JP2000244076A - 保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板 - Google Patents

保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板

Info

Publication number
JP2000244076A
JP2000244076A JP4230699A JP4230699A JP2000244076A JP 2000244076 A JP2000244076 A JP 2000244076A JP 4230699 A JP4230699 A JP 4230699A JP 4230699 A JP4230699 A JP 4230699A JP 2000244076 A JP2000244076 A JP 2000244076A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
printed circuit
flexible printed
adhesive layer
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4230699A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshitaka Okugawa
良隆 奥川
Masaaki Kato
正明 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP4230699A priority Critical patent/JP2000244076A/ja
Publication of JP2000244076A publication Critical patent/JP2000244076A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザーによる穴明け加工時に発生し、接着
剤層の表面に付着したすすを、容易にしかも除去むらな
く均一に除去することの出来る、フレキシブルプリント
回路用基板を提供する。 【解決手段】 銅箔6上にポリイミド絶縁層5と接着剤
層4とが積層されたフレキシブルプリント回路用基板
の、接着剤層4の表面に、水溶性樹脂からなる保護膜8
を0.5μ以上8μ以下の厚みで形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子搭載に
適したフレキシブルプリント回路用基板の、レーザー加
工時に接着剤層表面に付着するすすが容易に除去でき
る、保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年の電子機器の高機能化並びに軽薄短
小化の要求に伴い、電子部品の高密度集積化、さらには
高密度実装化が進んできている。半導体パッケージは小
型化に伴って、従来のようなリードフレームを使用した
形態のパッケージでは小型化に限界があるため、最近で
は、回路基板上にチップを実装したものとして、BGA
(Ball Grid Array)や、CSP(Ch
ip Scale Package)と言った、エリア
実装型の新しいパッケージ方式が提案されている。
【0003】これらの半導体パッケージとして、半導体
チップを、従来型半導体パッケージのリードフレームの
機能を有する半導体パッケージ用基板と呼ばれる、プラ
スチックやセラミックス等各種材料を使って構成され
る、サブストレートの表面に直接搭載する方法が多く提
案されている。
【0004】このような半導体パッケージの構造の一つ
として、図1に示したように、接着剤層4が表面に形成
されたフレキシブルプリント回路用基板に、レーザーで
開口し、メッキによってバンプ3を形成して、半導体チ
ップ1の回路面を接着剤層4に接着すると共に、半導体
チップの電極2とフレキシブルプリント回路基板の銅箔
6(回路)とを、バンプ3で接続するものが知られてい
る。
【0005】このような構造に使用されるフレキシブル
プリント回路用基板では、レーザー開口加工時に発生す
るすすが、接着剤層の表面に強固に付着するため、レー
ザー加工後にすすを洗浄することが行なわれている。す
すの洗浄には、プラズマ洗浄やUV洗浄などの物理処理
の他、アルカリや酸による化学洗浄が行なわれる。
【0006】ところが、プラズマやUVによる洗浄で
は、処理にむらが発生し易すく、微細な穴加工の場合、
すすの取り切れない部分が発生する。また、プラズマ洗
浄では、接着剤の表面が変化して接着性能が損なわれ
る。一方、アルカリや酸による洗浄でも、接着剤の劣化
を招いたり、回路の銅箔を酸化させてしまうなどの問題
点があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のフレ
キシブルプリント回路用基板が有する上記のような問題
点に鑑み、鋭意研究をした結果なされたもので、レーザ
ーによる穴明け加工時に発生し、接着剤層の表面に付着
したすすを、容易にしかも除去むらなく均一に除去する
ことの出来る、フレキシブルプリント回路用基板を提供
することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】即ち本発明は、図2に示
したように、銅箔6上にポリイミド絶縁層5と接着剤層
4とが積層されたフレキシブルプリント回路用基板の、
接着剤層4の表面に、水溶性樹脂からなる保護膜8が
0.5μ以上8μ以下の厚みで形成されていることを特
徴とする、保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板
である。
【0009】本発明の保護膜付きフレキシブルプリント
回路用基板を用いれば、図3に示したように、レーザー
加工時に発生するすす9は、水溶性樹脂からなる保護膜
8の表面に付着するので、加工後にすす9のついた保護
膜8を水に溶かして除去することによって、フレキシブ
ルプリント回路基板上の場所によらず均一にむらなく、
しかも短時間ですすを除去することが出来る。
【0010】本発明において使用するフレキシブルプリ
ント回路用基板としては、銅箔上にポリイミドフィルム
を接着剤で貼りあわせたものや、銅箔上に直接ポリイミ
ドの絶縁層が形成された、いわゆる2層フレキシブルプ
リント回路用基板が使用できるが、耐熱性や薄型化の点
から、2層フレキシブルプリント回路用基板が好まし
い。
【0011】保護膜として使用される樹脂は、溶剤可溶
性のものが広く使用できるが、保護膜は接着剤層の上に
形成されるため、保護膜を溶剤に溶かして除去する際
に、接着剤層を侵さない溶剤に可溶な樹脂であることが
好ましい。特に水に可溶な樹脂では、保護膜を除去した
後の廃液処理も特殊な設備を必要としないので、本発明
の保護膜用の樹脂として好適である。中でもポリビニル
アルコール樹脂は、水溶性であり保護膜の形成も容易で
あるため、本発明の保護膜として最適である。
【0012】水溶性樹脂の保護膜を形成する方法として
は、銅箔上にポリイミド絶縁層と接着剤層が形成された
フレキシブルプリント回路用基板の接着剤層表面に、水
溶性樹脂の溶液を流延塗布する方法が使用できる。流延
塗布する方法は、ドクターブレード、ナイフコーター、
バーコーター、ダイコーター、スクリーン印刷、スピン
コーターなどによる方法が使用できる。
【0013】水溶性樹脂は、水に溶かしたものを塗布に
使用しても良いが、薄い塗膜を均一に作るためには、水
よりも表面張力の低いアセトンなどの溶媒に溶かして塗
布することが好ましい。溶剤は1種類だけでなく、複数
を混合して用いても良く、例えば、水に溶かした樹脂に
アセトンを添加して表面張力を下げて使用することが出
来る。
【0014】保護膜の厚みは、0.5μm以上8μm以
下が好ましい。0.5μm以下では保護効果が十分では
なく、レーザーによる穴加工時に、穴の周辺の保護膜も
レーザーによって除去されてしまい、加工後に保護膜を
洗浄除去しても、付着したすすを十分に除去することが
できない。8μmよりも厚いと、レーザー加工に時間が
かかり、生産性が良くない。
【0015】
【実施例】(実施例1)厚さ18μmの銅箔上に、ポリ
イミド樹脂絶縁層25μmと熱可塑性ポリイミド接着剤
層10μmが積層された、フレキシブルプリント回路用
基板を準備した。ポリビニルアルコール樹脂(関東化学
製,重合度500)に水を加えて、5%溶液としたもの
を準備した。上記のフレキシブルプリント回路用基板の
接着剤層の表面に、ポリビニルアルコール樹脂溶液をナ
イフコータで塗布し、80度で20分、120度で20
分乾燥させて、厚み5μmのポリビニルアルコール樹脂
保護膜を形成した。
【0016】ArFエキシマレーザーを用いて、上記の
保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板の樹脂層
に、直径50μmの穴を加工した。穴の周辺には加工時
に発生したすすが付着していた。次に、穴加工の終了し
たフレキシブルプリント回路用基板を、純水で1分間洗
浄した。、洗浄によってポリビニルアルコール樹脂から
なる保護膜は純水に溶解し、表面に付着したすすと共に
フレキシブルプリント回路用基板の表面から除去され
た。このようにして得られた穴加工されたフレキシブル
プリント回路用基板は、接着剤層の劣化もなく、銅箔の
酸化もないものであった。
【0017】(実施例2)厚さ18μmの銅箔上に、ポ
リイミド樹脂絶縁層25μmと熱可塑性ポリイミド接着
剤層10μmが積層された、フレキシブルプリント回路
用基板を準備した。ポリビニルアルコール樹脂(関東化
学製,重合度500)にアセトンを加えて、5%溶液と
したものを準備した。上記のフレキシブルプリント回路
用基板の接着剤層の表面に、ポリビニルアルコール樹脂
のアセトン溶液をスピンコートして、80度で20分乾
燥させて、厚み2μmのポリビニルアルコール樹脂保護
膜を形成した。
【0018】ArFエキシマレーザーを用いて、上記の
保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板の樹脂層
に、直径50μmの穴を加工した。穴の周辺には加工時
に発生したすすが付着していた。次に、穴加工の終了し
たフレキシブルプリント回路用基板を、純水で1分間洗
浄した。、洗浄によってポリビニルアルコール樹脂から
なる保護膜は純水に溶解し、表面に付着したすすと共に
フレキシブルプリント回路用基板の表面から除去され
た。このようにして得られた穴加工されたフレキシブル
プリント回路用基板は、接着剤層の劣化もなく、銅箔の
酸化もないものであった。
【0019】
【発明の効果】本発明の保護膜付きフレキシブルプリン
ト回路用基板を用いれば、レーザーによる穴明け加工時
に、フレキシブルプリント回路用基板の表面に設けられ
た接着剤層に付着するすすを、短時間でむらなく除去す
ることができ、しかも接着剤の劣化も生じることがな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体パッケージ構造の1例を示す図である。
【図2】本発明の保護膜付きフレキシブルプリント回路
用基板の構成を示す断面図である。
【図3】本発明の保護膜付きフレキシブルプリント回路
用基板の使用方法を示す図である。
【符号の説明】
1:半導体チップ 2:半導体チップの電極 3:バンプ 4:接着剤層 5:ポリイミド絶縁層 6:銅箔 7:半田ボール 8:保護膜 9:すす

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 銅箔上にポリイミド絶縁層と接着剤層と
    が積層されたフレキシブルプリント回路用基板の、接着
    剤層の表面に、水溶性樹脂からなる保護膜が0.5μ以
    上8μ以下の厚みで形成されていることを特徴とする、
    保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板。
  2. 【請求項2】 水溶性樹脂が、ポリビニルアルコール樹
    脂であることを特徴とする、請求項1記載の保護膜付き
    フレキシブルプリント回路用基板。
JP4230699A 1999-02-19 1999-02-19 保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板 Pending JP2000244076A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4230699A JP2000244076A (ja) 1999-02-19 1999-02-19 保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4230699A JP2000244076A (ja) 1999-02-19 1999-02-19 保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000244076A true JP2000244076A (ja) 2000-09-08

Family

ID=12632346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4230699A Pending JP2000244076A (ja) 1999-02-19 1999-02-19 保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000244076A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012875A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Fujikura Ltd プリント配線基板
KR100810708B1 (ko) * 2006-12-05 2008-03-07 한국전자통신연구원 플렉시블 디스플레이 장치의 플렉시블 기판 접합 방법
CN110703949A (zh) * 2019-10-10 2020-01-17 业成科技(成都)有限公司 绝缘胶保护的改良结构
US11338393B2 (en) 2015-10-30 2022-05-24 Laser Systems Inc. Manufacturing method of processed resin substrate and laser processing apparatus

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012875A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Fujikura Ltd プリント配線基板
KR100810708B1 (ko) * 2006-12-05 2008-03-07 한국전자통신연구원 플렉시블 디스플레이 장치의 플렉시블 기판 접합 방법
US11338393B2 (en) 2015-10-30 2022-05-24 Laser Systems Inc. Manufacturing method of processed resin substrate and laser processing apparatus
CN110703949A (zh) * 2019-10-10 2020-01-17 业成科技(成都)有限公司 绝缘胶保护的改良结构
CN110703949B (zh) * 2019-10-10 2022-05-13 业成科技(成都)有限公司 绝缘胶保护的改良结构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7187060B2 (en) Semiconductor device with shield
CN100594761C (zh) 双面柔性印刷布线板的制造方法
TW200423373A (en) Electronic parts packaging structure and method of manufacturing the same
TW200522228A (en) Semiconductor device containing stacked semiconductor chips and manufacturing method thereof
TWI399148B (zh) 電路板焊接墊結構及其製法
KR100614548B1 (ko) 반도체 소자 실장용 배선 기판의 제조 방법 및 반도체 장치
WO2000007419A1 (en) Production method for flexible substrate
JP3003624B2 (ja) 半導体装置
US20090149034A1 (en) Semiconductor module and method of manufacturing the same
JP2000244076A (ja) 保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板
JP2001237348A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3080366B2 (ja) 無電解金属めっき法及び回路化構造体
JP3178417B2 (ja) 半導体キャリアおよびその製造方法
KR100908986B1 (ko) 코어리스 패키지 기판 및 제조 방법
JP4603383B2 (ja) 配線基板及び半導体装置並びにそれらの製造方法
JP4321980B2 (ja) 多層プリント配線板の製造方法
JP2002124527A (ja) チップ状電子部品の製造方法、及びその製造に用いる疑似ウェーハの製造方法
KR100925669B1 (ko) 코어리스 패키지 기판 제조 공법에 의한 솔더 온 패드 제조방법
JP3041290B1 (ja) テープ形チップサイズパッケージの製造方法
JP2001183848A (ja) 電子部品の製造方法およびマスク材の除去方法
KR100730763B1 (ko) 다층 상호연결 구조를 갖는 기판 및 기판의 제조 방법
JP3261064B2 (ja) 半導体装置用可撓性回路基板の製造法
CN100530574C (zh) 半导体模块及其制造方法
KR100254277B1 (ko) 인쇄회로기판의 홀 가공방법
WO2003069967A1 (en) Circuit substrate production method