JP2000266540A - 電子レベル - Google Patents
電子レベルInfo
- Publication number
- JP2000266540A JP2000266540A JP11071535A JP7153599A JP2000266540A JP 2000266540 A JP2000266540 A JP 2000266540A JP 11071535 A JP11071535 A JP 11071535A JP 7153599 A JP7153599 A JP 7153599A JP 2000266540 A JP2000266540 A JP 2000266540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electronic level
- pattern
- staff
- light
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C15/00—Surveying instruments or accessories not provided for in groups G01C1/00 - G01C13/00
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】電子レベル用標尺のパターン面に陰影が形成さ
れても電子レベル本体が支障なくパターンの判別が行え
る様にする。 【解決手段】視準する標尺１に配されたパターンを光電
変換し高低差を求める電子レベルに於いて、前記標尺を
照射する測定補助光１１をパルス照射する照射装置を備
え、電子レベル用標尺の反射面に生じた陰影の影響を除
去する。
れても電子レベル本体が支障なくパターンの判別が行え
る様にする。 【解決手段】視準する標尺１に配されたパターンを光電
変換し高低差を求める電子レベルに於いて、前記標尺を
照射する測定補助光１１をパルス照射する照射装置を備
え、電子レベル用標尺の反射面に生じた陰影の影響を除
去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子レベルに係り、
特に標尺のパターン像を光電変換器により電気信号に変
換し、得られた電気信号から高低差を求める電子レベル
に係るものである。
特に標尺のパターン像を光電変換器により電気信号に変
換し、得られた電気信号から高低差を求める電子レベル
に係るものである。
【０００２】
【従来の技術】レベルは高低差を測定する測量装置であ
り、従来のレベルは測定目標地点に置いた標尺を作業者
が望遠鏡で視準し、標尺に描かれた数値を目視で読取る
測量装置であった。本発明が実施される電子レベルは、
標尺を視準し描かれたパターンを受光素子で受光し、電
気信号に変換して位置を計算し数値として表示する装置
である。
り、従来のレベルは測定目標地点に置いた標尺を作業者
が望遠鏡で視準し、標尺に描かれた数値を目視で読取る
測量装置であった。本発明が実施される電子レベルは、
標尺を視準し描かれたパターンを受光素子で受光し、電
気信号に変換して位置を計算し数値として表示する装置
である。
【０００３】先ず、電子レベルに於ける測定原理につい
て説明する。
て説明する。
【０００４】電子レベルに対応して使用される電子レベ
ル用標尺１は、図４に示す様に、第１のパターンＡと第
２のパターンＢと第３のパターンＲが等間隔（ｐ）で繰
返し配置されている。即ち、３種のパターンを１ブロッ
クとして各ブロックが連続して形成されており、最も下
側に配置されたブロックを、０ブロックと定義し、Ｒ
（０）、Ａ（０）、Ｂ（０）と記載すれば、Ｒ（１）、
Ａ（１）、Ｂ（１）、Ｒ（２）、Ａ（２）、Ｂ（２）、
…と繰返し配置されている。尚、全てのパターンが等間
隔ｐで繰返されているので、この間隔に対応した信号を
基準信号とすることができる。
ル用標尺１は、図４に示す様に、第１のパターンＡと第
２のパターンＢと第３のパターンＲが等間隔（ｐ）で繰
返し配置されている。即ち、３種のパターンを１ブロッ
クとして各ブロックが連続して形成されており、最も下
側に配置されたブロックを、０ブロックと定義し、Ｒ
（０）、Ａ（０）、Ｂ（０）と記載すれば、Ｒ（１）、
Ａ（１）、Ｂ（１）、Ｒ（２）、Ａ（２）、Ｂ（２）、
…と繰返し配置されている。尚、全てのパターンが等間
隔ｐで繰返されているので、この間隔に対応した信号を
基準信号とすることができる。
【０００５】そして、例えば第３のパターンＲは、黒幅
８mmで固定幅となっており、第１のパターンＡは６００
mmで１周期となる様に、黒部分の幅を最大変調幅が１０
mmの範囲で変調しており、第２のパターンＢは５７０mm
で１周期となる様に黒部分の幅を最大変調幅が１０mmの
範囲で変調している。
８mmで固定幅となっており、第１のパターンＡは６００
mmで１周期となる様に、黒部分の幅を最大変調幅が１０
mmの範囲で変調しており、第２のパターンＢは５７０mm
で１周期となる様に黒部分の幅を最大変調幅が１０mmの
範囲で変調している。
【０００６】前述した様に、電子レベル用標尺１の第１
のパターンＡは６００mmで１周期となる様に黒部分の幅
を変調し、電子レベル用標尺１の第２のパターンＢは５
７０mmで１周期となる様に黒部分の幅を変調している。
従って、第１のパターンＡと第２のパターンＢとは、周
期が僅かに異なっている為、両者の最小公倍数となる距
離で同様のパターンが繰返し現れる。上記した例では６
００mmと５７０mmの最小公倍数である１１４００mmで同
様のパターンが繰返し現れる。従って第１のパターンＡ
による信号と、第２のパターンＢによる信号との位相差
は、０〜１１４００mmの範囲で０〜２π迄変化すること
になる。
のパターンＡは６００mmで１周期となる様に黒部分の幅
を変調し、電子レベル用標尺１の第２のパターンＢは５
７０mmで１周期となる様に黒部分の幅を変調している。
従って、第１のパターンＡと第２のパターンＢとは、周
期が僅かに異なっている為、両者の最小公倍数となる距
離で同様のパターンが繰返し現れる。上記した例では６
００mmと５７０mmの最小公倍数である１１４００mmで同
様のパターンが繰返し現れる。従って第１のパターンＡ
による信号と、第２のパターンＢによる信号との位相差
は、０〜１１４００mmの範囲で０〜２π迄変化すること
になる。
【０００７】水準高の測定原理を説明する。
【０００８】先ず、遠距離測定の場合を説明する。
【０００９】電子レベルでは電子レベル用標尺１を視準
した場合に、該電子レベル用標尺１のパターン像をリニ
アセンサで受光している。図５はこのリニアセンサから
得られる受光素子からの信号をフーリエ変換し、基準信
号のみ取出してフーリエ変換した場合の信号を示してお
り、フーリエ変換した信号からは、等間隔ピッチｐに相
当する信号を得ることができる。ここで、高速フーリエ
変換で求められた等間隔ピッチに相当する基準信号の位
相をθとし、水平位置に相当するリニアセンサのアドレ
ス位置（第ｍビット目）の位相をθm とすれば、第１式
となる。
した場合に、該電子レベル用標尺１のパターン像をリニ
アセンサで受光している。図５はこのリニアセンサから
得られる受光素子からの信号をフーリエ変換し、基準信
号のみ取出してフーリエ変換した場合の信号を示してお
り、フーリエ変換した信号からは、等間隔ピッチｐに相
当する信号を得ることができる。ここで、高速フーリエ
変換で求められた等間隔ピッチに相当する基準信号の位
相をθとし、水平位置に相当するリニアセンサのアドレ
ス位置（第ｍビット目）の位相をθm とすれば、第１式
となる。
【００１０】Ｈ1 ＝（θm ／３６０°）×ｐ …第１式
【００１１】即ち、等間隔ピッチｐ内を精密に水平位置
Ｈ1 を測定することができる（精測定）。
Ｈ1 を測定することができる（精測定）。
【００１２】又、水平位置を求める為には、電子レベル
用標尺１に形成された等間隔ピッチｐのパターン開始位
置からの概略位置を求める必要がある。そこでリニアセ
ンサからの出力信号を、基準信号（等間隔ピッチｐに相
当する信号）の前後半ピッチ分で積分する。更にこの積
分値を３つ毎に間引けば（プロダクト検波）、図６に示
す様に、第１のパターンＡに相当する信号１と、第２の
パターンＢに相当する信号２と、第３のパターンＲに相
当する信号３とが得られる。然し乍ら第３のパターンＲ
は、幅が変調されていない上、第１のパターンＡと第２
のパターンＢの最大変調幅が１０mmに対して、第３のパ
ターンＲは８mmしかないので、第３のパターンＲに相当
する信号３は、積分値が略一定であり、信号１や信号２
に比較して約８０％の値となる。
用標尺１に形成された等間隔ピッチｐのパターン開始位
置からの概略位置を求める必要がある。そこでリニアセ
ンサからの出力信号を、基準信号（等間隔ピッチｐに相
当する信号）の前後半ピッチ分で積分する。更にこの積
分値を３つ毎に間引けば（プロダクト検波）、図６に示
す様に、第１のパターンＡに相当する信号１と、第２の
パターンＢに相当する信号２と、第３のパターンＲに相
当する信号３とが得られる。然し乍ら第３のパターンＲ
は、幅が変調されていない上、第１のパターンＡと第２
のパターンＢの最大変調幅が１０mmに対して、第３のパ
ターンＲは８mmしかないので、第３のパターンＲに相当
する信号３は、積分値が略一定であり、信号１や信号２
に比較して約８０％の値となる。
【００１３】そして、第３のパターンＲと、第１のパタ
ーンＡと、第２のパターンＢとは、定められた順番に繰
返して配置されているので、間引かれた信号が、第３の
パターンＲ、第１のパターンＡ、第２のパターンＢの何
れであるか、決定することができる。
ーンＡと、第２のパターンＢとは、定められた順番に繰
返して配置されているので、間引かれた信号が、第３の
パターンＲ、第１のパターンＡ、第２のパターンＢの何
れであるか、決定することができる。
【００１４】更に、影等の外乱光の影響を取り除く為、
第３のパターンＲに相当する信号を基準として、図７に
示す様に、（Ａ−Ｒ）、（Ｂ−Ｒ）の信号を得る。
第３のパターンＲに相当する信号を基準として、図７に
示す様に、（Ａ−Ｒ）、（Ｂ−Ｒ）の信号を得る。
【００１５】次に、（Ａ−Ｒ）、（Ｂ−Ｒ）の信号か
ら、水平位置に対応するリニアセンサのアドレス位置
（第ｍビット目）を含む、基準信号が含まれるＲ、（Ａ
−Ｒ）、（Ｂ−Ｒ）の１組の信号を選択し、（Ａ−Ｒ）
と（Ｂ−Ｒ）の位相を求めれば、電子レベル用標尺１の
何れの位置の、第１のパターンＡ、第２のパターンＢ、
第３のパターンＲの組合わせであるかを求めることがで
きる。この結果、水平位置の概略の水準高Ｈ2 を得るこ
とができる（粗測定）。
ら、水平位置に対応するリニアセンサのアドレス位置
（第ｍビット目）を含む、基準信号が含まれるＲ、（Ａ
−Ｒ）、（Ｂ−Ｒ）の１組の信号を選択し、（Ａ−Ｒ）
と（Ｂ−Ｒ）の位相を求めれば、電子レベル用標尺１の
何れの位置の、第１のパターンＡ、第２のパターンＢ、
第３のパターンＲの組合わせであるかを求めることがで
きる。この結果、水平位置の概略の水準高Ｈ2 を得るこ
とができる（粗測定）。
【００１６】以上の様に水準高Ｈは、水平位置に於ける
基準信号の位相を求め（精測定）、又、水平位置に相当
する基準信号が、電子レベル用標尺１のパターン開始位
置を基準に何れの位置にあるかを、第１のパターンＡ、
第２のパターンＢの位相差より求め（粗測定）、これら
精測定した水平位置Ｈ1 と粗測定した水準高Ｈ2 を桁合
わせすることにより求めることができる。
基準信号の位相を求め（精測定）、又、水平位置に相当
する基準信号が、電子レベル用標尺１のパターン開始位
置を基準に何れの位置にあるかを、第１のパターンＡ、
第２のパターンＢの位相差より求め（粗測定）、これら
精測定した水平位置Ｈ1 と粗測定した水準高Ｈ2 を桁合
わせすることにより求めることができる。
【００１７】次に近距離測定の場合を説明する。
【００１８】近距離測定の場合には、遠距離測定の様に
フーリエ変換を施した後、プロダクト検波を行つて水準
高を求めるよりも、第１のパターンＡと第２のパターン
Ｂと第３のパターンＲの鮮明な画像が得られる為、直接
に信号幅を測定し何番目ブロックに該当するかを決定す
ることで近距離に於いては高精度の測定ができる。
フーリエ変換を施した後、プロダクト検波を行つて水準
高を求めるよりも、第１のパターンＡと第２のパターン
Ｂと第３のパターンＲの鮮明な画像が得られる為、直接
に信号幅を測定し何番目ブロックに該当するかを決定す
ることで近距離に於いては高精度の測定ができる。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】上記した様に、電子レ
ベルでは標尺の視準面に描かれた白黒パターンを受光素
子で受光し、パターンを判別することにより高低位置を
検出していた。その為、日中の木陰の様な場所での測定
では、コントラストの強い太陽光と影が標尺のパターン
と重なり、受光素子上でパターンの判別が困難となる問
題があった。
ベルでは標尺の視準面に描かれた白黒パターンを受光素
子で受光し、パターンを判別することにより高低位置を
検出していた。その為、日中の木陰の様な場所での測定
では、コントラストの強い太陽光と影が標尺のパターン
と重なり、受光素子上でパターンの判別が困難となる問
題があった。
【００２０】本発明は斯かる実情に鑑み電子レベル用標
尺のパターン面に陰影が形成されても支障なくパターン
の判別が行える様にするものである。
尺のパターン面に陰影が形成されても支障なくパターン
の判別が行える様にするものである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明は、視準する標尺
に配されたパターンを光電変換し高低差を求める電子レ
ベルに於いて、前記標尺を照射する測定補助光をパルス
照射する照射装置を備えた電子レベルに係り、又視準す
る前記標尺範囲をカバーする様に前記測定補助光は扇状
に照射する電子レベルに係り、又照射装置の発光源とし
て半導体レーザを具備し、該半導体レーザの射出ビーム
は垂直方向に一致してビーム広がり角が大きい電子レベ
ルに係り、又電子レベル用標尺からの反射光を受光する
受光素子にシャッタを配設し、該シャッタが前記照射装
置と同期駆動される電子レベルに係り、又電子レベル用
標尺からの反射光を受光する受光素子が前記パルス照射
に同期して受光する電子レベルに係り、又パルス照射さ
れる標尺のパターンが描かれた面は、再帰反射シートが
貼設されている電子レベルに係り、又前記再帰反射シー
トは色付きの反射シートである電子レベルに係るもので
あり、測定補助光をパルス光として照射することで、電
子レベル用標尺の反射面に生じた陰影の影響が除去さ
れ、又受光素子に入射する反射光を電子シャッタで制限
することでＳ／Ｎ比が向上する。
に配されたパターンを光電変換し高低差を求める電子レ
ベルに於いて、前記標尺を照射する測定補助光をパルス
照射する照射装置を備えた電子レベルに係り、又視準す
る前記標尺範囲をカバーする様に前記測定補助光は扇状
に照射する電子レベルに係り、又照射装置の発光源とし
て半導体レーザを具備し、該半導体レーザの射出ビーム
は垂直方向に一致してビーム広がり角が大きい電子レベ
ルに係り、又電子レベル用標尺からの反射光を受光する
受光素子にシャッタを配設し、該シャッタが前記照射装
置と同期駆動される電子レベルに係り、又電子レベル用
標尺からの反射光を受光する受光素子が前記パルス照射
に同期して受光する電子レベルに係り、又パルス照射さ
れる標尺のパターンが描かれた面は、再帰反射シートが
貼設されている電子レベルに係り、又前記再帰反射シー
トは色付きの反射シートである電子レベルに係るもので
あり、測定補助光をパルス光として照射することで、電
子レベル用標尺の反射面に生じた陰影の影響が除去さ
れ、又受光素子に入射する反射光を電子シャッタで制限
することでＳ／Ｎ比が向上する。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
実施の形態を説明する。
【００２３】図１は電子レベルの概観である。電子レベ
ル本体３と、目標地点を概略合わせる照準器５と、該電
子レベル本体３を支え整準する基盤部６と、目標地点に
ある電子レベル用標尺１を視準する接眼レンズ部７と、
目標地点に視準を合わせる合焦ノブ８と、必要に応じて
電子レベル用標尺１に向けて測定補助光１１を照射する
投光部９と、前記電子レベル用標尺１からの反射光を入
射する望遠鏡の対物レンズ部１０と、電源スイッチ等が
配置される操作部１２とから構成される。測定補助光１
１を射出する光源は、例えば、光量が十分であるが測定
できない時、自動で又は手動で作動される。
ル本体３と、目標地点を概略合わせる照準器５と、該電
子レベル本体３を支え整準する基盤部６と、目標地点に
ある電子レベル用標尺１を視準する接眼レンズ部７と、
目標地点に視準を合わせる合焦ノブ８と、必要に応じて
電子レベル用標尺１に向けて測定補助光１１を照射する
投光部９と、前記電子レベル用標尺１からの反射光を入
射する望遠鏡の対物レンズ部１０と、電源スイッチ等が
配置される操作部１２とから構成される。測定補助光１
１を射出する光源は、例えば、光量が十分であるが測定
できない時、自動で又は手動で作動される。
【００２４】図２は電子レベルの投光部９から前記電子
レベル標尺１に向けて測定補助光１１を照射している様
子を示している。望遠鏡の視準する標尺の範囲をカバー
する様に前記測定補助光１１が縦長楕円状に照射されて
いる。望遠鏡の視界を約１°３０′とし近距離の測定が
１ｍとすれば、望遠鏡と投光部９とを並列に設けたこと
を考慮すると水平に５°垂直に１０°程度の広がり角が
必要となる。光源の半導体素子の射出するビームの広が
り角は水平が約８°、垂直が約３０°であるので、ビー
ム広がり角の大きい方を垂直方向に合わせれば垂直を調
整するればよいことになる。
レベル標尺１に向けて測定補助光１１を照射している様
子を示している。望遠鏡の視準する標尺の範囲をカバー
する様に前記測定補助光１１が縦長楕円状に照射されて
いる。望遠鏡の視界を約１°３０′とし近距離の測定が
１ｍとすれば、望遠鏡と投光部９とを並列に設けたこと
を考慮すると水平に５°垂直に１０°程度の広がり角が
必要となる。光源の半導体素子の射出するビームの広が
り角は水平が約８°、垂直が約３０°であるので、ビー
ム広がり角の大きい方を垂直方向に合わせれば垂直を調
整するればよいことになる。
【００２５】図３に於いて、本発明に係る電子レベル本
体３の概略構成を説明する。
体３の概略構成を説明する。
【００２６】対物レンズ部１０と、コンペンセータ１３
と、ビームスプリッタ１４と、接眼レンズ部７と、ＣＣ
Ｄリニアセンサ（受光素子）１５と、演算処理手段１６
と、駆動部１７とから構成されている。
と、ビームスプリッタ１４と、接眼レンズ部７と、ＣＣ
Ｄリニアセンサ（受光素子）１５と、演算処理手段１６
と、駆動部１７とから構成されている。
【００２７】前記対物レンズ部１０は、電子レベル用標
尺１のパターンの像を形成する為のものである。本実施
の形態での対物レンズ部１０は、対物レンズ２０とイン
ターナルレンズ２１とから構成されており、該インター
ナルレンズ２１を移動させることにより、電子レベル用
標尺１のパターンの像に対するピント合わせを行うこと
ができる。従って、インターナルレンズ２１は合焦部に
該当するものである。
尺１のパターンの像を形成する為のものである。本実施
の形態での対物レンズ部１０は、対物レンズ２０とイン
ターナルレンズ２１とから構成されており、該インター
ナルレンズ２１を移動させることにより、電子レベル用
標尺１のパターンの像に対するピント合わせを行うこと
ができる。従って、インターナルレンズ２１は合焦部に
該当するものである。
【００２８】前記コンペンセータ１３は、電子レベル本
体３の光軸が多少傾いても、視準線を自動的に水平にす
る為の自動補償機構であり、水平光線を上下に変化させ
て結像させるものである。前記ビームスプリッタ１４
は、光を接眼レンズ部７方向と、ＣＣＤリニアセンサ１
５方向に分割する為のものである。
体３の光軸が多少傾いても、視準線を自動的に水平にす
る為の自動補償機構であり、水平光線を上下に変化させ
て結像させるものである。前記ビームスプリッタ１４
は、光を接眼レンズ部７方向と、ＣＣＤリニアセンサ１
５方向に分割する為のものである。
【００２９】前記接眼レンズ部７は、測量者が、電子レ
ベル用標尺１を目視する為のものである。前記ＣＣＤリ
ニアセンサ１５はパターン検出部に該当するもので、対
物レンズ部１０によって形成された電子レベル用標尺１
のパターン像を電気信号に変換する為のものである。
ベル用標尺１を目視する為のものである。前記ＣＣＤリ
ニアセンサ１５はパターン検出部に該当するもので、対
物レンズ部１０によって形成された電子レベル用標尺１
のパターン像を電気信号に変換する為のものである。
【００３０】本実施の形態では、ＣＣＤリニアセンサ１
５が使用されている。該ＣＣＤリニアセンサ１５は、フ
ォトダイオードを少なくとも１次元的に配置したリニア
イメージセンサであれば、何れのセンサでも採用するこ
とができる。
５が使用されている。該ＣＣＤリニアセンサ１５は、フ
ォトダイオードを少なくとも１次元的に配置したリニア
イメージセンサであれば、何れのセンサでも採用するこ
とができる。
【００３１】演算処理手段１６は、アンプ２３と、サン
プルホールド２４と、Ａ／Ｄ変換器２５と、ＲＡＭ２６
と、クロックドライバ２７と、マイクロコンピュータ２
８と、表示器２９とから構成されている。
プルホールド２４と、Ａ／Ｄ変換器２５と、ＲＡＭ２６
と、クロックドライバ２７と、マイクロコンピュータ２
８と、表示器２９とから構成されている。
【００３２】前記アンプ２３は、ＣＣＤリニアセンサ１
５からの電気信号を増幅するものであり、サンプルホー
ルド２４は、増幅された電気信号をクロックドライバ２
７からのタイミング信号でサンプルホールドするもので
ある。Ａ／Ｄ変換器２５は、サンプルホールドされた電
気信号をＡ／Ｄ変換する為のものである。そしてＲＡＭ
２６は、Ａ／Ｄ変換されたデジタル信号を記憶する為の
ものである。又、マイクロコンピュータ２８は、各種演
算処理を行うものである。
５からの電気信号を増幅するものであり、サンプルホー
ルド２４は、増幅された電気信号をクロックドライバ２
７からのタイミング信号でサンプルホールドするもので
ある。Ａ／Ｄ変換器２５は、サンプルホールドされた電
気信号をＡ／Ｄ変換する為のものである。そしてＲＡＭ
２６は、Ａ／Ｄ変換されたデジタル信号を記憶する為の
ものである。又、マイクロコンピュータ２８は、各種演
算処理を行うものである。
【００３３】前記投光部９は半導体レーザ３１、シリン
ドリカルレンズ３２から構成され、前記半導体レーザ３
１は前記駆動部１７を介し、前記マイクロコンピュータ
２８により駆動制御される。前記投光部９、駆動部１
７、マイクロコンピュータ２８等により測定補助光１１
を前記電子レベル用標尺１にパルス照射する照射装置が
構成される。
ドリカルレンズ３２から構成され、前記半導体レーザ３
１は前記駆動部１７を介し、前記マイクロコンピュータ
２８により駆動制御される。前記投光部９、駆動部１
７、マイクロコンピュータ２８等により測定補助光１１
を前記電子レベル用標尺１にパルス照射する照射装置が
構成される。
【００３４】上記した様に望遠鏡で視準する為には測定
補助光１１の広がり角は水平に５°垂直に１０°程度と
なる。光源の半導体素子の射出するビームの広がり角は
水平が約８°、垂直が約３０°であるので、垂直方向の
パワーを持つ前記シリンドリカルレンズ３２を配置し、
前記測定補助光１１の垂直の広がり角を調整している。
補助光１１の広がり角は水平に５°垂直に１０°程度と
なる。光源の半導体素子の射出するビームの広がり角は
水平が約８°、垂直が約３０°であるので、垂直方向の
パワーを持つ前記シリンドリカルレンズ３２を配置し、
前記測定補助光１１の垂直の広がり角を調整している。
【００３５】広がり角を調整された補助光１１は前記電
子レベル用標尺１を照射するが、連続に照射される必要
はない。受光素子即ちＣＣＤリニアセンサ１５が受光を
感知できる入射光量があれば良い。受光素子がＣＣＤで
あれば入射光量は「電荷を蓄積する時間」と「入射光の照
度」の積となる。受光素子が出力の高いＬＤであれば数
ミリ秒のパルス発光で十分である。
子レベル用標尺１を照射するが、連続に照射される必要
はない。受光素子即ちＣＣＤリニアセンサ１５が受光を
感知できる入射光量があれば良い。受光素子がＣＣＤで
あれば入射光量は「電荷を蓄積する時間」と「入射光の照
度」の積となる。受光素子が出力の高いＬＤであれば数
ミリ秒のパルス発光で十分である。
【００３６】ＣＣＤリニアセンサ１５はノイズ光を受光
しない様に可視光範囲を受光する様になっていることか
ら前記半導体レーザ３１は可視光に近いＬＤとなるが、
発光時間を短く設定することで問題は生じない。前記Ｃ
ＣＤリニアセンサ１５はパルス発光に同期させて発光の
時のみ受光する様にされている。更に、前記ＣＣＤリニ
アセンサ１５の前面には前記駆動部１７により駆動さ
れ、半導体レーザ３１の発光と同期されて開閉する電気
的シャッタ３０を設け、ノイズ光の受光を妨げる様にな
っていてもよい。
しない様に可視光範囲を受光する様になっていることか
ら前記半導体レーザ３１は可視光に近いＬＤとなるが、
発光時間を短く設定することで問題は生じない。前記Ｃ
ＣＤリニアセンサ１５はパルス発光に同期させて発光の
時のみ受光する様にされている。更に、前記ＣＣＤリニ
アセンサ１５の前面には前記駆動部１７により駆動さ
れ、半導体レーザ３１の発光と同期されて開閉する電気
的シャッタ３０を設け、ノイズ光の受光を妨げる様にな
っていてもよい。
【００３７】前記電子レベル用標尺１のパターンが描か
れた面は、反射しやすい再帰反射シートが貼設されてお
り、該再帰反射シート表面に図４で示すパターンが描か
れている。再帰反射シートに描かれたパターンは白黒パ
ターンに比べて視準光を検出しやすく、測定補助光１１
をより反射する。又パターン或は地のいずれか一方のみ
再帰反射面としても良い。更に通常の再帰反射シートは
グレー色に見えるが、色付きの再帰反射シートとするこ
とで更にパターンの視認性を向上することもできる。
れた面は、反射しやすい再帰反射シートが貼設されてお
り、該再帰反射シート表面に図４で示すパターンが描か
れている。再帰反射シートに描かれたパターンは白黒パ
ターンに比べて視準光を検出しやすく、測定補助光１１
をより反射する。又パターン或は地のいずれか一方のみ
再帰反射面としても良い。更に通常の再帰反射シートは
グレー色に見えるが、色付きの再帰反射シートとするこ
とで更にパターンの視認性を向上することもできる。
【００３８】以下、作動を説明する。
【００３９】前記マイクロコンピュータ２８が前記駆動
部１７を介して前記半導体レーザ３１をパルス発光させ
る。該半導体レーザ３１から発せられる可視光、近赤外
光レーザ光線は前記シリンドリカルレンズ３２により垂
直方向のみが集光され、垂直が１０°、水平が約８°の
広がり角を持つ楕円状の光束が照射される（図２参
照）。
部１７を介して前記半導体レーザ３１をパルス発光させ
る。該半導体レーザ３１から発せられる可視光、近赤外
光レーザ光線は前記シリンドリカルレンズ３２により垂
直方向のみが集光され、垂直が１０°、水平が約８°の
広がり角を持つ楕円状の光束が照射される（図２参
照）。
【００４０】前記半導体レーザ３１から射出されるレー
ザ光線の強さは、木陰等の影響を受けない程度とされ
る。前記電子レベル用標尺１で反射された反射光は前記
対物レンズ部１０を介して入射され、前記ビームスプリ
ッタ１４で接眼レンズ７方向とＣＣＤリニアセンサ１５
方向に分割される。該ＣＣＤリニアセンサ１５の前面に
は前記電気的シャッタ３０が設けられ、前記半導体レー
ザ３１と同期駆動され、前記電子レベル用標尺１からの
反射光が入射する時だけ開放されるので、外来光の入射
が抑制され、その為Ｓ／Ｎ比が向上する。
ザ光線の強さは、木陰等の影響を受けない程度とされ
る。前記電子レベル用標尺１で反射された反射光は前記
対物レンズ部１０を介して入射され、前記ビームスプリ
ッタ１４で接眼レンズ７方向とＣＣＤリニアセンサ１５
方向に分割される。該ＣＣＤリニアセンサ１５の前面に
は前記電気的シャッタ３０が設けられ、前記半導体レー
ザ３１と同期駆動され、前記電子レベル用標尺１からの
反射光が入射する時だけ開放されるので、外来光の入射
が抑制され、その為Ｓ／Ｎ比が向上する。
【００４１】前記電気的シャッタ３０を通して反射光が
入射し、前記ＣＣＤリニアセンサ１５には前述した電子
レベル用標尺１のパターンが投影される。前記アンプ２
３はＣＣＤリニアセンサ１５からの電気信号を増幅する
ものであり、サンプルホールド２４は、増幅された電気
信号をクロックドライバ２７からのタイミング信号でサ
ンプルホールドするものである。Ａ／Ｄ変換器２５は、
サンプルホールドされた電気信号をＡ／Ｄ変換し、前記
ＲＡＭ２６はＡ／Ｄ変換されたデジタル信号を記憶する
為のものである。
入射し、前記ＣＣＤリニアセンサ１５には前述した電子
レベル用標尺１のパターンが投影される。前記アンプ２
３はＣＣＤリニアセンサ１５からの電気信号を増幅する
ものであり、サンプルホールド２４は、増幅された電気
信号をクロックドライバ２７からのタイミング信号でサ
ンプルホールドするものである。Ａ／Ｄ変換器２５は、
サンプルホールドされた電気信号をＡ／Ｄ変換し、前記
ＲＡＭ２６はＡ／Ｄ変換されたデジタル信号を記憶する
為のものである。
【００４２】前記マイクロコンピュータ２８は、前記Ｒ
ＡＭ２６から受光信号を呼込み、遠距離であれば、受光
素子からの信号をフーリエ変換し、或はプロダクト検波
し、更に水平位置に於ける基準信号の位相を求め（精測
定）、又、水平位置に相当する基準信号が、電子レベル
用標尺１のパターン開始位置を基準に何れの位置にある
かを第１のパターンＡ、第２のパターンＢの位相差より
求め（粗測定）、これら精測定した水平位置Ｈ1と粗測
定した水準高Ｈ2を桁合わせする等の演算処理を行う。
ＡＭ２６から受光信号を呼込み、遠距離であれば、受光
素子からの信号をフーリエ変換し、或はプロダクト検波
し、更に水平位置に於ける基準信号の位相を求め（精測
定）、又、水平位置に相当する基準信号が、電子レベル
用標尺１のパターン開始位置を基準に何れの位置にある
かを第１のパターンＡ、第２のパターンＢの位相差より
求め（粗測定）、これら精測定した水平位置Ｈ1と粗測
定した水準高Ｈ2を桁合わせする等の演算処理を行う。
【００４３】又、前記マイクロコンピュータ２８は、近
距離であれば第１のパターンＡと第２のパターンＢと第
３のパターンＲの信号幅を直接測定し、何番目ブロック
に該当するか等の演算処理を行う。
距離であれば第１のパターンＡと第２のパターンＢと第
３のパターンＲの信号幅を直接測定し、何番目ブロック
に該当するか等の演算処理を行う。
【００４４】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、木陰等
の影響を除去する様にパルスの測定補助光を電子レベル
用標尺に照射し測定するので、精度の高い測定を行うこ
とができる。又、必要とされる部分だけ測定補助光をパ
ルス照射するので、低電力で作動し、更に、パルス発光
に応じて電子シャッタを駆動するので外乱光の入射を抑
制できＳ／Ｎ比が向上する、等の優れた効果を発揮す
る。
の影響を除去する様にパルスの測定補助光を電子レベル
用標尺に照射し測定するので、精度の高い測定を行うこ
とができる。又、必要とされる部分だけ測定補助光をパ
ルス照射するので、低電力で作動し、更に、パルス発光
に応じて電子シャッタを駆動するので外乱光の入射を抑
制できＳ／Ｎ比が向上する、等の優れた効果を発揮す
る。
【図１】本発明の実施が実施される電子レベル本体の外
観図である。
観図である。
【図２】本発明の実施の形態での測定状態を示す説明図
である。
である。
【図３】本発明の実施の形態の構成を示すブロック図で
ある。
ある。
【図４】電子レベル用標尺のパターンを示す説明図であ
る。
る。
【図５】リニアセンサの受光信号をフーリエ変換した場
合の信号図である。
合の信号図である。
【図６】受光信号をパターン毎に分離した場合の信号図
である。
である。
【図７】図６の信号から外乱光の影響を除去した場合の
信号図である。
信号図である。
１ 電子レベル用標尺 ３ 電子レベル本体 ７ 接眼レンズ部 ９ 投光部 １５ ＣＣＤリニアセンサ １６ 演算処理手段 １７ 駆動部 ３０ 電気的シャッタ ３１ 半導体レーザ ３２ シリンドリカルレンズ
Claims (7)
- 【請求項１】 視準する標尺に配されたパターンを光電
変換し高低差を求める電子レベルに於いて、前記標尺を
照射する測定補助光をパルス照射する照射装置を備えた
ことを特徴とする電子レベル。 - 【請求項２】 視準する前記標尺範囲をカバーする様に
前記測定補助光は扇状に照射する請求項１の電子レベ
ル。 - 【請求項３】 照射装置の発光源として半導体レーザを
具備し、該半導体レーザの射出ビームは垂直方向に一致
してビーム広がり角が大きい請求項１の電子レベル。 - 【請求項４】 電子レベル用標尺からの反射光を受光す
る受光素子にシャッタを配設し、該シャッタが前記照射
装置と同期駆動される請求項１の電子レベル。 - 【請求項５】 電子レベル用標尺からの反射光を受光す
る受光素子が前記パルス照射に同期して受光する請求項
１の電子レベル。 - 【請求項６】 パルス照射される標尺のパターンが描か
れた面は、再帰反射シートが貼設されている請求項１の
電子レベル。 - 【請求項７】 前記再帰反射シートは色付きの反射シー
トである請求項６の電子レベル。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11071535A JP2000266540A (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 電子レベル |
| US09/510,695 US6573981B2 (en) | 1999-03-17 | 2000-02-22 | Electronic level |
| EP00104315A EP1037014B1 (en) | 1999-03-17 | 2000-03-02 | Electric level |
| DE60025057T DE60025057T2 (de) | 1999-03-17 | 2000-03-02 | Elektronisches Nivellierinstrument |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11071535A JP2000266540A (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 電子レベル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000266540A true JP2000266540A (ja) | 2000-09-29 |
| JP2000266540A5 JP2000266540A5 (ja) | 2006-05-11 |
Family
ID=13463543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11071535A Pending JP2000266540A (ja) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | 電子レベル |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6573981B2 (ja) |
| EP (1) | EP1037014B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000266540A (ja) |
| DE (1) | DE60025057T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013221831A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-10-28 | Topcon Corp | 電子レベル |
| US8881413B2 (en) | 2011-07-04 | 2014-11-11 | Kabushiki Kaisha Topcon | Staff for electronic level |
| JP2015034726A (ja) * | 2013-08-08 | 2015-02-19 | 株式会社トプコン | 電子レベル |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4328919B2 (ja) * | 1999-05-21 | 2009-09-09 | 株式会社トプコン | ターゲット装置 |
| JP2002039750A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Asahi Precision Co Ltd | 自動測量システム |
| AU2001279795A1 (en) * | 2000-08-01 | 2002-02-13 | Mirko Essling | Measuring device and measuring method for determining distance and/or position |
| USD497113S1 (en) | 2002-12-17 | 2004-10-12 | Sokkia Co., Ltd. | Centripetal telescope that uses a laser for surveying instrument |
| USD491824S1 (en) | 2002-12-17 | 2004-06-22 | Sokkia Co., Ltd. | Centripetal telescope that uses a laser for surveying instrument |
| US7296359B2 (en) * | 2004-10-27 | 2007-11-20 | Videojet Technologies | Laser alignment system and method |
| DE102004053686A1 (de) * | 2004-11-03 | 2006-05-04 | Essling, Mirko | Laserempfangseinrichtung mit verbesserter Genauigkeit und geringerem Stromverbrauch |
| US7788815B2 (en) | 2005-01-18 | 2010-09-07 | Wilkinson & Associates | Prism pole with direct readout |
| US7373725B1 (en) * | 2005-10-20 | 2008-05-20 | Laserline Mfg., Inc. | Surveying systems and methods for detecting and measuring changes in elevation |
| CN101490505B (zh) * | 2006-07-12 | 2012-06-06 | 天宝导航有限公司 | 使用gps接收器提供二维位置数据的有高度修正的手持式激光探测器 |
| WO2008014813A1 (en) | 2006-08-01 | 2008-02-07 | Trimble Jena Gmbh | Electronic leveling apparatus and method |
| US8467072B2 (en) | 2011-02-14 | 2013-06-18 | Faro Technologies, Inc. | Target apparatus and method of making a measurement with the target apparatus |
| US9482755B2 (en) | 2008-11-17 | 2016-11-01 | Faro Technologies, Inc. | Measurement system having air temperature compensation between a target and a laser tracker |
| US8638423B2 (en) | 2009-06-22 | 2014-01-28 | Nikon Vision Co., Ltd. | Range finder |
| JP4927182B2 (ja) * | 2009-06-22 | 2012-05-09 | 株式会社 ニコンビジョン | レーザー距離計 |
| JP5378259B2 (ja) * | 2010-02-10 | 2013-12-25 | 株式会社 ソキア・トプコン | 電子レベル |
| US8619265B2 (en) | 2011-03-14 | 2013-12-31 | Faro Technologies, Inc. | Automatic measurement of dimensional data with a laser tracker |
| US9400170B2 (en) | 2010-04-21 | 2016-07-26 | Faro Technologies, Inc. | Automatic measurement of dimensional data within an acceptance region by a laser tracker |
| US9772394B2 (en) | 2010-04-21 | 2017-09-26 | Faro Technologies, Inc. | Method and apparatus for following an operator and locking onto a retroreflector with a laser tracker |
| US8422034B2 (en) | 2010-04-21 | 2013-04-16 | Faro Technologies, Inc. | Method and apparatus for using gestures to control a laser tracker |
| US8537371B2 (en) | 2010-04-21 | 2013-09-17 | Faro Technologies, Inc. | Method and apparatus for using gestures to control a laser tracker |
| US8724119B2 (en) | 2010-04-21 | 2014-05-13 | Faro Technologies, Inc. | Method for using a handheld appliance to select, lock onto, and track a retroreflector with a laser tracker |
| US9377885B2 (en) | 2010-04-21 | 2016-06-28 | Faro Technologies, Inc. | Method and apparatus for locking onto a retroreflector with a laser tracker |
| CN102278974B (zh) * | 2010-06-09 | 2013-04-17 | 南京德朔实业有限公司 | 激光测距装置 |
| US8539685B2 (en) * | 2011-01-20 | 2013-09-24 | Trimble Navigation Limited | Integrated surveying and leveling |
| USD663226S1 (en) * | 2011-02-15 | 2012-07-10 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surveying instrument |
| US9482529B2 (en) | 2011-04-15 | 2016-11-01 | Faro Technologies, Inc. | Three-dimensional coordinate scanner and method of operation |
| US9164173B2 (en) | 2011-04-15 | 2015-10-20 | Faro Technologies, Inc. | Laser tracker that uses a fiber-optic coupler and an achromatic launch to align and collimate two wavelengths of light |
| US9686532B2 (en) | 2011-04-15 | 2017-06-20 | Faro Technologies, Inc. | System and method of acquiring three-dimensional coordinates using multiple coordinate measurement devices |
| US8537376B2 (en) | 2011-04-15 | 2013-09-17 | Faro Technologies, Inc. | Enhanced position detector in laser tracker |
| JP6099675B2 (ja) | 2012-01-27 | 2017-03-22 | ファロ テクノロジーズ インコーポレーテッド | バーコード識別による検査方法 |
| US9041914B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-05-26 | Faro Technologies, Inc. | Three-dimensional coordinate scanner and method of operation |
| FR3005746B1 (fr) * | 2013-05-14 | 2016-09-16 | Cie Ind Des Lasers - Cilas | Dispositif d'illumination laser a obturateur integre. |
| US9395174B2 (en) | 2014-06-27 | 2016-07-19 | Faro Technologies, Inc. | Determining retroreflector orientation by optimizing spatial fit |
| EP3196593B1 (en) * | 2016-01-21 | 2018-01-17 | Safran Vectronix AG | Stabilized observation with lrf function |
| US10928196B2 (en) | 2017-12-28 | 2021-02-23 | Topcon Positioning Systems, Inc. | Vision laser receiver |
| CN111854680A (zh) * | 2019-04-30 | 2020-10-30 | 湖南高速铁路职业技术学院 | 水准仪辅助指示测量装置 |
| CN113865518B (zh) * | 2021-10-09 | 2024-02-06 | 中国科学院新疆天文台 | 一种大视场望远镜焦面与ccd靶面夹角的天文检测方法 |
| CN119984102B (zh) * | 2025-02-20 | 2025-11-11 | 威海怡隆渔具有限公司 | 一种龙门式鱼竿直度检测装置及方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3727219A (en) * | 1971-05-26 | 1973-04-10 | Goodyear Aerospace Corp | Interferometer null multiplication technique and apparatus |
| US4023908A (en) * | 1974-07-29 | 1977-05-17 | Sanders Associates, Inc. | Direction determining method and apparatus |
| DD226066A1 (de) * | 1983-10-03 | 1985-08-14 | Zeiss Jena Veb Carl | Anordnung zur hoehenmessung, vorzugsweise zum geometrischen nivellement |
| CH676043A5 (ja) | 1983-12-30 | 1990-11-30 | Wild Leitz Ag | |
| EP0576004B2 (en) * | 1992-06-24 | 2004-10-13 | Kabushiki Kaisha Topcon | Electronic levelling apparatus and levelling staff used with the same |
| JP3407143B2 (ja) * | 1993-02-16 | 2003-05-19 | 株式会社トプコン | 標尺検出機能付き電子レベル及び標尺 |
| JP3621123B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2005-02-16 | 株式会社トプコン | 測量機 |
| GB2286939B (en) * | 1994-02-17 | 1998-03-25 | Sony Uk Ltd | Video camera with synchronised flash light |
| JP3460074B2 (ja) * | 1995-11-24 | 2003-10-27 | 株式会社トプコン | 電子レベルの水平位誤差補正機構 |
| JP3789625B2 (ja) * | 1997-12-19 | 2006-06-28 | 株式会社ソキア | 電子レベル用標尺及び電子レベル |
-
1999
- 1999-03-17 JP JP11071535A patent/JP2000266540A/ja active Pending
-
2000
- 2000-02-22 US US09/510,695 patent/US6573981B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-02 EP EP00104315A patent/EP1037014B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-02 DE DE60025057T patent/DE60025057T2/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8881413B2 (en) | 2011-07-04 | 2014-11-11 | Kabushiki Kaisha Topcon | Staff for electronic level |
| JP2013221831A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-10-28 | Topcon Corp | 電子レベル |
| JP2015034726A (ja) * | 2013-08-08 | 2015-02-19 | 株式会社トプコン | 電子レベル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1037014A3 (en) | 2001-08-29 |
| EP1037014A2 (en) | 2000-09-20 |
| US6573981B2 (en) | 2003-06-03 |
| US20020149764A1 (en) | 2002-10-17 |
| EP1037014B1 (en) | 2005-12-28 |
| DE60025057T2 (de) | 2006-07-20 |
| DE60025057D1 (de) | 2006-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000266540A (ja) | 電子レベル | |
| JP3460074B2 (ja) | 電子レベルの水平位誤差補正機構 | |
| CN101520514B (zh) | 目标及使用其的三维形状测定装置 | |
| EP0394888B1 (en) | Object detection apparatus of the photoelectric reflection type | |
| US6741082B2 (en) | Distance information obtaining apparatus and distance information obtaining method | |
| CN100422762C (zh) | 距离测量装置 | |
| US20040101164A1 (en) | Automatic tracking apparatus for reflector | |
| US20040100628A1 (en) | Automatic tracking apparatus for reflector | |
| JP2020056746A (ja) | 角度検出システム | |
| US5537200A (en) | Electronic leveling apparatus having a leveling staff detection function, and leveling staff used with the same | |
| EP4261500B1 (en) | Surveying instrument | |
| US6621559B1 (en) | Electronic leveling apparatus and method of controlling focusing operation of the electronic leveling apparatus | |
| JP2009109315A (ja) | 光計測装置及び走査光学系 | |
| US6081327A (en) | Leveling instrument | |
| RU2304792C1 (ru) | Оптико-электронное локационное устройство | |
| JPS6025413A (ja) | 水準測量における標尺目盛検出方法及びその装置 | |
| JP2018040748A (ja) | レーザー距離計測装置 | |
| JP5645311B2 (ja) | 光波距離計 | |
| JPH0821878A (ja) | レーザ測量装置 | |
| JPS61281914A (ja) | 測量装置 | |
| JP2000112661A (ja) | 光走査型タッチパネルの走査光光軸調整方法 | |
| JP3216506B2 (ja) | 測定領域確認機能付き光学特性測定装置 | |
| JPS6097208A (ja) | 高さ測定、中でも水準測量用の装置 | |
| JPS6288906A (ja) | 立体形状の測定方法 | |
| JP2008224622A (ja) | 光量分布測定方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060313 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060313 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080109 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080115 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080317 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080603 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080709 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081205 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090217 |