JP2000268346A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ヘッドによる読み取りにより、ディジタ
ルデータと、出力の全体波形のアナログ的な変化との２
種の書き換えできない固定情報を同一トラック上から得
ることができる磁気記録媒体と、このような磁気記録媒
体の製造方法を提供する。 【解決手段】 磁気記録媒体を、第１磁性層と、所定方
向に沿って磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、こ
の疎密パターンは密部分における磁性材料の含有密度が
上記の所定方向に沿って変化している第２磁性層とが、
この順に基材上に積層された磁気記録層を有するものと
し、このような磁気記録媒体は、基材上に第１磁性層を
形成し、この第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、
第１磁性層上に磁性塗料を塗布して形成した磁性塗膜
に、強度を変化させながらバイアス磁界を上記の所定方
向に沿って印加して磁気配向処理を施し、その後、磁性
塗膜を乾燥して、磁性材料の疎密パターンからなる固定
情報を有する第２磁性層を形成し、第１磁性層および前
記第２磁性層からなる磁気記録層を形成して製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、特
に偽造、変造が困難な磁気記録媒体と、その製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】基材の片面あるいは両面の全域またはス
トライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、
例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、
車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の
金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレ
ジットカード、会員カード等のカード類、磁気ラベル等
として幅広く使用されている。従来、このような磁気記
録媒体は、磁気記録層に高い記録密度で情報を書込み、
外部から簡単には記録情報を読み出せないようにしてい
る。

【０００３】しかし、磁気記録層の特性上、記録された
情報の書換え、消去が自在であるため、偽造、変造が可
能であり、近年、大きな社会問題としてクローズアップ
されている。特に、現在は磁気ストライプの入手が容易
であるため、類似のカードを製造することも可能であ
り、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の表面
に磁気記録層が露出している場合、磁気記録情報を読み
取ったり、磁気転写技術により磁気記録情報を他の磁気
記録層に移すことが容易にできてしまうという問題もあ
る。

【０００４】このような磁気記録情報の可逆性という本
質的な欠点に基づく問題を解決するために、磁気記録情
報の書き換えを困難にする種々の方法が提案されてい
る。例えば、ＢａフェライトやＳｒフェライト等の高保
磁力磁性材料、高保磁力低キュリー点（高Hc低Tc）の磁
性材料、ＭｎＢｉを含有する磁性材料等を用いることに
より、磁気情報を消去されにくくした磁気記録媒体等が
開発されている。

【０００５】また、磁気的な書き換えが不可能となるよ
うに、磁性層に物理的変化を与えることにより磁気記録
情報をもたせた磁気記録媒体も開発されている。例え
ば、印刷により磁気バーコードを設けた磁気記録媒体、
磁性層にレーザー等によりマーキングを施した磁気記録
媒体等が挙げられる。

【０００６】さらに、基材上に比較的低い保磁力の磁性
材料を含む第１磁性層を形成し、この第１磁性層に磁気
記録を行った後、高保磁力の磁性材料を含む第２磁性層
を塗布形成して積層した磁気記録媒体も開発されてい
る。この磁気記録媒体では、第１磁性層の磁気記録パタ
ーンが第２磁性層にコピー（いわゆる磁気転写）されて
いるので、偽造、変造を目的とした磁気ヘッドによる書
き換えが困難である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような単に高保磁力磁性材料を用いた磁気記録媒体は、
外部磁場の影響による磁気記録情報の消去を防ぐことは
可能であるが、これは逆に磁気ヘッドで情報を書き込む
際には磁化されにくく、書き込み装置に制限ができると
いう新たな問題を生じている。

【０００８】また、高Hc低Tc磁性材料やＭｎＢｉ含有磁
性材料を有する磁気記録媒体では、温度による保磁力の
急激な低下を利用し、その条件下で磁気書き込みを行う
ことも可能であるが、常温において磁気記録情報の消去
や書き込みができないため、装置が大掛かりになるとい
う問題がある。

【０００９】さらに、磁気バーコードのように磁性層に
物理的変化を与えた磁気記録媒体では、磁気記録情報の
消去と、新たな情報の書き込みが不可能である。

【００１０】また、第２磁性層に磁気転写された磁気記
録情報を備える磁気記録媒体は、非常に強い磁界が加わ
ると、磁気転写による第２磁性層の磁気記録が消去され
てしまうという問題があり、さらに、高保磁力磁性材料
を含む第２磁性層に磁気転写を効率良く行うことが困難
なため、読み取りに必要な磁気出力が第２磁性層から得
られないという問題もあった。

【００１１】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、磁気ヘッドによる読み取りにより、ディ
ジタルデータと、出力の全体波形のアナログ的な変化と
の２種の書き換えできない固定情報を同一トラック上か
ら得ることができる磁気記録媒体と、このような磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の磁気記録媒体は、基材と、該基材上
に磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側から順に
第１磁性層と第２磁性層とが積層されたものであり、該
第２磁性層は所定方向に沿って磁性材料を所定の疎密パ
ターンで含有し、該疎密パターンの密部分における磁性
材料の含有密度が前記所定方向に沿って変化しているよ
うな構成とした。

【００１３】また、本発明の磁気記録媒体は、基材と、
該基材上に磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側
から順に第１磁性層と第２磁性層とが積層されたもので
あり、該第２磁性層は磁性材料を所定の疎密パターンで
含有する部位が所望の間隔で所定方向に沿って配列し、
各部位において前記疎密パターンの密部分における磁性
材料の含有密度が前記所定方向に沿って変化しているよ
うな構成とした。

【００１４】さらに、本発明の磁気記録媒体は、前記疎
密パターンにおいて、磁性材料の密部分の間隔が２種以
上存在するような構成、第１磁性層と第２磁性層との間
に磁気シールド層を備えるような構成とした。

【００１５】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基材
上に第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所定方向に沿
って所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に磁
性塗料を塗布し、該磁性塗膜に強度を変化させながらバ
イアス磁界を前記所定方向に沿って印加して磁気配向処
理を施した後、前記磁性塗膜を乾燥して、前記第１磁性
層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パター
ンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成して、前
記第１磁性層および前記第２磁性層からなる磁気記録層
を形成するような構成とした。

【００１６】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所定
方向に沿って磁気ヘッドの書き込み電流を変化させなが
ら所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に磁性
塗料を塗布し、該磁性塗膜にバイアス磁界を前記所定方
向に沿って印加して磁気配向処理を施しながら、あるい
は、磁気配向処理を施した後、前記磁性塗膜を乾燥し
て、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性
材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性
層を形成して、前記第１磁性層および前記第２磁性層か
らなる磁気記録層を形成するような構成とした。

【００１７】さらに、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、前記第１磁性層への磁気記録において、書き込み密
度を変化させるような構成、前記第１磁性層上に磁気シ
ールド層を形成した後、前記第２磁性層を形成するよう
な構成とした。

【００１８】上記のような本発明では、第２磁性層の記
録された磁性材料の疎密パターンからなる固定情報が、
疎密パターンによる書き換え不能なディジタルデータを
もち、さらに、この疎密パターンの磁気ヘッドによる読
み取りによる出力の全体波形のアナログ的な変化に情報
性を付与することにより、書き換えできない２つの固定
情報を同一トラック上から得ることができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しながら説明する。磁気記録媒体 図１は本発明の磁気記録媒体の一実施形態を説明するた
めにカード形状の磁気記録媒体の斜視図であり、図２は
図１のＡ−Ａ断面矢視図である。

【００２０】図１および図２において、本発明の磁気記
録媒体１は、基材２と、この基材２の一方の面に設けら
れた磁気記録層３を備えており、磁気記録層３は第１磁
性層３ａと第２磁性層３ｂとが積層されて構成されてい
る。磁気記録層３には、磁気ヘッドによる読み取り方向
（図１の矢印ａ方向）に沿ってストライプ状に固定情報
領域４が設定されている。そして、第２磁性層３ｂは、
上記の固定情報領域４に磁性材料の疎密パターンからな
る固定情報を有するものである。

【００２１】本発明の磁気記録媒体１を構成する基材２
は、基材として要求される耐熱性、強度、剛性等を考慮
して、ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ、ＰＥＮ等のポリエステル、
塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン、ポリ乳酸等の樹脂、生分解性
樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙、合成紙
等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み
合わせた複合体により構成することができる。このよう
な基材２の厚さは、１００μｍ〜１ｍｍ、好ましくは１
５０〜２５０μｍ程度とすることができる。

【００２２】上記の磁気記録層３を構成する第１磁性層
３ａは、保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁
性材料を含有する。この磁性材料の保磁力が３００Ｏｅ
未満であると、外部磁界に対する耐性が不十分であり、
６０００Ｏｅを超えると、磁気ヘッドによる安定した記
録が難しくなり好ましくない。尚、磁気ヘッドによる記
録が安定して行えるならば、保磁力が６０００Ｏｅを超
える磁性材料を使用することができる。

【００２３】第１磁性層３ａを構成する上記のような保
磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料として
は、例えば、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ
₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、ＣｒＯ₂ 、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−
Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｂａフェライト、Ｓｒ
フェライト等の磁性微粒子が挙げられる。

【００２４】この第１磁性層３ａは、上記の磁性微粒子
を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる
磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等
の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形
成することができる。また、上記の磁性材料を用いて、
真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法等により第１
磁性層３ａを形成することもできる。

【００２５】また、第１磁性層３ａの厚さは、塗布方法
により形成される場合、乾燥後の厚みで１〜５０μｍ、
好ましくは３〜２０μｍ程度である。この第１磁性層３
ａには、第２磁性層３ｂの形成前に、矢印ａ方向に沿っ
て所望の磁気情報が記録される。

【００２６】上記の磁気記録層３を構成する第２磁性層
３ｂに含有される磁性材料としては、例えば、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｆｅ等からなる磁性合金材料、パーマロイ、センダ
スト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｃｏ−Ｚｎフェライト、
Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のフェライト、γ−Ｆｅ₂ Ｏ
₃ 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 等の鉄酸化
物、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ
−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＣｒＯ₂ 、Ｂａフェ
ライト、Ｓｒフェライト等の保磁力が１〜１００００Ｏ
ｅの範囲の磁性材料を挙げることができるが、保磁力１
００００Ｏｅを超える磁性材料を用いることもできる。

【００２７】この第２磁性層３ｂは、上記の磁性材料が
適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる
磁性塗料を、所望の磁気記録を行った第１磁性層３ａ上
にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗
布方法に従って塗布し、磁性塗膜に矢印ａ方向に沿って
強度を変化させながらバイアス磁界を印加して磁気配向
処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成す
ることができる。この第２磁性層３ｂの厚さは、乾燥後
の厚みで１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度で
ある。尚、配向処理には磁気ヘッドを用いることが好ま
しい。

【００２８】このような第２磁性層３ｂは、上記の固定
情報領域４において、矢印ａ方向に沿って磁性材料を所
定の疎密パターンで含有し、この疎密パターンは、矢印
ａ方向に沿って密部分の磁性材料の含有密度が変化する
ものである。図３は、このような疎密パターンの一例を
示す図である。図３において、疎密パターンの密部分
は、磁性材料の含有密度が低い方から順に４種の密部分
５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄが存在し、これらの各密部分が
疎部分６を介して所望の順序で矢印ａ方向に配列してい
る。上記の磁性材料の含有密度が最も低い密部分５ａが
存在する部位は、上述の磁気配向処理において、印加さ
れたバイアス磁界の強度が最も低い部位に相当し、含有
密度が最も高い密部分５ｄが存在する部位は、印加され
たバイアス磁界の強度が最も高い部位に相当する。ただ
し、バイアス磁界の強度が第１磁性層３ａの保磁力の半
分程度までは、磁界強度と磁性材料の含有密度（再生出
力）は共に増加傾向を示すが、それを超えると、逆に第
１磁性層３ａの磁化が失われ磁性材料の密度（再生出
力）が低下するので、これを考慮してバイアス磁界の強
度を設定する必要がある。

【００２９】尚、図３および後述の説明では、理解を容
易にするために、密部分の磁性材料の含有密度を便宜的
に４種に設定しているが、実際には、バイアス磁界の強
度変化に応じて、密部分における磁性材料の含有密度は
多種にわたる。

【００３０】このような構成である本発明の磁気記録媒
体１では、磁気記録層３の固定情報領域４上を矢印ａ方
向に磁気ヘッドで再生すると、図４（Ａ）に示すよう
に、再生出力波形はうねる様な波形となる。図４（Ｂ）
は、図４（Ａ）の出力波形の一部を拡大したものであ
り、４種の密部分５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄのうち、磁性
材料の含有密度が高い密部分ほど出力が高く、磁性材料
の含有密度の変化に応じて再生出力は変化している。

【００３１】本発明では、第２磁性層の形成時のバイア
ス磁界の強度変化を調整することにより、上記のうねる
様な出力波形を所望の形状に制御することができ、この
ような再生出力の全体波形のアナログ的な変化に情報性
を付与することにより、書き換えのできない固定情報と
することができる。したがって、本発明の磁気記録媒体
１では、磁性材料の疎密パターンによるディジタルデー
タに加え、上記のアナログ的な固定情報を同一の固定情
報領域４から得ることができる。しかも、上記の第２磁
性層３ｂにおける固定情報は、第１磁性層３ａへの磁気
記録によって、あるいは、バイアス磁界の強度変化の制
御によって、磁気記録媒体個々に任意に設定することが
できる。

【００３２】尚、上記の本発明の磁気記録媒体１では、
基材２の全面に磁気記録層３が形成された構成となって
いるが、一部にストライプ状の磁気記録層３を形成した
構成であってもよい。

【００３３】また、上記の本発明の磁気記録媒体１の他
の態様として、以下のものが可能である。上記の磁気記
録媒体１の例では、固定情報領域４内で疎密パターンが
連続しているが、これに限定されるものではなく、図５
に示されるように、固定情報領域４内に疎密パターンが
存在しない部位７（出力が得られない部位）があっても
よい。さらに、上記の磁気記録媒体１の例では、磁性材
料の含有密度が異なる４種の密部分５ａ、５ｂ、５ｃ、
５ｄからなる疎密パターンの記録密度が一定であるが、
図６に示されるように、記録密度に変化がある（磁性材
料の密部分の間隔が２種以上存在する）ような態様でも
よい。このような態様は、いずれも、後述する本発明の
製造方法において、第１磁性層３ａへの磁気記録の有
無、記録密度の変化により可能となる。

【００３４】また、本発明の磁気記録媒体は、上記の第
１磁性層３ａと第２磁性層３ｂとの間に磁気シールド層
が設けられたものでもよい。この磁気シールド層は、磁
性材料として、センダストやパーマロイ等の高透磁率の
磁性材料を用いて、上述の塗布方法、真空成膜方法等に
より形成することができる。磁気シールド層の厚みは、
塗布方法による場合、３〜２０μｍ程度とすることがで
きる。

【００３５】このように磁気シールド層を設けると、磁
性材料の疎密パターンにおいて、上述の磁性材料の含有
密度が異なる４種の密部分５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄのう
ち、例えば、含有密度が最も低い密部分５ａが存在せ
ず、磁性材料の含有密度が高い３種の密部分５ｂ、５
ｃ、５ｄのみが存在することになる。そして、図７に示
されるように、磁気ヘッドによる再生出力において、出
力が得られない部位が現れ、再生出力が得られる部位で
は、うねる様な波形となる。これは、第２磁性層３ｂの
形成時に印加されるバイアス磁界が、磁気シールド層を
飽和させるに必要な強度に達していない部位（磁気シー
ルド層が存在しない場合、磁性材料の含有密度が最も低
い密部分５ａが形成される部位）では、磁気シールド層
の存在により第１磁性層３ａの磁化の影響が第２磁性層
３ｂに及ばないためである。

【００３６】また、本発明では、磁気記録媒体１の磁気
記録層３上に、保護、隠蔽、装飾効果をもたせるための
保護層、着色層や絵柄を設けてもよい。保護層、着色層
や絵柄はエチルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒ
ドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロ
ピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポ
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹
脂、あるいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチ
ル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタ
クリル樹脂の単独あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン
変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合
ロジン等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂
等のバインダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を
添加し、必要に応じて磁気ヘッドのクリーニング効果を
もたせるよう、酸化チタン、アルミナ粉末、マイクロシ
リカ等を添加し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定
剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化
剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤
で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキを用い
て、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法、オ
フセット法等の塗布方法あるいは印刷方法により、所望
部分に形成できる。

【００３７】次に、本発明の磁気記録媒体の他の実施形
態について説明する。図８は本発明の磁気記録媒体の他
の実施形態を説明するためにカード形状の磁気記録媒体
の斜視図であり、図９は図８のＢ−Ｂ断面矢視図であ
る。

【００３８】図８および図９において、本発明の磁気記
録媒体１１は、基材１２と、この基材１２上にストライ
プ状に設けられた磁気記録層１３を備えており、磁気記
録層１３は第１磁性層１３ａと第２磁性層１３ｂとが積
層されて構成されている。そして、磁気記録層１３の第
２磁性層１３ｂは、磁気ヘッドによる読み取り方向（図
８の矢印ａ方向）に沿って磁性材料の疎密パターンから
なる固定情報を有している。

【００３９】本発明の磁気記録媒体１１を構成する基材
１２は、上述の磁気記録媒体１を構成する基材２と同様
とすることができ、ここでの説明は省略する。

【００４０】また、上記の磁気記録層１３を構成する第
１磁性層１３ａは、上述の磁気記録層３を構成する第１
磁性層３ａと同様とすることができ、この第１磁性層１
３ａには、第２磁性層１３ｂの形成前に矢印ａ方向に沿
って磁気ヘッドの書き込み電流を変化させながら所望の
磁気情報が記録される。

【００４１】上記の磁気記録層１３を構成する第２磁性
層１３ｂは、上述の磁気記録層３を構成する第２磁性層
３ｂと同様とすることができる。ただし、この第２磁性
層１３ｂは、磁気ヘッドの書き込み電流を変化させなが
ら磁気記録を行った第１磁性層１３ａ上に、上述の磁性
材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散され
てなる磁性塗料を塗布し、この磁性塗膜に矢印ａ方向に
沿ってバイアス磁界を一様に印加して磁気配向処理を施
しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、磁性塗
膜を乾燥することにより形成する。このような第２磁性
層１３ｂでは、矢印ａ方向に沿って磁性材料を所定の疎
密パターンで含有する部位が所望の間隔で所定方向に沿
って配列し、各部位において疎密パターンの密部分にお
ける磁性材料の含有密度が矢印ａ方向に沿って変化して
いる。

【００４２】図１０は、このような疎密パターンの一例
を示す図である。図１０において、疎密パターン部位１
４が、矢印ａ方向に沿って所望の間隔を設けて複数配列
している。疎密パターン部位１４の密部分として、磁性
材料の含有密度が低い方から順に４種の密部分１５ａ、
１５ｂ、１５ｃ、１５ｄが存在し、これらの各密部分が
疎部分１６を介して所望の順序で矢印ａ方向に配列して
いる。このような疎密パターン部位１４は、第１磁性層
に磁気記録が可能な所定の書き込み電流値（最低電流
値）以上の条件で磁気記録が行なわれた部位に相当す
る。そして、上記の磁性材料の含有密度が最も低い密部
分１５ａが存在する個所は、上記の最低電流値で書き込
まれた個所に相当し、書き込み電流値が高くなり飽和電
流値側へ移行するにしたがって、磁性材料の含有密度が
より高い密部分１５ｂ、１５ｃ、１５ｄが形成される。
尚、各疎密パターン部位１４を構成する密部分の数およ
び密度は、一定でもよく、また、個々の疎密パターン部
位１４ごとに異なってもよい。

【００４３】上述の図１０および後述の説明では、理解
を容易にするために、密部分の磁性材料の含有密度を便
宜的に４種に設定しているが、実際には、最低電流値以
上の書き込み電流の変化に応じて、密部分における磁性
材料の含有密度は多種にわたる。

【００４４】このような構成である本発明の磁気記録媒
体１１では、磁気記録層１３上を矢印ａ方向に磁気ヘッ
ドで再生すると、図１１（Ａ）に示すように、再生出力
が得られる部位と得られない部位が現れ、再生出力が得
られる部位では、うねる様な波形となる。図１１（Ｂ）
は、図１１（Ａ）の出力波形の一部を拡大したものであ
り、磁性材料の疎密パターン部位１４が存在する個所で
出力が得られている。そして、１つの疎密パターン部位
１４内では、４種の密部分１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１
５ｄのうち、磁性材料の含有密度が高い密部分ほど高い
出力を示し、磁性材料の含有密度の変化に応じて再生出
力は変化している。

【００４５】本発明では、第１磁性層１３ａへの磁気記
録時の書き込み電流を調整することにより、疎密パター
ン部位から得られる出力のアナログ的変化を制御して情
報性を付与することが可能である。これにより、本発明
の磁気記録媒体１１では、磁性材料の疎密パターンによ
るディジタルデータに加え、上記のアナログ的な固定情
報を磁気記録層１３の同一トラックから得ることができ
る。しかも、上記の第２磁性層１３ｂにおける固定情報
は、第１磁性層１３ａへの磁気記録の書き込み電流制御
によって、磁気記録媒体個々に任意に設定することがで
きる。

【００４６】尚、上記の本発明の磁気記録媒体１１で
は、基材１２上にストライプ状の磁気記録層１３が形成
された構成となっているが、基材１２の全面に磁気記録
層１３を形成した構成であってもよい。

【００４７】また、上記の本発明の磁気記録媒体１１の
他の態様として、以下のものが可能である。上記の磁気
記録媒体１１の例では、磁性材料の疎密パターン部位１
４における密部分１５の記録密度が一定であるが、図１
２に示されるように、記録密度に変化がある（磁性材料
の密部分の間隔が２種以上存在する）ような態様でもよ
い。このような態様は、後述する本発明の製造方法にお
いて、第１磁性層１３ａへの記録密度の変化により可能
となる。

【００４８】また、本発明の磁気記録媒体１１において
も、上述のような磁気シールド層を第１磁性層１３ａと
第２磁性層１３ｂとの間に設けてもよい。

【００４９】さらに、磁気記録媒体１１の磁気記録層１
３を覆うように、全面に保護、隠蔽、装飾効果をもたせ
るための保護層、着色層や絵柄を設けてもよい。

【００５０】磁気記録媒体の製造方法 次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態に
ついて、上述の磁気記録媒体１を例として図１３を参照
しながら説明する。

【００５１】まず、基材２に第１磁性層３ａを形成し、
この第１磁性層３ａに所望の磁気記録を行う（図１３
（Ａ））。これにより、磁化方向が相違する磁気パター
ンが第１磁性層３ａの所定方向全域に亘って形成され
る。

【００５２】この第１磁性層３ａの形成は、上述の保磁
力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を適当な
樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料
を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の
塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成するこ
とができる。樹脂あるいはインキビヒクルとしては、ブ
チラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、
ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ア
クリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用
いられ、必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂ある
いはウレタンエラストマー等が添加される。また、耐熱
性を考慮して、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル
サルホン等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、ある
いは硬化反応によりＴｇが上昇する系を用いることがで
きる。上記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁
性材料が分散されてなる磁性塗料中に、必要に応じて分
散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を適宜含有
させてもよい。また、第１磁性層３ａは、上記の磁性材
料を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法
等により形成することもできる。

【００５３】次に、第２磁性層３ｂを形成する。まず、
上述の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中
に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録が行われ
た第１磁性層３ａ上に、グラビア法、ロール法、ナイフ
エッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗
膜３´ｂを形成する。磁性塗料に使用する樹脂あるいは
インキビヒクルは、上述の第１磁性層３ａの形成で挙げ
たものを使用することができ、また、必要に応じて分散
剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗料に
適宜含有させてもよい。そして、第１磁性層３ａの記録
方向と同一方向に沿ってバイアス磁界を一定方向で印加
して、磁性塗膜３´ｂに磁気配向処理を施す（図３
（Ｂ））。

【００５４】上記の磁気配向処理は、磁気ヘッドを基材
２の裏面側に走査させ、かつ、磁気ヘッドからの発生磁
界強度を変化させることにより行うことができる。印加
するバイアス磁界は強度範囲は、例えば、１５０〜３０
００Ｇの範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去され
ないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定するこ
とができる。図示例では、理解を容易にするために、バ
イアス磁界の強度変化を一点鎖線により模式的に示して
ある。

【００５５】この磁気配向処理により、第１磁性層３ａ
から発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｂ中に存在す
る磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位
に、磁性材料が移動して集まり、しかも、この磁性材料
の移動は上記のバイアス磁界の強度に対応したものとな
る。

【００５６】その後、磁性塗膜３´ｂを乾燥することに
より、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応し、か
つ、印加されたバイアス磁界の強度に対応した磁性材料
の疎密パターン（磁性材料の含有密度が低い方から順に
４種の密部分５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄが存在する）から
なる固定情報を有する第２磁性層３ｂを形成する（図１
３（Ｃ））。

【００５７】次に、第１磁性層３ａの磁気記録が消去さ
れるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁性
層３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３ｂ
の上記固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする
（図１３（Ｄ））。尚、このバイアス磁界の向きは、上
記の磁気配向処理におけるバイアス磁界の向きと同じ、
逆、いずれでもよい。

【００５８】このように製造される本発明の磁気記録媒
体１では、磁気記録層３の第２磁性層３ｂにおける固定
情報は、磁性材料が未乾燥状態の磁性塗膜中を移動して
形成された疎密パターンからなるので、強磁界が加わっ
ても消去されることがない。そして、磁気ヘッドで読み
取ったときの磁気出力波形は、再生出力が変化してうね
る様な出力波形となる。この出力波形は、第２磁性層３
ｂの形成時のバイアス磁界の強度変化を調整することに
より制御が可能である。また、上記の第２磁性層３ｂに
おける固定情報は、第１磁性層３ａへの磁気記録によっ
ても磁気記録媒体個々に任意に設定することができる。

【００５９】尚、基材としてポリエチレンテレフタレー
トフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のよう
な製造方法で基材上に第１磁性層と第２磁性層とを順に
積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作
製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるい
は、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。

【００６０】次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の
他の実施形態について、上述の磁気記録媒体１１を例と
して図１４を参照しながら説明する。まず、基材１２に
ストライプ状の第１磁性層１３ａを形成し、この第１磁
性層１３ａに、磁気ヘッドの書き込み電流を変化させな
がら所望の磁気記録を行う（図１４（Ａ））。

【００６１】このような第１磁性層１３ａへの磁気記録
では、第１磁性層１３ａに磁気記録が可能な所定の書き
込み電流値（最低電流値）以上の電流が磁気ヘッドに印
加された条件で書き込みが行なわれた領域で磁気記録が
なされる。そして、記録された領域では、磁化方向が相
違する磁気パターンが形成され、しかも、この磁気パタ
ーンから発生する磁場強度は、上記の書き込み電流強度
の変化に対応して変化している。図示例では、理解を容
易にするために、上記の最低電流値に対する電流の変化
を一点鎖線により模式的に示してある。

【００６２】上記の第１磁性層１３ａの形成は、上述の
保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を適
当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性
塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公
知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成す
ることができる。樹脂あるいはインキビヒクルとして
は、上述の製造方法で挙げた材料を使用することができ
る。また、第１磁性層１３ａは、真空蒸着法、スパッタ
リング法、メッキ法等により形成することもできる。

【００６３】次に、第２磁性層１３ｂを形成する。ま
ず、上述の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒク
ル中に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録が行
われた第１磁性層１３ａ上に、グラビア法、ロール法、
ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、
磁性塗膜１３´ｂを形成する。そして、第１磁性層１３
ａの記録方向と同一方向に沿ってバイアス磁界を一様に
印加して、磁性塗膜１３´ｂに磁気配向処理を施す（図
１３（Ｂ））。磁性塗料に使用する樹脂あるいはインキ
ビヒクルは、上述の第１磁性層１３ａの形成で挙げたも
のを使用することができ、また、必要に応じて分散剤、
可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗料に適宜
含有させてもよい。

【００６４】上記の磁気配向処理は、基材１２の裏面側
から磁気ヘッドにより行うことができ、また、ソレノイ
ド型の電磁石配向装置を用いてもよい。印加するバイア
ス磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層１３
ａの磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料
に応じて適宜設定することができる。

【００６５】この磁気配向処理により、第１磁性層１３
ａの磁気記録がなされた部分では、第１磁性層１３ａか
ら発生する磁力線によって磁性塗膜１３′ｂ中に存在す
る磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位
に、磁性材料が移動して集まり、磁性塗膜１３´ｂ中に
磁性材料が密な部分が形成される。しかも、この密部分
は、第１磁性層１３ａに記録された磁気パターンから発
生する磁場強度に対応し、したがって、第１磁性層１３
ａへの書き込み時の電流強度に対応したものとなる。

【００６６】上記の磁気配向処理を施しながら、あるい
は、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜１３´ｂを乾燥
することにより、第１磁性層１３ａの磁気記録パターン
に対応した磁性材料の疎密パターン（磁性材料の含有密
度が低い方から順に４種の密部分１５ａ、１５ｂ、１５
ｃ、１５ｄが存在する）からなる固定情報を有する第２
磁性層１３ｂを形成する（図１４（Ｃ））。

【００６７】次に、第１磁性層１３ａの磁気記録が消去
されるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁
性層１３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層
１３ｂの上記固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１１
とする（図１４（Ｄ））。尚、このバイアス磁界の向き
は、上記の磁気配向処理におけるバイアス磁界の向きと
同じ、逆、いずれでもよい。

【００６８】このように製造される本発明の磁気記録媒
体１１では、磁気記録層１３の第２磁性層１３ｂにおけ
る固定情報は、磁性材料が未乾燥状態の磁性塗膜中を移
動して形成された疎密パターンからなるので、強磁界が
加わっても消去されることがない。そして、磁気ヘッド
で読み取ったときの磁気出力波形は、再生出力が変化し
てうねる様な出力波形となる。この出力波形は、第１磁
性層１３ａへの磁気記録時の書き込み電流を調整するこ
とに制御可能であり、このようなアナログ的な再生出力
の変化に情報性を付与することができる。上記の第２磁
性層１３ｂにおける固定情報は、第１磁性層１３ａへの
磁気記録時の電流制御によって、磁気記録媒体個々に任
意に設定することができる。

【００６９】尚、基材としてポリエチレンテレフタレー
トフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のよう
な製造方法で基材上に第１磁性層と第２磁性層とを順に
積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作
製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるい
は、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。

【００７０】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。

【００７１】（実施例１）まず、基材として、厚さ１８
８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ
−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有す
る第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法によ
り塗布し乾燥して、厚み１５μｍの第１磁性層を形成し
た。

【００７２】 （第１磁性層形成用の磁性塗料） ・Ｂａフェライト（保磁力＝４０００Ｏｅ） … ８０重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部 ・ウレタン樹脂 … １０重量部 ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ５０重量部 ・メチルイソブチルケトン … ５０重量部 ・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部

【００７３】次に、この第１磁性層に書込み電流１００
０ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２
００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。

【００７４】次いで、この第１磁性層上に、下記の組成
を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート
法により塗布して磁性塗膜を形成した。

【００７５】 （第２磁性層形成用の磁性塗料） ・Ｂａフェライト（保磁力＝１０００Ｏｅ） … ８０重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部 ・ウレタン樹脂 … １０重量部 ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ５０重量部 ・メチルイソブチルケトン … ５０重量部 ・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部

【００７６】次に、基材の裏面に磁気ヘッドを走査させ
て磁性塗膜に磁気配向処理を施した。この磁気配向処理
では、磁気ヘッドから一定方向に印加される磁界を４０
０〜２０００Ｇの範囲内で連続的に変化させた。その
後、磁性塗膜を乾燥することにより第２磁性層（厚み１
０μｍ）を形成した。このように形成した第２磁性層
は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応するとともに、上記
の配向磁界の強度に対応して、磁性材料の含有密度が異
なる疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するもので
あった。これにより、第１磁性層と第２磁性層との積層
体からなる磁気記録層を基材上に形成した。

【００７７】上記のように磁気記録層を形成した基材を
８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本
発明の磁気記録媒体を得た。

【００７８】次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層に
ソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第
１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁
性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁
性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′に着磁を行
った。

【００７９】この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカ
ードリーダーを用いて読み取った結果、再生出力はうね
る様な全体波形を示し、最高出力は最低出力の約５倍で
あった。同時に、上記の疎密パターンに対応したディジ
タルデータが得られた。

【００８０】（実施例２）まず、実施例１と同様にし
て、基材上に厚み１５μｍの第１磁性層を形成し、この
第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行
った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）
とした。

【００８１】次いで、この第１磁性層上に、下記の組成
を有する磁気シールド層用の磁性塗料をグラビアコート
法により塗布し乾燥して、磁気シールド層（厚み約１０
μｍ）を形成した。

【００８２】 （磁気シールド層形成用の磁性塗料） ・パーマロイ（保磁力＝１０Ｏｅ） … ８０重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂 … １０重量部 ・ウレタン樹脂 … １０重量部 ・メチルエチルケトン … ５０重量部 ・トルエン … ５０重量部 ・メチルイソブチルケトン … ５０重量部 ・イソシアネート系硬化剤 … ３重量部

【００８３】次に、この磁気シールド層上に、実施例１
と同様にして、第２磁性層用の磁性塗料を塗布して磁性
塗膜を形成した。次に、基材の裏面に磁気ヘッドを走査
させて磁性塗膜に磁気配向処理を施した。この磁気配向
処理では、磁気ヘッドから一定方向に印加される磁界を
０〜２０００Ｇの範囲内で連続的に変化させた。その
後、磁性塗膜を乾燥することにより厚み１０μｍの第２
磁性層を形成した。このように形成した第２磁性層は、
第１磁性層の磁気記録Ｄに対応するとともに、上記の配
向磁界の強度に対応して、磁性材料の含有密度が異なる
疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであっ
た。ただし、印加磁界が磁気シールド層を飽和させるに
必要な強度に達していない部位では、固定情報Ｄ′は存
在しなかった。これにより、第１磁性層と第２磁性層と
の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。

【００８４】上記のように磁気記録層を形成した基材を
８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本
発明の磁気記録媒体を得た。

【００８５】次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層に
ソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第
１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁
性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁
性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′に着磁を行
った。

【００８６】この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカ
ードリーダーを用いて読み取った結果、再生出力が所定
の間隔をおいて現れ、再生出力が得られる部位では、う
ねる様な（図７に示すような）出力波形が得られた。同
時に、各出力部では、上記の疎密パターンに対応したデ
ィジタルデータが得られた。

【００８７】（実施例３）まず、実施例１と同様にし
て、基材上に厚み１５μｍの第１磁性層を形成した。そ
して、この第１磁性層に書込み電流を０〜１０００ｍＡ
の範囲で連続的に変化させながら磁気記録を行った。こ
のときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。

【００８８】次いで、この第１磁性層上に、実施例１と
同様にして、第２磁性層用の磁性塗料を塗布して磁性塗
膜を形成した。その後、２０００Ｇのバイアス磁界を一
定方向に加えて磁性塗膜に磁気配向処理を施した。次い
で、磁性塗膜を乾燥することにより厚み１０μｍの第２
磁性層を形成した。この第２磁性層の内、第１磁性層へ
の磁気記録が可能な最低電流値（１００ｍＡ）以上の電
流が磁気ヘッドに印加された条件で第１磁性層に書き込
みが行なわれた領域は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応
した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有
するものであった。しかも、この固定情報Ｄ′を構成す
る疎密パターンの密部分における磁性材料の含有密度
は、第１磁性層への書き込み電流の変化に対応して、連
続的に変化するものであった。一方、第２磁性層の内、
上記の最低電流値に満たない電流が磁気ヘッドに印加さ
れた条件で第１磁性層に磁気記録がなされた部分では、
固定情報の記録はなされなかった。これにより、第１磁
性層と第２磁性層との積層体からなる磁気記録層を基材
上に形成した。

【００８９】上記のように磁気記録層を形成した基材を
８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本
発明の磁気記録媒体を得た。

【００９０】次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層に
ソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第
１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁
性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁
性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′に着磁を行
った。

【００９１】この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカ
ードリーダーを用いて読み取った結果、再生出力が所定
の間隔をおいて現れ、再生出力が得られる部位では、う
ねる様な（図１１に示すような）出力波形が得られた。
同時に、各出力部では、上記の疎密パターンに対応した
ディジタルデータが得られた。

【００９２】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば基
材に設けられた磁気記録層が第１磁性層と第２磁性層と
をこの順に基材上に積層したものであり、第２磁性層は
磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有し、この
固定情報は疎密パターンの密部分における磁性材料の含
有密度が読み取り方向に沿って変化しているので、磁気
ヘッドによる磁気記録層の読み取りによる出力の全体波
形はアナログ的に変化し、この変化に情報性を付与する
ことにより、ディジタルデータと、出力の全体波形のア
ナログ的な変化との、２種の書き換えできない固定情報
を同一トラック上から得ることができ、これにより、変
造の困難な磁気記録媒体が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施形態を説明する
ためのカード形状の磁気記録媒体の斜視図である。

【図２】図１に示される磁気記録媒体のＡ−Ａ断面矢視
図である。

【図３】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの一例を
示す図である。

【図４】本発明の磁気記録媒体の再生出力波形の一例を
示す図であり、（Ｂ）は（Ａ）の一部を拡大したもので
ある。

【図５】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の例
を示す図である。

【図６】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の例
を示す図である。

【図７】本発明の磁気記録媒体の再生出力波形の他の例
を示す図である。

【図８】本発明の磁気記録媒体の他の実施形態を説明す
るためのカード形状の磁気記録媒体の斜視図である。

【図９】図８に示される磁気記録媒体のＢ−Ｂ断面矢視
図である。

【図１０】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の
例を示す図である。

【図１１】本発明の磁気記録媒体の再生出力波形の他の
例を示す図であり、（Ｂ）は（Ａ）の一部を拡大したも
のである。

【図１２】本発明の磁気記録媒体の疎密パターンの他の
例を示す図である。

【図１３】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を示
す工程図である。

【図１４】本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の例を
示す工程図である。

【符号の説明】

１，１１…磁気記録媒体 ２，１２…基材 ３，１３…磁気記録層 ３ａ，１３ａ…第１磁性層 ３ｂ，１３ｂ…第２磁性層 ４…固定情報領域 ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ…磁性材料の含有密度が異なる
密部分 ６…疎密パターンの疎部分 １４…疎密パターン部位 １５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ…磁性材料の含有密度
が異なる密部分 １６…疎密パターンの疎部分

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若松 伸明 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 山口 博之 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2C005 HA04 HB01 HB10 HB11 JA02 KA16 5D006 BA19 BA20 CA05 DA01 FA00 5D112 AA05 AA06 AA11 AA28 CC19 DD04 DD08

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材と、該基材上に磁気記録層とを有
   し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層と第２磁
   性層とが積層されたものであり、該第２磁性層は所定方
   向に沿って磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、該
   疎密パターンの密部分における磁性材料の含有密度が前
   記所定方向に沿って変化していることを特徴とする磁気
   記録媒体。
2. 【請求項２】 基材と、該基材上に磁気記録層とを有
   し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層と第２磁
   性層とが積層されたものであり、該第２磁性層は磁性材
   料を所定の疎密パターンで含有する部位が所望の間隔で
   所定方向に沿って配列し、各部位において前記疎密パタ
   ーンの密部分における磁性材料の含有密度が前記所定方
   向に沿って変化していることを特徴とする磁気記録媒
   体。
3. 【請求項３】 前記疎密パターンにおいて、磁性材料の
   密部分の間隔が２種以上存在することを特徴とする請求
   項１または請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 第１磁性層と第２磁性層との間に磁気シ
   ールド層を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項
   ３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁
   性層に所定方向に沿って所望の磁気記録を行った後、前
   記第１磁性層上に磁性塗料を塗布し、該磁性塗膜に強度
   を変化させながらバイアス磁界を前記所定方向に沿って
   印加して磁気配向処理を施した後、前記磁性塗膜を乾燥
   して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁
   性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁
   性層を形成して、前記第１磁性層および前記第２磁性層
   からなる磁気記録層を形成することを特徴とする磁気記
   録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁
   性層に所定方向に沿って磁気ヘッドの書き込み電流を変
   化させながら所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性
   層上に磁性塗料を塗布し、該磁性塗膜にバイアス磁界を
   前記所定方向に沿って印加して磁気配向処理を施しなが
   ら、あるいは、磁気配向処理を施した後、前記磁性塗膜
   を乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応
   した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する
   第２磁性層を形成して、前記第１磁性層および前記第２
   磁性層からなる磁気記録層を形成することを特徴とする
   磁気記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 前記第１磁性層への磁気記録において、
   書き込み密度を変化させることを特徴とする請求項５ま
   たは請求項６に記載の磁気記録媒体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記第１磁性層上に磁気シールド層を形
   成した後、前記第２磁性層を形成することを特徴とする
   請求項５乃至請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方
   法。