JP2000260796A - 半導体ウェハーの樹脂被覆方法 - Google Patents
半導体ウェハーの樹脂被覆方法Info
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 111
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 111
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 25
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 74
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 8
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
半導体ウェーハ4のバンプ3の装着面を樹脂11で被覆
して樹脂被覆ウェーハ12を形成する場合に、前記樹脂
被覆ウェーハ12の生産性を向上させる。 【解決手段】 まず、下型キャビティ5内の所定位置に
前記半導体ウェーハ4をそのバンプ装着面を上面にして
供給し、且つ、前記バンプ装着面上に樹脂材料6を所要
量供給すると共に、前記両型1・2を型締めすることに
より、少なくともキャビティ5を含む外気遮断範囲34
から真空引きして少なくとも前記キャビティ5内を所定
の真空状態にすると共に、前記樹脂材料を加熱溶融化
し、次に、前記上型面張設フィルム7を前記バンプ3先
端部に当接すると共に、前記キャビティ5内で前記半導
体ウェーハ4のバンプ装着面を樹脂で被覆して樹脂被覆
ウェーハ12を形成する。
Description
ンプ(突起電極)等が装着された半導体ウェーハのバン
プ装着面を樹脂で被覆する半導体ウェハーの樹脂被覆方
法の改良に関するものである。
ージ(CPS)等における半導体チップのバンプ装着面
を樹脂で被覆することによって柔らかくて損傷し易いバ
ンプを保護・補強することが行われているが、このチッ
プに対する樹脂被覆は半導体ウェーハの段階(ウェーハ
レベル)で行われている。例えば、図5(1)・図5
(2)に示す樹脂被覆用金型を用いて、まず、前記した
半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂被覆して樹脂被覆
ウェーハを形成し、次に、前記樹脂被覆ウェーハを切断
分離して多数の樹脂被覆チップを形成することが行われ
ている。
には、上型81と、下型82とが対向配置して設けられ
ると共に、前記上型81の型面にはバンプ露出用のフィ
ルム83が張設されるように構成され、前記下型82に
は、前記バンプ88が装着された半導体ウェーハ84を
供給セットする樹脂被覆用のキャビティ85と、前記キ
ャビティ85を含む嵌合孔86と、前記嵌合孔86内を
上下摺動する前記キャビティ85の底面を含む底面部材
87とが設けられて構成されている。従って、図5
(1)に示すように、まず、前記上型81の型面に前記
フィルム83を張設すると共に、前記キャビティ85内
に前記半導体ウェーハ84をそのバンプ装着面を上面側
にした状態で供給セットし且つ前記バンプ装着面上に所
要量の樹脂材料89を供給し、前記上下両型81・82
を型締めすると共に、前記キャビティ85内の樹脂材料
89を加熱溶融化する。次に、図5(2)に示すよう
に、前記キャビティにおいて、前記底面部材87に前記
半導体ウェーハ84を載置した状態で前記底面部材87
を上動することにより、前記フィルム83に前記バンプ
88の先端部を当接させる。このとき、少なくとも前記
ウェーハ84のバンプ装着面が樹脂で被覆されることと
になるので、前記キャビティ85内で形成される樹脂被
覆ウェーハ90の樹脂被覆面(バンプ装着面)におい
て、前記バンプ88におけるフィルム83と当接した部
分(バンプ先端部)が樹脂表面に露出することになる。
た嵌合孔と底面部材との隙間(摺動部)に溶融樹脂材料
が浸入して硬化することにより、前記隙間に樹脂ばり
(硬化物)が発生して前記底面部材に摺動不良が発生し
易い。従って、前記隙間に発生する樹脂ばりを頻繁に除
去しなければならず、前記樹脂被覆ウェーハの生産性が
低下すると云う弊害がある。また、前記摺動不良の発生
によって、前記底面部材で前記キャビティ内の樹脂に充
分な樹脂圧を加えることができなくなるので、前記フィ
ルムに前記バンプを当接することができず、前記バンプ
が樹脂内に完全に埋没して前記バンプが外部接続用とし
ての機能を果たさなくなる等、高品質性・高信頼性の樹
脂被覆ウェーハ(樹脂被覆チップ)を得ることができな
いと云う弊害がある。
産性を向上させることができる半導体ウェハーの樹脂被
覆方法を提供することを目的とするものである。また、
本発明は、高品質性・高信頼性の樹脂被覆ウェーハを得
ることができる半導体ウェハーの樹脂被覆方法とを提供
することを目的とするものである。
決するための本発明に係る半導体ウェハーの樹脂被覆方
法は、バンプを装着した半導体ウェーハのバンプ装着面
を樹脂で被覆する樹脂被覆用金型の一方の型面に設けた
樹脂被覆用金型キャビティの底面の所定位置に前記半導
体ウェーハを、前記バンプ装着面を前記金型キャビティ
底面とは反対側にした状態で、載置供給する半導体ウェ
ーハの供給工程と、前記金型の他方の型面にバンプ露出
用フィルムを張設するフィルムの張設工程と、前記半導
体ウェーハの供給工程時に、前記金型キャビティ底面に
前記ウェーハを吸着・固定する半導体ウェーハの吸着・
固定工程と、前記フィルムの張設工程時に、前記金型の
他方の型面に前記フィルムを吸着・固定するフィルムの
吸着・固定工程と、前記金型キャビティ内に樹脂材料を
所要量供給する樹脂材料の供給工程と、前記金型を型締
めする金型の型締工程と、前記金型キャビティ内で前記
樹脂材料を加熱溶融化する樹脂材料の加熱溶融化工程
と、前記金型の他方の型面に設けた押圧部材で前記フィ
ルムを前記金型キャビティ方向に押圧する押圧部材によ
る押圧工程と、前記押圧部材による押圧工程時に、前記
金型キャビティ内で前記バンプ先端部に前記フィルムを
当接するフィルムの当接工程と、前記押圧部材による押
圧工程時に、前記フィルムを介して前記金型キャビティ
内の樹脂を加圧することによって前記した半導体ウェー
ハのバンプ装着面を樹脂で被覆する半導体ウェーハの樹
脂被覆成形工程と、前記金型を型開きして前記金型キャ
ビティ内から前記バンプ装着面を樹脂で被覆した樹脂被
覆半導体ウェーハを離型する樹脂被覆ウェーハの離型工
程とを備えたことを特徴とする。
の本発明に係る半導体ウェハーの樹脂被覆方法は、前記
した金型の型締工程時に、少なくとも金型キャビティ内
を真空引きして所定の真空状態にすることを特徴とす
る。
用金型(上下両型)を用いて、まず、前記した下型キャ
ビティ内の所定位置に前記半導体ウェーハをそのバンプ
装着面を上面にして供給し、且つ、前記バンプ装着面上
に樹脂材料を所要量供給すると共に、前記両型を型締め
することにより、少なくとも前記キャビティを含む外気
遮断範囲から真空引きして少なくとも前記したキャビテ
ィ内を所定の真空状態にすると共に、前記樹脂材料を加
熱溶融化し、次に、前記上型面張設フィルム7を前記バ
ンプ先端部に当接すると共に、前記キャビティ内で前記
半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂で被覆して樹脂被
覆ウェーハを形成する。
明する。
該固定上型1に対向配置した可動下型2とから構成され
ている。また、前記下型2の型面にはバンプ突起電極3
が装着された半導体ウェーハ4を前記バンプ装着面を上
面(型面側)にした状態で供給セットする樹脂被覆用キ
ャビティ5が設けられて構成されると共に、前記キャビ
ティ5の底面の所定位置に載置供給されたウェーハ4の
バンプ装着面上に、例えば、粉末状或いは顆粒状の樹脂
材料6を所要量供給することができるように構成されて
いる。また、前記上型1の型面にはバンプ露出用のフィ
ルム7(離型フィルム)が張設されると共に、該上型1
には、前記下型キャビティ5の下型面形状に対応した押
圧面(上型面)を備えた押圧部材8と、前記押圧部材8
を上下動する上下動機構9とが設けられている。従っ
て、前記上下動機構9で前記押圧部材8を下動させるこ
とによって、前記バンプ3の先端部に前記フィルム7に
当接させることができるように構成されると共に、前記
キャビティ5内の樹脂を前記フィルム7を介して所定の
樹脂圧で加圧することができるように構成されている。
また、前記キャビティ5の外周囲(下型面)には、前記
フィルム7を型面に係止して固定する係止部材10(環状
突起)が設けられると共に、前記両型の型締時1・2
に、前記フィルム7を前記両型面間に挟持固定して下型
キャビティ面に張設することができるように構成されて
いる。また、図示はしていないが、前記金型には樹脂成
形温度にまで加熱する加熱手段が設けられて構成される
と共に、前記キャビティ5内に供給された樹脂材料6を
加熱溶融化することができるように構成されている。
ティ5の底面には前記金型キャビティ5底面に前記半導
体ウェーハ4を吸着固定する半導体ウェーハの吸着固定
手段(例えば、所要数の吸着孔)31が設けられて構成
されている。従って、前記した半導体ウェーハ4を前記
金型キャビティ5内に載置供給するとき、前記金型キャ
ビティ5底面の吸引孔31から真空引きすることによ
り、前記半導体ウェーハ4を前記金型キャビティ5底面
の所定位置に吸着・固定することができる。
におけるキャビティ5の外周囲に設けられた係止部材10
の外周囲に対応する上下両型面の所定位置には、前記両
型1・2の型締時に、前記フィルム7を挟持して前記両
型面間に固定する前記フィルムの固定部材が設けられる
と共に、前記した固定部材は、下型面に設けられた環状
凸部32と、上型面に設けられた前記下型環状凸部32
に対応する環状凹部33(周溝)と、前記凹部33に設
けられた吸引排出機構35とから構成されている。従っ
て、前記上型環状凹部33内から前記吸引排出機構35
で強制的に空気等を吸引排出することによって前記上型
面に前記フィルム7を吸着固定することができるように
構成されている。また、前記両型1・2の型締時に、前
記した固定部材の環状凸部32と環状凹部33を嵌合し
且つ前記上型環状凹部33内から前記吸引排出機構35
で強制的に空気等を吸引排出して前記フィルム7を前記
凹部33内に引き込み伸張することにより、前記フィル
ム7のしわを伸ばして除去することができるように構成
されている。また、前記したフィルムの固定部材(前記
した凹部33と凸部32との組み合わせ)を、単数個或
いは複数個設ける構成を採用することができる。
キャビティ5を含む成形部を外気遮断状態に設定して構
成した少なくとも前記成形部を含む外気遮断範囲34か
ら真空引きする真空引き機構(図示なし)が設けられる
と共に、前記外気遮断範囲35から前記真空引き機構で
真空引きして少なくとも前記キャビティ5を含む成形部
を所定の真空状態にすることができるように構成されて
いる。
ルム7を張設すると共に、前記上型1の環状凹部33な
いから前記吸引排出機構35で強制的に空気等を吸引排
出することにより、前記フィルム7を前記上型面に効率
良く吸着・固定することができる。次に、前記下型キャ
ビティ5内における底面の所定位置に前記半導体ウェー
ハ4を前記バンプ3の装着面を上面にした状態で供給セ
ットし、且つ、前記バンプ装着面上に前記樹脂材料6を
所要量供給する。このとき、前記吸着固定手段31にて
前記半導体ウェーハ4を前記キャビティ5底面に効率良
く吸着・固定することができる。次に、前記下型2を上
動して前記両型面間を所要の間隔で保持する中間型締め
を行うと共に、少なくとも前記キャビティ5を含む成形
部を外気遮断状態にして外気遮断範囲34を形成し、前
記外気遮断範囲34から前記真空引き機構で真空引きす
ることにより、少なくともキャビティ5内(前記外気遮
断範囲34)を所定の真空状態にする。次に、前記下型
2を上動して前記両型面を接合する前記金型の完全型締
めを行うと共に、前記固定部材の凸部と凹部とを嵌合す
る。このとき、前記係止部材10で前記フィルム7は前
記両型面間に係止され、且つ、前記フィルム7は前記凹
部32内に引き込まれて前記フィルム7は伸張すること
になるので、前記フィルム7のしわを伸ばして効率良く
除去することができる。次に、前記キャビティ5内に供
給された樹脂材料6を加熱溶融化する。また、次に、前
記上下動機構9で前記した押圧部材8(の押圧面)を
(前記キャビティ5内における下型面の下方位置方向
に)下動して前記フィルム7を前記キャビティ5内に押
圧伸張させることによって、前記フィルム7を前記バン
プ3の先端部に当接すると共に、前記押圧部材8で前記
キャビティ5内の樹脂を前記フィルム7を介して所定の
樹脂圧で加圧する。このとき、前記フィルム7で少なく
とも前記バンプ3の先端部を樹脂と接触しない状態に構
成することができる。また、このとき、前記フィルム7
に発生するフィルムのしわを伸張して除去することがで
きると共に、前記キャビティ5内を前記フィルム7でシ
ールすることによって前記キャビティ5内に樹脂を密封
することができる。硬化に必要な所要時間の経過後、前
記両型1・2を型開きすると共に、前記両型間に樹脂被
覆ウェーハ12を前記フィルム7に付着した状態で離型
することができる。即ち、前記ウェーハ4に装着された
バンプ3の先端部を樹脂11の表面に露出した状態で前
記樹脂被覆ウェーハ12を形成することができるので、
従来例に示すような弊害をなくして、樹脂被覆ウェーハ
の生産性を向上させることができると共に、高品質性・
高信頼性の樹脂被覆ウェーハを得ることができる。ま
た、少なくとも前記したキャビティ5を含む成形部を所
定の真空状態にして樹脂被覆することができるので、前
記半導体ウェーハ4のバンプ3装着面を被覆する樹脂1
1に発生する気泡(ボイド)及び欠損部を効率良く防止
することができる。
部材(前記した凹部33と凸部32と吸引排出機構3
5)を複数個設けた構成の場合、前記した両型の型締時
に、前記凹部32内から、略同時的に、或いは、各別
に、或いは、外側の凹部32から順次に、或いは、任意
に且つ適宜に、強制的に吸引排出して前記凹部32内に
前記フィルム7を引き込み伸張して前記フィルム7のし
わを伸ばす構成を採用することができる。
て、前記下型2を継続して上動させる構成を採用するこ
とができる。
被覆ウェーハ12は、図4(2)に示すチップ13毎に
切断分離され、図4(3)に示す樹脂被覆チップ14が
形成されると共に、前記した樹脂被覆チップ14の樹脂
11の表面に露出したバンプ3の先端部を、例えば、基
板等と電気的に接続することができるように構成されて
いる。
単数個のキャビティを設ける構成を例示したが、金型に
複数個のキャビティを設ける構成を採用してもよい。
顆粒状樹脂材料を用いる構成を例示したが、例えば、樹
脂タブレット等の種々の形状の樹脂材料を用いることが
できる。また、前記した実施例では、熱硬化性樹脂材料
を用いる構成を例示したが、例えば、熱可塑性樹脂材料
等を採用することができる。
ものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必
要に応じて、任意に且つ適宜に変更・選択して採用でき
るものである。
産性を向上させることができる半導体ウェハーの樹脂被
覆方法を提供することができると云った優れた効果を奏
するものである。
性の樹脂被覆ウェーハを得ることができる半導体ウェハ
ーの樹脂被覆方法を提供することができると云う優れた
効果を奏するものである。
ウェーハの樹脂被覆金型を概略的に示す概略縦断面図で
あって、図1(1)は半導体ウェーハとフィルムとの供
給状態を示し、図1(2)は前記した半導体ウェーハの
吸着・固定状態を示している。
ウェーハの樹脂被覆金型を概略的に示す概略縦断面図で
あって、図2(1)は、樹脂材料の供給状態を示し、図
2(2)は前記して金型に形成した外気遮断範囲から真
空引きした状態を示しているる
ウェーハの樹脂被覆金型を概略的に示す概略縦断面図で
あって、図3(1)は半導体ウェーハのバンプ先端部に
フィルムを当接した状態を示し、図3(2)は金型を型
開きして樹脂被覆ウェーハを離型した状態を示してい
る。
一部切欠概略側面図であり、図4(2)は図4(1)に
示す樹脂被覆ウェーハの概略底面図であり、図4(3)
は前記樹脂被覆ウェーハを切断分離して形成した樹脂被
覆チップを概略的に示す概略縦断面図である。
を概略的に示す概略縦断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 バンプを装着した半導体ウェーハのバン
プ装着面を樹脂で被覆する樹脂被覆用金型の一方の型面
に設けた樹脂被覆用金型キャビティの底面の所定位置に
前記半導体ウェーハを、前記バンプ装着面を前記金型キ
ャビティ底面とは反対側にした状態で、載置供給する半
導体ウェーハの供給工程と、 前記金型の他方の型面にバンプ露出用フィルムを張設す
るフィルムの張設工程と、 前記半導体ウェーハの供給工程時に、前記金型キャビテ
ィ底面に前記ウェーハを吸着・固定する半導体ウェーハ
の吸着・固定工程と、 前記フィルムの張設工程時に、前記金型の他方の型面に
前記フィルムを吸着・固定するフィルムの吸着・固定工
程と、 前記金型キャビティ内に樹脂材料を所要量供給する樹脂
材料の供給工程と、 前記金型を型締めする金型の型締工程と、 前記金型キャビティ内で前記樹脂材料を加熱溶融化する
樹脂材料の加熱溶融化工程と、 前記金型の他方の型面に設けた押圧部材で前記フィルム
を前記金型キャビティ方向に押圧する押圧部材による押
圧工程と、 前記押圧部材による押圧工程時に、前記金型キャビティ
内で前記バンプ先端部に前記フィルムを当接するフィル
ムの当接工程と、 前記押圧部材による押圧工程時に、前記フィルムを介し
て前記金型キャビティ内の樹脂を加圧することによって
前記した半導体ウェーハのバンプ装着面を樹脂で被覆す
る半導体ウェーハの樹脂被覆成形工程と、 前記金型を型開きして前記金型キャビティ内から前記バ
ンプ装着面を樹脂で被覆した樹脂被覆半導体ウェーハを
離型する樹脂被覆ウェーハの離型工程とを備えたことを
特徴とする半導体ウェハーの樹脂被覆方法。 - 【請求項2】 金型の型締工程時に、少なくとも金型キ
ャビティ内を真空引きして所定の真空状態にすることを
特徴とする請求項1に記載の半導体ウェハーの樹脂被覆
方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06410299A JP4011781B2 (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 半導体ウェーハの樹脂被覆方法 |
| SG200001259A SG92685A1 (en) | 1999-03-10 | 2000-03-07 | Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor |
| KR1020000011433A KR100357362B1 (ko) | 1999-03-10 | 2000-03-08 | 반도체 웨이퍼의 수지 피복 방법 및 이에 사용되는 금형 |
| EP00301890A EP1035572A3 (en) | 1999-03-10 | 2000-03-08 | Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor |
| TW089104272A TW460989B (en) | 1999-03-10 | 2000-03-09 | Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor |
| MYPI20000901A MY120473A (en) | 1999-03-10 | 2000-03-09 | Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor |
| US09/523,420 US6346433B1 (en) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | Method of coating semiconductor wafer with resin and mold used therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06410299A JP4011781B2 (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 半導体ウェーハの樹脂被覆方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000260796A true JP2000260796A (ja) | 2000-09-22 |
| JP4011781B2 JP4011781B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=13248390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06410299A Expired - Fee Related JP4011781B2 (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 半導体ウェーハの樹脂被覆方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP4011781B2 (ja) |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4011781B2 (ja) | 2007-11-21 |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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