JP2000253991A - 誘導加熱型のセラミック調理容器とその製造方法 - Google Patents
誘導加熱型のセラミック調理容器とその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐蝕性(CORROSION RESISTANCE)と耐久性(EN
DURANCE)に優れ、またセラミックの素材からの遠赤外線
放射により調理飲食の味も向上できる、セラミック調理
容器とその製造方法を提供する。 【解決手段】 金属粒子（６）とセラミック粒子（５）
を均一混合して製作した誘導加熱型セラミック調理容器
と、ゲルマニウム等の遠赤外線の放射により予め成形し
たセラミック容器（１）の外面に、表皮効果を起こせる
金属層（４）をコーティングして製作した誘導加熱型セ
ラミック調理容器と、多数個の孔をあけた金属容器
（２）の両側面にセラミック層（３）を積層して製作し
た誘導加熱型セラミック調理容器とが提供される。
DURANCE)に優れ、またセラミックの素材からの遠赤外線
放射により調理飲食の味も向上できる、セラミック調理
容器とその製造方法を提供する。 【解決手段】 金属粒子（６）とセラミック粒子（５）
を均一混合して製作した誘導加熱型セラミック調理容器
と、ゲルマニウム等の遠赤外線の放射により予め成形し
たセラミック容器（１）の外面に、表皮効果を起こせる
金属層（４）をコーティングして製作した誘導加熱型セ
ラミック調理容器と、多数個の孔をあけた金属容器
（２）の両側面にセラミック層（３）を積層して製作し
た誘導加熱型セラミック調理容器とが提供される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、誘導加熱型セラミ
ック調理容器とその製造方法に関する。更に詳しくは、
ガスレンジなどのような従来の加熱装置を利用して加熱
でき、あるいは電気圧力釜(ELECTRIC PRESSURE COOKE
R)のように誘導加熱によって加熱できるセラミックの調
理容器とその製造方法に関する。また、本発明は、耐蝕
性(CORROSION RESISTANCE)と耐久性(ENDURANCE)に優
れ、特にセラミック素材から放射される遠赤外線によっ
て調理される飲食物の味も向上する、セラミックの調理
容器とその製造方法に関する。
ック調理容器とその製造方法に関する。更に詳しくは、
ガスレンジなどのような従来の加熱装置を利用して加熱
でき、あるいは電気圧力釜(ELECTRIC PRESSURE COOKE
R)のように誘導加熱によって加熱できるセラミックの調
理容器とその製造方法に関する。また、本発明は、耐蝕
性(CORROSION RESISTANCE)と耐久性(ENDURANCE)に優
れ、特にセラミック素材から放射される遠赤外線によっ
て調理される飲食物の味も向上する、セラミックの調理
容器とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図８は、本発明の技術分野に属する誘導
加熱型調理容器の加熱過程を説明するための図面であ
る。前記図面に示した誘導加熱型の調理容器は、インバ
ーター(INVERTER)回路から加熱コイルに高周波(HIGH F
REQUENCY)の電流を供給してその加熱コイルの周辺に高
周波の磁界(MAGNETIC FIELD)が発生すると、その磁界
の調理容器(COOKER)に集中するようにして渦電流(EDDY
CURRENT)を発生させ、この渦電流のエネルギーが損失
するにつれ調理容器が発熱して加熱（又は伝熱）する。
加熱型調理容器の加熱過程を説明するための図面であ
る。前記図面に示した誘導加熱型の調理容器は、インバ
ーター(INVERTER)回路から加熱コイルに高周波(HIGH F
REQUENCY)の電流を供給してその加熱コイルの周辺に高
周波の磁界(MAGNETIC FIELD)が発生すると、その磁界
の調理容器(COOKER)に集中するようにして渦電流(EDDY
CURRENT)を発生させ、この渦電流のエネルギーが損失
するにつれ調理容器が発熱して加熱（又は伝熱）する。
【０００３】一般に前記のような誘導加熱型の調理容器
は、鉄(STEEL)、アルミニウム(ALUMINUM)、ステンレス
スチール(STAILESS STEEL)などの金属で構成される。
鉄を素材に選択して調理容器を製作した場合、20kHzよ
り低い磁界でも表皮効果を起こすから安定的に飲食物が
調理できるという長所を有する。しかし、その素材が水
分などによって腐食しやすく、また熱伝導率が低いため
長時間加熱しなければならない問題点がある。
は、鉄(STEEL)、アルミニウム(ALUMINUM)、ステンレス
スチール(STAILESS STEEL)などの金属で構成される。
鉄を素材に選択して調理容器を製作した場合、20kHzよ
り低い磁界でも表皮効果を起こすから安定的に飲食物が
調理できるという長所を有する。しかし、その素材が水
分などによって腐食しやすく、また熱伝導率が低いため
長時間加熱しなければならない問題点がある。
【０００４】ここで、表皮効果(SKIN EFFECT)とは、金
属板の表面（高周波の磁界が与えられる断面）で、電流
の流れる部分が一定の範囲に集中する状態を指し、これ
が発生すると、金属板の抵抗が厚さとは関係なく一定に
なり、また磁束が金属板を透過しなくなる。一方、前記
金属のうちアルミニウムを素材に選択して調理容器を製
作する場合、鉄を素材にする場合よりも軽いだけでな
く、熱伝導率が優れ、空気と反応して酸化皮膜を形成す
るため腐食しない長所を有するが、鉄よりも抵抗が小さ
いから調理容器内の加熱コイルの長さを延長して調理器
内の１次抵抗を大きくしなければならず、また50kHz以
上の高周波の磁界内でだけ表皮効果が起こるという問題
点があった。
属板の表面（高周波の磁界が与えられる断面）で、電流
の流れる部分が一定の範囲に集中する状態を指し、これ
が発生すると、金属板の抵抗が厚さとは関係なく一定に
なり、また磁束が金属板を透過しなくなる。一方、前記
金属のうちアルミニウムを素材に選択して調理容器を製
作する場合、鉄を素材にする場合よりも軽いだけでな
く、熱伝導率が優れ、空気と反応して酸化皮膜を形成す
るため腐食しない長所を有するが、鉄よりも抵抗が小さ
いから調理容器内の加熱コイルの長さを延長して調理器
内の１次抵抗を大きくしなければならず、また50kHz以
上の高周波の磁界内でだけ表皮効果が起こるという問題
点があった。
【０００５】一方、ステンレススチールで作った調理容
器は抵抗が少なくて誘導加熱ができないので、鉄板のよ
うな誘導抵抗の大きな合金板を容器の底面に接着処理し
なければならず、同時に熱伝導性がよくないため、アル
ミニウムのような熱伝導性に優れた素材を一緒に使用し
なければならず、この場合調理容器の重量が増加して取
り扱いが不便となるだけでなく、付加した素材が容器と
分離しやすいという短所があった。
器は抵抗が少なくて誘導加熱ができないので、鉄板のよ
うな誘導抵抗の大きな合金板を容器の底面に接着処理し
なければならず、同時に熱伝導性がよくないため、アル
ミニウムのような熱伝導性に優れた素材を一緒に使用し
なければならず、この場合調理容器の重量が増加して取
り扱いが不便となるだけでなく、付加した素材が容器と
分離しやすいという短所があった。
【０００６】こうした前記問題点を改善するための方案
として、調理容器の底面にアルミニウム、銅、タングス
テン(TUNGSTEN)などの薄板(FOIL)を付着する方法が提案
されたことがあるが、前記方法によって製作した調理容
器は周波数の低い磁界でも表皮効果を与える長所を有す
るが、次のような種々の問題がある。アルミニウム等の
薄板が外部に露出されることによって外観が悪くなると
いう問題とともに、熱により飲食物や調味料などと化学
反応を起こして容器の耐久性を低下させる問題点、誘導
加熱される金属層が調理容器の底面に位置するので低い
熱伝導性を有する金属層を通して飲食物に熱が伝達され
熱効率が落ちる問題、調理容器の製造過程においても容
器の製造後アルミニウム薄板を付着する工程が新しく追
加されねばならない問題などがあった。
として、調理容器の底面にアルミニウム、銅、タングス
テン(TUNGSTEN)などの薄板(FOIL)を付着する方法が提案
されたことがあるが、前記方法によって製作した調理容
器は周波数の低い磁界でも表皮効果を与える長所を有す
るが、次のような種々の問題がある。アルミニウム等の
薄板が外部に露出されることによって外観が悪くなると
いう問題とともに、熱により飲食物や調味料などと化学
反応を起こして容器の耐久性を低下させる問題点、誘導
加熱される金属層が調理容器の底面に位置するので低い
熱伝導性を有する金属層を通して飲食物に熱が伝達され
熱効率が落ちる問題、調理容器の製造過程においても容
器の製造後アルミニウム薄板を付着する工程が新しく追
加されねばならない問題などがあった。
【０００７】図９は、一般陶器(POTTERY)の使用状態図
の中、断面図を示したもので、これと類似しているもの
として琺瑯容器(ENAMELED COOKER)がある。前記調理容
器は高周波磁界を印加しても発熱(GENERATION OF HEA
T)できないので、ガスレンジなどのような加熱手段
（７）で加熱することになり、前記加熱によって、構成
素材の鉱物、特に遠赤外線を放射する物質から遠赤外線
が放射され飲食物の味がよくなり、またその表面に多様
な模様が形成できて外観が美麗という長所を有する。し
かし、産業技術の発達とともに更に多くの余暇を所望す
る消費者の要求を満たすため、漸次、直接加熱型の調理
容器は誘導加熱型の調理用に改良され変化しつつある。
の中、断面図を示したもので、これと類似しているもの
として琺瑯容器(ENAMELED COOKER)がある。前記調理容
器は高周波磁界を印加しても発熱(GENERATION OF HEA
T)できないので、ガスレンジなどのような加熱手段
（７）で加熱することになり、前記加熱によって、構成
素材の鉱物、特に遠赤外線を放射する物質から遠赤外線
が放射され飲食物の味がよくなり、またその表面に多様
な模様が形成できて外観が美麗という長所を有する。し
かし、産業技術の発達とともに更に多くの余暇を所望す
る消費者の要求を満たすため、漸次、直接加熱型の調理
容器は誘導加熱型の調理用に改良され変化しつつある。
【０００８】このような点を勘案して、最近、陶器と誘
導加熱型の調理容器が有する長所だけを発揮できるよう
に、誘導加熱型セラミック調理容器の開発が各製造社ご
とに活発に推進されており、このような新概念の調理容
器として具体化した例が図１０と図１１に図示されてい
る（１９９９．８．１６付韓国実用新案公告番号第９６
−７００２号公報）。この公報に記載された内容による
と、前記耐火調理容器(FIREPROOF TYPE COOKER)は、
成型段階で、容器の内部又は外部にアルミニウム又は
鉄、銅、タングステン、ステンレススチールなどの金属
薄板を挿入又は付着して製造することにしている。即
ち、下部の金型（１０１）内部に耐火性のセラミック物
質（１０２）を半分ほど入れ、その上に金属薄板（１０
４）をのせた後、再びセラミック物質（１０２）を充填
して上部の金型（１０３）をかぶせて加熱プレスする
（第１実施例）。又は１次焼成した耐熱陶器に金属薄板
（１０４）の裏面を耐熱接触剤で付着した後、再び金薄
板（１０４）の表面を耐熱コーティングして２次焼成す
ることとなっている（第２実施例）。
導加熱型の調理容器が有する長所だけを発揮できるよう
に、誘導加熱型セラミック調理容器の開発が各製造社ご
とに活発に推進されており、このような新概念の調理容
器として具体化した例が図１０と図１１に図示されてい
る（１９９９．８．１６付韓国実用新案公告番号第９６
−７００２号公報）。この公報に記載された内容による
と、前記耐火調理容器(FIREPROOF TYPE COOKER)は、
成型段階で、容器の内部又は外部にアルミニウム又は
鉄、銅、タングステン、ステンレススチールなどの金属
薄板を挿入又は付着して製造することにしている。即
ち、下部の金型（１０１）内部に耐火性のセラミック物
質（１０２）を半分ほど入れ、その上に金属薄板（１０
４）をのせた後、再びセラミック物質（１０２）を充填
して上部の金型（１０３）をかぶせて加熱プレスする
（第１実施例）。又は１次焼成した耐熱陶器に金属薄板
（１０４）の裏面を耐熱接触剤で付着した後、再び金薄
板（１０４）の表面を耐熱コーティングして２次焼成す
ることとなっている（第２実施例）。
【０００９】同公報に記載された内容によると、第１実
施例によって製造した耐火調理容器は、内部に金属薄板
（１０４）が均一に装着されているので、その外観が誘
導加熱型の調理容器でない通常の陶器と同様の美観を呈
するだけでなく、低い磁界でも円滑な表皮効果を発しな
がら、従来の誘導加熱型の調理容器の最も深刻な問題で
ある耐久性の低下を解決でき、しかも製造工程の単純化
による生産単価の節減する効果が得られることになって
いる。また、第２実施例によって製造された耐火調理容
器は、金属薄板（１０４）を酸素から遮断して耐蝕性
（CORROSION−RESISTANCE)を向上させると同時に、熱伝
導性の優れた金属板を容器の底面に配することによって
誘導加熱だけでなく、直接加熱によっても調理容器を加
熱できる。
施例によって製造した耐火調理容器は、内部に金属薄板
（１０４）が均一に装着されているので、その外観が誘
導加熱型の調理容器でない通常の陶器と同様の美観を呈
するだけでなく、低い磁界でも円滑な表皮効果を発しな
がら、従来の誘導加熱型の調理容器の最も深刻な問題で
ある耐久性の低下を解決でき、しかも製造工程の単純化
による生産単価の節減する効果が得られることになって
いる。また、第２実施例によって製造された耐火調理容
器は、金属薄板（１０４）を酸素から遮断して耐蝕性
（CORROSION−RESISTANCE)を向上させると同時に、熱伝
導性の優れた金属板を容器の底面に配することによって
誘導加熱だけでなく、直接加熱によっても調理容器を加
熱できる。
【００１０】しかし、前記のような耐火調理容器に高周
波磁界を走査して発熱させるとき、走査する磁界によっ
て表皮効果を発生できる部分（金属薄板が内在している
部分）は調理容器の底面に限られるので、調理に必要な
発熱量よりも著しく低い熱が発生して、実際には全く飲
食物が調理されないか、又は調理される飲食物が生煮え
になるかする問題がある。また、脆性(BRITTLENESS)の
大きいセラミック(CERAMIC)物質（１０２）が展性(MALL
EABILITY)のよい金属薄板（１０４）の周りを取り囲ん
でいるため、加熱によって２つの素材が熱膨張する場
合、変形量が違って互いに剥離するか、若しくはセラミ
ック素材部分に亀裂が発生する恐れがあった。特に、前
記のような耐火調理容器は、製品製作時に考慮される利
用性の側面では消費者に満足を与えられても、また別の
側面、即ちその製品の製作時に考慮される加工性の側面
から実現不可能なもので、まだ商品市場に出荷(SHIPPIN
G)されたこともない。
波磁界を走査して発熱させるとき、走査する磁界によっ
て表皮効果を発生できる部分（金属薄板が内在している
部分）は調理容器の底面に限られるので、調理に必要な
発熱量よりも著しく低い熱が発生して、実際には全く飲
食物が調理されないか、又は調理される飲食物が生煮え
になるかする問題がある。また、脆性(BRITTLENESS)の
大きいセラミック(CERAMIC)物質（１０２）が展性(MALL
EABILITY)のよい金属薄板（１０４）の周りを取り囲ん
でいるため、加熱によって２つの素材が熱膨張する場
合、変形量が違って互いに剥離するか、若しくはセラミ
ック素材部分に亀裂が発生する恐れがあった。特に、前
記のような耐火調理容器は、製品製作時に考慮される利
用性の側面では消費者に満足を与えられても、また別の
側面、即ちその製品の製作時に考慮される加工性の側面
から実現不可能なもので、まだ商品市場に出荷(SHIPPIN
G)されたこともない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の諸問題
を解決するために案出されたもので、加工性に優れ、ま
た耐蝕性(CORROSION RESISTANCE)と耐久性(ENDURANCE)
に優れ、セラミック素材から放射される遠赤外線によっ
て飲食物の味が向上するセラミック調理容器とその製造
方法を提供することに目的がある。
を解決するために案出されたもので、加工性に優れ、ま
た耐蝕性(CORROSION RESISTANCE)と耐久性(ENDURANCE)
に優れ、セラミック素材から放射される遠赤外線によっ
て飲食物の味が向上するセラミック調理容器とその製造
方法を提供することに目的がある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明では、このような
前記の目的を達成するために、誘導加熱型のセラミック
調理容器の設計の時、互いに異質的な２つの材料の熱膨
張に伴う変形関係と表皮効果による発熱量を考慮して、
互いに異質的な性質を有する２つの素材の間の剥離現象
を防止し、特に飲食物を調理するために十分な熱量が発
生できるように設計した。
前記の目的を達成するために、誘導加熱型のセラミック
調理容器の設計の時、互いに異質的な２つの材料の熱膨
張に伴う変形関係と表皮効果による発熱量を考慮して、
互いに異質的な性質を有する２つの素材の間の剥離現象
を防止し、特に飲食物を調理するために十分な熱量が発
生できるように設計した。
【００１３】まず、本発明の請求項１に開示されている
誘導加熱型セミラック調理容器は、金属粒子とセラミッ
ク粒子を均一に混合した後、その混合物を調理容器製作
用の鋳型に入れ、加熱プレスして製作する。このように
すると、調理容器の内外面の全体にかけて金属粒子が均
等に分布するので、高周波磁界が走査されると、調理容
器の全体に表皮効果が起こり、調理に十分な熱が発生す
る。それだけでなく、微小なサイズのセラミック粒子と
金属粒子が互いに隣接しているので、加熱により金属粒
子が膨張する時、前記金属粒子の変形(ELONGATION)がセ
ラミック粒子によって制限でき、このような効果がなく
ても、異質的な２つの材料がまるで連続体(CONTINUUM)
のように挙動するので材料の間に剥離が起こらない。
誘導加熱型セミラック調理容器は、金属粒子とセラミッ
ク粒子を均一に混合した後、その混合物を調理容器製作
用の鋳型に入れ、加熱プレスして製作する。このように
すると、調理容器の内外面の全体にかけて金属粒子が均
等に分布するので、高周波磁界が走査されると、調理容
器の全体に表皮効果が起こり、調理に十分な熱が発生す
る。それだけでなく、微小なサイズのセラミック粒子と
金属粒子が互いに隣接しているので、加熱により金属粒
子が膨張する時、前記金属粒子の変形(ELONGATION)がセ
ラミック粒子によって制限でき、このような効果がなく
ても、異質的な２つの材料がまるで連続体(CONTINUUM)
のように挙動するので材料の間に剥離が起こらない。
【００１４】本発明の請求項２に開示されている誘導加
熱型セラミック調理容器は、例えばゲルマニウムのよう
に遠赤外線を放射(EMISSION)する鉱石粉末を使用して予
め成型しておいた容器の外面に表皮効果を起こせる金属
層をコーティングして製作することを特徴とする。この
ようにすると、セラミック容器の外面に最初にコーティ
ングされた金属層が分子結合に近い密着力で接着し、以
後漸次的に金属粒子をコーティングして金属層の厚さを
高めるときにはまるで同一材質を溶融結合したのと同じ
結果となり、前記セラミック容器と金属層が加熱によっ
て膨張してもそれらが互いに剥離することがない。
熱型セラミック調理容器は、例えばゲルマニウムのよう
に遠赤外線を放射(EMISSION)する鉱石粉末を使用して予
め成型しておいた容器の外面に表皮効果を起こせる金属
層をコーティングして製作することを特徴とする。この
ようにすると、セラミック容器の外面に最初にコーティ
ングされた金属層が分子結合に近い密着力で接着し、以
後漸次的に金属粒子をコーティングして金属層の厚さを
高めるときにはまるで同一材質を溶融結合したのと同じ
結果となり、前記セラミック容器と金属層が加熱によっ
て膨張してもそれらが互いに剥離することがない。
【００１５】本発明の請求項３に開示されている誘導加
熱型セラミック調理容器は、多数個の孔を予めあけてお
いた金属容器の両側面に、セラミック層を積層して製作
されることを特徴とする。このようにすれば、金属容器
の強性は孔の面積の分だけ比較的に低くなり、これによ
り金属容器が加熱によって熱膨張しても、その膨張力に
対してセラミック層が十分に抵抗できるようになり、セ
ラミック層と金属容器の間に剥離現象が起こらなくな
る。
熱型セラミック調理容器は、多数個の孔を予めあけてお
いた金属容器の両側面に、セラミック層を積層して製作
されることを特徴とする。このようにすれば、金属容器
の強性は孔の面積の分だけ比較的に低くなり、これによ
り金属容器が加熱によって熱膨張しても、その膨張力に
対してセラミック層が十分に抵抗できるようになり、セ
ラミック層と金属容器の間に剥離現象が起こらなくな
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
関わる誘導加熱型セラミック調理容器とその製造方法に
ついて説明する。図１は本発明による第１実施例の誘導
加熱型セラミック調理容器の断面図である。第１実施例
のセラミック調理容器は鉄、アルミニウム、銅、ステン
レススチール、タングステンのような金属粒子（６）の
粉末(POWDER)に、ガラスや陶器、又はゲルマニウム鉱物
とセラミック粒子（５）を混合して、その混合物を一定
の鋳型(MOLD)で加熱プレスして製作する。このようにし
て製作した誘導加熱型セラミック調理容器は、その表面
と内部に殆ど均等に金属粒子（６）が分布するから、高
周波磁界が走査されると、表皮効果によって調理容器全
体が発熱するようになる。したがって、調理される飲食
物が完全に煮上がるための十分な熱を調理容器の全体表
面を通して提供できるから、飲食物が生煮えしたり焦げ
付くことがなくなる。それだけでなく、微小なサイズの
セラミック粒子（５）と金属粒子（６）が互いに隣接し
ているから、加熱により金属粒子（６）が膨張する時、
前記金属粒子の変形(ELONGATION)がセラミック粒子
（５）によって制限でき、まるで連続体(CONTINUUM)の
ように挙動するから粒子間の剥離が起きなくなる。
関わる誘導加熱型セラミック調理容器とその製造方法に
ついて説明する。図１は本発明による第１実施例の誘導
加熱型セラミック調理容器の断面図である。第１実施例
のセラミック調理容器は鉄、アルミニウム、銅、ステン
レススチール、タングステンのような金属粒子（６）の
粉末(POWDER)に、ガラスや陶器、又はゲルマニウム鉱物
とセラミック粒子（５）を混合して、その混合物を一定
の鋳型(MOLD)で加熱プレスして製作する。このようにし
て製作した誘導加熱型セラミック調理容器は、その表面
と内部に殆ど均等に金属粒子（６）が分布するから、高
周波磁界が走査されると、表皮効果によって調理容器全
体が発熱するようになる。したがって、調理される飲食
物が完全に煮上がるための十分な熱を調理容器の全体表
面を通して提供できるから、飲食物が生煮えしたり焦げ
付くことがなくなる。それだけでなく、微小なサイズの
セラミック粒子（５）と金属粒子（６）が互いに隣接し
ているから、加熱により金属粒子（６）が膨張する時、
前記金属粒子の変形(ELONGATION)がセラミック粒子
（５）によって制限でき、まるで連続体(CONTINUUM)の
ように挙動するから粒子間の剥離が起きなくなる。
【００１７】図２は本発明による誘導加熱型セラミック
調理容器の第２実施例の断面図である。第２実施例のセ
ラミック調理容器は、準備段階で予め作っておいたセラ
ミック容器（１）の外面に、所定の厚さで金属層（４）
をコーティングして構成されており、該金属層（４）の
厚さは調理容器の発熱量と耐久性、熱膨張による剥離現
象と直接関連しているので、その制御が必要である。
調理容器の第２実施例の断面図である。第２実施例のセ
ラミック調理容器は、準備段階で予め作っておいたセラ
ミック容器（１）の外面に、所定の厚さで金属層（４）
をコーティングして構成されており、該金属層（４）の
厚さは調理容器の発熱量と耐久性、熱膨張による剥離現
象と直接関連しているので、その制御が必要である。
【００１８】図３と図４は、それぞれ本発明による誘導
加熱型セラミック調理容器の第３実施例の断面図と、そ
の時に使用される金属容器の望ましい実施例を示した斜
視図である。前記図面から解るように、本発明の第３実
施例は、多数個の孔っをあいた金属容器（２）の両面に
セラミック層（３）を積層して構成する。このようにす
ると、金属容器（２）の表面にある孔を通して両面のセ
ラミック層（３）が互いに連結されているから容器の形
態安定性が高く、界面での密着度も高い。したがって、
調理容器の耐久性が向上する。また、金属容器の強性は
孔の面積の分だけ比例的に低くなり、これによって金属
容器が加熱により熱膨張しても、その膨張力に対してセ
ラミック層が十分抵抗できるようになり、セラミック層
と金属容器との間に剥離現象が起こらなくなる。
加熱型セラミック調理容器の第３実施例の断面図と、そ
の時に使用される金属容器の望ましい実施例を示した斜
視図である。前記図面から解るように、本発明の第３実
施例は、多数個の孔っをあいた金属容器（２）の両面に
セラミック層（３）を積層して構成する。このようにす
ると、金属容器（２）の表面にある孔を通して両面のセ
ラミック層（３）が互いに連結されているから容器の形
態安定性が高く、界面での密着度も高い。したがって、
調理容器の耐久性が向上する。また、金属容器の強性は
孔の面積の分だけ比例的に低くなり、これによって金属
容器が加熱により熱膨張しても、その膨張力に対してセ
ラミック層が十分抵抗できるようになり、セラミック層
と金属容器との間に剥離現象が起こらなくなる。
【００１９】図５は前記第２実施例の誘導加熱型セラミ
ック調理容器をスパッタリング又はイオンプレーティン
グ法によって製造する場合においての、その製造工程を
示したブロックダイアグラムである。製造工程は次のと
おりである。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄（ACID CLEANING)を実
施する。３段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。
ック調理容器をスパッタリング又はイオンプレーティン
グ法によって製造する場合においての、その製造工程を
示したブロックダイアグラムである。製造工程は次のと
おりである。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄（ACID CLEANING)を実
施する。３段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。
【００２０】４段階：スパッタリング工程（２１）又は
イオンプレーティング工程（２１Ａ） セラミック容器（１）の外面に均一な厚さで金属層
（４）を形成する。前記金属層（４）の厚さは使用する
金属の種類によって変わり、製品の特性上0.5ｍｍ〜3.0
0ｍｍの範囲に制限する方が望ましい。一方、この作業
は一ヶ所で一回の作業で実施を完了でき、必要な場合に
は幾つもの段階に分けて漸次金属層（４）のコーティン
グの厚さを増やすことができる。これらの工程選択によ
って確定する。５段階：冷却工程（２３） 製品の温度を常温まで下げて、金属層（４）の結晶組織
を調節する。前記金属層（４）の結晶組織の形態は製品
の耐久性及び耐蝕性と関連があり、電気効率に影響を与
える。
イオンプレーティング工程（２１Ａ） セラミック容器（１）の外面に均一な厚さで金属層
（４）を形成する。前記金属層（４）の厚さは使用する
金属の種類によって変わり、製品の特性上0.5ｍｍ〜3.0
0ｍｍの範囲に制限する方が望ましい。一方、この作業
は一ヶ所で一回の作業で実施を完了でき、必要な場合に
は幾つもの段階に分けて漸次金属層（４）のコーティン
グの厚さを増やすことができる。これらの工程選択によ
って確定する。５段階：冷却工程（２３） 製品の温度を常温まで下げて、金属層（４）の結晶組織
を調節する。前記金属層（４）の結晶組織の形態は製品
の耐久性及び耐蝕性と関連があり、電気効率に影響を与
える。
【００２１】一方、図６は本発明の誘導加熱型のセラミ
ック調理容器を溶射法によって製作する時の作業工程で
あり、次の作業順序からなる。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：ショットピニング（ｓｈｏｔ ｐｅｅｎｉｎ
ｇ）工程（１８） セラミック容器（１）の外表面を鋼球で打って微細な凹
凸を形成する。この工程は溶射される溶融金属とセラミ
ック容器（１）間の密着力に関係がある。３段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄（ACID CLEANING)を実
施する。
ック調理容器を溶射法によって製作する時の作業工程で
あり、次の作業順序からなる。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：ショットピニング（ｓｈｏｔ ｐｅｅｎｉｎ
ｇ）工程（１８） セラミック容器（１）の外表面を鋼球で打って微細な凹
凸を形成する。この工程は溶射される溶融金属とセラミ
ック容器（１）間の密着力に関係がある。３段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄（ACID CLEANING)を実
施する。
【００２２】４段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。５段階：溶射工程（２２） セラミック容器（１）の外面に高温の溶融金属を均一に
噴射して、金属層（４）を均一な厚さになるように形成
する。前記金属層（４）の厚さは金属の種類によって変
わり、製品の特性上0.5ｍｍ〜3.00ｍｍの範囲に制限す
る方が望ましい。一方、前記溶射工程は約0.5ｍｍの厚
さの単位毎に作業回数を分け、その過程を所定の厚さに
至るまで漸次繰り返し実施することもできる。６段階：冷却工程（２３） 製品の温度を常温まで下げて、金属層（４）の結晶組織
を調節する。
噴射して、金属層（４）を均一な厚さになるように形成
する。前記金属層（４）の厚さは金属の種類によって変
わり、製品の特性上0.5ｍｍ〜3.00ｍｍの範囲に制限す
る方が望ましい。一方、前記溶射工程は約0.5ｍｍの厚
さの単位毎に作業回数を分け、その過程を所定の厚さに
至るまで漸次繰り返し実施することもできる。６段階：冷却工程（２３） 製品の温度を常温まで下げて、金属層（４）の結晶組織
を調節する。
【００２３】前記金属層（４）の結晶組織の形態は製品
の耐久性及び耐蝕性と関連があり、電気効率にかなりの
影響を与える。通常互いに性質の違う２つの材料を接合
（密着）させる方法には、機械的な接合方法と物理的な
接合方法、そして化学的な接合方法がある。ところで、
本発明の第２実施例の場合には、セラミック容器（１）
が絶縁体であるから電気エネルギーの供給を必要とする
化学的接合方法は採択できない。
の耐久性及び耐蝕性と関連があり、電気効率にかなりの
影響を与える。通常互いに性質の違う２つの材料を接合
（密着）させる方法には、機械的な接合方法と物理的な
接合方法、そして化学的な接合方法がある。ところで、
本発明の第２実施例の場合には、セラミック容器（１）
が絶縁体であるから電気エネルギーの供給を必要とする
化学的接合方法は採択できない。
【００２４】そこで本発明では、物理的な接合方法（物
理的真空蒸着方法）によって、セラミック容器（１）の
表面に金属層（１）をコーティングする（表１参照）。
理的真空蒸着方法）によって、セラミック容器（１）の
表面に金属層（１）をコーティングする（表１参照）。
【表１】
【００２５】図７は本発明による誘導加熱型セラミック
調理容器をディッピング法又はスプレー法によって製作
する時の作業工程図であり、その順序は次のとおりであ
る。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：ショットピニング（ｓｈｏｔ ｐｅｅｎｉｎ
ｇ）工程（１８） セラミック容器（１）の外表面を鋼球で打って微細な凹
凸を形成する。この工程はセラミック容器（１）とこの
セラミック容器（１）の外面に塗布するセラミック−金
属混合液の間の密着力に関係がある。３段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄(ACID CLEANING)を実施
する。
調理容器をディッピング法又はスプレー法によって製作
する時の作業工程図であり、その順序は次のとおりであ
る。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：ショットピニング（ｓｈｏｔ ｐｅｅｎｉｎ
ｇ）工程（１８） セラミック容器（１）の外表面を鋼球で打って微細な凹
凸を形成する。この工程はセラミック容器（１）とこの
セラミック容器（１）の外面に塗布するセラミック−金
属混合液の間の密着力に関係がある。３段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄(ACID CLEANING)を実施
する。
【００２６】４段階：ディッピング工程（１９Ａ）又は
スプレー工程（１９Ｂ） セラミック容器（１）の外面にセラミック−金属混合液
を均一な厚さに塗布する工程であり、前記工程は選択に
より確定され、積層（コーティング）は１回乃至数回に
わたり望む厚さになるまで実施する。５段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。６段階：手入れ工程（２７） セラミック容器（１）の品質を検査し、均一でない表面
を研磨する。７段階：熱処理工程（２８） セラミック容器（１）に熱を加えて、金属層（４）を固
定する。
スプレー工程（１９Ｂ） セラミック容器（１）の外面にセラミック−金属混合液
を均一な厚さに塗布する工程であり、前記工程は選択に
より確定され、積層（コーティング）は１回乃至数回に
わたり望む厚さになるまで実施する。５段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。６段階：手入れ工程（２７） セラミック容器（１）の品質を検査し、均一でない表面
を研磨する。７段階：熱処理工程（２８） セラミック容器（１）に熱を加えて、金属層（４）を固
定する。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の第１実施
例による誘導加熱型セラミック調理容器は、セラミック
粒子（５）と金属粒子（６）とを所定の鋳型(MOLD)で加
熱プレスして調理容器に成型したものだから、誘導加熱
できることは勿論、従来の加熱手段（７）でも加熱でき
る長所を有し、特にセラミック粒子（５）から放射され
る遠赤外線によって飲食物の味が良くなる効果がある。
また、金属粒子（６）が調理容器の内外面の全体に均等
に分布するので、高周波磁界が走査されると、調理容器
の全体に表皮効果が起こり、調理に十分な熱が発生す
る。
例による誘導加熱型セラミック調理容器は、セラミック
粒子（５）と金属粒子（６）とを所定の鋳型(MOLD)で加
熱プレスして調理容器に成型したものだから、誘導加熱
できることは勿論、従来の加熱手段（７）でも加熱でき
る長所を有し、特にセラミック粒子（５）から放射され
る遠赤外線によって飲食物の味が良くなる効果がある。
また、金属粒子（６）が調理容器の内外面の全体に均等
に分布するので、高周波磁界が走査されると、調理容器
の全体に表皮効果が起こり、調理に十分な熱が発生す
る。
【００２８】それだけでなく、微小サイズのセラミック
粒子（５）と金属粒子（６）が互いに隣接しているの
で、加熱により金属粒子が膨張する時に、前記金属粒子
（６）の変形(ELONGATION)がセラミック粒子（５）によ
って制限でき、このような効果がなくても、異質的な２
つの材料がまるで連俗体(CONTINUUM)でもあるかのよう
に行動するので材料の間に剥離が起こらなくなる。
粒子（５）と金属粒子（６）が互いに隣接しているの
で、加熱により金属粒子が膨張する時に、前記金属粒子
（６）の変形(ELONGATION)がセラミック粒子（５）によ
って制限でき、このような効果がなくても、異質的な２
つの材料がまるで連俗体(CONTINUUM)でもあるかのよう
に行動するので材料の間に剥離が起こらなくなる。
【００２９】本発明の第２実施例による誘導加熱型セラ
ミック調理容器は、セラミック容器（１）の外面に最初
にコーティングする金属層が分子結合に近い密着力で接
着し、以後漸進的に金属粒子をコーティングして金属層
の厚さを高めていくとまるで同一材質を溶融結合した時
と同じ結果となり、前記セラミック容器（１）と金属層
（４）が加熱によって膨張してもそれらが互いに剥離す
ることがなくなる。また、容器の内面が滑らかで洗いや
すく、飲食物と触れる部分がセラミック材質だから金属
粉を口にする心配がないという長所を有し、外観が優れ
ている。
ミック調理容器は、セラミック容器（１）の外面に最初
にコーティングする金属層が分子結合に近い密着力で接
着し、以後漸進的に金属粒子をコーティングして金属層
の厚さを高めていくとまるで同一材質を溶融結合した時
と同じ結果となり、前記セラミック容器（１）と金属層
（４）が加熱によって膨張してもそれらが互いに剥離す
ることがなくなる。また、容器の内面が滑らかで洗いや
すく、飲食物と触れる部分がセラミック材質だから金属
粉を口にする心配がないという長所を有し、外観が優れ
ている。
【００３０】本発明の第３実施例による誘導加熱型セラ
ミック調理容器は、金属容器（２）の内外側両面にセラ
ミック層（３）が積層されているから、誘導加熱するこ
ともできることは勿論、従来の加熱手段（７）を利用し
て直接加熱できる長所を有し、特にセラミック層（３）
から遠赤外線が放射され飲食物の味が良くなる長所を有
する。しかも、金属容器（２）の強性が孔の面積の分だ
け比例的に低くなり、これにより金属容器（２）が加熱
によって熱膨張しても、その膨張力に対してセラミック
層（３）が十分抵抗でき、セラミック層（３）と金属容
器（２）の間に剥離現象が起こらなくなる。
ミック調理容器は、金属容器（２）の内外側両面にセラ
ミック層（３）が積層されているから、誘導加熱するこ
ともできることは勿論、従来の加熱手段（７）を利用し
て直接加熱できる長所を有し、特にセラミック層（３）
から遠赤外線が放射され飲食物の味が良くなる長所を有
する。しかも、金属容器（２）の強性が孔の面積の分だ
け比例的に低くなり、これにより金属容器（２）が加熱
によって熱膨張しても、その膨張力に対してセラミック
層（３）が十分抵抗でき、セラミック層（３）と金属容
器（２）の間に剥離現象が起こらなくなる。
【図１】本発明による誘導加熱型セラミック調理容器の
第１実施例の断面図である。
第１実施例の断面図である。
【図２】本発明による誘導加熱型セラミック調理容器の
第２実施例の断面図である。
第２実施例の断面図である。
【図３】本発明による誘導加熱型セラミック調理容器の
第３実施例の断面図である。
第３実施例の断面図である。
【図４】前記図３に示した金属容器の一例を示した図面
である。
である。
【図５】本発明による誘導加熱型セラミック調理容器の
製造過程を示したブロックダイアグラムである。
製造過程を示したブロックダイアグラムである。
【図６】本発明による誘導加熱型セラミック調理容器の
他の製造工程を示したブロックダイアグラムである。
他の製造工程を示したブロックダイアグラムである。
【図７】本発明による誘導加熱型セラミック調理容器の
また他の製造過程を示したブロックダイアグラムであ
る。
また他の製造過程を示したブロックダイアグラムであ
る。
【図８】誘導加熱型の電気圧力釜の加熱過程を説明する
ための断面図である。
ための断面図である。
【図９】従来の陶器を使用する状態においての断面図で
ある。
ある。
【図１０】従来の例に属する耐火調理容器の断面図であ
る。
る。
【図１１】前記図１０（イ）に図示した耐火調理容器の
製作過程を示す図である。
製作過程を示す図である。
１ セラミック容器(CERAMIC BOWL) ２ 金属容器(METALLC BOWL) ３ セラミック層(CERAMIC LAYER) ４ 金属層(METALLIC LAYER) ５ セラミック粒子(CERAMIC PARTICLE) ６ 金属粒子(METAL PARTICLE) ７ 加熱手段(HEATING MEANS) １７ 準備工程(PREPARING STAGE) １８ ショットピニング工程(SHOT PEENING STAGE) １９ 表面洗浄工程(SURFACE CLEANING STAGE) １９Ａ ディッピング工程(DIPPING STAGE) １９Ｂ スプレー工程(SPRAY STAGE) ２０ 乾燥工程(DRYING STAGE) ２１ スパッタリング工程(SPUTTERING STAGE) ２１Ａ イオンプレーティング工程(ION PLATING STA
GE) ２２ 溶射工程(METALLIZING STAGE) ２３ 冷却工程(COOLING STAGE) ２７ 手入れ工程(TRIMMING STAGE) ２８ 熱処理工程(HEAT TREATMENT STAGE)
GE) ２２ 溶射工程(METALLIZING STAGE) ２３ 冷却工程(COOLING STAGE) ２７ 手入れ工程(TRIMMING STAGE) ２８ 熱処理工程(HEAT TREATMENT STAGE)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 Ｐ１０９００／１９９９ (32)優先日 平成11年３月30日(1999．3．30) (33)優先権主張国 韓国（ＫＲ） Ｆターム(参考） 3K051 AB04 AC42 AC54 AD34 CD43 CD44 4B055 AA09 BA14 BA25 BA57 BA61 BA80 CA01 CB03 CB07 CB27 DA01 DB14 FA01 FA03 FB01 FB23 FD03 FE01 FE10 4G055 AA08 AC09 BA29 BA32 FA07
Claims (6)
- 【請求項１】 金属粒子（６）とセラミック粒子（５）
を混合した混合粉末で製作することを特徴とする誘導加
熱型セラミック調理容器。 - 【請求項２】 セラミック容器（１）の外面に、所定の
厚さに金属層（４）をコーティングして構成することを
特徴とする誘導加熱型セラミック調理容器。 - 【請求項３】 多数個の孔をあけた金属容器（２）の内
外面にセラミック層（３）が一体に接合していることを
特徴とする誘導加熱型セラミック調理容器。 - 【請求項４】 請求項２記載の誘導加熱型セラミック調
理容器を下記の工程を通して製作することを特徴とする
誘導加熱型セラミック調理容器の製造方法。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄(ACID CLEANING)を実施
する。３段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。４段階：スパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）工程
（２１）又はイオンプレーティング（ｉｏｎ ｐｌａｔ
ｉｎｇ）工程（２１Ａ） セラミック容器（１）の外面に均一な厚さに金属層
（４）を形成する。５段階：冷却工程（２３） 製品の温度を常温まで下げて、金属層（４）の結晶組織
を調節する。 - 【請求項５】 請求項２記載の誘導加熱型セラミック調
理容器を下記の工程を通して製作することを特徴とする
誘導加熱型セラミック調理容器の製造方法。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：ショットピニング（ｓｈｏｔ ｐｅｅｎｉｎ
ｇ）工程（１８） セラミック容器（１）の外表面を鋼球で打って微細な凹
凸を形成する。３段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄（ACID CLEANING)を実施
する。４段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。５段階：溶射工程（２２） セラミック容器（１）の外面に高温の溶融金属を均一に
噴射して、金属層（４）が均一の厚さになるように形成
する。６段階：冷却工程（２３） 製品の温度を常温まで低下させて、金属層（４）の結晶
組織を調節する。 - 【請求項６】 請求項２記載の誘導加熱型セラミック調
理容器を下記の工程を通して製作することを特徴とする
誘導加熱型セラミック調理容器の製造方法。１段階：準備工程（１７） 望む形状と大きさのセラミック容器（１）を製作する。２段階：ショットピニング（ｓｈｏｔ ｐｅｅｎｉｎ
ｇ）工程（１８） セラミック容器（１）の外表面を鋼球で打って微細な凹
凸を形成する。３段階：表面洗浄工程（１９） セラミック容器（１）の外表面に付いていた埃と汚物を
落とす。必要な場合には酸洗浄(ACID CLEANING)を実施
する。４段階：ディッピング（ｄｉｐｐｉｎｇ）工程（１９
Ａ）又はスプレー（ｓｐｒａｙ）工程（１９Ｂ） セラミック容器（１）の外面にセラミック−金属混合液
を均一な厚さに塗布し、 前記積層（コーティング）を
１回乃至数回にわたり望む厚さになるまで実施する。５段階：乾燥工程（２０） セラミック容器（１）の外表面を乾燥させる。６段階：手入れ工程（２７） セラミック容器（１）の品質を検査し、均一でない表面
を研磨する。７段階：熱処理工程（２８） コーティングされたセラミック容器（１）に熱を加え
て、金属層（４）を固定させる。
Applications Claiming Priority (8)
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|---|---|---|---|
| KR20-1999-0003589U KR200300250Y1 (ko) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 세라믹 조리용기 |
| KR3589/1999 | 1999-03-08 | ||
| KR1019990009150A KR20000060651A (ko) | 1999-03-18 | 1999-03-18 | 세라믹 조리용기 및 그 제조방법 |
| KR9150/1999 | 1999-03-18 | ||
| KR4620/1999 | 1999-03-23 | ||
| KR2019990004620U KR20000018564U (ko) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | 세라믹 조리용기 |
| KR1019990010900A KR20000061679A (ko) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 세라믹 조리용기의 제조방법 |
| KR10900/1999 | 1999-03-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000253991A true JP2000253991A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=27483339
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27366499A Pending JP2000253991A (ja) | 1999-03-08 | 1999-09-28 | 誘導加熱型のセラミック調理容器とその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1037509A3 (ja) |
| JP (1) | JP2000253991A (ja) |
| CN (1) | CN1265866A (ja) |
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| JP2017169561A (ja) * | 2016-03-21 | 2017-09-28 | 深▲せん▼市合元科技有限公司Ｓｈｅｎｚｈｅｎ Ｆｉｒｓｔ Ｕｎｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ | 煙油加熱組立体及び該煙油加熱組立体を備える電子タバコと霧化装置 |
| WO2024001527A1 (zh) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 九阳股份有限公司 | 一种烹饪器具及其内胆 |
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-
1999
- 1999-07-26 EP EP99305893A patent/EP1037509A3/en not_active Withdrawn
- 1999-09-15 CN CN 99118856 patent/CN1265866A/zh active Pending
- 1999-09-28 JP JP27366499A patent/JP2000253991A/ja active Pending
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Also Published As
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|---|---|
| CN1265866A (zh) | 2000-09-13 |
| EP1037509A3 (en) | 2002-05-15 |
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