JP2000246149A - 流体噴出器具 - Google Patents

流体噴出器具

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JP2000246149A
JP2000246149A JP11055666A JP5566699A JP2000246149A JP 2000246149 A JP2000246149 A JP 2000246149A JP 11055666 A JP11055666 A JP 11055666A JP 5566699 A JP5566699 A JP 5566699A JP 2000246149 A JP2000246149 A JP 2000246149A
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JP
Japan
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nozzle
fluid
casing
liquid supply
liquid
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JP11055666A
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Tetsuo Kaneko
鐵男 金子
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EAGLE PARTS CO Ltd
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EAGLE PARTS CO Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、高圧流体を使用する流体噴出器具
におけるシール構造であり、高圧がかからないような構
造である。 【解決手段】 本発明は、ケーシング10内に供液ノズ
ル30が取り付けてあり、その供液ノズル30からジェ
ット流が噴射すると、供液ノズル30の噴射口30aの
付近は真空(ケーシング内は負圧)になって、外気が流
入するので、シールは簡便なシール機構及びシール部材
で済む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、流体噴出器具、例
えば、スプレーノズルに関し、より詳細にはシールに関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、流体噴出器具として、高圧の流体
を介して、回転(2次元)可能なスプレーノズル、或い
は自転と公転(3次元)可能なスプレーノズルは、例え
ば、特開平8−100048号公報に開示してある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記構成のスプレーノ
ズルは、時として、高圧、例えば、100〜200Pa
の流体を噴射ノズルから噴射し、タンク内等を洗浄する
ことがある。そのため、スプレーノズル本体におけるシ
ール部は、かかる圧力に耐え得る構造及びシール部材を
選定しなければならず、長寿命で且つ簡便なシール機
構、安価なシール部材が要求されている。
【0004】
【課題を解決するための手段】請求項1の流体噴出器具
は、ケーシング内に供液ノズルが取り付けてあり、その
供液ノズルからジェット流が噴射すると、供液ノズルの
噴射口の付近は真空(ケーシング内は負圧)になるの
で、その噴射口の付近に外気を流入させることによっ
て、シールは簡便なシール機構及びシール部材で済む。
【0005】又、請求項2の流体噴出器具は、ケーシン
グに回転体を回転可能に取付けると共に、その回転体に
噴射ノズルを取付け、前記ケーシングから噴射ノズルに
流体通路を形成し、ケーシング内に供液ノズルを取り付
け、その供液ノズルの噴射口の付近に外気の流入が可能
に形成してある。噴射ノズルから流体を噴出することに
よって、噴射ノズルは回転しながら流体を噴出する。
又、供液ノズルからのジェット流によって、供液ノズル
の噴射口の付近は真空(ケーシング内は負圧)になり、
その噴射口の付近に外気を流入させることによって、シ
ールは簡便なシール機構及びシール部材で済む。
【0006】
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)本発明の流
体噴出器具の例として、回転可能なスプレーノズルを取
り上げ、側面を示す図1、正面断面を示す図2を参照し
て説明する。ケーシング10には、流体が流入する流体
通路11が形成してあると共に、内外周面には図示略の
ポンプと連結の流体配管と接続可能に、内周ネジ10
a、外周ネジ10bが形成してある。
【0007】そして、このケーシング10の流体通路1
1には、先細(テーパ状)の噴射口30aを形成の供液
ノズル30を取り付けて、噴射口30aからジェット噴
流の形成を可能にしてあると共に、その供液ノズル30
に対応し、且つ、供液ノズル30の噴射口30aと受液
ノズル32の入口との間に隙間31を設けて、回転する
回転基体20に取付けの円錐形状で前記噴射口30aと
ほぼ同じ口径の受液口32aを有する受液ノズル32が
設置してある。そして、この受液ノズル32の内部には
前記受液口32aより大口径の流体通路32bが形成し
てある。
【0008】尚、前記受液口32aの口径は、ジェット
流によるエジェクターポンプ効果を発揮すればよいの
で、適宜の口径であればよく、例えば、流体通路32b
より大口径であってもよいし、更には、この受液口32
aはなくてもよい。
【0009】前記受液ノズル32と回転軸12及び回転
基体20は一体となって回転可能に構成してあり、回転
軸12は中途部で突起体12aを形成し、その突起体1
2aの下部には下ベアリング14aと中ベアリング14
b、突起体12aの上部には上ベアリング14cが嵌合
してあって、ブッシュ13a、13bを介して回転可能
となっている。
【0010】また、前記固定のケーシング10と回転基
体20は離脱しての隙間21が形成してあると共に、前
記回転軸12には連通孔12bが穿設してある。又、そ
の連通孔12bに連通して、前記受液ノズル32の外周
と前記回転軸12の内周に、前記供液ノズル30と受液
ノズル32との隙間31に連通する流入間隙33が形成
してある。即ち、外気は隙間21から入り、連通孔12
b、流入間隙33を通って、隙間31(供液ノズル30
の噴射口30aの付近)に到ることが可能に形成してあ
る。
【0011】回転基体20には、導水管34を回動可能
に係止輪体20bを介して固定してあると共に、回転軸
12をネジ20aを介して固定してある。又、導水管3
4の下部には、係止突起34aが形成してあり、係止輪
体37と止め板40を介して固定ネジ36で、噴射ノズ
ル38の噴射角度(α)を選定した後に、導水管34を
固定する。
【0012】次に、前記構成のスプレーノズルの作用に
ついて説明すると、先ず、ケーシング10を外周ネジ1
0bを介して固定し、ケーシング10の内周に形成の内
周ネジ10aに、図示略のポンプと接続の流体配管を取
り付ける。そして、高圧流体(空気、水等)を流体通路
11に流入すると、この流体は、供液ノズル30の噴射
口30aから受液口32aに向かってジェット流となっ
て流れ、隙間31(噴射口30aの付近)には真空が生
ずるため、外気は隙間21から流入し、連通孔12b、
流入間隙33から隙間31に入る。
【0013】即ち、ケーシング10内に高圧流体が流入
しても、ケーシング10内は負圧状態になるため、従来
のように高圧に耐えるシール部材は不要になり、特に、
回転部におけるシール部材は極めて簡便なシール機構と
シール部材を選択できる。
【0014】そして、前記受液口32aに入った流体
は、流体通路32b、導水管34を経て噴射ノズル38
から噴射する。この噴射ノズル38は、前記回転軸12
を中心軸として回転モーメントが生ずる角度(α)に調
整されているため、流体を噴射しながら回転する。
【0015】以上のように、本実施の形態のスプレーノ
ズルは回転軸12を有し、高圧の流体をケーシング10
に流入させても、ケーシング10内を負圧にすることが
できるので、他箇所のシール機構及びシール材は簡便な
のもでよいので、従来に比して、極めて経済性に富む機
構である。尚、本発明は、前記の構成と異なり、回転軸
12、回転基体20をケーシング10に固定して、噴射
ノズル38が回転しないスプレーノズル(流体噴出器
具)であってもよいことは言うまでもない。
【0016】(第2の実施の形態)本発明の流体噴出器
具を他の形式のスプレーノズルとして、側面を示す図
3、正面断面を示す図4を参照して説明する。尚、本実
施の形態は、前記第1の実施の形態における供液ノズル
30の他に、同じ作用の供給ノズル80を加えて形成
し、噴射ノズル38が自転と公転をする構造であり、前
記第1の実施の形態における同じ部品には同じ符号を附
して説明を略す。
【0017】固定されたケーシング10の下端部には、
主ベベルギア50aが取り付けてある一方、前記主ベベ
ルギア50aに歯合する副ベベルギア50bが副軸52
に固定してある。そして、この副軸52には、噴射ノズ
ル38が取り付けてある。一方、回転軸12に連結の回
転基体20内には、前記流体通路32bに連通の通路3
2cが形成してあると共に、供給ノズル30の装着用ビ
ス20aが取り付けてある。
【0018】そして、前記通路32cには、前記供給ノ
ズル30と同じ作用の供給ノズル80、受液ノズル32
と同じ作用の受液ノズル82が取り付けてある。即ち、
水平状に先細の噴射口80aを形成の供液ノズル80を
取り付けてジェット噴流の形成を可能にしてあると共
に、その供液ノズル80に対応し、且つ、隙間81を設
けて、前記副軸52に取付けの円錐形状で前記噴射口8
0aとほぼ同じ口径の受液口82aを有する受液ノズル
82が設置してある。又、この受液ノズル82の内部に
は前記受液口82aより大口径の流体通路82bが形成
してある。
【0019】前記受液ノズル82と副軸52及び回転基
体20は一体となって回転可能に構成してあり、副軸5
2は中途部で突起体52aを形成し、その突起体52a
の右部には右ベアリング54aと中ベアリング54b、
突起体52aの左部には左ベアリング54cが嵌合して
あって、ブッシュ53a、53bを介して回転可能とな
っている。又、前記回転基体20と副軸52は離脱して
の隙間91が形成してあると共に、前記副軸52には連
通孔52bが穿設してある。又、その連通孔52bに連
通して、前記受液ノズル82の外周と前記副軸52の内
周に、前記供液ノズル80と受液ノズル82との隙間8
1に連通する流入間隙83が形成してある。即ち、外気
は、隙間91から入り、連通孔52b、流入間隙83を
通って、隙間81(供液ノズル80の噴射口80aの付
近)に到ることが可能に形成してある。
【0020】又、流体通路82bは、噴射ノズル38を
取付けの導水管84に連通していて、噴射ノズル38か
ら流体噴射を可能にしてある。尚、この噴射ノズル38
は、副軸52を中心軸に回転モーメントが生ずるよう
に、異なる噴射方向で且つ離反した位置に固定してあ
る。
【0021】次に、前記のスプレーノズルの使用につい
て概略説明すると、前記第1の実施の形態で記載したと
同様に、高圧流体(空気、水等)を流体通路11に流入
すると、この流体は供液ノズル30の噴射口30aから
ジェット流となって流れ、隙間31(供液ノズル30の
噴射口30aの付近)には真空が生ずるため、外気が連
通孔12bから流入し、流入間隙33から隙間31に入
るので、シール部は負圧状態になる。
【0022】そして、前記受液口32aの流体は、流体
通路32b、32cを経て、供液ノズル80の噴射口8
0aからジェット噴流するので、同様に、外気が隙間9
1、連通孔52b、流入間隙83を経て隙間81(供液
ノズル80の噴射口80aの付近)に入るので、シール
部は負圧状態になる。又、前記流体通路82bの流体
は、導水管84を経て噴射ノズル38から噴射する。
【0023】この噴射ノズル38から流体が噴射するこ
とによって、副軸52は回転し、その回転は、副ベベル
ギア50bと主ベベルギア50aを介して回転基体20
を回転する。即ち、噴射ノズル38は自転しながら公転
し、この噴射ノズル38によって3次元空間を洗浄する
ことができる。
【0024】尚、前記した様に、このスプレーノズル
は、供液ノズル30、80を有するので、ケーシング1
0内と回転基体20内は負圧になり、高圧流体を流入し
且つ回転機構を有するにも拘らず、他箇所のシール機構
及びシール材は簡便に形成できる。又、供液ノズル3
0、80の形状等、受液ノズル32、82の形状とその
有無等は、スプレーノズルの選定条件で決定することは
言うまでもないし、本発明は前記スプレーノズルに限定
されず、他の機器に適用できることは言うまでもない。
【0025】
【発明の効果】請求項1の流体噴出器具は、供液ノズル
からジェット流が噴射することに伴って外気を流入させ
ることによって、シールは簡便なシール機構及びシール
部材で済む。又、請求項2の流体噴出器具は、噴射ノズ
ルは回転しながら流体を噴出すると共に、供液ノズルか
らジェット流が噴射することに伴って外気を流入させる
ことによって、シールは簡便なシール機構及びシール部
材で済む。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態の流体噴出器具(スプレーノ
ズル)の側面図である。
【図2】第1の実施の形態の流体噴出器具(スプレーノ
ズル)の正面断面図である。
【図3】第2の実施の形態の流体噴出器具(スプレーノ
ズル)の側面図である。
【図4】第2の実施の形態の流体噴出器具(スプレーノ
ズル)の正面断面図である。
【符号の説明】
10 ケーシング 12 回転軸 12b、52b 連通孔 20 回転基体 21、91 隙間 30、80 供液ノズル 31、81 隙間(供液ノズルの噴射口の付近30a、
80a) 32、82 受液ノズル 32a、82a 受液口 33、83 流入間隙 38 噴射ノズル
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年11月11日(1999.11.
11)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正内容】
【0004】
【課題を解決するための手段】請求項1の流体噴出器具
は、ケーシング10に回転基体20を回転可能に取付け
ると共に、その回転基体20に噴射ノズル38を取付
け、前記ケーシング10から噴射ノズル38に流体通路
32bを形成し、ケーシング10内に供液ノズル30を
取り付け、その供液ノズル30の噴射口30aの付近に
外気の流入が可能に形成してあり、供液ノズル30に対
応して、回転基体20に受液ノズル32を設けてある。
そのため、噴射ノズル38から流体を噴出することによ
って、噴射ノズル38は回転しながら流体を噴出する。
又、供液ノズル30から受液ノズル32へのジェット流
によって、供液ノズルの噴射口30aの付近は真空(ケ
ーシング内は負圧)になり、その噴射口30aの付近に
外気を流入させることによって、シールは簡便なシール
機構及びシール部材で済む。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】請求項2の流体噴出器具は、ケーシング1
0に回転基体20を回転可能に取付けると共に、その回
転基体20とベベルギア50a、50bを介して回転可
能な副軸52に噴射ノズル38を取付け、前記ケーシン
グ10から噴射ノズル38に流体通路32b、82bを
形成し、ケーシング10内に供液ノズル30を取り付
け、その供液ノズル30の噴射口30aの付近に外気の
流入が可能に形成し、供液ノズル30に対応して、前記
回転基体20に受液ノズル32を設け、且つ、その受液
ノズル32からの流体を受け入れる供液ノズル80を副
軸52内に設置すると共に、その供液ノズル80の噴射
口80aの付近に外気の流入が可能に形成し、前記供液
ノズル80に対応して、前記副軸52に受液ノズル82
を設けてなる。そのため、噴射ノズル38から流体を噴
出することによって、噴射ノズル38は副軸52で回転
すると共に、回転基体20も回転し、3次元空間を洗浄
でき、供液ノズル30、80から受液ノズル32、82
へのジェット流によって、供液ノズルの噴射口30a、
80aの付近は真空(ケーシング内は負圧)になり、そ
の噴射口30a、80aの付近に外気を流入させること
によって、シールは簡便なシール機構及びシール部材で
済む。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】
【発明の効果】請求項1の流体噴出器具は、噴射ノズル
は回転しながら流体を噴出すると共に、供液ノズルから
ジェット流が噴射することに伴って外気を流入させるこ
とによって、シールは簡便なシール機構及びシール部材
で済む。又、請求項2の流体噴出器具は、請求項1と同
様にシールは簡便なシール機構及びシール部材で済むと
共に、3次元空間の洗浄を可能にする。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ケーシングに噴射ノズルを取付けた流体
    噴出器具であって、 前記ケーシング内に供液ノズルを取り付け、その供液ノ
    ズルの噴射口の付近に外気の流入が可能に形成してなる
    ことを特徴とする流体噴出器具。
  2. 【請求項2】 ケーシングに回転体を回転可能に取付け
    ると共に、その回転体に噴射ノズルを取付け、前記ケー
    シングから噴射ノズルに流体通路を形成してなる流体噴
    出器具であって、 前記ケーシング内に供液ノズルを取り付け、その供液ノ
    ズルの噴射口の付近に外気の流入が可能に形成してなる
    ことを特徴とする流体噴出器具。
JP11055666A 1999-03-03 1999-03-03 流体噴出器具 Pending JP2000246149A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009061355A (ja) * 2007-09-04 2009-03-26 Seiji Endo 気体噴射ノズルおよびこれを備える気体噴射装置
JP2011119396A (ja) * 2009-12-02 2011-06-16 Ulvac Japan Ltd 薄膜太陽電池製造装置
JP2011168870A (ja) * 2010-02-22 2011-09-01 Ulvac Japan Ltd 成膜装置及びメンテナンス方法

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