JP2000230670A - ヒータ付き集積流体制御装置 - Google Patents
ヒータ付き集積流体制御装置Info
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- JP2000230670A JP2000230670A JP11032264A JP3226499A JP2000230670A JP 2000230670 A JP2000230670 A JP 2000230670A JP 11032264 A JP11032264 A JP 11032264A JP 3226499 A JP3226499 A JP 3226499A JP 2000230670 A JP2000230670 A JP 2000230670A
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体製造などに使用されるプロセスガスを
制御する各種の流体制御機器を一体的に接続した流通ラ
インプロセスユニットを持った集積流体制御装置で、加
熱が必要なユニットについて熱効率が良くユニット全体
を加熱する。 【解決手段】 流通ラインプロセスユニットのなかの各
種の流体制御機器を流路ブロックを介して流路方向に接
続し、これら流路ブロックの流路方向に凹溝を設け、凹
溝内にヒータを装着した。このヒータとしては自己温度
制御型であることが好ましい。
制御する各種の流体制御機器を一体的に接続した流通ラ
インプロセスユニットを持った集積流体制御装置で、加
熱が必要なユニットについて熱効率が良くユニット全体
を加熱する。 【解決手段】 流通ラインプロセスユニットのなかの各
種の流体制御機器を流路ブロックを介して流路方向に接
続し、これら流路ブロックの流路方向に凹溝を設け、凹
溝内にヒータを装着した。このヒータとしては自己温度
制御型であることが好ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置に使用される各種のプロセスガス等を制御する流体
制御装置であって、開閉弁、フィルター、レギュレー
タ、圧力計、マスフローコントローラ、三方弁及び遮断
弁等の各種流体制御機器を一体的に接続してユニット化
し、さらにこのユニット同士を接続してまとめた集積型
あるいはモジュール型(以下、本発明では集積型とモジ
ュールは同じ意味で用いているが、モジュールは全体の
配管構成も意味する。)と呼ばれる流体制御装置に関
し、特に、この流体制御装置のユニットを加温するヒー
タ機能を持たせたヒータ付き集積流体制御装置に関する
ものである。
装置に使用される各種のプロセスガス等を制御する流体
制御装置であって、開閉弁、フィルター、レギュレー
タ、圧力計、マスフローコントローラ、三方弁及び遮断
弁等の各種流体制御機器を一体的に接続してユニット化
し、さらにこのユニット同士を接続してまとめた集積型
あるいはモジュール型(以下、本発明では集積型とモジ
ュールは同じ意味で用いているが、モジュールは全体の
配管構成も意味する。)と呼ばれる流体制御装置に関
し、特に、この流体制御装置のユニットを加温するヒー
タ機能を持たせたヒータ付き集積流体制御装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体製造装置の配管系では各種
の制御機器をまとめユニット化して集積流体制御装置と
することが行われてきた。例えば、このような集積流体
制御装置1として図6に示すものがある。
の制御機器をまとめユニット化して集積流体制御装置と
することが行われてきた。例えば、このような集積流体
制御装置1として図6に示すものがある。
【0003】この例では、プロセスガスa、b、cを、
夫々流通ラインユニットA、B,Cを介してプロセスガ
スa' 、b' 、c' として各排出口10a〜10cより
反応炉に供給し、一方でパージガスdを流通ラインユニ
ットDから下記する縦流路ブロックを介して各ユニット
A、B及びCに供給して各流通ラインのパージ処理が行
えるようにした集積流体制御装置である。
夫々流通ラインユニットA、B,Cを介してプロセスガ
スa' 、b' 、c' として各排出口10a〜10cより
反応炉に供給し、一方でパージガスdを流通ラインユニ
ットDから下記する縦流路ブロックを介して各ユニット
A、B及びCに供給して各流通ラインのパージ処理が行
えるようにした集積流体制御装置である。
【0004】ここで、図7に示す流通ラインユニットB
を例にとれば、入口側より流入継手12B、手動開閉弁
13B、フィルター14B、レギュレータ15B、圧力
計16B、空圧遮断弁17B、マスフローコントローラ
18B、空圧遮断弁19B及び流出継手20Bから構成
されている。そして、手動開閉弁13Bの流出流路とフ
ィルター14Bの流入流路(機器側の流出入流路は図示
せず。以下同様。)を繋ぐのが横流路ブロック22Bで
あり、フィルター14Bの流出流路とレギュレータ15
Bの流入流路を繋ぐのが横流路ブロック23Bである。
以下、同様にレギュレータ15Bと圧力計16Bとは横
流路ブロック24B、圧力計16Bと空圧遮断弁17B
とは横流路ブロック25B、空圧遮断弁17Bとマスフ
ローコントローラ18Bとは横流路ブロック26B、マ
スフローコントローラ18Bと空圧遮断弁19Bとは横
流路ブロック27Bによって流路方向に横一列に接続さ
れている。また、他の流通ラインユニットA、C、Dも
同様に流出入流路は、横流路ブロック22〜27を介し
て流路方向に接続している。
を例にとれば、入口側より流入継手12B、手動開閉弁
13B、フィルター14B、レギュレータ15B、圧力
計16B、空圧遮断弁17B、マスフローコントローラ
18B、空圧遮断弁19B及び流出継手20Bから構成
されている。そして、手動開閉弁13Bの流出流路とフ
ィルター14Bの流入流路(機器側の流出入流路は図示
せず。以下同様。)を繋ぐのが横流路ブロック22Bで
あり、フィルター14Bの流出流路とレギュレータ15
Bの流入流路を繋ぐのが横流路ブロック23Bである。
以下、同様にレギュレータ15Bと圧力計16Bとは横
流路ブロック24B、圧力計16Bと空圧遮断弁17B
とは横流路ブロック25B、空圧遮断弁17Bとマスフ
ローコントローラ18Bとは横流路ブロック26B、マ
スフローコントローラ18Bと空圧遮断弁19Bとは横
流路ブロック27Bによって流路方向に横一列に接続さ
れている。また、他の流通ラインユニットA、C、Dも
同様に流出入流路は、横流路ブロック22〜27を介し
て流路方向に接続している。
【0005】他方、パージガス流通ラインユニットDの
空圧遮断弁17Dの流出流路と流通ラインユニットCの
空圧遮断弁17Cの流入流路と流通ラインユニットBの
空圧遮断弁17Bの流入流路及び流通ラインユニットA
の空圧遮断弁17Aの流入流路とをそれぞれ通じるため
に縦流路ブロック29(29B)を設けて各ユニットを
接続しモジュール化している。
空圧遮断弁17Dの流出流路と流通ラインユニットCの
空圧遮断弁17Cの流入流路と流通ラインユニットBの
空圧遮断弁17Bの流入流路及び流通ラインユニットA
の空圧遮断弁17Aの流入流路とをそれぞれ通じるため
に縦流路ブロック29(29B)を設けて各ユニットを
接続しモジュール化している。
【0006】以上のように各流通ライン毎に、開閉弁、
フィルター、レギュレータ、圧力計、空圧遮断弁、マス
フローコントローラ、空圧三方弁、空圧遮断弁、という
ような各種の流体制御機器を、まず横方向(紙面左右方
向)に接続して一つの流通ラインユニットA,B,C,
Dとなし、さらに、このユニットに対し、別のパージラ
インを縦方向(紙面上下方向)に接続して一つの集積流
体制御装置1としている。ここで、流路方向すなわち横
方向の各種流体制御機器の流路を接続するのが横流路ブ
ロックであり、これら各ユニット間の流路を縦方向に接
続するのが縦流路ブロックである。尚、本例の流れのブ
ロック図は、図8に示すようになっている。
フィルター、レギュレータ、圧力計、空圧遮断弁、マス
フローコントローラ、空圧三方弁、空圧遮断弁、という
ような各種の流体制御機器を、まず横方向(紙面左右方
向)に接続して一つの流通ラインユニットA,B,C,
Dとなし、さらに、このユニットに対し、別のパージラ
インを縦方向(紙面上下方向)に接続して一つの集積流
体制御装置1としている。ここで、流路方向すなわち横
方向の各種流体制御機器の流路を接続するのが横流路ブ
ロックであり、これら各ユニット間の流路を縦方向に接
続するのが縦流路ブロックである。尚、本例の流れのブ
ロック図は、図8に示すようになっている。
【0007】ところで、半導体製造装置の反応炉に供給
するガスとして常温で液化しやすいBCl3 やSiH2
Cl2 等の原料をガス化して送ることがある。これら蒸
気圧の低い原料の場合は、狭い流路やマスフローコント
ローラ等を通過するとき再液化しないように、例えば4
0〜80℃程度に装置を加温して一定温度に保持するこ
とが必要となる。
するガスとして常温で液化しやすいBCl3 やSiH2
Cl2 等の原料をガス化して送ることがある。これら蒸
気圧の低い原料の場合は、狭い流路やマスフローコント
ローラ等を通過するとき再液化しないように、例えば4
0〜80℃程度に装置を加温して一定温度に保持するこ
とが必要となる。
【0008】従来、制御装置を加温する手段としては、
特開昭64- 67243号や特開平2- 261529号
等に開示されたように、マスフローコントローラ等の制
御装置の本体にニクロム線ヒータを巻き付けたり、面状
のテープヒータを貼り付けたりするなどして加熱手段を
取り付け、これらのヒータにより制御装置を直接加温す
ることが行われていた。
特開昭64- 67243号や特開平2- 261529号
等に開示されたように、マスフローコントローラ等の制
御装置の本体にニクロム線ヒータを巻き付けたり、面状
のテープヒータを貼り付けたりするなどして加熱手段を
取り付け、これらのヒータにより制御装置を直接加温す
ることが行われていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記した例
のようにニクロム線やテープ状のヒータを各種流体制御
機器の一つ一つのブロック毎にヒータを取り付けていた
のでは手間が掛かるし、衝撃やねじれによって断線する
という問題がある。かといって、テープヒータを流通ラ
インユニットの横流路ブロックの長手方向(紙面左右方
向)の側面に一列に貼り付けたのでは、ユニットの長手
方向の部位によって温度分布に差が生じる。すなわち、
流路ブロックの部分とこれが無い空間部分との間に温度
上昇の差が生じ、ユニット全体を一定温度に加温するこ
とが出来ない。具体的には、流路ブロック部分は熱容量
が大きいので温度上昇するのに時間が掛かる。一方、空
間部分は急に温度上昇する。よって、流路ブロック部分
が設定温度になる頃には空間部分は加熱しすぎて断線等
の問題が生じる。また、上記した温度分布のバラツキの
ことも関係するが、流路ブロックの外面にヒータを貼り
付けただけなので無駄な放熱が多く熱効率が悪い。さら
に、小型化した集積ユニットの中には、ユニットとユニ
ットとの間の寸法ピッチが規格化されていることがあ
る。このような場合、側面にヒータを貼ったのではヒー
タの厚さ分厚くなり規格ピッチを守れないということが
あった。
のようにニクロム線やテープ状のヒータを各種流体制御
機器の一つ一つのブロック毎にヒータを取り付けていた
のでは手間が掛かるし、衝撃やねじれによって断線する
という問題がある。かといって、テープヒータを流通ラ
インユニットの横流路ブロックの長手方向(紙面左右方
向)の側面に一列に貼り付けたのでは、ユニットの長手
方向の部位によって温度分布に差が生じる。すなわち、
流路ブロックの部分とこれが無い空間部分との間に温度
上昇の差が生じ、ユニット全体を一定温度に加温するこ
とが出来ない。具体的には、流路ブロック部分は熱容量
が大きいので温度上昇するのに時間が掛かる。一方、空
間部分は急に温度上昇する。よって、流路ブロック部分
が設定温度になる頃には空間部分は加熱しすぎて断線等
の問題が生じる。また、上記した温度分布のバラツキの
ことも関係するが、流路ブロックの外面にヒータを貼り
付けただけなので無駄な放熱が多く熱効率が悪い。さら
に、小型化した集積ユニットの中には、ユニットとユニ
ットとの間の寸法ピッチが規格化されていることがあ
る。このような場合、側面にヒータを貼ったのではヒー
タの厚さ分厚くなり規格ピッチを守れないということが
あった。
【0010】そこで本発明は、ヒータの設置構造に改良
を加えると共に、独自の機能を持ったヒータを用いるこ
とによって上記問題を解消するもので、集積流体制御装
置の中にある流通ラインユニットあるいは単独の流通ラ
インユニットであっても加温が必要なユニットについ
て、熱効率が良くユニット全体を一定温度に加温するこ
との出来るヒータ付き集積流体制御装置を提供すること
を目的とする。
を加えると共に、独自の機能を持ったヒータを用いるこ
とによって上記問題を解消するもので、集積流体制御装
置の中にある流通ラインユニットあるいは単独の流通ラ
インユニットであっても加温が必要なユニットについ
て、熱効率が良くユニット全体を一定温度に加温するこ
との出来るヒータ付き集積流体制御装置を提供すること
を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明のヒータ付き集積
流体制御装置は、各種の流体制御機器を流路ブロックを
介して流路方向に接続することによって一つの流通ライ
ンユニットとなし、この流通ラインユニットの各流路ブ
ロックの流路方向に凹溝を設け、その凹溝内にヒータを
装着したことを特徴とする。
流体制御装置は、各種の流体制御機器を流路ブロックを
介して流路方向に接続することによって一つの流通ライ
ンユニットとなし、この流通ラインユニットの各流路ブ
ロックの流路方向に凹溝を設け、その凹溝内にヒータを
装着したことを特徴とする。
【0012】また本発明のヒータ付き集積流体制御装置
は、各種の流体制御機器を流路ブロックを介して流路方
向に接続することによって一つの流通ラインユニットと
なし、この流通ラインユニットの側面または下面に自己
温度制御型のヒータを装着したことを特徴とする。
は、各種の流体制御機器を流路ブロックを介して流路方
向に接続することによって一つの流通ラインユニットと
なし、この流通ラインユニットの側面または下面に自己
温度制御型のヒータを装着したことを特徴とする。
【0013】本発明のヒータ付き集積流体制御装置は、
前記流通ラインユニットの複数ユニットを平行に並べた
ものについて、その複数ユニットのうち加温が必要なユ
ニットについて、その流通ラインユニットの各流通ブロ
ックの流路方向に凹溝を設けて、その凹溝内にヒータを
装着したものとすることもできる。
前記流通ラインユニットの複数ユニットを平行に並べた
ものについて、その複数ユニットのうち加温が必要なユ
ニットについて、その流通ラインユニットの各流通ブロ
ックの流路方向に凹溝を設けて、その凹溝内にヒータを
装着したものとすることもできる。
【0014】本発明において、ヒータは、自己温度制御
型ヒータであることが好ましい。このヒータは、2本の
母線間に連続した抵抗発熱体を持ち、この抵抗発熱体は
温度とともに抵抗が上昇する自己温度制御型であること
が好ましい。また流通ラインユニットを取り付けるベー
スプレートに断熱スリットを設けていることが好まし
い。また、マスフローコントローラのように大きな流体
制御機器でその下の流路ブロックの間隔が大きな場合に
は、その機器の下にダミーブロックを設けて、それにヒ
ータを装着することが好ましい。
型ヒータであることが好ましい。このヒータは、2本の
母線間に連続した抵抗発熱体を持ち、この抵抗発熱体は
温度とともに抵抗が上昇する自己温度制御型であること
が好ましい。また流通ラインユニットを取り付けるベー
スプレートに断熱スリットを設けていることが好まし
い。また、マスフローコントローラのように大きな流体
制御機器でその下の流路ブロックの間隔が大きな場合に
は、その機器の下にダミーブロックを設けて、それにヒ
ータを装着することが好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の集積流体制御装置につい
て、図面を参照しながら以下詳しく説明する。図1は本
発明の集積流体制御装置の一つの流通ラインユニット
で、一部の流体制御機器を含んでいる分解斜視図であ
る。図2は本発明の集積流体制御装置の流路ブロックの
部分の平面図である。図3は本発明に使用している自己
温度制御型ヒータの説明斜視図であり、図4はそのヒー
タの温度特性図である。図5は本発明の集積流体制御装
置でフードを付けたものの断面図である。
て、図面を参照しながら以下詳しく説明する。図1は本
発明の集積流体制御装置の一つの流通ラインユニット
で、一部の流体制御機器を含んでいる分解斜視図であ
る。図2は本発明の集積流体制御装置の流路ブロックの
部分の平面図である。図3は本発明に使用している自己
温度制御型ヒータの説明斜視図であり、図4はそのヒー
タの温度特性図である。図5は本発明の集積流体制御装
置でフードを付けたものの断面図である。
【0016】図6は一般の集積流体制御装置の平面図、
図7はその一つの流通ユニットラインで、横流路ブロッ
クを断面で示している側面図、図8は集積流体制御装置
のブロック図である。これらの図で、一般の集積流体制
御装置と本発明の集積流体制御装置で共通の部分、部品
は同じ参照符号を用いて示している。
図7はその一つの流通ユニットラインで、横流路ブロッ
クを断面で示している側面図、図8は集積流体制御装置
のブロック図である。これらの図で、一般の集積流体制
御装置と本発明の集積流体制御装置で共通の部分、部品
は同じ参照符号を用いて示している。
【0017】本発明の集積流体制御装置において、40
はベースプレートで、その上に流路ブロックが流路方向
に並べて取り付けられている。図1は、1本の流通ライ
ンユニットを分解斜視図で示したものであり、ここでは
流体制御機器として2ヶの遮断弁とマスフローコントロ
ーラ18が、5ヶの流路ブロック25、26、27の上
部に例示してある。流路ブロックの両側にある穴は流体
制御機器を取り付けるためのねじ穴である。中央に並ん
でいる穴は流路ブロックに付けられた流路の入口および
出口である。流路ブロック上で中央に並んでいる穴の両
側には凹溝が連続して設けられており、これら凹溝内に
ヒータ60が取り付けられている。流路ブロック25、
26、27はその下面でベースプレート40に、ベース
プレート40に開けたねじ穴41を通してねじで取り付
けられている。流路ブロックの両側面ではベースプレー
ト40に断熱スリット42が長さ方向に付けられてい
る。
はベースプレートで、その上に流路ブロックが流路方向
に並べて取り付けられている。図1は、1本の流通ライ
ンユニットを分解斜視図で示したものであり、ここでは
流体制御機器として2ヶの遮断弁とマスフローコントロ
ーラ18が、5ヶの流路ブロック25、26、27の上
部に例示してある。流路ブロックの両側にある穴は流体
制御機器を取り付けるためのねじ穴である。中央に並ん
でいる穴は流路ブロックに付けられた流路の入口および
出口である。流路ブロック上で中央に並んでいる穴の両
側には凹溝が連続して設けられており、これら凹溝内に
ヒータ60が取り付けられている。流路ブロック25、
26、27はその下面でベースプレート40に、ベース
プレート40に開けたねじ穴41を通してねじで取り付
けられている。流路ブロックの両側面ではベースプレー
ト40に断熱スリット42が長さ方向に付けられてい
る。
【0018】このように、ベースプレート40上に流路
方向に並べて取り付けられている流路ブロックと、流路
ブロックをまたぐように取り付けられた流体制御機器お
よび流路ブロック25、26、27に設けられた凹溝内
にヒータ60が設けられて1本の流通ラインユニット
A,(B,C)となっている。図6〜8に示している一
般の集積流体制御装置に本発明を適用した場合、その流
路ブロック部分を平面図で示しているのが図2である。
方向に並べて取り付けられている流路ブロックと、流路
ブロックをまたぐように取り付けられた流体制御機器お
よび流路ブロック25、26、27に設けられた凹溝内
にヒータ60が設けられて1本の流通ラインユニット
A,(B,C)となっている。図6〜8に示している一
般の集積流体制御装置に本発明を適用した場合、その流
路ブロック部分を平面図で示しているのが図2である。
【0019】ここでも、プロセスガスa,b,cを各々
流通ラインユニットA,B,Cを介してプロセスガス
a′,b′,c′として各排出口10a〜10cより反
応炉に供給するとともに、一方でパージガスdを流通ラ
インユニットDから縦流路ブロックを介して各ユニット
A,B,Cに供給して各流通ラインのパージ処理が行わ
れる。
流通ラインユニットA,B,Cを介してプロセスガス
a′,b′,c′として各排出口10a〜10cより反
応炉に供給するとともに、一方でパージガスdを流通ラ
インユニットDから縦流路ブロックを介して各ユニット
A,B,Cに供給して各流通ラインのパージ処理が行わ
れる。
【0020】Aの流通ラインユニットには、流路ブロッ
クとして、21A,22A,………28Aが並んでお
り、Bの流通ラインユニットには、流路ブロックとし
て、21B,22B,………28Bが、Cの流通ライン
ユニットには流路ブロックとして、21C、22C,…
……28Cが、Dの流通ラインユニットには流路ブロッ
クとして、21D,22D,………、25Dが並んでい
る。Dの流通ラインユニットからA〜Cの流通ラインユ
ニットにパージガスdを供給するために、縦の流路ブロ
ック29D,29C,29B,29Aが設けられてい
る。これら各横の流路ブロック、縦の流路ブロックとも
に、両端にある穴は流体制御機器を取り付けるためのね
じ穴であり、中央にある穴は流路の入口および出口であ
る。
クとして、21A,22A,………28Aが並んでお
り、Bの流通ラインユニットには、流路ブロックとし
て、21B,22B,………28Bが、Cの流通ライン
ユニットには流路ブロックとして、21C、22C,…
……28Cが、Dの流通ラインユニットには流路ブロッ
クとして、21D,22D,………、25Dが並んでい
る。Dの流通ラインユニットからA〜Cの流通ラインユ
ニットにパージガスdを供給するために、縦の流路ブロ
ック29D,29C,29B,29Aが設けられてい
る。これら各横の流路ブロック、縦の流路ブロックとも
に、両端にある穴は流体制御機器を取り付けるためのね
じ穴であり、中央にある穴は流路の入口および出口であ
る。
【0021】A〜Cの流通ラインユニットの流路ブロッ
クは、その流路方向に溝が流路の入口および出口の両側
に設けられていて、そのなかにヒータ60が付けられて
いる。Dの流通ラインユニットはパージガスdを供給す
るラインなのでヒータが設けられていない。また、流路
ブロック26A〜Cと27A〜Cの間にマスフローコン
トローラ18が取り付けられるので、マスフローコント
ローラの下部には熱容量の大きなダミーブロック30A
〜Cが設けられている。ダミーブロック30A〜Cに
も、流路方向に溝が付けられており、そこにヒータ60
が埋め込まれている。
クは、その流路方向に溝が流路の入口および出口の両側
に設けられていて、そのなかにヒータ60が付けられて
いる。Dの流通ラインユニットはパージガスdを供給す
るラインなのでヒータが設けられていない。また、流路
ブロック26A〜Cと27A〜Cの間にマスフローコン
トローラ18が取り付けられるので、マスフローコント
ローラの下部には熱容量の大きなダミーブロック30A
〜Cが設けられている。ダミーブロック30A〜Cに
も、流路方向に溝が付けられており、そこにヒータ60
が埋め込まれている。
【0022】流路ブロック21A〜28A,21B〜2
8B,21C〜28Cはステンレススチール、例えばS
US316材などで作られており、流路とねじ穴以外の
部分はバルクとなっているので重量が大きく熱容量の大
きなものとなっている。
8B,21C〜28Cはステンレススチール、例えばS
US316材などで作られており、流路とねじ穴以外の
部分はバルクとなっているので重量が大きく熱容量の大
きなものとなっている。
【0023】ここで使われているヒータ60は、自己温
度制御型であることが好ましい。自己温度制御型ヒータ
は図3にある説明斜視図にあるように、ほぼ平行に並べ
た2本の母線61があり、その間に連続した面状の抵抗
発熱体62が取り付けられている。面状の抵抗発熱体6
2の外周は耐熱性の絶縁物63で覆われ、更にその外周
は保護のためにステンレス鋼の編組64で覆われてい
る。耐熱性の絶縁物63としてはフッ素樹脂などのよう
に高温まで耐える材料でできていることが好ましい。
度制御型であることが好ましい。自己温度制御型ヒータ
は図3にある説明斜視図にあるように、ほぼ平行に並べ
た2本の母線61があり、その間に連続した面状の抵抗
発熱体62が取り付けられている。面状の抵抗発熱体6
2の外周は耐熱性の絶縁物63で覆われ、更にその外周
は保護のためにステンレス鋼の編組64で覆われてい
る。耐熱性の絶縁物63としてはフッ素樹脂などのよう
に高温まで耐える材料でできていることが好ましい。
【0024】面状の抵抗発熱体62としては、その抵抗
の温度特性が図4に示すように温度とともにその抵抗が
急激に上昇する。すなわち、抵抗発熱体の発熱量(ワッ
ト)が温度とともに急激に減少する性質を持ったもので
ある。このような温度特性を持つことによって、本発明
にこのヒータを用いた場合、流路ブロックの温度が低い
ときにはヒータの2本の母線間に電圧が印加されると、
抵抗が小さいので多くの電流が流れて発熱量が大きいの
で、ヒータが埋め込まれているブロックの温度が上昇す
る。温度が上昇していくと抵抗は急激に大きくなって流
れる電流が減少して発熱量が小さくなる。放熱量と発熱
量の平衡がとれる温度は、印加される電圧、ヒータの抵
抗発熱体、ヒータの周辺の状況によって決まってくる。
の温度特性が図4に示すように温度とともにその抵抗が
急激に上昇する。すなわち、抵抗発熱体の発熱量(ワッ
ト)が温度とともに急激に減少する性質を持ったもので
ある。このような温度特性を持つことによって、本発明
にこのヒータを用いた場合、流路ブロックの温度が低い
ときにはヒータの2本の母線間に電圧が印加されると、
抵抗が小さいので多くの電流が流れて発熱量が大きいの
で、ヒータが埋め込まれているブロックの温度が上昇す
る。温度が上昇していくと抵抗は急激に大きくなって流
れる電流が減少して発熱量が小さくなる。放熱量と発熱
量の平衡がとれる温度は、印加される電圧、ヒータの抵
抗発熱体、ヒータの周辺の状況によって決まってくる。
【0025】このヒータを本発明に適用した場合、流路
ブロックの間のブロックのないところではその部分にあ
るヒータの温度は他の部分よりも早く上昇するが上昇し
た後では抵抗が大きくなるので異常昇温しない。またい
くつかの流路ブロックに設けられた溝に埋め込まれてい
ると、それら流路ブロックの内で温度が早く高くなった
ブロックのところにある部分のヒータ抵抗が、温度の上
昇の遅いブロックのところの部分のヒータ抵抗よりも大
となるので、温度の低いところにあるヒータ部分により
多くの電流が流れるようになって全体の温度を一様にす
るように働く。
ブロックの間のブロックのないところではその部分にあ
るヒータの温度は他の部分よりも早く上昇するが上昇し
た後では抵抗が大きくなるので異常昇温しない。またい
くつかの流路ブロックに設けられた溝に埋め込まれてい
ると、それら流路ブロックの内で温度が早く高くなった
ブロックのところにある部分のヒータ抵抗が、温度の上
昇の遅いブロックのところの部分のヒータ抵抗よりも大
となるので、温度の低いところにあるヒータ部分により
多くの電流が流れるようになって全体の温度を一様にす
るように働く。
【0026】本発明の集積流体制御装置にこのヒータを
用いると、流路ブロックとヒータの抵抗発熱体は予め作
られているものなので、印加する電圧を調節すること
で、ユニットの温度を制御することができる。
用いると、流路ブロックとヒータの抵抗発熱体は予め作
られているものなので、印加する電圧を調節すること
で、ユニットの温度を制御することができる。
【0027】ヒータの面状抵抗発熱体としては、カーボ
ン粉末をフッ素樹脂ポリマーと混練したものが適してい
る。フッ素樹脂ポリマーはカーボン粉体中に分散しそれ
を結合している。フッ素樹脂ポリマーは低温では体積が
小さいが高温になると膨張して体積が大きくなる。この
ために、低温ではカーボン粉体間の接触面積が大きく、
抵抗が小さいが、高温になるとカーボン粉体間の接触面
積が小さくなり抵抗が大きくなるものである。
ン粉末をフッ素樹脂ポリマーと混練したものが適してい
る。フッ素樹脂ポリマーはカーボン粉体中に分散しそれ
を結合している。フッ素樹脂ポリマーは低温では体積が
小さいが高温になると膨張して体積が大きくなる。この
ために、低温ではカーボン粉体間の接触面積が大きく、
抵抗が小さいが、高温になるとカーボン粉体間の接触面
積が小さくなり抵抗が大きくなるものである。
【0028】なお、図1でベースプレート40には、流
通ラインユニットの流路ブロックの両側に断熱スリット
42が設けられている。ヒータ60で発生した熱が流路
ブロック、その上に取り付けられている流体制御機器を
加熱するとともにその下にあるベースプレート40をも
加熱する。ベースプレート40は流通ラインユニットの
部分だけが加熱されればよいので、熱がベースプレート
40を伝わって加熱の必要のない流通ラインユニットに
行かないように断熱スリットが設けてある。
通ラインユニットの流路ブロックの両側に断熱スリット
42が設けられている。ヒータ60で発生した熱が流路
ブロック、その上に取り付けられている流体制御機器を
加熱するとともにその下にあるベースプレート40をも
加熱する。ベースプレート40は流通ラインユニットの
部分だけが加熱されればよいので、熱がベースプレート
40を伝わって加熱の必要のない流通ラインユニットに
行かないように断熱スリットが設けてある。
【0029】本発明の集積流体制御装置では、ベースプ
レート40の上に並べて取り付けた流路ブロックおよび
流体制御機器を図5に示すようにフード50で覆うこと
によって集積流体制御装置全体の温度を一定に保つこと
ができ、室温が24℃前後であっても、集積流体制御装
置の温度を40℃±1℃に保つことができる。
レート40の上に並べて取り付けた流路ブロックおよび
流体制御機器を図5に示すようにフード50で覆うこと
によって集積流体制御装置全体の温度を一定に保つこと
ができ、室温が24℃前後であっても、集積流体制御装
置の温度を40℃±1℃に保つことができる。
【0030】
【発明の効果】以上詳しく説明したように本発明の集積
流体制御装置では、熱容量の大きな流路ブロックに溝を
設けてヒータを埋め込んでいるので、ヒータ部分がブロ
ック内に入るので、小型化した集積ユニットでも、ライ
ンユニット間のピッチを変える必要が無い。また、無駄
な放熱がなく安定した加熱を行うことができる。
流体制御装置では、熱容量の大きな流路ブロックに溝を
設けてヒータを埋め込んでいるので、ヒータ部分がブロ
ック内に入るので、小型化した集積ユニットでも、ライ
ンユニット間のピッチを変える必要が無い。また、無駄
な放熱がなく安定した加熱を行うことができる。
【0031】また、自己温度制御型ヒータを埋め込んで
いるのでユニット全体を一定温度に加熱することができ
る。
いるのでユニット全体を一定温度に加熱することができ
る。
【図1】本発明の集積流体制御装置の一つの流通ライン
ユニットで、一部の流体制御機器を含んでいる分解斜視
図である。
ユニットで、一部の流体制御機器を含んでいる分解斜視
図である。
【図2】本発明の集積流体制御装置の流路ブロックの部
分の平面図である。
分の平面図である。
【図3】本発明に使用している自己温度制御型ヒータの
説明斜視図である。
説明斜視図である。
【図4】ヒータの温度特性図である。
【図5】本発明の集積流体制御装置でフードを付けたも
のの断面図である。
のの断面図である。
【図6】一般の集積流体制御装置の平面図である。
【図7】図6の一つの流通ユニットラインで、横流路ブ
ロックを断面で示している側面図である。
ロックを断面で示している側面図である。
【図8】集積流体制御装置のブロック図である。
【符号の説明】 A,B,C,D 流通ラインユニット a,b,c,a′,b′,c′ プロセスガス d パージガス 1 集積流体制御装置 10 排出口 12 流入継手 13 手動開閉弁 14 フィルター 15 レギュレータ 16 圧力計 17、19 空圧遮断弁 18 マスフローコントローラ 20 流出継手 21、22、23、………28 (横)流路
ブロック 29 (縦)流路ブロック 30 ダミーブロック 40 ベースプレート 41 ねじ穴 42 断熱スリット 50 フード 60 ヒータ 61 母線 62 抵抗発熱体 63 絶縁物 64 編組
ブロック 29 (縦)流路ブロック 30 ダミーブロック 40 ベースプレート 41 ねじ穴 42 断熱スリット 50 フード 60 ヒータ 61 母線 62 抵抗発熱体 63 絶縁物 64 編組
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 誠 三重県桑名市大福2番地 日立金属株式会 社桑名工場内 (72)発明者 松井 和夫 三重県桑名市大福2番地 日立金属株式会 社桑名工場内 Fターム(参考) 3H051 BB10 CC17 FF15 3H066 BA36 4G068 AA02 AB02 AC05 AD50 AF13
Claims (5)
- 【請求項1】 各種の流体制御機器を流路ブロックを介
して流路方向に接続することによって一つの流通ライン
ユニットとなし、この流通ラインユニットの各流路ブロ
ックの流路方向に凹溝を設け、その凹溝内にヒータを装
着したことを特徴とするヒータ付き集積流体制御装置。 - 【請求項2】 前記ヒータは、自己温度制御型ヒータで
あることを特徴とする請求項1記載のヒータ付き集積流
体制御装置。 - 【請求項3】 各種の流体制御機器を流路ブロックを介
して流路方向に接続することによって一つの流通ライン
ユニットとなし、この流通ラインユニットの側面または
下面に自己温度制御型のヒータを装着したことを特徴と
するヒータ付き集積流体制御装置。 - 【請求項4】 前記流通ラインユニットの複数ユニット
を平行に並べたものについて、その複数ユニットのうち
加温が必要な流通ラインユニットについてその流通ライ
ンユニットの各流路ブロックの流路方向に凹溝を設け
て、その凹溝内にヒータを装着したことを特徴とする請
求項1〜3のいずれかに記載のヒータ付き集積流体制御
装置。 - 【請求項5】 前記流通ラインユニットを取り付けるベ
ースプレートに断熱スリットを設けたことを特徴とする
請求項1〜4のいずれかに記載のヒータ付き集積流体制
御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11032264A JP2000230670A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | ヒータ付き集積流体制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11032264A JP2000230670A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | ヒータ付き集積流体制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000230670A true JP2000230670A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=12354161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11032264A Pending JP2000230670A (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | ヒータ付き集積流体制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000230670A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003021262A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Fujikin Inc | 流体制御装置 |
| JP2003065462A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Ckd Corp | 集積弁 |
| WO2006134727A1 (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Fujikin Incorporated | 流体制御装置 |
| JP2008014390A (ja) * | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Hitachi Metals Ltd | 集積形流体制御装置 |
| EP1498666A4 (en) * | 2001-03-05 | 2008-04-30 | Ckd Corp | FLUID CONTROL |
| JP2016205553A (ja) * | 2015-04-24 | 2016-12-08 | 株式会社フジキン | 断熱カバーおよび流体制御装置 |
| CN116336393A (zh) * | 2021-12-24 | 2023-06-27 | Tes股份有限公司 | 用于基板处理装置的集成气体系统 |
| JP2023164282A (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-10 | 株式会社Kokusai Electric | ガス供給システム、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
-
1999
- 1999-02-10 JP JP11032264A patent/JP2000230670A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1498666A4 (en) * | 2001-03-05 | 2008-04-30 | Ckd Corp | FLUID CONTROL |
| CN100408932C (zh) * | 2001-03-05 | 2008-08-06 | Ckd株式会社 | 流体控制装置 |
| US7726333B2 (en) | 2001-03-05 | 2010-06-01 | Ckd Corporation | Fluid controller |
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| JP2023164282A (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-10 | 株式会社Kokusai Electric | ガス供給システム、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
| JP7583505B2 (ja) | 2022-04-28 | 2024-11-14 | 株式会社Kokusai Electric | ガス供給システム、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
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