JP2000231109A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその製造方法Info
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 セルギャップのわずかな変化のために生じる
赤色領域（６１０ｎｍ近傍）での干渉縞の発生を抑制
し、表示品位の高い液晶表示装置を得る。 【解決手段】 ２枚の基板の内側に配置された画素電
極、絶縁膜及び配向膜、液晶等の全ての層を波長６１０
ｎｍの光が透過するときのエネルギー透過率Ｔを、配向
膜の膜厚または屈折率と液晶層の厚さであるセルギャッ
プをパラメータとして求め、横軸をセルギャップ、縦軸
をエネルギー透過率Ｔとした単振動のグラフを、配向膜
の各膜厚毎に作成する。さらに、横軸を配向膜の膜厚、
縦軸をエネルギー透過率Ｔが示す単振動の振幅の最大値
Ｔmax と最小値Ｔmin を比の形で表した透過率比Ｔmax
／Ｔmin としてグラフを作成し、透過率比が最小となる
配向膜の膜厚を求める。
赤色領域（６１０ｎｍ近傍）での干渉縞の発生を抑制
し、表示品位の高い液晶表示装置を得る。 【解決手段】 ２枚の基板の内側に配置された画素電
極、絶縁膜及び配向膜、液晶等の全ての層を波長６１０
ｎｍの光が透過するときのエネルギー透過率Ｔを、配向
膜の膜厚または屈折率と液晶層の厚さであるセルギャッ
プをパラメータとして求め、横軸をセルギャップ、縦軸
をエネルギー透過率Ｔとした単振動のグラフを、配向膜
の各膜厚毎に作成する。さらに、横軸を配向膜の膜厚、
縦軸をエネルギー透過率Ｔが示す単振動の振幅の最大値
Ｔmax と最小値Ｔmin を比の形で表した透過率比Ｔmax
／Ｔmin としてグラフを作成し、透過率比が最小となる
配向膜の膜厚を求める。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
し、特に、赤色領域（６１０ｎｍ近傍）での干渉縞の発
生を抑制するための配向膜の膜厚の設定方法に関する。
し、特に、赤色領域（６１０ｎｍ近傍）での干渉縞の発
生を抑制するための配向膜の膜厚の設定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、通常、透明電極が形成
された２枚の透明絶縁性基板を一定距離を隔てて対向さ
せ、これらの基板間に液晶層を配置するよう構成されて
いる。液晶の駆動は、透明電極に電圧を印加することに
より行うが、液晶と接触する基板面には予め配向膜を形
成し、ラビング処理という配向処理を行うのが一般的で
ある。配向膜の材料としては、ポリイミド等の有機膜や
ＳｉＯ等の無機膜が用いられる。大型サイズの基板にポ
リイミドの配向膜を形成する方法としては、回転するロ
ーラーに溶剤で希釈したポリイミドを転写し、基板に印
刷するオフセット印刷法が主に用いられている。
された２枚の透明絶縁性基板を一定距離を隔てて対向さ
せ、これらの基板間に液晶層を配置するよう構成されて
いる。液晶の駆動は、透明電極に電圧を印加することに
より行うが、液晶と接触する基板面には予め配向膜を形
成し、ラビング処理という配向処理を行うのが一般的で
ある。配向膜の材料としては、ポリイミド等の有機膜や
ＳｉＯ等の無機膜が用いられる。大型サイズの基板にポ
リイミドの配向膜を形成する方法としては、回転するロ
ーラーに溶剤で希釈したポリイミドを転写し、基板に印
刷するオフセット印刷法が主に用いられている。
【０００３】配向膜の膜厚は、転写版の印加圧、ステー
ジ速度、温度及び湿度等が一定の場合、配向膜材料の粘
度に依存する。粘度と膜厚には正の相関があるので、粘
度を選択することによって膜厚を選択することができ
る。配向膜は、液晶に電圧を印加するための透明電極と
液晶の間に配置されているため、配向膜の膜厚が厚くな
りすぎると配向膜の部分で生じる電圧降下が大きくな
り、液晶に十分な電圧が加わらなくなる。一方、膜厚が
薄くなりすぎると、製造工程上膜厚分布が大きくなり、
その結果、配向膜での電圧降下にばらつきが生じ、液晶
に印加される電圧にもばらつきが生じる。また、上述の
ラビング工程において、ラビング布が配向膜表面に接す
る際に剥がれが生じ、液晶が配向できない部分が生じる
場合もある。そこで、従来は、配向膜の膜厚を４０〜１
００ｎｍ程度の範囲で形成していた。
ジ速度、温度及び湿度等が一定の場合、配向膜材料の粘
度に依存する。粘度と膜厚には正の相関があるので、粘
度を選択することによって膜厚を選択することができ
る。配向膜は、液晶に電圧を印加するための透明電極と
液晶の間に配置されているため、配向膜の膜厚が厚くな
りすぎると配向膜の部分で生じる電圧降下が大きくな
り、液晶に十分な電圧が加わらなくなる。一方、膜厚が
薄くなりすぎると、製造工程上膜厚分布が大きくなり、
その結果、配向膜での電圧降下にばらつきが生じ、液晶
に印加される電圧にもばらつきが生じる。また、上述の
ラビング工程において、ラビング布が配向膜表面に接す
る際に剥がれが生じ、液晶が配向できない部分が生じる
場合もある。そこで、従来は、配向膜の膜厚を４０〜１
００ｎｍ程度の範囲で形成していた。
【０００４】配向膜の膜厚に関しては、従来より様々な
検討がなされており、例えば特開昭６３−５２１１８号
公報では、反射型の液晶表示素子において二重像を生じ
させないために、配向膜の膜厚を液晶セルの透過率と鏡
面との組み合わせにより１００〜１６０ｎｍに定めてい
る。また、特開平１０−１２３５２２号公報では、反射
防止を目的として、配向膜の膜厚を、反射を防止したい
波長と配向膜の屈折率に関係づけて１００ｎｍ以下と定
めている。
検討がなされており、例えば特開昭６３−５２１１８号
公報では、反射型の液晶表示素子において二重像を生じ
させないために、配向膜の膜厚を液晶セルの透過率と鏡
面との組み合わせにより１００〜１６０ｎｍに定めてい
る。また、特開平１０−１２３５２２号公報では、反射
防止を目的として、配向膜の膜厚を、反射を防止したい
波長と配向膜の屈折率に関係づけて１００ｎｍ以下と定
めている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】液晶表示装置を構成す
る２枚の透明絶縁性基板の間隔（以下、セルギャップと
称す）は、液晶層に多数のスペーサを配置することによ
り一定に保たれている。このセルギャップが面内で不均
一になると、干渉縞を伴う干渉ムラとして視認される。
セルギャップが不均一になる原因としては、例えば、
シールスペーサと面内スペーサの組み合わせ方が不適切
である、面内スペーサの散布密度が不均一である、
搬送時の真空吸着の加減によりスペーサ分布が偏る、
２枚の基板を貼り合わせる際の圧着が不均一である、等
の様々な原因が考えられる。このセルギャップの不均一
による干渉縞は、主に波長６１０ｎｍ近傍の赤色領域に
おいて顕著に見られるという問題があった。
る２枚の透明絶縁性基板の間隔（以下、セルギャップと
称す）は、液晶層に多数のスペーサを配置することによ
り一定に保たれている。このセルギャップが面内で不均
一になると、干渉縞を伴う干渉ムラとして視認される。
セルギャップが不均一になる原因としては、例えば、
シールスペーサと面内スペーサの組み合わせ方が不適切
である、面内スペーサの散布密度が不均一である、
搬送時の真空吸着の加減によりスペーサ分布が偏る、
２枚の基板を貼り合わせる際の圧着が不均一である、等
の様々な原因が考えられる。このセルギャップの不均一
による干渉縞は、主に波長６１０ｎｍ近傍の赤色領域に
おいて顕著に見られるという問題があった。
【０００６】セルギャップの不均一により干渉ムラが発
生する現象を、アクティブマトリクス型ＴＦＴ−ＬＣＤ
を例に挙げて説明する。ＴＦＴ−ＬＣＤを構成する２枚
のガラス基板内側の画素電極（ＩＴＯ）部分には、液晶
層を含めて７層の光学薄膜が形成されている（図１参
照）。この７層を光が透過するときのエネルギー透過率
Ｔを計算により求めると、エネルギー透過率Ｔのセルギ
ャップ依存性は、図２に示すような単振動となる。な
お、計算方法については後述の実施の形態で詳しく記載
するため、ここでは説明を省略する。この単振動の周期
は約０. ２μｍであり、セルギャップのわずか０. １μ
ｍの変化によって、エネルギー透過率Ｔは最大値から最
小値まで変化することになる。このように、従来の液晶
表示装置では、セルギャップのわずかな変化によって光
の透過率が大きく変化してしまうため、極端な場合には
干渉縞が視認されるほどの干渉ムラが発生するという問
題があった。
生する現象を、アクティブマトリクス型ＴＦＴ−ＬＣＤ
を例に挙げて説明する。ＴＦＴ−ＬＣＤを構成する２枚
のガラス基板内側の画素電極（ＩＴＯ）部分には、液晶
層を含めて７層の光学薄膜が形成されている（図１参
照）。この７層を光が透過するときのエネルギー透過率
Ｔを計算により求めると、エネルギー透過率Ｔのセルギ
ャップ依存性は、図２に示すような単振動となる。な
お、計算方法については後述の実施の形態で詳しく記載
するため、ここでは説明を省略する。この単振動の周期
は約０. ２μｍであり、セルギャップのわずか０. １μ
ｍの変化によって、エネルギー透過率Ｔは最大値から最
小値まで変化することになる。このように、従来の液晶
表示装置では、セルギャップのわずかな変化によって光
の透過率が大きく変化してしまうため、極端な場合には
干渉縞が視認されるほどの干渉ムラが発生するという問
題があった。
【０００７】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、セルギャップのわずかな変化の
ために生じる赤色領域（６１０ｎｍ近傍）での干渉縞の
発生を抑制し、表示品位の高い液晶表示装置を得ること
を目的とする。
ためになされたもので、セルギャップのわずかな変化の
ために生じる赤色領域（６１０ｎｍ近傍）での干渉縞の
発生を抑制し、表示品位の高い液晶表示装置を得ること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる液晶表示
装置は、一定距離を隔て対向して配置された第１及び第
２の透明絶縁性基板の各対向面上に配向膜が設けられ、
これらの基板間に液晶層が配置された液晶表示装置にお
いて、配向膜の屈折率を１. ６４±０. ０６、膜厚を１
０５±３０ｎｍとすることにより、配向膜の光学膜厚を
１７４±５５.５ｎｍとしたものである。また、第１の
透明絶縁性基板は、その表面に複数の薄膜トランジス
タ、ＳｉＮ等よりなる絶縁膜及びＩＴＯ等の透明導電膜
よりなる画素電極が設けられているものである。さら
に、第２の透明絶縁性基板は、その表面にカラーフィル
タ及び透明電極が設けられているものである。
装置は、一定距離を隔て対向して配置された第１及び第
２の透明絶縁性基板の各対向面上に配向膜が設けられ、
これらの基板間に液晶層が配置された液晶表示装置にお
いて、配向膜の屈折率を１. ６４±０. ０６、膜厚を１
０５±３０ｎｍとすることにより、配向膜の光学膜厚を
１７４±５５.５ｎｍとしたものである。また、第１の
透明絶縁性基板は、その表面に複数の薄膜トランジス
タ、ＳｉＮ等よりなる絶縁膜及びＩＴＯ等の透明導電膜
よりなる画素電極が設けられているものである。さら
に、第２の透明絶縁性基板は、その表面にカラーフィル
タ及び透明電極が設けられているものである。
【０００９】また、本発明に係わる液晶表示装置の製造
方法は、一定距離を隔て対向して配置された第１及び第
２の透明絶縁性基板の各対向面上に配向膜が設けられ、
これらの基板間に液晶層が配置された液晶表示装置の製
造において、特定の波長の入射光の透過率が液晶層の厚
さのわずかな変化によって変動する現象を最小限に抑え
るための配向膜の膜厚の設定方法であって、第１及び第
２の透明絶縁性基板の内側に配置された画素電極、絶縁
膜及び配向膜、液晶層等の全ての層を特定の波長λの入
射光が透過するときのエネルギー透過率Ｔを、配向膜の
膜厚または屈折率と液晶層の厚さをパラメータとして求
める工程と、横軸を液晶層の厚さ、縦軸をエネルギー透
過率Ｔとした単振動のグラフを、配向膜の各膜厚毎に作
成する工程と、横軸を配向膜の膜厚、縦軸をエネルギー
透過率Ｔが示す単振動の振幅の最大値Ｔmax と最小値Ｔ
min を比の形で表した透過率比Ｔmax ／Ｔmin としてグ
ラフを作成し、透過率比が最小となる配向膜の膜厚を求
める工程を含んで製造するようにしたものである。ま
た、特定の波長として、赤色領域である６１０ｎｍを入
力するものである。
方法は、一定距離を隔て対向して配置された第１及び第
２の透明絶縁性基板の各対向面上に配向膜が設けられ、
これらの基板間に液晶層が配置された液晶表示装置の製
造において、特定の波長の入射光の透過率が液晶層の厚
さのわずかな変化によって変動する現象を最小限に抑え
るための配向膜の膜厚の設定方法であって、第１及び第
２の透明絶縁性基板の内側に配置された画素電極、絶縁
膜及び配向膜、液晶層等の全ての層を特定の波長λの入
射光が透過するときのエネルギー透過率Ｔを、配向膜の
膜厚または屈折率と液晶層の厚さをパラメータとして求
める工程と、横軸を液晶層の厚さ、縦軸をエネルギー透
過率Ｔとした単振動のグラフを、配向膜の各膜厚毎に作
成する工程と、横軸を配向膜の膜厚、縦軸をエネルギー
透過率Ｔが示す単振動の振幅の最大値Ｔmax と最小値Ｔ
min を比の形で表した透過率比Ｔmax ／Ｔmin としてグ
ラフを作成し、透過率比が最小となる配向膜の膜厚を求
める工程を含んで製造するようにしたものである。ま
た、特定の波長として、赤色領域である６１０ｎｍを入
力するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下に、本発明の
実施の形態における液晶表示装置の製造方法を、アクテ
ィブマトリクス型ＴＦＴ−ＬＣＤを例に挙げて説明す
る。本実施の形態における液晶表示装置は、図１に示す
ように、一定距離を隔て対向して配置された第１の透明
絶縁性基板（ガラス１）及び第２の透明絶縁性基板（ガ
ラス２）の各対向面上に配向膜が設けられ、これらの基
板間に液晶層が配置されており、ガラス１表面には、複
数の薄膜トランジスタ（図示せず）、ＳｉＮよりなる絶
縁膜及びＩＴＯ等の透明導電膜よりなる画素電極が設け
られている。また、ガラス２表面には、カラーフィルタ
（ＣＦ）及びＩＴＯよりなる透明電極が設けられてい
る。本実施の形態は、液晶表示装置の製造において、特
定の波長の入射光の透過率が液晶層の厚さのわずかな変
化によって変動する現象を最小限に抑えるための配向膜
の膜厚の設定方法を提供するものである。なお、ここで
は、赤色領域（６１０ｎｍ近傍）において発生する干渉
縞を伴う干渉ムラが問題となっているため、特定の波長
λとして６１０ｎｍを入力する。
実施の形態における液晶表示装置の製造方法を、アクテ
ィブマトリクス型ＴＦＴ−ＬＣＤを例に挙げて説明す
る。本実施の形態における液晶表示装置は、図１に示す
ように、一定距離を隔て対向して配置された第１の透明
絶縁性基板（ガラス１）及び第２の透明絶縁性基板（ガ
ラス２）の各対向面上に配向膜が設けられ、これらの基
板間に液晶層が配置されており、ガラス１表面には、複
数の薄膜トランジスタ（図示せず）、ＳｉＮよりなる絶
縁膜及びＩＴＯ等の透明導電膜よりなる画素電極が設け
られている。また、ガラス２表面には、カラーフィルタ
（ＣＦ）及びＩＴＯよりなる透明電極が設けられてい
る。本実施の形態は、液晶表示装置の製造において、特
定の波長の入射光の透過率が液晶層の厚さのわずかな変
化によって変動する現象を最小限に抑えるための配向膜
の膜厚の設定方法を提供するものである。なお、ここで
は、赤色領域（６１０ｎｍ近傍）において発生する干渉
縞を伴う干渉ムラが問題となっているため、特定の波長
λとして６１０ｎｍを入力する。
【００１１】まず、２枚の透明絶縁性基板の内側に配置
された画素電極、絶縁膜及び配向膜、液晶等の全ての層
を特定の波長λ（６１０ｎｍ）の入射光が透過するとき
のエネルギー透過率Ｔを、配向膜の膜厚または屈折率と
液晶層の厚さであるセルギャップをパラメータとして求
める。２枚の基板の内側には、図１に示すように、液晶
層を含めて７層の光学薄膜が形成されている。ｉ番目の
層における特性マトリクスは式（１）の通りである。
された画素電極、絶縁膜及び配向膜、液晶等の全ての層
を特定の波長λ（６１０ｎｍ）の入射光が透過するとき
のエネルギー透過率Ｔを、配向膜の膜厚または屈折率と
液晶層の厚さであるセルギャップをパラメータとして求
める。２枚の基板の内側には、図１に示すように、液晶
層を含めて７層の光学薄膜が形成されている。ｉ番目の
層における特性マトリクスは式（１）の通りである。
【００１２】
【数１】
【００１３】入射光が垂直入射の時、 δi ＝２πｎi ｄi ＣＯＳθi ／λ＝２πｎi ｄi ／λ である。ここで、ｎi 、ｄi はそれぞれｉ番目の層の屈
折率及び膜厚である。１からｎ番目の層までの多層膜に
おける特性マトリックスは式（２）のように表される。
折率及び膜厚である。１からｎ番目の層までの多層膜に
おける特性マトリックスは式（２）のように表される。
【００１４】
【数２】
【００１５】とすると、エネルギー透過率Ｔは式（３）
のように表される。 Ｔ＝４ｎ0 2 ／（ｎ0 ｍ11＋ｎ0 2 ｍ12＋ｍ21＋ｎ0 ｍ22）2 ・・（３） ｎ0 ：ガラスの屈折率 式３に各層の屈折率、膜厚及び波長λ（６１０ｎｍ）を
入力し、エネルギー透過率Ｔを求める。各膜の膜厚及び
屈折率の条件を表１に示す。なお、この計算において
は、液晶の屈折率は温度、方向によらず定数とする、
全ての薄膜は当方媒体とする、吸収は考慮しない、
光は垂直入射とする、という条件を前提としている。
のように表される。 Ｔ＝４ｎ0 2 ／（ｎ0 ｍ11＋ｎ0 2 ｍ12＋ｍ21＋ｎ0 ｍ22）2 ・・（３） ｎ0 ：ガラスの屈折率 式３に各層の屈折率、膜厚及び波長λ（６１０ｎｍ）を
入力し、エネルギー透過率Ｔを求める。各膜の膜厚及び
屈折率の条件を表１に示す。なお、この計算において
は、液晶の屈折率は温度、方向によらず定数とする、
全ての薄膜は当方媒体とする、吸収は考慮しない、
光は垂直入射とする、という条件を前提としている。
【００１６】
【表１】
【００１７】次に、横軸をセルギャップ（液晶層の厚
さ）、縦軸を上記の方法で求めたエネルギー透過率Ｔと
した単振動のグラフを、配向膜の各膜厚毎に作成する
（図２）。このように、エネルギー透過率Ｔは、セルギ
ャップを横軸にとった場合、単振動を示し、配向膜の膜
厚を変化させることにより振幅が変化する。このことか
ら、エネルギー透過率Ｔの振幅が最小となるように配向
膜の膜厚を設定することにより、その他の膜構成を変更
することなく、特定の波長、本実施の形態では６１０ｎ
ｍにおける干渉縞を抑制することができる。
さ）、縦軸を上記の方法で求めたエネルギー透過率Ｔと
した単振動のグラフを、配向膜の各膜厚毎に作成する
（図２）。このように、エネルギー透過率Ｔは、セルギ
ャップを横軸にとった場合、単振動を示し、配向膜の膜
厚を変化させることにより振幅が変化する。このことか
ら、エネルギー透過率Ｔの振幅が最小となるように配向
膜の膜厚を設定することにより、その他の膜構成を変更
することなく、特定の波長、本実施の形態では６１０ｎ
ｍにおける干渉縞を抑制することができる。
【００１８】次に、横軸を配向膜の膜厚、縦軸をエネル
ギー透過率Ｔが示す単振動の振幅の最大値Ｔmax と最小
値Ｔmin を比の形で表した透過率比Ｔmax ／Ｔmin とし
てグラフを作成し（図３）、透過率比が最小となる配向
膜の膜厚を求める。なお、ここでは、エネルギー透過率
の振幅を評価する値として透過率比を用いている。透過
率比が最小、すなわち１に近いほどエネルギー透過率の
振幅は小さくなる。図３より、配向膜の膜厚が１０５ｎ
ｍの時、透過率比が最小値をとることがわかった。ま
た、配向膜の膜厚は、±３０nmのマージンをとれば、透
過率比は４〜５％以内に収まる。さらに、ここでは、配
向膜の屈折率を１. ６として計算したが、１. ５８〜
１. ７の範囲でも同様の結果が得られたため、配向膜の
屈折率はマージンをとって１. ６４±０. ０６とした。
ただし、配向膜の屈折率は、それほど大きく変化するこ
とはなく、配向膜の屈折率が１. ５８以下、１. ７以上
の場合でも、透過率比の配向膜厚依存性の傾向に大きな
変わりはなかった。以上のことから、配向膜の屈折率を
１. ６４±０. ０６、膜厚を１０５±３０ｎｍとするこ
とにより、配向膜の光学膜厚を１７４±５５. ５ｎｍと
設定した。
ギー透過率Ｔが示す単振動の振幅の最大値Ｔmax と最小
値Ｔmin を比の形で表した透過率比Ｔmax ／Ｔmin とし
てグラフを作成し（図３）、透過率比が最小となる配向
膜の膜厚を求める。なお、ここでは、エネルギー透過率
の振幅を評価する値として透過率比を用いている。透過
率比が最小、すなわち１に近いほどエネルギー透過率の
振幅は小さくなる。図３より、配向膜の膜厚が１０５ｎ
ｍの時、透過率比が最小値をとることがわかった。ま
た、配向膜の膜厚は、±３０nmのマージンをとれば、透
過率比は４〜５％以内に収まる。さらに、ここでは、配
向膜の屈折率を１. ６として計算したが、１. ５８〜
１. ７の範囲でも同様の結果が得られたため、配向膜の
屈折率はマージンをとって１. ６４±０. ０６とした。
ただし、配向膜の屈折率は、それほど大きく変化するこ
とはなく、配向膜の屈折率が１. ５８以下、１. ７以上
の場合でも、透過率比の配向膜厚依存性の傾向に大きな
変わりはなかった。以上のことから、配向膜の屈折率を
１. ６４±０. ０６、膜厚を１０５±３０ｎｍとするこ
とにより、配向膜の光学膜厚を１７４±５５. ５ｎｍと
設定した。
【００１９】上記の方法によって最適化された配向膜の
膜厚を採用した液晶表示装置の効果を確認するために、
表１に示した膜構成のＴＦＴアレイ基板、カラーフィル
タ基板及び液晶によって構成されたパネルを用い、配向
膜の膜厚のみを変更して比較を行った。本実施の形態に
よるパネルの配向膜膜厚の面内分布は８５±２ｎｍ、比
較品として用いた従来のパネルでは５７±２ｎｍであっ
た。これらのパネルにおいて、赤色領域での干渉ムラの
発生を観察した結果、従来品では１５５０パネル中３パ
ネル（０. ２％）発生しており、本実施の形態によるパ
ネルでは７００パネル中、上記の不良が発生したものは
なかった。
膜厚を採用した液晶表示装置の効果を確認するために、
表１に示した膜構成のＴＦＴアレイ基板、カラーフィル
タ基板及び液晶によって構成されたパネルを用い、配向
膜の膜厚のみを変更して比較を行った。本実施の形態に
よるパネルの配向膜膜厚の面内分布は８５±２ｎｍ、比
較品として用いた従来のパネルでは５７±２ｎｍであっ
た。これらのパネルにおいて、赤色領域での干渉ムラの
発生を観察した結果、従来品では１５５０パネル中３パ
ネル（０. ２％）発生しており、本実施の形態によるパ
ネルでは７００パネル中、上記の不良が発生したものは
なかった。
【００２０】以上のように、本実施の形態によれば、セ
ルギャップのわずかな変化のために生じる赤色領域での
エネルギー透過率の変動を、配向膜の屈折率、膜厚を最
適化することにより最小限に抑えることができ、従来問
題となっていた赤色領域での干渉縞を防止することが可
能となった。このため、表示品位の高い液晶表示装置を
高歩留まりで生産することが可能となった。
ルギャップのわずかな変化のために生じる赤色領域での
エネルギー透過率の変動を、配向膜の屈折率、膜厚を最
適化することにより最小限に抑えることができ、従来問
題となっていた赤色領域での干渉縞を防止することが可
能となった。このため、表示品位の高い液晶表示装置を
高歩留まりで生産することが可能となった。
【００２１】実施の形態２．本実施の形態では、液晶表
示装置を構成するカラーフィルタの色材の膜厚及び屈折
率が異なる場合について、赤色領域での干渉ムラが見え
にくい範囲の配向膜の膜厚を上記実施の形態１と同様の
方法で計算した。結果を表２に示す。
示装置を構成するカラーフィルタの色材の膜厚及び屈折
率が異なる場合について、赤色領域での干渉ムラが見え
にくい範囲の配向膜の膜厚を上記実施の形態１と同様の
方法で計算した。結果を表２に示す。
【００２２】
【表２】
【００２３】カラーフィルタの色材仕様が異なる場合、
配向膜の膜厚の最適値は変化するものの、いずれの場合
も上記実施の形態１において得られた１０５±３０ｎｍ
の範囲内であれば、赤色の干渉ムラは見えにくい範囲に
あることがわかった。従って、上記実施の形態１におい
て得られた配向膜の膜厚は、表１に示した条件を備えた
液晶表示装置に限定されるものではなく、広範囲の液晶
表示装置に適用可能であることが明らかである。
配向膜の膜厚の最適値は変化するものの、いずれの場合
も上記実施の形態１において得られた１０５±３０ｎｍ
の範囲内であれば、赤色の干渉ムラは見えにくい範囲に
あることがわかった。従って、上記実施の形態１におい
て得られた配向膜の膜厚は、表１に示した条件を備えた
液晶表示装置に限定されるものではなく、広範囲の液晶
表示装置に適用可能であることが明らかである。
【００２４】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、配向膜
の屈折率を１. ６４±０. ０６、膜厚を１０５±３０ｎ
ｍとすることにより、セルギャップのわずかな変化のた
めに生じる赤色領域（６１０ｎｍ近傍）でのエネルギー
透過率の変動を最小限に抑えることができたので、従来
問題となっていた赤色領域での干渉縞の発生を抑制する
ことが可能となり、表示品位の高い液晶表示装置を高歩
留まりで生産することが可能となった。
の屈折率を１. ６４±０. ０６、膜厚を１０５±３０ｎ
ｍとすることにより、セルギャップのわずかな変化のた
めに生じる赤色領域（６１０ｎｍ近傍）でのエネルギー
透過率の変動を最小限に抑えることができたので、従来
問題となっていた赤色領域での干渉縞の発生を抑制する
ことが可能となり、表示品位の高い液晶表示装置を高歩
留まりで生産することが可能となった。
【図１】 本実施の形態におけるアクティブマトリクス
型ＴＦＴ−ＬＣＤの画素電極部分に形成された膜の構成
を示す図である。
型ＴＦＴ−ＬＣＤの画素電極部分に形成された膜の構成
を示す図である。
【図２】 エネルギー透過率のセルギャップ依存性を示
す図である。
す図である。
【図３】 透過率比の配向膜厚依存性を示す図である。
Claims (5)
- 【請求項１】 一定距離を隔て対向して配置された第１
及び第２の透明絶縁性基板の各対向面上に配向膜が設け
られ、これらの基板間に液晶層が配置された液晶表示装
置において、上記配向膜の屈折率を１. ６４±０. ０
６、膜厚を１０５±３０ｎｍとすることにより、上記配
向膜の光学膜厚を１７４±５５. ５ｎｍとしたことを特
徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 第１の透明絶縁性基板は、その表面に複
数の薄膜トランジスタ、ＳｉＮ等よりなる絶縁膜及びＩ
ＴＯ等の透明導電膜よりなる画素電極が設けられている
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】 第２の透明絶縁性基板は、その表面にカ
ラーフィルタ及び透明電極が設けられていることを特徴
とする請求項１または請求項２記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 一定距離を隔て対向して配置された第１
及び第２の透明絶縁性基板の各対向面上に配向膜が設け
られ、これらの基板間に液晶層が配置された液晶表示装
置の製造方法において、 特定の波長の入射光の透過率が上記液晶層の厚さのわず
かな変化によって変動する現象を最小限に抑えるための
上記配向膜の膜厚の設定方法であって、 上記第１及び第２の透明絶縁性基板の内側に配置された
画素電極、絶縁膜及び上記配向膜、上記液晶層等の全て
の層を特定の波長λの入射光が透過するときのエネルギ
ー透過率Ｔを、上記配向膜の膜厚または屈折率と上記液
晶層の厚さをパラメータとして求める工程、 横軸を上記液晶層の厚さ、縦軸をエネルギー透過率Ｔと
した単振動のグラフを、上記配向膜の各膜厚毎に作成す
る工程、 横軸を配向膜膜厚、縦軸をエネルギー透過率Ｔが示す単
振動の振幅の最大値Ｔ max と最小値Ｔmin を比の形で表
した透過率比Ｔmax ／Ｔmin としてグラフを作成し、上
記透過率比が最小となる配向膜の膜厚を求める工程を含
むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項５】 特定の波長として、赤色領域である６１
０ｎｍを入力することを特徴とする請求項４記載の液晶
表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3439899A JP2000231109A (ja) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3439899A JP2000231109A (ja) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000231109A true JP2000231109A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=12413090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3439899A Pending JP2000231109A (ja) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000231109A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1308770A3 (en) * | 2001-10-31 | 2003-09-24 | Optrex Corporation | Liquid crystal display element |
| JP2006171673A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Samsung Electronics Co Ltd | 薄膜トランジスタ表示板及び液晶表示装置 |
| US8896789B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-11-25 | Fujifilm Corporation | Optical film, polarizing plate, image display device, and 3D image display system |
| US9279993B2 (en) | 2011-11-01 | 2016-03-08 | Fujifilm Corporation | Optical film, polarizing plate, picture display apparatus, and 3D picture display system |
-
1999
- 1999-02-12 JP JP3439899A patent/JP2000231109A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1308770A3 (en) * | 2001-10-31 | 2003-09-24 | Optrex Corporation | Liquid crystal display element |
| JP2006171673A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Samsung Electronics Co Ltd | 薄膜トランジスタ表示板及び液晶表示装置 |
| US7332743B2 (en) | 2004-12-17 | 2008-02-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Thin film transistor array panel and liquid crystal display |
| US8896789B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-11-25 | Fujifilm Corporation | Optical film, polarizing plate, image display device, and 3D image display system |
| US9279993B2 (en) | 2011-11-01 | 2016-03-08 | Fujifilm Corporation | Optical film, polarizing plate, picture display apparatus, and 3D picture display system |
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