JP2000258626A

JP2000258626A - プラズマディスプレイ用フィルター

Info

Publication number: JP2000258626A
Application number: JP6112599A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Kawazoe; 寧河添; Tomomi Nakano; 智美中野
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1999-03-09
Filing date: 1999-03-09
Publication date: 2000-09-22

Abstract

(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイの前面に設け、プラズ
マディスプレイから発生する電磁波や近赤外線をカット
するフィルターであって、製造工程の簡便化に大変効果
的なフィルターを提供する。【解決手段】プラズマディスプレイパネルの前面に貼
付して用いるフィルターであって、透明樹脂基材に近赤
外吸収層及び電磁波シールド層を設けた構造を有し、そ
の表面に粘着剤層を設けたことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ用フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ用フィルターに関する。詳しくは、プラズマディスプ
レイの前面に設け、プラズマディスプレイから発生する
電磁波や近赤外線をカットするフィルターであって、製
造工程の簡便化に大変効果的なフィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、画像表示装置としてプラズマディ
スプレイの開発が急速に行われている。しかし、このプ
ラズマディスプレイはその構造上、電磁波や近赤外線が
放出されるためこれらを遮断する必要が生じている。こ
のため、各種の電磁波や近赤外線を遮断するフィルター
層が開発されているが、プラズマディスプレイ画面は通
常大きいものが多く、この表面に各種のフィルター層を
何層も形成することは工程上煩雑でコストも掛かる。こ
のため、フィルターをプラズマディスプレイとは別の積
層体として作成し、後でプラズマディスプレイの前に吊
り下げる様な後置き型のフィルターが考えられている。
この後置き型のフィルターは製造工程がプラズマディス
プレイとは別工程で行われるので、工程上の煩雑さは緩
和されるが、フィルター自体に自立強度を持たせなけれ
ばならないので厚さを厚くせざるを得ず、プラズマディ
スプレイ装置全体が厚くなり重量も増すので、薄型、軽
量のディスプレイの開発目標から望ましいとはいえない
し、コストの問題も残る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、プラ
ズマディスプレイの製造工程途中、またはプラズマディ
スプレイの製造後にプラズマディスプレイの表面に簡便
に取り付け可能なフィルターを提供し、プラズマディス
プレイの薄肉化、軽量化等を解決するフィルターを提供
することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、プラズ
マディスプレイパネルの前面に貼付して用いるフィルタ
ーであって、透明樹脂基材に近赤外吸収層及び電磁波シ
ールド層を設けた構造を有し、その表面に粘着剤層を設
けたことを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルタ
ーに存する。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明につき詳細に説明す
る。（１）透明樹脂基材本発明の透明積層体を構成する透明樹脂基材の材料であ
る透明樹脂は、実質的に透明であって、光の吸収、散乱
が大きくない樹脂であれば良く、特に制限はないが、そ
の具体的なものとしては、ポリエステル系樹脂、ポリカ
ーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系
樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル等を使用することができる。

【０００６】（ａ）ポリエステル系樹脂ポリエステル系樹脂は、ジカルボン酸成分とグリコール
成分との縮重合反応等により製造されるものである。ジ
カルボン酸成分としては、テレフタル酸、アジピン酸、
マレイン酸等、グリコール成分としては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオー
ル等が挙げられる。好ましいポリエステル系樹脂は、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト等である。強度、透明性からこのポリエステル系樹脂
を透明樹脂基材として用いることは大変望ましいが、必
要物性等により、他の樹脂が好適に用いられる場合もあ
る。

【０００７】（ｂ）ポリカーボネート系樹脂ポリカーボネート系樹脂は、２価フェノールとカーボネ
ート前駆体とを溶液法または溶融法で反応させて製造さ
れるものである。２価フェノールの例としては、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［ビスフェ
ノールＡ］、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−
ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等が挙げられる。
好ましい２価フェノールとしてはビス（４−ヒドロキシ
フェニル）アルカン系、特にビスフェノールを主成分と
するものが挙げられる。また、カーボネート前駆体とし
てはホスゲン、ジフェニルカーボネート等が挙げられ
る。

【０００８】（ｃ）ポリ（メタ）アクリル酸エステル系
樹脂ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂としては、ポリ
アクリル酸エステル系樹脂、及びポリメタクリル酸エス
テル系樹脂が挙げられる。代表的なポリメタクリル酸エ
ステル系樹脂は、メタクリル酸メチルの単独重合体また
はメタクリル酸メチルを５０％以上含む重合性不飽和単
量体混合物の共重合体である。メタクリル酸メチルと共
重合可能な重合性不飽和単量体としては、例えばアクリ
ル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル（アクリル酸エ
チルまたはメタクリル酸エチルの意味。以下同じ）、
（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸シクロ
ヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、
（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル
酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキ
シエチル、（メタ）アクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノエチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）ア
クリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸テト
ラヒドロフルフリル、エチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げら
れる。

【０００９】（ｄ）環状オレフィン系樹脂環状オレフィン系樹脂としては、シクロブテン類、シク
ロペンテン類、シクロヘキセン類等の単環式環状オレフ
ィン及びノルボルネン類、トリシクロ−３−デセン類等
の多環式環状オレフィンから選ばれる環状オレフィンの
ビニレン重合による単独重合体、複数種の環状オレフィ
ンのビニレン重合による共重合体、或いは、これら環状
オレフィンとエチレンとの共重合体等が挙げられる。

【００１０】上記環状オレフィンの例としては、シクロ
ブテン、シクロペンテン、４−メチルシクロペンテン等
のシクロペンテン類、シクロヘキセン、３−メチルシク
ロヘキセン、３−ビニルシクロヘキセン等のシクロヘキ
セン類等の単環式環状オレフィン、ノルボルネン、１−
メチルノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネ
ン、メチレンノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボル
ネン、５−メチレン−２−ノルボルネン等のノルボルネ
ン類、トリシクロ［４．３．０．１２，５］−３−デ
セン、２−メチルトリシクロ［４．３．０．１２，５
］−３−デセン等のトリシクロ−３−デセン類、ジシ
クロペンタジエン（トリシクロ［４．３．０．１２，５
］−３，７−デカジエン又はトリシクロ［４．３．
０．１２，５］−３，８−デカジエン）、７−メチルジ
シクロペンタジエン等のジシクロペンタジエン類、テト
ラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−
ドデセン、８−メチルテトラシクロ［４．４．０．１
２，５．１７，１０］−３−ドデセン、５，１０−ジメ
チルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１
０］−３−ドデセン等のテトラシクロ−３−ドデセン
類、ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，
７．０９，１３］−４−ペンタデセン、１０−メチルペ
ンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，
１３］−４−ペンタデセン、ペンタシクロ［４．７．
０．１２，５．０８，１３．１９，１２］−３−ペンタ
デセン等のペンタシクロペンタデセン類、ペンタシクロ
［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］−
４，１０−ペンタデカジエン、ペンタシクロ［６．５．
１．１３，６．０２，７．０９，１３］−４，１１−ペ
ンタデカジエン等のペンタシクロペンタデカジエン類、
ヘキサシクロ［６．６．１．１３，６．１１０，１３．
０２，７．０９，１４］−４−ヘプタデセン等のヘキサ
シクロヘプタデセン類等の多環式環状オレフィンを挙げ
ることができる。

【００１１】上記透明樹脂には、一般に知られた添加
剤、例えばフェノール系、リン系などの酸化防止剤、ハ
ロゲン系、リン酸系などの難燃剤、耐熱老化防止剤、紫
外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができ
る。また上記透明樹脂は、射出成形、Ｔダイ成形、カレ
ンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させ
てキャスティングする方法などを用いて、フィルム、ま
たはシート（板）に成形され、本発明における透明樹脂
基材として使用される。この際、透明樹脂基材の表面に
は、公知の表面処理、例えばコロナ処理、プラズマ処
理、火炎処理、化学薬品処理、ブライマー層塗布などを
施しても良い。透明樹脂基材の厚みは、目的により異な
るが、１０μｍ〜５ｍｍが望ましく、好ましくは３０μ
ｍ〜３ｍｍ、より好ましくは５０μｍ〜５００μｍの範
囲である。この程度の厚みであればフィルムとしての取
扱いが容易である。

【００１２】（２）近赤外線吸収（カット）層本発明の透明積層体を構成する近赤外線吸収層は、波長
領域８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が１５％以
下、好ましくは１０％以下であることが望ましい。この
近赤外線カット層は、近赤外線吸収剤を透明樹脂に配合
するか（上記した透明樹脂基材に直接配合もしくは他の
層として形成）、あるいは有機溶剤に分散、あるいは溶
解させてバインダー樹脂を添加した塗工液、あるいは近
赤外線吸収剤をハードコート剤、アンカーコート剤、接
着剤等に添加した塗工液を、透明樹脂基材に直接、また
は他の層を介して塗布することにより、形成することが
できる。近赤外線吸収剤としてイモニウム系化合物、ジ
イモニウム系化合物又はアミニウム塩系化合物が好適に
使用される。イモニウム系化合物、及びジイモニウム系
化合物としては、例えば下記式（１）〜（４）で表され
る化合物が挙げられる。

【００１３】

【化１】

【００１４】

【化２】

【００１５】

【化３】

【００１６】

【化４】

【００１７】また、上記アミニウム塩系化合物として
は、例えば下記式（５）で表される化合物が挙げられ
る。式中のＸの具体例としては、六フッ化アンチモン酸
イオン、過塩素酸イオン、フッ化ホウ素酸イオン、六フ
ッ化砒素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、トリフルオロ酢
酸イオン、塩素イオンが挙げられる。

【００１８】

【化５】

【００１９】本発明においては近赤外線吸収剤として、
イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物又はアミニ
ウム塩系化合物が好適に使用されるが、他の近赤外線吸
収剤を用いても又併用してもよい。他の近赤外線吸収剤
としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属
錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チ
オールニッケル錯塩系化合物、アミノチオ−ルニッケル
錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシア
ニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフトキ
ノン系化合物、アントラキノン系化合物、またはアミノ
化合物、あるいは無機物質であるカーボンブラックや、
酸化アンチモン、または酸化インジウムをドープした酸
化錫、周期表の４、５または６族に属する金属の酸化
物、若しくは炭化物、またはホウ化物等が挙げられる。

【００２０】この場合、波長領域８００〜１１００ｎｍ
の近赤外線透過率が１５％以下となるように上記化合物
を適宜組み合わせて使用することができる。特に、透明
性と近赤外線吸収性能の点から、ジイモニウム系化合物
とフタロシアニン系化合物又はジイモニウム系化合物と
アミノチオ−ルニッケル錯塩系化合物の組み合わせが好
ましい。フタロシアニン系化合物としては、下記一般式
（６）の骨格を有する化合物が挙げられる。

【００２１】式中のＲ₁〜Ｒ₁₆は、互いに同一または異
なる原子、あるいは互いに同一又は異なる官能基で、具
体的には、水素原子、フッ素原子、アルコキシ基、フェ
ノキシ基、チオアルキル基、チオフェニル基、アミノア
ルキル基、アミノフェニル基から選ばれた少なくとも１
種である。好ましくは、フッ素原子又はアミノフェニル
基である。また式中のＭとしては、銅、亜鉛、コバル
ト、ニッケル、鉄、バナジル、チタニル、クロロインジ
ウム、クロロアルミニウム、ジクロロ錫、コバルトカル
ボニル、鉄カルボニルから選ばれた少なくとも１種が挙
げられる。

【００２２】

【化６】

【００２３】アミノチオ−ルニッケル錯塩系化合物とし
ては、下記一般式（７）の骨格を有する化合物が挙げら
れる。式中のＲ₁〜Ｒ₈は、互いに同一または異なる原
子、あるいは互いに同一又は異なる官能基で、具体的に
は、水素原子、アルキル基、アリ−ル基、アラルキル
基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ
基、置換アミノ基又はシアノ基から選ばれた少なくとも
１種である。好ましくは、水素原子又はアミノ基であ
る。

【００２４】

【化７】

【００２５】近赤外線吸収剤を透明樹脂に配合すること
により近赤外線カット層を形成する場合に使用される透
明樹脂としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が
大きくない樹脂であればよく、特に制限はないが、具体
的には、上述したポリカーボネート系樹脂、ポリ（メ
タ）アクリル酸エステル系樹脂、環状オレフィン系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル等を挙げることができる。これらの
透明樹脂には、公知の添加剤、例えばフェノール系、リ
ン系などの酸化防止剤、ハロゲン剤、リン酸系などの難
燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止
剤等を配合することができる。

【００２６】上記透明樹脂には、前記近赤外線吸収剤を
配合して、射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧
縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティン
グする方法などを用いて、フィルム状あるいはシート状
に成形し、近赤外線カット層とする。その厚みとして
は、１０μｍ〜１ｍｍが好ましい。近赤外線吸収剤の配
合量は、樹脂１００重量部に対し、通常は、合計０．０
０５〜８重量部、好ましくは０．０１〜５重量部であ
る。上記近赤外線吸収剤の配合量が少なすぎると、可視
光線の透過性は良くなるが、近赤外線吸収能は低下す
る。

【００２７】一方、配合量が多すぎると近赤外線吸収能
は良好となるが、可視光線透過率は低下する。また近赤
外線カット層は、有機溶剤に分散、あるいは溶解させて
バインダー樹脂を添加した塗工液、あるいは近赤外線吸
収剤をハードコート剤、アンカーコート剤、粘着剤等に
添加した塗工液を、積層順序に応じて透明樹脂基板、電
磁波シールド層、傷付き防止層、あるいは反射防止層の
いずれかの上に塗工することにより形成することもでき
る。上記有機溶剤としては、ハロゲン系、アルコール
系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族
炭化水素系、エーテル系溶剤、またはそれらの混合溶剤
等を用いる。

【００２８】上記バインダーとしては、エステル系樹
脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポ
リビニル系樹脂等を用いることができる。上記ハードコ
ート剤としては、ポリウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレートなどのアクリレートあるいは多官能アクリ
レート、光重合開始剤、及び有機溶剤を主成分とするも
のを使用することができる。これらのハードコート剤１
００重量部に対し、上記近赤外線吸収剤を通常、１〜４
０重量部、好ましくは２〜１５重量部添加し、これをデ
ィッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコー
ト法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコ
ート法及びエアーナイフコート法等の塗工方法で塗工す
る。その後、溶剤を乾燥し、キセノンランプ、低圧水銀
灯、高圧水銀灯等を用いて活性エネルギー線を照射する
ことにより塗工液を硬化させ、近赤外線カット層とす
る。この際の近赤外線カット層の厚みは、通常、０．５
〜５０μｍ、好ましくは１〜２０μｍである。

【００２９】上記アンカーコート剤としては、イソシア
ネート系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエチ
レンイミン系、ポリブタジエン系、アルキルチタネート
系等の公知のアンカーコート剤が使用できる。好ましく
は、イソシアネート化合物、ポリウレタン、ウレタンプ
レポリマー、または、それらの混合物および反応生成
物、ポリエステルポリオールまたはポリエーテルポリオ
ールとイソシアネートとの混合物である。これらのアン
カーコート剤１００重量部に対し、上記近赤外線吸収剤
を通常、１〜５０重量部添加し、これをディッピング
法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラ
ビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法及び
エアーナイフコート法等の塗工方法で塗工し、その後溶
剤を乾燥させ、近赤外線カット層とする。この際の塗工
液の塗工量は、通常、０．０１〜５ｇ／ｍ²（乾燥固形
分）、好ましくは０．１〜３ｇ／ｍ²（乾燥固形分）で
ある。

【００３０】上記粘着剤としては、スチレンブタジエン
ラバ−、ポリイソブチレン、天然ゴム、ネオプレン、ブ
チルゴム等のゴム類やポリアクリル酸アルキルエステル
等の低重合度ポリマ−単独もしくはこれらに粘着付与剤
としてピッコライト、ポリペ−ル、ロジンエステル等を
添加したものがある。これらの粘着剤１００重量部に対
し、上記近赤外線吸収剤を通常、０．０５〜５重量部、
好ましくは０．１〜３重量部添加したものを、ハロゲン
系、アルコ−ル系、ケトン系、エステル系、エ−テル
系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系等の有機溶剤
を単独又は複数混合した溶剤系に分散又は溶解して粘度
を調整したものを、ディッピング法、フロ−コ−ト法、
スプレ−法、バ−コ−ト法、グラビアコ−ト法、ロ−ル
コ−ト法、ブレ−ドコ−ト法及びエア−ナイフコ−ト法
等の塗工方法で塗工し、その後溶剤を乾燥させ、近赤外
線カット層とする。この際の近赤外線カット層の厚み
は、通常、５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍ
である。

【００３１】（２）電磁波シールド層本発明のプラズマディスプレイ用フィルターを構成する
電磁波シールド層としては、金属、あるいは金属酸化物
等で可視光線を透過しうる透明導電膜若しくは導電性材
料からなるメッシュを用いる。上記透明導電膜は、電磁
波シールド層を形成する金属、あるいは金属酸化物、好
ましくは、銀、酸化スズ、酸化インジウムド−プ酸化ス
ズ（以下「ＩＴＯ」という。）、アンチモンド−プ酸化
スズ（以下「ＡＴＯ」という。）を真空蒸着法、イオン
プレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラ
ズマ化学蒸着法等の方法により透明樹脂基材上に直接又
は間接的に形成することができる。また、金属ペースト
（金属微粒子を透明バインダ−に分散させたもの）を透
明基材上にコーティングすることにより形成することも
できる。透明導電膜を用いる場合の電磁波シールド層の
膜厚は、要求される物性、用途などにより異なるが、透
明性の観点から２０〜３００ｎｍの範囲とするのが好ま
しい。

【００３２】上記導電性材料からなるメッシュには、ポ
リエステル等の繊維で織ったメッシュに金属、好ましく
は、銅、黒色金属、カーボンブラック等の導電物質をコ
−ティングしたものを用いることが出来る。その際の繊
維径は５〜１００μｍ、好ましくは２０〜６０μｍであ
る。また、ポリエステル等のフィルムに接着剤で金属
箔、好ましくは、銅箔を貼り付けた後、フォトレジスト
塗布〜露光〜現像〜ウェットエッチングといったフォト
エッチング法でメッシュ状にパタ−ニングしたものを使
用することもできる。その際のパタ−ン幅｛メッシュを
構成する線の幅（太さ）｝は、１０〜５０μｍ、好まし
くは１５〜３０μｍである。なお、光線透過率を確保す
るために導電性材料からなるメッシュの開口率は５０％
以上とするのが望ましい。

【００３３】（３）粘着剤層本発明のプラズマディスプレイ用フィルターには粘着剤
層が設けられる。この粘着剤層によりプラズマディスプ
レイの製造工程の途中、またはプラズマディスプレイの
製造後、プラズマディスプレイの前面にこのフィルター
を貼着する。このようにすることにより、プラズマディ
スプレイ自体の前面に順番に近赤外線吸収層、電磁波シ
ールド層や他の層を設ける必要がなくなり、またフィル
ターがプラズマディスプレイと一体形成されるので、プ
ラズマディスプレイの薄肉化が可能となる。

【００３４】粘着剤層を構成する粘着剤としては、スチ
レンブタジエンラバ−、ポリイソブチレン、天然ゴム、
ネオプレン、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メ
チル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等
のポリアクリル酸アルキルエステル等の低重合度ポリマ
−単独もしくはこれらに粘着付与剤としてピッコライ
ト、ポリペ−ル、ロジンエステル等を添加したもの等が
挙げられる。プラズマディスプレイにフィルターを貼着
時、プラズマディスプレイの表面とフィルターとの間に
気泡が入ると画像が歪んだり、見にくくなったりする
等、実用上の大きな問題となるので気泡の巻き込みには
十分に注意する必要がある。

【００３５】また、プラズマディスプレイ自体、その表
面が高温になるので、加熱によりガスが発生するような
粘着剤は避けるべきである。ガスの発生が考えられる場
合には吸収剤等の添加を考慮するのがよい。このような
理由から、３ｍｍのガラス板に３０μｍのポリエステル
フィルムを３０μｍの粘着剤で貼り合わせ、８０℃で１
０日間保持後における１８０度剥離強度が３００ｇ／ｃ
ｍ以上、好ましくは４００ｇ／ｃｍ以上の粘着剤を用い
るのが望ましい。

【００３６】具体的には、ポリアクリル酸アルキルエス
テル系等のポリマ−系粘着剤、又はスチレンブタジエン
ラバ−、天然ゴム等のゴム系粘着剤を、ハロゲン系、ア
ルコ−ル系、ケトン系、エステル系、エ−テル系、脂肪
族炭化水素系、芳香族炭化水素系等の有機溶剤を単独又
は複数混合した溶剤系に分散又は溶解して粘度を調整し
たものをディッピング法、フロ−コ−ト法、スプレ−
法、バ−コ−ト法、グラビアコ−ト法、ロ−ルコ−ト
法、ブレ−ドコ−ト法及びエア−ナイフコ−ト法等の塗
工方法で塗工し、その後溶剤を乾燥させ、粘着剤層とす
る。この際の粘着剤層の厚みは、通常、５〜１００μ
ｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。粘着剤層の表面
に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しない
ように、プラズマディスプレイの表面に張り付けるまで
粘着剤層を保護するのも良い。この場合、フィルターの
縁部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設
けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等
して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の
作業がやりやすい。

【００３７】本発明のプラズマディスプレイ用フィルタ
ーには近赤外線吸収層、電磁波シールド層、粘着剤層の
他、可視光線制御層、光線反射防止層、アンチグレア
層、傷付き防止層、帯電防止層、防汚層等を設けること
ができる。種々の層を設けることは可能だが、プラズマ
ディスプレイ用フィルターとして、波長領域４００〜７
００ｎｍの可視光線透過率が５０％以上であることが望
ましい。積層の順序は特に限定されないが、光線反射防
止層は最表面（鑑察者側）に設けられることが好まし
い。特に傷付き防止層を設けることは、耐久性向上に効
果的である。

【００３８】（４）傷付き防止層傷付き防止層を設ける場合は、ポリウレタンアクリレー
ト、エポキシアクリレートなどのアクリレートあるいは
多官能アクリレート、光重合開始剤、および有機溶剤を
主成分とするコート剤等により形成される。エポキシア
クリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基をアクリル酸
でエステル化し官能基をアクリロイル基としたものであ
り、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂へのアクリル酸付
加物、ノボラック型エポキシ樹脂へのアクリル酸付加物
等がある。

【００３９】ウレタンアクリレートは、ポリオールとジ
イソシアネートとを反応させたウレタンプレポリマーを
水酸基をもつアクリレートでアクリル変性して得られ
る。ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、ブチレングリ
コール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパ
ン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチ
レングリコールとの縮重合体などが挙げられる。ジイソ
シアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート等が挙げられる。水酸基をもつアクリレートとして
は、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト等が挙げられる。

【００４０】多官能アクリレートは、分子内に３個以上
のアクリロイル基を有するものであり、具体的には、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロ
キシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性ト
リス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ア
ルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、
アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリ
レート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、及びこれら２種以上の混合物が挙げ
られる。

【００４１】光重合開始剤としては、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエト
キシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、
２，４，６−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィ
ンオキシド、ミヒラーズケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、２−クロロチオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられ、これら
の光重合開始剤は２種以上を適宜併用することもでき
る。

【００４２】有機溶剤としては、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアル
コール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコ
ール、ｎ−ブチルアルコール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、２−メトキシエタノー
ル、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノー
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、２−メトキシエチルアセ
タート、２−エトキシエチルアセタート、２−ブトキシ
エチルアセタート等のエーテルエステル類が挙げられ、
またこれらの２種以上を混合して使用することもでき
る。

【００４３】また、上記成分の他、耐摩耗性向上のた
め、コロイド状金属酸化物、あるいは有機溶剤を分散媒
としたシリカゾル等を加えることもできる。傷付き防止
層は、上記コート剤の塗工液をディッピング法、フロー
コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート
法、ロールコート法、ブレードコート法及びエアーナイ
フコート法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥さ
せ、さらに活性エネルギー線を照射することにより塗工
したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成され
る。前記活性エネルギー線としては、キセノンランプ、
低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の
光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２００
０ｋｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、α
線、β線、γ線等を用いることができる。このようにし
て形成される傷付き防止層は、通常１〜５０μｍ、好ま
しくは３〜２０μｍの厚みとする。

【００４４】（５）光線反射防止層光線反射防止層を設ける場合は、比較的低屈折率である
酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、フッ化マグ
ネシウム、フッ化カルシウム、酸化アルミニウム等、あ
るいは反射防止コーティング剤（例えば旭硝子（株）
製；商品名「サイトップ」等）を用いて形成される。こ
れらのものを一層、あるいは２種類以上を組み合わせて
多層設け、反射防止層を形成する。反射防止層の形成方
法としては、金属アルコキシドを塗布後に焼成する方
法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、化学的蒸着（ＣＶＤ）法、プラズマ化学蒸着
法、あるいはロールコート法、ディッピング法等が挙げ
られる。この反射防止層は、透明積層体の最表面に設け
られることが好ましい。また反射防止層の厚みは、通
常、５０〜１００ｎｍの範囲とする。また、上記のよう
な反射防止層をポリエステルフィルム上に設けた市販の
反射防止フィルムを粘着剤層を介して透明積層体の最表
面に貼り付けても良い。市販の反射防止フィルムの例と
しては日本油脂（株）製；商品名「リアルック」があ
る。

【００４５】

【実施例】以下に実施例により本発明の具体的な態様を
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、これらの実施例によって限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、近赤外線透過率は、分光
光度計（ＢＩＯ−ＲＡＤ社製：ＦＴＳ−６０Ａ型）（商
品名）を、また可視光線透過率は、分光光度計（（株）
島津製作所製：ＭＰＳ−２０００型）（商品名）を用い
て測定を行った。

【００４６】実施例１透明樹脂基材として、厚み５０μｍポリエステルフィル
ムを用い、この片面に、銀を真空蒸着法で２０ｎｍの厚
みに積層した。その上に更に、近赤外線吸収剤（日本触
媒（株）製：商品名「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フ
タロシアニン系）１重量％、及び日本化薬（株）製：商
品名「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）４重量％を
溶媒（メチルエチルケトン：トルエン＝１：１）に溶解
させた溶液２重量部と、バインダ−として三菱レ−ヨン
社製アクリル樹脂（商品名「ダイヤナ−ルＢＲ−８
０」）を溶媒（メチルエチルケトン：トルエン＝１：
１）に２５重量％の濃度で溶解させた溶液８重量部とを
混合した塗工液をコ−ティングし、乾燥（４０℃で１
日）して近赤外線吸収層を形成した。

【００４７】その乾燥後の厚みは２μｍであった。次い
でその上に、真空蒸着装置を用いて二酸化珪素をスパッ
タリングにより蒸着し反射防止層とした。この膜厚は、
２００ｎｍであった。このフィルターの近赤外線吸収層
等を設けた側と反対側に綜研化学（株）製アクリル樹脂
系粘着剤（商品名「ＳＫダインＦＰ−７」、樹脂分＝１
５重量％、溶剤＝酢酸エチル、メチルエチルケトン、
他）１０００重量部に、同社製硬化剤１（商品名「Ｌ−
４５」）２重量部及び同社製硬化剤２（商品名「Ｅ−５
ＸＭ」）０．５重量部を空気を巻き込まないように混合
調整した粘着剤溶液をドクターロールで塗布後乾燥しつ
つ、厚さ３８μｍのポリエステルフィルムからなる剥離
フィルムを張り付けた。この時の粘着剤層の厚みは２０
μｍであった。

【００４８】縁部にはポリエステルフイルムを一箇所挟
み込むことで剥離開始部を形成した。このフィルターを
プラズマディスプレイパネルの表面に張り付けた。剥離
開始部から剥離フィルムを剥がしつつ端からフィルター
をプラズマディスプレイパネルに押さえつけるようにし
て気泡の巻き込みを防ぎつつ張り付けた。大きな気泡の
巻き込みを起こすことなく貼着することができた。この
透明積層体は優れた近赤外線カット性能、電磁波シール
ド性能、傷付き防止性能、及び透明性を示し、プラズマ
ディスプレイパネル用フィルターとして、好適に使用す
ることができた。その近赤外線透過率は８００〜１１０
０ｎｍの範囲で１５％以下であった。また、８０℃で１
０日間保持した後、粘着剤層の１８０度剥離強度を測定
したところ、常温時と大差なく５００ｇ／ｃｍ前後であ
り、また、気泡の発生や剥離も見られなかった。

【００４９】実施例２透明樹脂基材として、厚み５０μｍポリエステルフィル
ムを用い、この片面に、銀を真空蒸着法で２０ｎｍの厚
みに積層した。その上に更に、近赤外線吸収剤（三菱化
学（株）製：試作品名「Ｎｉ７６」（アミノチオ−ルニ
ッケル錯塩系）、下記式（８））１重量％を溶媒（メチ
ルエチルケトン：トルエン＝１：１）に溶解させた溶液
２重量部と、バインダ−として三菱レ−ヨン社製アクリ
ル樹脂（商品名「ダイヤナ−ルＢＲ−８０」）を溶媒
（メチルエチルケトン：トルエン＝１：１）に２５重量
％の濃度で溶解させた溶液８重量部とを混合した塗工液
をコ−ティングし、乾燥（４０℃で１日）して近赤外線
吸収層１を形成した。その乾燥後の厚みは２μｍであっ
た。

【００５０】

【化８】

【００５１】次に、フィルムの近赤外線吸収層１を形成
した面と反対側の面に、近赤外線吸収剤（日本化薬
（株）製：商品名「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム
系））４重量％を溶媒（メチルエチルケトン：トルエン
＝１：１）に溶解させた溶液２重量部と、バインダ−と
して三菱レ−ヨン社製アクリル樹脂（商品名「ダイヤナ
−ルＢＲ−８０」）を溶媒（メチルエチルケトン：トル
エン＝１：１）に２５重量％の濃度で溶解させた溶液８
重量部とを混合した塗工液をコ−ティングし、乾燥（４
０℃で１日）して近赤外線吸収層２を形成した。その乾
燥後の厚みは２μｍであった。

【００５２】次いで近赤外線吸収層１の上に、粘着剤層
を有した日本油脂（株）製反射防止フィルム「リアルッ
ク」（商品名）を貼り付け反射防止層とした。このフィ
ルターの反射防止層を設けた側の反対側に綜研化学
（株）製アクリル樹脂系粘着剤（商品名「ＳＫダインＦ
Ｐ−７」、樹脂分＝１５重量％、溶剤＝酢酸エチル、メ
チルエチルケトン、他）１０００重量部に、同社製硬化
剤１（商品名「Ｌ−４５」）２重量部及び同社製硬化剤
２（商品名「Ｅ−５ＸＭ」）０．５重量部を空気を巻き
込まないように混合調整した粘着剤溶液をドクターロー
ルで塗布後乾燥しつつ、厚さ３８μｍのポリエステルフ
ィルムからなる剥離フィルムを張り付けた。この時の粘
着剤層の厚みは２０μｍであった。縁部にはポリエステ
ルフイルムを一箇所挟み込むことで剥離開始部を形成し
た。

【００５３】このフィルターをプラズマディスプレイパ
ネルの表面に張り付けた。剥離開始部から剥離フィルム
を剥がしつつ端からフィルターをプラズマディスプレイ
パネルに押さえつけるようにして気泡の巻き込みを防ぎ
つつ張り付けた。大きな気泡の巻き込みを起こすことな
く貼着することができた。この透明積層体は優れた近赤
外線カット性能、電磁波シールド性能、傷付き防止性
能、及び透明性を示し、プラズマディスプレイパネル用
フィルターとして、好適に使用することができた。その
近赤外線透過率は８００〜１１００ｎｍの範囲で１０％
以下であった。また、８０℃で１０日間保持した後、粘
着剤層の１８０度剥離強度を測定したところ、常温時と
大差なく５００ｇ／ｃｍ前後であり、また、気泡の発生
や剥離も見られなかった。

【００５４】実施例３透明樹脂基材として厚み５０μｍのポリエステルフィル
ムを用い、この片面に、近赤外線吸収剤（日本触媒
（株）製：商品名「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フタ
ロシアニン系）１重量％、及び日本化薬（株）製：商品
名「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）４重量％を溶
媒（メチルエチルケトン：トルエン＝１：１）に溶解さ
せた溶液２重量部と、バインダ−として三菱レ−ヨン社
製アクリル樹脂（商品名「ダイヤナ−ルＢＲ−８０」）
を溶媒（メチルエチルケトン：トルエン＝１：１）に２
５重量％の濃度で溶解させた溶液８重量部とを混合した
塗工液をコ−ティングし、乾燥（４０℃で１日）して近
赤外線吸収層を形成した。その乾燥後の厚みは２μｍで
あった。

【００５５】次いでその上に、セ−レン（株）製の電磁
波シ−ルドフィルム（商品名「Ｓｕ−４Ｘ−８０５
５」）を粘着剤を介して貼り付けた。更に真空蒸着装置
を用いて二酸化珪素をスパッタリングにより蒸着し反射
防止層とした。この膜厚は、２００ｎｍであった。この
フィルターの近赤外線吸収層等を設けた側と反対側に綜
研化学（株）製アクリル樹脂系粘着剤（商品名「ＳＫダ
インＦＰ−７」、樹脂分＝１５重量％、溶剤＝酢酸エチ
ル、メチルエチルケトン、他）１０００重量部に、同社
製硬化剤１（商品名「Ｌ−４５」）２重量部及び同社製
硬化剤２（商品名「Ｅ−５ＸＭ」）０．５重量部を空気
を巻き込まないように混合調整した粘着剤溶液ドクター
ロールで塗布後乾燥しつつ、厚さ３８μｍのポリエステ
ルフィルムからなる剥離フィルムを張り付けた。

【００５６】この時の粘着剤層の厚みは２０μｍであっ
た。縁部にはポリエステルフイルムを一箇所挟み込むこ
とで剥離開始部を形成した。このフィルターをプラズマ
ディスプレイパネルの表面に張り付けた。剥離開始部か
ら剥離フィルムを剥がしつつ端からフィルターをプラズ
マディスプレイパネルに押さえつけるようにして気泡の
巻き込みを防ぎつつ張り付けた。大きな気泡の巻き込み
を起こすことなく貼着することができた。この透明積層
体は優れた近赤外線カット性能、電磁波シールド性能、
傷付き防止性能、及び透明性を示し、プラズマディスプ
レイパネル用フィルターとして、好適に使用することが
できた。その近赤外線透過率は８００〜１１００ｎｍの
範囲で１５％以下であった。また、その電磁波シ−ルド
効果は４０ｄＢ（１０ＭＨｚ）と大変高い性能を示し
た。更に、８０℃で１０日間保持した後、粘着剤層の１
８０度剥離強度を測定したところ、常温時と大差なく５
００ｇ／ｃｍ前後であり、また、気泡の発生や剥離も見
られなかった。

【００５７】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイ用フィル
ターは、近赤外線カット性能、電磁波シールド性能を有
し、粘着層によりプラズマディスプレイの前面に直接貼
着されるもので、プラズマディスプレイの薄肉化、工程
簡略化等に効果的である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｈ０５Ｋ 9/00 ＶＦターム(参考） 2H048 CA04 CA09 CA12 CA19 CA23 CA25 CA29 5C040 GH01 GH10 JA09 MA04 MA08 5C058 AA11 AB05 BA35 5E321 AA04 AA23 BB23 CC16 GG05 GG11 5G435 AA00 AA16 AA17 BB06 FF00 GG11 GG33 HH02 HH12 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラズマディスプレイパネルの前面に貼
付して用いるフィルターであって、透明樹脂基材に近赤
外吸収層及び電磁波シールド層を設けた構造を有し、そ
の表面に粘着剤層を設けたことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ用フィルター。
【請求項２】透明樹脂基材が可視光線透過率７０％以
上のポリエステル系樹脂からなることを特徴とする請求
項１に記載のプラズマディスプレイ用フィルター。
【請求項３】近赤外吸収層が波長８００ｎｍ〜１１０
０ｎｍの近赤外線を８５％以上カットする吸収層である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマディ
スプレイ用フィルター。
【請求項４】電磁波シールド層が透明導電性膜または
導電性材料からなるメッシュからなることを特徴とする
請求項１乃至３のいずれかに記載のプラズマディスプレ
イ用フィルター。
【請求項５】粘着剤層の表面に剥離フィルムを設けた
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のプ
ラズマディスプレイ用フィルター。
【請求項６】フィルターの縁部に粘着剤層と剥離フィ
ルムとの非粘着部分を形成し、剥離開始部としたことを
特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイ用フ
ィルター。