JP2000259254A - Flow rate controller for diluted gas - Google Patents
Flow rate controller for diluted gasInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、自動車のディー
ゼルエンジン等から排出されるガス中に含まれるPM
(Particulate Matter、すす等の微
粒子状物質)を定量分析する場合等に用いられる希釈ガ
ス流量制御装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to PM contained in gas discharged from a diesel engine of an automobile or the like.
The present invention relates to a dilution gas flow control device used for quantitative analysis of (particulate matter, particulate matter such as soot).
【0002】[0002]
【従来の技術】前記排ガス中のPMを測定する手法の一
つに、フィルタ重量法に則ったものがある。この種の測
定装置においては、エンジンの回転数が一定である定常
状態における排ガス中のPMを採取するため、サンプル
ガスを希釈するトンネルから分岐採取したサンプルガス
中に含まれるPMを捕集するためのフィルタを設けたサ
ンプルガス流路に並列に、エンジンの回転数が不安定で
ある非定常状態のときにおける排ガスを流すためのバイ
パス用流路を設けた希釈ガス流量制御装置が用いられ
る。2. Description of the Related Art One of the techniques for measuring PM in exhaust gas is based on a filter weight method. In this type of measurement device, in order to collect PM in exhaust gas in a steady state where the engine speed is constant, to collect PM contained in sample gas branched and collected from a tunnel for diluting the sample gas. In parallel with the sample gas flow path provided with the above filter, a dilution gas flow control device provided with a bypass flow path for flowing exhaust gas in an unsteady state where the engine speed is unstable is used.
【0003】図4は、従来の希釈ガス流量制御装置の構
成を概略的に示すもので、この図において、1は例えば
自動車に搭載されるディーゼルエンジン、2はこれに連
なる排気管である。3は排気管2に挿入接続され、排気
管2中を流れる排ガスGをサンプリングするためのプロ
ーブで、その下流側はサンリングされた排ガスGを希釈
する希釈トンネル4に接続されている。5はこの希釈ト
ンネル4の上流側に接続される希釈用空気の供給管であ
る。FIG. 4 schematically shows a configuration of a conventional dilution gas flow control device. In FIG. 4, reference numeral 1 denotes a diesel engine mounted on, for example, an automobile, and reference numeral 2 denotes an exhaust pipe connected to the diesel engine. A probe 3 is inserted and connected to the exhaust pipe 2, and is a probe for sampling the exhaust gas G flowing through the exhaust pipe 2. The downstream side thereof is connected to a dilution tunnel 4 for diluting the sampled exhaust gas G. Reference numeral 5 denotes a supply pipe for air for dilution connected to the upstream side of the dilution tunnel 4.
【0004】6は希釈トンネル4の下流側に接続され、
希釈された排ガス(以下、サンプルガスSという)が流
れるガス流路で、この流路6の下流側は二つの流路7,
8に分岐し、それぞれの流路7,8にサンプルガスS中
に含まれるPMを捕集するためのフィルタ9,10およ
び電磁弁11,12を設け、一方の流路7を定常時の排
ガスを流すためのサンプルガス流路に、また、他方の流
路8を非定常時の排ガスを流すためのバイパス流路にそ
れぞれ構成してある。[0004] 6 is connected downstream of the dilution tunnel 4,
A gas flow path through which diluted exhaust gas (hereinafter, referred to as a sample gas S) flows.
8, filters 9 and 10 and electromagnetic valves 11 and 12 for trapping PM contained in the sample gas S are provided in the respective channels 7 and 8, and one of the channels 7 is provided with a stationary exhaust gas. And the other flow path 8 is formed as a bypass flow path for flowing unsteady exhaust gas.
【0005】13は前記サンプルガス流路7、バイパス
流路8の下流側に設けられる流路切換え手段としての三
方電磁弁で、そのポート13aがサンプルガス流路7
に、ポート13bがバイパス流路8にそれぞれ接続され
るとともに、ポート13cは三方電磁弁13の下流側の
ガス流路14に接続されている。A three-way solenoid valve 13 is provided on the downstream side of the sample gas flow path 7 and the bypass flow path 8 as a flow path switching means.
The port 13b is connected to the bypass flow path 8 and the port 13c is connected to the gas flow path 14 downstream of the three-way solenoid valve 13.
【0006】前記ガス流路14には、回転数制御によっ
て吸引能力を変えることができる吸引ポンプ(例えばル
ーツブロアポンプ)15と、測定精度の高い流量計(例
えばベンチュリ計)16とがこの順に設けられている。
そして、17はガス流路14を流れるガスの圧力を検出
する圧力センサ、18は差圧センサ、19は温度センサ
である。In the gas flow path 14, a suction pump (for example, a roots blower pump) 15 whose suction capacity can be changed by controlling the number of revolutions, and a flow meter (for example, a Venturi meter) 16 having high measurement accuracy are provided in this order. ing.
Reference numeral 17 denotes a pressure sensor for detecting the pressure of the gas flowing through the gas passage 14, reference numeral 18 denotes a differential pressure sensor, and reference numeral 19 denotes a temperature sensor.
【0007】また、20は吸引ポンプ15を制御するイ
ンバータ(周波数変換器)、21はPIDコントローラ
で、インバータ20に指令を出力する。このPIDコン
トローラ21における定数(P,I,D)は、ガス流量
や、吸引ポンプ15の能力に応じるように設定されてい
る。22はインタフェースユニットで、センサ17〜1
9からの出力や後述するマイクロコンピュータ23から
の指令が入力され、流量演算など一部の演算を行うこと
ができるとともに、PIDコントローラ21に対して指
令を出力するものである。23は装置全体を制御する演
算制御部としてのマイクロコンピュータである。Further, reference numeral 20 denotes an inverter (frequency converter) for controlling the suction pump 15, and reference numeral 21 denotes a PID controller, which outputs a command to the inverter 20. The constants (P, I, D) in the PID controller 21 are set according to the gas flow rate and the capacity of the suction pump 15. Reference numeral 22 denotes an interface unit,
An output from the microcomputer 9 and a command from a microcomputer 23 which will be described later are input so that some calculations such as a flow rate calculation can be performed, and a command is output to the PID controller 21. Reference numeral 23 denotes a microcomputer as an arithmetic control unit that controls the entire apparatus.
【0008】図5は、上記希釈ガス流量制御装置におけ
る吸引ポンプ15の制御系統を概略的に示すもので、こ
の図において、EINV はインバータ20への電圧、EFF
はフィードフォワード電圧、EPID はPID制御電圧、
Qact は流路14におけるガスの実際の流量(実流
量)、Qtgt は目標流量、Rはインタフェースユニット
22からPIDコントローラ21に対して出力される積
算リセット信号で、このリセット信号は、流路切換え信
号に基づいて形成される。なお、T,P,dPはセンサ
17〜19による検出出力である。FIG. 5 schematically shows a control system of the suction pump 15 in the dilution gas flow control device. In FIG. 5, E INV is a voltage to the inverter 20 and E FF.
Is the feedforward voltage, E PID is the PID control voltage,
Q act is the actual flow rate (actual flow rate) of the gas in the flow path 14, Q tgt is the target flow rate, and R is an integrated reset signal output from the interface unit 22 to the PID controller 21. It is formed based on the switching signal. Note that T, P, and dP are detection outputs from the sensors 17 to 19.
【0009】上記のように構成された希釈ガス流量制御
装置においては、PIDコントローラ21によって出力
される指令値をインバータ20に出力し、この指令に基
づいてインバータ20から出力される指令値に基づいて
ルーツブロアポンプ15が制御され、ガス流路6、14
を流れるサンプルガス流量は常に一定となるように制御
される。この場合、フィルタ9(または10)における
サンプルガスSの通過流量が常に一定となるようにする
必要があり、従来においては、図4に示すように、サン
プルガス流路7およびバイパス流路8の三方電磁弁13
の直前ににそれぞれ初期圧設定ライン24,25を接続
していた。In the dilution gas flow control device configured as described above, the command value output by the PID controller 21 is output to the inverter 20, and based on the command value output from the inverter 20 based on this command. The roots blower pump 15 is controlled and the gas flow paths 6 and 14 are controlled.
Is controlled so that the flow rate of the sample gas flowing through is always constant. In this case, the flow rate of the sample gas S passing through the filter 9 (or 10) needs to be always constant. Conventionally, as shown in FIG. Three-way solenoid valve 13
Immediately before, the initial pressure setting lines 24 and 25 were respectively connected.
【0010】すなわち、前記初期圧設定ライン24,2
5は、互いに同じ構成であり、空気吸入用のフィルタ2
4F,25F、圧損設定用のニードルバルブ24N,2
5Nを備え、二方電磁弁24V,25Vを介して三方電
磁弁13の直ぐ上流側のサンプルガス流路7およびバイ
パス流路8に接続され、フィルタ24F,25Fを介し
て大気を取り込むように構成されている。そして、ニー
ドルバルブ24N,25Nを手動で開度調節を行い、サ
ンプルガス流路7およびバイパス流路8にそれぞれ設け
られるフィルタ9,10の初期圧損を発生させるように
していた。That is, the initial pressure setting lines 24, 2
5 have the same configuration as each other, and have a filter 2 for air suction.
4F, 25F, needle valve 24N, 2 for setting pressure loss
5N, connected to the sample gas flow path 7 and the bypass flow path 8 immediately upstream of the three-way solenoid valve 13 via the two-way solenoid valves 24V and 25V, and configured to take in the atmosphere via the filters 24F and 25F. Have been. The opening of the needle valves 24N and 25N is manually adjusted to generate initial pressure loss of the filters 9 and 10 provided in the sample gas flow path 7 and the bypass flow path 8, respectively.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の希釈ガス流量制御装置においては、フィルタ24
F,25Fや圧損設定用のニードルバルブ24N,25
Nを備えた初期圧設定ライン24,25を設け、ニード
ルバルブ24N,25Nを手動で開度調節を行って初期
圧設定を行うところから、装置の全体構成が複雑化する
とともに、手間がかかるといった不都合があるととも
に、初期圧損の異なるフィルタを用いた場合、そのフィ
ルタの種類分だけ初期圧設定ライン24,25を設ける
必要がある等フローの構成がそれだけ複雑になるといっ
た課題があった。However, in the above-mentioned conventional dilution gas flow control device, the filter 24
F, 25F and needle valves 24N, 25 for setting pressure loss
Since the initial pressure setting lines 24 and 25 provided with N are provided, and the needle valves 24N and 25N are manually adjusted in opening to set the initial pressure, the overall configuration of the apparatus becomes complicated and it takes time. In addition to the inconvenience, when filters having different initial pressure losses are used, there is a problem that the configuration of the flow becomes so complicated that it is necessary to provide the initial pressure setting lines 24 and 25 for the types of the filters.
【0012】これに対して、上記ニードルバルブ24
N,25Nをモータで駆動することにより、初期圧損の
設定を自動化することが考えられるが、このように構成
しても、フィルタの種類分だけ初期圧設定ラインを設け
る必要があるといった点が課題として残ることとなる。On the other hand, the needle valve 24
It is conceivable to automate the setting of the initial pressure loss by driving the N and 25N with a motor. However, even with such a configuration, it is necessary to provide an initial pressure setting line for each type of filter. Will remain.
【0013】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、ニードルバルブなどを備えた初
期圧設定ラインを設けたりしなくても、初期圧設定を自
動的に行うことができる希釈ガス流量制御装置を提供す
ることである。[0013] The present invention has been made in consideration of the above-mentioned matters, and an object thereof is to automatically perform initial pressure setting without providing an initial pressure setting line including a needle valve and the like. It is an object of the present invention to provide a dilution gas flow control device that can perform the above.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明では、サンプルガスを希釈するトンネルか
ら分岐採取したサンプルガス中に含まれるPMを捕集す
るためのフィルタをそれぞれ有し、互いに並列に接続さ
れた複数の分岐流路と、これらの分岐流路のうちの一つ
に前記サンプルガスが流れるように分岐流路の切換えを
行う流路切換え手段と、PIコントローラまたはPID
コントローラからの制御値が入力されるインバータから
の指令によって、前記サンプルガスが一定流量となるよ
うに回転数制御される吸引ポンプとを備えた希釈ガス流
量制御装置において、前記フィルタにおける初期圧損を
電気的に測定し、そのときのデータに基づいて前記吸引
ポンプを制御するようにしている。In order to achieve the above object, according to the present invention, there are provided filters for collecting PM contained in a sample gas branched and collected from a tunnel for diluting the sample gas. A plurality of branch flow paths connected in parallel; flow path switching means for switching the branch flow paths so that the sample gas flows into one of the branch flow paths; a PI controller or a PID
A dilution gas flow control device including a suction pump whose rotation speed is controlled so that the sample gas has a constant flow rate by a command from an inverter to which a control value is input from a controller. And the suction pump is controlled based on the data at that time.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、図面を
参照しながら説明する。図1〜図3は、この発明の一つ
の実施の形態を示すものである。まず、図1は、この発
明の希釈ガス流量制御装置の全体構成を概略的に示すも
ので、この図において、図4における符号と同じものは
同一部材を示している。図1において、26はサンプル
ガス流路7およびバイパス流路8の下流側に設けられる
流路切替え手段としての三方電磁弁で、そのポート26
aがサンプルガス流路7に、ポート26bがバイパス流
路8にそれぞれ接続されるとともに、ポート26cはガ
ス流路14に接続されている。また、27はガス流路1
4の三方電磁弁26と吸引ポンプ15との間に接続され
るスタンバイラインで、二方電磁弁28およびフィルタ
29を備えており、フィルタ29を介して大気を取り込
むように構成されている。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 3 show one embodiment of the present invention. First, FIG. 1 schematically shows the overall configuration of the dilution gas flow control device of the present invention, in which the same components as those in FIG. 4 indicate the same members. In FIG. 1, reference numeral 26 denotes a three-way solenoid valve provided as a flow path switching means provided on the downstream side of the sample gas flow path 7 and the bypass flow path 8.
a is connected to the sample gas flow path 7, the port 26 b is connected to the bypass flow path 8, and the port 26 c is connected to the gas flow path 14. 27 is the gas flow path 1
4 is a standby line connected between the three-way solenoid valve 26 and the suction pump 15, and includes a two-way solenoid valve 28 and a filter 29, and is configured to take in the atmosphere via the filter 29.
【0016】次に、上記構成の希釈ガス流量制御装置に
おける動作を説明する。初期圧損を設定するに際して
は、次のような事実に基づいている。すなわち、一般
に、フィルタの通過流量とフィルタにおける圧損は比例
関係にある。図3は、このことを示すデータで、外径4
7mm(有効径35mm)のフィルタを用いて、流体
(例えば空気)を流したときの流体速度(cm/se
c)と、圧力損失(mmH2 O)とを測定したものであ
る。なお、横軸の欄外に示した数字は、外径47mmお
よび外径70mm(有効径60mm)における1分間当
たりの流体流量を示している。Next, the operation of the dilution gas flow control device having the above configuration will be described. The setting of the initial pressure loss is based on the following facts. That is, generally, the flow rate passing through the filter and the pressure loss in the filter are in a proportional relationship. FIG. 3 shows data showing this fact.
Fluid velocity (cm / sec) when flowing a fluid (for example, air) using a 7 mm (effective diameter 35 mm) filter
c) and the pressure loss (mmH 2 O) were measured. The numbers shown on the margins of the horizontal axis indicate the fluid flow per minute at an outer diameter of 47 mm and an outer diameter of 70 mm (effective diameter of 60 mm).
【0017】例えばサンプルガス流路7を用いてフィル
タの初期圧損を設定するには、次のようなシーケンスで
設定すればよい。For example, in order to set the initial pressure loss of the filter using the sample gas flow channel 7, the initial pressure loss may be set in the following sequence.
【0018】(1)まず、フィルタホルダに新品のフィ
ルタをセットする。(1) First, a new filter is set in the filter holder.
【0019】(2)電磁弁26を動作させて、サンプル
ガス流路7とガス流路14とを連通させておく。そし
て、インバータ20から信号を出力して吸引ポンプ15
を動作させ、ガス流路14に空気を流す。このとき、こ
のときの流量は流量計16によって測定される。そし
て、最小流量Qmin および最大流量Qmax となるように
し、そのときインバータ20に与える電圧値Vmin およ
び最大流量Vmax をマイクロコンピュータ23において
記憶する。(2) The electromagnetic valve 26 is operated to make the sample gas flow path 7 and the gas flow path 14 communicate with each other. Then, a signal is output from the inverter 20 and the suction pump 15
Is operated to flow air through the gas flow path 14. At this time, the flow rate at this time is measured by the flow meter 16. Then, the minimum flow rate Q min and the maximum flow rate Q max are set, and the microcomputer 23 stores the voltage value V min and the maximum flow rate V max applied to the inverter 20 at that time.
【0020】(3)上記(2)で求められた2組のデー
タ、すなわち、流量と電圧のデータ(Qmin ,
Vmin )、(Qmax ,Vmax )から、流量と電圧との関
係を1次式で表す。(3) Two sets of data obtained in the above (2), that is, flow rate and voltage data (Q min ,
V min), indicating (Q max, from V max), the relationship between flow rate and voltage in a linear expression.
【0021】この場合、フィルタの種類(外径寸法や有
効径など)が同じ場合には、上記(3)で求めた式を全
てのフィルタに適用することができ、また、フィルタの
種類が異なる場合には、その異なるフィルタごとに、前
記(1)〜(3)の手順を実行して流量と電圧との関係
式(1次式)を求めればよい。In this case, when the types of filters (outer diameter, effective diameter, etc.) are the same, the equation obtained in the above (3) can be applied to all filters, and the types of filters are different. In this case, the relational expression (primary expression) between the flow rate and the voltage may be obtained by executing the above-described procedures (1) to (3) for each of the different filters.
【0022】図2は、上記フィルタの初期圧損を設定す
る場合におけるマイクロコンピュータ23における画面
の一例を示すもので、この例においては、フィルタの種
類が異なる場合を示している。FIG. 2 shows an example of a screen of the microcomputer 23 when the initial pressure loss of the filter is set. In this example, a case where the type of the filter is different is shown.
【0023】上述のように、この発明の希釈ガス流量制
御装置においては、上記(1)〜(3)の手順によって
フィルタの初期圧損を設定することができるが、吸引ポ
ンプ15をオンしたときに設定流量に対応したフィード
フォワード値(電圧)を上記一次式から求め、この電圧
値をPIDコントローラ21に与えることにより、PI
Dコントローラ21からインバータ20に与えられる出
力は、前記電圧値から始まることになる。したがって、
フィードフォワード値を与えない場合に比べて遅れ時間
が少なくなる。As described above, in the dilution gas flow control device according to the present invention, the initial pressure loss of the filter can be set by the above procedures (1) to (3). The feedforward value (voltage) corresponding to the set flow rate is obtained from the above-described linear expression, and this voltage value is given to the PID controller 21 to obtain the PI.
The output supplied from the D controller 21 to the inverter 20 starts from the voltage value. Therefore,
The delay time is shorter than when no feedforward value is given.
【0024】なお、前記手順において、吸引ポンプ15
を動作させてガス流路14に所定の空気が流れるように
するに際して、電磁弁28を開状態にしてスタンバイ流
路27をガス流路14と連通させ、このスタンバイ流路
27からの空気がガス流路14に流れるようにし、ガス
流路14における流量が安定したとき、前記電磁弁28
を閉状態にする一方、電磁弁26を動作させて、サンプ
ルガス流路7とガス流路14とを連通させるようにして
もよい。このようにした場合、サンプルガス流路7に流
れる流量をより速く制御することができる。In the above procedure, the suction pump 15
Is operated to allow predetermined air to flow through the gas flow path 14, the electromagnetic valve 28 is opened to allow the standby flow path 27 to communicate with the gas flow path 14, and the air from the standby flow path 27 When the flow rate in the gas flow path 14 is stabilized, the electromagnetic valve 28
May be closed, and the solenoid valve 26 may be operated to allow the sample gas flow path 7 to communicate with the gas flow path 14. In this case, the flow rate flowing through the sample gas flow path 7 can be controlled more quickly.
【0025】なお、前記希釈ガス流量制御装置におい
て、PMを採取する場合には次のように制御する。定常
状態においては、サンプルガス流路7にサンプルガスS
が流れるように三方電磁弁13の開閉状態が設定される
が、この状態において、インタフェースユニット23か
ら目標流量Qtgt と実流量Qact とをPIDコントロー
ラ22に与えると、これらの差に基づいてPIDコント
ローラ22から出力EPI D がインバータ20に対して指
令値INV として出力される。この指令値EINV を受けた
インバータ20は、吸引ポンプ15に指令を出力する。
これによって、吸引ポンプ15が所定の回転数で動作
し、流路7、14を流れるサンプルガス流量が常に一定
に制御される。In the dilution gas flow control device, when collecting PM, the following control is performed. In the steady state, the sample gas S
Although the opening and closing states of the three-way electromagnetic valve 13 to flow is set in this state, given from the interface unit 23 and a target flow rate Q tgt and the actual flow rate Q act on the PID controller 22, based on these differences PID output E PI D from the controller 22 is output as a command value INV to the inverter 20. The inverter 20 receiving the command value E INV outputs a command to the suction pump 15.
As a result, the suction pump 15 operates at a predetermined rotation speed, and the flow rate of the sample gas flowing through the flow paths 7 and 14 is constantly controlled.
【0026】そして、上記の状態から流路切換えを行
い、バイパス流路8にサンプルガスSを流すようにする
ときは、まず、流路切換え前の圧損に応じたインバータ
20への指令値EINV を記憶する。When the flow path is switched from the above state and the sample gas S is caused to flow through the bypass flow path 8, first, a command value E INV to the inverter 20 according to the pressure loss before the flow path is switched. Is stored.
【0027】次いで、流路切換え信号に基づく積算リセ
ット信号Rを、流路切換え信号と同時またはこれより少
し遅れてインタフェースユニット23からPIDコント
ローラ22に入力する。これにより、PIDコントロー
ラ22からインバータ20に対する出力EPID がなくな
る。これと同時に、前記記憶した指令値EINV をPID
コントローラ22を介さず、フィードフォワード信号E
FFとしてインバータ20に与える。Next, an integrated reset signal R based on the flow path switching signal is input from the interface unit 23 to the PID controller 22 simultaneously with or slightly after the flow path switching signal. As a result, the output E PID from the PID controller 22 to the inverter 20 disappears. At the same time, the stored command value E INV is
The feedforward signal E without the controller 22
This is given to the inverter 20 as FF .
【0028】上述のように、この発明の希釈ガス流量制
御装置においては、初期圧設定のシーケンスを自動的に
行えるので、従来に比べて初期圧設定の工数を低減でき
る。そして、従来とは異なり、ニードルバルブなどを備
えた初期圧設定ラインを設ける必要がないので、ガスラ
インの構成が単純化され、装置全体の構成が簡略化さ
れ、小型化が促進される。また、流量が変わってもその
都度、初期圧を設定しなおす必要がない。As described above, in the dilution gas flow control device of the present invention, the sequence of the initial pressure setting can be automatically performed, so that the number of steps for setting the initial pressure can be reduced as compared with the conventional case. Further, unlike the related art, there is no need to provide an initial pressure setting line including a needle valve and the like, so that the configuration of the gas line is simplified, the configuration of the entire apparatus is simplified, and the miniaturization is promoted. Further, it is not necessary to reset the initial pressure every time the flow rate changes.
【0029】なお、上述の実施の形態においては、PI
Dコントローラ21を用いていたが、これに代えて、P
Iコントローラを用いてもよい。In the above embodiment, the PI
Although the D controller 21 was used, instead of this,
An I controller may be used.
【0030】[0030]
【発明の効果】この発明の希釈ガス流量制御装置におい
ては、ニードルバルブなどを備えた初期圧設定ラインを
設けたりしなくても、初期圧設定を自動的に行うことが
できるとともに、装置全体が安価かつコンパクトとな
る。According to the dilution gas flow control apparatus of the present invention, the initial pressure can be automatically set without providing an initial pressure setting line having a needle valve and the like, and the whole apparatus can be controlled. Inexpensive and compact.
【図1】この発明の希釈ガス流量制御装置の構成の一例
を概略的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of a configuration of a dilution gas flow control device of the present invention.
【図2】前記装置においてフィルタの初期圧損を設定す
る場合におけるマイクロコンピュータにおける画面の一
例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a screen of a microcomputer when an initial pressure loss of a filter is set in the device.
【図3】フィルタにおける流体速度と圧損との関係を示
す図である。FIG. 3 is a diagram showing a relationship between fluid velocity and pressure loss in a filter.
【図4】従来の希釈ガス流量制御装置の構成を概略的に
示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional dilution gas flow control device.
【図5】前記希釈ガス流量制御装置における吸引ポンプ
の制御系統を概略的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a control system of a suction pump in the dilution gas flow control device.
2…希釈トンネル、7,8…分岐流路、9,10…フィ
ルタ、15…吸引ポンプ、20…インバータ、21…P
IDコントローラ、26…流路切換え手段。2: dilution tunnel, 7, 8: branch channel, 9, 10: filter, 15: suction pump, 20: inverter, 21: P
ID controller, 26: flow path switching means.
Claims (1)
岐採取したサンプルガス中に含まれるPMを捕集するた
めのフィルタをそれぞれ有し、互いに並列に接続された
複数の分岐流路と、これらの分岐流路のうちの一つに前
記サンプルガスが流れるように分岐流路の切換えを行う
流路切換え手段と、PIコントローラまたはPIDコン
トローラからの制御値が入力されるインバータからの指
令によって、前記サンプルガスが一定流量となるように
回転数制御される吸引ポンプとを備えた希釈ガス流量制
御装置において、前記フィルタにおける初期圧損を電気
的に測定し、そのときのデータに基づいて前記吸引ポン
プを制御するようにしたことを特徴とする希釈ガス流量
制御装置。1. A plurality of branch flow paths connected in parallel to each other, each having a filter for collecting PM contained in a sample gas branched and collected from a tunnel for diluting the sample gas, and Flow path switching means for switching a branch flow path so that the sample gas flows through one of the flow paths; and a command from an inverter to which a control value from a PI controller or a PID controller is input. In a dilution gas flow control device including a suction pump whose rotation speed is controlled so that a constant flow rate is obtained, an initial pressure loss in the filter is electrically measured, and the suction pump is controlled based on data at that time. A dilution gas flow control device, characterized in that:
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN114981635A (en) * | 2020-02-28 | 2022-08-30 | 海瑞克股份公司 | Apparatus for detecting the content of critical gases in cavities and tunnel boring machine with such apparatus |
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1999
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