JP2000247658A - フロートガラスの製造方法 - Google Patents
フロートガラスの製造方法Info
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- JP2000247658A JP2000247658A JP11045498A JP4549899A JP2000247658A JP 2000247658 A JP2000247658 A JP 2000247658A JP 11045498 A JP11045498 A JP 11045498A JP 4549899 A JP4549899 A JP 4549899A JP 2000247658 A JP2000247658 A JP 2000247658A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
- C03B18/18—Controlling or regulating the temperature of the float bath; Composition or purification of the float bath
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】酸化錫欠点を低減させるフロートガラスの製造
方法を得る。 【解決手段】錫浴１内の溶融錫の一部を溶融錫抜出し口
８から抜出し、酸化錫除去槽３にて溶融錫中に溶解して
いる酸素を除去後、溶融錫戻し口９から錫浴１内に戻す
などの方法により、錫浴１内のすべての場所において、
溶融錫中の酸素濃度を溶融錫に対する酸素の飽和溶解度
未満にコントロールする。
方法を得る。 【解決手段】錫浴１内の溶融錫の一部を溶融錫抜出し口
８から抜出し、酸化錫除去槽３にて溶融錫中に溶解して
いる酸素を除去後、溶融錫戻し口９から錫浴１内に戻す
などの方法により、錫浴１内のすべての場所において、
溶融錫中の酸素濃度を溶融錫に対する酸素の飽和溶解度
未満にコントロールする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化錫欠点など
の、金属酸化物に由来する欠点を低減させる、フロート
ガラスの製造方法に関する。
の、金属酸化物に由来する欠点を低減させる、フロート
ガラスの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フロートガラスの製造においては、錫浴
内の溶融錫への酸素の溶解を削減することが重要であ
る。その理由の一つは、溶融錫中に溶解した酸素が、フ
ロートガラスの下面または上面に付着して製品欠点とな
る酸化錫の生成原因となるからである。
内の溶融錫への酸素の溶解を削減することが重要であ
る。その理由の一つは、溶融錫中に溶解した酸素が、フ
ロートガラスの下面または上面に付着して製品欠点とな
る酸化錫の生成原因となるからである。
【０００３】従来、錫浴内の溶融錫と酸素の接触を防止
するために、錫浴はできるだけ密閉構造とされ、空気の
侵入を防ぐために保護用雰囲気ガスとして高純度の窒素
ガスが吹き込まれ、それでもなお侵入する微量の空気中
の酸素を除去するために若干の水素ガスが同時に吹き込
まれている。なお、空気中の酸素の侵入を防止するため
に、錫浴内の保護用雰囲気ガスの圧力は錫浴外部の大気
圧よりも若干高目に設定されている。
するために、錫浴はできるだけ密閉構造とされ、空気の
侵入を防ぐために保護用雰囲気ガスとして高純度の窒素
ガスが吹き込まれ、それでもなお侵入する微量の空気中
の酸素を除去するために若干の水素ガスが同時に吹き込
まれている。なお、空気中の酸素の侵入を防止するため
に、錫浴内の保護用雰囲気ガスの圧力は錫浴外部の大気
圧よりも若干高目に設定されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年、製造歩留り向上
のために、より一層の酸化錫欠点低減が求められてい
る。この要求に応えるためには、溶融錫へ溶解してしま
った酸素そのものを除去して錫浴内の溶融錫中の酸素濃
度を低下させる直接的な方法をとる必要がある。
のために、より一層の酸化錫欠点低減が求められてい
る。この要求に応えるためには、溶融錫へ溶解してしま
った酸素そのものを除去して錫浴内の溶融錫中の酸素濃
度を低下させる直接的な方法をとる必要がある。
【０００５】従来より行われているフロートガラスの製
造方法にあっては、錫浴内の溶融錫上部の酸素濃度を低
下させることにより、溶融錫への酸素の溶解の削減を図
っていた。しかし、いったん溶融錫へ溶解してしまった
酸素の濃度を低下させる方法としてはこの方法は間接的
であり、効果は限定的である。本発明は、以上の課題を
解決するフロートガラスの製造方法の提供を目的とす
る。
造方法にあっては、錫浴内の溶融錫上部の酸素濃度を低
下させることにより、溶融錫への酸素の溶解の削減を図
っていた。しかし、いったん溶融錫へ溶解してしまった
酸素の濃度を低下させる方法としてはこの方法は間接的
であり、効果は限定的である。本発明は、以上の課題を
解決するフロートガラスの製造方法の提供を目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶融金属浴内
の溶融金属の上に溶融ガラスを浮かせて板ガラスを製造
するフロートガラスの製造方法において、溶融金属浴内
の溶融金属中の酸素濃度を、溶融金属浴内のすべての場
所において、溶融金属に対する酸素の飽和溶解度未満に
コントロールする、フロートガラスの製造方法を提供す
る。
の溶融金属の上に溶融ガラスを浮かせて板ガラスを製造
するフロートガラスの製造方法において、溶融金属浴内
の溶融金属中の酸素濃度を、溶融金属浴内のすべての場
所において、溶融金属に対する酸素の飽和溶解度未満に
コントロールする、フロートガラスの製造方法を提供す
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】フロートガラスの製造において
は、通常は溶融金属として溶融錫が用いられ、また製品
欠点として問題になる金属酸化物は酸化錫である。以下
では、溶融金属として溶融錫を用い、製品欠点として問
題になる金属酸化物が酸化錫である場合について述べ
る。なお、本発明における溶融金属浴または錫浴は概ね
密閉構造の槽である。
は、通常は溶融金属として溶融錫が用いられ、また製品
欠点として問題になる金属酸化物は酸化錫である。以下
では、溶融金属として溶融錫を用い、製品欠点として問
題になる金属酸化物が酸化錫である場合について述べ
る。なお、本発明における溶融金属浴または錫浴は概ね
密閉構造の槽である。
【０００８】本発明では、錫浴内の溶融錫中の酸素濃度
を、錫浴内のすべての場所において、溶融錫に対する酸
素の飽和溶解度未満にする。これにより錫浴のいかなる
場所においても酸素は過飽和状態になりえない。したが
って、過飽和酸素が溶融錫と反応して生成する酸化錫の
発生を防止できる。
を、錫浴内のすべての場所において、溶融錫に対する酸
素の飽和溶解度未満にする。これにより錫浴のいかなる
場所においても酸素は過飽和状態になりえない。したが
って、過飽和酸素が溶融錫と反応して生成する酸化錫の
発生を防止できる。
【０００９】なお、溶融錫に対する酸素の飽和溶解度は
温度低下とともに減少し、Ｔｒａｎｓ．Ｆａｒａｄａｙ
Ｓｏｃ．，６１（１９６５）４５１頁の（４）式に基
づく下式から求められる。下式において、ｃは原子％表
示の酸素の飽和溶解度、Ｔは絶対温度表示の温度であ
る。
温度低下とともに減少し、Ｔｒａｎｓ．Ｆａｒａｄａｙ
Ｓｏｃ．，６１（１９６５）４５１頁の（４）式に基
づく下式から求められる。下式において、ｃは原子％表
示の酸素の飽和溶解度、Ｔは絶対温度表示の温度であ
る。
【００１０】
【数１】ｌｏｇ10［（１−ｃ）1/2 ｃ］＝−５６７０／
Ｔ＋４．１２
Ｔ＋４．１２
【００１１】錫浴内の溶融錫中の酸素濃度を、錫浴内の
すべての場所において飽和溶解度未満にするためには、
錫浴内の溶融錫を一部錫浴から抜き出して、溶融錫に溶
解している酸素を溶融錫外に排出して、次に溶融錫を錫
浴に戻すことが好ましい。溶融錫の全体ではなく一部を
対象とすることにより、溶融錫中の酸素濃度を効率的に
低減できる。
すべての場所において飽和溶解度未満にするためには、
錫浴内の溶融錫を一部錫浴から抜き出して、溶融錫に溶
解している酸素を溶融錫外に排出して、次に溶融錫を錫
浴に戻すことが好ましい。溶融錫の全体ではなく一部を
対象とすることにより、溶融錫中の酸素濃度を効率的に
低減できる。
【００１２】本発明において、錫浴内の溶融錫中の酸素
濃度を、錫浴内のすべての場所において飽和溶解度未満
にする方法、すなわち、溶融錫に対する酸素の飽和溶解
度が温度低下とともに減少することを利用する方法を以
下に説明する。この方法は、錫浴内の溶融錫を抜き出し
て、錫浴内の溶融錫の最低温度未満であり錫の融点より
も高い温度に冷却し、次に溶融錫中または溶融錫表面に
存在する酸化錫を除去し、次に抜き出した溶融錫を錫浴
内に戻すものである。
濃度を、錫浴内のすべての場所において飽和溶解度未満
にする方法、すなわち、溶融錫に対する酸素の飽和溶解
度が温度低下とともに減少することを利用する方法を以
下に説明する。この方法は、錫浴内の溶融錫を抜き出し
て、錫浴内の溶融錫の最低温度未満であり錫の融点より
も高い温度に冷却し、次に溶融錫中または溶融錫表面に
存在する酸化錫を除去し、次に抜き出した溶融錫を錫浴
内に戻すものである。
【００１３】この際、抜き出した溶融錫を錫浴内の溶融
錫の最低温度未満であり錫の融点よりも高い温度に冷却
することにより、錫浴内の溶融錫の最低温度に対する飽
和溶解度以上に溶解している酸素は錫と反応して酸化錫
になり、この酸化錫を除去する。その結果、錫浴内に戻
された溶融錫の酸素濃度は錫浴内のすべての場所におい
て飽和溶解度未満となる。酸化錫を除去する方法として
は、ろ過を用いる方法Ａや化学反応を用いる方法Ｂが挙
げられる。
錫の最低温度未満であり錫の融点よりも高い温度に冷却
することにより、錫浴内の溶融錫の最低温度に対する飽
和溶解度以上に溶解している酸素は錫と反応して酸化錫
になり、この酸化錫を除去する。その結果、錫浴内に戻
された溶融錫の酸素濃度は錫浴内のすべての場所におい
て飽和溶解度未満となる。酸化錫を除去する方法として
は、ろ過を用いる方法Ａや化学反応を用いる方法Ｂが挙
げられる。
【００１４】方法Ａのろ過には溶融錫と反応しにくい物
質を用いなければならない。この観点からは、リチウム
アルミニウムシリケートを主成分とするもの、アルミナ
を主成分とするもの、アルミニウムシリケートを主成分
とするもの、コージェライトを主成分とするものおよび
炭化ケイ素を主成分とするものからなる群より選ばれる
物質からなるセラミックフィルタを用いることが好まし
い。どの物質を用いるかは、セラミックフィルタが受け
る熱衝撃、応力、等の観点から決定される。
質を用いなければならない。この観点からは、リチウム
アルミニウムシリケートを主成分とするもの、アルミナ
を主成分とするもの、アルミニウムシリケートを主成分
とするもの、コージェライトを主成分とするものおよび
炭化ケイ素を主成分とするものからなる群より選ばれる
物質からなるセラミックフィルタを用いることが好まし
い。どの物質を用いるかは、セラミックフィルタが受け
る熱衝撃、応力、等の観点から決定される。
【００１５】例えば、固定式でサイズが小さいセラミッ
クフィルタは応力集中がなく機械的強度はさほど必要と
せず、また錫中に完全に浸して使用すれば熱膨張特性に
対する制限は少なく、さらに６００℃前後での使用であ
れば高温強度も小さくて済む。この場合は、安価なアル
ミニウムシリケートを主成分とするものを選べば充分で
ある。
クフィルタは応力集中がなく機械的強度はさほど必要と
せず、また錫中に完全に浸して使用すれば熱膨張特性に
対する制限は少なく、さらに６００℃前後での使用であ
れば高温強度も小さくて済む。この場合は、安価なアル
ミニウムシリケートを主成分とするものを選べば充分で
ある。
【００１６】一方、可動式または大きなサイズの場合は
応力集中があるために機械的強度を上げる必要があり、
炭化ケイ素を主成分とするものの使用が好ましい。さら
に高温の１１００℃程度で使用する場合は、高温強度を
上げる必要があり、アルミナを主成分とするものを使用
することが好ましい。セラミックフィルタの一部が溶融
錫に浸るような場合は、セラミックフィルタと溶融錫の
熱膨張差による破壊を防ぐために熱膨張係数を小さくす
る必要があり、リチウムアルミニウムシリケートまたは
コージェライトを主成分とするものの使用が好ましい。
応力集中があるために機械的強度を上げる必要があり、
炭化ケイ素を主成分とするものの使用が好ましい。さら
に高温の１１００℃程度で使用する場合は、高温強度を
上げる必要があり、アルミナを主成分とするものを使用
することが好ましい。セラミックフィルタの一部が溶融
錫に浸るような場合は、セラミックフィルタと溶融錫の
熱膨張差による破壊を防ぐために熱膨張係数を小さくす
る必要があり、リチウムアルミニウムシリケートまたは
コージェライトを主成分とするものの使用が好ましい。
【００１７】また、溶融錫は表面張力が高いので、充分
なろ過性能を得るためには、平均細孔径が６００μｍ〜
２０００μｍであり、気孔率が６０％以上であるセラミ
ックフィルタを用いることが好ましい。平均細孔径が６
００μｍ未満の場合、圧力損失が大きすぎて溶融錫はセ
ラミックフィルタを通過できないおそれがある。平均細
孔径が２０００μｍを超える場合、ろ過すべき酸化錫が
通過するおそれがある。気孔率が６０％未満の場合、圧
力損失が大きすぎて溶融錫はセラミックフィルタを通過
できないおそれがある。
なろ過性能を得るためには、平均細孔径が６００μｍ〜
２０００μｍであり、気孔率が６０％以上であるセラミ
ックフィルタを用いることが好ましい。平均細孔径が６
００μｍ未満の場合、圧力損失が大きすぎて溶融錫はセ
ラミックフィルタを通過できないおそれがある。平均細
孔径が２０００μｍを超える場合、ろ過すべき酸化錫が
通過するおそれがある。気孔率が６０％未満の場合、圧
力損失が大きすぎて溶融錫はセラミックフィルタを通過
できないおそれがある。
【００１８】方法Ｂは、酸化錫と反応して気化する物質
と酸化錫とを反応させ、その反応生成物を外部に排出す
るものである。酸化錫と反応し、その反応生成物が気体
となる物質としては、塩化アンモニウム、臭化アンモニ
ウム、ヨウ化アンモニウム、塩化水素、臭化水素および
ヨウ化水素が知られており、酸化錫と反応させる物質と
してはこれらの群より選ばれる１以上の物質を用いるこ
とが好ましい。なかでも、塩化アンモニウムは、酸化錫
との反応性、安定性および費用の観点から、より好まし
い物質である。塩化アンモニウムと酸化錫との反応は、
反応速度を充分に大きくするために３５０℃以上で実施
することが好ましい。
と酸化錫とを反応させ、その反応生成物を外部に排出す
るものである。酸化錫と反応し、その反応生成物が気体
となる物質としては、塩化アンモニウム、臭化アンモニ
ウム、ヨウ化アンモニウム、塩化水素、臭化水素および
ヨウ化水素が知られており、酸化錫と反応させる物質と
してはこれらの群より選ばれる１以上の物質を用いるこ
とが好ましい。なかでも、塩化アンモニウムは、酸化錫
との反応性、安定性および費用の観点から、より好まし
い物質である。塩化アンモニウムと酸化錫との反応は、
反応速度を充分に大きくするために３５０℃以上で実施
することが好ましい。
【００１９】方法Ｂの有効性を調べるために以下に述べ
るような実験を行った。アルミナ坩堝に、酸素濃度が７
００ｐｐｍ（１０００℃での溶融錫に対する酸素の飽和
溶解度）となるように金属錫と酸化錫を秤量のうえ、混
合して入れた。合計重量は４００ｇとした。これを窒素
雰囲気中で１０００℃に加熱し、酸素濃度が７００ｐｐ
ｍの溶融錫を作製した。その後、１０００℃から７００
℃、６００℃、５００℃の各温度までゆっくり冷した。
その結果、溶融錫表面に酸化錫が生成浮上した。次い
で、生成浮上した酸化錫に塩化アンモニウムを反応させ
て塩化錫にし、気体状態の塩化錫を除去した。
るような実験を行った。アルミナ坩堝に、酸素濃度が７
００ｐｐｍ（１０００℃での溶融錫に対する酸素の飽和
溶解度）となるように金属錫と酸化錫を秤量のうえ、混
合して入れた。合計重量は４００ｇとした。これを窒素
雰囲気中で１０００℃に加熱し、酸素濃度が７００ｐｐ
ｍの溶融錫を作製した。その後、１０００℃から７００
℃、６００℃、５００℃の各温度までゆっくり冷した。
その結果、溶融錫表面に酸化錫が生成浮上した。次い
で、生成浮上した酸化錫に塩化アンモニウムを反応させ
て塩化錫にし、気体状態の塩化錫を除去した。
【００２０】溶融錫中の酸素濃度を測定した結果、７０
０℃まで冷したサンプルでは３０ｐｐｍ、６００℃まで
冷したサンプルでは６ｐｐｍ、５００℃まで冷したサン
プルでは０．７ｐｐｍであった。これらの値はいずれも
各温度における溶融錫に対する酸素の飽和溶解度の値と
一致した。
０℃まで冷したサンプルでは３０ｐｐｍ、６００℃まで
冷したサンプルでは６ｐｐｍ、５００℃まで冷したサン
プルでは０．７ｐｐｍであった。これらの値はいずれも
各温度における溶融錫に対する酸素の飽和溶解度の値と
一致した。
【００２１】フロートガラス製造プラントの錫浴の溶融
錫の温度は、通常は錫浴出口で最低となり、その温度は
約６００℃である。したがって、溶融錫を５００℃まで
冷却し、その結果生成した酸化錫を塩化アンモニウムに
より塩化錫として除去することにより、溶融錫中の酸素
濃度を錫浴出口の飽和溶解度（６ｐｐｍ）より著しく小
さい０．７ｐｐｍとなしうる。
錫の温度は、通常は錫浴出口で最低となり、その温度は
約６００℃である。したがって、溶融錫を５００℃まで
冷却し、その結果生成した酸化錫を塩化アンモニウムに
より塩化錫として除去することにより、溶融錫中の酸素
濃度を錫浴出口の飽和溶解度（６ｐｐｍ）より著しく小
さい０．７ｐｐｍとなしうる。
【００２２】なお、溶融錫中の酸素濃度は二次イオン質
量分析法（ＳＩＭＳ）により定量した。ＳＩＭＳの測定
は、溶融錫を急速に冷却して固化させた錫サンプルにＣ
ｓ＋一次イオンビームを照射し、二次イオンとして発生
したＯ− イオンを検出するものである。定量に用いる
標準試料は、イオン注入法により作製した。
量分析法（ＳＩＭＳ）により定量した。ＳＩＭＳの測定
は、溶融錫を急速に冷却して固化させた錫サンプルにＣ
ｓ＋一次イオンビームを照射し、二次イオンとして発生
したＯ− イオンを検出するものである。定量に用いる
標準試料は、イオン注入法により作製した。
【００２３】方法Ｂを、図１および図２を用いて説明す
る。図１は本発明の実施形態の一例を示す平面図であ
り、図２はそのＡ−Ａ断面図である。錫浴１には錫循環
設備２が設置され、その中を矢印で示すように溶融錫が
循環する。
る。図１は本発明の実施形態の一例を示す平面図であ
り、図２はそのＡ−Ａ断面図である。錫浴１には錫循環
設備２が設置され、その中を矢印で示すように溶融錫が
循環する。
【００２４】錫浴１内の溶融錫の上に浮かせて板状に成
形したガラスリボン１１を引き出す錫浴出口１０付近に
溶融錫抜出し口８を設け、そこから溶融錫を抜き出し、
酸化錫除去槽３で溶融錫中または溶融錫表面に存在する
酸化錫を除去後、溶融錫戻し口９をとおして錫浴１内に
戻す。
形したガラスリボン１１を引き出す錫浴出口１０付近に
溶融錫抜出し口８を設け、そこから溶融錫を抜き出し、
酸化錫除去槽３で溶融錫中または溶融錫表面に存在する
酸化錫を除去後、溶融錫戻し口９をとおして錫浴１内に
戻す。
【００２５】酸化錫除去槽３の溶融錫１２の温度は、水
冷された冷却板４により、溶融錫抜出し口８における錫
温度よりも低く、錫の融点よりも高い温度となるように
する。酸化錫除去槽３の溶融錫１２の好ましい温度は、
溶融錫抜出し口８における錫温度よりも５０℃低い温度
である。酸化錫除去槽３を出た溶融錫は電気加熱による
加熱板５を用いて昇温された後、溶融錫戻し口９に達す
る。
冷された冷却板４により、溶融錫抜出し口８における錫
温度よりも低く、錫の融点よりも高い温度となるように
する。酸化錫除去槽３の溶融錫１２の好ましい温度は、
溶融錫抜出し口８における錫温度よりも５０℃低い温度
である。酸化錫除去槽３を出た溶融錫は電気加熱による
加熱板５を用いて昇温された後、溶融錫戻し口９に達す
る。
【００２６】酸化錫除去槽３においては、溶融錫１２の
上部空間の窒素雰囲気１３中に、矢印で示すように気体
導入管６をとおして塩化アンモニウムガスを導入し、酸
化錫と反応させる。この反応によって生成した塩化錫ガ
スは排気管７により、矢印で示すように酸化錫除去槽３
の外部に排出される。なお、塩化アンモニウムガスは溶
融錫１２と同じ温度に加熱された状態で酸化錫除去槽３
内部に導入されることが好ましい。
上部空間の窒素雰囲気１３中に、矢印で示すように気体
導入管６をとおして塩化アンモニウムガスを導入し、酸
化錫と反応させる。この反応によって生成した塩化錫ガ
スは排気管７により、矢印で示すように酸化錫除去槽３
の外部に排出される。なお、塩化アンモニウムガスは溶
融錫１２と同じ温度に加熱された状態で酸化錫除去槽３
内部に導入されることが好ましい。
【００２７】通常は錫浴１の最低温度部である錫浴出口
１０において酸化錫が生成しやすい。したがって、酸化
錫をより効率的に除去するためには、図１に示すように
溶融錫抜出し口８を錫浴出口１０に設けることが好まし
い。また、酸化錫が除去された溶融錫を直ちに再度抜き
出すことを防止するために、溶融錫戻し口９は溶融錫抜
出し口８から離れた場所に設けることが好ましい。具体
的には図１に示すように、溶融錫は錫浴下流から抜き出
し、錫浴上流に戻すことが好ましい。
１０において酸化錫が生成しやすい。したがって、酸化
錫をより効率的に除去するためには、図１に示すように
溶融錫抜出し口８を錫浴出口１０に設けることが好まし
い。また、酸化錫が除去された溶融錫を直ちに再度抜き
出すことを防止するために、溶融錫戻し口９は溶融錫抜
出し口８から離れた場所に設けることが好ましい。具体
的には図１に示すように、溶融錫は錫浴下流から抜き出
し、錫浴上流に戻すことが好ましい。
【００２８】図３は、フロートガラス製造プラントにお
ける、錫浴出口での溶融錫の酸素濃度と酸化錫欠点数
（酸素濃度が８．１ｐｐｍのときの酸化錫欠点数を１と
する）をプロットしたものである。錫浴出口の溶融錫の
温度は６００℃であり、通常は錫浴内における最低温度
である。また、６００℃における酸素の飽和溶解度は６
ｐｐｍである。
ける、錫浴出口での溶融錫の酸素濃度と酸化錫欠点数
（酸素濃度が８．１ｐｐｍのときの酸化錫欠点数を１と
する）をプロットしたものである。錫浴出口の溶融錫の
温度は６００℃であり、通常は錫浴内における最低温度
である。また、６００℃における酸素の飽和溶解度は６
ｐｐｍである。
【００２９】したがって図３から、錫浴出口での溶融錫
の酸素濃度を、錫浴内の溶融錫の最低温度（錫浴出口温
度である６００℃）における飽和溶解度（６ｐｐｍ）未
満にすることにより、酸化錫欠点数が急減することがわ
かる。
の酸素濃度を、錫浴内の溶融錫の最低温度（錫浴出口温
度である６００℃）における飽和溶解度（６ｐｐｍ）未
満にすることにより、酸化錫欠点数が急減することがわ
かる。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、酸化錫欠点を削減でき
るフロートガラスの製造方法を提供できる。
るフロートガラスの製造方法を提供できる。
【図１】本発明の実施の形態を示す断面図。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図。
【図３】錫浴出口での溶融錫の酸素濃度と酸化錫欠点数
（酸素濃度が８．１ｐｐｍのときの酸化錫欠点数を１と
する）の関係を示すグラフ。
（酸素濃度が８．１ｐｐｍのときの酸化錫欠点数を１と
する）の関係を示すグラフ。
１：錫浴 ２：錫循環設備 ３：酸化錫除去槽 ４：冷却板 ５：加熱板 ６：気体導入管 ７：排気管 ８：溶融錫抜出し口 ９：溶融錫戻し口 １０：錫浴出口 １１：ガラスリボン １２：溶融錫 １３：窒素雰囲気
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上堀 徹 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】溶融金属浴内の溶融金属の上に溶融ガラス
を浮かせて板ガラスを製造するフロートガラスの製造方
法において、溶融金属浴内の溶融金属中の酸素濃度を、
溶融金属浴内のすべての場所において、溶融金属に対す
る酸素の飽和溶解度未満にコントロールする、フロート
ガラスの製造方法。 - 【請求項２】溶融金属浴内の溶融金属の一部を溶融金属
浴から抜き出し、抜き出した溶融金属に溶解している酸
素を除去後、溶融金属浴に戻すことにより、溶融金属浴
内の溶融金属中の酸素濃度を、溶融金属浴内のすべての
場所において、溶融金属に対する酸素の飽和溶解度未満
にコントロールする、請求項１記載のフロートガラスの
製造方法。 - 【請求項３】溶融金属浴内の溶融金属の一部を溶融金属
浴から抜き出し、抜き出した溶融金属を溶融金属浴内の
溶融金属の最低温度未満であり溶融金属の凝固点よりも
高い温度に冷却し、次に、溶融金属と酸素の反応によっ
て生成し抜き出した溶融金属の中または表面に存在する
金属酸化物を除去後、溶融金属浴内に戻すことにより、
溶融金属浴内の溶融金属中の酸素濃度を、溶融金属浴内
のすべての場所において、溶融金属に対する酸素の飽和
溶解度未満にコントロールする、請求項２記載のフロー
トガラスの製造方法。 - 【請求項４】前記金属酸化物を、ろ過により除去する、
請求項３記載のフロートガラスの製造方法。 - 【請求項５】前記金属酸化物を、金属酸化物と反応して
気化する物質と反応させ、気化させることにより除去す
る、請求項３記載のフロートガラスの製造方法。 - 【請求項６】前記金属が錫である、請求項１〜５のいず
れか記載のフロートガラスの製造方法。
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