JP2000233570A - 記録用シート及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インク吸収性及び画像の鮮明性に優れた記録
用シートを得る。 【解決手段】 鎖状に連結した微粒子鎖が三次元状に結
合した網目構造を有する多孔質膜で記録用シートを構成
する。前記多孔質膜の平均孔径は０．１〜５μｍ程度で
あってもよく、空孔率は４０〜８０％程度であってもよ
い。前記多孔質膜はセルロース系樹脂、ビニル系重合体
及びポリスルホン系重合体などの樹脂で構成できる。こ
のような記録用シートは、基材上に、樹脂溶液を塗布し
た後、相分離法により多孔質膜を形成することにより製
造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は記録用シート及びそ
の製造方法に関する。さらに詳しくはインクジェット記
録方式におけるインクの吸収性、インク定着性、印字
性、記録画像の耐水性及び耐久性に優れた記録用シート
及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット記録方式は、フルカラー
化が容易であり、低騒音で印字品質に優れている。ま
た、インクジェットプリンターは低価格で、しかも高速
化が容易であるため、コンピュータ用記録装置、ワード
プロセッサ、コピー機などの印字・出力装置として広く
用いられている。インクジェット記録用のインク成分と
しては、安全性、記録適性の点から主に水性インクが使
用され、ノズルから記録用シートにむけてインク小滴を
飛翔させることにより記録が行われる。使用する記録用
シートのインク吸収性が低い場合、飛翔させたインク小
滴の周辺にインクが飛散したり、記録終了後もインクが
記録用シートの表面に長時間残り、装置の一部への接
触、取り扱い者への接触や、記録用シートの重ね合せに
より、記録部分が汚れる。また、高密度画像部では、多
量に供給されたインクが吸収されないまま混合されると
ともに流れ出し、不鮮明な画像となる。このため、記録
用シートは、速やかにインクを吸収すること、及び高い
定着性が要求される。

【０００３】これらの問題を解決するために、従来から
いくつかの提案がなされてきた。例えば、特開昭５９−
１７４３８１号公報、特開昭６０−２２４５７８号公報
には、支持体上に水溶性高分子で形成された受容層を設
けることを提案している。

【０００４】しかし、この記録用シートでは、シート自
体の耐水性が低く、受容層や記録部が水に溶出し、表面
が粘性又は粘着性となり、シートを積層するとブロッキ
ングが生じる。

【０００５】また、支持体上に多孔質層を設け、毛細管
作用によりインクを吸収させることも提案されている。
特開昭５８−１１０２８号公報、特開平５−５１４７０
号公報には、シリカ等の粒子を凝集させて、粒子同士の
間隙で構成されている空孔を有する多孔質層を支持体上
に設けた記録用シートが提案されている。

【０００６】特公昭６３−５６８７６号公報には連続被
膜中に空孔を有する多孔性樹脂層を備えたインクジェッ
ト記録用シートが開示されている。また、特開昭６１−
２２９８３号公報には、多数の微細孔を有する親水性ポ
リマーシートからなるインクジェット記録用シートが開
示されている。

【０００７】しかし、これらのシートでは、インク吸収
性、インク定着性を大きく向上させることが困難であ
る。なお、インクジェット記録方式において、耐水性を
向上させるため、顔料を用いたインクが検討されてい
る。しかし、染料インクと異なり、粒子状の顔料インク
ではインク受容層に対する定着性ひいては耐水性が低下
する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、染料インクまたは顔料インクであってもインク吸収
性、インク定着性に優れ、インクの滲みを抑制して、鮮
明な画像を形成できる記録用シート及びその製造方法を
提供することにある。

【０００９】本発明の他の目的は、インク吸収性および
画像の鮮明性に優れた記録用シートを高い生産性で製造
できる方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成する為に鋭意検討の結果、鎖状に連結した微粒子
鎖が三次元状に結合し網目構造を形成している多孔質膜
で記録用シートを構成すると、インク吸収性、画像の鮮
明性を大幅に改善できることを見出し、本発明を完成し
た。

【００１１】すなわち、本発明の記録用シートは、微粒
子が鎖状に連結した鎖を備えており、この微粒子鎖が三
次元状に結合し網目構造を形成している多孔質膜で構成
されている。前記多孔質膜の表面および内部での平均孔
径は０．１〜５μｍ程度であってもよく、空孔率は４０
〜８０％程度であってもよい。前記多孔質膜は基材の少
なくとも一方の面に形成されていてもよい。

【００１２】本発明には、基材上に、樹脂溶液を塗布し
た後、相分離法により多孔質膜を形成する記録用シート
の製造方法も含まれる。塗膜は、開放系に放置した後、
貧溶媒に浸漬してもよい。

【００１３】

【発明の実施の形態】［多孔質膜］本発明の記録用シー
トの多孔質膜は、微粒子が鎖状に連結した鎖を備えてお
り、この微粒子鎖が三次元状に結合し網目構造を形成し
ている。前記微粒子は、後述するように、通常、樹脂で
形成されている。すなわち、前記多孔質膜は、樹脂で構
成されている。多孔質膜は、ミクロ相分離構造を有して
いてもよい。このミクロ相分離構造は、樹脂溶液の組成
変化により相分離したゲル相の凝固により形成され、粒
子鎖間に形成される細孔の形状は、通常、不定形であ
り、不規則で非円形である。

【００１４】前記多孔質膜において、微粒子の平均粒径
は、０．０５〜１μｍ、好ましくは０．０７〜０．７５
μｍ、さらに好ましくは０．１〜０．５μｍ程度であ
り、通常、０．０８〜０．３μｍ程度である。微粒子は
規則的又はランダムに連結してジュズ状の鎖を形成して
いる。また、微粒子鎖は直鎖状であってもよく、分岐し
ていてもよい。微粒子鎖を構成する微粒子の平均個数
は、２〜１００個、好ましくは３〜５０個、さらに好ま
しくは３〜２０個程度である。複数の微粒子鎖は規則的
又はランダムに結合して三次元状に網目構造を構成して
いる。複数の微粒子は、通常、連結して粒子鎖セグメン
トを形成し、このセグメントが三次元状に結合して多孔
質膜を構成しており、通常、隣接する微粒子鎖又はセグ
メント間には空隙が形成されている。なお、微粒子は、
部分的に凝集して塊又は集合体を形成していてもよい。
このような集合体であっても微粒子間に微小空隙を形成
できる。

【００１５】このような構造の多孔質膜を利用すると、
記録用シートに向けて飛翔したインク滴（顔料インクで
あってよい水性インクなど）は、多孔質膜の内部に速や
かに吸収され、鮮明な画像を得ることができるととも
に、シート表面の見かけ上の乾燥状態をより速く得るこ
とができる。

【００１６】多孔質膜の表面および内部での平均孔径は
０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜３μｍ、さらに好
ましくは０．５〜２μｍ程度である。表面および内部で
の平均孔径が０．１μｍ未満では、インクの吸収性、乾
燥性、インク定着性が低下し、画像形成時に滲みを呈す
るとともに、画像の耐久性が低下する。前記平均孔径が
５μｍを超えると画像の鮮明性や塗膜の強度が低下する
虞が生じる。

【００１７】インク吸収性は多孔質膜の空孔率にも影響
される。前記多孔質膜において、空孔率は４０〜８０
％、好ましくは４２〜７５％程度である。空孔率が４０
％未満では、吸収面の表面積が少ないため、膜のインク
に対する吸収能が低く、８０％を越えると、多孔質膜自
体の強度が低下する虞がある。

【００１８】多孔質膜は透明、半透明または不透明のい
ずれであってもよい。本発明では、孔径や空孔率を調整
することにより、用途によっては透明性の高い多孔質膜
を得ることも可能である。透明性の高い多孔質膜は、例
えば、平均孔径が０．４μｍ以下である。このような記
録シートは、波長４００ｎｍでの光線透過率が、５５％
以上（すなわち５５〜１００％）、好ましくは６０〜１
００％、さらに好ましくは７０〜１００％、特に７５〜
１００％程度であれば、ＯＨＰ用シートとしても有用で
ある。透明性を重視する場合、多孔質膜の空孔率は、例
えば、４０〜７０％、好ましくは４０〜６０％（例え
ば、４２〜５０％）程度であるのが望ましい。

【００１９】前記多孔質膜を構成する樹脂としては、前
記特徴を有する多孔質膜を形成できる限り、特に制限さ
れず種々の樹脂（熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂）が
使用でき、通常、熱可塑性樹脂が使用される。熱可塑性
樹脂としては、以下の樹脂または重合体などが例示でき
る。

【００２０】セルロース系樹脂（セルロース誘導体）：
セルロースエステル、例えば、セルロースアセテート、
セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテ
ートブチレートなどの有機酸エステル；硝酸セルロー
ス、硫酸セルロース、リン酸セルロースなどの無機酸エ
ステル；硝酸酢酸セルロースなどの混酸エステルなど セルロースエーテル、例えば、メチルセルロース、エチ
ルセルロース、イソプロピルセルロース、ブチルセルロ
ース、ベンジルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセ
ルロース、シアノエチルセルロースなど ビニル系重合体：オレフィン系重合体、例えばオレフィ
ン類の単独または共重合体（ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ１−ブテン、ポリイソブテン、ポリブタジエ
ン、ポリイソプレン、ポリアレン、エチレン−プロピレ
ン共重合体など）、オレフィン類と共重合性単量体との
共重合体（エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
（メタ）アクリル酸エステル共重合体、変性ポリオレフ
ィンなど） ハロゲン含有ビニル重合体、例えば、ハロゲン含有ビニ
ル単量体の単独又は共重合体（ポリビニルクロライド、
ポリビニリデンクロライド、ポリビニルブロマイド、ポ
リビニルフロライド、ポリビニリデンフロライドな
ど）、ハロゲン含有ビニル単量体と共重合性単量体との
共重合体（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
リデン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニリデン−（メ
タ）アクリルアミド共重合体、塩化ビニリデン−（メ
タ）アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−（メタ）ア
クリル酸エステル共重合体など） ビニルエステル系重合体又はその誘導体、例えば、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニル
アルコール共重合体、ポリビニルアセタール系重合体
（ポリビニルフォルマール、ポリビニルアセタール、ポ
リビニルブチラールなど） スチレン系重合体（ポリスチレン、ポリ（α−メチルス
チレン）、ポリ（４−クロロスチレン）など）、芳香族
ビニル単量体と共重合性単量体との共重合体（スチレン
−（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエステル共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−マ
レイミド共重合体など） アリルアルコール系重合体、例えば、アリルアルコール
−Ｃ_1-6 アルキルビニルエーテル共重合体（アリルアル
コール−メチルビニルエーテル共重合体など）ポリビニ
ルケトン類、例えば、ポリビニルメチルケトン、ポリビ
ニルメチルイソブチルケトン、ポリメチルイソプロペニ
ルケトンなど ポリアルキルビニルエーテル、例えば、ポリメチルビニ
ルエーテル、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共
重合体など （メタ）アクリル系重合体、例えば、（メタ）アクリル
系単量体［（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリ
ル酸エステル単量体など］の単独又は共重合体、（メ
タ）アクリル系単量体と共重合性単量体［ビニルエステ
ル系単量体、複素環式ビニル系単量体、芳香族ビニル単
量体、重合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体などの
ビニル系単量体］との共重合体 ポリスルホン系重合体：ポリスルホン（ポリヘキサメチ
レンスルホンなど）、スルホン化ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホンなどの、その分子中に−ＳＯ₂ −の結合
基をもつ重合体である。

【００２１】これらの重合体は単独でまたは２種以上混
合して使用できる。本発明においては、多孔質膜を形成
する重合体としてポリスルホン系重合体が機械的強度、
耐熱性、耐薬品性に優れており好適に使用できる。

【００２２】前記多孔質膜は、水性インクに対する濡れ
性が高く、孔中に水性インクが浸透するのに十分な親水
性表面を有するものであってもよい。このような多孔質
膜は、親水性樹脂で構成できる。なお、親水性樹脂と
は、接触角が８０°未満( 好ましくは０〜６０°、特に
０〜４０°程度）の重合体を意味する。接触角とは、室
温で重合体面上の水滴の広がりが停止した状態で、水滴
の表面と重合体面との交点において、水滴に対する接線
と重合体面との間の角である。

【００２３】多孔質膜の膜厚は、特に制限されず、用途
に応じて選択でき、一般には、インクジェットプリンタ
で画像を形成することを考慮すると、例えば１〜３００
μｍ、好ましくは３〜２５０μｍ、さらに好ましくは５
〜２００μｍ程度である。多孔質膜の膜厚が１μｍ未満
では、強度、インク吸収性が不十分であり、３００μｍ
を越えると画像の鮮明性が低下する虞がある。

【００２４】本発明の記録用シートでは基材の少なくと
も一方の面に、前記多孔質膜を形成してもよい。基材上
に多孔質膜を設ける場合、多孔質膜の膜厚は、１μｍ以
上（例えば、１〜１５μｍ程度）、好ましくは１．５〜
１２μｍ程度である。

【００２５】［基材］基材の材質は特に制限はなく、透
明、半透明および不透明のいずれであってもよい二次元
構造の基材が使用できる。例えば、紙、塗工紙、不織
布、プラスチックフィルムなどがあげられ、プラスチッ
クフィルムを構成するポリマーとしては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレンなどのオレフィン系重合体、ポリ塩
化ビニルなどのハロゲン系重合体、ポリスチレン、ゴム
強化ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂などのスチレン系樹脂、
ポリ（メタ）アクリル系重合体、セルロースアセテート
などのセルロース系樹脂（セルロース誘導体）、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート
などのポリエステル樹脂、ビスフェノールＡ型ポリカー
ボネートなどのポリカーボネート樹脂、ポリアミドおよ
びポリイミド系樹脂などが例示できる。これらの樹脂は
単独でまたは２種以上混合して使用できる。

【００２６】好ましい基材としては、多孔質基材（不織
布等の連続気泡を有する多孔質基材など）が挙げられ
る。基材として不織布を用いると、インクジェットによ
り吐出された水性インクは多孔質膜を通して不織布に速
やかに吸収され、シート表面での見掛け上の乾燥状態を
早く得ることができる。また、機械的強度、作業性など
の点から、屋外などの劣悪な条件下での使用にも有利で
ある。不織布は、水性インクの吸収性を損なわない限
り、その種類（原料の種類）は特に限定されず、例え
ば、天然繊維（綿、麻、絹など）、再生繊維（レーヨン
など）、半合成繊維（アセテートなど）、合成繊維（ナ
イロン繊維、ポリエステル繊維、アクリル繊維、ポリオ
レフィン繊維（ポリプロピレン繊維など）など）の繊維
を単独でまたは２種以上混合して使用できる。繊維は鞘
や芯構造などを有する複合繊維であってもよい。これら
の繊維には、表面処理（例えば、親水化処理）が施され
ていてもよい。また、必要に応じて、酸化防止剤、熱安
定剤、滑剤、顔料、紫外線吸収剤などを添加してもよ
い。不織布は、プラスチックフィルムなどの基材の少な
くとも一方の面に積層して用いてもよい。

【００２７】不織布を構成する繊維の平均繊維径は、例
えば、０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．１〜５０
μｍ程度の範囲から選択できる。不織布の目付けはイン
ク吸収性に応じて選択でき、例えば、５０ｇ／ｍ² 以
上、好ましくは１００ｇ／ｍ² 以上の範囲から選択でき
る。不織布の厚みは用途に応じて適宜選択でき、例え
ば、５０μｍ〜２ｍｍ、好ましくは１００μｍ〜１ｍｍ
（例えば１００〜５００μｍ）、さらに好ましくは１０
０〜３００μｍ程度である。不織布の繊維密度（不織布
の目付けを不織布の厚みで割った値）は１００〜５００
０ｋｇ／ｍ³ 、好ましくは５００〜２０００ｋｇ／ｍ³
程度である。また、不織布の通気性は０．１〜１００ｃ
ｍ³ ／ｃｍ² ・ｓｅｃ、好ましくは０．１〜５０ｃｍ³
／ｃｍ² ・ｓｅｃ、より好ましくは０．１〜２０ｃｍ³
／ｃｍ²・ｓｅｃ程度である。

【００２８】基材の厚みは、用途に応じて当業者の所望
により選択できるが、通常、インクジェットプリンター
に挿入して画像を形成することを考慮すると、例えば、
２０〜２００μｍ程度の範囲から選択でき、好ましくは
５０〜１７０μｍ程度、さらに好ましくは８０〜１５０
μｍ程度である。基材の厚みが２０μｍより薄いと、強
度及び剛性面からプリンターへの挿入、シートの反り、
及びシートの取り扱いに困難をきたし、２００μｍより
厚いと、一枚当たりの価格の上昇、シートの重量の増大
により多数のシートの持ち運び性などが低下しやすい。
また、基材が不織布である場合、不織布の厚みは、例え
ば、５０μｍ〜２ｍｍ程度、好ましくは１００μｍ〜１
ｍｍ程度、さらに好ましくは１００〜３００μｍ程度で
ある。

【００２９】シート表面での見かけ上の乾燥速度を高め
るため、必要により多孔質膜と基材との間にインク吸収
層を設けてもよい。 ［インク吸収層］インク吸収層は、インク又はインクの
溶媒成分を吸収可能な物質で構成でき、特に制限されな
い。インクジェット記録方式においては、水性インクが
多用されているため、インク吸収層は、通常、親水性高
分子（親水性樹脂）で構成できる。

【００３０】前記親水性高分子としては、例えば、親水
性天然高分子又はその誘導体（デンプン、コーンスター
チ、アルギン酸ナトリウム、アラビヤゴム、ゼラチン、
カゼイン、デキストリンなど）、セルロース誘導体（メ
チルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、カルボキシメチルセルロースなど）、ビニ
ルアルコール系重合体（ポリビニルアルコール、エチレ
ン−ビニルアルコール共重合体など）、ポリアルキレン
オキサイド（ポリエチレンオキサイド、エチレンオキサ
イド−プロピレンオキサイドブロック共重合体など）、
カルボキシル基又はスルホン酸基を有する重合体又はそ
の塩［アクリル系重合体（ポリ（メタ）アクリル酸又は
その塩（アンモニウム、ナトリウムなどのアルカリ金属
塩）、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合
体、アクリル酸−ポリビニルアルコール共重合体な
ど）、ビニルエーテル系重合体（ポリビニルメチルエー
テル、ポリビニルイソブチルエーテルなどのポリビニル
アルキルエーテル、メチルビニルエーテル−無水マレイ
ン酸共重合体など）、スチレン系重合体（スチレン−無
水マレイン酸共重合体、スチレン−（メタ）アクリル酸
共重合体、ポリスチレンスルホン酸ナトリウムなど）、
ポリビニルスルホン酸ナトリウムなど）、ポリビニルス
ルホン酸ナトリウムなど］、窒素含有重合体（又はカチ
オン性ポリマー）又はその塩（ポリビニルベンジルトリ
メチルアンモニウムクロライド、ポリジアリルジメチル
アンモニウムクロライドなどの４級アンモニウム塩、ポ
リジメチルアミノエチル( メタ) アクリレート塩酸塩、
ポリビニルピリジン、ポリビニルイミダゾール、ポリエ
チレンイミン、ポリアミドポリアミン、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドンなど）などが挙げられる。
これらの親水性高分子は単独で又は二種以上組合せて使
用できる。

【００３１】これらの親水性高分子のうち、セルロース
誘導体（特にヒドロキシエチルセルロースなど）、ビニ
ルアルコール系重合体（特にポリビニルアルコールな
ど）、ビニルエステル系重合体（特に酢酸ビニル系共重
合体など）、ポリビニルピロリドンなどが好ましい。

【００３２】インク吸収層の厚みは、用途に応じて選択
でき、例えば、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μ
ｍ程度であり、通常、５〜３０μｍ程度である。インク
吸収層を設ける場合、多孔質膜の膜厚は、１μｍ以上
（例えば、１〜１５μｍ程度）、好ましくは１．５〜１
２μｍ程度である。

【００３３】前記多孔質膜及び／又はインク吸収層に
は、耐水性を付与するために、架橋剤又は硬化剤を添加
してもよい。架橋剤は、前記親水性高分子を架橋可能で
ある限り、特に制限されない。例えば、前記親水性高分
子がヒドロキシル基を有する場合、架橋剤としては、有
機系架橋剤［カルボキシル基又は酸無水物基を有する化
合物（多価カルボン酸又はその酸無水物など）、アルデ
ヒド基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、窒
素含有化合物（尿素樹脂、グアナミン樹脂、メラミン樹
脂などのアミノ樹脂；エチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ポリオキシアルキレン型ジアミン又はポリ
アミン（すなわち、ポリエーテル型ジアミン又はポリア
ミン）などの脂肪族、脂環族、芳香族ジアミン又はポリ
アミンなど）、アクリルアミド基を有する化合物、イソ
シアネート基を有する化合物（ポリイソシアネート、ブ
ロック型ポリイソシアネートなど）］、金属化合物など
の無機系架橋剤［ホウ酸又はホウ酸塩（硼砂など）、ジ
ルコニウム化合物（例えばハロゲン化物、硫酸などの無
機酸や酢酸などの有機酸との塩）、チタニウム化合物
（例えば、テトラエトキシチタネートなどのアルコキシ
ドなど）、アルミニウム化合物（例えば、トリメトキシ
アルミネートなどのアルコキシドなど）、リン化合物
（例えば、亜リン酸エステル、ビスフェノールＡ変性ポ
リリン酸など）、シランカップリング剤（アルコキシ
基、グリシジル基などの反応性官能基を有するシリコー
ン化合物）など］などが使用できる。

【００３４】これらの架橋剤は、単独で又は二種以上を
組合せて使用できる。多孔質膜及び／又はインク吸収層
がヒドロキシル基含有親水性高分子を含有する場合、多
価カルボン酸又はその塩、あるいは多価カルボン酸の無
水物と組合せると、インク吸収性、アンチブロッキング
性、画像の鮮明性( 印字品質) および耐水性を改善でき
る。

【００３５】多価カルボン酸としては、分子中に２以上
の複数のカルボキシル基を有する化合物、例えば、脂肪
族ポリカルボン酸（シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸などの
Ｃ_2-10脂肪酸飽和ポリカルボン酸など、フマル酸、マレ
イン酸、無水マレイン酸、イタコン酸などのＣ_4-6 脂肪
族不飽和ポリカルボン酸など）、脂環族ポリカルボン酸
（１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、テトラヒドロ
フタル酸などのＣ_8-10脂環族ポリカルボン酸など）、芳
香族ポリカルボン酸（フタル酸、無水フタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット
酸などのＣ_8-12芳香族ポリカルボン酸又はその酸無水物
など）、オキシポリカルボン酸（リンゴ酸、酒石酸、ク
エン酸などのＣ_3-6 オキシ多価カルボン酸など）、複素
環式多価カルボン酸（ピリジンカルボン酸、ピリジント
リカルボン酸、ピリジンテトラカルボン酸など）が例示
できる。好ましい多価カルボン酸には、脂肪族、脂環族
又は芳香族Ｃ_2-10ポリカルボン酸（特にＣ_3-10ポリカル
ボン酸）が含まれる。

【００３６】さらに好ましい多価カルボン酸は、水溶性
又は水分散性である場合が多く、温度３０℃において水
１００ｇに対して５ｇ以上（好ましくは１０ｇ以上、さ
らに好ましくは３０ｇ以上）溶解する水溶性多価カルボ
ン酸である。このような多価カルボン酸には、Ｃ_2-6 脂
肪族多価カルボン酸（特にＣ_3-5 脂肪族多価カルボン
酸、例えば、マレイン酸又は無水マレイン酸）などが含
まれる。

【００３７】多価カルボン酸は塩としても使用でき、多
価カルボン酸のカルボキシル基の一部または全部が塩基
との塩を形成してもよい。多価カルボン酸には、無機塩
基（アンモニア、カリウム、ナトリウムなどのアルカリ
金属など）との塩、有機塩基（第３級アミンなど）との
塩が含まれる。

【００３８】アルデヒド基を有する化合物としては、複
数のアルデヒド基を有する化合物、例えば、グリオキザ
ール、マロンジアルデヒド、グルタルアルデヒド、テレ
フタルアルデヒド、ジアルデヒドデンプン、アクロレイ
ン共重合アクリル樹脂などが例示できる。

【００３９】エポキシ基を有する化合物としては、複数
のエポキシ基を有する化合物、例えば、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパントリグリシジルエーテル、１，２−３，４
−ジエポキシブタンなどが例示できる。

【００４０】硬化剤の使用量は、例えば、固形分換算
で、親水性高分子１００重量部に対して０．０１〜１０
重量部、好ましくは０．１〜５重量部程度である。多孔
質膜及び／又はインク吸収層は、必要に応じて、着色剤
（染料）の定着性を向上させるため、染料固着剤、特
に、高分子染料固着剤を含んでいるのが有利である。染
料固着剤は、通常、分子中にカチオン基（特に、グアニ
ジル基や第４級アンモニウム塩型の強いカチオン基）を
有している。染料固着剤は水溶性であってもよい。

【００４１】染料固着剤としては、例えば、ジシアン系
固着剤（ジシアンジアミド−ホルマリン重縮合体な
ど）、ポリアミン系固着剤[ ジエチレントリアミン、ト
リエチレンテトラミン、ジプロピレントリアミン、ポリ
アリルアミンなどの脂肪族ポリアミン、フェニレンジア
ミンなどの芳香族ポリアミン、ジシアンジアミドと（ポ
リ）Ｃ_2-4 アルキレンポリアミンとの縮合体（ジシアン
ジアミド−ジエチレントリアミン重縮合体など）] 、ポ
リカチオン系固着剤などが例示できる。ポリカチオン系
固着剤としては、例えば、エピクロルヒドリン−ジＣ
_1-4 アルキルアミン付加重合体（エピクロルヒドリン−
ジメチルアミン付加重合体など）、アリルアミン又はそ
の塩の重合体（ポリアリルアミン又はその塩酸塩の重合
体、例えば、日東紡績（株），PAA-10C ，PAA-HCl-3L，
PAA-HCl-10L など）、ジアリルＣ_1-4 アルキルアミン又
はその塩の重合体（ジアリルメチルアミン又はその塩酸
塩の重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-M-1 な
ど）、ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩の重合
体（ジアリルジメチルアンモニウムクロライドの重合
体、例えば、日東紡績（株），PAS-H-5L，PAS-H-10L な
ど）、ジアリルアミン又はその塩と二酸化イオウとの共
重合体（ジアリルアミン塩酸塩−二酸化イオウ共重合
体、例えば、日東紡績（株），PAS-92など）、ジアリル
ジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩−二酸化イオウ重合体
（ジアリルジメチルアンモニウムクロライド−二酸化イ
オウ共重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-A-1 ，PA
S-A-5 ，PAS-A-120L，PAS-A-120Aなど）、ジアリルジＣ
_1-4 アルキルアンモニウム塩とジアリルアミン又はその
塩もしくは誘導体との共重合体（ジアリルジメチルアン
モニウムクロライド−ジアリルアミン塩酸塩誘導体の共
重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-880 など）、ジ
アリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩共重合体、ジＣ
_1-4 アルキルアミノエチル（メタ）アクリレート４級塩
の重合体、ジアリルジＣ_1-4 アルキルアンモニウム塩−
アクリルアミド共重合体（ジアリルジメチルアンモニウ
ムクロライド−アクリルアミド共重合体、例えば、日東
紡績（株），PAS-J-81など）、アミン−カルボン酸共重
合体（例えば、日東紡績（株），PAS-410 など）などが
例示できる。これらの染料固着剤も単独で又は二種以上
混合して使用できる。

【００４２】染料固着剤の使用量は、定着性を向上でき
る範囲、例えば、固形分換算で、多孔質膜又はインク吸
収層を構成する樹脂１００重量部に対して０．１〜４０
重量部、好ましくは１〜３０重量部、さらに好ましくは
２〜２０重量部程度の範囲から選択できる。

【００４３】多孔質膜及び／又はインク吸収層には、必
要に応じて粉粒体（顔料など）を含有させてもよい。粉
粒体を含有させることで、インク受像シートの印字性、
インク吸収性がより向上する。粉粒体としては、例え
ば、無機粉粒体（二酸化珪素（ホワイトカーボン、コロ
イダルシリカなど）、珪酸カルシウム、ゼオライト、ア
ミノ珪酸マグネシウム、焼成珪成土、炭酸マグネシウ
ム、アルミナ、タルク、カオリン、デラミカオリン、ク
レー、珪藻土、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウ
ム、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、二酸化チタン、酸化
亜鉛、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化
マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、
硫酸カルシウム、硫酸バリウム、セリサイト、ベントナ
イト、スメクタイトなどの鉱物質粉粒体など）、有機粉
粒体[ ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの架橋又は非架
橋有機微粒子、微小中空粒子などの有機質粉粒体など]
が挙げられる。これらの粉粒体は１種又は２種以上適宜
選択して併用可能である。

【００４４】さらに、多孔質膜及び／又はインク吸収層
は慣用の添加剤、例えば、塗布性改良剤、増粘剤、滑
剤、安定剤（抗酸化剤、紫外線吸収剤、熱安定剤な
ど）、帯電防止剤、アンチブロッキング剤などを含んで
いてもよい。 ［製造方法］本発明の記録用シートは、樹脂と少なくと
も樹脂に対する良溶媒とを含む樹脂溶液の被膜を相転換
し、前記多孔質膜を形成することにより製造できる。よ
り詳細には、樹脂と少なくともこの樹脂に対する良溶媒
とを含む樹脂溶液の被膜を、樹脂に対する貧溶媒に浸漬
して多孔質膜を形成する。前記被膜は、開放系に放置し
た後、貧溶媒に浸漬してもよい。前記多孔質膜は、基材
の少なくとも一方の面に直接形成してもよく、インク吸
収層を介して形成してもよい。

【００４５】前記多孔質膜は、例えば、基材上に、樹脂
溶液を塗布した後、相分離法により多孔質膜を形成す
る。この場合、多孔質膜は、ミクロ相分離法、例えば、
多孔質膜を構成する樹脂の良溶媒と、前記樹脂に対する
貧溶媒とを含む均一な塗布液（ドープ）を基材に流延又
は塗布し、溶媒を蒸発させて相分離を生じさせる、いわ
ゆる乾式相転換法によって形成することも可能である
が、湿式相転換法、すなわち、少なくとも前記樹脂の良
溶媒を含む塗布液（樹脂溶液又はドープ）を流延または
塗布し、前記樹脂に対する貧溶媒に浸漬して、相分離を
生じさせて形成するのが、微粒子や微粒子鎖の形態、精
密な孔径制御を行う上で好ましい。

【００４６】前記製造方法において多孔質膜の構造を制
御するため、塗布液中の溶媒において、良溶媒と貧溶媒
と組み合わせてもよい。良溶媒は、高分子の種類などに
応じて選択でき、例えば、ケトン類（アセトン、メチル
エチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのＣ_3-6 ジアルキル
ケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（ギ酸エ
チルなどのギ酸Ｃ_1-4 アルキルエステル、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸Ｃ_1-4 アルキルエス
テル、プロピオン酸エチル、乳酸エチルなど）、エーテ
ル類（１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テト
ラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジメトキシエタンなどの環状又は鎖状Ｃ_4-6 エ
ーテル）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブなどのＣ_1-4 アルキルセロ
ソルブ）、セロソルブアセテート類（メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブアセテートなどのＣ_1-4
アルキルセロソルブアセテート）、芳香族炭化水素類
（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、ハロゲン化炭
化水素類（塩化メチレン、塩化エチレンなど）、アミド
類（ホルムアミド、アセトアミドなどのアシルアミド
類、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのモノ又はジＣ_1-4 アシルアミド
類）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなどのジ
Ｃ_1-3 アルキルスルホキシド）、ニトリル類（アセトニ
トリル、クロロアセトニトリル、プロピオニトリル、ブ
チロニトリルなどのＣ_1-6 アルキルニトリル、ベンゾニ
トリルなど）、有機酸類（ギ酸、酢酸、プロピオン酸な
ど）、有機酸無水物（無水マレイン酸、無水酢酸な
ど）、およびこれらの混合物から選択できる。なお、こ
れらの良溶媒（例えば、低級アルコール類（メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどの
Ｃ_1-4 アルキルアルコール、ジアセトンアルコールな
ど）、シクロアルカノール（シクロペンタノール、シク
ロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、ジメチル
シクロヘキサノールなどのＣ_1-4 アルキル基が置換して
いてもよいＣ_4-8シクロアルカノール）など）は、樹脂
の種類によっては、貧溶媒とある場合がある。良溶媒
は、ニトロ化合物（ニトロメタン、ニトロエタン、ニト
ロプロパンなど）などを含んでいてもよい。

【００４７】より具体的には、ポリスルホン系重合体の
好ましい良溶媒には、アミド類（Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミドなど）、スルホキシド類（ジメチルス
ルホキシドなど）、又はこれらの混合溶媒が含まれ、中
でもスルホキシド類が好ましい。

【００４８】貧溶媒とは、樹脂に対する溶解性がない
か、又は溶解性の低い溶媒を意味し、種類は、特に制限
されない。貧溶媒としては、例えば、水、エステル類
（ギ酸アミル、ギ酸イソアミルなどのギ酸Ｃ_5-8 アルキ
ルエステル、酢酸アミル、酢酸へキシル、酢酸オクチ
ル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸３−エトキシブチ
ル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸３−メトキシブ
チルなどのＣ_1-4 アルコキシ基を有してもよいＣ_2-4 脂
肪族カルボン酸Ｃ_6-10アルキルエステル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチル、安息香酸プロピルなどの安息香酸
Ｃ_1-4 アルキルエステル類）、アルコール類（アミルア
ルコールなどのＣ_6-10アルコール類、複素環式アルコー
ルなど）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ポ
リエチレングリコール、グリセリンなど）およびこれら
の混合物が例示できる。

【００４９】より具体的には、ポリスルホン系重合体の
好ましい貧溶媒には、水、アルコール類（Ｃ_6-20アルキ
ルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリ
コール、グリセリンなどの多価アルコールなど）、ケト
ン類（アセトニルアセトン、アセトフェノン）などが含
まれる。好ましい貧溶媒は、アルコール類、特に多価ア
ルコール（エチレングリコールなどの脂肪族多価アルコ
ール）である。

【００５０】塗布液（樹脂溶液）中の良溶媒と貧溶媒と
の割合は、樹脂の均一溶液を形成できる限り特に制限さ
れないが、通常、良溶媒１００重量部に対して、貧溶媒
０〜３００重量部、好ましくは３〜２５０重量部、さら
に好ましくは５〜２５０重量部程度である。

【００５１】良溶媒と、樹脂と、必要により貧溶媒とを
含む樹脂の均一溶液である塗布液（ドープ）中の樹脂の
含有量は、樹脂（重合体）の重合度などに応じて選択で
き、例えば、１〜３０重量％、好ましくは１〜２５重量
％、特に３〜２０重量％（例えば、３〜１５重量％）程
度である。

【００５２】塗布液（ドープ）中には、慣用の添加剤、
例えば、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、熱安定剤、滑
剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤
などを添加してもよい。

【００５３】本発明の記録用シートは、例えば、前記塗
布液（ドープ）を基材の少なくとも片面に塗布して塗膜
を形成し、その後、重合体に対する貧溶媒（例えば、
水）を収容する凝固槽に浸漬して相転換を起こさせ、そ
の後、乾燥させ、多孔質膜を形成することにより製造で
きる。また、基材が剥離性基材である場合、基材から多
孔質膜を剥離させてもよい。塗布液（ドープ）の流延又
は塗布方法は、例えば、ロールコーター、エアナイフコ
ーター、ブレードコーター、ロッドコーター、バーコー
ター、コンマコーター、グラビアコーター、シルクスク
リーンコーター法など慣用の方法が適用できる。

【００５４】相転換は、前記塗布液（樹脂溶液）の被膜
を低温の貧溶媒中に浸漬することにより行うことができ
る。貧溶媒の温度は、５〜６０℃未満、好ましくは１０
〜５５℃（例えば、２０〜５５℃）程度である。浸漬時
間は、例えば、２秒〜１０分、好ましくは１０秒〜８分
（例えば、３０秒〜５分）程度である。なお、前記浸漬
に先立って、予備的に一部の溶媒を揮散させてもよい。
その際、コアセルベーションが、液膜の表面から内部に
向かって生じ、一部予備的に相転換しているようであ
る。このような予備的相転換は、開放系（例えば、大気
中）に放置することにより行うことができる。予備的相
転換における放置温度は、例えば、１０〜３５℃、好ま
しくは室温（１５〜３０℃）程度である。また、放置時
間は、例えば、１秒〜６０分、好ましくは１０秒〜５０
分間である。

【００５５】本発明の記録用シートは、インクの小滴を
吐出させて記録するインクジェット方式の記録用シート
として有用であるが、オフセット印刷、フレキソ印刷な
どの印刷シート（特に水性インク用シート）などとして
も利用できる。

【００５６】

【発明の効果】本発明では、多孔質膜が、微粒子が鎖状
に連結した鎖を備えており、この微粒子鎖が三次元状に
結合して網目構造を形成しているため、染料インクまた
は顔料インクであってもインク吸収性、インク定着性に
優れ、インクの滲みを抑制して、鮮明な画像を形成でき
る。また、このような特性を有する記録用シートを高い
生産性で製造できる。

【００５７】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

【００５８】なお、文中、特に断わりのない限り、部ま
たは％は重量基準である。実施例および比較例で得られ
た記録用シートについて、平均孔径、空孔率、耐水性、
印字性、及びインク吸収性を以下のように評価した。

【００５９】なお、画像形成にはインクジェットプリン
ター（ＥＮＣＡＤ製、ＮＯＶＡＪＥＴ・ＰＲＯ）を使用
し、実施例および比較例で得られた記録用シートに、顔
料タイプ水性インク（イエロー、マゼンタ、シアン、ブ
ラックの各々の色）をベタで印刷し、記録画像を形成し
た。

【００６０】［平均孔径、空孔率］５０００倍で撮影し
た電子顕微鏡表面写真と断面写真の２ｃｍ×２ｃｍの任
意の三箇所を画像処理装置で処理し、各孔を真円として
孔径を測定し、平均することにより平均孔径を求めた。

【００６１】空孔率（％）は、計算式（孔の全面積／測
定面積）×１００により算出した。 ［耐水性］２５℃にて十分に水を含んだ綿棒で印字部を
１０往復こすり、下記の基準で印字部を目視で評価し
た。

【００６２】 ◎ 印字部が完全に残っている ○ 印字部に滲みが認められる × 印字部が残っていない ［印字性］印字した画像形成部を下記の基準で、目視で
評価した。

【００６３】 ◎ 滲みなく、鮮明である ○ やや滲みを生ずる × 滲みを激しく生ずる ［インク吸収性］印字した後、一定時間ごとに印字部に
ＰＰＣ用コピー用紙を載せ、コピー用紙の上から荷重２
５０ｇ／ｃｍ² を１０秒間かけた後、コピー用紙を剥が
し、インクの裏移りの程度を目視で判断し、裏移りが認
められなくなるまでの時間を基準にしてインク吸収性を
評価した。

【００６４】 ◎ 裏移りが認められなくなるまでの時間が、１分以内 ○ 裏移りが認められなくなるまでの時間が、３分以内 × 裏移りが認められなくなるまでの時間が、５分以内 実施例１ ポリエーテルスルホン（住友化学（株）製，スミカエク
セル５２００Ｐ）の３７．５重量％ジメチルスルホキシ
ド溶液４０重量部に、よく攪拌しながらポリエチレング
リコール（＃２００）６０重量部を添加し、ドープを調
製した。このドープをポリエステル不織布（日本バイリ
ーン( 株）製，ＭＦ−１８０Ｋ，平均繊維径１５μｍ、
目付け１８０ｇ／ｍ² 、厚さ２００μｍ、繊維密度９０
０ｋｇ／ｍ³ ，通気性２．０ｃｍ³ ／ｃｍ² ・ｓｅｃ）
に、乾燥後の多孔質膜の厚みが１５０μｍになるように
塗布し、２０℃、９０％ＲＨの条件で５分間放置した
後、５０℃の水を満たした凝固槽に２分間浸漬し、相転
換した。さらに、室温（２０℃程度）の送風下で２時間
程度乾燥して記録用シートを得た。得られた記録用シー
トの多孔質膜表面の電子顕微鏡写真を図１に示す。図１
に示すように、多孔質膜表面では、微粒子が鎖状に連結
した三次元網目構造が形成されており、表面の平均孔径
は０．５μｍ、空孔率は５２．３％であった。

【００６５】実施例２ ポリアクリロニトリル系重合体（アクリロニトリル含量
８５モル％）の１５重量％ジメチルスルホキシド溶液６
２重量部に、よく攪拌しながらジエチレングリコール３
８重量部を添加し、ドープを調製した。このドープを実
施例１と同様のポリエステル不織布に、乾燥後の多孔質
膜の厚みが１００μｍになるように塗布し、２０℃、９
０％ＲＨの条件で３０秒放置した後、３０℃の水を満た
した凝固槽に２分間浸漬し、相転換した。さらに、室温
（２０℃程度）の送風下で２時間程度乾燥して記録用シ
ートを得た。得られた記録用シートの多孔質膜表面で
は、微粒子が鎖状に連結した三次元網目構造が形成され
ており、表面の平均孔径は０．４μｍ、空孔率は４６．
６％であった。

【００６６】実施例３ 酢酸セルロース（平均酢化度６０．５，粘度平均重合度
２６０）の３０重量％ジメチルスルホキシド溶液６０重
量部に、よく攪拌しながらエチレングリコール４０重量
部を添加し、ドープを調製した。このドープを実施例１
と同様のポリエステル不織布に、乾燥後の多孔質膜の厚
みが１００μｍになるように塗布し、２５℃、６０％Ｒ
Ｈの条件で３分間放置した後、４５℃の水を満たした凝
固槽に２分間浸漬し、相転換した。さらに、室温（２０
℃程度）の送風下で２時間程度乾燥して記録用シートを
得た。得られた記録用シートの多孔質膜表面では、微粒
子が鎖状に連結した三次元網目構造が形成されており、
表面の平均孔径は０．５μｍ、空孔率は４３．５％であ
った。

【００６７】比較例１ 酢酸セルロース（平均酢化度５５，粘度平均重合度１７
０）の８重量％メチルセロソルブ溶液１００重量部に、
４−メチルシクロヘキサノール１３．７重量部を添加
し、ドープを調製した。このドープを実施例１と同様の
ポリエステル不織布に、乾燥後の多孔質膜の厚みが５０
μｍになるように塗布し、４０℃、９０％ＲＨの条件で
１０分乾燥して記録用シートを得た。得られた記録用シ
ートは、孔の空いた薄膜をポリエステル不織布に積層さ
せた構造であり、多孔質膜の表面の平均孔径は０．２μ
ｍ、空孔率は３９．３％であった。

【００６８】比較例２ ポリエーテルスルホンのジメチルスルホキシド溶液の濃
度を１５重量％とする以外は実施例１と同様に記録用シ
ートを作製した。得られた記録用シートは、表面に孔を
有しなかった。

【００６９】比較例３ 変性ポリビニルアルコール（日本合成化学工業（株）
製、「ＯＫＳ７１５８Ｇ」、けん化度８８％）の５重量
％水溶液１００重量部に、粒径１０μｍの酸化アルミニ
ウム粒子１００重量部を添加して、塗布液を調製した。
この塗布液をポリエチレンテレフタレートフィルム（Ｉ
ＣＩジャパン（株）製，メリネックス３３９，厚さ７５
μｍ）に、乾燥後の多孔質膜の厚みが２０μｍになるよ
うに塗布し、１２０℃で３分間乾燥して記録用シートを
得た。得られた記録用シートの多孔質膜表面の平均孔径
は７．１μｍ、空孔率は２０．３％であった。

【００７０】実施例及び比較例で得られた記録用シート
について、前記評価に従って、印字特性を評価した。結
果を表１に示す。

【００７１】

【表１】

【００７２】表から明らかなように、微粒子が鎖状に結
合した三次元網目構造の多孔質膜で構成されている実施
例の記録用シートでは、耐水性、印字性、インク吸収性
のいずれもが良好である。これに対して、多孔質膜がこ
のような構造を有していない比較例１及び３のシート
は、印字性、耐水性、インク吸収性のいずれもが実施例
に比べて不十分である。特に、比較例３では、多孔質膜
表面の平均孔径が大きいため、顔料インクの記録用シー
ト内部への過度の浸透により、画像の鮮明性（印字性）
が劣る。また、多孔質膜を形成していない比較例２のシ
ートでは、上記特性のいずれもが実施例に比べて劣って
いた。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１で得られた記録用シート表面の
電子顕微鏡写真（倍率５０００倍）である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H086 BA02 BA16 BA22 BA34 BA41 4F100 AJ04A AJ06 AK11A AK21A AK24A AK27 AK41 AK55A AT00B BA01 BA02 BA03 BA07 BA10A BA10B DC16A DE01A DG15B DJ10A EH46 EH462 EJ82 EJ822 GB90 JD14 JD14C YY00A 4L033 AC15 BA31 CA03 CA18 CA58

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 微粒子が鎖状に連結した鎖を備えてお
   り、この微粒子鎖が三次元状に結合して網目構造を形成
   している多孔質膜で構成されている記録用シート。
2. 【請求項２】 多孔質膜の平均孔径が０．１〜５μｍで
   ある請求項１記載の記録用シート。
3. 【請求項３】 多孔質膜表面の空孔率が４０〜８０％で
   ある請求項１記載の記録用シート。
4. 【請求項４】 多孔質膜が、相転換法によるミクロ相分
   離構造を有する請求項１記載の記録用シート。
5. 【請求項５】 多孔質膜がセルロース系樹脂、ビニル系
   重合体及びポリスルホン系重合体から選択された少なく
   とも一種の樹脂で構成されている請求項１記載の記録用
   シート。
6. 【請求項６】 基材の少なくとも一方の面に多孔質膜が
   形成されている請求項１記載の記録用シート。
7. 【請求項７】 基材が不織布である請求項６記載の記録
   用シート。
8. 【請求項８】 多孔質膜と基材との間にインク吸収層が
   形成されている請求項１記載の記録用シート。
9. 【請求項９】 基材上に、樹脂溶液を塗布した後、相分
   離法により多孔質膜を形成する請求項１記載のインク受
   像シートの製造方法。
10. 【請求項１０】 塗膜を開放系に放置した後、樹脂に対
    する貧溶媒に浸漬する請求項９記載の記録用シートの製
    造方法。