JP2000243791A - 2-metal TAB, double-sided CSP, BGA tape, and manufacturing method thereof - Google Patents

2-metal TAB, double-sided CSP, BGA tape, and manufacturing method thereof

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JP2000243791A
JP2000243791A JP11043868A JP4386899A JP2000243791A JP 2000243791 A JP2000243791 A JP 2000243791A JP 11043868 A JP11043868 A JP 11043868A JP 4386899 A JP4386899 A JP 4386899A JP 2000243791 A JP2000243791 A JP 2000243791A
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彰 一柳
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表裏面導体層の電気的接続の信頼性があり、
かつ、その製造コストが低減できる2メタルTAB及び
両面CSP、BGAテープ、並びにその製造方法を提供
する。 【解決手段】 絶縁性基板とその少なくとも両面に配線
層とを有し、該基板はパンチングプレスで形成されたス
ルーホールを有し、該スルーホールにはパンチングプレ
スにより導体が充填されており、該導体と該配線層とが
電気的に接続がなされていることを特徴とする2メタル
TAB及び両面CSP、BGAテープ。
(57) [Abstract] [Problem] The electrical connection between the front and back conductor layers is reliable.
Further, the present invention provides a two-metal TAB, a double-sided CSP, a BGA tape, and a method for manufacturing the same, which can reduce the manufacturing cost. SOLUTION: An insulating substrate and a wiring layer on at least both sides thereof are provided, the substrate has a through hole formed by a punching press, and the through hole is filled with a conductor by a punching press. A two-metal TAB, a double-sided CSP, and a BGA tape, wherein the conductor and the wiring layer are electrically connected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、2メタルTAB及
び両面CSP、BGAテープ、並びにその製造方法に関
するものである。
The present invention relates to a two-metal TAB, a double-sided CSP, a BGA tape, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】表裏面
に導体層を有する配線基板として種々のものが使用され
ている。具体的には、基板にフレキシブルなポリイミド
等を用いたTAB(Tape Automated B
onding)テープ、CSP(Chip Size
Package)、BGA(Ball Grid Ar
ray)、FPC(Flexible Printed
Circuit)、また、ガラスエポキシ等のリジッ
ドな基板を用いた所謂多層基板等がある。
2. Description of the Related Art Various types of wiring boards having conductor layers on the front and back surfaces have been used. Specifically, TAB (Tape Automated B) using flexible polyimide or the like for the substrate is used.
bonding) tape, CSP (Chip Size)
Package), BGA (Ball Grid Ar)
ray), FPC (Flexible Printed)
Circuit), and a so-called multilayer substrate using a rigid substrate such as glass epoxy.

【0003】このような表裏面に導体層を有する基板の
製造方法として、基板の所望の個所に予めパンチングプ
レスやドリル又はレーザー光等でスルーホール又はブラ
インドビアホール等の孔を開けておく。レーザー光を用
いた場合は、レーザー光の熱により発生した所謂スミア
の除去(デスミア)を行う必要がある。
As a method of manufacturing such a substrate having a conductor layer on the front and back surfaces, a hole such as a through hole or a blind via hole is previously formed in a desired portion of the substrate by a punching press, a drill, a laser beam, or the like. When laser light is used, it is necessary to remove so-called smear generated by the heat of the laser light (desmear).

【0004】その後、スクリーン印刷機を用い導電性ペ
ースト等でこの孔を充填し表裏面の導体層を電気的に接
続する方法(以下、導電性ペースト印刷法という)で
は、スルーホール(貫通孔)の場合は裏回りを避けるた
め、孔開け工程後裏貼りシート等を貼付し、その後導電
性ペーストを印刷、硬化、裏貼りシートの剥離と長い工
程を経る必要がある。また、ブラインドビアホールにお
いては、孔への充填をつつが無く行うためマスクの開口
径の設定をシビアに行う必要から、印刷機には画像認識
装置等の正確な位置精度が要求され、勢い印刷機の仕様
が高価となり、ひいては製品コストの上昇に繋がってし
まう。
Then, in a method of filling the holes with a conductive paste or the like using a screen printing machine and electrically connecting the conductor layers on the front and back surfaces (hereinafter referred to as a conductive paste printing method), through holes (through holes) are used. In the case of (1), a backing sheet or the like must be adhered after the perforation step, and then a conductive paste must be printed, cured, and peeled off the backing sheet in order to avoid the backing. In addition, in blind via holes, since it is necessary to set the opening diameter of the mask severely so that the holes can be filled quickly, the printing press is required to have accurate positional accuracy such as an image recognition device. Becomes expensive, which leads to an increase in product cost.

【0005】メッキを用いる場合には、孔に無電解銅メ
ッキやカーボン等を付着させて、その後電解銅メッキを
行う方法(以下、メッキ法という)であり、湿式法であ
るので、廃液の処理が問題がある。
[0005] When plating is used, electroless copper plating or carbon or the like is adhered to the holes, and then electrolytic copper plating is performed (hereinafter referred to as a plating method). There is a problem.

【0006】これらの方法は、電気的接続の信頼性はと
もかく、コスト的に更に改良された新たな方法の開発が
当業界の間では待ち望まれている。例えば、特開昭59
−61992号公報や特開昭62−81789号公報に
は、この問題点を解決する提案がなされている。
[0006] Although these methods are not reliable in electrical connection, development of a new method which is further improved in cost is awaited in the art. For example, JP
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-19992 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-81789 propose to solve this problem.

【0007】特開昭59−61992号公報には、絶縁
基板の両面に、貫通孔(スルーホール)を覆う導電部を
有する配線パターンを形成し、さらに該導電部中央に貫
通孔の直径より小径の孔を打ち抜き、両面の導電部同士
を接触させ、次いで導電部同士を導電部材で固定して、
両面の銅箔を導通させるスルーホールプリント配線板の
製造方法が開示されている。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-69992, a wiring pattern having a conductive portion covering a through hole (through hole) is formed on both surfaces of an insulating substrate, and a diameter smaller than the diameter of the through hole is formed at the center of the conductive portion. Punch out the hole, contact the conductive parts on both sides, and then fix the conductive parts with a conductive member,
A method of manufacturing a through-hole printed wiring board for conducting copper foil on both sides is disclosed.

【0008】しかし、この方法においては、スルーホー
ルの形成、小孔の打ち抜き、導電部材による固定と工程
が煩雑になるという問題がある。また、導電部のダレに
よって他側の導電部と接触させるために、表面の平滑性
に劣り、電気的接続の信頼性にも欠ける。
However, in this method, there is a problem that the process of forming through holes, punching out small holes, and fixing with a conductive member becomes complicated. In addition, since the conductive portion is brought into contact with the conductive portion on the other side by sagging, the surface has poor smoothness and lacks reliability of electrical connection.

【0009】また、特開昭62−81789号公報に
は、未焼成セラミック(グリーンシート)にパンチでス
ルーホール(導通孔)を形成し、この後導通孔に導通ピ
ンを挿入し、その後、スクリーン印刷法によって基板の
表面に導体層を印刷し、さらにグリーンシートを焼成す
ることによって、配線基板を製造するものである。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-81789, a through hole (conductive hole) is formed by punching an unfired ceramic (green sheet), a conductive pin is inserted into the conductive hole, and then a screen is formed. The wiring board is manufactured by printing a conductor layer on the surface of the board by a printing method and then firing the green sheet.

【0010】この方法は、上記のように基板としてグリ
ーンシートを用いるものであって、ポリイミド等の絶縁
性基板を用いるものではない。
This method uses a green sheet as a substrate as described above, and does not use an insulating substrate such as polyimide.

【0011】従って、本発明の目的は、表裏面導体層の
電気的接続の信頼性があり、かつ、その製造コストが低
減できる2メタルTAB及び両面CSP、BGAテー
プ、並びにその製造方法を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a two-metal TAB, a double-sided CSP, a BGA tape and a method of manufacturing the same, which have a reliable electric connection between the front and back conductor layers and can reduce the manufacturing cost. It is in.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、検討の結
果、スルーホールをパンチングプレスで形成した後、形
成されたスルーホールに同様にパンチングプレスによっ
て導体を充填することによって、上記目的が達成し得る
ことを知見した。
Means for Solving the Problems As a result of the study, the present inventors have formed a through hole by a punching press, and then filled the formed through hole with a conductor by a punching press in the same manner. It has been found that this can be achieved.

【0013】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、絶縁性基板とその少なくとも両面に配線層とを有
し、該基板はパンチングプレスで形成されたスルーホー
ルを有し、該スルーホールにはパンチングプレスにより
導体が充填されており、該導体と該配線層とが電気的に
接続がなされていることを特徴とする2メタルTAB及
び両面CSP、BGAテープを提供するものである。
The present invention has been made based on the above findings, and has an insulating substrate and a wiring layer on at least both sides thereof, the substrate having a through hole formed by a punching press, and The present invention provides a two-metal TAB, a double-sided CSP, and a BGA tape, in which a conductor is filled by a punching press and the conductor and the wiring layer are electrically connected.

【0014】また、本発明は、絶縁性基板の少なくとも
両面に配線層又は金属箔を設けた後、パンチングプレス
によりスルーホールを形成し、次いで該スルーホールに
パンチングプレスによって導体を充填し、該導体と該配
線層又は金属箔を電気的に接続させることを特徴とする
2メタルTAB及び両面CSP、BGAテープの製造方
法を提供するものである。
Further, according to the present invention, after providing a wiring layer or a metal foil on at least both surfaces of an insulating substrate, a through hole is formed by a punching press, and then the conductor is filled in the through hole by a punching press. And a method for manufacturing a two-metal TAB and double-sided CSP and BGA tapes, wherein the two-layer TAB and the double-sided CSP and the BGA tape are electrically connected to each other.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明の2メタルTAB及び両面CSP、BGA
テープは、絶縁性基板とその少なくとも両面に配線層と
を有する。絶縁性基板としてはポリイミドフイルムが一
般に用いられ、配線層は銅箔等をエッチング等すること
により形成される。また、スルーホールに充填される導
体は、鉛、錫、銅、又はこれらを主成分とする合金の
箔、シートが適している。
Embodiments of the present invention will be described below. Two-metal TAB and double-sided CSP, BGA of the present invention
The tape has an insulating substrate and a wiring layer on at least both sides thereof. A polyimide film is generally used as the insulating substrate, and the wiring layer is formed by etching a copper foil or the like. The conductor filled in the through-hole is preferably a foil or sheet of lead, tin, copper, or an alloy containing these as a main component.

【0016】次に、本発明の2メタルTAB及び両面C
SP、BGAテープの製造方法について説明する。本発
明は、上述のように、フレキシブルなポリイミド等を用
いたTABテープ、CSP、BGA、FPC、また、ガ
ラスエポキシ等のリジッドな基板を用いた所謂多層基板
等に広範囲に亘って応用可能であるが、ここでは、TA
Bテープへの応用、特に両面に配線層を有する所謂2メ
タルTABテープの製造方法について説明する。
Next, the two-metal TAB of the present invention and the double-sided C
A method for manufacturing SP and BGA tapes will be described. As described above, the present invention can be widely applied to a TAB tape using flexible polyimide or the like, CSP, BGA, FPC, or a so-called multilayer substrate using a rigid substrate such as glass epoxy. But here, TA
A description will be given of a method of manufacturing a so-called two-metal TAB tape having a wiring layer on both sides, particularly an application to a B tape.

【0017】図1は、2メタルTABテープの一般的な
製造方法を示す工程図である。図1に示されるように、
両面銅積層ポリイミドテープに、プレスによって、スプ
ロケットホール、時にはスルーホール等を形成する。
FIG. 1 is a process chart showing a general method for manufacturing a two-metal TAB tape. As shown in FIG.
Sprocket holes and sometimes through holes are formed in the double-sided copper laminated polyimide tape by pressing.

【0018】その後、表面を製面、フォトレジスト塗布
を行い、露光、現像、エッチングによって表面に配線層
を形成する。次に、同様に裏面を製面、フォトレジスト
塗布を行い、露光、現像、エッチングによって裏面に配
線層を形成する。
Thereafter, the surface is formed, a photoresist is applied, and a wiring layer is formed on the surface by exposure, development, and etching. Next, a wiring layer is formed on the rear surface by performing exposure, development, and etching in the same manner as described above.

【0019】最後に、スクリーン印刷によってハンダレ
ジストを塗布した後、導通信頼性を向上させるために金
メッキ等の仕上げメッキを行い、製品とする。
Finally, after a solder resist is applied by screen printing, finish plating such as gold plating is performed to improve conduction reliability, and a product is obtained.

【0020】本発明では、この工程において、パンチン
グプレスによりスルーホールを形成し、次いでスルーホ
ールに同様にパンチングプレスによって導体を充填し、
該導体と該配線層又は金属箔を電気的に接続させる。
In the present invention, in this step, a through hole is formed by a punching press, and then the conductor is filled in the through hole by a punching press in the same manner.
The conductor is electrically connected to the wiring layer or the metal foil.

【0021】上記工程において、パンチングプレスによ
るスルーホールの形成、導体の充填時期は任意である。
例えば表裏両面に配線層を形成した後、スルーホールを
形成し、次いでこのスルーホールに導体を充填すればよ
い。また、両面銅貼りテープに先ずスルーホールを形成
し、スプロケットホール形成と同時にスルーホールに導
体を充填してもよい。
In the above steps, the formation of through holes by a punching press and the timing of filling the conductor are arbitrary.
For example, after forming a wiring layer on both front and back surfaces, a through-hole may be formed, and then the through-hole may be filled with a conductor. Alternatively, a through-hole may be formed in the double-sided copper-applied tape, and the conductor may be filled in the through-hole simultaneously with the formation of the sprocket hole.

【0022】本発明において、スルーホールの形成は、
デスミアが不要なパンチングによるものであり、かつ電
気的な接続を取る方法もパンチング同様、ごく普通のパ
ンチングプレス機を用いる。すなわち、パンチングによ
り孔を開けた基板の上にハンダ板や銅箔等の導体を重
ね、再度パンチングし、孔に導体を埋め込む極めて簡略
化された製造工程であり、コスト低減に繋がる。
In the present invention, the formation of the through-hole
A punching machine that does not require desmearing is used, and an electric connection method is the same as in the case of punching, in which an ordinary punching press is used. That is, this is an extremely simplified manufacturing process in which a conductor such as a solder plate or a copper foil is superimposed on a substrate having holes formed by punching, punched again, and embedded with conductors in the holes, leading to cost reduction.

【0023】しかし、工程は簡単ではあるが、基板厚
みと埋め込む(充填する)導体(板)の厚み、導体
(板)の材質(硬度)、パンチングストローク、か
しめ等の後処理等の選択や設定が極めて重要である。
However, although the process is simple, selection and setting of the substrate thickness and the thickness of the conductor (plate) to be embedded (filled), the material (hardness) of the conductor (plate), punching stroke, post-processing such as caulking, etc. Is extremely important.

【0024】導体の厚み(t1)と基板の厚み(t2)
には最適域が存在する。好ましくは1.4×t2≦t1
≦0.7×t2、より好ましくは1.3×t2≦t1≦
0.8×t2、更に好ましくは1.2×t2≦t1≦
0.9×t2である。下記に述べるかしめの条件にもよ
るが、余りに厚いと基板表面に凹凸が生じ、寸法精度等
に問題が起こり、余りに薄いと配線層との電気的な接続
が不充分になるからである。
The thickness of the conductor (t1) and the thickness of the substrate (t2)
Has an optimal range. Preferably, 1.4 × t2 ≦ t1
≦ 0.7 × t2, more preferably 1.3 × t2 ≦ t1 ≦
0.8 × t2, more preferably 1.2 × t2 ≦ t1 ≦
0.9 × t2. Although depending on the caulking conditions described below, if it is too thick, irregularities occur on the surface of the substrate, causing problems in dimensional accuracy and the like. If it is too thin, electrical connection with the wiring layer becomes insufficient.

【0025】導体の材質については上述した通り、ハン
ダや銅箔が適しているが、硬度が高すぎると基板自体に
凹凸が生じ好ましくない。ハンダは柔らかくそのままで
も使用可能であるが、銅箔の場合は、アニール等により
柔らかくする工夫が必要である。なお、コスト的にはリ
サイクルが容易なハンダのほうが有利である。
As described above, solder and copper foil are suitable for the material of the conductor. However, if the hardness is too high, the substrate itself becomes uneven, which is not preferable. Although the solder is soft and can be used as it is, in the case of a copper foil, it is necessary to devise a method of softening by annealing or the like. It should be noted that solder which is easy to recycle is more advantageous in terms of cost.

【0026】パンチングのストロークは、上記導体の厚
みのように数式で記載することには困難が伴うが、実際
にパンチングし、結果的に導体が基板に対し、所謂串刺
しのような状態になり、その後実施するかしめに好都合
なようにストロークを定める必要がある。
Although it is difficult to describe the stroke of punching with a mathematical expression like the thickness of the conductor, the punching is actually performed, and as a result, the conductor is in a state of so-called skewering with respect to the substrate. Thereafter, it is necessary to determine the stroke in a manner that is convenient for caulking.

【0027】また、導体を充填した(埋め込んだ)後の
かしめは、導通の信頼性を左右する重要な工程である。
これは、導体を埋め込んだ後、その後の工程における搬
送や作業を円滑に行うためや、また、例えばテープ状の
基板に関しては、その後の工程においてリール等に巻き
取られることが多いが、そのような曲げに対する耐久性
も要求されるからである。
The caulking after filling (embedding) the conductor is an important step which affects the reliability of conduction.
This is because, after embedding the conductor, in order to smoothly carry out and work in the subsequent process, and, for example, in the case of a tape-shaped substrate, it is often wound on a reel or the like in the subsequent process. This is because durability against severe bending is also required.

【0028】このようにして得られた本発明に係る2メ
タルTABのスルーホール部分の概略断面図を図2に示
す。同図において、1は絶縁性基板、2は配線層、3は
導体をそれぞれ示す。図2に示されるように、表裏両面
の配線層2と導体が良好な電気的な接続を示している。
FIG. 2 is a schematic sectional view of the through-hole portion of the two-metal TAB according to the present invention thus obtained. In the figure, 1 denotes an insulating substrate, 2 denotes a wiring layer, and 3 denotes a conductor. As shown in FIG. 2, the wiring layers 2 on the front and back surfaces and the conductor show good electrical connection.

【0029】なお、もし、スルーホールの形成とスルー
ホールへの導体の埋め込みが同時に実施できるならば、
より工程が簡略化されコストダウンに繋がるであろう
が、図3に示すように、導体3下端が丸くなる傾向があ
り、その後かしめたとしても、導通信頼性に劣る。
If the formation of the through-hole and the embedding of the conductor into the through-hole can be performed simultaneously,
Although the process will be further simplified, which will lead to cost reduction, as shown in FIG. 3, the lower end of the conductor 3 tends to be rounded, and even if caulked thereafter, the conduction reliability is poor.

【0030】ハンダ等の低融点の金属を用いる場合に
は、工程は増えるが、リフロー等により、充填金属を再
溶融することにより、接触を確実にすることができる。
When a low-melting-point metal such as solder is used, the number of steps is increased, but contact can be ensured by remelting the filling metal by reflow or the like.

【0031】本発明は、上述したように、フレキシブル
なポリイミド等を用いたTABテープ、CSP、BG
A、FPC、また、ガラスエポキシ等のリジッドな基板
を用いた所謂多層基板等に広範囲に亘って応用可能であ
る。
As described above, the present invention relates to a TAB tape, a CSP, a BG using a flexible polyimide or the like.
A, FPC, and a so-called multilayer substrate using a rigid substrate such as glass epoxy can be widely applied.

【0032】[0032]

【実施例】以下、実施例等に基づき本発明を具体的に説
明する。
The present invention will be specifically described below based on examples and the like.

【0033】〔実施例1〕 (2メタルTABテープの製造例)36mm幅の両面銅
貼りポリイミドフィルム(ポリイミド層の厚み50μ
m、銅箔厚み表裏各18μm;商品名エスパネックス、
新日本化学社製)を用い、図1に示される2メタルTA
Bテープの製造工程に従い、図4及び図6に示すような
表裏面に配線層を有した所謂2メタルTABテープを製
造した。但し、表裏面の電気的接続は取れていない。
Example 1 (Example of manufacturing 2-metal TAB tape) A double-sided copper-clad polyimide film having a width of 36 mm (thickness of polyimide layer 50 μm)
m, copper foil thickness front and back each 18μm; trade name ESPANEX,
2N metal TA shown in FIG.
According to the manufacturing process of the B tape, a so-called two-metal TAB tape having a wiring layer on the front and back surfaces as shown in FIGS. 4 and 6 was manufactured. However, electrical connection between the front and back surfaces is not established.

【0034】図4は、2メタルTABテープの表面図で
あり、図5は、そのランド近傍拡大図である。図6は2
メタルTABテープの裏面からの透視図であり、図7は
そのランド近傍拡大図である。図4〜7において、4は
2メタルTABテープ、5はスプロケットホール、6は
ランドをそれぞれ示す。但し、図6は透視図なので裏面
の配線層は記載していない。なお、ここでいうランドと
はスルーホールを形成し、導体を充填する箇所をいう。
FIG. 4 is a front view of the two-metal TAB tape, and FIG. 5 is an enlarged view near the land. FIG.
FIG. 7 is a perspective view from the back of the metal TAB tape, and FIG. 7 is an enlarged view near the land. 4 to 7, reference numeral 4 denotes a 2-metal TAB tape, 5 denotes a sprocket hole, and 6 denotes a land. However, since FIG. 6 is a perspective view, the wiring layer on the back surface is not shown. Here, the land means a place where a through hole is formed and a conductor is filled.

【0035】エッチング等により、表裏面に配線層が形
成されたこのテープをパンチングプレス機を用いて図4
及び図6に示す位置にスルーホールを形成した。引き続
き厚み95ミクロンのハンダプレートをテープに重ね、
再度パンチングプレスすることにより、ハンダを埋め込
み(充填し)、その後同じくプレス機によりかしめるこ
とにより表裏面配線層の電気的な接続を取った。例えば
200μmφ孔の概略断面図である図2に示されるよう
に、配線層と導体の理想的な接触が観察され、いずれの
スルーホールにおいても、2メタルTABとして充分な
導通(<10mΩ/孔)が得られた。
Using a punching press, this tape having wiring layers formed on the front and back surfaces by etching or the like is used as shown in FIG.
In addition, through holes were formed at the positions shown in FIG. Next, a 95-micron thick solder plate is placed on the tape,
The solder was buried (filled) by punching press again, and thereafter, the electrical connection of the front and back wiring layers was established by caulking with the press machine. For example, as shown in FIG. 2 which is a schematic cross-sectional view of a 200 μm φ hole, an ideal contact between the wiring layer and the conductor was observed, and in each through hole, sufficient conduction (<10 mΩ / hole) was obtained as a 2-metal TAB. was gotten.

【0036】〔実施例2〕 (2メタルTABテープの製造例)導体のスルーホール
への埋め込み(充填)をエッチング等による配線を形成
した後ではなく、予めスルーホールを形成した後、スプ
ロケットホールを形成すると同時に導体に埋め込む以外
は、実施例1と同様の工程により2メタルTABテープ
を得た。実施例1と同様に、いずれの孔においても、2
メタルTABとして充分な導通(<10mΩ/孔)が得
られた。
[Example 2] (Example of manufacturing a two-metal TAB tape) The embedding (filling) of the conductor into the through hole is performed not after forming the wiring by etching or the like, but after forming the through hole in advance and then forming the sprocket hole. A 2-metal TAB tape was obtained by the same steps as in Example 1 except that the tape was formed and embedded in the conductor. As in Example 1, 2
Sufficient conduction (<10 mΩ / hole) was obtained as a metal TAB.

【0037】〔比較例1〕 (2メタルTABテープの製造例)予めスルーホールを
形成せず、パンチングプレスによるスルーホールの形成
とハンダの埋め込み(充填)を同時に実施し、その後か
しめた以外は、実施例1と全く同様の工程に従い2メタ
ルTABテープを作成した。すなわち、パンチングプレ
スによりスルーホールを形成すると共に、併せてハンダ
の埋め込みを行った。その結果、例えば200μmφ孔
の概略断面図である図3に示されるように、配線層と導
体との断線が観察されることが多く、2メタルTABと
して充分な導通が得られなかった。
[Comparative Example 1] (Example of manufacturing a 2-metal TAB tape) Except that a through hole was not formed in advance, and a through hole was formed by a punching press and solder was filled (filled) at the same time, and thereafter caulking was performed. A two-metal TAB tape was prepared in exactly the same steps as in Example 1. That is, through holes were formed by a punching press, and at the same time, solder was buried. As a result, for example, as shown in FIG. 3 which is a schematic cross-sectional view of a 200 μmφ hole, disconnection between the wiring layer and the conductor was often observed, and sufficient conduction was not obtained as a two-metal TAB.

【0038】〔比較例2〕 (2メタルTABテープの製造例)予めスルーホールを
形成せず、パンチングプレスによるスルーホールの形成
とハンダの埋め込み(充填)を同時に実施し、その後か
しめた以外は、実施例2と全く同様の工程に従い2メタ
ルTABテープを作成した。すなわち、パンチングプレ
スによりスルーホール及びスプロケットホールを形成す
ると共に、併せてハンダの埋め込みを行った。比較例1
と同様、配線層と導体との断線が観察されることが多
く、2メタルTABとして充分な導通が得られなかっ
た。
[Comparative Example 2] (Example of manufacturing a 2-metal TAB tape) Except that a through-hole was not formed in advance, and a through-hole was formed by a punching press and solder was filled (filled) at the same time, and thereafter caulking was performed. A 2-metal TAB tape was prepared according to exactly the same steps as in Example 2. That is, through holes and sprocket holes were formed by a punching press, and solder was embedded together. Comparative Example 1
Similarly to the above, disconnection between the wiring layer and the conductor was often observed, and sufficient conduction was not obtained as a two-metal TAB.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の2メタル
TAB及び両面CSP、BGAテープは、表裏面導体層
の電気的接続の高い信頼性を有する。また、本発明の製
造方法によって、従来法であるメッキ法や導電性ペース
ト印刷法に比較して、工程が極めて簡単であり、コスト
低減が可能となる。また、乾式で製造できることから、
廃液がでないことや使用材料のリサイクルが可能とな
り、環境保全の観点からも優れた工法といえる。
As described above, the two-metal TAB and double-sided CSP and BGA tapes of the present invention have high reliability of the electrical connection between the front and back conductor layers. Further, according to the manufacturing method of the present invention, compared with the conventional plating method and conductive paste printing method, the steps are extremely simple, and the cost can be reduced. Also, because it can be manufactured in a dry process,
Since no waste liquid is used and the materials used can be recycled, this method can be said to be an excellent method from the viewpoint of environmental conservation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、図1は、2メタルTABテープの一般
的な製造方法を示す工程図である。
FIG. 1 is a process diagram showing a general method for manufacturing a two-metal TAB tape.

【図2】図2は、実施例1に係る2メタルTABのスル
ーホール部分の概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a through-hole portion of a two-metal TAB according to the first embodiment.

【図3】図3は、比較例1に係る2メタルTABのスル
ーホール部分の概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a through-hole portion of a two-metal TAB according to Comparative Example 1.

【図4】図4は、実施例1に係る2メタルTABテープ
の表面図である。
FIG. 4 is a front view of the two-metal TAB tape according to the first embodiment.

【図5】図5は、図4のランド近傍拡大図FIG. 5 is an enlarged view of the vicinity of a land in FIG. 4;

【図6】図6は、実施例1に係る2メタルTABテープ
の裏面からの透視図である。
FIG. 6 is a perspective view of the two-metal TAB tape according to the first embodiment as viewed from the back surface.

【図7】図7は、図6のランド近傍拡大図である。FIG. 7 is an enlarged view near the land in FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:絶縁性基板(ポリイミド)、2:配線層、3:導
体、4:2メタルTABテープ、5:スプロケットホー
ル、6:ランド。
1: Insulating substrate (polyimide), 2: Wiring layer, 3: Conductor, 4: 2 metal TAB tape, 5: Sprocket hole, 6: Land.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性基板とその少なくとも両面に配線
層とを有し、該基板はパンチングプレスで形成されたス
ルーホールを有し、該スルーホールにはパンチングプレ
スにより導体が充填されており、該導体と該配線層とが
電気的に接続がなされていることを特徴とする2メタル
TAB及び両面CSP、BGAテープ。
An insulating substrate and a wiring layer on at least both surfaces thereof, the substrate has a through hole formed by a punching press, and the through hole is filled with a conductor by a punching press; A two-metal TAB, a double-sided CSP, and a BGA tape, wherein the conductor and the wiring layer are electrically connected.
【請求項2】 金属層を含めて3層以上の多層からなる
請求項1記載の2メタルTAB及び両面CSP、BGA
テープ。
2. The two-metal TAB and double-sided CSP, BGA according to claim 1, comprising three or more layers including a metal layer.
tape.
【請求項3】 上記導体が金属である請求項1又は2記
載の2メタルTAB及び両面CSP、BGAテープ。
3. The two-metal TAB and double-sided CSP, BGA tape according to claim 1, wherein the conductor is a metal.
【請求項4】 上記金属が鉛、錫、銅、又はこれらを主
成分とする合金である請求項3記載の2メタルTAB及
び両面CSP、BGAテープ。
4. The two-metal TAB and double-sided CSP, BGA tape according to claim 3, wherein the metal is lead, tin, copper, or an alloy containing these as main components.
【請求項5】 絶縁性基板の少なくとも両面に配線層又
は金属箔を設けた後、パンチングプレスによりスルーホ
ールを形成し、次いで該スルーホールにパンチングプレ
スによって導体を充填し、該導体と該配線層又は金属箔
を電気的に接続させることを特徴とする2メタルTAB
及び両面CSP、BGAテープの製造方法。
5. After providing a wiring layer or a metal foil on at least both sides of an insulating substrate, a through hole is formed by a punching press, and then the conductor is filled in the through hole by a punching press. Or a two-metal TAB characterized by electrically connecting a metal foil
And a method for producing double-sided CSP and BGA tapes.
【請求項6】 金属層を含めて3層以上の多層からなる
請求項5記載の2メタルTAB及び両面CSP、BGA
テープの製造方法。
6. The two-metal TAB and double-sided CSP, BGA according to claim 5, comprising three or more layers including a metal layer.
Tape manufacturing method.
【請求項7】 上記導体が金属である請求項5又は6記
載の2メタルTAB及び両面CSP、BGAテープの製
造方法。
7. The method for manufacturing a two-metal TAB and double-sided CSP and BGA tape according to claim 5, wherein the conductor is a metal.
【請求項8】 上記金属が鉛、錫、銅、又はこれらを主
成分とする合金である請求項7記載の2メタルTAB及
び両面CSP、BGAテープの製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the metal is lead, tin, copper or an alloy containing these as main components.
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