JP2000269573A - 固体レーザー - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08018—Mode suppression
- H01S3/08022—Longitudinal modes
- H01S3/08031—Single-mode emission
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 共振器内に発振波長を選択するエタロンが配
設されてなる固体レーザーにおいて、所望以外の発振波
長を抑制して、安定して所望の発振波長のみを得る。 【解決手段】 共振器内に発振波長を選択するエタロン
18が配設されてなる固体レーザーにおいて、エタロン18
の光通過面18a、18bの、所望の発振波長に対する反射
率よりも、他の発振波長に対する反射率を高く設定す
る。
設されてなる固体レーザーにおいて、所望以外の発振波
長を抑制して、安定して所望の発振波長のみを得る。 【解決手段】 共振器内に発振波長を選択するエタロン
18が配設されてなる固体レーザーにおいて、エタロン18
の光通過面18a、18bの、所望の発振波長に対する反射
率よりも、他の発振波長に対する反射率を高く設定す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は固体レーザーに関
し、特に詳細には、安定して所望の波長のみで発振する
ようにした固体レーザーに関するものである。
し、特に詳細には、安定して所望の波長のみで発振する
ようにした固体レーザーに関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば特開平7−302946号に示さ
れるように、ネオジウム等の希土類がドーピングされた
固体レーザーロッドを半導体レーザー(レーザーダイオ
ード)等によってポンピングする固体レーザーが公知と
なっている。
れるように、ネオジウム等の希土類がドーピングされた
固体レーザーロッドを半導体レーザー(レーザーダイオ
ード)等によってポンピングする固体レーザーが公知と
なっている。
【0003】この種の固体レーザーにおいては、上記特
開平7−302946号にも示されている通り、共振器
内に波長選択素子であるエタロンを配設して、発振モー
ドを単一縦モード化することが広く行なわれている。ま
たこの種の固体レーザーにおいては、共振器内に非線形
光学結晶を配して、固体レーザー発振ビームを第2高調
波等に波長変換することも広く行なわれている。
開平7−302946号にも示されている通り、共振器
内に波長選択素子であるエタロンを配設して、発振モー
ドを単一縦モード化することが広く行なわれている。ま
たこの種の固体レーザーにおいては、共振器内に非線形
光学結晶を配して、固体レーザー発振ビームを第2高調
波等に波長変換することも広く行なわれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、共振器内に
エタロンを配した従来の固体レーザーにおいては、高出
力を得ようとして励起パワーを高めると、所望の発振ラ
イン(発振波長)以外の発振が同時に生じてしまうこと
がある。つまり例えば、波長1064nmのレーザービーム
を発振させたい場合にそれ以外の波長1075nmや1085n
mで発振が生じたり、波長 946nmのレーザービームを
発振させたい場合にそれ以外の波長 938nmの発振が生
じることがある。
エタロンを配した従来の固体レーザーにおいては、高出
力を得ようとして励起パワーを高めると、所望の発振ラ
イン(発振波長)以外の発振が同時に生じてしまうこと
がある。つまり例えば、波長1064nmのレーザービーム
を発振させたい場合にそれ以外の波長1075nmや1085n
mで発振が生じたり、波長 946nmのレーザービームを
発振させたい場合にそれ以外の波長 938nmの発振が生
じることがある。
【0005】そのようになると、エネルギーが他の発振
ラインに奪われて、所望の発振波長の出力が低下してし
まう。前述したように、固体レーザー発振ビームを第2
高調波に波長変換する場合は、基本波である所望の発振
波長の出力が低下すれば、当然それに応じて、第2高調
波の出力が低下してしまう。
ラインに奪われて、所望の発振波長の出力が低下してし
まう。前述したように、固体レーザー発振ビームを第2
高調波に波長変換する場合は、基本波である所望の発振
波長の出力が低下すれば、当然それに応じて、第2高調
波の出力が低下してしまう。
【0006】そこで本発明は、所望以外の波長での発振
を抑制して、安定して所望の波長のみで発振する固体レ
ーザーを提供することを目的とする。
を抑制して、安定して所望の波長のみで発振する固体レ
ーザーを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による1つの固体
レーザーは、前述したように共振器内に発振波長を選択
するエタロンが配設されてなる固体レーザーにおいて、
エタロンの光通過面の、所望の発振波長に対する反射率
よりも、他の発振波長に対する反射率が高く設定されて
いることを特徴とするものである。
レーザーは、前述したように共振器内に発振波長を選択
するエタロンが配設されてなる固体レーザーにおいて、
エタロンの光通過面の、所望の発振波長に対する反射率
よりも、他の発振波長に対する反射率が高く設定されて
いることを特徴とするものである。
【0008】また、本発明による別の固体レーザーは、
共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミラーの、所
望の発振波長に対する反射率よりも、他の発振波長に対
する反射率が低く設定されていることを特徴とするもの
である。
共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミラーの、所
望の発振波長に対する反射率よりも、他の発振波長に対
する反射率が低く設定されていることを特徴とするもの
である。
【0009】また、本発明によるさらに別の固体レーザ
ーは、上記と同様に共振器内に発振波長を選択するエタ
ロンが配設されてなる固体レーザーにおいて、エタロン
の光通過面の、所望の発振波長に対する反射率よりも、
他の発振波長に対する反射率が高く設定され、そして、
共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミラーの、所
望の発振波長に対する反射率よりも、他の発振波長に対
する反射率が低く設定されていることを特徴とするもの
である。
ーは、上記と同様に共振器内に発振波長を選択するエタ
ロンが配設されてなる固体レーザーにおいて、エタロン
の光通過面の、所望の発振波長に対する反射率よりも、
他の発振波長に対する反射率が高く設定され、そして、
共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミラーの、所
望の発振波長に対する反射率よりも、他の発振波長に対
する反射率が低く設定されていることを特徴とするもの
である。
【0010】
【発明の効果】共振器内にエタロンを配した従来の固体
レーザーにおいては、使用する固体レーザー媒質につい
て複数の発振波長が存在する場合、エタロンの光通過面
の反射率は、所望の発振波長に対して最高となって、そ
の他の発振波長に対してはそれよりも低くなるように設
計されていた。これは、エタロン製造上の問題に由来す
る反射率バラツキを抑えるためである。
レーザーにおいては、使用する固体レーザー媒質につい
て複数の発振波長が存在する場合、エタロンの光通過面
の反射率は、所望の発振波長に対して最高となって、そ
の他の発振波長に対してはそれよりも低くなるように設
計されていた。これは、エタロン製造上の問題に由来す
る反射率バラツキを抑えるためである。
【0011】本発明者の研究によると、前述した従来技
術における問題は、このようなエタロン反射率の設定に
起因していると考えられる。すなわち、エタロンの光通
過面の、所望外の発振波長に対する反射率が比較的低く
なっているため、励起パワーが高く設定されて固体レー
ザー媒質のゲインが大きくなったとき、本来ゲインが低
いこれら所望外波長での発振が生じてしまうのである。
術における問題は、このようなエタロン反射率の設定に
起因していると考えられる。すなわち、エタロンの光通
過面の、所望外の発振波長に対する反射率が比較的低く
なっているため、励起パワーが高く設定されて固体レー
ザー媒質のゲインが大きくなったとき、本来ゲインが低
いこれら所望外波長での発振が生じてしまうのである。
【0012】それに対して本発明の1つの固体レーザー
においては、エタロンの光通過面の、所望の発振波長に
対する反射率よりも、その他の所望外の発振波長に対す
る反射率が高く設定されているので、その所望外の発振
波長においてはfinesse (縦モード選択性の強さ)が大
きくなって、それらの発振波長における損失が増大す
る。その結果、所望外波長での発振が抑えられるように
なる。
においては、エタロンの光通過面の、所望の発振波長に
対する反射率よりも、その他の所望外の発振波長に対す
る反射率が高く設定されているので、その所望外の発振
波長においてはfinesse (縦モード選択性の強さ)が大
きくなって、それらの発振波長における損失が増大す
る。その結果、所望外波長での発振が抑えられるように
なる。
【0013】また、本発明の別の固体レーザーにおける
ように、共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミラ
ーの、所望の発振波長に対する反射率よりも、他の発振
波長に対する反射率が低く設定されていると、所望外の
発振波長の光が共振器外に逃げやすくなって、それらの
損失が増大する。それによりこの場合も、所望外の波長
での発振が抑えられるようになる。
ように、共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミラ
ーの、所望の発振波長に対する反射率よりも、他の発振
波長に対する反射率が低く設定されていると、所望外の
発振波長の光が共振器外に逃げやすくなって、それらの
損失が増大する。それによりこの場合も、所望外の波長
での発振が抑えられるようになる。
【0014】本発明によるさらに別の固体レーザーで
は、エタロンの光通過面の、所望の発振波長に対する反
射率よりも、他の発振波長に対する反射率が高く設定さ
れた上で、共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミ
ラーの、所望の発振波長に対する反射率よりも、他の発
振波長に対する反射率が低く設定されているので、上述
の効果が双方とも得られる。
は、エタロンの光通過面の、所望の発振波長に対する反
射率よりも、他の発振波長に対する反射率が高く設定さ
れた上で、共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミ
ラーの、所望の発振波長に対する反射率よりも、他の発
振波長に対する反射率が低く設定されているので、上述
の効果が双方とも得られる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施形態に基づ
いて本発明を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の
実施形態による半導体レーザー励起固体レーザーを示す
ものである。この半導体レーザー励起固体レーザーは、
ポンピング光としてのレーザービーム10を発する半導体
レーザー11と、発散光である上記レーザービーム10を平
行光化するコリメーターレンズ12と、平行光となったレ
ーザービーム10を集光する集光レンズ13と、ネオジウム
(Nd)がドーピングされた固体レーザー媒質であるY
VO4 結晶(以下、Nd:YVO4 結晶と称する)14
と、このNd:YVO4 結晶14の前方側(図中右方側)
に配された共振器ミラー15と、Nd:YVO4 結晶14と
共振器ミラー15との間に配された光波長変換素子16、ブ
リュースター板17およびエタロン18とを有している。
いて本発明を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の
実施形態による半導体レーザー励起固体レーザーを示す
ものである。この半導体レーザー励起固体レーザーは、
ポンピング光としてのレーザービーム10を発する半導体
レーザー11と、発散光である上記レーザービーム10を平
行光化するコリメーターレンズ12と、平行光となったレ
ーザービーム10を集光する集光レンズ13と、ネオジウム
(Nd)がドーピングされた固体レーザー媒質であるY
VO4 結晶(以下、Nd:YVO4 結晶と称する)14
と、このNd:YVO4 結晶14の前方側(図中右方側)
に配された共振器ミラー15と、Nd:YVO4 結晶14と
共振器ミラー15との間に配された光波長変換素子16、ブ
リュースター板17およびエタロン18とを有している。
【0016】以上述べた各要素は、共通の筐体(図示せ
ず)にマウントされて一体化され、図示しないペルチェ
素子と温調回路により、所定温度に温調される。
ず)にマウントされて一体化され、図示しないペルチェ
素子と温調回路により、所定温度に温調される。
【0017】光波長変換素子16は、非線形光学材料であ
る、MgOがドープされたLiNbO3 結晶に周期ドメ
イン反転構造が設けられてなるものである。ブリュース
ター板17は偏光制御素子として作用し、またエタロン18
は発振波長を単一化させる波長選択素子として作用す
る。
る、MgOがドープされたLiNbO3 結晶に周期ドメ
イン反転構造が設けられてなるものである。ブリュース
ター板17は偏光制御素子として作用し、またエタロン18
は発振波長を単一化させる波長選択素子として作用す
る。
【0018】半導体レーザー11は、波長809 nmのレー
ザービーム10を発するものが用いられている。Nd:Y
VO4 結晶14は、上記レーザービーム10によってネオジ
ウムイオンが励起されることにより、波長1064nmの光
を発する。そして後述の共振器によりレーザー発振が引
き起こされて、波長1064nmの固体レーザービーム20が
得られる。このレーザービーム20は光波長変換素子16に
入射して、波長が1/2すなわち532 nmの第2高調波
21に変換される。
ザービーム10を発するものが用いられている。Nd:Y
VO4 結晶14は、上記レーザービーム10によってネオジ
ウムイオンが励起されることにより、波長1064nmの光
を発する。そして後述の共振器によりレーザー発振が引
き起こされて、波長1064nmの固体レーザービーム20が
得られる。このレーザービーム20は光波長変換素子16に
入射して、波長が1/2すなわち532 nmの第2高調波
21に変換される。
【0019】Nd:YVO4 結晶14の外側端面(半導体
レーザー11側の端面)14aには、固体レーザーの発振波
長つまり波長1064nmに対するHR(高反射)コートが
施され、内側端面14bには波長1064nmに対するAR
(無反射)コートが施されている。一方、凹面鏡である
共振器ミラー15のミラー面15aには、固体レーザーの発
振波長1064nmに対して高反射で、波長532 nmの第2
高調波21は一部透過させるコートが施されている。
レーザー11側の端面)14aには、固体レーザーの発振波
長つまり波長1064nmに対するHR(高反射)コートが
施され、内側端面14bには波長1064nmに対するAR
(無反射)コートが施されている。一方、凹面鏡である
共振器ミラー15のミラー面15aには、固体レーザーの発
振波長1064nmに対して高反射で、波長532 nmの第2
高調波21は一部透過させるコートが施されている。
【0020】Nd:YVO4 結晶14の外側端面14aと共
振器ミラー15のミラー面15aに、それぞれ上記の通りの
コートが施されていることにより、固体レーザービーム
20はこれらの面14a、15a間で共振し、また共振器ミラ
ー15からはほぼ第2高調波21のみが出射する。つまり本
実施形態では、Nd:YVO4 結晶14と共振器ミラー15
とによって固体レーザーの共振器が構成されている。
振器ミラー15のミラー面15aに、それぞれ上記の通りの
コートが施されていることにより、固体レーザービーム
20はこれらの面14a、15a間で共振し、また共振器ミラ
ー15からはほぼ第2高調波21のみが出射する。つまり本
実施形態では、Nd:YVO4 結晶14と共振器ミラー15
とによって固体レーザーの共振器が構成されている。
【0021】図2は、Nd:YVO4 結晶14のゲインを
示しており、ここから分かるように上記1064nmの他、
1075nmおよび1085nmでも発振が起こり得る。1075n
mおよび1085nmに対するゲインは、1064nmに対する
ゲインよりも低くなっているが、励起源である半導体レ
ーザー11のパワーが2W程度まで上げられると、1075n
mや1085nmでも発振が起こり得る。
示しており、ここから分かるように上記1064nmの他、
1075nmおよび1085nmでも発振が起こり得る。1075n
mおよび1085nmに対するゲインは、1064nmに対する
ゲインよりも低くなっているが、励起源である半導体レ
ーザー11のパワーが2W程度まで上げられると、1075n
mや1085nmでも発振が起こり得る。
【0022】本例では、所望の発振波長は上述の通り10
64nmであり、1075nmや1085nmの発振を抑制するた
めに、エタロン18の両端面(光通過面)18a、18bの反
射率は、そこに施されるコートによって図3のように設
定されている。つまり、このエタロン光通過面18a、18
bの波長1064nmに対する反射率は60%で、他の発振
波長1075nm、1085nmに対する反射率はそれよりも高
い65%、70%とされている。このときのエタロン18
のチルト角は60′である。
64nmであり、1075nmや1085nmの発振を抑制するた
めに、エタロン18の両端面(光通過面)18a、18bの反
射率は、そこに施されるコートによって図3のように設
定されている。つまり、このエタロン光通過面18a、18
bの波長1064nmに対する反射率は60%で、他の発振
波長1075nm、1085nmに対する反射率はそれよりも高
い65%、70%とされている。このときのエタロン18
のチルト角は60′である。
【0023】エタロン光通過面18a、18bの反射率を上
述のように設定しておくと、所望外の発振波長1075n
m、1085nmにおいてはfinesse (縦モード選択性の強
さ)が大きくなって、それらの発振波長における損失が
増大する。その結果、これらの波長1075nm、1085nm
での発振が抑えられるようになる。
述のように設定しておくと、所望外の発振波長1075n
m、1085nmにおいてはfinesse (縦モード選択性の強
さ)が大きくなって、それらの発振波長における損失が
増大する。その結果、これらの波長1075nm、1085nm
での発振が抑えられるようになる。
【0024】本実施形態では、所望外の1075nmや1085
nmの発振をさらに確実に抑制するために、共振器ミラ
ー15のミラー面15aに施されたコートの反射率は、図4
のように設定されている。つまり、この共振器ミラー面
15aの波長1064nmに対する反射率は約100%で、他
の発振波長1075nm、1085nmに対する反射率はそれよ
りも低い99%、98%とされている。
nmの発振をさらに確実に抑制するために、共振器ミラ
ー15のミラー面15aに施されたコートの反射率は、図4
のように設定されている。つまり、この共振器ミラー面
15aの波長1064nmに対する反射率は約100%で、他
の発振波長1075nm、1085nmに対する反射率はそれよ
りも低い99%、98%とされている。
【0025】共振器ミラー面15aの反射率をこのように
設定しておけば、所望外の発振波長1075nm、1085nm
の光が共振器外に逃げやすくなって、それらの損失が増
大する。それにより、所望外の波長1075nm、1085nm
での発振が抑えられるようになる。
設定しておけば、所望外の発振波長1075nm、1085nm
の光が共振器外に逃げやすくなって、それらの損失が増
大する。それにより、所望外の波長1075nm、1085nm
での発振が抑えられるようになる。
【0026】なおこの種の従来の固体レーザーにおいて
エタロンの反射率は、図5に一例を示す通り、所望の発
振波長1064nmに対する反射率が最大となるように設定
されていた。他方従来の固体レーザーにおいて共振器ミ
ラー面の反射率は、図6に一例を示す通り、所望の発振
波長1064nmおよび所望外の波長1075nm、1085nmに
対する反射率が全て等しくなるように設定されていた。
エタロンの反射率は、図5に一例を示す通り、所望の発
振波長1064nmに対する反射率が最大となるように設定
されていた。他方従来の固体レーザーにおいて共振器ミ
ラー面の反射率は、図6に一例を示す通り、所望の発振
波長1064nmおよび所望外の波長1075nm、1085nmに
対する反射率が全て等しくなるように設定されていた。
【0027】以上説明した通り本実施形態では、エタロ
ン光通過面18a、18bと共振器ミラー面15aの双方の反
射率の設定により、1075nmや1085nmの発振を抑制す
るようにしているが、エタロン光通過面18a、18bの反
射率を前述の通りに設定するだけでも、あるいは反対
に、共振器ミラー面15aの反射率を前述の通りに設定す
るだけでも、1075nmや1085nmの発振を抑制可能であ
る。しかし、この効果をより確実に得るためには、上記
実施形態のようにするのが望ましい。
ン光通過面18a、18bと共振器ミラー面15aの双方の反
射率の設定により、1075nmや1085nmの発振を抑制す
るようにしているが、エタロン光通過面18a、18bの反
射率を前述の通りに設定するだけでも、あるいは反対
に、共振器ミラー面15aの反射率を前述の通りに設定す
るだけでも、1075nmや1085nmの発振を抑制可能であ
る。しかし、この効果をより確実に得るためには、上記
実施形態のようにするのが望ましい。
【0028】さらに、偏光制御素子としてのブリュース
ター板17を複屈折率フィルターから形成して、1075nm
や1085nmの損失をさらに増大させることにより、半導
体レーザー11のパワーが前述の2W程度からさらに3
W、4Wと上げられても、所望の波長1064nmのみで発
振させることができる。そのようにすれば、発振波長選
択のために新たな複屈折率フィルターを共振器内に挿入
する必要がないので、損失を増大させることがなく、ま
た、共振器長をより長くしてしまうこともない。
ター板17を複屈折率フィルターから形成して、1075nm
や1085nmの損失をさらに増大させることにより、半導
体レーザー11のパワーが前述の2W程度からさらに3
W、4Wと上げられても、所望の波長1064nmのみで発
振させることができる。そのようにすれば、発振波長選
択のために新たな複屈折率フィルターを共振器内に挿入
する必要がないので、損失を増大させることがなく、ま
た、共振器長をより長くしてしまうこともない。
【0029】なおNd:YVO4 の場合、1064nmより
も短波長側には発振ラインが存在しない。したがって、
エタロン光通過面18a、18bの、各発振波長に対する反
射率の設定は図3に示す通り全く簡単なものとなり、コ
ートの設計も非常に容易である。
も短波長側には発振ラインが存在しない。したがって、
エタロン光通過面18a、18bの、各発振波長に対する反
射率の設定は図3に示す通り全く簡単なものとなり、コ
ートの設計も非常に容易である。
【0030】次に図7を参照して本発明の第2の実施形
態について説明する。なおこの図7において、図1中の
要素と同等の要素には同番号を付してあり、それらにつ
いての説明は特に必要の無い限り省略する。
態について説明する。なおこの図7において、図1中の
要素と同等の要素には同番号を付してあり、それらにつ
いての説明は特に必要の無い限り省略する。
【0031】この第2実施形態の固体レーザーも半導体
レーザー励起固体レーザーであり、ここでは固体レーザ
ー媒質としてNd:YAG結晶34が用いられている。こ
のNd:YAG結晶34は、波長 809nmのレーザービー
ム10によってネオジウムイオンが励起されることによ
り、波長 946nmの光を発する。そして後述の共振器に
よりレーザー発振が引き起こされて、波長 946nmの固
体レーザービーム30が得られる。このレーザービーム30
は光波長変換素子16に入射して、波長が1/2すなわち
473nmの第2高調波31に変換される。
レーザー励起固体レーザーであり、ここでは固体レーザ
ー媒質としてNd:YAG結晶34が用いられている。こ
のNd:YAG結晶34は、波長 809nmのレーザービー
ム10によってネオジウムイオンが励起されることによ
り、波長 946nmの光を発する。そして後述の共振器に
よりレーザー発振が引き起こされて、波長 946nmの固
体レーザービーム30が得られる。このレーザービーム30
は光波長変換素子16に入射して、波長が1/2すなわち
473nmの第2高調波31に変換される。
【0032】Nd:YAG結晶34の外側端面(半導体レ
ーザー11側の端面)34aには、固体レーザーの発振波長
つまり波長 946nmに対するHR(高反射)コートが施
され、内側端面34bには波長 946nmに対するAR(無
反射)コートが施されている。一方、凹面鏡である共振
器ミラー15のミラー面15aには、固体レーザーの発振波
長 946nmに対して高反射で、波長 473nmの第2高調
波31は一部透過させるコートが施されている。
ーザー11側の端面)34aには、固体レーザーの発振波長
つまり波長 946nmに対するHR(高反射)コートが施
され、内側端面34bには波長 946nmに対するAR(無
反射)コートが施されている。一方、凹面鏡である共振
器ミラー15のミラー面15aには、固体レーザーの発振波
長 946nmに対して高反射で、波長 473nmの第2高調
波31は一部透過させるコートが施されている。
【0033】Nd:YAG結晶34の外側端面34aと共振
器ミラー15のミラー面15aに、それぞれ上記の通りのコ
ートが施されていることにより、固体レーザービーム30
はこれらの面34a、15a間で共振し、また共振器ミラー
15からはほぼ第2高調波31のみが出射する。つまり本実
施形態では、Nd:YAG結晶34と共振器ミラー15とに
よって固体レーザーの共振器が構成されている。
器ミラー15のミラー面15aに、それぞれ上記の通りのコ
ートが施されていることにより、固体レーザービーム30
はこれらの面34a、15a間で共振し、また共振器ミラー
15からはほぼ第2高調波31のみが出射する。つまり本実
施形態では、Nd:YAG結晶34と共振器ミラー15とに
よって固体レーザーの共振器が構成されている。
【0034】図8は、Nd:YAG結晶34のゲインを示
しており、ここに示される通り上記946nmの他、 938
nmでも発振が起こり得る。 938nmに対するゲイン
は、 946nmに対するゲインよりも低くなっているが、
励起源である半導体レーザー11のパワーが上げられる
と、 938nmでも発振が起こり得る。
しており、ここに示される通り上記946nmの他、 938
nmでも発振が起こり得る。 938nmに対するゲイン
は、 946nmに対するゲインよりも低くなっているが、
励起源である半導体レーザー11のパワーが上げられる
と、 938nmでも発振が起こり得る。
【0035】本例では、所望の発振波長は上述の通り 9
46nmであり、 938nmの発振を抑制するために、エタ
ロン18の両端面(光通過面)18a、18bの反射率は、そ
こに施されるコートによって図9のように設定されてい
る。つまり、このエタロン光通過面18a、18bの波長 9
46nmに対する反射率は20%で、他の発振波長 938n
mに対する反射率はそれよりも高い25%とされてい
る。このときのエタロン18のチルト角は60′である。
46nmであり、 938nmの発振を抑制するために、エタ
ロン18の両端面(光通過面)18a、18bの反射率は、そ
こに施されるコートによって図9のように設定されてい
る。つまり、このエタロン光通過面18a、18bの波長 9
46nmに対する反射率は20%で、他の発振波長 938n
mに対する反射率はそれよりも高い25%とされてい
る。このときのエタロン18のチルト角は60′である。
【0036】エタロン光通過面18a、18bの反射率を上
述のように設定しておくと、所望外の発振波長 938nm
においてはfinesse (縦モード選択性の強さ)が大きく
なって、それらの発振波長の損失が増大する。その結
果、この波長 938nmでの発振が抑えられるようにな
る。
述のように設定しておくと、所望外の発振波長 938nm
においてはfinesse (縦モード選択性の強さ)が大きく
なって、それらの発振波長の損失が増大する。その結
果、この波長 938nmでの発振が抑えられるようにな
る。
【0037】本実施形態では、所望外の 938nmの発振
をさらに確実に抑制するために、共振器ミラー15のミラ
ー面15aに施されたコートの反射率は、図10のように
設定されている。つまり、この共振器ミラー面15aの波
長 946nmに対する反射率は約100%で、他の発振波
長 938nmに対する反射率はそれよりも低い99%とさ
れている。
をさらに確実に抑制するために、共振器ミラー15のミラ
ー面15aに施されたコートの反射率は、図10のように
設定されている。つまり、この共振器ミラー面15aの波
長 946nmに対する反射率は約100%で、他の発振波
長 938nmに対する反射率はそれよりも低い99%とさ
れている。
【0038】共振器ミラー面15aの反射率をこのように
設定しておけば、所望外の発振波長938nmの光が共振
器外に逃げやすくなって、それらの損失が増大する。そ
れにより、所望外の波長 938nmでの発振が抑えられる
ようになる。
設定しておけば、所望外の発振波長938nmの光が共振
器外に逃げやすくなって、それらの損失が増大する。そ
れにより、所望外の波長 938nmでの発振が抑えられる
ようになる。
【0039】なお本発明は、以上説明した半導体レーザ
ー励起固体レーザーや、光波長変換素子によって波長変
換を行なう固体レーザーに限らず、固体レーザー全般に
適用可能であり、そして同様の効果を奏するものであ
る。
ー励起固体レーザーや、光波長変換素子によって波長変
換を行なう固体レーザーに限らず、固体レーザー全般に
適用可能であり、そして同様の効果を奏するものであ
る。
【図1】本発明の第1実施形態による固体レーザーを示
す側面図
す側面図
【図2】図1の固体レーザーに用いられたレーザー結晶
のゲインを示すグラフ
のゲインを示すグラフ
【図3】図1の固体レーザーに用いられたエタロンの反
射率を示すグラフ
射率を示すグラフ
【図4】図1の固体レーザーに用いられた共振器ミラー
の反射率を示すグラフ
の反射率を示すグラフ
【図5】従来の固体レーザーに用いられたエタロンの反
射率の一例を示すグラフ
射率の一例を示すグラフ
【図6】従来の固体レーザーに用いられた共振器ミラー
の反射率の一例を示すグラフ
の反射率の一例を示すグラフ
【図7】本発明の第2実施形態による固体レーザーを示
す側面図
す側面図
【図8】図7の固体レーザーに用いられたレーザー結晶
のゲインを示すグラフ
のゲインを示すグラフ
【図9】図7の固体レーザーに用いられたエタロンの反
射率を示すグラフ
射率を示すグラフ
【図10】図7の固体レーザーに用いられた共振器ミラ
ーの反射率を示すグラフ
ーの反射率を示すグラフ
【符号の説明】 10 レーザービーム(励起光) 11 半導体レーザー 12 コリメーターレンズ 13 集光レンズ 14 Nd:YVO4 結晶 15 共振器ミラー 15a 共振器ミラーのミラー面 16 光波長変換素子 17 ブリュースター板 18 エタロン 18a、18b エタロンの光通過面 20、30 レーザービーム(固体レーザービーム) 21、31 第2高調波 34 Nd:YAG結晶
Claims (3)
- 【請求項1】 共振器内に発振波長を選択するエタロン
が配設されてなる固体レーザーにおいて、前記エタロン
の光通過面の、所望の発振波長に対する反射率よりも、
他の発振波長に対する反射率が高く設定されていること
を特徴とする固体レーザー。 - 【請求項2】 共振器を構成する少なくとも1つの共振
器ミラーの、所望の発振波長に対する反射率よりも、他
の発振波長に対する反射率が低く設定されていることを
特徴とする固体レーザー。 - 【請求項3】 共振器内に発振波長を選択するエタロン
が配設されてなる固体レーザーにおいて、 前記エタロンの光通過面の、所望の発振波長に対する反
射率よりも、他の発振波長に対する反射率が高く設定さ
れ、 共振器を構成する少なくとも1つの共振器ミラーの、所
望の発振波長に対する反射率よりも、他の発振波長に対
する反射率が低く設定されていることを特徴とする固体
レーザー。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11070184A JP2000269573A (ja) | 1999-03-16 | 1999-03-16 | 固体レーザー |
| US09/525,347 US7088760B1 (en) | 1999-03-16 | 2000-03-15 | Solid-state laser apparatus including in resonator light-transmitting element having relatively small reflectance at desired wavelength |
| EP00105505A EP1037335B1 (en) | 1999-03-16 | 2000-03-15 | Solid state laser |
| DE60040883T DE60040883D1 (de) | 1999-03-16 | 2000-03-15 | Festkörperlaser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11070184A JP2000269573A (ja) | 1999-03-16 | 1999-03-16 | 固体レーザー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000269573A true JP2000269573A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13424197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11070184A Pending JP2000269573A (ja) | 1999-03-16 | 1999-03-16 | 固体レーザー |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7088760B1 (ja) |
| EP (1) | EP1037335B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000269573A (ja) |
| DE (1) | DE60040883D1 (ja) |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5671240A (en) | 1984-11-18 | 1997-09-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Solid state laser |
| US5226054A (en) * | 1991-09-18 | 1993-07-06 | Coherent, Inc. | Cavity mirror for suppressing high gain laser wavelengths |
| US5351251A (en) * | 1993-03-30 | 1994-09-27 | Carl Zeiss, Inc. | Laser apparatus |
| JPH09502054A (ja) | 1993-08-26 | 1997-02-25 | レーザー パワー コーポレーション | 深青色のマイクロレーザー |
| US5761227A (en) * | 1994-08-23 | 1998-06-02 | Laser Power Corporation | Efficient frequency-converted laser |
| JP3222340B2 (ja) | 1994-12-27 | 2001-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 単一縦モードレーザー |
| JP3330487B2 (ja) * | 1996-03-21 | 2002-09-30 | 富士写真フイルム株式会社 | レーザー装置 |
| US5854802A (en) * | 1996-06-05 | 1998-12-29 | Jin; Tianfeng | Single longitudinal mode frequency converted laser |
| JPH1084155A (ja) * | 1996-09-06 | 1998-03-31 | Ricoh Co Ltd | 固体レーザ装置 |
| JPH104233A (ja) * | 1996-06-18 | 1998-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 波長変換レーザー |
| JP3966958B2 (ja) * | 1997-09-26 | 2007-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 固体レーザー |
| US6285702B1 (en) * | 1999-03-05 | 2001-09-04 | Coherent, Inc. | High-power external-cavity optically-pumped semiconductor laser |
| US6130900A (en) * | 1999-03-05 | 2000-10-10 | Coherent, Inc. | Pulsed intracavity frequency-converted solid-state laser with long-pulse simulation |
-
1999
- 1999-03-16 JP JP11070184A patent/JP2000269573A/ja active Pending
-
2000
- 2000-03-15 EP EP00105505A patent/EP1037335B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-15 DE DE60040883T patent/DE60040883D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-15 US US09/525,347 patent/US7088760B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1037335A3 (en) | 2003-09-03 |
| EP1037335B1 (en) | 2008-11-26 |
| EP1037335A2 (en) | 2000-09-20 |
| US7088760B1 (en) | 2006-08-08 |
| DE60040883D1 (de) | 2009-01-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040823 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061003 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070220 |