JP2000229998A - 新規化合物 - Google Patents

新規化合物

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JP2000229998A
JP2000229998A JP11301639A JP30163999A JP2000229998A JP 2000229998 A JP2000229998 A JP 2000229998A JP 11301639 A JP11301639 A JP 11301639A JP 30163999 A JP30163999 A JP 30163999A JP 2000229998 A JP2000229998 A JP 2000229998A
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JP
Japan
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group
optionally
compound
alkyl
substituent
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Application number
JP11301639A
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English (en)
Inventor
David Barrett
デイビッド バレット
Akira Tanaka
明 田中
Osamu Okitsu
修 沖津
Keiko Harada
敬子 原田
Hidenori Oki
秀徳 大木
Hideaki Yamanaka
秀昭 山中
Koji Kawabata
浩二 川端
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】下記一般式（Ｉ）： ［式中、Ｒ1はアルキル基等、Ｒ2は次式 （式中、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なっていてもよ
く、水素、または低級アルコキシカルボニル基等を意味
する）等、Ａは低級アルキレン基、Ｒ11はヒドロキシ基
等、Ｒ12は水素等、Ｒ13は水素等、Ｒ14はカルバモイル
基等、ＺはＯまたはＮ−Ｒ15（式中Ｒ15は水素またはア
ルキル基）、Ｐは（ＣＨ2）n（式中、ｎは０または１）
をそれぞれ意味する。］で表される化合物およびその
塩。 【効果】本発明の化合物またはその塩は抗菌活性を有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は新規ポリペプチド
化合物及びその塩に関する。さらに詳しくはこの発明は
抗菌活性（特に抗真菌活性）、β−１，３−グルカン合
成に対する阻止活性を有し、さらに人体や動物のニュー
モシスティスカリニ（Ｐｎｅｕｍｏｃｙｓｔｉｓ ｃａ
ｒｉｎｉｉ）感染症（例えばカリニ肺炎）の治療や予防
に有用であると期待されている新規ポリペプチド化合物
及びその塩ならびにそれらを製造する方法に関するもの
である。従って、この発明のひとつの目的は種々の病原
菌に対して高い活性を有し、さらに人体や動物のニュー
モシスティスカリニ感染症（例えばカリニ肺炎）の治療
または予防に有用であると期待される新規ポリペプチド
化合物及びその塩を提供する事である。
【０００２】この発明の他の目的のひとつは前記のポリ
ペプチド化合物及びその塩の製造法を提供する事であ
る。この発明のさらなる他の目的のひとつは活性成分と
して前記のポリペプチド化合物及びその塩を含有する抗
菌剤を提供することである。
【０００３】
【発明の構成】この発明の目的とするポリペプチド化合
物は新規であり、次の一般式（Ｉ）によって表される。 ［式中、Ｒ1は水素、アルキル基、低級アルコキシアル
キル基、カルボキシ基、適当な置換基を有していてもよ
いカルバモイル基、適当な置換基を有していてもよいア
リール基、適当な置換基を有していてもよいアル（低
級）アルキル基、または適当な置換基を有していてもよ
い複素環式カルボニル基、Ｒ2はカルボキシ基、保護さ
れたカルボキシ基、適当な置換基を有していてもよい複
素環式カルボニル基、次式 （式中、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なっていてもよ
く、水素；または、それぞれが適当な置換基を有してい
てもよい低級アルキル基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニ
ル基、アル（低級）アルコキシカルボニル基、複素環式
カルボニル基、アロイル基またはシクロ（低級）アルキ
ルカルボニル基を意味する）、または次式 （式中、Ｒ5は同一または異なっていてもよく、適当な
置換基を有しいてもよい低級アルキル基または低級アル
ケニル基、Ｘは酸残基を意味する）、Ａは低級アルキレ
ン基、Ｒ11はヒドロキシ基または適当な置換基を有して
いてもよい低級アルコキシ基、Ｒ12は水素またはハロゲ
ン、Ｒ13は水素、ニトロ基、アミノ基、アシルアミノ基
または、Ｒ11とＲ13とが結合して形成する次式 から選ばれる二価の基、Ｒ14はシアノ基、適当な置換基
を有していてもよいカルバモイル基、アミノ（低級）ア
ルキル基または保護されたアミノ（低級）アルキル基、
ＺはＯまたはＮ−Ｒ15（式中Ｒ15は水素またはアルキル
基）、Ｐは（ＣＨ2）n（式中、ｎは０または１）をそれ
ぞれ意味する。］で表される化合物およびその塩。
【０００４】化合物（Ｉ）に不斉炭素原子による立体異
性体が存在する場合、各々の立体異性体およびそれらの
混合物も本発明に包含される。化合物（Ｉ）は、水、エ
タノール、グリセロールなどと溶媒和物を形成すること
ができ、このような溶媒和物も本発明に含まれる。
【０００５】この発明のポリペプチド化合物（Ｉ）は下
記反応式に従って製造することができる。
【０００６】
【０００７】
【０００８】
【０００９】
【００１０】
【００１１】
【００１２】
【００１３】
【００１４】
【００１５】
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【００１９】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ａ、Ｒ11、
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｚ、およびＰはそれぞれ前と同じ意
味、 Ｒ3 b：それぞれが適当な置換基を有していてもよい低級
アルキル基、低級アルケニル基、スルホニル基、カルバ
モイル基、低級アルカノイル基、アル（低級）アルコキ
シカルボニル基、複素環式カルボニル基、アロイル基、
またはシクロ（低級）アルキルカルボニル基、 Ｒ4 a：適当な置換基を有していてもよい低級アルキル
基、 Ｒ4 b：それぞれが適当な置換基を有していてもよい低級
アルカノイル基、スルホニル基、カルバモイル基、アル
（低級）アルコキシカルボニル基、複素環式カルボニル
基、アロイル基、シクロ（低級）アルキルカルボニル基 Ｒ6：水素または適当な置換基を有していてもよいＣ1−
Ｃ5アルキル基、 Ｒ7：適当な置換基を有していてもよい低級アルキル
基、 Ｒ8 a：保護されたカルボキシ基を有する適当な置換基を
有する低級アルカノイル基、 Ｒ8 b：カルボキシ基を有する適当な置換基を有していて
もよい低級アルカノイル基、 Ｒ8 c：保護されたカルボキシ基を有する適当な置換基を
有する低級アルキル基、 Ｒ8 d：カルボキシ基を有する適当な置換基を有していて
もよい低級アルキル基、 Ｒ9：保護されたアミノ基を有する適当な置換基を有し
ていてもよい低級アルカノイル基、 Ｒ10：アミノ基を有する適当な置換基を有していてもよ
い低級アルカノイル基、 Ｘ：酸残基、 Ｙ1：脱離基、 Ｙ2：脱離基、 をそれぞれ意味する。］
【００２０】この発明に用いる略語を以下に示す。 Ｂｏｃ：ｔ−ブトキシカルボニル Ｍｅ：メチル Ｅｔ：エチル Ｂｕt：ｔ−ブチル Ｐｈ：フェニル Ｚ：ベンジルオキシカルボニル Ｂｚｌ：ベンジル ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸 ＡｃＯＨ：酢酸
【００２１】化合物（Ｉ）の好適な塩は慣用の無毒性の
モノまたはジ塩であって、金属塩、たとえばアルカリ金
属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム塩等）、アルカ
リ土類金属塩（たとえばカルシウム塩、マグネシウム塩
等）、アンモニウム塩、有機塩基とその塩（たとえば、
トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’
−ジベンジルエチレンジアミン塩等）等、有機酸付加塩
（たとえばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マイ
レン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンス
ルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等）、無機酸付加塩
（たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫
酸塩、りん酸塩等）、アミノ酸（たとえばアルギニン、
アスパラギン酸、グルタミン酸等）との塩等が挙げられ
る。
【００２２】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に説明する。「低級」とは、特
に指示がなければ、炭素原子１ないし６個好ましくは炭
素原子１ないし４個を意味するものとする。「高級」と
は、特に指示がなければ、炭素原子７ないし２０個、好
ましくは炭素原子７ないし１５個を意味するものとす
る。
【００２３】好適な「低級アルキル」としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシ
ル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１ないし
６のアルカンの残基を意味し、その好ましい例としては
Ｃ1−Ｃ5アルキル基が挙げらる。好適な「Ｃ1−Ｃ5アル
キル」としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、
ネオペンチル等が挙げられる。
【００２４】「複素環式カルボニル」の好適な「複素
環」部分としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子など
のヘテロ原子を少なくとも１個有する飽和または不飽和
の単環式または多環式複素環基を挙げることができ、例
としては、窒素原子１ないし４個を有する３ないし８員
（好ましくは５または６員の不飽和複素単環基、たとえ
ばピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、
ピリジル、ジヒドロピリジル、ピリミジル、ピラジニ
ル、ピリダジニル、トリアゾリル（たとえば４Ｈ−１，
２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリアゾリ
ル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリルなど）、テトラゾ
リル（たとえば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリ
ルなど）など；窒素原子１ないし４個を有する３ないし
８員（好ましくは５または６員）の飽和複素単環基、た
とえばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、
ピペラジニルなど；窒素原子１ないし４個を有する不飽
和縮合複素環基、たとえばインドリル、イソインドリ
ル、インドリニル、インドリジニル、ベンズイミダゾリ
ル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾト
リアゾリルなど；酸素原子１ないし２個および窒素原子
１ないし３個を有する３ないし８員（好ましくは５また
は６員）の不飽和複素単環基、たとえばオキサゾリル、
イソオキサゾリル、オキサジアゾリル（たとえば１，
２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾ
リル、１，２，５−オキサジアゾリル）など；酸素原子
１ないし２個および窒素原子１ないし３個を有する３な
いし８員（好ましくは５または６員）の飽和複素単環
基、たとえばモルホリニル、シドノニルなど；酸素原子
１ないし２個および窒素原子１ないし３個を有する不飽
和縮合複素環基、たとえばベンゾキサゾリル、ベンゾキ
サジアゾリルなど；硫黄原子１ないし２個および窒素原
子１ないし３個を有する３ないし８員（好ましくは５ま
たは６員）の不飽和複素単環基、たとえばチアゾリル、
イソチアゾリル、チアジアゾリル（たとえば１，２，３
−チアジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，
３，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリル
など）、ジヒドロチアジニルなど；硫黄原子１ないし２
個および窒素原子１ないし３個を有する３ないし８員
（好ましくは５または６員）の飽和複素単環基、たとえ
ばチアゾリジニルなど；硫黄原子１ないし２個を有する
３ないし８員（好ましくは５または６員）の不飽和複素
単環基、たとえばチエニル、ジヒドロジチイニル、ジヒ
ドロジチオニルなど；硫黄原子１ないし２個および窒素
原子１ないし３個を有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、４，５，
６，７−テトラヒドロベンゾチアゾリルなど；酸素原子
１個を有する３ないし８員（好ましくは５または６員）
の不飽和複素単環基、たとえばフリルなど；酸素原子１
個および硫黄原子１ないし２個を有する３ないし８員
（好ましくは５または６員）の不飽和複素単環基、たと
えばジヒドロオキサチイニルなど；硫黄原子１ないし２
個を有する不飽和縮合複素環基、たとえばベンゾチエニ
ル、ベンゾジチイニルなど；酸素原子１個および硫黄原
子１ないし２個を有する不飽和縮合複素環基、たとえば
ベンゾキサチイニル；などを挙げることができる。
【００２５】好適な「保護されたアミノ基」としては、
アシルアミノ等を挙げることができる。前記の「アシル
アミノ」の好適な「アシル」部分としては、カルバモイ
ル、チオカルバモイル、脂肪族アシル基、芳香環を有す
るアシル基（芳香族アシルと称される）または複素環を
有するアシル基（複素環アシルと称される）を挙げるこ
とができる。前記のアシル基の好適な例としては、以下
のもの：カルバモイル；チオカルバモイル；脂肪族アシ
ル、たとえば低級または高級アルカノイル（たとえばホ
ルミル、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、２−メ
チルプロパノイル、ペンタノイル、２，２−ジメチルプ
ロパノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイ
ル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、ドデカ
ノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデ
カノイル、ヘキサデカノイル、ヘプタデカノイル、オク
タデカノイル、ノナデカノイル、イコサノイルなど）低
級または高級アルコキシカルボニル（たとえばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、第三級ブトキシカル
ボニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオ
キシカルボニルなど）；低級または高級アルキルスルホ
ニル（たとえばメチルスルホニル、エチルスルホニルな
ど）；低級または高級アルコキシスルホニル（たとえば
メトキシスルホニル、エトキシスルホニルなど）；な
ど；モノまたはジ（低級）アルキルアミノカルボニル
（たとえばメチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカ
ルボニル、エチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカ
ルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノカルボニル、
プロピルアミノカルボニル、ブチルアミノカルボニル、
Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノカルボニルなど）；芳
香族アシル、たとえばアロイル（たとえばベンゾイル、
トルオイル、ナフトイルなど）；アル（低級）アルカノ
イル［たとえばフェニル（低級）アルカノイル（たとえ
ばフェニルアセチル、フェニルプロパノイル、フェニル
ブタノイル、フェニルイソブタノイル、フェニルペンタ
ノイル、フェニルヘキサノイルなど）、ナフチル（低
級）アルカノイル（たとえばナフチルアセチル、ナフチ
ルプロパノイル、ナフチルブタノイルなど）など］；ア
ル（低級）アルケノイル［たとえばフェニル（低級）ア
ルケノイル（たとえばフェニルプロペノイル、フェニル
ブテノイル、フェニルメタクリロイル、フェニルペンテ
ノイル、フェニルヘキセノイルなど）、ナフチル（低
級）アルケノイル（たとえばナフチルプロペノイル、ナ
フチルブテノイルなど）など］；アル（低級）アルコキ
シカルボニル［たとえばフェニル（低級）アルコキシカ
ルボニル（たとえばベンジルオキシカルボニルなど）な
ど］；アリールオキシカルボニル（たとえばフェノキシ
カルボニル、ナフチルオキシカルボニルなど）；アリー
ルオキシ（低級）アルカノイル（たとえばフェノキシア
セチル、フェノキシプロピオニルなど）；アリールカル
バモイル（たとえばフェニルカルバモイルなど）；アリ
ールチオカルバモイル（たとえばフェニルチオカルバモ
イルなど）；アリールグリオキシロイル（たとえばフェ
ニルグリオキシロイル、ナフチルグリオキシロイルな
ど）；アリールスルホニル（たとえばフェニルスルホニ
ル、ｐ−トリルスルホニルなど）；など；複素環アシ
ル、たとえば複素環カルボニル；複素環（低級）アルカ
ノイル（たとえば複素環アセチル、複素環プロパノイ
ル、複素環ブタノイル、複素環ペンタノイル、複素環ヘ
キサノイルなど）；複素環（低級）アルケノイル（たと
えば複素環プロペノイル、複素環ブテノイル、複素環ペ
ンテノイル、複素環ヘキセノイルなど）；複素環グリオ
キシロイル；複素環（低級）アルキルカルバモイル（た
とえば複素環メチルカルバモイル、複素環エチルカルバ
モイル、複素環プロピルカルバモイル、複素環ヘキシル
カルバモイルなど）；など；を挙げることができ、その
うち、「複素環カルボニル」、「複素環（低級）アルカ
ノイル」、「複素環（低級）アルケノイル」および「複
素環グリオキシロイル」の好適な「複素環」部分として
は、前記の「複素環」部分を挙げることができる。
【００２６】好適な「保護されたカルボキシ基」として
は、エステル化されたカルボキシ基などの慣用の保護基
で保護されたカルボキシ基を挙げることができ、具体的
な例としては、置換されたまたは置換されない低級アル
コキシカルボニル（たとえばメトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカ
ルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、２−（ジメチル
アミノ）エトキシカルボニル、２−ヨードエトキシカル
ボニル、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、
置換されたまたは置換されないアリールオキシカルボニ
ル（たとえばフェノキシカルボニル、４−ニトロフェノ
キシカルボニル、２−ナフチルオキシカルボニル）、お
よび置換されたまたは置換されないアリール（低級）ア
ルコキシカルボニル、たとえばニトロで置換されていて
もよいモノまたはジまたはトリフェニル（低級）アルコ
キシカルボニル（たとえばベンジルオキシカルボニル、
フェネチルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカ
ルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル）、ア
シルオキシ（低級）アルコキシカルボニル（たとえば第
三級ブチルカルボニルオキシメチルオキシカルボニル、
１−第三級ブチルカルボニルオキシ−１−メチルメチル
オキシカルボニル、１−イソプロピルカルボニルオキシ
−１−メチルメチルオキシカルボニル、１−イソブチル
カルボニルオキシ−１−メチルメチルオキシカルボニル
を挙げることができる。
【００２７】好適な「低級アルカノイル」としては、ホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、バレリル、ヘキサノイル、ピバロイル基等が挙げ
られる。
【００２８】好適な「アル（低級）アルコキシカルボニ
ル」としては、ベンジルオキシカルボニル、フェネチル
オキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル等があげら
れる。
【００２９】「複素環式カルボニル」の好適な例として
は、アゼチジニルカルボニル、ピロリジルカルボニル、
ピペリジルカルボニル、チエニルカルボニル、イミダゾ
リルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、フリルカルボ
ニル、テトラゾリルカルボニル、チアゾリルカルボニ
ル、チアジアゾリルカルボニル等があげられる。
【００３０】好適な「アロイル」としては、ベンゾイ
ル、ナフトイル、アントリルカルボニル等があげられ
る。
【００３１】好適な「酸残基」としては、ハロゲン（例
えばフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）、アシルオキ
シが挙げられる。
【００３２】好適な「脱離基」としては、低級アルコキ
シ（例えばメトキシ、エトキシ等）、ハロゲン（例えば
フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）、アシルオキシ、
たとえば低級アルカノイルオキシ（例えばアセトキシ、
プロピオニルオキシ等）、置換基を有していてもよい複
素環基（例えば１〜２個のメチル基で置換されたピラゾ
リル、ベンゾトリアゾリル等）、Ｏ−スクシンイミダー
ト等が挙げられ、さらに好適な「脱離基」としては、上
記したハロゲンが挙げられる。
【００３３】好適な「シクロ（低級）アルキルカルボニ
ル」としては、シクロプロピルカルボニル、シクロブチ
ルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキ
シルカルボニルなどのシクロ（Ｃ3〜Ｃ6）アルキルカル
ボニルであり、なかでも好ましいのはシクロＣ5〜Ｃ6ア
ルキルカルボニルであり、より好ましくはシクロペンチ
ルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル等が挙げられ
る。
【００３４】好適な「低級アルキレン基」としてはメチ
レン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ジメチルメ
チレン等のような炭素原子１個ないし６個を有する直鎖
または分枝鎖アルキレン基、好ましくは炭素原子１個な
いし４個を有するものが挙げられる。
【００３５】Ｒ1における好適な「アルキル基」として
は、例えば低級アルキル基および高級アルキル基が挙げ
られる。好適な「低級アルキル基」としては、先に例示
したもの等を挙げることができる。好適な「高級アルキ
ル基」としては、へプチル、オクチル、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の
炭素数７ないし２０のアルカンの残基を意味し、好まし
い例としてはＣ7−Ｃ15アルキル基が挙げられる。
【００３６】好適な「低級アルケニル基」としては、ビ
ニル、アリル、イソプロペニル、１または２または３−
ブテニル、１または２または３または４−ペンテニル、
１または２または３または４または５−へキセニル等の
炭素数２〜６個を有する直鎖もしくは分枝鎖アルケニル
基が挙げられる。
【００３７】好適な「低級アルコキシ基」としては、低
級アルキル部分が先に例示したものであり、その好適な
例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、４−メチルペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられ、特に好ましく
はメトキシである。
【００３８】好適な「高級アルコキシ基」としては、高
級アルキル部分が先に例示したものであり、その好適な
例としては、へプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニル
オキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオ
キシが挙げられる。好適な「低級アルコキシアルキル
基」としては、低級アルコキシ部分が先に例示したもの
であり、アルキル部分が先に例示した低級アルキルおよ
び高級アルキルであるものであり、メトキシプロピル、
メトキシオクチル、メトキシデカニル、メトキシペンタ
デカニル、エトキシブチルなどが挙げられる。
【００３９】好適な「アリール基」としては、フェニ
ル、ナフチル、ジヒドロナフチル（たとえば１，２−ジ
ヒドロナフチル、１，４−ジヒドロナフチルなど）、テ
トラヒドロナフチル（たとえば１，２，３，４−テトラ
ヒドロナフチルなど）、インデニル、アントリルなどが
挙げられ、それらのうちでも好ましいのは（Ｃ6〜
Ｃ10）アリールであり、より好ましいのはフェニル、ナ
フチルである。
【００４０】好適な「アル（低級）アルキル基」として
は、先に例示した低級アルキルの任意の炭素原子にアリ
ール基が結合したものであり、その好適な例としては、
ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、ベンズ
ヒドリル、トリチル等が挙げられ、特に好ましくはベン
ジル、トリチルである。
【００４１】好適な「低級アルコキシカルボニル基」と
しては、低級アルコキシ部分が先に例示したものであ
り、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルなど
が挙げられる。
【００４２】好適な「ハロゲン基」としては、フルオ
ロ、クロロ、ブロモ、ヨードが挙げられ、より好ましく
はクロロまたはヨードが挙げられる。
【００４３】好適な「低級アルカノイルアミノ」として
は、低級アルカノイル部分が先に例示したものであり、
ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミ
ノ、ブチリルアミノ、バレリルアミノ等が挙げられる。
【００４４】好適な「低級アルキルスルホニルアミノ」
としては、低級アルキル部分が先に例示したものであ
り、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミ
ノ、プロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミ
ノ、ペンチルスルホニルアミノ等が挙げられる。
【００４５】好適な「複素環式カルボニルアミノ」とし
ては、複素環式カルボニル部分が先に例示したものであ
り、ピロリジニルカルボニルアミノ、ピペリジルカルボ
ニルアミノ、ピペラジニルカルボニルアミノ等が挙げら
れる。
【００４６】好適な「アミノ（低級）アルキル」として
は、低級アルキル部分が先に例示したものであり、アミ
ノメチル、アミノエチル、アミノプロピル、アミノブチ
ル、アミノペンチル等が挙げられる。
【００４７】好適な「保護されたアミノ（低級）アルキ
ル」としては、保護されたアミノ基部分および低級アル
キル部分が先に例示したものであり、アセチルアミノメ
チル、アセチルアミノエチル、アセチルアミノプロピ
ル、ブタノイルアミノメチル、ブタノイルアミノエチル
等が挙げられる。
【００４８】それぞれが適当な置換基を有していてもよ
い低級アルキル基、カルバモイル基、低級アルカノイル
基、アル（低級）アルコキシカルボニル基、複素環式カ
ルボニル基、アロイル基、シクロ（低級）アルキルカル
ボニル基、アリール基、アル（低級）アルキル基、スル
ファモイル基、または低級アルコキシカルボニル基にお
ける好適な置換基として、イミノ基、アミノ基、先に例
示したような保護されたアミノ基、モノ（またはジ）低
級アルキルアミノ基（低級アルキルについては先に例示
したものを挙げることができる）、Ｎ−低級アルキル−
保護されたアミノ基（低級アルキル及び保護されたアミ
ノ基部分は先に例示したものを挙げることができる）、
先に例示したような低級アルキル、ヒドロキシ基、アシ
ルオキシ基（アシル基部分については先に例示したもの
を挙げることができる）、低級アルコキシ基（低級アル
キル部分については先に例示したものを挙げることがで
きる）、高級アルコキシ基（高級アルキル部分について
は先に例示したものを挙げることができる）、先に例示
したようなアシル基、アミノ（低級）アルキル基（低級
アルキル部分は先に例示したものを挙げることができ
る）、保護されたアミノ（低級）アルキル基（保護され
たアミノ基部分及び低級アルキル部分は先に例示したも
のを挙げることができる）、置換基を有していてもよい
複素環基（複素環部分は先に例示したものを挙げること
ができ、好適な置換基としては先に例示したようなアシ
ル基を挙げることができる）、ヒドロキシ基を有するア
リール基、モノ（またはジ）低級アルキルヘテロニオ基
（低級アルキル部分及びヘテロニオ基部分は先に例示し
たものを挙げることができる）、２個の低級アルキル基
とアシル基を有するアンモニオ基（低級アルキル部分及
びアシル基部分は先に例示した物を挙げることができ
る）、カルボキシ等が挙げられる。
【００４９】「適当な置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基」および「適当な置換基を有していてもよい低
級アルケニル基」におけるより好適な置換基としては、
イミノ；カルバモイル；低級アルコキシ（たとえばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、４−メチルペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ等であり、好ましくはメトキシが挙げられ
る）；置換基を有していてもよい複素環基［好適な「複
素環基」としては、先に例示した「複素環」部分が挙げ
られ、より好ましくは１〜４個の窒素原子を含有する不
飽和３〜８員（より好ましくは、５〜７員）複素単環基
（さらに好ましくはピラゾリル）；１〜４個の窒素原子
を含有する飽和３〜８員（より好ましくは５〜７員）複
素単環基（さらに好ましくはアゼチジニル）；１〜２個
の硫黄原子と１〜３個の窒素原子とを含有する不飽和３
〜８員（より好ましくは５または６員）複素単環基（さ
らに好ましくはチアゾリル）が挙げられる。
【００５０】「置換基を有していてもよい複素環基」の
好適な置換基としては低級アルカノイルアミノ（例えば
先に例示したもの等を挙げることができ、好ましくはア
セチルアミノが挙げられる）、アル（低級）アルコキシ
カルボニル（例えば先に例示したもの等を挙げることが
でき、好ましくはベンジルオキシカルボニルが挙げられ
る）；低級アルケニルオキシカルボニルアミノ（ビニル
オキシカルボニルアミノ、アリルオキシカルボニルアミ
ノ、イソプロペニルオキシカルボニルアミノ、１または
２または３−ブテニルオキシカルボニルアミノ、１また
は２または３または４−ペンテニルオキシカルボニルア
ミノ、１または２または３または４または５−へキセニ
ルオキシカルボニルアミノ等の炭素数２〜６個を有する
直鎖もしくは分枝鎖アルケニルオキシカルボニルアミノ
基が挙げられ、好ましくはアリルオキシカルボニルアミ
ノが挙げられる）；ジアリ−ルオキシカルボニル（たと
えばジフェニルオキシカルボニル、ジトリルオキシカル
ボニル、ジキシリルオキシカルボニル、ジクメニルオキ
シカルボニル、ジナフチルオキシカルボニル等であり、
好ましくはジフェニルオキシカルボニルが挙げられ
る）；ヒドロキシ；低級アルコキシカルボニル（低級ア
ルコキシについては先に例示したもの等を挙げることが
でき、好ましくはブトキシカルボニルが挙げられる）；
２個の低級アルキル基と１個のカルバモイル（低級）ア
ルキル基を有するアンモニオ基（低級アルキル基部分は
先に例示したものを挙げることができる）；カルボキシ
ルであり、これらの置換基を１〜３個有していてよい。
【００５１】「適当な置換基を有していてもよいスルホ
ニル基」におけるより好適な置換基としては、ピリジ
ル；モノ−またはジ−低級アルキルアミノ（例えばメチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ−ｎ−
プロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミ
ノ等であり、好ましくはジメチルアミノが挙げられる）
が挙げられる。
【００５２】Ｒ3、Ｒ4における「適当な置換基を有して
いてもよいカルバモイル基」におけるより好適な置換基
としては、低級アルキル（例えば先に例示したもの等を
挙げることができ、好ましくはプロピルを挙げることが
できる）が挙げられる。
【００５３】「適当な置換基を有していてもよい低級ア
ルカノイル基」におけるより好適な置換基としては、カ
ルボキシル；アミノ；ヒドロキシ；低級アルコキシカル
ボニルアミノ（低級アルコキシについては、先に例示し
たもの等を挙げることができ、好ましくはｔ−ブトキシ
が挙げられる）；低級アルキル（先に例示したもの等を
挙げることができ、好ましくはメチルを挙げることがで
きる）を有していてもよいアミノ；低級アルコキシカル
ボニル（低級アルコキシについては、先に例示したもの
等を挙げることができ、好ましくはｔ−ブトキシが挙げ
られる）；ヒドロキシアリール；低級アルコキシカルボ
ニル（低級アルコキシについては先に例示したもの等を
挙げることができ、好ましくはｔ−ブトキシが挙げられ
る）を有していてもよいイミダゾリル；低級アルコキシ
カルボニル（好ましくはｔ−ブトキシカルボニルが挙げ
られる）を有していてもよいピペラジル；アル（低級）
アルコキシカルボニル（アル（低級）アルコキシについ
ては先に示したもの等を挙げることができ、好ましくは
ベンジルオキシが挙げられる）；アル（低級）アルコキ
シカルボニルアミノ（アル（低級）アルコキシについて
は先に例示したもの等を挙げることができ、好ましくは
ベンジルオキシが挙げられる）が挙げられる。
【００５４】Ｒ3、Ｒ4における「適当な置換基を有して
いてもよい複素環式カルボニル基」におけるより好適な
置換基としては、低級アルコキシカルボニル（低級アル
コキシについては、先に例示したもの等を挙げることが
でき、好ましくはｔ−ブトキシが挙げられる）、ヒドロ
キシが挙げられる。
【００５５】「適当な置換基を有していてもよいアロイ
ル基」におけるより好適な置換基としては、高級アルコ
キシ（例えばへプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニル
オキシ等であり好ましくはオクチルオキシが挙げられ
る）；低級アルコキシカルボニルアミノ低級アルキル
（低級アルコキシおよび低級アルキルについては先に例
示したもの等を挙げることができ、好ましくは低級アル
コキシはｔ−ブトキシ、低級アルキルはメチルが挙げら
れる）；アミノ低級アルキル（低級アルキルについては
先に例示したもの等を挙げることができ、好ましくはメ
チルが挙げられる）；低級アルコキシカルボニルアミノ
低級アルカノイルアミノ（低級アルコキシおよび低級ア
ルカノイルについては先に例示したもの等を挙げること
ができ、好ましくは低級アルコキシはエトキシ、低級ア
ルカノイルはアセチルが挙げられる）；アミノ低級アル
カノイルアミノ低級アルキル（低級アルカノイル、低級
アルキルについては先に例示したもの等を挙げることが
でき、好ましくは低級アルカノイルはアセチル、低級ア
ルキルはメチルが挙げられる）を挙げることができる。
【００５６】「適当な置換基を有していてもよいシクロ
（低級）アルキルカルボニル基」におけるより好適な置
換基としては、アミノ、低級アルコキシカルボニルアミ
ノ（低級アルコキシについては、先に例示したもの等を
挙げることができ、好ましくはｔ−ブトキシが挙げられ
る）を挙げることができる。
【００５７】Ｒ1における「適当な置換基を有していて
もよいカルバモイル基」におけるより好適な置換基とし
ては、高級アルキル基（先に例示したもの等を挙げるこ
とができ、好ましくはウンデカニルを挙げることができ
る）、高級アルコキシアリール複素環基（好ましくは高
級アルコキシフェニルピペラジニル基）を有していても
よいアリール基（先に例示したもの等を挙げることがで
き、好ましくはフェニルを挙げることができる）、低級
アルコキシ（低級）アルコキシアリールアリール基（好
ましくは低級アルコキシ（低級）アルコキシフェニルフ
ェニル基）を有していてもよい複素環基（先に例示した
もの等を挙げることができ、好ましくはピペリジルを挙
げることができる）が挙げられる。
【００５８】「適当な置換基を有していてもよいアリー
ル基」におけるより好適な置換基としては、高級アルコ
キシ（高級アルキル部分が先に例示したものを挙げるこ
とができ、好ましくはヘプチルオキシまたはオクチルオ
キシを挙げることができる）、低級アルキル基を有して
いてもよいアリール基（先に例示したもの等を挙げるこ
とができ、好ましくはフェニルまたはナフチルを挙げる
ことができる）、低級アルコキシ（高級）アルキル基を
有していてもよいアリール基（先に例示したもの等を挙
げることができ、好ましくはフェニルまたはナフチルを
挙げることができる）、高級アルコキシ基を有していて
もよいアリール基（先に例示したもの等を挙げることが
でき、好ましくはフェニルまたはナフチルを挙げること
ができる）、または低級アルコキシ（低級）アルコキシ
アリール基を有していてもよいアリール基（先に例示し
たもの等を挙げることができ、好ましくはフェニルまた
はナフチルを挙げることができる）が挙げられる。
【００５９】「適当な置換基を有していてもよいアル
（低級）アルキル基」におけるより好適な置換基として
は、高級アルコキシ（先に例示したもの等を挙げること
ができ、好ましくはノニルオキシを挙げることができ
る）が挙げられる。
【００６０】Ｒ1における「適当な置換基を有していて
もよい複素環式カルボニル基」におけるより好適な置換
基としては、低級アルコキシアリール基（好ましくは低
級アルコキシフェニル基）を有していてもよいアリール
基（先に例示したもの等を挙げることができ、好ましく
はフェニルを挙げることができる）が挙げられる。
【００６１】Ｒ2における「適当な置換基を有していて
もよい複素環式カルボニル基」におけるより好適な置換
基としては、低級アルコキシカルボニル基（先に例示し
たもの等を挙げることができ、好ましくはｔ−ブトキシ
を挙げることができる）が挙げられる。
【００６２】「適当な置換基を有していてもよい低級ア
ルコキシカルボニル」におけるより好適な置換基として
は、アリール基（先に例示したもの等を挙げることがで
き、好ましくはフェニルを挙げることができる）が挙げ
られる。
【００６３】「適当な置換基を有していてもよい低級ア
ルコキシ」におけるより好適な置換基としては、カルボ
キシ基、低級アルコキシカルボニル基（先に例示したも
の等を挙げることができ、好ましくはｔ−ブトキシを挙
げることができる）、低級アルキル基を有していてもよ
いカルバモイル基、アミノ（低級）アルキル基を有して
いてもよいカルバモイル基、低級アルコキシカルボニル
アミノ（低級）アルキル基を有していてもよいカルバモ
イル基、複素環（低級）アルキル基を有していてもよい
カルバモイル基が挙げられる。
【００６４】Ｒ14における「適当な置換基を有していて
もよいカルバモイル」におけるより好適な置換基として
は、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基（慣用の保
護基で保護されたヒドロキシ基を挙げることができ、好
ましくはアセチルオキシを挙げることができる）、カル
ボキシ基、保護されたカルボキシ基（先に例示したもの
等を挙げることができ、好ましくはｔ−ブトキシカルボ
ニルを挙げることができる）が挙げられる。
【００６５】Ｒ13における好適な「アシルアミノ」とし
ては、置換基を有していてもよい低級アルカノイルアミ
ノ、低級アルキルスルホニルアミノ、置換基を有してい
てもよい複素環式カルボニルアミノが挙げられる。
【００６６】「置換基を有していてもよい低級アルカノ
イルアミノ」における好適な置換基としては、アミノ
基、保護されたアミノ基（先に例示したもの等を挙げる
ことができ、好ましくはアシルアミノ基を挙げることが
できる）、低級アルコキシカルボニルアミノ基を有して
いてもよい複素環基（先に例示したもの等を挙げること
ができ、好ましくはイミダゾリル基を挙げることができ
る）、低級アルコキシカルボニルアミノ基を有していて
もよい複素環式カルボニル基（複素環部分が先に例示し
たもの等を挙げることができ、好ましくはピペラジニル
カルボニル基を挙げることができる）、カルボキシ基、
保護されたカルボキシ基（先に例示したもの等を挙げる
ことができ、好ましくはｔ−ブトキシカルボニルを挙げ
ることができる）、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキ
シ基（先に例示したもの等を挙げることができ、好まし
くはアセチルオキシを挙げることができる）、低級アル
コキシ（低級）アルコキシ基（低級アルコキシ部分が先
に例示したものを挙げることができ、好ましくは、メト
キシエトキシを挙げることができる）が挙げられる。
【００６７】「置換基を有していてもよい複素環式カル
ボニルアミノ」における好適な置換基としては、ヒドロ
キシ基、保護されたヒドロキシ基（先に例示したもの等
を挙げることができ、好ましくはアセチルオキシを挙げ
ることができる）、低級アルコキシカルボニル基（先に
例示したもの等を挙げることができ、好ましくはｔ−ブ
トキシカルボニル基を挙げることができる）が挙げられ
る。
【００６８】化合物（Ｉ）の実施態様について以下説明
する。化合物（Ｉ）の好ましい例としては、Ｒ1が水
素、高級アルキル基（より好ましくはトリデシル）；低
級アルコキシアルキル基（より好ましくは低級アルコキ
シ（高級）アルキル基）；カルボキシ基；高級アルキ
ル、置換基（より好ましくは高級アルコキシアリール複
素環基、さらに好ましくは高級アルコキシフェニルピペ
ラジニル基）を有していてもよいアリール基（より好ま
しくはフェニル基）および置換基（より好ましくは低級
アルコキシ（低級）アルコキシアリールアリール基、さ
らに好ましくは低級アルコキシ（低級）アルコキシフェ
ニルフェニル基）を有していてもよい複素環基（より好
ましくはピペリジル基）からなる群から選ばれた１個ま
たは２個（より好ましくは１個）の適当な置換基を有し
ていてもよいカルバモイル基；高級アルコキシおよび置
換基（より好ましくは低級アルキル基、低級アルコキシ
（高級）アルキル基、高級アルコキシ基および低級アル
コキシ（低級）アルコキシアリール基からなる群から選
ばれた置換基）を有していてもよいアリール基（より好
ましくはフェニル基またはナフチル基）からなる群から
選ばれた１個から３個（より好ましくは１個）の適当な
置換基を有していてもよいアリール基（より好ましくは
フェニル基またはナフチル基）；高級アルコキシを有し
ていてもよいアル（低級）アルキル基（より好ましくは
フェニル（低級）アルキル基）；または１個から３個
（より好ましくは１個）の置換基（好ましくは低級アル
コキシアリール基、さらに好ましくは低級アルコキシフ
ェニル基）を有していてもよいアリール基（より好まし
くはフェニル基）を有していてもよい複素環式カルボニ
ル基（より好ましくはピペリジルカルボニル基）、Ｒ2
がカルボキシ基、保護されたカルボキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基を有していてもよい複素環式カルボニ
ル基（より好ましくはピペラジニルカルボニル基）、次
式 で表され、式中、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なって
いてもよく、水素；またはイミノ、カルバモイル、低級
アルコキシ、アミノ、低級アルカノイルアミノ、１個か
ら３個（より好ましくは１または２個；さらに好ましく
は１個）の置換基（より好ましくは低級アルキル基、ア
シル基またはアシルアミノ基；さらに好ましくは低級ア
ルキル基、フェニル（低級）アルコキシカルボニル基ま
たは低級アルカノイルアミノ基）を有していてもよい複
素環基（より好ましくはアゼチジニル基、チアゾリル基
またはピラゾリル基）、低級アルケニルオキシカルボニ
ルアミノ、ジアリ−ル（低級）アルコキシカルボニル
［より好ましくはモノ（またはジ）フェニル（低級）ア
ルコキシカルボニル基］、ヒドロキシ、３個の置換基
［より好ましくはカルバモイル（低級）アルキルおよび
低級アルキルからなる群から選ばれた置換基］を有して
いてもよいアンモニオ、低級アルコキシカルボニルおよ
びカルボキシルからなる群から選ばれた１個以上（より
好ましくは１個から３個）の置換基を有していてもよい
低級アルキル基；低級アルケニル基；複素環基（より好
ましくは窒素原子を１個含有する不飽和単環式複素環
基、さらに好ましくはピリジル基）またはジ低級アルキ
ルアミノを有していてもよいスルホニル基；１個以上
（より好ましくは１個）の低級アルキルを有していても
よいカルバモイル基；カルボキシル、ヒドロキシ、１個
または２個の置換基（より好ましくは低級アルキルおよ
びアシルからなる群から選ばれた置換基、さらに好まし
くは低級アルキル、低級アルコキシカルボニルおよびア
ル（低級）アルコキシカルボニル、（より好ましくはフ
ェニル（低級）アルコキシカルボニル）からなる群から
選ばれた置換基）を有していてもよいアミノ、低級アル
コキシカルボニル、ヒドロキシアリール（より好ましく
はヒドロキシフェニル）、１個から３個（より好ましく
は１個または２個；さらに好ましくは１個）の置換基
（より好ましくは低級アルコキシカルボニル）を有して
いてもよい複素環基（より好ましくは窒素原子を１ない
し４個有する３ないし８員不飽和複素単環式基、さらに
好ましくはイミダゾリル基）、１個から３個（より好ま
しくは１個または２個；さらに好ましくは１個）の置換
基を有していてもよい複素環式カルボニル（より好まし
くは窒素原子を１ないし４個有する３ないし８員の飽和
複素単環式カルボニル、さらに好ましくはピペラジニル
カルボニル）、アル（低級）アルコキシカルボニル［よ
り好ましくはフェニル（低級）アルコキシカルボニ
ル］、および低級アルコキシカルボニルからなる群から
選ばれた１個以上（より好ましくは１個または２個）の
置換基を有していてもよい低級アルカノイル基；アル
（低級）アルコキシカルボニル基［より好ましくはフェ
ニル（低級）アルコキシカルボニル］；低級アルコキシ
カルボニルおよびヒドロキシからなる群から選ばれた１
個以上（より好ましくは１個または２個）の置換基を有
していてもよい複素環式カルボニル基（より好ましくは
１〜４個の窒素原子を含有する飽和３〜８員複素単環カ
ルボニル基、さらに好ましくはアゼチジニルカルボニ
ル、ピロリジニルカルボニル、またはピペリジルカルボ
ニル）；高級アルコキシ、低級アルコキシカルボニルア
ミノ低級アルキル、アミノ低級アルキル、低級アルコキ
シカルボニルアミノ低級アルカノイルアミノおよびアミ
ノ低級アルカノイルアミノ低級アルキルからなる群から
選ばれた１個以上（より好ましくは１個）の置換基を有
していてもよいアロイル基（より好ましくはベンゾイ
ル）；またはアミノおよび低級アルコキシカルボニルア
ミノからなる群から選ばれた１個以上（より好ましくは
１個）の置換基を有していてもよいシクロ（低級）アル
キルカルボニル基；またはＲ2が次式 で表され、Ｒ5が同一または異なっていてもよく、複素
環基（より好ましくはピラゾリル）を有しいてもよい低
級アルキル基または低級アルケニル基、Ｘがハロゲン、
Ａが低級アルキレン基、Ｒ11がヒドロキシ基；またはカ
ルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基、
保護されたアミノ基（より好ましくはアシルアミノ基；
さらに好ましくは低級アルコキシカルボニル基アミノ
基）、および１個または２個の置換基（より好ましくは
低級アルキル基、アミノ（低級）アルキル基、低級アル
コキシカルボニルアミノ（低級）アルキル基および複素
環（低級）アルキル基（より好ましくはイミダゾリル
（低級）アルキル基）からなる群から選ばれた置換基）
を有していてもよいカルバモイル基からなる群から選ば
れた１個から３個（より好ましくは１個）の適当な置換
基を有していてもよい低級アルコキシ基、Ｒ12が水素ま
たはハロゲン、Ｒ13が水素；ニトロ基；アミノ基；アミ
ノ基、保護されたアミノ基（より好ましくはアシルアミ
ノ基、さらに好ましくは低級アルコキシ（低級）アルコ
キシカルボニルアミノ基）、アシル基（より好ましくは
低級アルコキシカルボニル基）を有していてもよい複素
環基（より好ましくはイミダゾリル基）、アシル基（好
ましくは低級アルコキシカルボニル基）を有していても
よい複素環式カルボニル基（より好ましくはピペラジニ
ルカルボニル基）、カルボキシ基、保護されたカルボキ
シ基（より好ましくはエステル化されたカルボキシ基、
さらに好ましくは低級アルコキシカルボニル基）、ヒド
ロキシ基、保護されたヒドロキシ基（より好ましくはア
シルオキシ基）、および低級アルコキシ（低級）アルコ
キシ基からなる群から選ばれた１個から３個（より好ま
しくは１個または２個）の適当な置換基を有していても
よい低級アルカノイルアミノ基；低級アルキルスルホニ
ルアミノ基；ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基
（より好ましくはアシルオキシ基）およびアシル基（好
ましくは低級アルコキシカルボニル基）からなる群から
選ばれた１個から３個（より好ましくは１個または２
個）の適当な置換基を有していてもよい複素環式カルボ
ニルアミノ基（より好ましくはピロリジニルカルボニル
アミノ基）、または、Ｒ11とＲ13とが結合して形成する
次式 から選ばれる二価の基、Ｒ14がシアノ基；ヒドロキシ
基、保護されたヒドロキシ基（より好ましくはアシルオ
キシ基）、カルボキシ基および保護されたカルボキシ基
（より好ましくはエステル化されたカルボキシ基）から
なる群から選ばれた１個から３個（より好ましくは１
個）の適当な置換基を有していてもよいカルバモイル
基；アミノ（低級）アルキル基；または保護されたアミ
ノ（低級）アルキル基、ＺがＯまたはＮ−Ｒ15（式中Ｒ
15は水素または高級アルキル基）、Ｐが（ＣＨ2）n（式
中、ｎは０または１）で表される化合物およびその塩が
挙げられる。
【００６９】化合物（Ｉ）のさらに好ましい例として
は、下記の（１）ＺがＯの化合物、または（２）ＺがＮ
−Ｒ15の化合物が挙げられる。
【００７０】（１）ＺがＯの化合物 Ｒ1が高級アルキル基、Ｒ2がカルボキシ基、保護された
カルボキシ基（より好ましくはエステル化されたカルボ
キシ基、さらに好ましくは低級アルコキシカルボニル
基）、アシル基（より好ましくは低級アルコキシカルボ
ニル基）を有していてもよいピペラジニルカルボニル
基、次式 で表され、式中、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なって
いてもよく、水素；またはイミノ、カルバモイル、低級
アルコキシ、アミノ、低級アルカノイルアミノ、１個か
ら３個（より好ましくは１または２個；さらに好ましく
は１個）の置換基（より好ましくは低級アルキル基、ア
シル基またはアシルアミノ基；さらに好ましくは低級ア
ルキル基、フェニル（低級）アルコキシカルボニル基ま
たは低級アルカノイルアミノ基）を有していてもよい複
素環基（より好ましくはアゼチジニル基、チアゾリル基
またはピラゾリル基）、低級アルケニルオキシカルボニ
ルアミノ、ジアリ−ル（低級）アルコキシカルボニル
［より好ましくはモノ（またはジ）フェニル（低級）ア
ルコキシカルボニル基］、ヒドロキシ、３個の置換基
［より好ましくはカルバモイル（低級）アルキルおよび
低級アルキルからなる群から選ばれた置換基］を有して
いてもよいアンモニオ、低級アルコキシカルボニルおよ
びカルボキシルからなる群から選ばれた１個以上（より
好ましくは１個から３個）の置換基を有していてもよい
低級アルキル基；低級アルケニル基；複素環基（より好
ましくは窒素原子を１個含有する不飽和単環式複素環
基、さらに好ましくはピリジル基）またはジ低級アルキ
ルアミノを有していてもよいスルホニル基；１個以上
（より好ましくは１個）の低級アルキルを有していても
よいカルバモイル基；カルボキシル、ヒドロキシ、１個
または２個の置換基（より好ましくは低級アルキルおよ
びアシルからなる群から選ばれた置換基、さらに好まし
くは低級アルキル、低級アルコキシカルボニルおよびア
ル（低級）アルコキシカルボニル、（より好ましくはフ
ェニル（低級）アルコキシカルボニル）からなる群から
選ばれた置換基）を有していてもよいアミノ、低級アル
コキシカルボニル、ヒドロキシアリール（より好ましく
はヒドロキシフェニル）、１個から３個（より好ましく
は１個または２個；さらに好ましくは１個）の置換基
（より好ましくは低級アルコキシカルボニル）を有して
いてもよい複素環基（より好ましくは窒素原子を１ない
し４個有する３ないし８員不飽和複素単環式基、さらに
好ましくはイミダゾリル基）、１個から３個（より好ま
しくは１個または２個；さらに好ましくは１個）の置換
基を有していてもよい複素環式カルボニル（より好まし
くは窒素原子を１ないし４個有する３ないし８員の飽和
複素単環式カルボニル、さらに好ましくはピペラジニル
カルボニル）、アル（低級）アルコキシカルボニル［よ
り好ましくはフェニル（低級）アルコキシカルボニ
ル］、および低級アルコキシカルボニルからなる群から
選ばれた１個以上（より好ましくは１個または２個）の
置換基を有していてもよい低級アルカノイル基；アル
（低級）アルコキシカルボニル基［より好ましくはフェ
ニル（低級）アルコキシカルボニル］；低級アルコキシ
カルボニルおよびヒドロキシからなる群から選ばれた１
個以上（より好ましくは１個または２個）の置換基を有
していてもよい複素環式カルボニル基（より好ましくは
１〜４個の窒素原子を含有する飽和３〜８員複素単環カ
ルボニル基、さらに好ましくはアゼチジニルカルボニ
ル、ピロリジニルカルボニル、またはピペリジルカルボ
ニル）；高級アルコキシ、低級アルコキシカルボニルア
ミノ低級アルキル、アミノ低級アルキル、低級アルコキ
シカルボニルアミノ低級アルカノイルアミノおよびアミ
ノ低級アルカノイルアミノ低級アルキルからなる群から
選ばれた１個以上（より好ましくは１個）の置換基を有
していてもよいアロイル基（より好ましくはベンゾイ
ル）；またはアミノおよび低級アルコキシカルボニルア
ミノからなる群から選ばれた１個以上（より好ましくは
１個）の置換基を有していてもよいシクロ（低級）アル
キルカルボニル基；またはＲ2が次式 で表され、Ｒ5が同一または異なっていてもよく、複素
環基（より好ましくはピラゾリル）を有しいてもよい低
級アルキル基または低級アルケニル基、Ｘがハロゲン、
Ａが低級アルキレン基、Ｒ11がヒドロキシ基；またはカ
ルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アミノ基、
保護されたアミノ基（より好ましくはアシルアミノ基、
さらに好ましくは低級アルコキシカルボニルアミノ基）
および１個または２個の置換基（より好ましくは低級ア
ルキル基、アミノ（低級）アルキル基、低級アルコキシ
カルボニルアミノ（低級）アルキル基および複素環（低
級）アルキル基（より好ましくはイミダゾリル（低級）
アルキル基）からなる群から選ばれた置換基）を有して
いてもよいカルバモイル基からなる群から選ばれた１個
から３個（より好ましくは１個）の適当な置換基を有し
ていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ12が水素またはハロ
ゲン、Ｒ13が水素；ニトロ基；アミノ基；アミノ基、保
護されたアミノ基（より好ましくはアシルアミノ基、さ
らに好ましくは低級アルコキシ（低級）アルコキシカル
ボニルアミノ基）、アシル基（より好ましくは低級アル
コキシカルボニル基）を有していてもよい複素環基（よ
り好ましくはイミダゾリル基）、アシル基（より好まし
くは低級アルコキシカルボニル基）を有していてもよい
複素環式カルボニル基（より好ましくはピペラジニルカ
ルボニル基）、カルボキシ基、保護されたカルボキシ基
（より好ましくはエステル化されたカルボキシ基、さら
に好ましくは低級アルコキシカルボニル基）、ヒドロキ
シ基、保護されたヒドロキシ基（より好ましくはアシル
オキシ基）、および低級アルコキシ（低級）アルコキシ
基からなる群から選ばれた１個から３個（より好ましく
は１個または２個）の適当な置換基を有していてもよい
低級アルカノイルアミノ基；低級アルキルスルホニルア
ミノ基；ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基（より
好ましくはアシルオキシ基）およびアシル基（より好ま
しくは低級アルコキシカルボニル基）からなる群から選
ばれた１個から３個（より好ましくは１個または２個）
の適当な置換基を有していてもよい複素環式カルボニル
アミノ基（より好ましくはピロリジニルカルボニルアミ
ノ基）、または、Ｒ11とＲ13とが結合して形成する次式 から選ばれる二価の基、Ｒ14がシアノ基；ヒドロキシ
基、保護されたヒドロキシ基（より好ましくはアシルオ
キシ基）、カルボキシ基および保護されたカルボキシ基
（より好ましくはエステル化されたカルボキシ基）から
なる群から選ばれた１個から３個（より好ましくは１
個）の適当な置換基を有していてもよいカルバモイル
基；アミノ（低級）アルキル基；または保護されたアミ
ノ（低級）アルキル基、Ｐが（ＣＨ2）n（式中、ｎは
１）で表される化合物およびその塩。
【００７１】（２）ＺがＮ−Ｒ15の化合物 Ｒ1が高級アルキル基（より好ましくはトリデシル
基）；低級アルコキシ（高級）アルキル基；高級アルキ
ル、置換基（より好ましくは高級アルコキシアリール複
素環基、さらに好ましくは高級アルコキシフェニルピペ
ラジニル基）を有していてもよいアリール基（より好ま
しくはフェニル基）および置換基（より好ましくは低級
アルコキシ（低級）アルコキシアリールアリール基、さ
らに好ましくは低級アルコキシ（低級）アルコキシフェ
ニルフェニル基）を有していてもよい複素環基（より好
ましくはピペリジル基）からなる群から選ばれた１個ま
たは２個（より好ましくは１個）の適当な置換基を有し
ていてもよいカルバモイル基；高級アルコキシおよび置
換基（より好ましくは低級アルキル基、低級アルコキシ
（高級）アルキル基、高級アルコキシ基および低級アル
コキシ（低級）アルコキシアリール基からなる群から選
ばれた置換基）を有していてもよいアリール基（より好
ましくはフェニル基またはナフチル基）からなる群から
選ばれた１個から３個（より好ましくは１個）の適当な
置換基を有していてもよいアリール基（より好ましくは
フェニル基またはナフチル基）；高級アルコキシを有し
ていてもよいアル（低級）アルキル基（より好ましくは
フェニル（低級）アルキル基）；または１個から３個
（より好ましくは１個）の置換基（好ましくは低級アル
コキシアリール基、さらに好ましくは低級アルコキシフ
ェニル基）を有していてもよいアリール基（より好まし
くはフェニル基）を有していてもよい複素環式カルボニ
ル基（より好ましくはピペリジルカルボニル基）、Ｒ2
が次式 で表され、Ｒ3およびＲ4が同一または異なっていてもよ
く、水素または低級アルコキシカルボニル基、Ａが低級
アルキレン基、Ｒ11がヒドロキシ基、Ｒ12が水素、Ｒ13
が水素、Ｒ14がカルバモイル基、Ｒ15が水素または高級
アルキル基、Ｐが（ＣＨ2）n（式中、ｎは０または１）
で表される化合物およびその塩。
【００７２】目的化合物（Ｉ）またはその塩の製造方法
を以下詳細に説明する。
【００７３】製造法１ 目的化合物（Ｉａ）またはその塩は、化合物（Ａ）また
はその塩を化合物（ＩＩ）またはその塩と反応させるこ
とにより製造することができる。
【００７４】本反応は、水、燐酸塩緩衝液、アセトン、
クロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、トル
エン、塩化メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノー
ル、第二級ブタノール、アミルアルコール、ジエチルエ
ーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルホキシドなどの溶媒、その他反応
に悪影響を及ぼさない任意の有機溶媒、好ましくは強い
極性を有する溶媒中で実施できる。これらの溶媒のう
ち、親水性の溶媒は、水との混合物として使用してもよ
い。化合物（ＩＩ）が液状である場合には、それを溶媒
として使用することもできる。
【００７５】反応は、塩基、たとえばアルカリ金属水酸
化物、アルカリ金属アルコキシド、炭酸カリウムなどの
アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ
金属水素化物などの無機塩基、水酸化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム、ジイソプロピルエチルアミン、トリア
ルキルアミンなどの有機塩基の存在下で実施するのが好
ましい。
【００７６】反応温度はとくに限定されないが、通常
は、外界温度、室温または加熱下で反応を実施する。
【００７７】製造法２ａ 目的化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（Ａ）また
はその塩を化合物（ＩＩＩ）と反応させ［工程
（１）］、次いで還元反応に付する［工程（２）］こと
により製造することができる。
【００７８】工程（１）における反応において、好まし
くは塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ピペラ
ジン、ピペリジン等のような有機塩基、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム等のような無機塩基の存在下で実施してもよい。。
【００７９】溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない
慣用の溶媒、例えば水、アルコール（例えばメタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノール等）、酢酸、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、またはそれらの混合物等が挙げられる。
【００８０】反応温度はとくに限定されないが、通常
は、外界温度、室温または加熱下で反応を実施する。
【００８１】工程（２）における反応は、常法すなわち
化学還元および接触還元により行われる。
【００８２】化学還元に用いる好適な還元剤としては、
金属（例えば錫、亜鉛、鉄等）または金属化合物（例え
ば塩化クロム、酢酸クロム等）、アルミニウムハイドラ
イド化合物（例えばリチウムアルミニウムハイドライ
ド、リチウムハイドライドトリ−ｔ−ブトキシアルミネ
ート、等）、ボロハイドライド化合物（例えばナトリウ
ムボロハイドライド、ナトリウムシアノボロハイドライ
ド、等）のようなハイドライド移動試薬等を挙げること
ができる。
【００８３】接触還元に使用される好適な触媒として
は、白金触媒（例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロ
イド白金、酸化白金、白金線等）、パラジウム触媒（例
えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、
パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−
硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等）、ニッケ
ル触媒（例えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネ−ニ
ッケル等）、コバルト触媒（例えば還元コバルト、ラネ
−コバルト等）、鉄触媒（例えば還元鉄、ラネ−鉄
等）、銅触媒（例えば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅
等）等を挙げることができる。
【００８４】還元は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒、例えば水、アルコール（例えばメタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノール等）、酢酸、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、
またはそれらの混合物等の溶媒中で行われる。
【００８５】還元の反応温度は特に限定されないが、通
常、冷却ないし加温下に反応が行われる。
【００８６】製造法２ｂ 目的化合物（Ｉｃ）またはその塩は、化合物（Ａ）また
はその塩を化合物（ＩＩＩ）と反応させ［工程
（１）］、次いで還元反応に付する［工程（２）］こと
により製造することができる。この反応は、製造法２ａ
で述べたものと実質的に同じ方法で行うことができるの
で、反応方法および反応条件（例えば溶媒、反応温度
等）は製造法２ａの説明を援用できる。
【００８７】製造法３ 目的化合物（Ｉｄ）またはその塩は化合物（Ａ）または
その塩を化合物（ＩＶ）またはその塩と反応させること
により製造することができる。この反応は、製造法１で
述べたものと実質的に同じ方法で行うことができるの
で、反応方法および反応条件（例えば溶媒、反応温度
等）は製造法１の説明を援用できる。
【００８８】製造法４ 目的化合物（Ｉｅ）またはその塩は化合物（Ａ）または
その塩を化合物（Ｖ）またはその塩と反応させることに
より製造することができる。この反応は、製造法１で述
べたものと実質的に同じ方法で行うことができるので、
反応方法および反応条件（例えば溶媒、反応温度等）は
製造法１の説明を援用できる。
【００８９】製造法５ａ 目的化合物（Ｉｆ）またはその塩は化合物（Ａ）または
その塩をアシル化反応に付すことによって製造すること
ができる。このアシル化反応で使用される好適なアシル
化剤としては、式：Ｒ4 b−ＯＨ（ＶＩ）［式中Ｒ4 bは適
当な置換基を有していてもよい低級アルカノイル基、ス
ルホニル基、カルバモイル基、アル（低級）アルコキシ
カルボニル基、複素環式カルボニル基、アロイル基、シ
クロ（低級）アルキルカルボニル基］で示される慣用の
アシル化剤またはその反応性誘導体もしくはその塩が挙
げられる。
【００９０】化合物（ＶＩ）のカルボキシ基における好
適な反応性誘導体としては酸ハロゲン化物、酸無水物、
活性化アミド、活性化エステル等が挙げられる。その好
適な例としては、酸塩化物；酸アジド；置換されたリン
酸（例えばジアルキルりん酸、フェニルりん酸、ジフェ
ニルりん酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸
等）、ジアルキル亜りん酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、
スルホン酸（例えばメタンスルホン酸等）、アルキル炭
酸、脂肪族カルボン酸（例えば、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタ
ン酸、２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等）または
芳香族カルボン酸（例えば安息香酸等）のような酸との
混合酸無水物；対称酸無水物（例えば無水酢酸等）；イ
ミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾール、テトラゾールまたは１−ヒドロキシ
−１Ｈ−ベンゾトリアゾールとの活性化アミド；活性化
エステル（例えばシアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステル、ジメチルイミノメチル［（ＣＨ3）2Ｎ+＝
ＣＨ−］エステル、ビニルエステル、プロパルギルエス
テル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロ
フェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペン
タクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、
フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステ
ル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレジルチ
オエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニル
エステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８
−キノリルチオエステル等）、もしくはＮ−ヒドロキシ
化合物（例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、
１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロ
キシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１
−ヒドロキシ−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール
等）とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導
体は、使用すべき化合物（ＶＩ）の種類によって、これ
らの中から適宜選択することができる。
【００９１】化合物（ＶＩ）およびその反応誘導体の好
適な塩としては、化合物（Ｉ）の塩について例示したも
のと同じものを挙げることができる。
【００９２】反応は、通常、水、アルコール（例えばメ
タノール、エタノール等）、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒または
反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中
で行われる。これらの慣用の溶媒は水と混合して用いて
もよい。
【００９３】化合物（ＶＩ）を遊離酸またはその塩の形
でこの反応に使用する場合、反応を、Ｎ，Ｎ′−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′
−モルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ′−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カル
ボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，
Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−
Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾ
ール）；ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイ
ミン；ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；
エトキシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチ
レン；亜りん酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリ
リン酸イソプロピル；オキシ塩化リン（塩化ホスホリ
ル）；三塩化リン；塩化チオニル；塩化オキサリル；例
えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハ
ロギ酸低級アルキル；トリフェニルホスフィン；２−エ
チル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２
−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリ
ウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼン
スルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、オキシ塩化リン等との反応によって調整
したいわゆるビルスマイヤー試薬のような慣用の縮合剤
の存在下に行うことが望ましい。
【００９４】反応はまた、アルカリ金属炭酸塩、アルカ
リ金属炭酸水素塩、トリ（低級）アルキルアミン（例え
ばトリエチルアミン等）、ピリジン、ジ（低級）アルキ
ルアミノピリジン（例えば４−ジメチルアミノピリジン
等）、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ
（低級）アルキルベンジルアミン等のような無機または
有機塩基の存在下に行うことが望ましい。反応温度は特
に限定されず、通常、冷却下ないし加温下で行われる。
【００９５】製造法５ｂ 目的化合物（Ｉｈ）またはその塩は化合物（Ｉｇ）また
はその塩をアシル化反応に付することにより製造するこ
とができる。この反応は、製造法５ａで述べたものと実
質的に同じ方法で行うことができるので、反応方法およ
び反応条件（例えば溶媒、反応温度等）は製造法５ａの
説明を援用できる。
【００９６】製造法６ 目的化合物（Ｉｉ）またはその塩は、化合物（Ａ）また
はその塩を（ＶＩＩ）と反応させることにより製造する
ことができる。この方法は、後述の実施例２３に準じた
方法で行われる。
【００９７】製造法７ 目的化合物（Ｉｊ）またはその塩は化合物（Ａ）または
その塩を化合物（ＶＩＩＩ）と反応させることにより製
造することができる。この方法は、後述の実施例２４に
準じた方法で行われる。
【００９８】製造法８ａ 化合物（Ｉｌ）またはその塩は、化合物（Ｉｋ）または
その塩をカルボキシ保護基脱離反応に付すことにより製
造できる。化合物（Ｉｋ）および（Ｉｌ）の好適な塩と
しては、化合物（Ｉ）について例示したものを挙げるこ
とができる。この反応は、加水分解・還元等の慣用の方
法に従って行われる。
【００９９】加水分解は、塩基または酸（ルイス酸も含
む）の存在下で行うのが好ましい。好適な塩基として
は、例えばアルカリ金属（例えばナトリウム、カリウム
等）、アルカリ土類金属（例えばマグネシウム、カルシ
ウム等）、それらの金属の水酸化物もしくは炭酸塩もし
くは重炭酸塩、アルカリ金属アルコキサイド（例えばナ
トリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、カリ
ウムｔ−ブトキサイド等）、アルカリ金属酢酸塩、アル
カリ土類金属燐酸塩、アルカリ金属燐酸水素塩（例えば
燐酸水素二ナトリウム、燐酸水素二カリウム等）、トリ
（低級）アルキルアミン（例えばトリメチルアミン、ト
リエチルアミン等）、ピリジンまたはその誘導体（例え
ばピコリン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジン
等）、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン（例えばＮ−メ
チルモルホリン等）、１，５−ジアザビシクロ［４．
３．０］ノン−５エン、１，４−ジアザビシクロ［２．
２．２．］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデク−７−エン、キノリン等の無機および
有機の塩基を挙げることができる。
【０１００】好適な酸としては、有機酸（例えば蟻酸、
酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等）および無機酸（例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等）を挙げることができる。トリハロゲン化酢酸（例え
ばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等）等を使用した
脱離反応は、陽イオン捕捉剤（例えばフェノ−ル、アニ
ソ−ル等）の添加によって加速される。
【０１０１】この加水分解は通常、水、アルコ−ル（例
えばメタノ−ル、エタノ−ル等）、ジエチルエ−テル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、酢
酸エチル等の慣用の溶媒中またはそれらの混合物中、ま
たは反応に悪影響を及ぼさない任意の他の有機溶媒中で
行われる。上記の塩基または酸が液体である場合には、
そららもまた溶媒として使用することができる。
【０１０２】反応温度は特に限定されないが、通常、冷
却下、室温または加温下で反応は行われる。
【０１０３】この脱離反応に適用できる還元法として
は、化学的還元および接触還元が挙げられる。化学的還
元に使用される好適な還元剤としては、金属（例えば
錫、亜鉛、鉄等）または金属化合物（例えば塩化クロ
ム、酢酸クロム等）と有機または無機の酸（例えば蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等）との組合せを挙
げることができる。
【０１０４】接触還元に使用される好適な触媒として
は、慣用の触媒、例えば白金触媒（例えば白金板、白金
海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等）、
パラジウム触媒（例えばパラジウム海綿、パラジウム
黒、コロイドパラジウム、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸
バリウム等）、ニッケル触媒（例えば還元ニッケル、酸
化ニッケル、ラネ−ニッケル等）、コバルト触媒（例え
ば還元コバルト、ラネ−コバルト等）、鉄触媒（例えば
還元鉄、ラネ−鉄等）、銅触媒（例えば還元銅、ラネ−
銅、ウルマン銅等）等を挙げることができる。
【０１０５】還元は通常、水、アルコ−ル（例えばメタ
ノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等）、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等のような反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中またはそれらの混合物中で行われる。また化学的
還元に使用する上記の酸が液体である場合には、そらら
もまた溶媒として使用することができる。さらに、接触
還元に使用される好適な溶媒としては、上記の溶媒のほ
か、ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等の慣用の溶媒またはそれらの混合物を挙げることが
できる。
【０１０６】この還元の反応温度は特に限定されない
が、通常は冷却下、室温、または加温下で反応は行われ
る。
【０１０７】製造法８ｂ 化合物（Ｉｎ）またはその塩は、化合物（Ｉｍ）または
その塩をカルボキシ保護基脱離反応に付すことにより製
造できる。この反応は、製造法８ａで述べたものと実質
的に同じ方法で行うことができるので、反応方法および
反応条件（例えば溶媒、反応温度等）は製造法８ａの説
明を援用できる。
【０１０８】製造法９ 化合物（Ｉｐ）またはその塩は、化合物（Ｉｏ）または
その塩をアミノ保護基脱離反応に付すことにより製造で
きる。この反応は、製造法８ａで述べたものと実質的に
同じ方法で行うことができるので、反応方法および反応
条件（例えば溶媒、反応温度等）は製造法８ａの説明を
援用できる。
【０１０９】製造法１０ 化合物（Ｉｑ）またはその塩は、化合物（Ｂ）またはそ
の塩を環化反応に付することにより製造できる。この方
法は、後述の実施例８２に準じた方法で行われる。反応
は、通常、水、アルコール（例えばメタノール、エタノ
ール等）、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような慣用の溶媒または反応に悪影響を
及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中で行われる。こ
れらの慣用の溶媒は水と混合して用いてもよい。反応
は、１−エチル−３−（３−ジメチル−アミノプロピ
ル）カルボジイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル、製造法５ａで述べたもののような慣用の縮合剤の存
在下に行うことができる。反応温度はとくに限定され
ず、通常、室温ないし加熱下に反応を実施する。
【０１１０】この様にして得られた目的化合物（Ｉ）は
慣用の方法でその塩に変えることができる。目的化合物
（Ｉ）およびその医薬として許容されるその塩は、溶媒
和［例えば包接化合物（例えば水和物等）］を含む。出
発化合物（Ａ）はＷＯ９２／１９６４８公報で開示され
た発酵及び合成法、およびこの明細書に記載した製造法
により製造することができる。
【０１１１】この発明のポリペプチド化合物（Ｉ）の有
用性を示す為に代表的化合物の生物学的デ−タを以下に
示す。 試験Ａ（抗菌活性） 後述する実施例１の目的化合物の試験管内抗菌活性を下
記寒天平板倍数希釈法により測定した。 試験方法 各試験菌株を２％グルコ−スを含むサブロ−・ブロス
（Ｓａｂｏｕｒａｕｄｂｒｏｔｈ）中一夜培養してその
１白金耳（生菌数１０5個／ｍｌ）を、各濃度段階の化
合物（Ｉ）を含むイ−ストニトロゲンベ−スデクストロ
−ズ寒天（ＹＮＢＤ寒天）に接種し、３０℃で２４時間
インキュベ−トした後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）を
μｇ／ｍｌで表した。 試験結果 上記試験結果から明らかなようにこの発明のポリペプチ
ド化合物（Ｉ）は抗菌活性（特に抗真菌活性）を有す
る。
【０１１２】この発明の抗菌剤は直腸投与、肺吸入（鼻
腔または口からの吸入）、鼻への投与、目への投与、外
用投与（局所投与）、経口投与、非経口投与（皮下、静
脈、筋肉注射）に適した有機、無機担体または賦形剤と
混合して、ポリペプチド化合物（Ｉ）とその塩を有効物
質として含有する常用の医薬製剤例えば固体状、半固体
状、液状の形で使用することができる。有効成分は常用
無毒で医薬として許容される担体と混合して適当な剤
形、例えば錠剤、ペレット、トロ−チ、カプセル剤、坐
剤、軟膏、エアゾル剤、吸入用粉末、または溶液、エマ
ルジョン、懸濁液などのような形として使用すればよ
い。必要に応じて上記製剤中に補助剤、安定化剤、濃糊
化剤および着色剤並びに香料を使用してもよい。
【０１１３】この抗菌剤中に含有されるポリペプチド化
合物（Ｉ）とその塩の量は疾患の過程と状態に対して所
望の抗菌効果を発揮するのに十分な量であるこの抗菌剤
を人に適用する場合、静脈内注射、筋肉注射、肺への吸
入、経口投与の方法でなされることが好ましい。このポ
リペプチド化合物（Ｉ）の投与量は、処置すべき患者の
年齢、疾患の程度等の条件によって変化する。一般的に
は、静脈注射の場合ポリペプチド化合物１日投与量約
０．０１〜２０ｍｇ／ ｋｇ、筋肉注射の場合ポリペプ
チド化合物１日投与量約０．１〜２０ｍｇ／ｋｇ、経口
投与の場合ポリペプチド化合物１日投与量約０．５〜５
０ｍｇ／ｋｇ、を感染症治療、または予防に使用すれば
よい。
【０１１４】特にニューモシスティスカリニ感染症の治
療や予防の場合には、次の事に注意する。吸入による投
与の為には、この発明の化合物は圧縮された容器からの
エアゾルスプレイ、またはネブライザ−の形で用いられ
るのが便利である。この化合物は粉末として形成され用
いられてよい。その粉末抗菌剤は吸入用粉末の吸入器の
助けを借りて吸入しても良い。望ましい吸入方法は、目
盛り付きの吸入エアゾ−ル等によってするもので、化合
物のフルオロカ−ボンやハイドロカ−ボンのような好適
な推進剤中懸濁液、または溶液として形成されていても
良い。
【０１１５】肺や気管支を直接的に治療することの方が
望ましいという理由があるためエアゾル投与の方がむし
ろ好ましい投与法である。特に耳やそのほかの体腔にま
で感染が広がってしまったような場合には吸入もまた望
ましい方法である。他には非経口投与として点滴による
静脈投与が用いられる。
【０１１６】以下、製造例と実施例に従ってこの発明を
さらに詳細に説明する。製造例１ （１Ｒ，２Ｓ）−２−アミノシクロペンタン−１−カル
ボン酸（５．０ｇ）のアセトンと水との混合溶液（アセ
トン／水＝１：１）（５０ｍｌ）を０〜５℃でトリエチ
ルアミン（５．８８ｇ）で処理し、次いでジ−ｔ−ブチ
ルジカーボネート（９．３４ｇ）のアセトン（２０ｍ
ｌ）溶液で処理する。３時間後、混合物から有機溶媒を
留去し、残った水溶液を塩化メチレンで３回抽出し、有
機層を捨てる。水層をｐＨ２に調整し、酢酸エチルで３
回抽出する。抽出液を合わせ、食塩水で２回洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をアセト
ン−ヘキサンの混合溶液から結晶化させて、（１Ｒ，２
Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノシクロペンタ
ン−１−カルボン酸を白色粉末（４．７ｇ）として得
る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：１．３６（９Ｈ，ｓ），
１．３６−１．９０（６Ｈ，ｍ），２．７２−２．８３
（１Ｈ，ｍ），３．９５−４．２０（１Ｈ，ｍ），６．
６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），１１．９３（１Ｈ，ｂ
ｒｓ） ＩＲ（ＫＢｒ）＝１７０６．７，１６６０．４ｃｍ-1
【０１１７】製造例２ １−ｔ−ブトキシカルボニルアゼチジン−３−ニトリル
（１２ｇ）の塩化メチレン（１００ｍｌ）溶液を４Ｎ塩
化水素−酢酸エチル（２５ｍｌ）中で室温で３時間処理
し、溶媒を留去する。残渣をテトラヒドロフラン−水の
混合溶媒（１：１）に溶解し、ｐＨ７〜８に調整し、塩
化ベンジルオキシカルボニル（１３．５ｇ）を５Ｎ水酸
化ナトリウム溶液でｐＨ７〜８に維持しながら滴下して
加える。３０分後、溶液を酢酸エチルで２回抽出し、抽
出した有機層を合わせ、水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィ
ー（溶出液：酢酸エチル ／ヘキサン＝１：１）に付し
て１−ベンジルオキシカルボニルアゼチジン−３−ニト
リルを油状物（６．３０ｇ）として得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：３．３４−３．５１（１Ｈ，
ｍ），４．１４−４．３４（ｍ，４Ｈ），５．１０
（ｓ，２Ｈ），７．３５（ｓ，５Ｈ）
【０１１８】製造例３ 氷冷したエタノール（５０ｍｌ）にアセチルクロリド
（２５ｍｌ）を滴下して加え、３０分後、１−ベンジル
オキシカルボニルアゼチジン−３−ニトリル（６．３
ｇ）を加え、溶液を一夜０〜５℃で撹拌する。生じた沈
殿を濾過し、乾燥して、１−ベンジルオキシカルボニル
−３−（１−エトキシ−１−イミノメチル）アゼチジン
・塩酸塩（６．９ｇ）を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７），３．８９−４．１７（５Ｈ，ｍ），４．４７
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７），５．０６（２Ｈ，ｓ），７．３
６（５Ｈ，ｓ），１１．８９（２Ｈ，ｂｒｓ）
【０１１９】製造例４ 琥珀酸無水物（９４０．８ｍｇ）、１−ｔ−ブトキシカ
ルボニルピペラジン（１．７５１ｇ）と４−ジメチルア
ミノピリジン（１結晶物）との塩化メチレン（１２ｍ
ｌ）溶液を３日間室温で撹拌し、溶媒を留去して乾固す
る。残渣をアセトン−ヘキサンの混合溶液から結晶化さ
せて、１−ｔ−ブトキシカルボニル−４−（３−カルボ
キシプロピオニル）ピペラジンを白色結晶（２．２７５
ｇ）として得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：１．４１（９Ｈ，ｓ），
２．３６−２．５６（４Ｈ，ｍ），３．２０−３．４１
（８Ｈ，ｍ），１２．０１（１Ｈ，ｂｒ）ＩＲ（ＫＢ
ｒ）：１６８９．３，１６４３．１ｃｍ-1
【０１２０】以下の製造例と実施例で用いられる出発化
合物と得られる目的化合物は、下記の表に表され、出発
化合物の構造式が上段に示されており、目的化合物の構
造式が下段に示される。
【０１２１】 実施例１ 出発化合物（５００ｍｇ）のジメチルホルムアミド（５
ｍｌ）溶液をジイソプロピルエチルアミン（０．５５５
ｍｌ）とエチルホルムイミダート・塩酸塩（２０９ｍ
ｇ）で処理し、溶液を室温で４日間攪拌する。混合物に
酢酸エチル（〜１００ｍｌ）を加え、生成する固形物を
集め、乾燥する。粗生成物を水に溶解し、ＯＤＳカラム
クロマトグラフィーに付し、アセトニトリル−水の混合
溶液で溶出する。生成物を含む画分を集め、有機溶媒を
留去し、ｐＨ２．８に調整し、アンバーリストＡ−２６
（Ｃｌ-型）イオン交換樹脂のカラムを通し、凍結乾燥
して、目的化合物を白色固形物として得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５５−３．４０（４Ｈ，ｍ），３．５０−４．６３（２
４Ｈ，ｍ），４．６３−５．４０（８Ｈ，ｍ），６．６
１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８６−７．０２
（３Ｈ，ｍ），７．１５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．７０−９．６５（１４
Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５６０（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０７．３，１７１４．４，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１２２】実施例２ 出発化合物の（７１７ｍｇ）のｐＨ６．８６の緩衝溶液
（１０ｍｌ）をエチルアセトイミダート・塩酸塩（５６
４．３ｍｇ）に、４時間以上かけ、８つに分けて、ｐＨ
７〜８に維持しながら加える。溶液を水（９０ｍｌ）で
希釈し、ｐＨ２．８に調整し、ＯＤＳカラムクロマトグ
ラフィーに付し、アセトニトリル−水の混合溶液で溶出
する。生成物を含む画分を集め、溶媒を留去し、ｐＨ
２．８に調整しアンバーリストＡ−２６（Ｃｌ-型）イ
オン交換樹脂の短いカラムを通し、凍結乾燥して目的化
合物を白色粉末（４４０ｍｇ）として得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）：０．７５−１．００（９Ｈ，
ｍ），１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），１．２
０−１．５０（３４Ｈ，ｍ），１．５０−３．３２（１
９Ｈ，ｍ），２．１５（３Ｈ，ｓ），３．６０−５．０
０（２３Ｈ，ｍ），５．００−５．２５（２Ｈ，ｍ），
６．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０９（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５７４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９９．６，１７３３．７，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１２３】実施例３ 出発化合物（５２５ｍｇ）とｔ−ブチルブロモアセテー
ト（７〜８．３ｍｇ）のジメチルホルムアミド（５．３
ｍｌ）溶液を炭酸カリウム（５５．５ｍｇ）で処理し、
１５時間室温で撹拌する。混合物に酢酸エチル（２５ｍ
ｌ）を加え、生じた沈殿物を集め、乾燥する。粗生成物
を水に溶解し、ｐＨ３に調整し、ＯＤＳカラムクロマト
グラフィーに付し、アセトニトリル−水の混合溶液で溶
出する。生成物を含む画分を集め、溶媒を留去し、凍結
乾燥して、目的化合物を白色の無定形粉末（１７５ｍ
ｇ）として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４７（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：１７３５．６，１６５４．６ｃｍ-1
【０１２４】実施例４ 実施例１ と同様にして、出発化合物と１−アミジノ−
３，５−ジメチルピラゾールから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）：０．７０−１．２０（９Ｈ，
ｍ），１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．２
０−１．４５（３４Ｈ，ｍ），１．４５−３．３０（１
９Ｈ，ｍ），３．５０−４．９０（２３Ｈ，ｍ），５．
００−５．１５（２Ｈ，ｍ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５７５（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２７６．５，１７３１．８，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１２５】実施例５ 実施例１ と同様にして、目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）：０．７０−１．００（９Ｈ，
ｍ），１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．２
０−１．５０（３４Ｈ，ｍ），１．５０−３．００（１
９Ｈ，ｍ），３．５０−４．９０（２５Ｈ，ｍ），４．
１５（６Ｈ，ｓ），５．０５−５．２０（２Ｈ，ｍ），
６．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０７（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．４３（２Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６６９（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０７．３，１７２９．８，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１２６】実施例６ 実施例１ と同様にして、出発化合物とエチル１−ベンジ
ルオキシカルボニル−３−（１−イミノ−１−メトキシ
メチル）−アゼチジン・塩酸塩から目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７０−１．４０（４
６Ｈ，ｍ），１．４０−２．５０（１５Ｈ，ｍ），２．
５０−４．８０（４１Ｈ，ｍ），５．０６（２Ｈ，
ｓ），６．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９５
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．１７（１Ｈ，ｂｒｓ），７．３６（５Ｈ，
ｓ），７．２５−８．４０（１１Ｈ，ｍ），８．８５
（１Ｈ，ｂｒｓ），９．２９（１Ｈ，ｂｒｓ），９．５
７（１Ｈ，ｂｒｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７４９（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０３．５，１６５２．７ｃｍ-1
【０１２７】実施例７ 実施例１ と同様にして、目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）：０．７０−１．００（９Ｈ，
ｍ），１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），１．２
０−１．４５（３４Ｈ，ｍ），１．４５−３．３５（１
９Ｈ，ｍ），３．３５−５．２０（３５Ｈ，ｍ），６．
８７−７．２８（４Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６７５（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１３．１，１７２４．０，１６６
０．４ｃｍ-1
【０１２８】実施例８ 実施例２ と同様にして、目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），２．７５−５．４０（３
７Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．
８６−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．１５（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．３２（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．６５−９．５７（１４Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１７（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２２．７，１６５４．６ｃｍ-1
【０１２９】実施例９ 実施例２ と同様にして、目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）：０．８８−０．９５（９Ｈ，
ｍ），１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），１．２
０−１．４０（３４Ｈ，ｍ），１．５０−３．００（１
９Ｈ，ｍ），２．７５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），
３．３７（３Ｈ，ｓ），３．６８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．
７Ｈｚ），３．６０−４．９０（２３Ｈ，ｍ），５．０
０−５．２５（２Ｈ，ｍ），６．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１８（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：１７３３．７，１６５４．６ｃｍ-1
【０１３０】実施例１０ 実施例２ と同様にして、出発化合物とエチル２−（アセ
チルアミノ）アセトイミダート・塩酸塩から目的化合物
を得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）：０．７０−１．００（９Ｈ，
ｍ），１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），１．２
０−１．４３（３４Ｈ，ｍ），２．１５（３Ｈ，ｓ），
１．５０−３．３０（１９Ｈ，ｍ），３．５０−４．９
０（２５Ｈ，ｍ），５．００−５．１５（２Ｈ，ｍ），
６．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１２（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６３１（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０３．５，１６５８．５ｃｍ-1
【０１３１】実施例１１ 実施例２ と同様にして、目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １８１４（Ｍ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２０．８，３３０１．５，１６５
４．６，1５３５．１ｃｍ-1
【０１３２】実施例１２ 実施例１３ と同様にして、出発化合物とジフェニルメチ
ル＝ブロモアセテートから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ）：０．７０−１．０５（９Ｈ，
ｍ），１．０５−１．４２（３７Ｈ，ｍ），１．０５−
３．００（１９Ｈ，ｍ），３．４０−５．２０（２７
Ｈ，ｍ），６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），
６．９２（１Ｈ，ｓ），７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
３Ｈｚ），７．２９−７．３５（１０Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７５７（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１８．９，１７３７．５，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１３３】実施例１３および実施例１４ 出発化合物（２００ｍｇ）のジメチルホルムアミド（２
ｍｌ）溶液をアリルブロミド（１７ｍｇ）とジイソプロ
ピルエチルアミン（３９．５ｍｇ）で処理し、７時間撹
拌した後、再びアリルブロミド（１７ｍｇ）とジイソプ
ロピルエチルアミン（３９．５ｍｇ）で処理し、合計９
６時間室温で撹拌する。酢酸エチルを加え、生じた沈殿
物を集め、乾燥し、水に溶解し，ＯＤＳカラムクロマト
ブラフィーに付する。得られた２つの画分をそれぞれ集
め、濃縮し、ｐＨ３に調整し、アンバーリストＡ−２６
（Ｃｌ-型）イオン交換樹脂のカラムを通し、凍結乾燥
し、実施例１３の目的化合物（７７．８ｍｇ）および実
施例１４の目的化合物（３３．４ｍｇ）を白色の無定形
粉末として得る。実施例１３ の目的化合物の物性 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１３（Ｍ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０９．２，１７３３．７，１６５
６．６ｃｍ-1 実施例１４ の目的化合物の物性 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６５４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２０．８，１７３１．８，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１３４】実施例１５ 出発化合物（３００ｍｇ）のジメチルホルムアミド（３
ｍｌ）溶液を炭酸カリウム（５２．８ｍｇ）で処理し、
次いでメチルヨージド（５９．５μｌ）で処理する。混
合物を２時間撹拌し、再びメチルヨージド（３５．７μ
ｌ）で処理する。全体で４時間反応させた後、混合物に
酢酸エチル（２５ｍｌ）を加え、生じた沈殿物を集め、
乾燥する。得られた固形物を水に溶解し、ｐＨ２．８に
調整し、ＯＤＳクロマトグラフィーに付し、３０〜３５
％−アセトニトリル−水の混合溶液で溶出する。得られ
た画分を濃縮し、ｐＨ２．８に調整し、アンバーリスト
Ａ−２６（Ｃｌ-型）イオン交換樹脂の短いカラムを通
し、得られた溶出液を凍結乾燥し、目的化合物（２４
３．３ｍｇ）を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．４０（４
６Ｈ，ｍ），１．４０−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５８−２．８０（１Ｈ，ｍ），２．８０−３．１０（３
Ｈ，ｍ），３．０２（９Ｈ，ｓ），３．５０−４．０５
（１１Ｈ，ｍ），４．１０−４．５０（１１Ｈ，ｍ），
４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．６５−５．４０
（８Ｈ，ｍ），６．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），
６．９０−７．０３（１Ｈ，ｂｒ），６．９５（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４），７．１４（１Ｈ，ｓ），７．４３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５），７．７０−８．３８（９
Ｈ，ｍ），９．１５（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：１５７５（Ｍ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３４４，１７３５．６，１６５４．
６ｃｍ-1
【０１３５】実施例１６ 実施例１３ と同様にして、出発化合物と２−ヨードエタ
ノールから目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：１６２１（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０３．５，１７２７．９，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１３６】実施例１７ 実施例１３ と同様にして、出発化合物と４−クロロメチ
ルピラゾール・塩酸塩から目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７７４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２７０，１７３１．８，１６５４．
６ｃｍ-1
【０１３７】実施例１８ 実施例１３ と同様にして、出発化合物とｔ−ブチル＝ブ
ロモアセテートから目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７６１（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２０．８，１７３５．６，１６４
８．８ｃｍ-1
【０１３８】実施例１９ 出発化合物（３００ｍｇ）と３−アセトアミノ−４−チ
アゾールカルバルデヒド（３９ｍｇ）のメタノール（６
ｍｌ）溶液をトリエチルアミン（２９．３ｍｌ）で処理
し、１９時間室温で撹拌する。溶液を２時間水素化ホウ
素ナトリウム（３６ｍｇ）で処理する。溶媒を留去し、
残渣を水に溶解し、ｐＨ２．８に調整し、ＯＤＳカラム
クロマトグラフィーに付し、アセトニトリル−水の混合
溶液で溶出する。生成物を含む画分を集め、有機溶媒を
留去し、ｐＨ２．８に調整し、アンバーリストＡ−２６
（Ｃｌ-型）イオン交換樹脂のカラムを通し、水で洗浄
し、得られた溶出液を凍結乾燥して、目的化合物を白色
粉末（２６４ｍｇ）として得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７８−１．３８（４
６Ｈ，ｍ），１．３８−３．３０（２１Ｈ，ｍ），２．
１６（３Ｈ，ｓ），３．３０−５．３０（３２Ｈ，
ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．８
８−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．３０（１Ｈ，ｓ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．０Ｈｚ），７．７０−９．２０（１２Ｈ，ｍ），
１２．１０（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６８７（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３００，１７３３．７，１６５４．
６ｃｍ-1
【０１３９】実施例２０ 出発化合物（２００ｍｇ）と３５％−ホルムアルデヒド
水溶液（６６μｌ）を含むメタノール（４ｍｌ）溶液を
酢酸（２２μｌ）で処理し、次いでナトリウムシアノボ
ロハイドライド（１９．３ｍｇ）で処理する。室温で２
４時間撹拌し、溶媒を減圧下で留去する。残渣を水（２
００ｍｌ）に溶解し、ＯＤＳクロマトグラフィーに付
し、３５％−アセトニトリル−水の混合溶液で溶出す
る。生成物を含む画分を集め、溶媒を留去し、ｐＨ２．
９に調整し、アンバーリストＡ−２６（Ｃｌ-型）イオ
ン交換樹脂の短いカラムを通し、得られた溶出液を凍結
乾燥し、目的化合物（１０８．５ｍｇ）を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５ −２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１
Ｈ，ｍ），２．７２（６Ｈ，ｓ），２．７６−３．１２
（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５（１１Ｈ，ｍ），
４．１０−４．４５（１１Ｈ，ｍ），４．４５−４．６
５（２Ｈ，ｍ），４．７７−５．３５（８Ｈ，ｍ），
６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９５（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４），６．９０−７．００（１Ｈ，ｂ
ｒ），７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．３），７．７３−８．３４（９Ｈ，ｍ），
９．１４（１Ｈ，ｓ），９．６７（１Ｈ，ｂｒ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５６１（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３７１．０，１７３５．６，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１４０】実施例２１ 実施例１９ と同様にして、出発化合物と１−メチル−４
−ピラゾールカルバルデヒドから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３８（４
６Ｈ，ｍ），１．３８−３．１０（２１Ｈ，ｍ），３．
１０−５．３０（３２Ｈ，ｍ），３．８４（３Ｈ，
ｓ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８
８−７．０３（３Ｈ，ｍ），７．１６（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．５
２（１Ｈ，ｓ），７．７９（１Ｈ，ｓ），７．７４−
９．３５（１２Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６２７（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９９．６，１７２９．８，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１４１】実施例２２ 出発化合物（２００ｍｇ）のジメチルホルムアミド（２
ｍｌ）溶液をジイソプロピルエチルアミン（４９μｌ）
で処理し、５分後、３−ピリジンスルフォニルクロリド
・塩酸塩（３０ｍｇ）で処理する。溶液を１時間、室温
で撹拌し、ジイソプロピルエチルアミン（５０μｌ）と
スルフォニルクロリド（１５ｍｇ）で処理する。１時間
後、酢酸エチル（１０ｍｌ）を加え、生じた沈殿物を集
め、乾燥する。粗生成物を水（６０ｍｌ）で溶解し、ｐ
Ｈ３．５に調整し、ＯＤＳカラムクロマトグラフィーに
付し、５０％−アセトニトリル−水の混合溶液で溶出す
る。生成物を含む画分を集め、溶媒を除いて濃縮し、ｐ
Ｈ４．０に調整し、アンバーリストＡ−２６（Ｃｌ
-型）イオン交換樹脂の短いカラムを通し、得られた溶
出液を凍結乾燥して、目的化合物を白色の無定形固形物
（１４８．２ｍｇ）として得る。 1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７０−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５５−３．１０（４Ｈ，ｍ），３．１０−５．１５（３
２Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．
９０（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
３），７．１２（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
１，４．９），７．７０−８．３３（１２Ｈ，ｍ），
８．７６−８．８４（１Ｈ，ｍ），８．９２（１Ｈ，
ｓ），９．１０（１Ｈ，ｂｒｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６７４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３４０，１７３３．７，１６５８．
５ｃｍ-1
【０１４２】実施例２３ 出発化合物（２００ｍｇ）のジメチルホルムアミド（２
ｍｌ）溶液を４−ジメチルアミノピリジン（１７ｍｇ）
とｎ−プロピルイソシアナート（１３．１μｌ）で処理
する。溶液を１時間、室温で撹拌し、酢酸エチル（８ｍ
ｌ）で処理する。生じた固形物を実施例２５と同様に処
理し（ＯＤＳカラムクロマトグラフィー、４５〜５０％
−アセトニトリル−水の混合溶液で溶出）、生成物を含
む画分を凍結乾燥し、目的化合物を白色の無定形固形物
として得る。 1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７２−１．７２（５
７Ｈ，ｍ），１．７２−２．５５（９Ｈ，ｍ），２．５
５−２．７５（１Ｈ，ｍ），２．８０−３．０２（５
Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５（９Ｈ，ｍ），４．０５
−４．４８（１３Ｈ，ｍ），４．４８−４．６５（２
Ｈ，ｍ），４．７０−４．８５（３Ｈ，ｍ），４．９８
−５．２２（５Ｈ，ｍ），５．６８−５．８０（２Ｈ，
ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．８９
（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
３），７．１３（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０），７．７０−８．３３（９Ｈ，ｍ），
９．１０（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１８（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３４５．９，１７２９．８，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１４３】実施例２４ 出発化合物（１．００ｇ）、琥珀酸無水物（７６．６ｍ
ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン（１０１．２５ｍ
ｇ）のジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液を１８時
間、室温で撹拌し、酢酸エチル（〜２００ｍｌ）で処理
する。生じた沈殿物を濾取し、乾燥する。粗固形物を水
（〜２００ｍｌ）に溶解し、ＯＤＳカラムクロマトグラ
フィーに付し、４０〜５０％−アセトニトリル−水の混
合溶液で溶出する。生成物を含む画分を集め、溶媒を留
去し、凍結乾燥し、目的化合物を白色の無定形固形物
（９８０ｍｇ）として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６３３（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０７．３，１７２４．０，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１４４】実施例２５ 出発化合物（３００ｍｇ）と１−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール（２８．４ｍｇ）、酢酸（１２μｌ）、ジイソ
プロピルエチルアミン（３６．６μｌ）のジメチルホル
ムアミド（３ｍｌ）溶液にＮ−エチル−Ｎ’−３−ジメ
チルアミノプロピルカルボジイミド・塩酸塩（５４．９
ｍｇ）を加え、溶液を室温で４時間撹拌する。溶液に酢
酸エチル（２５ｍｌ）を加え、生じた沈殿物を集め、酢
酸エチルで洗浄し、乾燥する。粗白色粉末をＯＤＳカラ
ムクロマトグラフィーに付し、水−アセトニトリルの混
合溶液（９：１から１：１）で溶出する。生成物を含む
画分を集め、有機溶媒を除いて濃縮し、凍結乾燥し、目
的化合物を無定形粉末（２８８．３ｍｇ）として得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３２（４
６Ｈ，ｍ），１．３２−２．５５（１５Ｈ，ｍ），１．
７７（３Ｈ，ｓ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．９０−３．１０（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５
（１１Ｈ，ｍ），４．０５−４．５０（１１Ｈ，ｍ），
４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．８５
（３Ｈ，ｍ），４．９７−５．２０（５Ｈ，ｍ），６．
６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．８９（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．１２
（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０），
７．７０−８．３５（１０Ｈ，ｍ），９．１０（１Ｈ，
ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５７５（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１７．０，１７３５．６，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１４５】実施例２６ 実施例２５ と同様にして、出発化合物をＮ，Ｎ−ジメチ
ルグリシン・塩酸塩でアシル化することによって目的化
合物を得る。精製については、実施例５６と同様にし
て、凍結乾燥の前にイオン交換樹脂での処理工程を挿入
する。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），２．７９（６Ｈ，ｓ），
２．８８−３．２０（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５
（１１Ｈ，ｍ），４．１０−４．５０（１３Ｈ，ｍ），
４．５０−４．６３（２Ｈ，ｍ），４．７８−４．９５
（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．４０（５Ｈ，ｍ），６．
６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．８７−７．０２
（１Ｈ，ｂｒ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），
７．１６（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７．５），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．８
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．３），８．０５−８．４０（６Ｈ，ｍ），８．４
５−８．６０（１Ｈ，ｍ），９．１７（１Ｈ，ｓ），
９．７１（１Ｈ，ｂｒ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１８（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１８．９，１７３３．７，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１４６】実施例２７ 最終段階でのアンバーリストＡ−２６での処理工程を除
き、実施例２２と同様にして、出発化合物とジメチルス
ルファモイルクロリドから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），２．６４（６Ｈ，ｓ），
２．７５−３．０７（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５
（１１Ｈ，ｍ），４．１０−４．５０（１１Ｈ，ｍ），
４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．９５
（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．２０（５Ｈ，ｍ），６．
６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．８９（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．００−
７．１８（２Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４），７．７０−８．３４（９Ｈ，ｍ），９．０９（１
Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４０（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１７．０，１７３５．６，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１４７】実施例２８ 最終段階でのアンバーリストＡ−２６での処理工程を除
き、実施例２２と同様にして、出発化合物とベンジルオ
キシカルボニルクロリドから目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６９０（Ｍ＋Ｎａ）+，１６
６８（ＭＨ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１８．９，１７３１．８，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１４８】実施例２９ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とグリコール酸か
ら目的化合物を得る。1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：
０．７５−１．３５（４６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５
５（１５Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．９０−３．１５（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５
（１１Ｈ，ｍ），４．０５−４．５０（１３Ｈ，ｍ），
４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．８５
（３Ｈ，ｍ），４．９７−５．２０（５Ｈ，ｍ），５．
４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８），６．６０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．４），６．９０（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９４
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．１２（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．６０−
８．３３（１０Ｈ，ｍ），９．１０（１Ｈ，ｓ）ＦＡＢ
−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５９１（ＭＨ+）ＩＲ（ＫＢｒ）：
３３１３．１，１７３３．７，１６５４．６ｃｍ-1
【０１４９】実施例３０ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−ｔ−ブトキ
シカルボニルグリシンから目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５９０（ＭＨ+−ＢｕtＯ
2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２４．７，１６５８．５ｃｍ-1
【０１５０】実施例３１ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−ｔ−ブトキ
シカルボニル−β−アラニンから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
２Ｈ，ｍ），１．３７（９Ｈ，ｓ），１．７３−２．５
５（１１Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．８５−３．２０（５Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０
（２２Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），
４．７５−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．９０−５．２８
（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），
６．６７−６．７８（１Ｈ，ｍ），６．９４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．３），６．８７−７．００（１Ｈ，ｂ
ｒ），７．１５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．９），７．７０−８．３５（１０Ｈ，
ｍ），９．１４（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６０４（Ｍ+−ＢｕtＯＣＯ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２４．７，１７３０，１６５４．
６ｃｍ-1
【０１５１】実施例３２ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と４−Ｎ−ｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ酪酸から目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１９（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１３．１，１７３３．７，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１５２】実施例３３ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と５−ｔ−ブトキ
シルオキシアミノ吉草酸から目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
６Ｈ，ｍ），１．３７（９Ｈ，ｓ），１．７３−２．５
５（１１Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．８０−３．１０（５Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０
（２２Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），
４．７３−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．９０−５．２５
（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），
６．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５），６．９４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４），６．８７−７．００（１Ｈ，ｂ
ｒ），７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２），７．６５−８．３５（１０Ｈ，
ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６３２（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１５．０，１７２９．８，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１５３】実施例３４ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と６−ｔ−ブトキ
シカルボニルアミノヘキサン酸から目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
８Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），１．７３−２．５
５（１１Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．８０−３．１０（５Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０
（２２Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），
４．７３−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．９０−５．２５
（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），
６．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５），６．９４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４），６．８７−６．９８（１Ｈ，ｂ
ｒ），７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．３），７．６５−８．３５（１０Ｈ，
ｍ），９．１３（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４６（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１１．２，１７２９．８，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１５４】実施例３５ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−ｔ−ブトキ
シカルボニルサルコシンから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
２Ｈ，ｍ），１．３９および１．４８（９Ｈ，ｓ），
１．７５−２．５５（９Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５
（１Ｈ，ｍ），２．７８（３Ｈ，ｂｒｓ），２．８５−
３．１５（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．１０（１１Ｈ，
ｍ），４．１０−４．５０（１３Ｈ，ｍ），４．５０−
４．６７（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．８７（３Ｈ，
ｍ），４．９８−５．２５（５Ｈ，ｍ），６．６０（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９０（１Ｈ，ｂｒｓ），
６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．１２（１Ｈ，
ｂｒｓ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１），７．７
０−８．３５（１０Ｈ，ｍ），９．１０（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６０４（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３３０．５，１７３５．６，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１５５】実施例３６ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とｔ−ブトキシカ
ルボニル−Ｌ−セリンから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
２Ｈ，ｍ），１．３８（９Ｈ，ｓ），１．７５−２．５
５（９Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．８５−３．１２（３Ｈ，ｍ），３．４０−４．５０
（２５Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），
４．７３−４．９０（４Ｈ，ｍ），４．９６−５．２６
（５Ｈ，ｍ），６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），
６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４），６．８５−７．００（１Ｈ，ｂ
ｒ），７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．４），７．７０−８．４０（１０Ｈ，
ｍ），９．１３（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６２０（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２４．７，１７３０，１６５６．
６ｃｍ-1
【０１５６】実施例３７ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と（Ｓ）−１−
（ｔ−ブトキシカルボニル）−２−アゼチジンカルボン
酸から目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
２Ｈ，ｍ），１．３４（９Ｈ，ｓ），１．７３−２．５
５（１１Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．８０−３．１８（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０
（２５Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），
４．７０−４．９２（３Ｈ，ｍ），４．９７−５．２５
（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），
６．９０（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４），７．１２（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５），７．７０−８．３５（１０Ｈ，
ｍ），９．１０（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１６（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１３．１，１７３３．７，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１５７】実施例３８ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と１−ｔ−ブトキ
シカルボニル−３−アゼチジンカルボン酸から目的化合
物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７２−１．７２（５
２Ｈ，ｍ），１．３７（９Ｈ，ｓ），１．７２−２．５
５（９Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．８０−３．３０（４Ｈ，ｍ），３．５０−４．０５
（１３Ｈ，ｍ），４．０５−４．４８（１３Ｈ，ｍ），
４．４８−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．８５
（３Ｈ，ｍ），４．９８−５．２２（５Ｈ，ｍ），６．
６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９０（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．１２
（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
０），７．７０−８．３３（１０Ｈ，ｍ），９．１０
（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１６（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２７，１７３３．７，１６５４．
６ｃｍ-1
【０１５８】実施例３９ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と（Ｒ）−１−ｔ
−ブトキシカルボニル−３−ピペリジンカルボン酸から
目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
５Ｈ，ｍ），１．４０（９Ｈ，ｓ），１．７５−２．５
５（１１Ｈ，ｍ），２．５５−３．１３（６Ｈ，ｍ），
３．５５−４．５０（２４Ｈ，ｍ），４．５０−４．６
５（２Ｈ，ｍ），４．７３−４．９３（３Ｈ，ｍ），
４．９８−５．２５（５Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．３），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
３），６．８８−７．００（１Ｈ，ｂｒｓ），７．１６
（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
０），７．７３−８．４０（１０Ｈ，ｍ），９．１４
（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４４（Ｍ+−ＢＯＣ＋２
Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１７．０，１７３５．６，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１５９】実施例４０ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と１−ｔ−ブトキ
シカルボニル−４−ピペリジンカルボン酸から目的化合
物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
６Ｈ，ｍ），１．３９（９Ｈ，ｓ），１．７５−２．５
５（１０Ｈ，ｍ），２．５５−３．１０（６Ｈ，ｍ），
３．５５−４．５０（２４Ｈ，ｍ），４．５０−４．６
５（２Ｈ，ｍ），４．７３−４．９５（３Ｈ，ｍ），
４．９５−５．２８（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４），６．９０−７．００（１Ｈ，ｂｒ），７．１５
（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．
０），７．７０−８．４０（１０Ｈ，ｍ），９．１４
（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４４（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３３０．５，１７３３．７，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１６０】実施例４１ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とｔ−ブトキシカ
ルボニル−Ｌ−アラニンから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
２Ｈ，ｍ），１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３），１．
３７（９Ｈ，ｓ），１．７５−２．５５（９Ｈ，ｍ），
２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），２．８０−３．２０
（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５（１２Ｈ，ｍ），
４．０５−４．５０（１１Ｈ，ｍ），４．５０−４．６
７（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．９５（３Ｈ，ｍ），
４．９５−５．２８（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．３），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
８），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．９０−
７．００（１Ｈ，ｂｒ），７．１５（１Ｈ，ｂｒｓ），
７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４），７．７０−８．４
０（１０Ｈ，ｍ），９．１４（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６０４（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ＋
２Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１７．０，１７３２．１６５４．
６ｃｍ-1
【０１６１】実施例４２ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とｔ−ブトキシカ
ルボニル−Ｌ−ヒドロキシプロリンから目的化合物を得
る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
２Ｈ，ｍ），１．３１および１．３８（９Ｈ，ｓ），
１．７５−２．５５（１１Ｈ，ｍ），２．５５−２．７
５（１Ｈ，ｍ），２．８５−３．４５（５Ｈ，ｍ），
３．５５−４．０２（１１Ｈ，ｍ），４．０２−４．５
０（１３Ｈ，ｍ），４．５０−４．６７（２Ｈ，ｍ），
４．７０−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．９５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝３．４），４．９８−５．２５（５Ｈ，ｍ）
６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９０（１Ｈ，
ｂｒｓ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．１
２（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４），７．７０−８．３５（１０Ｈ，ｍ），９．１０
（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４６（Ｍ−ＢｕtＯ2Ｃ＋２
Ｈ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１１．２，１７３５．６，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１６２】実施例４３ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ2，Ｎ5−ジ−
ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−オルニチンから目的化合
物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
６Ｈ，ｍ），１．３７（１８Ｈ，ｍ），１．７５−２．
７５（ｍ），２．７５−３．１５（５Ｈ，ｍ），３．５
５−４．０５（１２Ｈ，ｍ），４．０５−４．５０（１
１Ｈ，ｍ），４．５０−４．６７（２Ｈ，ｍ），４．７
０−４．９５（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．３０（５
Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．６
３−７．００（５Ｈ，ｍ），７．１３（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０），７．７０−
８．４０（１０Ｈ，ｍ），９．１１（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １８６９（Ｍ+＋Ｎａ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２９，１７３３，１６５６．６ｃ
ｍ-1
【０１６３】実施例４４ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と４−オクチルオ
キシ安息香酸ベンゾトリアゾール−１−イル−エステル
から目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７６５（ＭＨ+−ＢｕtＯ
2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２８２．３、１７３３．７、１６５
２．７ｃｍ-1
【０１６４】実施例４５ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−スクシンイ
ミド−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−チロシンエステル
から目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６９６（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３４４．０，１６５８．５ｃｍ-1
【０１６５】実施例４６ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と 1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
２Ｈ，ｍ），１．３３（９Ｈ，ｓ），１．５５（９Ｈ，
ｓ），１．７３−３．２０（１５Ｈ，ｍ），３．５７−
４．５０（２３Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，
ｍ），４．７２−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．９８−
５．２３（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），
６．８３−６．９８（３Ｈ，ｍ），６．９６（１Ｈ，
ｓ），７．１４（１Ｈ，ｓ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ），７．７０−８．４０（１０Ｈ，ｍ），
８．０９（１Ｈ，ｓ），９．１２（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７７１（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０９．２，１７５６．８，１７３
７．５，１６５４．６ｃｍ-1
【０１６６】実施例４７ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−ｔ−ブトキ
シカルボニル−Ｌ−グルタミン酸−α−ｔ−ブチルエス
テルから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
４Ｈ，ｍ），１．３８（９Ｈ，ｓ），１．３９（９Ｈ，
ｓ），１．７３−３．１０（１５Ｈ，ｍ），３．５０−
４．４７（２３Ｈ，ｍ），４．４７−４．６４（２Ｈ，
ｍ），４．７３−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．９０−
５．２８（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ），６．８７−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．０５
−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８
Ｈｚ），７．７０−８．４０（１０Ｈ，ｍ），９．１２
（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７１９（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０５．４，１７２９．８，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１６７】実施例４８ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−ｔ−ブトキ
シカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸−α−ベンジルエス
テルから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
２Ｈ，ｍ），１．７３−３．１０（１５Ｈ，ｍ），３．
５５−４．５０（２３Ｈ，ｍ），４．５０−４．６３
（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．８８（３Ｈ，ｍ），４．
９３−５．２２（５Ｈ，ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），
６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．８３−７．０
０（３Ｈ，ｍ），７．０８−７．２０（２Ｈ，ｍ），
７．３０−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．４０−７．５５
（１Ｈ，ｍ），７．７０−８．３８（１０Ｈ，ｍ），
９．１２（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７３９（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１１．２，１７３５．６，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１６８】実施例４９ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と（１Ｒ，２Ｓ）
−２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノシクロペンタン−
１−カルボン酸から目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４５（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０９．２，１７３３，１６５２．
７ｃｍ-1
【０１６９】実施例５０ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と３−［（４−ｔ
−ブトキシカルボニルピペラジン−１−イル）カルボニ
ル］プロピオン酸から目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７０１（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３３６．２，１７３１．８，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１７０】実施例５１ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と３−（ｔ−ブト
キシカルボニルアミノメチル）安息香酸から目的化合物
を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
２Ｈ，ｍ），１．３９（９Ｈ，ｓ），１．７３−３．５
０（１３Ｈ，ｍ），３．５０−４．５２（２４Ｈ，
ｍ），４．５２−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７０−
４．９５（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．３０（５Ｈ，
ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８
５−７．００（３Ｈ，ｍ），７．１３（１Ｈ，ｓ），
７．３０−８．４７（１６Ｈ，ｍ），９．１１（１Ｈ，
ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７８９（Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２２．７，１７３５，１６５２．
７ｃｍ-1
【０１７１】実施例５２ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−ｔ−ブトキ
シカルボニルグリシンから目的化合物を得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
２Ｈ，ｍ）１．３８（９Ｈ，ｓ），１．７３−４．５０
（３９Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），
４．７３−４．９５（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．２７
（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ），６．８４−８．５０（２１Ｈ，ｍ）９．１１（１
Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７２４（Ｍ+−ＢｕtＯ2Ｃ） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２２．７，１７３３，１６５２．
７ｃｍ-1
【０１７２】実施例５３ 実施例２５ と同様にして、出発化合物とＮ−ベンジルオ
キシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸−α−ベンジルエ
ステルから目的化合物を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １８７２（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２０．８，１７２７．９，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１７３】実施例５４ 出発化合物（８４５ｍｇ）のメタノール（１０ｍｌ）溶
液を湿った１０％−パラジウム−炭素（５０ｍｇ）で処
理し、溶液を大気圧下で５時間、水素ガス雰囲気中にお
く。触媒を濾去し、濾液から溶媒を留去し、水（１０ｍ
ｌ）に溶解し、凍結乾燥して、目的化合物を白色の無定
形固形物（７８０ｍｇ）として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７７１（Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２２．７，１７２４．０，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１７４】実施例５５ 出発化合物（２２０ｍｇ）のメタノール（１５ｍｌ）溶
液を湿った１０％−パラジウム炭素（５０ｍｇ）で処理
し、溶液を水素ガス雰囲気中大気圧下で６時間反応させ
る。触媒を濾過し、溶媒を除去して乾固し、水（１５ｍ
ｌ）に溶解し、ｐＨ２．５に調整し、凍結乾燥し、目的
化合物を白色粉末（１９６ｍｇ）として得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７０−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．４０−２．５０（１５Ｈ，ｍ），２．
５０−３．４０（４Ｈ，ｍ），３．５０−４．６０（２
９Ｈ，ｍ），４．７０−５．４５（８Ｈ，ｍ），６．６
２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９３−６．９８
（３Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４９−
９．８０（１６Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１５（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９０．０，１７２９．８，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１７５】実施例５６ 出発化合物（４２０ｍｇ）のトリフルオロ酢酸（８ｍ
ｌ）溶液を、室温で、２．５時間放置し、減圧下で溶媒
を留去して乾固する。残渣に酢酸エチル（１０ｍｌ）を
加え、溶液をさらに５回乾固を繰り返し、生じた白色粉
末（トリフルオロ酢酸塩）を１時間、真空下で乾燥す
る。この塩を水に溶解し、０．１Ｎ塩酸（〜５ｍｌ）で
処理し、アンバーリストＡ−２６（Ｃｌ-型）イオン交
換樹脂の短いカラムを通し、水で溶出し、溶出液を凍結
乾燥して、目的化合物を白色の無定形固形物（４００ｍ
ｇ）として得る。もしくは、イオン交換樹脂での処理工
程の前に、ＯＤＳカラムクロマトグラフィー（アセトニ
トリル−水の混合溶液で溶出する）に付することによ
り、目的化合物を得る（高速液体クロマトグラフィ
ー）。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５９０（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９７．７，１７３５．６，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１７６】実施例５７ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １５９１（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９１．９，１７３７．５，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１７７】実施例５８ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３６（４
６Ｈ，ｍ），１．３６−２．５５（１７Ｈ，ｍ），２．
５５−２．７８（１Ｈ，ｍ），２．９０−３．１６（５
Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０（２２Ｈ，ｍ），４．５
０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．８０−５．３０（８
Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９
５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９０−７．００（１
Ｈ，ｂｒ），７．１６（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７），７．７０−８．４０（１３Ｈ，
ｍ），９．１６（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６０４（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０１．５，１７３３．７，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１７８】実施例５９ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１８（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２８８．０，１７３５．６，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１７９】実施例６０ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
６Ｈ，ｍ），１．７３−２．５５（１１Ｈ，ｍ），２．
５５−３．１０（６Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０（２
２Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．８
０−５．３０（８Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．９
０−７．００（１Ｈ，ｂｒ），７．１６（ｂｒｓ），
７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３），７．６５−８．４
５（１３Ｈ，ｍ）９．１６（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６３２（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０７．３，１７３３．７，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１８０】実施例６１ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
８Ｈ，ｍ），１．７３−２．５５（１１Ｈ，ｍ），２．
５５−３．１０（６Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０（２
２Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７
８−５．３０（８Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．９
０−７．００（１Ｈ，ｂｒ），７．１５（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５），７．６５−
８．５０（１３Ｈ，ｍ）９．１６（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４６（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９７．７，１７３３．７，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１８１】実施例６２ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７５（５
２Ｈ，ｍ），１．３４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９），１．
７５−２．５５（９Ｈ，ｍ），２．５５−２．７５（１
Ｈ，ｍ），２．８９−３．２５（３Ｈ，ｍ），３．５５
−４．５０（２３Ｈ，ｍ），４．５０−４．６２（２
Ｈ，ｍ），４．６２−５．４０（８Ｈ，ｍ），６．６１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３），６．８５−７．００（１Ｈ，ｂｒ），７．１
３（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４），７．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９），８．００−８．４０（１０Ｈ，ｍ），９．３
１（１Ｈ，ｂｒｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６０４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３２０．８，１７３１．８，１６６
０．４ｃｍ-1
【０１８２】実施例６３ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｓ），２．
５５（３Ｈ，ｓ），２．５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），
２．９０−３．２０（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５
（１１Ｈ，ｍ），４．１０−４．５０（１３Ｈ，ｍ），
４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．９０
（３Ｈ，ｍ），４．９０−５．３０（５Ｈ，ｍ），６．
６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９０−６．９５
（１Ｈ，ｂｒ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），
７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．８
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．１），８．００−８．４５（７Ｈ，ｍ），８．６
５−８．８０（２Ｈ，ｍ），９．２９（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６０４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０３．５，１７３１．８，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１８３】実施例６４ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７０−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５８−２．７８（１Ｈ，ｍ），２．８０−３．２０（４
Ｈ，ｍ），３．２０−５．１５（３６Ｈ，ｍ），６．６
１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．８５−７．００（１
Ｈ，ｂｒ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．
１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
０），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５），７．８５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７．２），８．００−８．３５（７Ｈ，ｍ），８．７０
（１Ｈ，ｂｒ），８．９０（１Ｈ，ｂｒ），９．１３
（１Ｈ，ｂｒ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１６（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０５．４，１７３１．８，１６５
６．６ｃｍ-1
【０１８４】実施例６５ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３６（４
６Ｈ，ｍ），１．３６−２．７８（１８Ｈ，ｍ），２．
８０−３．２０（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．５０（２
５Ｈ，ｍ），４．５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７
５−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．９２−５．２７（５
Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．９
０−７．００（１Ｈ，ｂｒ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．３），７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
９），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４），７．９３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５），８．００−８．４３（８
Ｈ，ｍ），８．８８（１Ｈ，ｂｒ），９．２２（１Ｈ，
ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６１６（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０４，１７３３．７，１６５６．
６ｃｍ-1
【０１８５】実施例６６ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−２．５５（１５Ｈ，ｍ），２．
５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），２．９０−３．１８（３
Ｈ，ｍ），３．５０−４．５０（２５Ｈ，ｍ），４．５
０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７８−４．９０（３
Ｈ，ｍ），４．９０−５．２７（５Ｈ，ｍ），５．４６
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９
０−７．００（１Ｈ，ｂｒｓ），７．１６（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０），７．７８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．２），７．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５），８．０
０−８．４５（１０Ｈ，ｍ），９．１６（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６２０（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０７．３，１７２９．８，１６６
０．４ｃｍ-1
【０１８６】実施例６７ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３６（４
６Ｈ，ｍ），１．３６−３．２０（２１Ｈ，ｍ），３．
５０−５．４０（３３Ｈ，ｍ），６．６２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．８８−７．０７（３Ｈ，ｍ），
７．１５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．０Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．９
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．０５−８．６５
（１２Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６５０（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９７．７，１７３７．５，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１８７】実施例６８ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
４Ｈ，ｍ），１．７３−３．２０（１５Ｈ，ｍ），３．
５０−５．３０（３３Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．８６−７．０２（３Ｈ，ｍ），
７．１０−８．６０（１７Ｈ，ｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６６２（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０５．４，１７３７．５，１６５
４．６ｃｍ-1
【０１８８】実施例６９ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４５（Ｍ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９７．７，１７３３．７，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１８９】実施例７０ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７０１（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２８６．１，１７２９．８，１６５
０．８ｃｍ-1
【０１９０】実施例７１ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３７（４
６Ｈ，ｍ），１．３７−３．５０（１９Ｈ，ｍ），３．
５０−４．５０（２４Ｈ，ｍ），４．５０−４．６３
（２Ｈ，ｍ），４．７７−４．９０（３Ｈ，ｍ），４．
９０−５．３０（５Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ），６．８８−７．０２（３Ｈ，ｍ），
７．１６（１Ｈ，ｓ），７．４０−８．５８（１８Ｈ，
ｍ），９．１５（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６６６（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１５．０，１７３３．７，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１９１】実施例７２ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３６（４
６Ｈ，ｍ），１．３６−５．１５（５５Ｈ，ｍ），６．
６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．８３−６．９
９（３Ｈ，ｍ），７．１５（１Ｈ，ｓ），７．３０−
８．５３（１８Ｈ，ｍ），８．９１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７２４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１１．２，１７２７．９，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１９２】実施例７３ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．７３（５
２Ｈ，ｍ），１．７３−５．５０（４８Ｈ，ｍ），６．
６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），６．８７−７．１
０（３Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｓ），７．３７−
７．５７（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．９
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０３−８．７０
（１０Ｈ，ｍ），９．００（１Ｈ，ｓ），９．１７（１
Ｈ，ｓ），１４．００−１４．７０（２Ｈ，ｂｒｍ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １７０８（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２８６．１，１７３１．８，１６６
０．４ｃｍ-1
【０１９３】実施例７４ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７０−１．３６（４
６Ｈ，ｍ），１．３６−２．５５（１９Ｈ，ｍ），２．
５５−３．２０（６Ｈ，ｍ），３．５５−４．０５（１
２Ｈ，ｍ），４．１０−４．６５（１３Ｈ，ｍ），４．
７６−４．９５（３Ｈ，ｍ），４．９５−５．４０（５
Ｈ，ｍ），６．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），６．９
５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），６．９０−７．０５（１
Ｈ，ｂｒ），７．１７（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４），７．７０−８．７０（１６Ｈ，
ｍ），９．１８（１Ｈ，ｂｒｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４７（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１８．９，１７３１．８，１６５
８．５ｃｍ-1
【０１９４】実施例７５ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３６（４
６Ｈ，ｍ），１．３６−２．５５（１７Ｈ，ｍ），２．
５５−２．７５（１Ｈ，ｍ），２．８５−４．０５（１
６Ｈ，ｍ），４．０５−４．５０（１３Ｈ，ｍ），４．
５０−４．６５（２Ｈ，ｍ），４．６５−５．６０（９
Ｈ，ｍ），６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９
５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．８５−７．００（１
Ｈ，ｂｒ），７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
０），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５），７．９４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１），８．００−８．７５（８
Ｈ，ｍ），９．１３（１Ｈ，ｂｒｓ），９．７１（１
Ｈ，ｂｒ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４６（Ｍ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０４．１７３５．６，１６５４．
６ｃｍ-1
【０１９５】実施例７６ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−３．４５（２８Ｈ，ｍ），３．
５５−４．５０（２２Ｈ，ｍ），４．５０−４．６３
（２Ｈ，ｍ），４．６３−５．３５（８Ｈ，ｍ），６．
６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），６．９４（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．４），６．８８−６．９８（１Ｈ，ｂｒ），
７．１４（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．２），７．６５−８．８０（１２Ｈ，ｍ），９．１
４（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１７．０，１７３５．６，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１９６】実施例７７ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。1 ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：０．７５−１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５−３．４５（２８Ｈ，ｍ），３．
５０−４．４８（２２Ｈ，ｍ），４．４８−４．６２
（２Ｈ，ｍ），４．６２−５．２８（８Ｈ，ｍ），６．
６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），６．９５（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．３），６．８７−７．００（１Ｈ，ｂｒｓ），
７．２６（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．８
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３），７．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７．６），８．００−８．８０（９Ｈ，ｍ），９．１
５（１Ｈ，ｓ） ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４４（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９７．７，１７３３．７，１６５
２．７ｃｍ-1
【０１９７】実施例７８ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４９（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：１７３５．６，１６５４．６ｃｍ-1
【０１９８】実施例７９ 実施例５６ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６９６（ＭＨ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３０１．５，１６６０．４ｃｍ-1
【０１９９】実施例８０ 実施例５４ と同様にして、出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４９（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）：３３６７．１，１７２９．８，１６５
８．５ｃｍ-1
【０２００】実施例８１ 実施例２５ と同様にして、出発化合物と実施例２４の目
的化合物から目的化合物を得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３３０．５，１７３１．８，１６５
４．６ｃｍ-1
【０２０１】製造例５ Ｎ−［（Ｒ）−２−フェニルエチル］−Ｎ−ベンジルア
ミン（３．４３ｇ）のテトラヒドロフラン(１５０ｍｌ)
中溶液に氷冷却下でヘキサン(１０．６６ｍｌ)中１．６
２Ｎｎ−ブチルリチウムを加える。１５分後、その混合
物を−７８℃まで冷却し、その冷却溶液にテトラヒドロ
フラン(３５ｍｌ)中の出発化合物（２．５ｇ）を加え
る。同温度下で１時間攪拌し、飽和塩化アンモニウム水
溶液(２５ｍｌ)を加える。得られた混合物を、エチルア
セテート(１００ｍｌ)で抽出し、分離した有機層を食塩
水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で
濃縮する。残渣はシリカゲル(１５０ｇ)を用いたクロマ
トグラフィーで精製する。得られた化合物を、ｎ−ヘキ
サン−エチルアセテート(４０−１)の混合物で溶出し、
目的化合物(１．７０ｇ)をガラス質の固形物として得
る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）；０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６ＨZ），１．１〜１．５（９Ｈ，ｍ），１．６１（２
Ｈ，ｍ），２．６〜２．８（２Ｈ，ｍ），３．４８（３
Ｈ，ｓ），３．７〜３．９（２Ｈ，ｍ），３．９５〜
４．２（１Ｈ，ｍ），４．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈ
Z，６ＨZ），７．１〜７．７（１８Ｈ，ｍ）
【０２０２】製造例６ 出発化合物(１．７０ｇ)および２０％水酸化パラジウム
−炭素（１７０ｍｇ）のエチルアセテート(２０ｍｌ)、
メタノール(２０ｍｌ)、酢酸(０．２ｍｌ)中懸濁液を、
常温で６時間水素化する(１ａｔｍ)。触媒を取り除いた
後、得られた溶液を減圧下で濃縮する。残渣をジオキサ
ン(１５ｍｌ)と水(１０ｍｌ)の混合物に溶解する。その
混合物にベンジルオキシカルボニルクロリド(０．２２
３ｍｌ)をｐＨ８．５−９．０の範囲で滴下する。得ら
れた混合物を、ｐＨ７．０でエチルアセテートで抽出す
る。分離した有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、真空中で留去し、シリカゲルを用いたカラムク
ロマトグラフィーで精製し、目的化合物(６８０ｍｇ)を
得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．８６（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．１〜１．５（４Ｈ，ｍ），１．
５〜１．７（２Ｈ，ｍ），２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．８ＨZ），２．８〜３．０（２Ｈ，ｍ），３．５７
（３Ｈ，ｓ），４．９５〜５，２０（３Ｈ，ｍ），７．
２〜７．６（１３Ｈ，ｍ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．６ＨZ）
【０２０３】製造例７ 出発化合物(６５０ｍｇ)のエタノール(４．２５ｍｌ)中
溶液に、２Ｎ水酸化カリウム(２．１ｍｌ)を加える。常
温で２．５時間攪拌した後、その混合物を水(４０ｍｌ)
で希釈し、６Ｎ塩酸でｐＨ２．０に酸性化する。得られ
た沈殿物を濾過によって収集し、水で洗浄し、五酸化リ
ンで乾燥し、目的化合物(０．４２ｇ)を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．８７（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．２〜１．５（４Ｈ，ｍ） １．
５〜１．７（２Ｈ，ｍ），２．５〜２．８（４Ｈ，
ｍ），４．９〜５．１（１Ｈ，ｍ），４．９９（２Ｈ，
ｓ） ７．２〜７．６（１３Ｈ，ｍ），８．０２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６ＨZ）
【０２０４】製造例８ 出発化合物(０．３５ｇ)のジクロロメタン(１０ｍｌ)中
懸濁液に、１−エチル−３−(３−ジメチルアミノプロ
ピル)カルボジイミド塩酸塩(０．２３ｇ)と１−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール(０．１２ｇ)を加える。１時間
攪拌した後、その混合物を水(５０ｍｌ)中に注ぎ、ジク
ロロメタンで抽出する。分離した有機層を水で２回洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮する。残
渣をジイソプロピルエーテルで粉砕し、沈殿物を濾過に
よって収集し、目的化合物(３８４ｍｇ)を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．７８（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．２〜１．５（４Ｈ，ｍ），１．
５〜１，８（２Ｈ，ｍ），２．５５〜２．８（２Ｈ，
ｍ），３．４〜３．７（２Ｈ，ｍ），４．９〜５．３
（３Ｈ，ｍ），７．２〜８．４（１８Ｈ，ｍ）
【０２０５】製造例９ 出発化合物Ａ(０．４０ｇ)とモノトリメチルシリルアセ
トアミド(１．１３ｇ)のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
(８ｍｌ)中溶液を、常温で１時間攪拌する。その混合物
に出発化合物Ｂ(０．１９３ｇ)を加える。その反応混合
物を同じ条件下で３時間攪拌する。得られた混合物を減
圧下で濃縮する。残渣をＯＤＳ中圧カラム(ＹＭＣ Ｇ
ＥＬ ＯＤＳ−ＡＭ１２０−Ｓ５０)で精製し、目的化
合物(４００ｍｇ)を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．８７（９Ｈ，
ｍ），０．９５〜１．２（１９Ｈ，ｍ），１．３６（９
Ｈ，ｓ），１．３〜１．４５（２Ｈ，ｍ），１．８〜
２．３（７Ｈ，ｍ），２．６０（４Ｈ，ｍ），２．８〜
３．０（２Ｈ，ｍ），３．３〜４．１（２１Ｈ，ｍ），
４．１〜４．９（１７Ｈ，ｍ），４．９〜５．３（３
Ｈ，ｍ），６．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），
６．７（１Ｈ，ｍ），６．８（１Ｈ，ｂｒ，ｓ），６．
９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ）．７．１（１Ｈ，ｂ
ｒ，ｓ），７．２〜７．４（１４Ｈ，ｍ），７．７〜
８．２５（１１Ｈ，ｍ）
【０２０６】製造例１０ 出発化合物(０．３７ｇ)のメタノール(７０ｍｌ)中溶液
に、１０％Ｐｄ−Ｃ(２７０ｍｇ)を加え、その混合物を
常温で５．５時間水素化する(１ａｔｍ)。触媒を除去し
た後、そのメタノール溶液を真空中で留去し、目的化合
物(３４０ｍｇ)を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．８〜１．２（２９
Ｈ，ｍ），１．３５（９Ｈ，ｓ），１．２〜１．４５
（２Ｈ，ｍ），１．５〜２．４（７Ｈ，ｍ），２．６０
（４Ｈ，ｍ），２．８５（２Ｈ，ｍ），３．２〜５．２
（３８Ｈ，ｍ），６．５〜７．６（１７Ｈ，ｍ），７．
６〜８．４（１０Ｈ，ｍ）
【０２０７】製造例１１ 製造例５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．８６（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．０６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８
ＨZ），１．２５〜１．６０（８Ｈ，ｍ），１．７〜
１．９（２Ｈ，ｍ），２．７〜２．９（２Ｈ，ｍ），
３．４０（３Ｈ，ｓ），３．７０（２Ｈ，ｓ），４．０
〜４．１５（３Ｈ，ｍ），４．３５（１Ｈ，ｍ），７．
１〜７．８（１６Ｈ，ｍ）
【０２０８】製造例１２ 製造例６と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）；２９５２，１７２６，１６９
１，１６０６，１５３１，１１８２，ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ6，δ）；８．７５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），
１．１〜１．５（８Ｈ，ｍ），１．７〜１．９（２Ｈ，
ｍ），２．７〜３．０（２Ｈ，ｍ），３．５５（３Ｈ，
ｓ），４．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８ＨZ），４．９
〜５．２（３Ｈ，ｍ），７．１〜８．１（１２Ｈ，ｍ）
【０２０９】製造例１３ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．８７（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．１〜１．６（８Ｈ，ｍ），１．
７〜１．９（２Ｈ，ｍ），２．７〜２．９（２Ｈ，
ｍ），４．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８ＨZ），４．９
９（２Ｈ，ｓ），４．９５〜５．１５（１Ｈ，ｍ），
７．１〜８．０（１２Ｈ，ｍ），１２．２７（１Ｈ，ｂ
ｒ，ｓ）
【０２１０】製造例１４ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．８７（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．２〜１．６（８Ｈ，ｍ），１．
７〜１．９（２Ｈ，ｍ），２．６〜２．９（２Ｈ，
ｍ），４．０〜４．１（２Ｈ，ｍ），４．９〜５．４
（３Ｈ，ｍ），７．０〜８．４（１６Ｈ，ｍ）
【０２１１】製造例１５ 製造例９と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．７５〜１．０（１
２Ｈ，ｍ），１．０〜１．２（１４Ｈ，ｍ），１．２５
〜１．５（１２Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），１．
６〜２．４（７Ｈ，ｍ），２．６〜３．０（４Ｈ，
ｍ），３．４〜５．２（３８Ｈ，ｍ），６．６２（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），６．７３（１Ｈ，ｍ），
６．８１（１Ｈ，ｂｒ，ｓ），６，９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５ＨZ），７．０〜７．５（８Ｈ，ｍ），７．６
５〜８．２（１６Ｈ，ｍ）
【０２１２】製造例１６ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８〜１．０（１
２Ｈ．ｍ），１．０〜１．２（１４Ｈ，ｍ），１．２〜
１．５（１２Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），１．６
〜２．２（７Ｈ，ｍ），２．６〜３．０（４Ｈ，ｍ），
３．５〜５．２（３７Ｈ，ｍ），６．５５〜７．６（１
０Ｈ，ｍ）．７．７〜８．４（１５Ｈ，ｍ）
【０２１３】製造例１７ 製造例５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．０５（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
８ＨZ），２．６〜２．９（２Ｈ，ｍ），３．７９（２
Ｈ，ｓ）．３．８〜４．１（３Ｈ，ｍ），４．２０（１
Ｈ，ｍ），７．１〜７．７（１４Ｈ，ｍ）
【０２１４】製造例１８ 出発化合物Ａ（５６０ｍｇ）、出発化合物Ｂ（７７７ｍ
ｇ）、炭酸ナトリウム（４２４ｍｇ）、テトラキス（ト
リフェニルホスフィン）パラジウム（０）（９６ｍ
ｇ）、水（２．１ｍｌ）、ジメトキシエタン（１１．２
ｍｌ）の混合物を、４．５時間還流する。冷却した後、
その混合物をジクロロメタンで抽出し、水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。有機溶媒を減圧下で取り除
く。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、目的化合物（０．９３ｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．００（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．０８（３Ｈ、ｄ，Ｊ＝６．
８ＨZ），１．２〜１．６（１２Ｈ，ｍ），１．７２
（２Ｈ，ｍ），２．６〜２．９（２Ｈ，ｍ），３．２
（３Ｈ，ｓ），３．２９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４
ＨZ），３．６８（２Ｈ，ｓ），３．９〜４．１（３
Ｈ，ｍ），４．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９ＨZ，６
ＨZ），７．０〜７．７（１８Ｈ，ｍ）
【０２１５】製造例１９ 製造例６と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．１２（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．２〜１．６（１０Ｈ，
ｍ），１．６〜１．８（２Ｈ，ｍ），２．７〜２．９
（２Ｈ，ｍ），３．２０（３Ｈ，ｓ），３．２９（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４ＨZ），３．９〜４．１（４Ｈ，
ｍ），４．９５〜５．０５（２Ｈ，ＡＢq，Ｊ＝１２．
５ＨZ），４．９〜５．１（１Ｈ，ｍ），６．９〜７．
６（１３Ｈ，ｍ），８．０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９
ＨZ）
【０２１６】製造例２０ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．２〜１．６（１
０Ｈ，ｍ），１．６〜１．８（２Ｈ，ｍ），２．６〜
２．８（２Ｈ，ｍ），３．２０（３Ｈ，ｓ），３．２９
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４ＨZ），４．００（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．５ＨZ），４．９〜５．１（３Ｈ，ｍ），６．
９〜７．６（１３Ｈ，ｍ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．９ＨZ），１２．２５（１Ｈ，ｂｒ，ｓ）
【０２１７】製造例２１ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．２〜１．６（１
０Ｈ，ｍ），１．６〜１．８（２Ｈ，ｍ），３．２１
（３Ｈ，ｓ），３．２９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５
ＨZ），３．３〜３．７（２Ｈ，ｍ），４．００（２
Ｈ，ｍ），４．９〜５．３（３Ｈ，ｍ），７．０〜８．
４（１８Ｈ，ｍ）
【０２１８】製造例２２ 製造例9と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８〜１．６（３
７Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），１，６〜２．４
（７Ｈ，ｍ），２．６〜３．０（４Ｈ，ｍ），３．２０
（３Ｈ，ｓ），３．３〜５．３（４１Ｈ，ｍ），６．６
３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），６．７５（１Ｈ，
ｍ），６．８〜７．６（１２Ｈ，ｍ），７．３３（５
Ｈ，ｍ），７．６〜８．３（１１Ｈ，ｍ）
【０２１９】製造例２３ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８５〜１．６
（３７Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），１．６〜２．
３（７Ｈ，ｍ），２．５〜３．０（４Ｈ，ｍ），３．２
６（３Ｈ，ｓ），３．１〜５．３（３９Ｈ，ｍ），６．
６３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），６．７〜７．６
（１５Ｈ，ｍ），７．６〜８．５（１０Ｈ，ｍ）
【０２２０】製造例２４ 製造例１８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．０１（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
８ＨZ），１．４〜１．８（６Ｈ，ｍ），２．６〜２．
９（２Ｈ，ｍ），３．２７（３Ｈ，ｓ），３．３３（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４ＨZ），３．７０（２Ｈ，ｓ），
３．９〜４．１（３Ｈ，ｍ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝９ＨZ，６ＨZ），７．０〜７．８（２２Ｈ，ｍ）
【０２２１】製造例２５ 製造例６と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．１２（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．３〜１．７（４Ｈ，ｍ），
１．７〜１．８（２Ｈ，ｍ），２．６〜２．９（２Ｈ，
ｍ），３．２３（３Ｈ，ｓ），３．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．７ＨZ），３．９〜４．１（４Ｈ，ｍ），４．９
〜５．１（３Ｈ，ｍ），７．０〜７．８（１７Ｈ，
ｍ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ）
【０２２２】製造例２６ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．４〜１．６５
（４Ｈ，ｍ），１．６５〜１．８（２Ｈ，ｍ），２．６
〜２．９（２Ｈ，ｍ），３．２３（３Ｈ，ｓ），３．３
４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６，４ＨZ），４．０１（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），４．９〜５．１（３Ｈ，ｍ），
７．０〜７．８（１７Ｈ，ｍ），７．９６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．６ＨZ），１２．２（１Ｈ，ｂｒ，ｓ）
【０２２３】製造例２７ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； １．４〜１．８（６
Ｈ，ｍ），２．６〜２．９（２Ｈ，ｍ），３．２２（３
Ｈ，ｓ），３．３７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈ Z），
４．０１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８ＨZ），４．９〜５．
４（３Ｈ，ｍ），７．０〜８．４（２２Ｈ，ｍ）
【０２２４】製造例２８ 製造例９と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８〜１．２（２
３Ｈ，ｍ），１．３７（９Ｈ，ｓ），１．４〜２．３
（１５Ｈ，ｍ），２．６〜３．０（４Ｈ，ｍ），３．２
３（３Ｈ，ｓ），３．３〜３．９５（２１Ｈ，ｍ），
４．０１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），４．１〜４．
６（１５Ｈ，ｍ），４．９〜５．２（３Ｈ，ｍ），６．
６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），６．７〜６．９
（２Ｈ，ｍ），６．９〜７．２（５Ｈ，ｍ），７．３〜
７．５（７Ｈ，ｍ），７．５５〜７．８（８Ｈ，ｍ），
７．８〜８．２（１１Ｈ，ｍ）
【０２２５】製造例２９ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ6，δ）； ０．８〜１．３（２３
Ｈ，ｍ），１．４０（９Ｈ，ｓ），１．５〜２．５（１
５Ｈ，ｍ），２．７〜３．１５（４Ｈ，ｍ），３．２０
（３Ｈ，ｓ），３．３〜５．０（３１Ｈ，ｍ），６．７
０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．０（４Ｈ，
ｍ），７．５５〜７．８（１０Ｈ，ｍ）
【０２２６】製造例３０ 製造例１８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８７（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．４ＨZ），１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．
７ＨZ），１．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４ＨZ），１．
２〜１．５（１０Ｈ，ｍ），１．７〜１．９（２Ｈ，
ｍ），２．６〜３．０（２Ｈ，ｍ），３．７０（２Ｈ，
ｓ），４．０〜４．２（３Ｈ，ｍ），４．３０（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝９ＨZ，６ＨZ），７．１〜８．２（２０Ｈ，
ｍ）
【０２２７】製造例３１ 製造例６と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８８（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
１ＨZ），１．２〜１．５（８Ｈ，ｍ），１．７〜１．
９（２Ｈ，ｍ），２．７〜３．０（２Ｈ，ｍ），３．９
〜４．２（４Ｈ，ｍ），４．９〜５．１（３Ｈ，ｍ），
７．１〜８．１（１６Ｈ，ｍ）
【０２２８】製造例３２ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）；０．８８（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．１〜１．６（８Ｈ，ｍ），１．
７〜１．９（２Ｈ，ｍ），２．６〜２．９（２Ｈ，
ｍ），４．０９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８ＨZ），４．９
７，５．０４（２Ｈ，ＡＢq，Ｊ＝１２．５ＨZ），４．
９５〜５．１（１Ｈ，ｍ），７．１〜８．２（１６Ｈ，
ｍ），１２．２８（１Ｈ，ｂｒ，ｓ）
【０２２９】製造例３３ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6,δ）；０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．７ＨZ）１．２〜１．６（８Ｈ，ｍ），１．７〜
１．９（２Ｈ，ｍ），２．６〜２．９（２Ｈ，ｍ），
４．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８ＨZ），５．０〜５．
４（３Ｈ，ｍ），７．１〜８．４（２０Ｈ，ｍ）
【０２３０】製造例３４ 製造例９と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）；０．９〜１．６５（３４
Ｈ，ｍ），１．４０（９Ｈ，ｓ），１．７〜２．６（１
１Ｈ，ｍ），２．７〜３．２（４Ｈ，ｍ），３．７〜
５．０（２８Ｈ，ｍ），５．０４（２Ｈ，ｍ），５．１
６（１Ｈ，ｍ），６．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５
ＨZ），６．９〜８．０（１７Ｈ，ｍ）
【０２３１】製造例３５ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）；０．９５〜１．６（３４
Ｈ，ｍ），１．４０（９Ｈ，ｓ），１．７〜２．６（１
１Ｈ，ｍ），２．７〜３．２（４Ｈ，ｍ），３．６〜
５．０（２９Ｈ，ｍ），６．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５ＨZ），６．９〜８．１（１２Ｈ，ｍ）
【０２３２】製造例３６ ３−オキソヘキサデカン酸メチルエステル（２８．４
ｇ）、Ｒｕ2Ｃｌ4［（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ］2−ＮＥｔ
3（１７９ｍｇ）、カンホロイルスルホン酸（１８４ｍ
ｇ）の管中の混合物を、脱気したメタノール（５５ｍ
ｌ）で処理し、管を密閉して２０気圧で水素ガスを充て
んする。５０℃で５時間置いた後、反応混合物を留去す
る。残渣をエチルアセテートに溶解させ、炭酸水素ナト
リウム溶液と水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥して、留去する。粗整残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（エキサン−エチルアセテート溶出）で
精製し、２６．３ｇのメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシ−
ヘキサデカネートを固形物として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）；０．８８（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．２０〜１．６０（２４Ｈ，
ｍ），２．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．４，８．５Ｈ
Z），２．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．４，３．６
ＨZ），２．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．１ＨZ），３．７
１（３Ｈ，ｓ），３．９２〜４．０８（１Ｈ，ｍ）
【０２３３】製造例３７ 製造例７と同様にしてメチル（Ｒ）−３−ヒドロキシ−
ヘキサデカネートから（Ｒ）−３−ヒドロキシ−ヘキサ
デカン酸を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）；０．８８（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０〜１．６２（２４Ｈ，
ｍ），２．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．６，８．４Ｈ
Z），２．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．６，３．７
ＨZ），３．９８〜４．１２（１Ｈ，ｍ）
【０２３４】製造例３８ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−ヘキサデカン酸（１９．９
ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（８９．４ｍｇ）、
２，２，２−トリクロロエタノール（７ｍｌ）のジクロ
ロメタン（２００ｍｌ）中懸濁液を、０〜５℃に冷却
し、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド塩酸塩（１４．７ｇ）で処理する。
１時間後、冷却浴を取り除き、溶液を室温で１８時間攪
拌し、乾燥するまで留去する。エチルアセテート（２５
０ｍｌ）を加え、有機溶液を０．５Ｎ−塩酸、水、飽和
炭酸水素ナトリウム、水、食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、留去した残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン−エチルアセテート）で精製
し、２６．１１ｇの２’２’２’−トリクロロエチル
（Ｒ）−３−ヒドロキシヘキサデカノエートを固形物と
して得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）；０．８８（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．８ＨZ），１．１５〜１．６５（２４Ｈ，
ｍ），２．５２（１Ｈ，ｂｒ），２．５８（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１６．４，８．１ＨZ），２．６９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１６．４，４．０ＨZ），４．０２〜４．１８
（１Ｈ，ｍ），４．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０
ＨZ），４．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０ＨZ）
【０２３５】製造例３９ 出発化合物（１ｇ）、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
（Ｌ）−グルタミン酸、５−ｔｅｒｔ−ブチルエステル
（９２０ｍｇ）のジクロロメタン（３５ｍｌ）中溶液
を、ベンゾトリアゾール−１−イル−オキシ−トリス−
ピロリジノホスホニウムヘキサフルオロリン酸塩（Ｐｙ
ＢＯＰ）（１．４２ｇ）で処理し、続いて４−ジメチル
アミノピリジン（６０６ｍｇ）で処理する。１２時間
後、溶液を乾燥するまで留去し、エチルアセテートで希
釈し、水、氷冷した０．１Ｎ塩酸、水、炭酸水素ナトリ
ウム溶液、水、食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ヘキサン−エチルアセテート）で精製し、目的化
合物（１．６１ｇ）を油として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δ）；０．８８（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．７ＨZ），１．１０〜１．５０（２２Ｈ，
ｍ），１．４３（９Ｈ，ｓ），１．５０〜１．７８（２
Ｈ，ｍ），１．８０〜２．０２（１Ｈ，ｍ），２．０５
〜２．４２（３Ｈ，ｍ），２．６０〜２．８３（２Ｈ，
ｍ），４．２２〜４．４２（１Ｈ，ｍ），４．７４（２
Ｈ，ｓ），５．１０（２Ｈ，ｓ），５．１８〜５．４２
（２Ｈ，ｍ），７．２５〜７．４０（５Ｈ，ｍ）
【０２３６】製造例４０ ０〜５℃で出発化合物（１．６１ｇ）の９０％酢酸水溶
液（５０ｍｌ）中溶液を、亜鉛の粉末（７．２９ｇ）で
処理する。０〜５℃で３０分、室温で３０分置いた後、
不溶性物質を濾過によって取り除き、濾液は乾燥するま
で留去する。氷冷した１Ｎ−塩酸を残渣に加え、ジクロ
ロメタンで抽出する。有機層を水と食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、留去し、目的化合物（１．３
１ｇ）を蝋質の油として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６．７ＨZ），１．１０〜１．４５（２２Ｈ，ｍ），
１．４３（９Ｈ，Ｓ），１．５０〜１．７３（２Ｈ，
ｍ），１．８０〜２．４０（４Ｈ，ｍ），２．４８〜
２．７０（２Ｈ，ｍ），４．２５〜４．４５（１Ｈ，
ｍ），５．１０（２Ｈ，ｓ），５．１３〜５．３５（１
Ｈ，ｍ），５．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２ＨZ），
７．２７〜７．３８（５Ｈ，ｍ）
【０２３７】製造例４１ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ニートフィルム）；２９２５．５，２８５４．
１，１８２０．５，１７２９．８ｃｍ-1
【０２３８】製造例４２ 製造例９と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）；０．８２〜１．００
（９Ｈ，ｍ），１．１〜１．４（３７Ｈ，ｍ），１．４
３（９Ｈ，ｓ），１．５〜１．７（２Ｈ，ｍ），１．７
９〜２．４０（９Ｈ，ｍ），２．４〜２．６（４Ｈ，
ｍ），２．７〜３．１（２Ｈ，ｍ），３．６８〜４．７
０（２４Ｈ，ｍ），５．１０（２Ｈ，ｓ），５．１８〜
５．３３（１Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４ＨZ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４ＨZ），７．
２７〜７．４２（５Ｈ，ｍ）
【０２３９】製造例４３ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）；０．８３〜１．０５
（９Ｈ，ｍ），１．１０〜１．４０（３７Ｈ，ｍ），
１．４６（９Ｈ，ｓ），１．６〜１．８（２Ｈ，ｍ），
１．９〜２．７（１３Ｈ，ｍ），２．７〜３．１（２
Ｈ，ｍ），３．６〜４．８（２４Ｈ，ｍ），５．２７〜
５．４７（１Ｈ，ｍ），６．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５ＨZ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ）
【０２４０】製造例４４ テトラデカナール（１０．０ｇ，４７ｍｍｏｌ）とメチ
ル（トリフェニルホスホランイリデン）アセテート（１
５．７ｇ，４７ｍｍｏｌ）のトルエン（１００ｍＬ）中
混合物を、１００℃で２時間攪拌する。その反応混合物
を真空中で留去する。得られた沈殿物を濾過によって取
り除き、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン−酢酸エチル２００：７）で精製し、（Ｅ）−２−ヘ
キサデカン酸メチルエステル（６．５４ｇ，５２％）を
油として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６．４ＨZ），１．１５〜１．５５（２２Ｈ，ｍ），
２．１２〜２．２７（２Ｈ，ｍ），３．７２（３Ｈ，
ｓ），５．８１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．６，１．６Ｈ
Z），６．９７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．６，７．０
Ｈz）
【０２４１】製造例４５ 製造例５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６．７ＨZ），１．１２〜１．４２（２２Ｈ，ｍ），
１．３４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０ＨZ），１．４２〜
１．６５（２Ｈ，ｍ），１．９５〜２．１５（２Ｈ，
ｍ），３．２０〜３．４０（１Ｈ，ｍ），３．５３（３
Ｈ，ｓ），３．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．３ＨZ），
３．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．３ＨZ），３．８４
（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０ＨZ），７．１５〜７．４８
（１０Ｈ，ｍ）
【０２４２】製造例４６ 出発化合物（５．２７ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）、２０％
水酸化パラジウム−炭素（０．５３ｇ）、酢酸（１．２
５ｍｌ）のメタノール溶液（５３ｍｌ）と酢酸エチル
（５３ｍｌ）との混合物を、室温で７時間水素化する。
その触媒を濾過して取り除き、混合物を真空中で留去す
る。残渣を水に溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液
をそこに加える。その混合物を塩化メチレンで抽出し、
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中で
留去し、目的化合物（３．１３ｇ，１００％）を油とし
て得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６．７ＨZ）、１．１５〜１．４７（２４Ｈ，ｍ），
２．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．６，８．９Ｈ Z），
２．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．６，４．０ＨZ），
３．０８〜３．２６（１Ｈ，ｍ），３．６９（３Ｈ，
ｓ）
【０２４３】製造例４７ 出発化合物（２．００ｇ）とＮ2−ベンジルオキシカル
ボニル−Ｎ5−第３級ブトキシカルボニルオルニチン
（２．８３ｇ）の塩化メチレン（６０ｍｌ）中混合物
に、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（１．０４ｇ）
と１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド塩酸塩（２．０２ｇ）を５℃で加える。
その混合物を１時間同じ温度で攪拌し、室温で１時間攪
拌する。その反応混合物を０．１Ｎ塩酸、水、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液、水、食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、真空中で留去する。その残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチ
ル，３：２から１：１で溶出）で精製し、目的化合物
（３．９８ｇ）を結晶として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８５（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６ＨZ），１．０８〜１．６０（２８
Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），２．２８〜２．５２
（２Ｈ，ｍ），２．８０〜２．９７（２Ｈ，ｍ），３．
５４（３Ｈ，ｓ），３．８０〜４．１０（２Ｈ，ｍ），
５．０１（２Ｈ，ｓ），６．７０〜６．８０（１Ｈ，
ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．２
８〜７．４０（５Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１１．５ＨZ）
【０２４４】製造例４８ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８５（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．０８〜１．６２（２８
Ｈ，ｍ），１．３７（９Ｈ，ｓ），２．２０〜２．４５
（２Ｈ，ｍ），２．７５〜３．００（２Ｈ，ｍ），３．
８０〜４．０８（２Ｈ，ｍ），５．０１（２Ｈ，ｓ），
６．７０〜６．８０（１Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２ＨZ），７．２８〜７．４０（５Ｈ，
ｍ），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），１２．
１６（１Ｈ，ｂｒ）
【０２４５】製造例４９製造例８と同様にして出発化合
物から目的化合物を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８５（３
H，ｔ，Ｊ＝６．３ＨZ），１．０８〜１．７０（２８
Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），２．７７〜２．９７
（２Ｈ，ｍ），３．００〜３．５０（２Ｈ，ｍ），３．
８０〜４．３５（２Ｈ，ｍ），４．８３〜５．０５（２
Ｈ，ｍ），６．６８〜６，８０（１Ｈ，ｍ），７．２０
〜８．１８（１１Ｈ，ｍ）
【０２４６】製造例５０（１） 出発化合物Ａ（１０．９１ｇ）とジイソプロピルエチル
アミン（２．４１ｍｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（１６０ｍｌ）中溶液に、製造例４９の目的化合物
（７．４７ｇ）を室温で加え、混合物を３時間攪拌す
る。反応混合物を真空中で留去し、粗製出発化合物Ｂを
得る。
【０２４７】製造例５０（２） メタノール（３３０ｍｌ）中、上述の粗製出発化合物Ｂ
と１０％パラジウム−炭素（８．０ｇ）を、室温で６時
間水素化する。触媒を濾過して取り除き、混合物を真空
中で留去する。残渣を水（５００ｍｌ）に溶解させ、１
Ｎ 塩酸でｐＨ３にし、ＯＤＳ中圧カラム（ＹＭＣ Ｇ
ＥＬ ＯＤＳ−ＡＭ１２０−Ｓ５０）で精製し、目的化
合物（１０．８ｇ）を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．８０〜１．０５
（９Ｈ，ｍ），１．１０〜１．７０（４３Ｈ，ｍ），
１．４３（９Ｈ，ｓ），１．７０〜２．６５（９Ｈ，
ｍ），２．６５〜３．１８（４Ｈ，ｍ），３．６０〜
４．８０（２５Ｈ，ｍ），６．７４（２Ｈ，Ｊ＝８．５
ＨZ），７．０１（２Ｈ，Ｊ＝８．５ＨZ）
【０２４８】製造例５１製造例４７と同様に出発化合物
から目的化合物を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．８ＨZ），１．２５（１８Ｈ，ｂｒｓ），１，４
３（９Ｈ，ｓ），２．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，
１７ＨZ），２．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，１７
ＨZ），３．２１（２Ｈ，ｂｒｑ，Ｊ＝６．７ＨZ），
４．４〜４．５５（１Ｈ，ｍ），５．１２（２Ｈ，
ｓ），５．９〜６．１（１Ｈ，ｍ），６．４５〜６．６
（１Ｈ，ｍ），７．３５（５Ｈ，ｓ）
【０２４９】製造例５２ 出発化合物（１．４９ｇ）の塩化メチレン溶液（１５ｍ
ｌ）とトリフルオロ酢酸（１０ｍｌ）との混合物を、０
℃で１．５時間、室温で２時間攪拌する。留去した後、
生成物を１０：１ヘキサン−エチルアセテートでの粉砕
によって得、目的化合物（１．０３ｇ）を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．８ＨZ），１．４６（１６Ｈ，ｂｒｓ），１．４
〜１．６（２Ｈ，ｍ），２．０〜３．０（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），２．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１７
ＨZ），３．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．３，１７
ＨZ），３．２２（２Ｈ，ｂｒｑ，Ｊ＝７ＨZ），４．５
（１Ｈ，ｂｒｓ），５．１４（２Ｈ，ｓ），５．９〜
６．０（１Ｈ，ｍ），６．５（１Ｈ，ｂｒｓ）．７．３
６（５Ｈ，ｓ）
【０２５０】製造例５３ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６．８ＨZ），１．２〜２．０（１８Ｈ，ｍ），３．１
〜３．３（２Ｈ，ｍ），３．３〜３．５（１Ｈ，ｍ），
３．８〜３．９（１Ｈ，ｍ），４．７〜４．９（１Ｈ，
ｍ），５．１７（２Ｈ，ｓ），５．８〜６．０（１Ｈ，
ｍ），６．３〜６．５（１Ｈ，ｍ），７．３６（５Ｈ，
ｓ），７．５〜８．４（４Ｈ，ｍ）
【０２５１】製造例５４製造例５０（１）及び５０
（２）と同様にして出発化合物から目的化合物を得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）； ３３０１，３０７４，２９７０，２
９２７，２８５６，１６６０，１５３５，１５２２，１
４５２ｃｍ-1
【０２５２】製造例５５ 製造例５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．７ＨZ），１．１７〜１．６（１３Ｈ，ｍ），
１．７〜１．８１（２Ｈ，ｍ），２．５１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝９．３，１４．７ＨZ），２．６７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝５．９，１４．７ＨZ），３．４６（３Ｈ，
ｓ），３．６８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．６ＨZ），
３．９４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６ＨZ），３．９５（１
Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９ＨZ），４．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝５．９，９．２ＨZ），６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．６ＨZ），７．１７〜７．４３（１２Ｈ，ｍ）
【０２５３】製造例５６ 製造例４６と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．７ＨZ），１．２〜１．５（１０Ｈ，ｍ），１．
７〜１．８（２Ｈ，ｍ），２．０１（３Ｈ，ｓ），２．
６９〜２．９５（２Ｈ，ｍ），３．６７（３Ｈ，ｓ），
３．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），４．０１（３
Ｈ，ｂｒｓ），４．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，
８．３ＨZ），６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ），
７．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８，７ＨZ）
【０２５４】製造例５７ 製造例６及び７と同様にして出発化合物から目的化合物
を得る。1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８８（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），１．２９（１０Ｈ，ｂｒ
ｓ），１．６９〜１．７９（２Ｈ，ｍ），２．７〜３．
０５（２Ｈ，ｍ），３．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈ
Z），５．０８（２Ｈ，ｓ），５．０〜５．２（１Ｈ，
ｍ），５．５〜５．７（１Ｈ，ｍ），６．８３（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ），７．１７〜７．３２（７Ｈ，
ｍ）
【０２５５】製造例５８ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８８（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．７ＨZ），１．２〜１．５（１０Ｈ，ｍ），１．
６〜１．８（２Ｈ，ｍ），３．５５〜３．７５（２Ｈ，
ｍ），３．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），５．０
５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１２．３ＨZ），５．３７〜
５．４８（２Ｈ，ｍ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
６ＨZ），７．２７〜７．３１（７Ｈ，ｍ），７．５５
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５ＨZ），７．７５（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．５ＨZ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３
ＨZ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ）
【０２５６】製造例５９ 製造例９と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３１９，２９７５，２９３３，１６
５２ｃｍ-1
【０２５７】製造例６０ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３３２，２９７４，１６５７，１５
１８，１４５２，１３９６，１２５２，１１７１，１１
０１ｃｍ-1
【０２５８】製造例６１ １−（１６−ヒドロキシヘキサデカノイル）ベンゾトリ
アゾール−３−オキシド（５．５ｇ）のテトラヒドロフ
ラン（５５ｍｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３
５ｍｌ）中溶液を、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミ
ン塩酸塩（２．７６ｇ）で処理し、続いてトリエチルア
ミン（４．３２ｍｌ）で処理し、その混合物を室温で５
時間攪拌する。その反応物をエチルアセテートで希釈
し、水で洗浄する。その有機層を硫酸マグネシウムで乾
燥し、留去し、粗製Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ−１６−
ヒドロキシヘキサデカンアミド（４．４８ｇ）を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．２６（２２Ｈ，
ｍ），１．５〜１．７（４Ｈ，ｍ），２．３７〜２．４
４（２Ｈ，ｍ），３．１２（３Ｈ，ｓ），３．６４（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６，５ＨZ），３，６８（３Ｈ，ｓ）
【０２５９】製造例６２ 水素化ナトリウム（０．８６ｇ、６０％油中懸濁液）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６７．２ｍｌ）中混合
液に、Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ−１６−ヒドロキシヘ
キサデカンアミド（４．４８ｇ）を加え、混合物を６０
℃で３０分攪拌し、ヨウ化メチル（２．６５ｍｌ）で処
理する。２時間後、反応物を冷却し、エチルアセテート
で抽出する。乾燥した有機層を留去し、４．４８ｇの粗
製Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ−１６−メトキシヘキサデ
カンアミドを得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．２６（２２Ｈ，ｂｒ
ｓ），１．５〜１．７（４Ｈ，ｍ），２．４５〜２．７
３（２Ｈ，ｍ），３．１８（３Ｈ，ｓ），３．３３（３
Ｈ，ｓ），３，４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），
３．６８（３Ｈ，ｓ）
【０２６０】製造例６３ 水素化アルミニウムリチウム（０．５２ｇ）のテトラヒ
ドロフラン（９０ｍｌ）中氷冷懸濁液に、テトラヒドロ
フラン（２２．４ｍｌ）中Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ−
１６−メトキシヘキサデカンアミド（４．４８ｇ）を１
０分以上かけて滴下する。室温で６時間置いた後、その
混合物を０℃まで再冷却し、フッ化ナトリウム（２．２
８ｇ）と水（１ｍｌ）で処理する。３０分後、不溶性物
質を濾過によって取り除き、濾液を留去し、粗製１６−
メトキシヘキサデカナール（４．３ｇ）を得る。 ＩＲ（ニート） ２９１６，２８４８，１７２６，１４
６６ｃｍ-1
【０２６１】製造例６４ 製造例４４と同様にして１６−メトキシヘキサデカナー
ルからメチル＝１７−メトキシ−２−ヘプタデキセナー
トを得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．２６（２２Ｈ，ｂｒ
ｓ），１．４〜１．６（４Ｈ，ｍ），２．１４〜２．２
４（２Ｈ，ｍ），３．３６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５
ＨZ），３．３３（３Ｈ，ｓ），３．７２（３Ｈ，
ｓ），５．８１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１５．６，１．
５，１．５ＨZ），６．９７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１
５．６，６．９，６．９ＨZ）
【０２６２】製造例６５ 製造例５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ニート） １７３６，１６０１，１４５６ｃｍ-1
【０２６３】製造例６６ 製造例４６と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ２９２２，２８５２，１７３７，１６
１８，１５３５，１３９８ｃｍ-1
【０２６４】製造例６７ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．２５（２６Ｈ，ｂｒ
ｓ），１．５〜１．６５（３Ｈ，ｍ），２．５〜２．６
５（２Ｈ，ｍ），３．３３（３Ｈ，ｓ），３．３７（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），３．９〜４．０５（１Ｈ，
ｍ），５．１０（２Ｈ，ｓ），５，．１〜５．２５（１
Ｈ，ｍ），７．３５（５Ｈ，ｓ）
【０２６５】製造例６８ 製造例８及び９と同様にして出発化合物から目的化合物
を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ Ｍ／Ｚ １８６５ （Ｍ＋Ｎａ+）
【０２６６】製造例６９ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＦＡＢ−ＭＳ Ｍ／Ｚ １７０９ （ＭＨ+）
【０２６７】製造例７０ 製造例５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８５〜１．００（３
Ｈ，ｍ），１．２１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８ＨZ），
１．１９〜１．５０（１０Ｈ，ｍ），１．７４〜１．８
１（２Ｈ，ｍ），２．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．
８，９．３ＨZ），２．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．
８，５．９ＨZ），３．４６（３Ｈ，ｓ），３．６８
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．７ＨZ，内部分離＝６．８
ＨZ），３．９４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），３．９
９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８ＨZ），４．３７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝９．２，５．９ＨZ），６．８６（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．６ＨZ），７．１〜７．５（１２Ｈ，ｍ）
【０２６８】製造例７１ 製造例４６と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）； ０．８３〜０．８９（３
Ｈ，ｍ），１．２０〜１．５０（１０Ｈ，ｍ），１．６
１〜１．７１（２Ｈ，ｍ），１．８９（３Ｈ，ｓ），
２．５６〜２．６４（２Ｈ，ｍ），３．５４（３Ｈ，
ｓ），３．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４ＨZ），４．０
９（３Ｈ，ｂｒｓ），４．１３〜４．２１（１Ｈ，
ｍ），６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６ＨZ），７．２
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６ＨZ）
【０２６９】製造例７２ 製造例6と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８５〜０．９２（３
Ｈ、ｍ）、１．２〜１．５５（１０Ｈ，ｍ），１．７２
〜１．８（２Ｈ，ｍ），２．７４〜２．９６（２Ｈ，
ｍ），３．６０（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．５ＨZ），５．０２〜５．１５（３Ｈ，ｍ），
５．６３（１Ｈ，ｂｒｓ），６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．６ＨZ），７．１７〜７．３８（７Ｈ，ｍ）
【０２７０】製造例７３ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．８５〜０．９５（３
Ｈ、ｍ），１．２〜１．５（１０Ｈ，ｍ），１．６９〜
１．７９（２Ｈ，ｍ），２．７５〜３．０５（２Ｈ，
ｍ），３．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），５．０
９（２Ｈ，ｓ），５．０〜５．２（１Ｈ，ｍ），５．５
９（１Ｈ，ｂｒｓ），６，８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６
ＨZ），７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６ＨZ），７．３
２（５Ｈ，ｓ）
【０２７１】製造例７４ 製造例８及び９と同様にして出発化合物から目的化合物
を得る。 ＦＡＢ−ＭＳ １８３０ （Ｍ＋Ｎａ+）
【０２７２】製造例７５ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）； ２９７２，２９２９，１６４７，１
５１４，１４５６，１２５２ｃｍ-1 ＦＡＢ−ＭＳ Ｍ／Ｚ １６７３ （ＭＨ+）
【０２７３】製造例７６ 製造例６と同様にしてＬ−アスパラギン酸−４−ベンジ
ルエステルからＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−ア
スパラギン酸４−ベンジルエステルを得る。 ＥＩ−ＭＳ ３５８ （ＭＨ+）1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ２．９１（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１７．３，４．７Ｈ Z），３．１１（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１７．３，４．３ＨZ），４．６５〜４．８０（１
Ｈ，ｍ），５．１２（４Ｈ，ｓ），５．６〜６．０（２
Ｈ，ｍ），７．３３（５Ｈ，ｓ），７．３４（５Ｈ，
ｓ）
【０２７４】製造例７７ Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸４
−ベンジルエステル（６８．１３ｇ）、濃硫酸（５ｍ
ｌ）、塩化メチレン（３００ｍｌ）の混合物を、−５℃
まで冷却し、１００ｇのイソブテンで処理する。−５℃
で１時間、室温で３時間置いた後、一晩保持する。留去
した後、その残渣をエチルアセテートで希釈し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、留去して、Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル−Ｌ−アスパラギン酸１−３級ブチル−４−ベンジル
エステル（７４．５９ｇ）を油として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．４０（９Ｈ，ｓ），
２．８０〜３．０７（２Ｈ，ｍ），４．４５〜４．５８
（１Ｈ，ｓ），５．１０〜５．１１（４Ｈ，ｂｒｓ），
５．７２（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８．１ＨZ），７．３３
〜７．３７（１０Ｈ，ｍ）
【０２７５】製造例７８（１） Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸１
−第３級ブチル−４−ベンジルエステル（６７．５６
ｇ）のテトラヒドロフラン（１７０ｍｌ）中溶液を、室
温で５分以上かけて８５ｍｌの２Ｍ水酸化ナトリウム水
溶液を滴下して処理する。９時間後、２００ｍｌの１，
４−ジオキサンを加え、続いてメタノール（１００ｍ
ｌ）と１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）でさら
に６時間処理する。さらに３０分後、その混合液を濃塩
酸でｐＨ６−８に調整し、１００ｍｌまで濃縮する。そ
の溶液を氷冷してｐＨ２に調整し、水で希釈し、エチル
アセテートで抽出する。その有機層を食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、留去し、粗生成物（６９．
２ｇ）を得る。この生成物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（１６０ｍｌ）中への溶解によってエステル化し、
続いて室温で３０分間炭酸セシウム（３０ｇ）とヨウ化
メチル（１５ｍｌ）で処理する。エチルアセテートで抽
出し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
て、留去し、粗製の油を得、これをシリカゲルクロマト
グラフィー（ヘキサン−エチルアセテート溶出）で精製
し、３９．３ｇのN−ベンジルオキシカルボニル−L−ア
スパラギン酸１−第３級ブチル−４−メチルエステルを
得る。
【０２７６】製造例７８（２） 製造例１０と同様にしてＮ−ベンジルオキシカルボニル
−Ｌ−アスパラギン酸１−第３級ブチル−４−メチルエ
ステルからＬ−アスパラギン酸１−第３級ブチル−４−
メチルエステルを得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．４６（９Ｈ，ｓ），
１．９５（２Ｈ，ｓ），２．５９〜２．８３（２Ｈ，
ｍ），３．７０（３Ｈ，ｓ），３．６８〜３．７５（１
Ｈ，ｍ）
【０２７７】製造例７９ 製造例４７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．４３（９Ｈ，ｓ），
１．４４（９Ｈ，ｓ），１．５０〜２．０（４Ｈ，
ｍ），２．７１〜３．０１（２Ｈ，ｍ），３．０１〜
３．３０（２Ｈ，ｍ），３．６８（３Ｈ，ｓ），４．２
０〜４．４０（１Ｈ，ｍ），４．６０〜４．８０（２
Ｈ，ｍ），５．１０（２Ｈ，ｓ），５．４０〜５．５５
（１Ｈ，ｍ），６．９２（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
Z），７．３５（５Ｈ，ｓ）
【０２７８】製造例８０ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）； ３３２３，２９７８，２９３５，１
７１６，１６９５，１６５７，１５２５ｃｍ-1 ＥＩ−ＭＳ Ｍ／Ｚ ４３８ （Ｍ+ Ｂｕ+ＯＣＯ）
【０２７９】製造例８１ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）； ３３２５，２９７８，２９３５，１
８１３，１７１４，１６９１，１６５７，１５２５，１
４９８ｃｍ-1
【０２８０】製造例８２ 製造例５０（１）と同様にして出発化合物から目的化合
物を得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）； ３４１１，３３７３，１７３４，１
６６８，１６５３，１５３９，１５２２ｃｍ-1
【０２８１】製造例８３ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＬＤ−ＭＳ Ｍ／Ｚ １５９１．５９ （Ｍ+＋Ｎａ）
【０２８２】製造例８４ 出発化合物（３０７ｍｇ）と４−（第３級ブトキシカル
ボニルアミノ）ピペリジン（２２０ｍｇ）のトルエン
（１５ｍｌ）中溶液を、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド
（１２０ｍｇ）、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）−１，１’−ビナフチル（３１ｍｇ）、トリス（ジ
ベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）−クロロホ
ルム付加生成物（１６ｍｇ）で処理し、窒素雰囲気下で
６．５時間還流する。その反応物をエチルアセテートで
希釈し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、留去し、その残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（ヘキサン−酢酸エチル溶出）で精製し、０．２１ｇの
目的化合物を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； １．４６（９Ｈ，ｓ），
１．６〜２．０（６Ｈ，ｍ），２．０〜２．２（２Ｈ，
ｍ），２．８〜３．１（２Ｈ，ｍ），３．３５（３Ｈ，
ｓ），３．４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６ＨZ），３．６〜
３．７５（２Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
Z），４．４〜４．６（１Ｈ，ｍ），６．９３（４Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ），７．０〜７．１５（１Ｈ，
ｍ），７．４６（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ）
【０２８３】製造例８５ 出発化合物（１９１ｍｇ）のテトラヒドロフラン（２ｍ
ｌ）中溶液を、０〜５℃まで冷却し、エチルアセテート
（２ｍｌ）中４Ｎ−塩化水素で処理する。４時間後、そ
の揮発性物質を留去によって取り除き、その残渣をエチ
ルアセテート−ヘキサンで粉砕して、目的化合物（１８
０ｍｇ）を固形物として得る。 ＥＩ−ＭＳ Ｍ／Ｚ ３５５ （ＭＨ+，フリー）
【０２８４】製造例８６ 製造例８４と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．９０〜０．９７（３
Ｈ、ｍ），１．３〜１．６（４Ｈ，ｍ），１．４９（９
Ｈ，ｓ），１．７０〜１．９０（２Ｈ，ｍ），３．１０
〜３．３（４Ｈ，ｍ），３．５５〜３．７０（４Ｈ，
ｍ），３．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），６．９
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８ＨZ），６．９６〜７．１０
（２Ｈ，ｍ），７．４４〜７．５０（４Ｈ，ｍ）
【０２８５】製造例８７ 製造例８５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）； ０．８７〜０．９４
（３Ｈ，ｍ），１．３〜１．５（４Ｈ，ｍ），１．６５
〜１．８（２Ｈ，ｍ），３．１５〜３．３０（４Ｈ，
ｍ），３．３８〜３．４１（４Ｈ，ｍ），３．９８（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），６．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．７ＨZ），７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ），
７．５〜７．５４（４Ｈ，ｍ），９．２２（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）
【０２８６】製造例８８ 出発化合物（２．１ｇ）、４−クロロニトロベンゼン
（１．０１ｇ）、炭酸カリウム（２．８８ｇ）のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（４５ｍｌ）中混合物を、１３
０℃で１６時間加熱し、冷却する。その反応混合物をエ
チルアセテートで希釈し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、留去して残渣を得、これをシリカ
ゲルクロマトグラフィー（塩化メチレン溶出）で精製
し、目的化合物（１．１５ｇ）を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）； ０．９０（３Ｈ，ｂｒ
ｓ），１．２〜１．９（８Ｈ，ｍ），３．２４（４Ｈ，
ｂｒｓ），３．５９（４Ｈ，ｂｒｓ），３．８５〜４．
００（２Ｈ，ｍ），６．８０〜７．１０（６Ｈ，ｍ），
８．１０〜８．２０（２Ｈ，ｍ）
【０２８７】製造例８９ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）； ０．８〜０．９（３
Ｈ，ｍ），１．２〜１．５（６Ｈ，ｍ），１．５〜１．
８（２Ｈ，ｍ），３．０〜３．２（８Ｈ，ｍ），３．８
８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），４．５９（２Ｈ，ｂ
ｒｓ），６．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ），６．
７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨZ），６．８１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９．２ＨZ），６．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．
２ＨZ）
【０２８８】製造例９０ 氷冷したメタノール（５０ｍｌ）に塩化チオニル（８．
０５ｍｌ）を滴下する。２０分後、Ｄ−チロシン（５
ｇ）を加え、その混合物を室温で２４時間攪拌し、乾燥
まで留去し、その残渣をイソプロピルエーテルで粉砕
し、６．５５ｇのＤ−チロシンメチルエステル−塩酸塩
を得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）； ２．９２〜３．１３
（２Ｈ，ｍ），３．６５（３Ｈ，ｓ），４．１５（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７ＨZ），６．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４５ＨZ），７．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４５
ＨZ），８．６１（３Ｈ，ｂｒｓ），９．４７（１Ｈ，
ｓ）
【０２８９】製造例９１ 製造例６と同様にしてＤ−チロシンメチルエステル−塩
酸塩からＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｄ−チロシン
メチルエステルを得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；２．９〜３．１５（２Ｈ，
ｍ），３．７１（３Ｈ，ｓ），４．５〜４．７（１Ｈ，
ｍ），５．０３〜５．１６（２Ｈ，ｍ），５．１６〜
５．２６（１Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４５ＨZ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４６ＨZ），
７．３３（５Ｈ，ｓ）
【０２９０】製造例９２ 出発化合物（１ｇ）とｎ−ヘキシルブロミド（０．５７
７ｍｌ）のアセトン（１０ｍｌ）中溶液を、炭酸カリウ
ム（８３９ｍｇ）で処理し、加熱して２６時間還流す
る。混合物をエチルアセテートで希釈し、水と食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、留去し残渣を得、
これをシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸
エチル溶出）で精製し、目的化合物（５１２ｍｇ）を油
として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；０．８５〜０．９２（３
Ｈ，ｍ），１．２〜１．５（１０Ｈ，ｍ），１．６９〜
１．８０（２Ｈ，ｍ），２．９〜３．１（２Ｈ，ｍ），
３．７１（３Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．
５ＨZ），４．５〜４．７（１Ｈ，ｍ），５．１０（２
Ｈ，ｓ），５．１〜５．３（１Ｈ，ｍ），６．７８（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６ＨZ），６．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．６ＨZ），７．３３（５Ｈ，ｓ）
【０２９１】製造例９３ 製造例７と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；０．８５〜１．０（３Ｈ，
ｍ），１．２〜１．５（１０Ｈ，ｍ），１．６９〜１．
７９（２Ｈ，ｍ），３．０〜３．２（２Ｈ，ｍ），３．
９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），４．６〜４．７
（１Ｈ，ｍ），５．１０（２Ｈ，ｓ），５．０〜５．２
（１Ｈ，ｍ），６．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６
ＨZ），７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６ＨZ），７．３
３（５Ｈ，ｓ）
【０２９２】製造例９４ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３２１，２９２５，２８５４，１８
１７，１７３４，１６９３，１６１２，１５３５ｃｍ-1
【０２９３】製造例９５ 製造例９と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３０３，２９５８，１６６２，１６
３９，１５１４，１４４６，１２５２ｃｍ-1
【０２９４】製造例９６ 製造例１０と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３１５，２９５８，１６６４，１５
１６，１４４８，１２５２，１１７１，１１０１，８４
５ｃｍ-1
【０２９５】製造例９７ 製造例６と同様にしてβ−アラニンメチルエステル塩酸
塩からＮ−ベンジルオキシカルボニル−β−アラニンメ
チルエステルを得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；２．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６ＨZ），３．４７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６ＨZ），３．６９
（３Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），５．２８（１
Ｈ，ｂｒｓ），７．３０〜７．３７（５Ｈ，ｍ）
【０２９６】製造例９８ 水素化ナトリウム（０．４６ｇ，６０％油中懸濁液）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７ｍｌ）中氷冷溶液
に、Ｎ−ベンジルオキシカルボニルβ−アラニンメチル
エステル（２．１９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（８ｍｌ）中溶液を滴下する。２０分後、１−ブロモ
ドデカン（２．３ｍｌ）を加え、溶液を室温で３時間攪
拌する。反応物をエチルアセテート−１Ｎ塩酸で冷却す
る。分離した有機層を水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、留去し、その残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル溶出）で精
製し、２．４２ｇのＮ−ドデシル−Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニルβ−アラニンメチルエステルを油として得
る。 ＩＲ（ニート） ２９２５，２８５４，１７３９，１７
０５ｃｍ-1
【０２９７】製造例９９ 製造例７と同様にしてＮ−ドデシル−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−β−アラニンメチルエステルからＮ−ド
デシル−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−アラニン
を得る。 ＩＲ（ニート）２９２５．２８５４，１７３４，１７０
３ｃｍ-1
【０２９８】製造例１００ 製造例８と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ニート）２９２５，２８５４，１８１８，１７３
２，１７０１ｃｍ-1
【０２９９】製造例１０１ 製造例５０（１）及び５０（２）と同様にして出発化合
物から目的化合物を得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）１６６６，１６４９ｃｍ-1 ＬＤ−ＭＳ Ｍ／Ｚ １６３７．６６（ＭＨ+）
【０３００】実施例８２ 出発化合物（３３０ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（２００ｍｌ）中溶液に、１−ヒドロキシベンゾト
リアゾール（１３２ｍｇ）と１−エチル−３−（３−ジ
メチル−アミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２２
４ｍｇ）を加え、混合物を常温で６．５時間攪拌する。
減圧下で溶媒を取り除いた後、残渣をＯＤＳ中圧カラム
（ＹＭＣ ＧＥＬ ＯＤＳ−ＡＭ１２０−Ｓ５０）で精
製し、目的化合物（２８０ｍｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．７〜１．０（１
２Ｈ，ｍ），１．０〜１．２（１６Ｈ，ｍ），１．３５
（９Ｈ，ｓ），１．２〜１．４（４Ｈ，ｍ），１，５〜
２．４（７Ｈ，ｍ），２．６５（４Ｈ，ｍ），２．９
（２Ｈ，ｍ），３．３〜４．６（２９Ｈ，ｍ），４．６
〜５．３（８Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５ＨZ），６．７（１Ｈ，ｍ），６．９２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５ＨZ），６．９〜７．６（１１Ｈ，ｍ），
７．９〜８．３（１０Ｈ，ｍ）
【０３０１】実施例８３ 出発化合物（１４０ｍｇ）のトリフルオロ酢酸（３ｍ
ｌ）中溶液を、常温で２時間攪拌する。減圧下で溶媒を
取り除いた後、その残渣をＨＰ−２０カラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的化合物（１１０ｍｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．７５〜１．４
（３２Ｈ，ｍ），１．４〜２．４（７Ｈ，ｍ），２．５
〜２．９（６Ｈ，ｍ），３．３〜５．３（３７Ｈ，
ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），６．８
５〜７．６（１４Ｈ，ｍ），８．０〜８．３（１１Ｈ，
ｍ）
【０３０２】実施例８４ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．６〜１．５（３
８Ｈ，ｍ），１．３５（９Ｈ，ｓ），１．７〜２．３
（７Ｈ，ｍ），２．６〜２．９（４Ｈ，ｍ），３．６〜
５．３（３７Ｈ，ｍ），６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５ＨZ），６．６５（１Ｈ，ｍ），６．９〜７．４（６
Ｈ，ｍ），７．５〜７．８（４Ｈ，ｍ），７．９〜８．
３（１１Ｈ，ｍ）９．１４（１Ｈ，ｓ）
【０３０３】実施例８５ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）； ０．８〜１．６（３
８Ｈ，ｍ），１．７〜２．３（７Ｈ，ｍ），２．６〜
３．０（４Ｈ，ｍ），３．５〜５．４（３７Ｈ，ｍ），
６．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９〜８．
３（２３Ｈ，ｍ），９．１５（１Ｈ，ｓ）
【０３０４】実施例８６ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．８〜１．６（３７
Ｈ，ｍ），１．４２（９Ｈ，ｓ），１．６〜２．３（７
Ｈ，ｍ），２．７〜３．１（４Ｈ，ｍ），３．３０（３
Ｈ，ｓ），３．３８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３ＨZ），
３．８〜５．０（２８Ｈ，ｍ），５．２８（１Ｈ，
ｍ），６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），６．９
５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０ＨZ），７．０３（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．３〜７．５（６Ｈ，ｍ）
【０３０５】実施例８７ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．８〜１．７（３７
Ｈ，ｍ），１．７〜２．６（７Ｈ，ｍ），２．６５〜
３．１（４Ｈ，ｍ），３．３０（３Ｈ，ｓ），３．３８
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３ＨZ），３．６〜５．１（２８
Ｈ，ｍ），５．２４（１Ｈ，ｍ），６．９１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
９ＨZ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），７．
３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），７．４９（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．９ＨZ），７．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
３ＨZ）
【０３０６】実施例８８ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．８５〜１．３（２３
Ｈ，ｍ），１．４２（９Ｈ，ｓ），１．５〜２．６（１
５Ｈ，ｍ），２．７〜３．２（４Ｈ，ｍ），３．３３
（３Ｈ，ｓ），３．４３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７
ＨZ），３．６〜５．０（３０Ｈ，ｍ），５．２８（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５ＨZ），６．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５ＨZ），７．０（４Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．１ＨZ），７．５７（４Ｈ，ｍ），７．６
３（４Ｈ，ｓ）
【０３０７】実施例８９ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．９〜１．７（３１
Ｈ，ｍ），１．７〜２．５（７Ｈ，ｍ），２．６〜３．
０５（４Ｈ，ｍ），３．３０（３Ｈ，ｓ），３．４〜
５．１（３０Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，ｍ），６．７
〜８．２（１６Ｈ，ｍ）
【０３０８】実施例９０ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．９〜１．７（３４
Ｈ，ｍ），１．４２（９Ｈ，ｓ），１．８〜２．６（１
１Ｈ，ｍ），２．７〜３．２（４Ｈ，ｍ），３．７〜
５．０（２８Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，ｍ），６．７
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．０２（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．１〜８．０（１０Ｈ，ｍ）
【０３０９】実施例９１ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）；０．８〜１．０（９Ｈ，
ｍ），１．１５〜１．６０（２５Ｈ，ｍ），１．８〜
２．６（１１Ｈ，ｍ），２．７〜３．０（４Ｈ，ｍ），
３．６〜５．１（２８Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，
ｍ），６．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．０
５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ）．７．１〜８．０（１
０Ｈ，ｍ）
【０３１０】実施例９２ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．７５〜１．０５
（９Ｈ，ｍ），１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３
ＨZ），１．１２〜１．４０（３４Ｈ，ｍ），１．４６
（９Ｈ，ｓ），１．５０〜２．６５（１５Ｈ，ｍ），
２．７５〜３．００（２Ｈ，ｍ），３．６０〜４．７０
（２３Ｈ，ｍ），４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３
ＨZ），５．０２〜５．２０（１Ｈ，ｍ），６．８７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．１０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５ＨZ）
【０３１１】実施例９３ 出発化合物（４４０ｍｇ）のトリフルオロ酢酸（１８ｍ
ｌ）中溶液を、０〜５℃で１．５時間、室温で１時間攪
拌する。トリフルオロ酢酸を減圧下で留去によって取り
除き、エチルアセテートを加え、混合物を乾燥するまで
再度留去する。水を加え、溶液を凍結乾燥し、粗生成物
（０．４５ｇ）を得る。粗生成物をＹＭＣ ＯＤＳシリ
カカラムクロマトグラフィー（アセトニトリル−ｐＨ３
燐酸塩緩衝混合物で溶出）で精製する。生成物を含む画
分をプールし、留去して、アセトニトリルを取り除く。
その溶液をＯＤＳカラムに付すことによって脱塩し、水
で洗浄し、９０％アセトニトリル−水で溶出し、その溶
出液を留去し、凍結乾燥して、目的化合物を白色の無定
形粉末として得る（３６９．９ｍｇ）。 ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．７５〜１．０（９
Ｈ，ｍ），１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３ＨZ），
１．１５〜１．４３（３４Ｈ，ｍ），１．５〜２．６５
（１５Ｈ，ｍ），２．７５〜３．００（２Ｈ，ｍ），
３．５８〜４．７０（２３Ｈ，ｍ），５．００（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝３．６ＨZ），５．０３〜５．２（１Ｈ，
ｍ），６．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．１
１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），
【０３１２】実施例９４ 出発化合物（２４８ｍｇ）と１−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニルピペラジン（３２．８ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（２．５ｍｌ）中溶液を、１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール（２３．８ｍｇ）で処理し、続い
て１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド塩酸塩（４６ｍｇ）で処理する。溶液を
室温で３時間攪拌する。エチルアセテートを加え、固形
物を分取し、乾燥する。粗生成物を水に溶解させ、ＯＤ
Ｓカラムクロマトグラフィーで精製し、アセトニトリル
−水の混合液で溶出する。生成物を含む画分をプール
し、留去して、有機溶媒を取り除き、凍結乾燥して、目
的化合物を白色の固形物（２００ｍｇ）として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．７５〜１．００
（９Ｈ，ｍ），１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０
ＨZ），１．１５〜１．４３（３４Ｈ，ｍ），１．４７
（９Ｈ，ｓ），１．５０〜２．６６（１５Ｈ，ｍ），
２．７４〜３．０２（２Ｈ，ｍ），３．３０〜４．７５
（３１Ｈ，ｍ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０
ＨZ），５．０５〜５．２５（１Ｈ，ｍ），６．８９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），７．１０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．３ＨZ）
【０３１３】実施例９５ 出発化合物（１７０ｍｇ）のトリフルオロ酢酸（１０ｍ
ｌ）中溶液を、室温で４時間保持し、減圧下で乾燥する
まで留去する。エチルアセテートをその残渣に加え、溶
液を乾燥するまで再び留去する。粗生成物を１００ｍｌ
の水に溶解させ、ＯＤＳカラムクロマトグラフィーで精
製する。生成物を含む画分をプールし、留去し、０．１
Ｎ塩酸でｐＨ２に調整し、アンバーリストＡ−２６（Ｃ
ｌ-型）イオン交換樹脂のショートカラムを通し、水で
抽出し、その溶出液を凍結乾燥し、１２２．６ｍｇの目
的化合物を白色無定形固形物として得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．７０〜１．００
（９Ｈ，ｍ），１．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５
ＨZ），１．１８〜１．４４（３４Ｈ，ｍ），１，４４
〜２．６５（１５Ｈ，ｍ），２．７０〜３．３０（６
Ｈ，ｍ），３．３０〜４．８０（２７Ｈ，ｍ），５．０
０〜５．２５（２Ｈ，ｍ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４ＨZ），７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４ＨZ）
【０３１４】参考例１ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．８２〜１．００
（９Ｈ，ｍ），１．１０〜１．６５（４４Ｈ，ｍ），
１．４３（９Ｈ，ｓ），１．８２〜２．６０（８Ｈ，
ｍ），２．８５〜３．１２（４Ｈ，ｍ），３．６０〜
４．８６（２５Ｈ，ｍ），６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５ＨZ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ）
【０３１５】実施例９６ 実施例９３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ3ＯＤ，δ）； ０．７６〜１．００
（９Ｈ，ｍ），１．１５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３
ＨZ），１．１８〜１．６５（４０Ｈ，ｍ），１．６５
〜２．６０（９Ｈ，ｍ），２．８０〜３．０５（４Ｈ，
ｍ），３．５８〜４．９０（２４Ｈ，ｍ），５．０４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０ＨZ），６．９０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５ＨZ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５
ＨZ）
【０３１６】実施例９７ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３４６，２９７２，２９２７，２８
５６，１６５７，１５３１，１５２２ｃｍ-1
【０３１７】実施例９８ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３９６，２９２５，２８５４，１６
６０，１５２９，１４４６ｃｍ-1
【０３１８】実施例９９ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３３３６，１６５５，１５１６，１４
４８，１２４８ｃｍ-1
【０３１９】実施例１００ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ） ３２９８，２９３３，２８６０，１６
６８，１５４１，１５１６，１４５２，１２４６，１２
０３，１１８０，１１３８ｃｍ-1
【０３２０】実施例１０１ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＦＡＢ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６９１（ＭＨ+）
【０３２１】実施例１０２ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：２９２９，２８５６，１７８６，１６
６０ｃｍ-1 ＦＡＢ−ＭＳ Ｍ／Ｚ １６１４（Ｍ＋Ｎａ）
【０３２２】実施例１０３ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：２９３５，１６７８，１４５２，１２
４６，１１７６，１０９９ｃｍ-1
【０３２３】実施例１０４ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６２，１６４７，１５３９，１５
１６，１２４８ｃｍ-1
【０３２４】実施例１０５ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０４，３３７３，１７３２，１６
６６，１６５５，１５３７，１５２３ｃｍ-1
【０３２５】実施例１０６ 実施例９５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＬＤ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １３９４．０３ （M+）
【０３２６】実施例１０７ 出発化合物（１．２ｇ）の１：１テトラヒドロフラン−
水（３０ｍｌ）中溶液を、トリエチルアミン（０．５ｍ
ｌ）で処理し、続いてジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネ
ート（０．２５ｇ）で処理する。室温で２４時間置いた
後、さらにジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（１．
０ｇ）とトリエチルアミン（１ｍｌ）を加え、その混合
物を１時間攪拌し、有機溶媒を留去して取り除く。残渣
を１Ｎ塩酸でｐＨ２に調整し、ＯＤＳカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、凍結乾燥後、合計３５８ｍｇの目的
化合物を無定形白色粉末として得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３３４，１７３２，１６６６，１６
５３，１５３７，１５２２ｃｍ-1
【０３２７】実施例１０８ 実施例９４と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３９２，１６６８，１６５３，１５
３９，１５１４ｃｍ-1
【０３２８】実施例１０９ 実施例９４と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０４，１６７６，１６６８，１６
５１，１５５４，１５４１，１５２３ｃｍ-1
【０３２９】実施例１１０ 実施例９４と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１１，２９４６，２９３１，１６
６８，１６５３，１５３９，１５２２ｃｍ-1
【０３３０】実施例１１１ 実施例９５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３４０２，３２５１，１６５３，１５
３９，１５１６，１４５４，１４００
【０３３１】実施例１１２ 実施例９５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３９２，１６５３，１５３９，１５
２３，１４５６，１３９４，１２４８ｃｍ-1
【０３３２】実施例１１３ 実施例９５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３９８，２９６２，２９３５，１６
５３，１５３９，１５２３，１４５４，１３９２，１２
４６ｃｍ-1
【０３３３】実施例１１４ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１１，３０７６，２９３１，１６
６０，１５１８，１４４６，１２４６，１１７１，１０
９７ｃｍ-1
【０３３４】実施例１１５ 実施例８３と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３３８，２９３３，１６６４，１５
１６，１４４６，１２４４，１２０１，１１８２，１１
３８，１０９９ｃｍ-1
【０３３５】実施例１１６ 実施例８２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：１６６６，１６４９，１５５４，１５
３９，１５２３ｃｍ-1
【０３３６】実施例１１７ 実施例９５と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＩＲ（ＫＢｒ）：３３６７，２９２７，１６５１，１５
３７，１５２３，１４５４ｃｍ-1
【０３３７】実施例１１８ 出発化合物（５００ｍｇ）の酢酸（５ｍｌ）中溶液を、
ＩＭ亜硝酸ナトリウム水溶液（１．２７ｍｌ）で処理
し、溶液を室温で８日間攪拌し、水で５００ｍｌまで希
釈し、アセトニトリル−水の混合物で溶出するＯＤＳカ
ラムクロマトグラフィーで精製する。生成物を含む画分
をプールし、留去して有機溶媒を取り除き、凍結乾燥し
て、３７０ｍｇの目的化合物を黄色の粉末として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６２０（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３０９．２，１７３３．７，１６
５６．６，１５３５．１，１４４６．４ｃｍ-1
【０３３８】実施例１１９ 出発化合物（３５０ｍｇ）のメタノール（１５ｍｌ）中
溶液を、水素雰囲気下１気圧で５時間、１０％湿パラジ
ウム−炭素（５０ｍｇ）で処理し、濾過し、留去する。
残渣を水（１０ｍｌ）に溶解させ、凍結乾燥して、目的
化合物（３０２ｍｇ）を白色の粉末として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １５９０（ＭＨ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３２０．８，１７３１．８，１６
５４．６，１５２９．３，１４４８．３ｃｍ-1
【０３３９】実施例１２０ 出発化合物（２４８ｍｇ）、１−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール（２５．３ｍｇ）、Ｎ−３級ブトキシカルボニ
ル−β−アラニン（３５．４ｍｇ）、Ｎ−エチル−Ｎ−
３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩（４
８ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍｌ）中
溶液を、２０時間攪拌し、エチルアセテート（約５０ｍ
ｌ）で処理し、その沈殿物を収集して乾燥する。この固
形物を水に溶解させ、アセトニトリル−水の混合物で溶
出するＯＤＳカラムクロマトグラフィーで精製する。生
成物を含む画分を分けてにプールし、留去し、凍結乾燥
して、目的化合物Ａ（１３３ｍｇ）と目的化合物Ｂ（５
６ｍｇ）を白色無定形粉末として得る。 目的化合物Ａ ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７８４．４（Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３１５．０，１７３３．７，１６
５２．７，１５３８．９，１５２３．５ｃｍ-1 目的化合物Ｂ ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １９３３．３ （ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３１３．１，１７３５．６，１６
５４．６，１５３８．９，１５２５．４ｃｍ-1
【０３４０】実施例１２１ 出発化合物（１３０ｍｇ）のトリフルオロ酢酸（６ｍ
ｌ）中溶液を、室温で２．５時間攪拌し、真空中で乾燥
まで留去する。エチルアセテートを加え、混合物を再留
去する（５回繰り返す）。粗製残渣を高真空下で２時間
乾燥し、水に溶解させ、０．１Ｎ塩酸（５ｍｌ）で処理
し、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ Ａ−２６（Ｃｌ ―−型）カラ
ムを通し、凍結乾燥して、１１６ｍｇの目的化合物を白
色の粉末として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６６２（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３２９７．７，１８３５．６，１６
５４．６，１５４０．８，１４４４．４ｃｍ-1
【０３４１】実施例１２２ 窒素雰囲気下０℃の出発化合物（１００ｍｇ）と、４Å
モレキュラーシーブズ（２５０ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（２ｍｌ）中溶液を、塩化シアヌル（１
２ｍｇ）で処理し、同じ温度で１時間、室温で１時間攪
拌する。０℃まで再冷却した後、６ｍｇの塩化シアヌル
を加える。２時間後、さらに６ｍｇの塩化シアヌルを加
え、続いて１時間後さらに６ｍｇ加える。さらに１０分
後、反応物をｐＨ４の緩衝液で冷却し、０℃に１８時間
保ち、水で希釈し、アセトニトリル−水の混合物で溶出
するＯＤＳクロマトグラフィーで精製し、凍結乾燥後に
５３．４ｍｇの目的化合物を白色無定形粉末として得
る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）０．７５〜１．３５（４
６Ｈ，ｍ），１．３５〜２．２０（１１Ｈ，ｍ），１．
７８（３Ｈ，ｓ），２．３０〜３．１０（８Ｈ，ｍ），
３．５５〜４．４７（２２Ｈ，ｍ），４．４７〜４．６
７（２Ｈ，ｍ），１．７０〜４．９０（３Ｈ，ｍ），
４．９５〜５．２８（４Ｈ，ｍ），５．７８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６ＨZ），６．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３
ＨZ），６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），７．４
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５ＨZ），７．７２〜８．３８
（１０Ｈ，ｍ），９．１２（１Ｈ，ｓ）
【０３４２】実施例１２３ 実施例１１８と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １５７８．８ （Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７３１．８，１６５６．６，１５
３７．０，１４５０．２ｃｍ-1
【０３４３】実施例１２４ 出発化合物（２０３ｍｇ）のメタノール（５ｍｌ）中溶
液を、５０％湿パラジウム−炭素、水（５ｍｌ）、ホウ
化水素ナトリウム（２４ｍｇ）で処理する。５分後、５
ｍｌの酢酸を加え、その反応物を室温で１時間攪拌す
る。反応物を水で希釈し、濾過し、ＯＤＳカラムクロマ
トグラフィーで精製し、アセトニトリル−水の混合物で
抽出する。生成物を含む画分をプールし、留去し、凍結
乾燥して、７８ｍｇの目的化合物を白色の粉末として得
る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １５４８（ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３０５．４，１７３１．８，１６
５６．６，１５３３．１，１４５２．１ｃｍ-1
【０３４４】参考例２ 出発化合物（１．０ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（１０ｍｌ）中溶液を、ジイソプロピルエチルアミン
（１２３．５ｍｇ）とジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネ
ート（１６７ｍｇ）で処理する。１８時間後、水を総量
５００ｍｌまで加え、０．１Ｎ塩酸でｐＨ６．０に調整
する。アセトニトリル−水の混合物で溶出するＯＤＳク
ロマトグラフィーでの精製、続いて生成物を含む画分を
凍結乾燥し、目的化合物（１．１ｇ）を白色の粉末とし
て得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １５３３ ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１５．０，１７３３．７，１６４
５．０，１５１７．７ｃｍ-1
【０３４５】実施例１２５ 参考例２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １５７８，１７０１．８
（ＭＨ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７３３．７，１６５４．６，１５
３７．０ｃｍ-1
【０３４６】実施例１２６ 実施例１１８と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７００ （Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ２９２７．４，１７３３．７，１６
５４．６，１５３７．０，１４５２．１ｃｍ-1
【０３４７】実施例１２７ 実施例１１９と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６７１．９ （ＭＨ＋Ｎ
ａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３０１．５，１７２９．８，１６
５２．７，１５２３．５，１４５０．２ｃｍ-1
【０３４８】実施例１２８ 出発化合物（５００ｍｇ）、過剰の４Åモレキュラーシ
ーブズのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍｌ）中
混合物を、グリオキシル酸一水和物（１４１ｍｇ）で１
８時間室温で処理し、水で希釈し、膜フィルターを通し
て濾過する。溶液をｐＨ６．８６に調整し、アセトニト
リル−水の混合物で溶出するＯＤＳカラムクロマトグラ
フィーで精製する。生成物を含む画分をプールし、留去
して有機溶媒を取り除き、０．１Ｎ塩酸でｐＨ３に調整
し、凍結乾燥し、３５０ｍｇの目的化合物を白色の粉末
として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７３０（ＭＨ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）：３３１８．９，１７３７．５，１６５
２．７，１５３７．０，１５２１．６，１４５２．１ｃ
ｍ-1
【０３４９】実施例１２９ 出発化合物（２１８ｍｇ）のトリフルオロ酢酸（２ｍ
ｌ）中溶液を室温で２時間保持し、真空中で乾燥するま
で留去する。エチルアセテート（５ｍｌ）を加え、その
混合物を再留去する（３回繰り返す）。粗製残渣を１５
分間高真空下で乾燥し、水に溶解させ、０．１Ｎ塩酸で
ｐＨ１．５に調整し、ＡｍｂｅｒｌｉｓｔＡ−２６（Ｃ
ｌ-−型）のイオン交換樹脂のカラムを通し、最終的に
凍結乾燥して、目的化合物（１２１ｍｇ）を白色の粉末
として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６０８（Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）：３２９７．７，１７３３．７，１６５
４．６，１５２３．５，１４４８．３ｃｍ-1
【０３５０】実施例１３０ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物Ａ
およびＢを得る。 目的化合物Ａ ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １８４２ （ＭＨ+＋Ｎａ） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３２２．７，２９２７．４，１７
３２，１６５６．６，１５３５．１，１４５０．２ｃｍ
-1 目的化合物Ｂ ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １９９１ （Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３１８．９，２９２９．３，１６
６０．４，１６５４．６，１５３５．１，１５２５．４
ｃｍ-1
【０３５１】実施例１３１ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １９８５ （ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３１７．０，２９７５．６，２９
２９．３，２８５６．１，１７５８．８，１６６０．
４，１５３１．２，１４４６．４，１３９０．４，１２
８０．５，１２５３．５，１１６０．９ｃｍ-1
【０３５２】実施例１３２ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １９３８ （Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３４０１．８，２９７３．７，２９
２７．４，２８５６．１，１７３５．６，１６６０．４
【０３５３】実施例１３３ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３２６．６，２９７３．７，２９
２７．４，２８５６．１，１６５４．６，１５９６．
８，１５３３．１，１４４６．４ｃｍ-1
【０３５４】実施例１３４ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １９４１ （Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３２９３．８，２９７５．６，２９
３１．３，２８５６．１，１７２６，１６５８，１５３
１，１４４６，１３６９，１２４９，１１５０，１０８
７ｃｍ-1
【０３５５】実施例１３５ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １８５７ （Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １６６４．３，１６３７．３，１５
３１．２ｃｍ-1
【０３５６】実施例１３６ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７８６ （Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３８０．６，１７２７．９，１６
６０．４，１５４８．６，１５３３．１，１４４６．４
ｃｍ-1
【０３５７】実施例１３７ 出発化合物（２００ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（２ｍｌ）中溶液を、ジイソプロピルエチルアミン
（２４ｍｌ）で処理し、続いて５ｍｌＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド中メタンスルホニルクロライド（１１ｍ
ｌ）で処理する。５時間後、さらにメタンスルホニルク
ロライド（１１ｍｌ）とジイソプロピルエチルアミン
（２４ｍｌ）を加え、その混合物を２４時間室温で攪拌
する。その混合物を水で希釈し、アセトニトリル−水の
混合物で溶出するＯＤＳカラムクロマトグラフィーで精
製し、目的化合物（１６３ｍｇ）を得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７５０（Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ２９２７．４，１７２７，１６６
４．３，１６４３．１，１５２９．３ｃｍ-1
【０３５８】実施例１３８ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １９５７ （Ｍ＋Ｎａ）+
【０３５９】実施例１３９ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６１９ （ＭＨ+，フリ
ー） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３２９５．７，１７３３．７，１６
５４．６，１５３７．０，１４５０．２ｃｍ-1
【０３６０】実施例１４０ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６８５ （Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３２９０．０，２９２７．４，１７
２９．８，１６５８．５，１５３３．１，１４４６．４
ｃｍ-1
【０３６１】実施例１４１ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７１６ （Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３２２．７，２９２７．４，１７
２７．９，１６５６．６，１５３３．１，１４４６．４
ｃｍ-1
【０３６２】実施例１４２ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３８０．６，２９２７．４，１７
０８．６，１６５８．５，１５３３．１ｃｍ-1
【０３６３】実施例１４３ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６６３ （Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２７．９，１６６０．４，１６
３７．３，１５５２．４，１６３７．３ｃｍ-1
【０３６４】実施例１４４ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６５７ （Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２２，１６６４．３，１６３
５．３ｃｍ-1
【０３６５】実施例１４５ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ （ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： １６６４．３，１６３５．３ｃｍ-1
【０３６６】実施例１４６ 出発化合物（２００ｍｇ）とコハク酸無水物（１２ｍ
ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）中溶液
を、４−ジメチルアミノピリジンで処理し、一晩攪拌
し、留去し、エチルアセテートで沈殿させる。乾燥した
粉末を過剰のトリフルオロ酢酸中に溶解させ、１．５時
間室温で攪拌し、留去し、ＯＤＳクロマトグラフィーで
精製し、目的化合物（４０ｍｇ）を得る。 ＬＤ−ＭＳ：Ｍ／Ｚ １６４８（Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３０９．２，２９２７．４，１７
２７．９，１６５８．５，１５３８．９，１４４６．４
ｃｍ-1
【０３６７】実施例１４７ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６９９．２５ （Ｍ＋Ｎａ
+） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３０５．４，２９２７．４，１７
３３．７，１６５６．６，１５３５．１ｃｍ-1
【０３６８】実施例１４８ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６２６．３９ （Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２７．９，１６６４．３，１５
３１．２ｃｍ-1
【０３６９】実施例１４９ 室温で出発化合物（３００ｍｇ）の酢酸（１２ｍｌ）中
溶液を、６％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（２３７ｍ
ｌ）で処理する。３時間後、さらに６％次亜塩素酸ナト
リウム水溶液（１１８ｍｌ）を加え、もう１時間後さら
に６％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（１１８ｍｌ）を加
え、反応をさらに１時間継続する。溶液を留去し、残渣
を水（１００ｍｌ）に溶解させ、０．１Ｎ塩酸でｐＨ２
に調整する。この溶液をアセトニトリル−水の混合物で
溶出するＯＤＳカラムクロマトグラフィーで精製し、２
つの画分を得る。各画分を分けて留去しアセトニトリル
を取り除き、０．１Ｎ塩酸でｐＨ２．８に調整し、Ａｍ
ｂｅｒｌｙｓｔ Ａ−２６（Ｃｌ―−型）イオン交換樹
脂のカラムを通し、凍結乾燥して、目的化合物Ａ（１４
２．２ｍｇ）と目的化合物Ｂ（２５．１ｍｇ）を白色無
定形粉末として得る。 目的化合物Ａ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，δ）：０．７０〜１．３６
（４６Ｈ，ｍ），１，３６〜２．５５（１５Ｈ，ｍ），
２．５５〜３．１０（４Ｈ，ｍ），３．５０〜４．１０
（１１Ｈ，ｍ），４．１０〜４．６３（１３Ｈ，ｍ），
４．７５〜４．９５（３Ｈ，ｍ），４．９５〜５．４０
（５Ｈ，ｍ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３
ＨZ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３ＨZ），６．９
５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．１３（１Ｈ，ｓ），７．１８
（１Ｈ，ｂｒｓ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
Z），７．６２〜８．４０（１２Ｈ，ｍ），９．９４
（１Ｈ，ｂｒ） 目的化合物Ｂ1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）： ０．７０〜１．３６
（４６Ｈ，ｍ），１．３６〜２．５５（１５Ｈ，ｍ），
２．５５〜３．１０（４Ｈ，ｍ），３．５０〜４．０５
（１１Ｈ，ｍ），４．０５〜４．６０（１３Ｈ，ｍ），
４．６０〜５．４０（８Ｈ，ｍ），６．９６（１Ｈ，ｂ
ｒｓ），７．１７（２Ｈ，ｓ），７．１２〜７．２０
（１Ｈ，ｂｒ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９
ＨZ），７．４０〜８．４５（１２Ｈ，ｍ），９．８９
（１Ｈ，ｓ）
【０３７０】実施例１５０ ０〜５℃で出発化合物（５００ｍｇ）のメタノール（２
０ｍｌ）中溶液を、ヨウ化ナトリウム（４８ｍｇ）で処
理し、続いて６％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（３９５
ｍｌ）で処理する。同じ温度で６時間置いた後、ヨウ化
ナトリウム（４８ｍｇ）と６％次亜塩素酸ナトリウム水
溶液（３９５ｍｌ）を加え、その水溶液をさらに１時間
保持し、１０％チオ硫酸ナトリウム溶液で冷却し、留去
する。残渣を水に溶解させ、ｐＨ３に調整し、アセトニ
トリル−水の混合物で溶出するＯＤＳカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、生成物を含む画分をプールし、留去
して有機溶媒を取り除き、ｐＨ２．８に調整し、Ａｍｂ
ｅｒｌｙｓｔ Ａ−２６（Ｃｌ―−型）イオン交換樹脂
のカラムを通し、凍結乾燥し、目的化合物（１１４．９
ｍｇ）を白色の固形物として得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６５９（Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３０３．５，２９２７．４，１７
２９．８，１６５４．６，１５３５．１，１４４８．３
ｃｍ-1
【０３７１】実施例１５１ 出発化合物（５００ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチルブロモア
セテート（２００ｍｌ）、炭酸カリウム（３０ｍｇ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）中溶液を、
室温で２４時間攪拌し、水で希釈し、アセトニトリル−
水の混合物で溶出するＯＤＳカラムクロマトグラフィー
で精製する。生成物画分をプールし、留去し、凍結乾燥
して、４５０ｍｇの目的化合物を得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １８０５．１２（Ｍ＋Ｎａ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ２９７１．８，２９２７．４，２８
５４．１，１７３３．７，１６５４．６，１５３３．
１，１５１７．７，１４５０．２ｃｍ-1
【０３７２】実施例１５２ 実施例１５１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。1 Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）： ０．７５〜１．４０
（４６Ｈ，ｍ），１．４０〜２．５５（１５Ｈ，ｍ），
２．５５〜３．１０（４Ｈ，ｍ），３．０２（９Ｈ，
ｓ），３．５５〜４．０８（１１Ｈ，ｍ），３．７０
（３Ｈ，ｓ），４．１０〜４．５０（１１Ｈ，ｍ），
４．５０〜４．６５（２Ｈ，ｍ），４．７８〜５．３０
（８Ｈ，ｍ），６．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），
６．９４（１Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
６），７．１３（１Ｈ，ｓ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５），７．７０〜８．３８（９Ｈ，ｍ）
【０３７３】実施例１５３ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７４８．４５ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３２４．７，２９２７．４，１７
３１．８，１６５８．５，１５３１．２，１５１７．
７，１４４８．３ｃｍ-1
【０３７４】実施例１５４ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７７４．５７ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ２９２７．４，１７３７．５，１６
５４．６，１５３１．２，１５１７．７，１４４８．
３，１２４０．０ｃｍ-1
【０３７５】実施例１５５ 実施例１１９と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３６７．１，２９２７．４，２８
５４．１，１７３３．７，１６５４．６，１５３３．
１，１４５０．２，１２３５．２ｃｍ-1
【０３７６】実施例１５６ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １８５５．０９ （Ｍ＋Ｎａ） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７３３．７，１６５４．６，１５
３８．９，１５１５．８ｃｍ-1
【０３７７】実施例１５７ 実施例１１９と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： １６９８．９７（Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ２９２５．５，１７３１．８，１６
５８．５，１５３７．０，１４４８．３ｃｍ-1
【０３７８】実施例１５８ 実施例１５１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７６９．３８ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２７．９，１６６４．３，１６
４３．１ｃｍ-1
【０３７９】実施例１５９ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６１４．８８ （ＭＨ+＋Ｎ
ａ） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３２８．５，２９２７．４，１７
３３．７，１６５４．６，１５３５．１ｃｍ-1
【０３８０】実施例１６０ 参考例２と同様にして出発化合物から目的化合物を得
る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７１３．９５ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３６９，２９２７．４，１７３
３．７，１６５８．５ｃｍ -1
【０３８１】実施例１６１ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １８５５．７２ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３６５．２，２９２７．４，１６
５８．５，１５３１．２，１５１７．７，１４４８．３
ｃｍ-1
【０３８２】実施例１６２ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＩＲ（ＫＢｒ）： １７３１．８，１６５８．５，１５
３５．１，１４４６．４ｃｍ-1
【０３８３】実施例１６３ 出発化合物（６０ｍｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍ
ｌ）中溶液を、１，１’−カルボニルジイミダゾール
（５．９ｍｇ）の存在下室温で７日間攪拌する。留去し
た後、残渣をＯＤＳカラムクロマトグラフィーで精製
し、４０ｍｇの目的化合物を白色無定形粉末として得
る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６９６．６ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７６４．５，１７４１．４，１６
５８．５ｃｍ-1
【０３８４】実施例１６４ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＦＡＢ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １５７４ （Ｍ＋Ｈ）+ ＩＲ（ＫＢｒ）： １７６４．５，１６５４．６，１５
３７．０ｃｍ-1
【０３８５】実施例１６５ 実施例１５１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７７２．１５ （Ｍ＋Ｎａ） ＩＲ（ＫＢｒ）： １６５４．６，１５３３．１ｃｍ-1
【０３８６】実施例１６６ 実施例１１９と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７１１．０３ （ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７３３．７，１６６６．２，１６
５４．６，１５２３．５ｃｍ-1
【０３８７】実施例１６７ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １５８８．４５ （ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２７．９，１６６４．３，１５
３１．２ｃｍ-1
【０３８８】実施例１６８ 実施例１５１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １８１４．０６ （Ｍ＋Ｎ
ａ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： ２９２９．３，１７２７．９，１６
６４．３，１６４３．１，１５４６．６，１５３１．
２，１４４６．４ｃｍ-1
【０３８９】実施例１６９ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６３６．３６ （ＭＨ+） ＩＲ（ＫＢｒ）： １７２７．９，１６６４．３，１６
２７．６，１５３１．２ｃｍ-1
【０３９０】実施例１７０ 実施例１１９と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １７８５．０９ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３２４．７，２９２７．４，１７
３７．５，１６５８．５，１５２５．４，１４４８．３
ｃｍ-1
【０３９１】実施例１７１ 実施例１２０と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １９５７．２９ （Ｍ＋Ｎａ）
+ ＩＲ（ＫＢｒ）： ２９２９．３，１７３１．８，１６
６６．２，１５３５．１ｃｍ-1
【０３９２】実施例１７２ 実施例１２１と同様にして出発化合物から目的化合物を
得る。 ＬＤ−ＭＳ： Ｍ／Ｚ １６７７ （Ｍ+，フリー） ＩＲ（ＫＢｒ）： ３３７１．０，２９２７．４，１７
３３．７，１６５８．５，１５３８９．ｃｍ-1
フロントページの続き (72)発明者 大木 秀徳 兵庫県宝塚市中筋４−４−13−107 (72)発明者 山中 秀昭 大阪府枚方市楠葉中之芝２−77−10 (72)発明者 川端 浩二 兵庫県川西市丸山台２−５−30

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】下記一般式（Ｉ）： ［式中、Ｒ1は水素、アルキル基、低級アルコキシアル
    キル基、カルボキシ基、適当な置換基を有していてもよ
    いカルバモイル基、適当な置換基を有していてもよいア
    リール基、適当な置換基を有していてもよいアル（低
    級）アルキル基、または適当な置換基を有していてもよ
    い複素環式カルボニル基、 Ｒ2はカルボキシ基、保護されたカルボキシ基、適当な
    置換基を有していてもよい複素環式カルボニル基、次式 （式中、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なっていてもよ
    く、水素；または、それぞれが適当な置換基を有してい
    てもよい低級アルキル基、スルホニル基、カルバモイル
    基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル
    基、アル（低級）アルコキシカルボニル基、複素環式カ
    ルボニル基、アロイル基またはシクロ（低級）アルキル
    カルボニル基を意味する）、または次式 （式中、Ｒ5は同一または異なっていてもよく、適当な
    置換基を有しいてもよい低級アルキル基または低級アル
    ケニル基、Ｘは酸残基を意味する）、 Ａは低級アルキレン基、 Ｒ11はヒドロキシ基または適当な置換基を有していても
    よい低級アルコキシ基、 Ｒ12は水素またはハロゲン、 Ｒ13は水素、ニトロ基、アミノ基、アシルアミノ基また
    は、Ｒ11とＲ13とが結合して形成する次式 から選ばれる二価の基、 Ｒ14はシアノ基、適当な置換基を有していてもよいカル
    バモイル基、アミノ（低級）アルキル基または保護され
    たアミノ（低級）アルキル基、 ＺはＯまたはＮ−Ｒ15（式中Ｒ15は水素またはアルキル
    基）、 Ｐは（ＣＨ2）n（式中、ｎは０または１）をそれぞれ意
    味する。］で表される化合物およびその塩。
  2. 【請求項２】Ｒ1が水素；高級アルキル基；低級アルコ
    キシ（高級）アルキル基；カルボキシ基；高級アルキ
    ル、置換基を有していてもよいアリール基および置換基
    を有していてもよい複素環基からなる群から選ばれた１
    個または２個の適当な置換基を有していてもよいカルバ
    モイル基；高級アルコキシおよび置換基を有していても
    よいアリール基からなる群から選ばれた１個から３個の
    適当な置換基を有していてもよいアリール基；高級アル
    コキシを有していてもよいアル（低級）アルキル基；ま
    たは１個から３個の置換基を有していてもよいアリール
    基を有していてもよい複素環式カルボニル基、Ｒ2がカ
    ルボキシ基、保護されたカルボキシ基、低級アルコキシ
    カルボニル基を有していてもよい複素環式カルボニル
    基、次式 で表され、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なっていても
    よく、水素；またはイミノ、カルバモイル、低級アルコ
    キシ、アミノ、低級アルカノイルアミノ、１個から３個
    の置換基を有していてもよい複素環基、低級アルケニル
    オキシカルボニルアミノ、ジアリ−ル（低級）アルコキ
    シカルボニル、ヒドロキシ、３個の置換基を有していて
    もよいアンモニオ、低級アルコキシカルボニルおよびカ
    ルボキシルなる群から選ばれた１個以上の適当な置換基
    を有していてもよい低級アルキル基；低級アルケニル
    基；複素環基またはジ（低級）アルキルアミノ基を有し
    ていてもよいスルホニル基；１個以上の低級アルキルを
    有していてもよいカルバモイル基；カルボキシル、ヒド
    ロキシ、１個または２個の置換基を有していてもよいア
    ミノ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシアリ−
    ル、１個から３個の置換基を有していてもよい複素環
    基、１個から３個の置換基を有していてもよい複素環式
    カルボニル、アル（低級）アルコキシカルボニル、およ
    び低級アルコキシカルボニルからなる群から選ばれた１
    個以上の置換基を有していてもよい低級アルカノイル
    基；アル（低級）アルコキシカルボニル基；低級アルコ
    キシカルボニルおよびヒドロキシからなる群から選ばれ
    た１個以上の置換基を有していてもよい複素環式カルボ
    ニル基；高級アルコキシ、低級アルコキシカルボニルア
    ミノ低級アルキル、アミノ低級アルキル、低級アルコキ
    シカルボニルアミノ低級アルカノイルアミノおよびアミ
    ノ低級アルカノイルアミノ低級アルキルからなる群から
    選ばれた１個以上の置換基を有していてもよいアロイル
    基；またはアミノおよび低級アルコキシカルボニルアミ
    ノからなる群から選ばれた１個以上の置換基を有してい
    てもよいシクロ（低級）アルキルカルボニル基；または
    次式 で表され、Ｒ5が同一または異なっていてもよく、複素
    環基を有しいてもよい低級アルキル基または低級アルケ
    ニル基、Ｘがハロゲン、Ａが低級アルキレン基、Ｒ11が
    ヒドロキシ基；またはカルボキシ基、低級アルコキシカ
    ルボニル基、および１個または２個の置換基を有してい
    てもよいカルバモイル基からなる群から選ばれた１個か
    ら３個の適当な置換基を有していてもよい低級アルコキ
    シ基、Ｒ12が水素またはハロゲン、Ｒ13が水素；ニトロ
    基；アミノ基；アミノ基、保護されたアミノ基、アシル
    基を有していてもよい複素環基、アシル基を有していて
    もよい複素環式カルボニル基、カルボキシ基、保護され
    たカルボキシ基、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ
    基、および低級アルコキシ（低級）アルコキシ基からな
    る群から選ばれた１個から３個の適当な置換基を有して
    いてもよい低級アルカノイルアミノ基；低級アルキルス
    ルホニルアミノ基；ヒドロキシ基、保護されたヒドロキ
    シ基およびアシル基からなる群から選ばれた１個から３
    個の適当な置換基を有していてもよい複素環式カルボニ
    ルアミノ基、または、Ｒ11とＲ13とが結合して形成する
    次式 から選ばれる二価の基、Ｒ14がシアノ基；ヒドロキシ
    基、保護されたヒドロキシ基、カルボキシ基および保護
    されたカルボキシ基からなる群から選ばれた１個から３
    個の適当な置換基を有していてもよいカルバモイル基；
    アミノ（低級）アルキル基；または保護されたアミノ
    （低級）アルキル基、ＺがＯまたはＮ−Ｒ15（式中Ｒ15
    は水素または高級アルキル基）、Ｐが（ＣＨ2）n（式
    中、ｎは０または１）を意味する請求項1記載の化合
    物。
  3. 【請求項３】 下記一般式（ＩＩ）： で表され、Ｒ1が高級アルキル基、Ｒ2がカルボキシ基、
    保護されたカルボキシ基、アシル基を有していてもよい
    ピペラジニルカルボニル基、次式 で表され、Ｒ3およびＲ4は、同一または異なっていても
    よく、水素；またはイミノ、カルバモイル、低級アルコ
    キシ、アミノ、低級アルカノイルアミノ、１個から３個
    の置換基を有していてもよい複素環基、低級アルケニル
    オキシカルボニルアミノ、ジアリ−ル（低級）アルコキ
    シカルボニル、ヒドロキシ、３個の置換基を有していて
    もよいアンモニオ、低級アルコキシカルボニルおよびカ
    ルボキシルなる群から選ばれた１個以上の適当な置換基
    を有していてもよい低級アルキル基；低級アルケニル
    基；複素環基またはジ（低級）アルキルアミノ基を有し
    ていてもよいスルホニル基；１個以上の低級アルキルを
    有していてもよいカルバモイル基；カルボキシル、ヒド
    ロキシ、１個または２個の置換基を有していてもよいア
    ミノ、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシアリ−
    ル、１個から３個の置換基を有していてもよい複素環
    基、１個から３個の置換基を有していてもよい複素環式
    カルボニル、アル（低級）アルコキシカルボニル、およ
    び低級アルコキシカルボニルからなる群から選ばれた１
    個以上の置換基を有していてもよい低級アルカノイル
    基；アル（低級）アルコキシカルボニル基；低級アルコ
    キシカルボニルおよびヒドロキシからなる群から選ばれ
    た１個以上の置換基を有していてもよい複素環式カルボ
    ニル基；高級アルコキシ、低級アルコキシカルボニルア
    ミノ低級アルキル、アミノ低級アルキル、低級アルコキ
    シカルボニルアミノ低級アルカノイルアミノおよびアミ
    ノ低級アルカノイルアミノ低級アルキルからなる群から
    選ばれた１個以上の置換基を有していてもよいアロイル
    基；またはアミノおよび低級アルコキシカルボニルアミ
    ノからなる群から選ばれた１個以上の置換基を有してい
    てもよいシクロ（低級）アルキルカルボニル基；または
    次式 で表され、Ｒ5が同一または異なっていてもよく、複素
    環基を有しいてもよい低級アルキル基または低級アルケ
    ニル基、Ｘがハロゲン、Ａが低級アルキレン基、Ｒ11が
    ヒドロキシ基、；またはカルボキシ基、低級アルコキシ
    カルボニル基、および１個または２個の置換基を有して
    いてもよいカルバモイル基からなる群から選ばれた１個
    から３個の適当な置換基を有していてもよい低級アルコ
    キシ基、Ｒ12が水素またはハロゲン、Ｒ13が水素；ニト
    ロ基；アミノ基；アミノ基、保護されたアミノ基、アシ
    ル基を有していてもよい複素環基、アシル基を有してい
    てもよい複素環式カルボニル基、カルボキシ基、保護さ
    れたカルボキシ基、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキ
    シ基、および低級アルコキシ（低級）アルコキシ基から
    なる群から選ばれた１個から３個の適当な置換基を有し
    ていてもよい低級アルカノイルアミノ基；低級アルキル
    スルホニルアミノ基；またはヒドロキシ基、保護された
    ヒドロキシ基およびアシル基からなる群から選ばれた１
    個から３個の適当な置換基を有していてもよい複素環式
    カルボニルアミノ基、または、Ｒ11とＲ13とが結合して
    形成する次式 から選ばれる二価の基、Ｒ14がシアノ基；ヒドロキシ
    基、保護されたヒドロキシ基、カルボキシ基および保護
    されたカルボキシ基からなる群から選ばれた１個から３
    個の適当な置換基を有していてもよいカルバモイル基；
    アミノ（低級）アルキル基；またはアシルアミノ（低
    級）アルキル基、Ｐが（ＣＨ2）n（式中、ｎは１）を意
    味する請求項1記載の化合物。
  4. 【請求項４】 下記一般式（ＩＩＩ） で表され、Ｒ1が水素；高級アルキル基；低級アルコキ
    シ（高級）アルキル基；高級アルキル、置換基を有して
    いてもよいアリール基および置換基を有していてもよい
    複素環基からなる群から選ばれた１個または２個の適当
    な置換基を有していてもよいカルバモイル基；高級アル
    コキシおよび置換基を有していてもよいアリール基から
    なる群から選ばれた１個から３個の適当な置換基を有し
    ていてもよいアリール基；高級アルコキシを有していて
    もよいアル（低級）アルキル基；または１個から３個の
    置換基を有していてもよいアリール基を有していてもよ
    い複素環式カルボニル基、Ｒ2が次式 で表され、Ｒ3およびＲ4が同一または異なっていてもよ
    く、水素、低級アルコキシカルボニル基、Ａが低級アル
    キレン基、Ｒ11がヒドロキシ基、Ｒ12が水素、Ｒ13が水
    素、Ｒ14がカルバモイル基、Ｒ15が水素または高級アル
    キル基、Ｐが（ＣＨ2）n（式中、ｎは０または１）を意
    味する請求項1記載の化合物。
  5. 【請求項５】有効成分として、請求項１から４のいずれ
    かに記載の化合物またはその塩を含有することを特徴と
    する抗菌剤。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002044160A1 (en) * 2000-11-30 2002-06-06 Senju Pharmaceutical Co., Ltd. Pancreatitis remedies and medicines for prevention and therapy of reflux esophagitis
JP2007506714A (ja) * 2003-09-26 2007-03-22 ユニヴェルシテ ルイ パスツール 神経向性薬として利用可能なハイドロキシル化された長鎖をもつトコフェノール誘導体
JP2017536330A (ja) * 2014-09-11 2017-12-07 ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニーＢｒｉｓｔｏｌ−Ｍｙｅｒｓ Ｓｑｕｉｂｂ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｐｄ−１／ｐｄ−ｌ１およびｃｄ８０（ｂ７−１）／ｐｄ−ｌ１タンパク質／タンパク質相互作用の大環状阻害剤

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