともに同一方向
   に連続的に変位するように前記視野絞り装置を制御する
   制御装置とを備える露光装置。
5. 【請求項５】 前記制御装置は、前記各組の可動ブライ
   ンドが等速移動するように前記視野絞り装置を制御する
   ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の
   露光装置。
6. 【請求項６】 照明光の光路を開閉するシャッタを更に
   備え、 前記制御装置は、前記シャッタの開閉動作に同期して前
   記視野絞り装置を制御することを特徴とする請求項１〜
   ４のいずれか一項に記載の露光装置。
7. 【請求項７】 基板上にマトリクス状で隣接して配置さ
   れた少なくとも４つの区画領域に対し各隣接領域のマス
   クパターンの転写像の一部同士がそれぞれ重複するよう
   に前記転写像を形成しながら露光を行う露光方法におい
   て、 前記４つの区画領域の重複領域内の積算露光量の分布
   が、前記４つの区画領域の内の第１の区画領域の露光の
   際の分布と、残りの区画領域の１つである第２の区画領
   域の露光の際の分布とが、前記マトリクスの行方向及び
   列方向の少なくとも一方の方向に関して対称な第１の所
   定の分布となり、かつ残りの第３の区画領域及び第４の
   区画領域の露光の際の分布同士が前記第１、第２の区画
   領域間の関係と同じ対称関係の第２の所定の分布となる
   ように、前記第１ないし第４の区画領域の露光の際に、
   前記マスクパターンの転写領域を規定する可動ブライン
   ドを制御して隣接領域間の重複領域部分の積算露光量を
   連続的に変化させることを特徴とする露光方法。