JP2000264968A - ポリオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法。 - Google Patents
ポリオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法。Info
- Publication number
- JP2000264968A JP2000264968A JP6944999A JP6944999A JP2000264968A JP 2000264968 A JP2000264968 A JP 2000264968A JP 6944999 A JP6944999 A JP 6944999A JP 6944999 A JP6944999 A JP 6944999A JP 2000264968 A JP2000264968 A JP 2000264968A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyorganosiloxane
- mixture
- group
- latex
- silane compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
下のポリオルガノシロキサン系ラテックスを提供するこ
と。 【解決手段】 環状オルガノシロキサンオリゴマーとし
て3量体0〜10重量%、4量体40〜95重量%、5
量体5〜40重量%、6量体以上0〜10重量%からな
るオリゴマーを用いて、PH3以下の酸性状態で、かつ
60℃以上に加熱して乳化重合する。
Description
摺動性付与剤、撥水性付与剤、成形材料の加工助剤、難
燃剤およびコーティング材料などに用いるのに適した、
数平均粒子径0.1μm以下のポリオルガノシロキサン
系ラテックスの製造方法に関する。
性、耐水性、熱安定性、耐候性、難燃性および潤滑性な
どの性質が良好であるために、該粒子を含むラテックス
は耐衝撃性改良剤、摺動性付与剤、撥水性付与剤、成形
材料の加工助剤、難燃剤およびコーティング材料などの
原料として広く利用されている。これらの用途において
は、より高い性能を発現させるために、ポリオルガノシ
ロキサン系ラテックスの平均粒子径を0.1μm以下に
することがいくつか検討されているが、いまだ満足のい
くものがえられていない。
と重合触媒からなる反応系に、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン(環状ジメチルシロキサンオリゴマーの4
量体)、乳化剤および水からなるエマルジョンを添加、
重合させることにより平均粒子径0.1μm以下のポリ
オルガノシロキサン系ラテックスを製造する方法が開示
されている。
重合触媒からなる反応系に、オクタメチルシクロテトラ
シロキサン(環状ジメチルシロキサンオリゴマーの4量
体)、シロキサン系架橋剤、シロキサン系グラフト交叉
剤の混合物、乳化剤および水からなるエマルジョンを滴
下させて重合させることにより平均粒子径0.1μm以
下のポリオルガノシロキサン系ラテックスを製造する方
法が開示されている。
開昭62−141029号公報および前記特開平5−1
94740号公報に開示されたいずれの方法も、ポリオ
ルガノシロキサン系ラテックスの粒子径を0.1μm以
下にするためには多量の乳化剤を使用せねばならず、え
られたポリオルガノシロキサン系ラテックスを原料とし
た摺動性性改良剤などは熱可塑性樹脂等に配合して成形
すると、残存乳化剤に起因する成形体外観の悪化などの
品質問題を引き起こす。
よりも少量の乳化剤で数平均粒子径0.1μm以下のポ
リオルガノシロキサン系ラテックスを製造することであ
る。
について鋭意検討を重ねた結果、特定の構造単位からな
る環状オルガノシロキサンオリゴマーの特定組成の混合
物を用いると、従来の技術より少量の乳化剤で数平均粒
子径0.1μm以下のポリオルガノシロキサン系ラテッ
クスを製造することができることを見出し本発明を完成
するに至った。
フェニル基などの炭素数1〜10の1価の炭化水素基で
あり、R1、R2は同じでもよく異なってもよい)で表さ
れる単位からなる環状オルガノシロキサンオリゴマーの
混合物を乳化重合してなる数平均粒子径が0.008〜
0.1μmのポリオルガノシロキサン系ラテックスの製
造方法であって、環状オルガノシロキサンオリゴマーの
混合物が3量体0〜10%(重量%、以下同様)、4量
体40〜95%、5量体5〜40%、6量体以上0〜1
0%からなることを特徴とする製造方法(請求項1)、
環状オルガノシロキサンオリゴマーの混合物が環状ジメ
チルシロキサンオリゴマーの混合物である請求項1記載
のポリオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法(請
求項2)、乳化重合を、pH3以下の酸性状態で、かつ
60℃以上に加熱して行なう請求項1または2のポリオ
ルガノシロキサン系ラテックスの製造方法(請求項3)
に関する。
フェニル基などの炭素数1〜10の1価の炭化水素基で
あり、R1、R2は同じでもよく異なってもよい)で表さ
れる単位からなる環状オルガノシロキサンオリゴマーの
混合物を乳化重合してなる数平均粒子径が0.008〜
0.1μmのポリオルガノシロキサン系ラテックスの製
造方法であって、環状オルガノシロキサンオリゴマーの
混合物が3量体0〜10%、4量体40〜95%、5量
体5〜40%、6量体以上0〜10%(合計量100
%)からなることを特徴とする製造方法である。
キサン系ラテックスは、光散乱法または電子顕微鏡観察
から求められる数平均粒子径が0.008〜0.1μm
であり、好ましくは0.01〜0.08μmである。
うること自体困難になる傾向にあり、またあまりにも大
きいばあい、たとえばコーティング材料としてもちいた
ばあいに塗膜表面の平滑性が乏しくなる傾向にある。
は、ポリオルガノシロキサン鎖の主骨格を形成するため
の成分であり、その具体例としては、環状ジメチルシロ
キサンオリゴマー、環状ジエチルシロキサンオリゴマ
ー、環状メチルフェニルシロキサンオリゴマー、環状ジ
フェニルシロキサンオルゴマーなどがあげられる。これ
らは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらのなかでは、経済的な点から環状ジメチルシロキ
サンオリゴマーが特に好ましい。
リゴマーの3量体はヘキサメチルシクロトリシロキサ
ン、4量体はオクタメチルシクロテトラシロキサン、5
量体はデカメチルシクロペンタシロキサン、6量体はド
デカメチルシクロヘキサシロキサン、7量体はテトラデ
カメチルシクロヘプタシロキサンなどとして市販されて
いる。本発明の環状オルガノシロキサンオリゴマーの混
合物とは、こうした同族体が混合したものをいう。
シロキサンオリゴマーの混合物が、3量体0〜10%、
4量体40〜95%、5量体5〜40%、6量体以上0
〜10%(合計量100%)からなることが必要であ
る。特に、平均粒子径がより小さいものを得やすいとい
う点で、3量体1〜6%、4量体54〜93%、5量体
5〜30%、6量体以上1〜10%であることが好まし
い。なお、環状オルガノシロキサンオリゴマーの混合物
の組成を分析的に確認するばあい、ガスクロマトグラフ
ィー(たとえば、”シリコーンハンドブック”伊藤邦雄
編、日刊工業新聞社 1990年度出版、p.785な
とに記載の条件)により容易に確認可能である。
多すぎると系の安定性が低下する傾向にある。
プになる傾向にあり、多すぎるばあい、従来技術に比べ
て少量の乳化剤で数平均粒子径0.1μm以下のポリオ
ルガノシロキサン系ラテックスがえられるという本発明
の特徴がえられない傾向にある。
に比べて少量の乳化剤で数平均粒子径0.1μm以下の
ポリオルガノシロキサン系ラテックスがえられるという
本発明の特徴がえられない傾向にあり、多すぎるばあ
い、コストアップになる傾向にある。
あるが多すぎるとコストアップになる傾向にあるととも
に系の安定性が低下する傾向にもある。
としては、20量体、さらには10量体であることが好
ましく、該オリゴマーが20量体をこえると重合中の系
の安定性が低下する傾向にある。
混合物の乳化重合は、たとえば、米国特許第28919
20号明細書、同第3294725号明細書等などに記
載の公知の方法を用いて行うことができる。
リゴマーの混合物を乳化剤の存在下で機械的剪断により
水中に乳化分散して酸性状態で重合することができる。
かかる方法においては、機械的剪断により数μm以上の
エマルジョン滴を調製することが、重合後にえられるポ
リオルガノシロキサン系ラテックスの数平均粒子径を
0.008〜0.1μm、好ましくは0.01〜0.0
8μmの範囲で制御しやすいことから好ましい。
1μm、好ましくは0.01〜0.08μmの範囲でか
つ粒子径分布の狭いものをえるためには、多段階で重合
することが好ましい。たとえば前記環状オルガノシロキ
サンオリゴマーの混合物、水および乳化剤を機械的剪断
により乳化してえられた、数μm以上の乳化液滴からな
るエマルジョンの1〜20%を先に酸性状態で乳化重合
し、えられたポリオルガノシロキサンをシードとしてそ
の存在下で残りのエマルジョンを追加して重合する。こ
のようにしてえられたポリオルガノシロキサン系ラテッ
クスの粒子径分布の変動係数(100×標準偏差/数平
均粒子径(%))は50%以下になる傾向にある。ま
た、該多段重合において、ポリオルガノシロキサンのシ
ードの代わりに、ビニル系単量体(例えばスチレン、ア
クリル酸ブチルなど)を通常の乳化重合法により重合し
てなるビニル系重合体を用いて同様の多段重合を行なっ
ても、えられるビニル系重合体含有ポリオルガノシロキ
サン(変性ポリオルガノシロキサン)系ラテックスの粒
子径分布の変動係数(100×標準偏差/数平均粒子径
(%))は50%以下になる傾向にある。
ーなど高速撹拌機を使用することにより調製することが
できる。
は、酸性領域でも乳化剤として活性を失わないものであ
り、かかる乳化剤の例としては、たとえばアルキルベン
ゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム、アルキルスルホン酸、アルキルスルホン酸ナトリウ
ム、(ジ)アルキルスルホコハク酸ナトリウム、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテルスルホン酸ナトリ
ウム、アルキル硫酸ナトリウムなどがあげられる。これ
らは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。
やアルキルベンゼンスルホン酸、アルキルスルホン酸、
トリフルオロ酢酸などの有機酸を添加してpHを1〜3
にするのが好ましい。とくに、アルキルベンゼンスルホ
ン酸またはアルキルスルホン酸は、乳化剤としても作用
することから好ましい。
さらには70〜100℃であるのが、重合速度が適度で
ある点から好ましい。
クスがえられるが、酸性状態下では、ポリオルガノシロ
キサンの骨格を形成しているSi−O−Si結合は切断
と生成の平衡状態にあり、この平衡は温度によって変化
するので、ポリオルガノシロキサン鎖の安定化のため
に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ムなどのアルカリ水溶液の添加により中和することが好
ましい。さらには、該平衡は、低温になるほど生成側に
より、高分子量または高架橋度(後述する3官能以上の
シラン化合物を併用するばあい)のものが生成しやすく
なるので、高分子量または高架橋度のものをうるために
は、ポリオルガノシロキサンラテックスを製造する際の
重合を60℃以上で行ったあと室温程度に冷却して5〜
100時間程度保持してから中和することが好ましい。
マーの混合物とともに、2官能シラン化合物、3官能以
上のシラン化合物、ビニル系重合性基含有シラン化合物
などを併用して重合してもよい。
ノシロキサンオリゴマーの混合物、2官能シラン化合
物、3官能以上のシラン化合物、ビニル系重合性基含有
シラン化合物を混合してから重合してもよいが、たとえ
ば該環状オルガノシロキサンオリゴマーの混合物を重合
中または重合後に、2官能シラン化合物、3官能以上の
シラン化合物および(または)ビニル系重合性基含有シ
ラン化合物をそのままの状態またはエマルジョンの状態
で添加して重合することもできる。特に、ビニル系重合
性基含有シラン化合物を添加するばあい、重合時の加熱
によりビニル系重合性基が失活するのを抑えることがで
きる点で後者の併用の仕方が好ましい。
ガノシロキサンオリゴマーの混合物の重合時に共重合し
てポリオルガノシロキサン鎖の主骨格に取り込まれる成
分であり、具体例としては、ジエトキシジメチルシラ
ン、ジメトキシジメチルシラン、ジフェニルジメトキシ
シラン、ジフェニルジエトキシシラン、3−クロロプロ
ピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシル
メチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルメチル
ジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシラ
ンなどがあげられる。これらのなかでは、えられるポリ
オルガノシロキサンの屈折率を高められる点や難燃性を
付与できる点でジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシランなどが好ましく用いられる。
状オルガノシロキサンオリゴマーの混合物、2官能シラ
ン化合物などと共重合することによりポリオルガノシロ
キサンに架橋構造を導入してゴム弾性を付与するための
成分、すなわちポリオルガノシロキサンの架橋剤として
用いられる。具体例としては、テトラエトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルト
リメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシ
シラン、オクタデシルトリメトキシシランなどの4官
能、3官能のアルコキシシラン化合物などがあげられ
る。これらのなかではテトラエトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリメトキシシランが架橋効
率の高さの点から好ましく用いられる。
は、前記環状オルガノシロキサンオリゴマーの混合物、
2官能シラン化合物、3官能以上のシラン化合物などと
共重合し、共重合体の側鎖または末端にビニル系重合性
基を導入するための成分であり、たとえばえられるポリ
オルガノシロキサンにビニル系単量体をグラフト重合す
る際のグラフト点を形成する。さらには、ラジカル重合
開始剤によってグラフト活性点間をラジカル反応させて
架橋結合を形成させる(たとえば、特開平10−292
023号公報明細書参照)ことができ架橋剤としても使
用できる成分でもある。なお、このばあいでも、一部は
グラフト活性点として残るのでグラフトは可能である。
具体例としては、たとえば、一般式(I):
の1価の炭化水素基、Xは炭素数1〜6のアルコキシ
基、aは0、1または2、pは1〜6の数を示す)で表
わされるシラン化合物、一般式(II):
わされるシラン化合物、一般式(III):
わされるシラン化合物、一般式(IV):
炭素数1〜6の2価の炭化水素基を示す)で表わされる
シラン化合物、一般式(V):
炭素数1〜18の2価の炭化水素基を示す)で表わされ
るシラン化合物などがあげられる。
ては、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基などの
アルキル基、フェニル基などがあげられ、また、Xの具
体例としては、たとえばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ
基などがあげられる。また、一般式(IV)のR5の具
体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン
基、ブチレン基などがあげられ、一般式(V)のR6の
具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン
基、ブチレン基などがあげられる。
具体例としては、たとえばβ−メタクリロイルオキシエ
チルジメトキシメチルシラン、γ−メタクリロイルオキ
シプロピルジメトキシメチルシラン、γ−メタクリロイ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロ
イルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−メタ
クリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、
γ−メタクリロイルオキシプロピルトリプロポキシシラ
ン、γ−メタクリロイルオキシプロピルジプロポキシメ
チルシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルジメチル
メトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリ
メトキシシランなどが、一般式(II)ので表わされるシ
ラン化合物の具体例としては、p−ビニルフェニルジメ
トキシメチルシラン、p−ビニルフェニルトリメトキシ
シラン、p−ビニルフェニルトリエトキシシラン、p−
ビニルフェニルジエトキシメチルシランなどが、一般式
(III)で表わされるシラン化合物の具体例としては、
たとえばビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチル
ジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル
トリエトキシシランなどが、一般式(IV)で表わされる
シラン化合物の具体例としては、アリルメチルジメトキ
シシラン、アリルメチルジエトキシシラン、アリルトリ
メトキシシラン、アリルトリエトキシシランなどが、一
般式(V)で表わされるシラン化合物の具体例として
は、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプ
トプロピルジメトキシメチルシランなどがあげられる。
これらのなかでは一般式(I)、一般式(II)、一般式
(V)で表わされるシラン化合物が経済性の点から好ま
しく用いられる。
合物がトリアルコキシシラン型であるばあいには、架橋
剤としても作用する。
混合物、2官能シラン化合物、3官能以上のシラン化合
物、およびビニル系重合性基含有シラン化合物の重合時
の使用割合は、通常、環状オルガノシロキサンオリゴマ
ーの混合物40〜100%、さらには50〜99%、2
官能シラン化合物0〜60%、さらには0〜50%、3
官能以上のシラン化合物0〜60%、さらには0.5〜
50%、ビニル系重合性基含有シラン化合物0〜60
%、さらには0.5〜50%であるのが好ましい。
が、その使用割合が多すぎるばあいには、えられるポリ
オルガノシロキサン系ラテックスの安定性が低下する傾
向がある。
であるが、その使用割合が多すぎるばあい、えられるポ
リオルガノシロキサン系ラテックスの安定性が低下する
傾向がある。
任意成分であるが、その使用割合が多すぎるばあい、え
られるポリオルガノシロキサン系ラテックスの安定性が
低下する傾向がある。
キサン系ラテックスの粒子径分布の変動係数は、好まし
くは10〜100%あり、さらに好ましくは20〜50
%である。該ポリオルガノシロキサン系ラテックスを5
0℃で5日間乾燥させてえられる固形成分は、たとえば
トルエンに室温で24時間浸漬したばあいのトルエン不
溶分量は好ましくは0〜100%、さらに好ましくは0
〜95%である。トルエン不溶分量が0〜30%のばあ
い、トルエンに可溶する部分のポリスチレン換算重量平
均分子量は好ましくは5千〜50万、さらに好ましくは
1万〜30万である。該ポリオルガノシロキサン系ラテ
ックスがこれらの条件を満たすばあい難燃剤や耐衝撃性
改質剤などに使用する際に物性が良好という点で好まし
い。
オルガノシロキサン系ラテックスから、ポリオルガノシ
ロキサン系の固体あるいは粉体を回収するばあい、通常
の方法、たとえばラテックスに塩化カルシウム、塩化マ
グネシウム、硫酸マグネシウムなどの金属塩、塩酸、硫
酸、リン酸、酢酸のような無機酸および有機酸を添加す
ることによりラテックスを凝固し、(熱)水で洗浄後、
脱水乾燥する方法が用いられる。また、スプレー乾燥法
も使用できる。
が、本発明はこれらのみに限定されない。
測定および試験はつぎのように行った。 [重合転化率]ラテックスを120℃の熱風乾燥器で1
時間乾燥して固形成分量を求めて、固形成分量/仕込み
単量体量×100(%)で算出した。 [数平均粒子径]測定装置として、リード&ノースラッ
プインスツルメント(LEED&NORTHRUP I
NSTRUMENTS)社製のMICROTRAC U
PAを用いて、光散乱法により数平均粒子径(μm)お
よび粒子径分布の変動係数(標準偏差/数平均粒子径
(%))を測定した。 [重量平均分子量]重量平均分子量はゲル浸透クロマト
グラフィーで測定した。測定用試料は、ポリオルガノシ
ロキサン系ラテックスを50℃で5日間乾燥させてなる
固体をTHFに濃度が1%(重量/体積%)になるよう
に溶解させて調製した。測定装置はTSKgel CM
Hxlカラムを備えた東ソー社製のHLC−8020ク
ロマトグラフを用い、THFを移動相として、ポリスチ
レン換算数平均分子量を求めた。。 [トルエン不溶分量]ポリオルガノシロキサン系ラテッ
クスを50℃で5日間乾燥させてなる固体0.5gを室
温にてトルエン80mlに24時間浸漬し、12000
rpmにて60分間遠心分離して該固体または該粉体の
トルエン不溶分の重量分率(%)を測定した。
ンオリゴマーを混合してえた混合物100部、さらにド
デシルベンゼンスルホン酸(DBSA)およびドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム(SDBS)を表1に示
す量で混合した混合液をホモミキサーにより10000
rpmで5分間攪拌してエマルジョンを調製した。この
エマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素吹込口、単量
体追加口、温度計を備えた5口フラスコに仕込み、90
℃に約40分かけて昇温後、4時間反応させた。その
後、25℃に冷却して20時間保持した後、系のpHを
水酸化ナトリウムで8.0〜8.5に戻して重合を終了
した。えられたラテックスの固形分濃度、重合転化率、
数平均粒子径、粒子径分布の変動係数、ポリオルガノシ
ロキサンの重量平均分子量を測定し、結果を表1に示
す。
リシロキサン、D4はオクタメチルシクロテトラシロキ
サン、D5はデカメチルシクロペンタシロキサン、D6
はドデカメチルシクロヘキサシロキサン、D7はテトラ
デカメチルシクロヘプタシロキサンである環状ジメチル
シロキサンオリゴマーを示す。
ー混合物を用いると単一の環状ジメチルシロキサンオリ
ゴマーまたは特定組成外の環状ジメチルシロキサンオリ
ゴマー混合物を用いたばあいに比べて数平均粒子径のよ
り小さいものがえられることがわかる。また単一の環状
ジメチルシロキサンオリゴマーを用いて、環状ジメチル
シロキサンオリゴマーの混合物を用いてえられる数平均
粒子径をえようとすると4倍以上の乳化剤(SDBS+
DBSA)が必要であることがわかる。
%、D4 69.5%、D5 20%、D6 5%、D
7 0.5%)、テトラエトキシシラン(TEOS)、
メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン(MPrD
MS)、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキ
シシラン(TSMA)を表2に示す量用いて、実施例1
と同様に乳化状態で重合を行ない、ポリオルガノシロキ
サン系ラテックスをえた。結果を表2に示す。
シラン化合物を併用しても、環状ジメチルシロキサンオ
リゴマー混合物を用いたばあい、単一の環状ジメチルシ
ロキサンオリゴマーを用いたばあいに比べて同一乳化剤
量で数平均粒子径のより小さいものがえられることがわ
かる。
度計を備えた5口フラスコに、 成分 量(部) 純水 190 SDBS 1.5 過硫酸カリウム 0.002 を仕込んだ。
昇温し、アクリル酸ブチル(BA)1部とスチレン(S
t)2部からなる混合液を一括添加して、1時間撹拌し
て重合を完結させて、BA/St共重合体のラテックス
をえた。重合転化率は99%であった。えられたラテッ
クスの固形分濃度は2.3%、数平均粒子径0.01μ
mであり、粒子径分布の変動係数は34%であった。
混合物(D3 5%、D4 70%、D5 20%、D
6 5%)を含む次の混合物をホモミキサーで1000
0rpm、5分間攪拌してポリオルガノシロキサン形成
成分のエマルジョンを調製した。
℃に保ち、系にDBSA2部と純水18部を添加して系
のpHを1.2にしたのち、ポリオルガノシロキサン形
成成分のエマルジョンを均等に4回に分けて1時間ごと
に一括で添加した。添加終了後1時間撹拌を続けたの
ち、25℃に冷却して20時間放置した。その後、水酸
化ナトリウムでpHを8.9にして重合を終了し、ポリ
オルガノシロキサン系ラテックスをえた。ポリオルガノ
シロキサン形成成分の重合転化率は87%であった。ラ
テックスの固形分濃度は24%であった。
60℃に保ち、チッ素気流下で、tert−ブチルパー
オキシイソプロピルカーボネートを0.2部添加して1
0分間撹拌した。つづいて、ナトリウムホルムアルデヒ
ドスルホキシレート0.02部、エチレンジアミン4酢
酸2ナトリウム0.01部および硫酸第一鉄0.002
部添加して2時間撹拌し、ラジカル反応による架橋形成
を進行させ、ポリオルガノシロキサン系ラテックスをえ
た。ラテックスの製造の際に使用した乳化剤量(SDB
S+DBSA)量および数平均粒子径、粒子径分布の変
動係数、トルエン不溶分量についての測定結果を表3に
示す。
合物を用いる代わりにD4を用いた以外は同様にしてポ
リオルガノシロキサン系ラテックスをえた。結果を表3
に示す。
るSDBSの量を3.5部にした以外は、比較例8と同
様にしてポリオルガノシロキサン系ラテックスをえた。
結果を表3に示す。
いでも、特定組成を満たす環状ジメチルシロキサンオリ
ゴマー混合物を用いると、単一の環状ジメチルシロキサ
ンオリゴマーを用いるばあいよりも同一乳化剤で数平均
粒子径のより小さいものをうることができることがわか
る。また、単一の環状ジメチルシロキサンオリゴマーを
用いて、環状ジメチルシロキサンオリゴマー混合物を用
いてえられる数平均粒子径をえようとするとより多くの
乳化剤が必要なことがわかる。
子径が0.1μm以下のポリオルガノシロキサン系ラテ
ックスをうることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式: 【化1】 (式中、R1、R2はメチル基、エチル基、プロピル基、
フェニル基などの炭素数1〜10の1価の炭化水素基で
あり、R1、R2は同じでもよく異なってもよい)で表さ
れる単位からなる環状オルガノシロキサンオリゴマーの
混合物を乳化重合してなる数平均粒子径が0.008〜
0.1μmのポリオルガノシロキサン系ラテックスの製
造方法であって、環状オルガノシロキサンオリゴマーの
混合物が3量体0〜10重量%、4量体40〜95重量
%、5量体5〜40重量%、6量体以上0〜10重量%
からなることを特徴とする製造方法。 - 【請求項2】 環状オルガノシロキサンオリゴマーの混
合物が環状ジメチルシロキサンオリゴマーの混合物であ
る請求項1記載のポリオルガノシロキサン系ラテックス
の製造方法。 - 【請求項3】 乳化重合を、pH3以下の酸性状態で、
かつ60℃以上に加熱して行なう請求項1または2のポ
リオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6944999A JP2000264968A (ja) | 1999-03-16 | 1999-03-16 | ポリオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法。 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6944999A JP2000264968A (ja) | 1999-03-16 | 1999-03-16 | ポリオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法。 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000264968A true JP2000264968A (ja) | 2000-09-26 |
Family
ID=13402969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6944999A Pending JP2000264968A (ja) | 1999-03-16 | 1999-03-16 | ポリオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法。 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000264968A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004092236A1 (ja) * | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Kaneka Corporation | ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体、それを含有する樹脂組成物およびポリオルガノシロキサンエマルジョンの製造方法 |
| WO2006059719A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-08 | Kaneka Corporation | シリコーン系重合体粒子およびそれを含有するシリコーン系組成物 |
| WO2007061032A1 (ja) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Kaneka Corporation | シリコーン異型粒子およびその製造方法 |
| JP2009068019A (ja) * | 2008-11-26 | 2009-04-02 | Takemoto Oil & Fat Co Ltd | 球状シルセスキオキサン微粒子及び高分子材料用表面改質剤 |
| US9751901B2 (en) | 2013-01-29 | 2017-09-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for preparing a polyorganosiloxane and a polyorganosiloxane |
-
1999
- 1999-03-16 JP JP6944999A patent/JP2000264968A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004092236A1 (ja) * | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Kaneka Corporation | ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体、それを含有する樹脂組成物およびポリオルガノシロキサンエマルジョンの製造方法 |
| JP2010280900A (ja) * | 2003-04-11 | 2010-12-16 | Kaneka Corp | ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体、それを含有する樹脂組成物およびポリオルガノシロキサンエマルジョンの製造方法 |
| US7994255B2 (en) | 2003-04-11 | 2011-08-09 | Kaneka Corporation | Polyorganiosiloxane-containing graft copolymer, resin compositions containing the same and process for produciton of polyorganosiloxane emulsions |
| WO2006059719A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-08 | Kaneka Corporation | シリコーン系重合体粒子およびそれを含有するシリコーン系組成物 |
| JPWO2006059719A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2008-06-05 | 株式会社カネカ | シリコーン系重合体粒子およびそれを含有するシリコーン系組成物 |
| US8541103B2 (en) | 2004-12-03 | 2013-09-24 | Kaneka Corporation | Silicone polymer particle and silicone composition containing same |
| WO2007061032A1 (ja) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Kaneka Corporation | シリコーン異型粒子およびその製造方法 |
| JP2009068019A (ja) * | 2008-11-26 | 2009-04-02 | Takemoto Oil & Fat Co Ltd | 球状シルセスキオキサン微粒子及び高分子材料用表面改質剤 |
| US9751901B2 (en) | 2013-01-29 | 2017-09-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for preparing a polyorganosiloxane and a polyorganosiloxane |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5546384B2 (ja) | ポリオルガノシロキサン含有グラフト共重合体、それを含有する樹脂組成物およびポリオルガノシロキサンエマルジョンの製造方法 | |
| US4859740A (en) | Particulate multiphase polymers | |
| CN100334123C (zh) | 接枝共聚物和含有它的抗冲、阻燃树脂组合物 | |
| US5169920A (en) | Method for preparing diphenylsiloxane/dimethylsiloxane copolymers | |
| JP4702998B2 (ja) | ゴム変性樹脂およびそれを含有する熱可塑性樹脂組成物 | |
| KR100851266B1 (ko) | 난연성 열가소성 수지 조성물 | |
| JP3685640B2 (ja) | 難燃性樹脂を含有する難燃性樹脂組成物 | |
| US6339127B1 (en) | Aqueous emulsion containing silicone rubber particles and process for preparing the same | |
| US6545116B1 (en) | Flame retardant for thermoplastic resin and flame-retardant resin composition | |
| CN102471491B (zh) | 改性聚硅氧烷化合物的制备方法 | |
| JPWO2000034392A1 (ja) | 熱可塑性樹脂用難燃剤および難燃性樹脂組成物 | |
| JP5341357B2 (ja) | 粒子径と空隙率の分布が制御された中空シリコーン系微粒子とその製造法 | |
| JP3914025B2 (ja) | 難燃性樹脂組成物 | |
| JPH11148009A (ja) | シリコーンゴム系粒子およびその製造方法 | |
| WO2007061032A1 (ja) | シリコーン異型粒子およびその製造方法 | |
| KR20070015397A (ko) | 그라프트 공중합체 및 그것을 함유하는 수지 조성물 | |
| JP3701768B2 (ja) | 架橋ポリオルガノシロキサン粒子およびその製造法 | |
| KR20250086737A (ko) | 실리콘·아세트산비닐 공중합 수지를 포함하는 수지 조성물 및 그 제조 방법 | |
| JPH11116813A (ja) | オルガノシロキサン系グラフト共重合体粒子の製造法 | |
| JP2005314587A (ja) | グラフト共重合体、該共重合体からなる難燃剤及び該難燃剤を配合してなる樹脂組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051027 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051115 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20060105 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060105 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070327 |