JP2000237671A - 縦型ワニス塗布装置 - Google Patents
縦型ワニス塗布装置Info
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 製品不良を生じない，安全性，生産性に優れ
た縦型ワニス塗布装置を提供すること。 【解決手段】 一対の塗布ロール１１と各塗布ロール１
１に設けたワニス溜り１２とを有し，被塗布板を塗布ロ
ール１１の間に下方から上方へ通過させることにより，
その表側面２１及び裏側面２２にワニス３を塗付する縦
型ワニス塗布装置１。縦型ワニス塗布装置１は，ワニス
溜り１２に供給するためのワニス３を貯留するワニス容
器１４と，該ワニス容器１４とワニス溜り１２との間を
連絡するワニスパイプ１３とを有する。ワニス容器１４
は，圧力タンク１５内に配置されている。圧力タンク１
５は，該圧力タンク１５内に高圧空気４を供給する高圧
空気供給器１６を有している。
た縦型ワニス塗布装置を提供すること。 【解決手段】 一対の塗布ロール１１と各塗布ロール１
１に設けたワニス溜り１２とを有し，被塗布板を塗布ロ
ール１１の間に下方から上方へ通過させることにより，
その表側面２１及び裏側面２２にワニス３を塗付する縦
型ワニス塗布装置１。縦型ワニス塗布装置１は，ワニス
溜り１２に供給するためのワニス３を貯留するワニス容
器１４と，該ワニス容器１４とワニス溜り１２との間を
連絡するワニスパイプ１３とを有する。ワニス容器１４
は，圧力タンク１５内に配置されている。圧力タンク１
５は，該圧力タンク１５内に高圧空気４を供給する高圧
空気供給器１６を有している。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は，一対の塗布ロールにより被塗布
板の両面にワニスを塗付する縦型ワニス塗布装置に関す
る。
板の両面にワニスを塗付する縦型ワニス塗布装置に関す
る。
【０００２】
【従来技術】従来より，一対の塗布ロールと各塗布ロー
ルに設けたワニス溜りとを有し，被塗布板を上記塗布ロ
ールの間を通過させることにより，その表側面及び裏側
面にワニスを塗付する縦型ワニス塗布装置がある。上記
縦型ワニス塗布装置により被塗布板にワニスを塗布する
に当っては，まず，上記一対の塗布ロールを回転させ
る。このとき，上記ワニス溜りに貯留されたワニスが上
記塗布ロールの表面に設けられた微細溝に含浸する。
ルに設けたワニス溜りとを有し，被塗布板を上記塗布ロ
ールの間を通過させることにより，その表側面及び裏側
面にワニスを塗付する縦型ワニス塗布装置がある。上記
縦型ワニス塗布装置により被塗布板にワニスを塗布する
に当っては，まず，上記一対の塗布ロールを回転させ
る。このとき，上記ワニス溜りに貯留されたワニスが上
記塗布ロールの表面に設けられた微細溝に含浸する。
【０００３】次いで，上記被塗布板を一対の上記塗布ロ
ールの間に，下方から上方に通過させる（図２参照）。
これにより，上記被塗布板の表側面及び裏側面に，上記
塗付ロールの微細溝に含浸したワニスを塗布する。この
ようにして，上記ワニス溜りに貯留されたワニスを，一
対の塗布ロールにより上記被塗布板に塗布する。
ールの間に，下方から上方に通過させる（図２参照）。
これにより，上記被塗布板の表側面及び裏側面に，上記
塗付ロールの微細溝に含浸したワニスを塗布する。この
ようにして，上記ワニス溜りに貯留されたワニスを，一
対の塗布ロールにより上記被塗布板に塗布する。
【０００４】
【解決しようとする課題】しかしながら，上記従来の縦
型ワニス塗布装置においては，以下の問題がある。塗布
作業中においては，上記ワニス溜りへワニスを定期的に
補給する必要があり，その補給方法としては，作業者が
その残量を確認しつつ手作業により行っている。
型ワニス塗布装置においては，以下の問題がある。塗布
作業中においては，上記ワニス溜りへワニスを定期的に
補給する必要があり，その補給方法としては，作業者が
その残量を確認しつつ手作業により行っている。
【０００５】そのため，残量の確認が遅れることによ
り，被処理板にワニスが塗布されず製品不良が発生する
おそれがある。また，有機溶剤等が含有しているワニス
は，人体に有害であり，これを手作業で補給すること
は，安全性の面からも好ましくない。更に，ワニスの補
給時には，上記縦型ワニス塗布装置を停止する必要があ
り，生産効率が悪いという問題もある。
り，被処理板にワニスが塗布されず製品不良が発生する
おそれがある。また，有機溶剤等が含有しているワニス
は，人体に有害であり，これを手作業で補給すること
は，安全性の面からも好ましくない。更に，ワニスの補
給時には，上記縦型ワニス塗布装置を停止する必要があ
り，生産効率が悪いという問題もある。
【０００６】本発明は，かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので，製品不良を生じない，安全性，生産性に
優れた縦型ワニス塗布装置を提供しようとするものであ
る。
されたもので，製品不良を生じない，安全性，生産性に
優れた縦型ワニス塗布装置を提供しようとするものであ
る。
【０００７】
【課題の解決手段】請求項１に記載の発明は，一対の塗
布ロールと各塗布ロールに設けたワニス溜りとを有し，
被塗布板を上記塗布ロールの間に下方から上方へ通過さ
せることにより，その表側面及び裏側面にワニスを塗付
する縦型ワニス塗布装置において，該縦型ワニス塗布装
置は，上記ワニス溜りに供給するためのワニスを貯留す
るワニス容器と，該ワニス容器と上記ワニス溜りとの間
を連絡するワニスパイプとを有し，かつ，上記ワニス容
器は，圧力タンク内に配置されており，該圧力タンク
は，該圧力タンク内に高圧空気を供給する高圧空気供給
器を有していることを特徴とする縦型ワニス塗布装置に
ある。
布ロールと各塗布ロールに設けたワニス溜りとを有し，
被塗布板を上記塗布ロールの間に下方から上方へ通過さ
せることにより，その表側面及び裏側面にワニスを塗付
する縦型ワニス塗布装置において，該縦型ワニス塗布装
置は，上記ワニス溜りに供給するためのワニスを貯留す
るワニス容器と，該ワニス容器と上記ワニス溜りとの間
を連絡するワニスパイプとを有し，かつ，上記ワニス容
器は，圧力タンク内に配置されており，該圧力タンク
は，該圧力タンク内に高圧空気を供給する高圧空気供給
器を有していることを特徴とする縦型ワニス塗布装置に
ある。
【０００８】本発明において最も注目すべきことは，上
記縦型ワニス塗布装置は，上記ワニス溜りに供給するた
めのワニスを貯留するワニス容器と，該ワニス容器と上
記ワニス溜りとの間を連絡するワニスパイプとを有して
いることである。そして，上記ワニス容器は，圧力タン
ク内に配置されており，該圧力タンクは，該圧力タンク
内に高圧空気を供給する高圧空気供給器を有している。
記縦型ワニス塗布装置は，上記ワニス溜りに供給するた
めのワニスを貯留するワニス容器と，該ワニス容器と上
記ワニス溜りとの間を連絡するワニスパイプとを有して
いることである。そして，上記ワニス容器は，圧力タン
ク内に配置されており，該圧力タンクは，該圧力タンク
内に高圧空気を供給する高圧空気供給器を有している。
【０００９】上記縦型ワニス塗布装置により，被塗布板
にワニスを塗布するに当っては，上記ワニス溜りに貯留
されたワニスを，回転する塗布ロールの表面に含浸させ
る。そして，上記２本の塗布ロールの間に被塗布板を通
過させることにより，上記塗布ロールの表面に含浸した
ワニスを上記被塗布板に塗布する。また，上記高圧空気
供給器により上記圧力タンク内に高圧空気を供給して，
上記圧力タンク内を加圧することにより，上記ワニス容
器内のワニスを，上記ワニスパイプを介して上記ワニス
溜りに供給する。
にワニスを塗布するに当っては，上記ワニス溜りに貯留
されたワニスを，回転する塗布ロールの表面に含浸させ
る。そして，上記２本の塗布ロールの間に被塗布板を通
過させることにより，上記塗布ロールの表面に含浸した
ワニスを上記被塗布板に塗布する。また，上記高圧空気
供給器により上記圧力タンク内に高圧空気を供給して，
上記圧力タンク内を加圧することにより，上記ワニス容
器内のワニスを，上記ワニスパイプを介して上記ワニス
溜りに供給する。
【００１０】次に，本発明の作用効果につき説明する。
上記縦型ワニス塗布装置は，上記ワニス容器と，上記ワ
ニスパイプとを有している。そして，上記ワニス容器
は，上記高圧空気供給器を有する上記圧力タンク内に配
置されている。
上記縦型ワニス塗布装置は，上記ワニス容器と，上記ワ
ニスパイプとを有している。そして，上記ワニス容器
は，上記高圧空気供給器を有する上記圧力タンク内に配
置されている。
【００１１】そのため，上記縦型ワニス塗布装置は，上
記のごとく，空気圧により，ワニスを上記ワニス溜りに
供給することができる。それ故，ワニスを容易に供給す
ることが可能であり，逐次ワニスを供給することができ
る。そのため，特にワニス切れとなる寸前までワニスの
補給を待つ必要もないため，ワニス切れにより製品不良
が発生するおそれがない。
記のごとく，空気圧により，ワニスを上記ワニス溜りに
供給することができる。それ故，ワニスを容易に供給す
ることが可能であり，逐次ワニスを供給することができ
る。そのため，特にワニス切れとなる寸前までワニスの
補給を待つ必要もないため，ワニス切れにより製品不良
が発生するおそれがない。
【００１２】また，ワニスの供給を手作業で行う必要も
ないため，作業者の安全が確保される。更に，空気圧を
用いて，ワニスパイプを介してワニスの供給を行うた
め，ワニス供給時に上記縦型ワニス塗布装置を停止する
必要がない。それ故，生産性も向上する。
ないため，作業者の安全が確保される。更に，空気圧を
用いて，ワニスパイプを介してワニスの供給を行うた
め，ワニス供給時に上記縦型ワニス塗布装置を停止する
必要がない。それ故，生産性も向上する。
【００１３】以上のごとく，本発明によれば，製品不良
を生じない，安全性，生産性に優れた縦型ワニス塗布装
置を提供することができる。
を生じない，安全性，生産性に優れた縦型ワニス塗布装
置を提供することができる。
【００１４】次に，請求項２に記載の発明のように，上
記ワニスパイプは，ワニスの供給を制御するための開閉
バルブを有していることが好ましい。これにより，上記
ワニスの供給を正確かつ容易に行うことができる。
記ワニスパイプは，ワニスの供給を制御するための開閉
バルブを有していることが好ましい。これにより，上記
ワニスの供給を正確かつ容易に行うことができる。
【００１５】次に，請求項３に記載の発明のように，上
記ワニス溜りは，その中のワニスの液面を検知する液面
センサを有し，該液面センサの検知信号により上記開閉
バルブの開閉を制御することが好ましい。例えば，上記
ワニス溜りに，ワニスの液面の下限を検知する下限セン
サと，上限を検知する上限センサを設け，下限センサの
検知信号により上記開閉バルブを開放し，上記上限セン
サの検知信号により上記開閉バルブを閉止する。これに
より，ワニスの補給を自動的に行うことができ，ワニス
切れが発生するおそれがないと共に，作業効率も向上す
る。また，上記液面センサとしては，例えば，光ファイ
バーセンサ，超音波センサを用いる。
記ワニス溜りは，その中のワニスの液面を検知する液面
センサを有し，該液面センサの検知信号により上記開閉
バルブの開閉を制御することが好ましい。例えば，上記
ワニス溜りに，ワニスの液面の下限を検知する下限セン
サと，上限を検知する上限センサを設け，下限センサの
検知信号により上記開閉バルブを開放し，上記上限セン
サの検知信号により上記開閉バルブを閉止する。これに
より，ワニスの補給を自動的に行うことができ，ワニス
切れが発生するおそれがないと共に，作業効率も向上す
る。また，上記液面センサとしては，例えば，光ファイ
バーセンサ，超音波センサを用いる。
【００１６】次に，請求項４に記載の発明のように，上
記圧力タンクは，上記ワニス容器内のワニスの残量を検
知するためのワニス量検知センサを有していることが好
ましい。これにより，上記ワニス容器内のワニス量を常
に検知することができる。そのため，警報器等からの警
報により，ワニス切れを事前に把握することができ，ワ
ニス切れを防止することができる。上記ワニス量検知セ
ンサとしては，例えば，超音波センサを用いる。
記圧力タンクは，上記ワニス容器内のワニスの残量を検
知するためのワニス量検知センサを有していることが好
ましい。これにより，上記ワニス容器内のワニス量を常
に検知することができる。そのため，警報器等からの警
報により，ワニス切れを事前に把握することができ，ワ
ニス切れを防止することができる。上記ワニス量検知セ
ンサとしては，例えば，超音波センサを用いる。
【００１７】次に，請求項５に記載の発明のように，上
記圧力タンクは，該圧力タンク内に供給する高圧空気を
濾過するためのミストセパレータを有していることが好
ましい。これにより，上記圧力タンク内の湿度が上昇す
ることを防ぐことができる。それ故，上記ワニス容器内
のワニスが長時間湿気に晒されることを防ぎ，品質管理
上粘度管理が重要な上記ワニスの粘度の低下を防ぐこと
ができる。そのため，品質の高い製品を製造することが
できる。
記圧力タンクは，該圧力タンク内に供給する高圧空気を
濾過するためのミストセパレータを有していることが好
ましい。これにより，上記圧力タンク内の湿度が上昇す
ることを防ぐことができる。それ故，上記ワニス容器内
のワニスが長時間湿気に晒されることを防ぎ，品質管理
上粘度管理が重要な上記ワニスの粘度の低下を防ぐこと
ができる。そのため，品質の高い製品を製造することが
できる。
【００１８】次に，請求項６に記載の発明のように，上
記被塗布板は，プリント配線基板とすることもできる。
この場合には，製品不良を生ずることなく，安全かつ生
産性良く，プリント配線板を製造することができる。
記被塗布板は，プリント配線基板とすることもできる。
この場合には，製品不良を生ずることなく，安全かつ生
産性良く，プリント配線板を製造することができる。
【００１９】特に，プリント配線基板は精密部品であ
り，上記ワニスの塗布厚みが不充分のときは，層間絶縁
不良の問題が発生する。本発明の縦型ワニス塗布装置に
よれば，確実に必要厚みにワニスを塗布することがで
き，本発明の効果を一層発揮することができる。
り，上記ワニスの塗布厚みが不充分のときは，層間絶縁
不良の問題が発生する。本発明の縦型ワニス塗布装置に
よれば，確実に必要厚みにワニスを塗布することがで
き，本発明の効果を一層発揮することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】実施形態例 本発明の実施形態例にかかる縦型ワニス塗布装置につ
き，図１，図２を用いて説明する。本例の縦型ワニス塗
布装置１は，図１に示すごとく，一対の塗布ロール１１
と各塗布ロール１１に設けたワニス溜り１２とを有す
る。そして，図２に示すごとく，被塗布板２を上記塗布
ロール１１の間に下方から上方へ通過させることによ
り，その表側面２１及び裏側面２２にワニス３を塗付す
る。なお，本例においては，上記被塗布板２としてはプ
リント配線基板，上記ワニス３としては絶縁層形成用樹
脂を用いた。
き，図１，図２を用いて説明する。本例の縦型ワニス塗
布装置１は，図１に示すごとく，一対の塗布ロール１１
と各塗布ロール１１に設けたワニス溜り１２とを有す
る。そして，図２に示すごとく，被塗布板２を上記塗布
ロール１１の間に下方から上方へ通過させることによ
り，その表側面２１及び裏側面２２にワニス３を塗付す
る。なお，本例においては，上記被塗布板２としてはプ
リント配線基板，上記ワニス３としては絶縁層形成用樹
脂を用いた。
【００２１】上記縦型ワニス塗布装置１は，図１に示す
ごとく，上記ワニス溜り１２に供給するためのワニス３
を貯留するワニス容器１４と，該ワニス容器１４と上記
ワニス溜り１２との間を連絡するワニスパイプ１３とを
有する。そして，上記ワニス容器１４は，圧力タンク１
５内に配置されており，該圧力タンク１５は，該圧力タ
ンク１５内に高圧空気４を供給する高圧空気供給器１６
を有している。
ごとく，上記ワニス溜り１２に供給するためのワニス３
を貯留するワニス容器１４と，該ワニス容器１４と上記
ワニス溜り１２との間を連絡するワニスパイプ１３とを
有する。そして，上記ワニス容器１４は，圧力タンク１
５内に配置されており，該圧力タンク１５は，該圧力タ
ンク１５内に高圧空気４を供給する高圧空気供給器１６
を有している。
【００２２】上記ワニスパイプ１３は，ワニス３の供給
を制御するための開閉バルブ１７を有している。そし
て，上記ワニス溜り１２は，その中のワニス３の液面を
検知する液面センサを有し，該液面センサの検知信号に
より上記開閉バルブ１７の開閉を制御する。
を制御するための開閉バルブ１７を有している。そし
て，上記ワニス溜り１２は，その中のワニス３の液面を
検知する液面センサを有し，該液面センサの検知信号に
より上記開閉バルブ１７の開閉を制御する。
【００２３】即ち，上記ワニス溜り１２には，ワニス３
の液面の下限を検知する下限センサ１８１と，上限を検
知する上限センサ１８２が設けられている。そして，上
記下限センサ１８１が，ワニス３の液面を検知すると，
その検知信号がコントローラ１８３に送られ，該コント
ローラ１８３により上記開閉バルブ１７を開放する。一
方，上記上限センサ１８２が，ワニス３の液面を検知す
ると，その検知信号がコントローラ１８３に送られ，該
コントローラ１８３により上記開閉バルブ１７を閉止す
る。上記下限センサ１８１，上限センサ１８２として
は，光ファイバーセンサを用いた。
の液面の下限を検知する下限センサ１８１と，上限を検
知する上限センサ１８２が設けられている。そして，上
記下限センサ１８１が，ワニス３の液面を検知すると，
その検知信号がコントローラ１８３に送られ，該コント
ローラ１８３により上記開閉バルブ１７を開放する。一
方，上記上限センサ１８２が，ワニス３の液面を検知す
ると，その検知信号がコントローラ１８３に送られ，該
コントローラ１８３により上記開閉バルブ１７を閉止す
る。上記下限センサ１８１，上限センサ１８２として
は，光ファイバーセンサを用いた。
【００２４】なお，上記ワニスパイプ１３は，図１に示
すごとく，２本に分岐しており，その１本ずつが，２本
の塗布ロール１１に設けられたワニス溜り１２のそれぞ
れに連結されている。また，分岐したワニスパイプ１３
のそれぞれが，上記開閉バルブ１７を有しており，該開
閉バルブ１７は，それぞれ上記下限センサ１８１，上限
センサ１８２，及びコントローラ１８３に電気的に接続
されている。
すごとく，２本に分岐しており，その１本ずつが，２本
の塗布ロール１１に設けられたワニス溜り１２のそれぞ
れに連結されている。また，分岐したワニスパイプ１３
のそれぞれが，上記開閉バルブ１７を有しており，該開
閉バルブ１７は，それぞれ上記下限センサ１８１，上限
センサ１８２，及びコントローラ１８３に電気的に接続
されている。
【００２５】上記圧力タンク１５は，上記ワニス容器１
４内のワニス３の残量を検知するためのワニス量検知セ
ンサ１５１を有している。また，上記圧力タンク１５
は，該圧力タンク１５内に供給する高圧空気４を濾過す
るためのミストセパレータ１９１，マイクロミストセパ
レータ１９２，スーパーミストセパレータ１９３，及び
エアドライヤー１９４を有している。即ち，上記ミスト
セパレータ１９１，マイクロミストセパレータ１９２，
スーパーミストセパレータ１９３，及びエアドライヤー
１９４は，上記高圧空気供給器１６と上記圧力タンク１
５との間の空気配管１９に設けてある。上記ワニス量検
知センサ１５１としては，超音波センサを用いた。
４内のワニス３の残量を検知するためのワニス量検知セ
ンサ１５１を有している。また，上記圧力タンク１５
は，該圧力タンク１５内に供給する高圧空気４を濾過す
るためのミストセパレータ１９１，マイクロミストセパ
レータ１９２，スーパーミストセパレータ１９３，及び
エアドライヤー１９４を有している。即ち，上記ミスト
セパレータ１９１，マイクロミストセパレータ１９２，
スーパーミストセパレータ１９３，及びエアドライヤー
１９４は，上記高圧空気供給器１６と上記圧力タンク１
５との間の空気配管１９に設けてある。上記ワニス量検
知センサ１５１としては，超音波センサを用いた。
【００２６】上記縦型ワニス塗布装置１により，被塗布
板２にワニス３を塗布するに当っては，上記ワニス溜り
１２に貯留されたワニス３を，回転する塗布ロール１１
を介して被塗布板２に塗布する（図２）。即ち，図２
（Ａ）に示すごとく，上記塗布ロール１１を回転させる
と共に，上記被塗布板２を下方から，上記２本の塗布ロ
ール１１の間に投入する。
板２にワニス３を塗布するに当っては，上記ワニス溜り
１２に貯留されたワニス３を，回転する塗布ロール１１
を介して被塗布板２に塗布する（図２）。即ち，図２
（Ａ）に示すごとく，上記塗布ロール１１を回転させる
と共に，上記被塗布板２を下方から，上記２本の塗布ロ
ール１１の間に投入する。
【００２７】これにより，図２（Ｂ）に示すごとく，上
記被塗布板２が上記塗布ロール１１の間を通過する。こ
の際，上記塗布ロール１１の表面に形成された微細溝
（図示略）に含浸したワニス３が，上記被塗布板２の表
側面２１及び裏側面２２に塗布される。上記塗布ロール
１１の間を通過しワニス３が塗布された被塗布板２は，
図２（Ｃ）に示すごとく，エアチャック等の把持手段５
により把持され次工程へ搬送される。
記被塗布板２が上記塗布ロール１１の間を通過する。こ
の際，上記塗布ロール１１の表面に形成された微細溝
（図示略）に含浸したワニス３が，上記被塗布板２の表
側面２１及び裏側面２２に塗布される。上記塗布ロール
１１の間を通過しワニス３が塗布された被塗布板２は，
図２（Ｃ）に示すごとく，エアチャック等の把持手段５
により把持され次工程へ搬送される。
【００２８】また，上記ワニス溜り１２へのワニス３の
供給は以下のようにして行う。即ち，上記高圧空気供給
器１６により上記圧力タンク１５内に，例えば５ｋｇ／
ｃｍ2程度の高圧空気４を供給して，上記圧力タンク１
５内を加圧する。これにより，上記ワニス容器１４内の
ワニス３は，上記ワニスパイプ１３を通って上記ワニス
溜り１２に供給される。
供給は以下のようにして行う。即ち，上記高圧空気供給
器１６により上記圧力タンク１５内に，例えば５ｋｇ／
ｃｍ2程度の高圧空気４を供給して，上記圧力タンク１
５内を加圧する。これにより，上記ワニス容器１４内の
ワニス３は，上記ワニスパイプ１３を通って上記ワニス
溜り１２に供給される。
【００２９】次に，本例の作用効果につき説明する。上
記縦型ワニス塗布装置１は，上記ワニス容器１４と，上
記ワニスパイプ１３とを有している。そして，上記ワニ
ス容器１４は，上記高圧空気供給器１６を有する上記圧
力タンク１５内に配置されている。
記縦型ワニス塗布装置１は，上記ワニス容器１４と，上
記ワニスパイプ１３とを有している。そして，上記ワニ
ス容器１４は，上記高圧空気供給器１６を有する上記圧
力タンク１５内に配置されている。
【００３０】そのため，上記縦型ワニス塗布装置１は，
上記のごとく，空気圧により，ワニスを上記ワニス溜り
１２に供給することができる。それ故，ワニス３を容易
に供給することが可能であり，逐次ワニス３を供給する
ことができる。そのため，特にワニス切れとなる寸前ま
でワニスの補給を待つ必要もないため，ワニス切れによ
り製品不良が発生するおそれがない。
上記のごとく，空気圧により，ワニスを上記ワニス溜り
１２に供給することができる。それ故，ワニス３を容易
に供給することが可能であり，逐次ワニス３を供給する
ことができる。そのため，特にワニス切れとなる寸前ま
でワニスの補給を待つ必要もないため，ワニス切れによ
り製品不良が発生するおそれがない。
【００３１】また，ワニス３の供給を手作業で行う必要
もないため，作業者の安全が確保される。更に，空気圧
により，ワニスパイプ１３を介してワニス３の供給を行
うため，ワニス供給時に上記縦型ワニス塗布装置１を停
止する必要がない。それ故，生産性も向上する。
もないため，作業者の安全が確保される。更に，空気圧
により，ワニスパイプ１３を介してワニス３の供給を行
うため，ワニス供給時に上記縦型ワニス塗布装置１を停
止する必要がない。それ故，生産性も向上する。
【００３２】また，上記ワニスパイプ１３は，ワニス３
の供給を制御するための開閉バルブ１７を有しているた
め，上記ワニス３の供給を正確かつ容易に行うことがで
きる。また，上記開閉バルブ１７を開閉は，上記下限セ
ンサ１８１と，上記上限センサ１８２の検知信号により
行う。そのため，ワニス３の補給を自動的に行うことが
でき，ワニス切れが発生するおそれがないと共に，作業
効率も一層向上する。
の供給を制御するための開閉バルブ１７を有しているた
め，上記ワニス３の供給を正確かつ容易に行うことがで
きる。また，上記開閉バルブ１７を開閉は，上記下限セ
ンサ１８１と，上記上限センサ１８２の検知信号により
行う。そのため，ワニス３の補給を自動的に行うことが
でき，ワニス切れが発生するおそれがないと共に，作業
効率も一層向上する。
【００３３】また，上記ワニス容器１４内のワニス３の
残量は，ワニス量検知センサ１５１により検知すること
ができる。そのため，上記ワニス容器１４内のワニス切
れを事前に把握し，ワニス切れを防止することができ
る。
残量は，ワニス量検知センサ１５１により検知すること
ができる。そのため，上記ワニス容器１４内のワニス切
れを事前に把握し，ワニス切れを防止することができ
る。
【００３４】また，上記ミストセパレータ１９１，マイ
クロミストセパレータ１９２，スーパーミストセパレー
タ１９３により，上記圧力タンク内に供給する高圧空気
４の水分を濾取し，エアドライヤー１９４により，上記
高圧空気４を乾燥する。これにより，上記圧力タンク１
５内の湿度が上昇することを防ぐことができる。それ
故，上記ワニス容器１４内のワニス３が長時間湿気に晒
されることを防ぎ，品質管理上粘度管理が重要な上記ワ
ニス３の粘度の低下を防ぐことができる。そのため，品
質の高い製品を製造することができる。
クロミストセパレータ１９２，スーパーミストセパレー
タ１９３により，上記圧力タンク内に供給する高圧空気
４の水分を濾取し，エアドライヤー１９４により，上記
高圧空気４を乾燥する。これにより，上記圧力タンク１
５内の湿度が上昇することを防ぐことができる。それ
故，上記ワニス容器１４内のワニス３が長時間湿気に晒
されることを防ぎ，品質管理上粘度管理が重要な上記ワ
ニス３の粘度の低下を防ぐことができる。そのため，品
質の高い製品を製造することができる。
【００３５】以上のごとく，本例によれば，製品不良を
生じない，安全性，生産性に優れた縦型ワニス塗布装置
を得ることができる。また，本例においては，被塗布板
としてプリント配線基板を用いている。該プリント配線
基板は，例えば樹脂基板の表面に金属メッキを施すこと
により導体回路を形成したもので，その上に本例のごと
く上記ワニスを塗布する。
生じない，安全性，生産性に優れた縦型ワニス塗布装置
を得ることができる。また，本例においては，被塗布板
としてプリント配線基板を用いている。該プリント配線
基板は，例えば樹脂基板の表面に金属メッキを施すこと
により導体回路を形成したもので，その上に本例のごと
く上記ワニスを塗布する。
【００３６】特に，プリント配線基板は精密部品であ
り，上記ワニスの塗布厚みが不充分のときは，層間絶縁
不良の問題が発生する。本例の縦型ワニス塗布装置によ
れば，確実に必要厚みにワニスを塗布することができ，
本発明の効果を一層発揮することができる。
り，上記ワニスの塗布厚みが不充分のときは，層間絶縁
不良の問題が発生する。本例の縦型ワニス塗布装置によ
れば，確実に必要厚みにワニスを塗布することができ，
本発明の効果を一層発揮することができる。
【００３７】なお，本発明は，プリント配線基板に限ら
ず，他の板状の被塗布板にも適用できる。また，上記ワ
ニスは，絶縁層形成用樹脂に限らず，ソルダーレジスト
等の他のワニスであってもよい。
ず，他の板状の被塗布板にも適用できる。また，上記ワ
ニスは，絶縁層形成用樹脂に限らず，ソルダーレジスト
等の他のワニスであってもよい。
【００３８】
【発明の効果】上述のごとく，本発明によれば，製品不
良を生じない，安全性，生産性に優れた縦型ワニス塗布
装置を提供することができる。
良を生じない，安全性，生産性に優れた縦型ワニス塗布
装置を提供することができる。
【図１】実施形態例における，縦型ワニス塗布装置の説
明図。
明図。
【図２】実施形態例における，ワニスの塗布方法の説明
図。
図。
１．．．縦型ワニス塗布装置， １１．．．塗布ロール， １２．．．ワニス溜り， １３．．．ワニスパイプ， １４．．．ワニス容器， １５．．．圧力タンク， １６．．．高圧空気供給器， １７．．．開閉バルブ， ２．．．被塗布板， ３．．．ワニス， ４．．．高圧空気，
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 倉地 真琴 岐阜県大垣市木戸町905番地 イビデン株 式会社大垣工場内 Ｆターム(参考） 4F040 AA12 AB20 AC02 BA16 CB22 DA02 DA04 DB06 DB30 4F042 AA06 BA02 BA06 BA09 BA13 CA09 CB08 CB10 CB25 5E346 HH08
Claims (6)
- 【請求項１】 一対の塗布ロールと各塗布ロールに設け
たワニス溜りとを有し，被塗布板を上記塗布ロールの間
に下方から上方へ通過させることにより，その表側面及
び裏側面にワニスを塗付する縦型ワニス塗布装置におい
て，該縦型ワニス塗布装置は，上記ワニス溜りに供給す
るためのワニスを貯留するワニス容器と，該ワニス容器
と上記ワニス溜りとの間を連絡するワニスパイプとを有
し，かつ，上記ワニス容器は，圧力タンク内に配置され
ており，該圧力タンクは，該圧力タンク内に高圧空気を
供給する高圧空気供給器を有していることを特徴とする
縦型ワニス塗布装置。 - 【請求項２】 請求項１において，上記ワニスパイプ
は，ワニスの供給を制御するための開閉バルブを有して
いることを特徴とする縦型ワニス塗布装置。 - 【請求項３】 請求項２において，上記ワニス溜りは，
その中のワニスの液面を検知する液面センサを有し，該
液面センサの検知信号により上記開閉バルブの開閉を制
御することを特徴とする縦型ワニス塗布装置。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか一項において，
上記圧力タンクは，上記ワニス容器内のワニスの残量を
検知するためのワニス量検知センサを有していることを
特徴とする縦型ワニス塗布装置。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか一項において，
上記圧力タンクは，該圧力タンク内に供給する高圧空気
を濾過するためのミストセパレータを有していることを
特徴とする縦型ワニス塗布装置。 - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか一項において，
上記被塗布板は，プリント配線基板であることを特徴と
する縦型ワニス塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4645599A JP2000237671A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 縦型ワニス塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4645599A JP2000237671A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 縦型ワニス塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000237671A true JP2000237671A (ja) | 2000-09-05 |
Family
ID=12747648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4645599A Pending JP2000237671A (ja) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | 縦型ワニス塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000237671A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010158609A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| EP2276247A2 (en) | 2001-06-29 | 2011-01-19 | Sony Corporation | Information supply system, information supply device and method, and information processing device and method |
-
1999
- 1999-02-24 JP JP4645599A patent/JP2000237671A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2276247A2 (en) | 2001-06-29 | 2011-01-19 | Sony Corporation | Information supply system, information supply device and method, and information processing device and method |
| JP2010158609A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20060125 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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