JP2000249950A

JP2000249950A - 光走査装置

Info

Publication number: JP2000249950A
Application number: JP11048824A
Authority: JP
Inventors: Seizo Suzuki; 清三鈴木
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1999-02-25
Filing date: 1999-02-25
Publication date: 2000-09-14
Anticipated expiration: 2019-02-25
Also published as: JP3920487B2

Abstract

(57)【要約】【課題】光学素子の部品公差ずれや取り付け誤差または
環境変動等が生じても良好な小径ビームスポットを得る
ために、大きな深度余裕を有する光学系を備えた光走査
装置を実現する。【解決手段】本発明では、光源１からの放射光束を集光
して平行光束もしくは集束光束あるいは発散光束とする
カップリングレンズ２と、該カップリングレンズからの
光を偏向反射面６ａで反射し等角速度的に偏向させる光
偏向器６と、該光偏向器からの偏向光束を被走査面１０
上に光スポットとして集光する走査結像光学系７，８と
を備え、上記被走査面上を等速的に光走査する光走査装
置において、光源１と偏向反射面６ａの間の光路中に、
光学系の焦点深度を深くするための深度拡大素子（強度
分布変換素子及び／又は位相分布変換素子）１１を付加
する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザープリン
タ、デジタル複写機、ファクシミリ等の電子写真方式を
利用したデジタル画像形成装置の光書き込み装置として
応用される光走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光源からの放射光束をカップリン
グレンズで集光して平行光束もしくは集束光束あるいは
発散光束とした後、該カップリングレンズからの光を偏
向反射面を持つ光偏向器により等角速度的に偏向させ、
該光偏向器からの偏向光束を走査結像光学系により感光
体等の被走査面上に光スポットとして集光して、上記被
走査面上を光走査する光走査装置が知られており、レー
ザープリンタ、デジタル複写機、ファクシミリ等の電子
写真方式を利用したデジタル画像形成装置の光書き込み
装置として用いられている。

【０００３】このような光走査装置において、近年実用
化されつつある高密度書き込み（例えば１２００ｄｐｉ
（dots per inch）以上）を実施するためには、十分に
小さいスポット径を有する光スポット（ビームスポッ
ト）を形成する必要が有る。小径のビームスポットを得
るためには、光走査装置の光学系の高ＮＡ化が必要であ
り、更に安定化した小径のビームスポット径を得るため
には、光走査装置を構成する光学素子の部品公差（曲率
半径、肉厚、屈折率）ずれや取り付け誤差、または環境
変動（温度、湿度）が生じても、それを許容する焦点深
度の深い光学系を実現する必要がある。一方、光学系の
射出瞳上の強度分布をガウス分布とすると、深度余裕：
２ｄは下式のようにビームスポット径：ｗの二乗に比例
して小さくなってしまう（使用波長：λ）。２ｄ〜ｗ²／λ ・・・(1) このため、ビームスポット径を小さくしようとすると深
度余裕も狭くなり、上記の部品公差または環境変動が生
じた場合に、良好なビームスポットが得られなくなる。

【０００４】そこで、第１種の０次ベッセルビームを発
生し、深度余裕の深いビームスポットを得ることが提案
されている。例えば、特開平９−３０４７１４号公報に
は、光源と光偏向器の間の光路中にレーザー光束の一部
を遮光する遮光部を有する遮光部材を設ける方式によ
り、深度余裕の広い光学系を得ることが記載されてい
る。また、特開平１０−２２７９９２号公報には、円錐
プリズムとほぼ等価な光学性能を有するバイナリー光学
素子より成る回折光学素子にレーザービームを入射させ
る方式により、第１種の０次ベッセル関数の２乗に略比
例する強度分布を有するベッセルビームを発生させるこ
とが記載されている。しかし、これらの式は円形対称で
あるため、光走査装置の光学系に用いる場合、主走査方
向（ビームの走査方向）と副走査方向（主走査方向に直
交する方向）でそれぞれ独立なビームスポットの設定が
難しい。

【０００５】上記の方式は、下記の(2) 式における振幅
項のｕ₁（ｙ₁，ｚ₁）の分布を任意の振幅分布に変換す
ることによってベッセルビームを得ており、その強度分
布は振幅分布の二乗で表される。尚、下記の(2) 式で
は、光軸方向をｘ方向として、光軸に直交する２方向の
うち、ｙ方向を主走査方向、ｚ方向を副走査方向として
いる。

【０００６】

【数１】

【０００７】上記(2) 式は、像面上のビームスポットの
強度分布：ｕ₂(ｙ₂,ｚ₂)が、概略フランホファー回折に
従うものとして表されている。ここで、ｕ₂(ｙ₂,ｚ₂)：像面上のビームスポットの振幅
分布、ｕ₁(ｙ₁,ｚ₁)：瞳上の振幅分布、 -ik(y₁y₂+z₁z₂)/2x：瞳上の位相差（ｋは波数）、ｊ/λ：フレネルの傾斜係数（λは使用波長）。

【０００８】尚、上記(2) 式のフランホーファー回折の
式はフーリエ変換式と同じ意味を持ち、像面上の振幅分
布：ｕ₂(ｙ₂,ｚ₂)は瞳上の振幅分布：ｕ₁(ｙ₁,ｚ₁)をフ
ーリエ変換したものに等しいため、通常、フーリエ変換
像とも呼ばれている。また、何れもベッセルビームを発
生したときに、サイドローブが立ち上がるといった問題
を抱えており、被走査面である感光体の感度が高い場
合、解像度の劣化や地汚れといった画像不良を招きやす
い。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたものであって、光学素子の部品公差（曲率半
径、肉厚、屈折率）ずれや取り付け誤差、または環境変
動（温度、湿度）等が生じても良好な小径ビームスポッ
トを得るために、大きな深度余裕を有する光学系を備え
た光走査装置を実現することを第１の課題とする。また
本発明は上記課題に加え、ベッセルビームのサイドロー
ブを低減した光学系を備えた光走査装置を実現すること
を第２の課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１に係る発明は、光源からの放射光束を集光
して平行光束もしくは集束光束あるいは発散光束とする
カップリングレンズと、該カップリングレンズからの光
を偏向反射面で反射し等角速度的に偏向させる光偏向器
と、該光偏向器からの偏向光束を被走査面上に光スポッ
トとして集光する走査結像光学系とを備え、上記被走査
面上を等速的に光走査する光走査装置において、光源と
偏向反射面の間の光路中に、光学系の焦点深度を深くす
るための深度拡大素子を付加する構成としたものであ
る。そして請求項２に係る発明は、請求項１の光走査装
置において、上記深度拡大素子として、光源と偏向反射
面の間の光路中に、射出瞳上の強度分布を中央部分より
も周辺の４角が高くなるように変換する強度分布変換素
子を付加する構成としたものである。また請求項３に係
る発明は、請求項１の光走査装置において、上記深度拡
大素子として、光源と偏向反射面の間の光路中に、射出
瞳上の光束の位相分布を任意に変換する位相分布変換素
子を付加する構成としたものである。さらに請求項４に
係る発明は、請求項１の光走査装置において、上記深度
拡大素子として、光源と偏向反射面の間の光路中に、射
出瞳上の位相分布を変換させる位相分布変換素子と強度
分布を変換する強度分布変換素子を付加する構成とした
ものである。さらにまた請求項５に係る発明は、請求項
１または４の光走査装置において、上記深度拡大素子と
して、位相分布変換素子と強度分布変換素子とを一体化
した光学素子を付加する構成としたものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の構成、動作及び作
用について図面を参照して詳細に説明する。図１は本発
明の一実施形態を示す光走査装置の概略構成図であり、
光源、光偏向器及び光学系の配置構成を主走査面（光軸
を含み、主走査方向に平行な平面）に展開して示した図
である。図１において、光源としての半導体レーザー１
からの放射光束は、カップリングレンズ２により集光さ
れて、平行光束もしくは集束光束あるいは発散光束とし
て以後の光学系にカップリングされる。そしてカップリ
ングされた光束は、アパーチャー３を通過する際に光束
周辺部を遮断されてビーム整形され、線像結像光学系で
あるシリンドリカルレンズ４により副走査方向（図面に
直交する方向）に収束され、ミラー５により光路を屈曲
された後、光偏向器であるポリゴンミラー６の偏向反射
面６ａの近傍に主走査方向に長い線像として結像する。
そして偏向反射面６ａによる反射光速は、モーターの回
転軸６ｂを中心に等速回転するポリゴンミラー６の回転
に伴い、等角速度的に偏向する偏向光束となってレンズ
７，８を透過する。この２枚のレンズ７，８は走査結像
レンズを構成し、偏向光束を被走査面（例えば光導電性
の感光体）１０上に光スポット（ビームスポット）とし
て集光し、被走査面１０を主走査方向に等速的に光走査
する。尚、走査結像レンズとしては、例えば本出願人の
先願である特願平１０−３２２１１６号の明細書に記載
された走査結像レンズ等を用いると良く、主・副走査方
向の像面湾曲や、ｆθ特性等の等速化特性を良好に補正
することが可能となる。

【００１２】以上のような構成の光走査装置において、
本発明では、光学素子の部品公差（曲率半径、肉厚、屈
折率）ずれや取り付け誤差、または環境変動（温度、湿
度）等が生じても良好な小径ビームスポットを得るため
に、大きな深度余裕を有する光学系を実現しようとする
ものであり、光源である半導体レーザー１と偏向反射面
６ａの間の光路中に、光学系の焦点深度を深くするため
の深度拡大素子１１を付加する構成としたものである。
より具体的には、深度拡大素子１１として、半導体レー
ザー１と偏向反射面６ａの間の光路中に、射出瞳９上の
強度分布を中央部分よりも周辺の４角が高くなるように
変換する強度分布変換素子を付加する、あるいは、深度
拡大素子１１として、半導体レーザー１と偏向反射面６
ａの間の光路中に、射出瞳９上の光束の位相分布を任意
に変換する位相分布変換素子を付加する、あるいは、深
度拡大素子１１として、半導体レーザー１と偏向反射面
６ａの間の光路中に、射出瞳９上の位相分布を変換させ
る位相分布変換素子と強度分布を変換する強度分布変換
素子を付加する、あるいは、深度拡大素子１１として、
位相分布変換素子と強度分布変換素子とを一体化した光
学素子を付加する等の構成としたものである。以下、本
発明の具体的な実施例について説明する。

【００１３】

【実施例】（実施例１）従来の射出瞳上の振幅を変化さ
せる手段は、アキシコンプリズムなどを用いた１次元的
な強度分布を持たせる素子、あるいは、円錐プリズムや
濃度フィルタ（中心に対して周辺の透過率を大きくす
る）回転対称な２次元的な素子を用いていた。しかしな
がら、本発明者らの考察の結果、特に光走査装置の光学
系に用いる場合、主走査方向及び副走査方向の強度分布
は焦点深度の拡大には殆ど寄与せず、対角方向の強度分
布が焦点深度の拡大に大きく寄与することが明かになっ
た。さらに上記の従来の方式は円形対称であるため、走
査光学系に用いる場合、主走査方向と副走査方向でそれ
ぞれ独立なビームスポットの設定が難しい。

【００１４】そこで本実施例では、深度拡大素子１１と
して、半導体レーザー１と偏向反射面６ａの間の光路中
に、射出瞳９上の強度分布を中央部分よりも周辺の４角
が高くなるように変換する強度分布変換素子を付加し、
図６、図７に示すように、主走査方向（図中のｙ方向）
及び副走査方向（図中のｚ方向）に対して斜め方向（対
角方向）の強度を中心強度よりも高く設定することによ
り像面上での焦点深度の深いビームスポットを得ること
に特徴がある。尚、図６と図７は深度の拡大率が異なる
例を示しており、各図の（ａ）は射出瞳上の強度分布を
３次元表示した例、（ｂ）は像面（被走査面）上のビー
ムスポットの強度分布を３次元表示した例、（ｃ）は像
面（被走査面）上のビームスポットの主走査方向（図中
の実線）と副走査方向（図中の破線）のＬＳＦ（Line S
pread Function）の例である。

【００１５】本方式によれば、対角方向の強度を上げる
ことにより光エネルギーを効率的に深度拡大に寄与させ
ることができ、且つ円形対称でないため主走査方向、副
走査方向のビームスポットの形状及びビーム径を独立に
設定することができる。ここで、強度分布を変換する強
度分布変換素子の具体例としては、図２に示すような階
段状でバイナリー型の格子構造を持つ回折結像光学素子
１１Ａを用いることができ、格子ピッチＰや傾斜角θを
適宜調節することにより所望の強度分布が得られる。ま
た、強度分布変換素子としては、図３に示すような対角
方向のみの透過率を上げた濃度フィルター１１Ｂでも良
く、対角方向以外の斜線を施した部分の濃度や面積を適
宜調節することにより、所望の強度分布が得られる。さ
らにまた、強度分布変換素子としては、図４に示すよう
な４角錐プリズム１１Ｃを主・副走査方向に対して約４
５°傾けて用いる方式でも良く、傾斜面の角度を適宜調
節することにより所望の強度分布が得られる。そして、
これらの強度分布変換素子を用いることにより、図６や
図７に示すような対角方向の強度を上げた強度分布を実
現することができ、深度余裕の深い光学系を実現するこ
とができる。但し、対角方向の強度を上げ過ぎると大き
なサイドローブが発生する恐れがあるので、射出瞳上の
強度分布は図６と図７の間の強度分布となるように設定
することが望ましい。

【００１６】（実施例２）従来、焦点深度の深度余裕を
拡大させるために、射出瞳上の強度分布（振幅分布を二
乗した分布）を円錐プリズムや濃度フィルターなどの光
学素子により任意の強度分布に変換し、ベッセルビーム
を発生させる方式が知られている。ところが濃度フィル
ターでは光量ロスが大きく光走査装置の光学系に展開し
たときに高速化の妨げとなってしまう。また、円錐プリ
ズムなどの場合は、加工が難しくコスト高になるという
問題があり、さらに、瞳上で任意の強度分布を得るため
に屈折を利用しているため、光学素子の設置位置が限定
されるといった問題があった。一方、位相分布を発生さ
せることは、平板に凹凸が刻まれた通常の位相シフター
（階段状のバイナリー型でも０／１の２値型でも可）で
用意に実現することができる。さらに、プラスチック成
形により大量に且つ安価に位相シフターを作成すること
も可能である。さらに、位相シフターは屈折力を持たな
いため、原理的には光路中のどこに設置しても構わない
といったメリットがある。

【００１７】そこで本実施例では、深度拡大素子１１と
して、射出瞳上の位相分布を任意に変換する上記位相シ
フター等の位相変換素子を用いることにより、強度分布
を変換するのと同様に、焦点深度の深いビームスポット
を形成することに特徴がある。ここで、像面上（被走査
面上）において焦点深度の深いビームスポット（例えば
ベッセルビームスポット）の振幅分布（二乗すれば強度
分布）を逆フーリエ変換することによって射出瞳上の位
相分布を算出することができる。具体的にはGerchberg-
Saxtonのアルゴリズム(R.W.Gerchberg and W.O.Saxton,
Optik 35,237-246(1972))などの方式により位相分布を
求める。その位相分布を２値レベルまたはバイナリー型
に量子化することにより位相シフターを作成するのに必
要なデータが得られる。尚、一般にこのようにして求め
られた位相分布は複雑になるため、ここでは数値例は省
略する。

【００１８】（実施例３）従来、焦点深度の深度余裕を
拡大させるために、ベッセルビームを発生させる方式が
知られている。ベッセルビームを発生させる手段とし
て、円錐プリズムや、円錐プリズムと等価な光学性能を
有するバイナリーレンズを用いる方式が提案されてい
る。しかし、上記方式はビームスポットのサイドローブ
が立ち上がるという問題があった。この方式は下記の
(2) 式の振幅分布ｕ₁(ｙ₁,ｚ₁)のみを強度変換素子を用
いて任意の振幅分布に変換させてベッセルビームを得る
ものであるが、通常ビームスポットは焦点深度が深くな
るものの、大きなサイドローブを発生してしまう。ここ
で従来例として、射出瞳上の強度分布を、中心に対して
周辺の強度を円筒状に大きくした場合の、像面上のビー
ムスポットの強度分布を図８に示す。図８（ｂ），
（ｃ）の例では、サイドローブが大きく立ち上がり、被
走査面である感光体の感度が高い場合には、小径ドット
を形成することが難しくなる。

【００１９】

【数２】

【００２０】尚、上記(2) 式は、像面上のビームスポッ
トの強度分布：ｕ₂(ｙ₂,ｚ₂)が、概略フランホファー回
折に従うものとして表されている。ここで、ｕ₂(ｙ₂,ｚ₂)：像面上のビームスポットの振幅
分布、ｕ₁(ｙ₁,ｚ₁)：瞳上の振幅分布、 -ik(y₁y₂+z₁z₂)/2x：瞳上の位相差（ｋは波数）、ｊ/λ：フレネルの傾斜係数（λは使用波長）。

【００２１】ここで本発明者らは上記(2) 式の位相項の
「-ik(y₁y₂+z₁z₂)/2x 」に着目して考察したところ、位
相分布変換素子により像面上（被走査面上）のビームス
ポットのサイドローブを低減するべく２次元状に位相を
与えることにより、良好なビームスポットを得ることが
可能となることが明かとなった。サイドローブを低減す
る位相パターンは、瞳上の振幅分布：ｕ₁(ｙ₁,ｚ₁)を任
意としたとき、ｕ₂(ｙ₂,ｚ₂)をサイドローブを小さくし
たビームスポット強度とし、逆フーリエ変換して、適切
な位相分布「-ik(y₁y₂+z₁z₂)/2x 」を求めることができ
る。そしてこの位相差を用いて、位相分布変換素子とし
てバイナリー素子などからなる位相シフターを作成すれ
ば、サイドローブを低減したビームスポットが得られる
が、一般に複雑なパターンとなるためここでは図示を省
略する。

【００２２】（実施例４）実施例３における位相シフタ
ーと、実施例１における強度分布変換素子を組み合わせ
る、あるいは一体的に構成することにより、焦点深度の
深度余裕が向上し、且つサイドローブを低減した光学系
を安価に実現することができる。ここで、図５はその一
実施例を示す深度拡大素子の部分断面図であり、この深
度拡大素子１１Ｄは、位相分布変換素子と強度分布変換
素子とを一体化した光学素子であり、一方の面が強度分
布変換面１１Ｄ-a、他方の面が位相分布変換面（例えば
位相シフト面）１１Ｄ-bとなっている。そしてこのよう
な構成の深度拡大素子１１Ｄを光源１と偏向反射面６ａ
の間の光路中に付加することにより、焦点深度が深く、
サイドローブも低減されたビームスポットを得ることが
可能と成る。

【００２３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光源からの放射光束を集光して平行光束もしくは集束光
束あるいは発散光束とするカップリングレンズと、該カ
ップリングレンズからの光を偏向反射面で反射し等角速
度的に偏向させる光偏向器と、該光偏向器からの偏向光
束を被走査面上に光スポットとして集光する走査結像光
学系とを備え、上記被走査面上を等速的に光走査する光
走査装置において、光源と偏向反射面の間の光路中に、
光学系の焦点深度を深くするための深度拡大素子を付加
する構成としたことにより（請求項１）、焦点深度の深
度余裕の深い光学系を実現することができる。従って本
発明によれば、光学素子の部品公差（曲率半径、肉厚、
屈折率）ずれや取り付け誤差、または環境変動（温度、
湿度）等が生じても良好な小径ビームスポットを得るた
めの、大きな深度余裕を有する光学系を備えた光走査装
置を実現することができる。

【００２４】ここで、上記深度拡大素子として、射出瞳
上の強度分布を中央部分よりも周辺の４角が高くなるよ
うに変換する強度分布変換素子を付加する構成とするこ
とにより（請求項２）、焦点深度の深度余裕の深い光学
系を実現することができる。また上記深度拡大素子とし
て、光源と偏向反射面の間の光路中に、射出瞳上の光束
の位相分布を任意に変換する位相分布変換素子を付加す
る構成としても（請求項３）、焦点深度の深度余裕の深
い光学系を実現することができる。さらに上記深度拡大
素子として、光源と偏向反射面の間の光路中に、射出瞳
上の位相分布を変換させる位相分布変換素子と強度分布
を変換する強度分布変換素子を付加する構成とすること
により（請求項４）、焦点深度の深度余裕が深く、且つ
サイドローブの小さい光学系を実現することができる。
さらにまた上記深度拡大素子として、位相分布変換素子
と強度分布変換素子とを一体化した光学素子を付加する
構成とすることにより（請求項５）、焦点深度の深度余
裕が深く、且つサイドローブの小さい光学系をコンパク
トに実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示す光走査装置の概略構
成図である。

【図２】本発明の一実施例を示す図であって、強度分布
変換素子として用いる回折結像光学素子の構成説明図で
ある。

【図３】本発明の別の実施例を示す図であって、強度分
布変換素子として用いる濃度フィルターの平面図であ
る。

【図４】本発明のさらに別の実施例を示す図であって、
強度分布変換素子として用いる４角錐プリズムの構成説
明図である。

【図５】本発明のさらに別の実施例を示す図であって、
強度分布変換素子と位相分布変換素子を一体化してなる
深度拡大素子の部分断面図である。

【図６】本発明に係る深度拡大素子を用いた光学系の射
出瞳上強度分布と像面上ビームスポット強度分布の一例
を示す図である。

【図７】本発明に係る深度拡大素子を用いた光学系の射
出瞳上強度分布と像面上ビームスポット強度分布の別の
例を示す図である。

【図８】従来の円錐プリズム等の光学素子を用いた光学
系の射出瞳上強度分布と像面上ビームスポット強度分布
の例を示す図である。

【符号の説明】１：半導体レーザー（光源）２：カップリングレンズ３：アパーチャー４：シリンドリカルレンズ５：ミラー６：ポリゴンミラー（光偏向器）６ａ：偏向反射面７，８：走査結像レンズ９：射出瞳１０：被走査面（像面）１１：深度拡大素子１１Ａ：回折結像光学素子（強度分布変換素子）１１Ｂ：濃度フィルター（強度分布変換素子）１１Ｃ：４角錐プリズム（強度分布変換素子）１１Ｄ：深度拡大素子１１Ｄ-a：強度分布変換面１１Ｄ-b：位相分布変換面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 5/20 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ５Ｃ０７２Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４ＡＦターム(参考） 2C362 AA03 BA04 BA85 2H042 AA03 AA19 AA21 2H045 AA01 CB02 CB24 DA02 2H048 AA18 AA22 2H049 AA03 AA55 BA06 BB01 BC21 5C072 AA03 BA12 CA02 DA02 DA20 DA21 DA23 HA02 HA13 HA15 HA16 RA12 XA01 XA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源からの放射光束を集光して平行光束も
しくは集束光束あるいは発散光束とするカップリングレ
ンズと、該カップリングレンズからの光を偏向反射面で
反射し等角速度的に偏向させる光偏向器と、該光偏向器
からの偏向光束を被走査面上に光スポットとして集光す
る走査結像光学系とを備え、上記被走査面上を等速的に
光走査する光走査装置において、光源と偏向反射面の間の光路中に、光学系の焦点深度を
深くするための深度拡大素子を付加することを特徴とす
る光走査装置。
【請求項２】請求項１記載の光走査装置において、上記
深度拡大素子として、光源と偏向反射面の間の光路中
に、射出瞳上の強度分布を中央部分よりも周辺の４角が
高くなるように変換する強度分布変換素子を付加するこ
とを特徴とする光走査装置。
【請求項３】請求項１記載の光走査装置において、上記
深度拡大素子として、光源と偏向反射面の間の光路中
に、射出瞳上の光束の位相分布を任意に変換する位相分
布変換素子を付加することを特徴とする光走査装置。
【請求項４】請求項１記載の光走査装置において、上記
深度拡大素子として、光源と偏向反射面の間の光路中
に、射出瞳上の位相分布を変換させる位相分布変換素子
と強度分布を変換する強度分布変換素子を付加すること
を特徴とする光走査装置。
【請求項５】請求項１または４記載の光走査装置におい
て、上記深度拡大素子として、位相分布変換素子と強度
分布変換素子とを一体化した光学素子を付加することを
特徴とする光走査装置。