JP2000275192A - Ｘ線回折装置 - Google Patents
Ｘ線回折装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料にＸ線を照射したときに生ずる回折Ｘ線
の回折パターンの測定において、分解能を任意に設定す
る。 【解決手段】 試料３は、試料回転機構を有するゴニオ
メータ１２上に保持されており、これによりX線源７か
らの一次X線４の入射角度ωが規定される。位置敏感型
比例計数管６は、試料３からの回折／散乱X線５の出射
角度αを計測するためのものであり、Ｔx方向及びＴy方
向に移動可能な並進ステージ１１上に設置されている。
位置敏感型比例計数管６は、試料３との距離Ｌに応じて
分解能が変化する。
の回折パターンの測定において、分解能を任意に設定す
る。 【解決手段】 試料３は、試料回転機構を有するゴニオ
メータ１２上に保持されており、これによりX線源７か
らの一次X線４の入射角度ωが規定される。位置敏感型
比例計数管６は、試料３からの回折／散乱X線５の出射
角度αを計測するためのものであり、Ｔx方向及びＴy方
向に移動可能な並進ステージ１１上に設置されている。
位置敏感型比例計数管６は、試料３との距離Ｌに応じて
分解能が変化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線回折の測定を
任意の分解能で測定することが可能なＸ線回折装置に関
するものである。
任意の分解能で測定することが可能なＸ線回折装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年の種々のデバイス材料が薄膜の形態
で構成されているため、Ｘ線回折を利用して薄膜の結晶
構造について調べる方法は、頻繁に用いられている。ま
た、Ｘ線回折の手法は、測定雰囲気を自由に制御できる
ことや、非破壊で測定できること、回折強度の定量が比
較的容易であること等が利点である。
で構成されているため、Ｘ線回折を利用して薄膜の結晶
構造について調べる方法は、頻繁に用いられている。ま
た、Ｘ線回折の手法は、測定雰囲気を自由に制御できる
ことや、非破壊で測定できること、回折強度の定量が比
較的容易であること等が利点である。
【０００３】Ｘ回折を用いて薄膜の構造評価を行う場
合、薄膜からの回折Ｘ線を効率よく検出し、基板からの
バックグラウンドをできるだけ低減させることが重要に
なる。そのために、一般的によく用いられている手法と
して、以下に挙げる２つの方法がある。
合、薄膜からの回折Ｘ線を効率よく検出し、基板からの
バックグラウンドをできるだけ低減させることが重要に
なる。そのために、一般的によく用いられている手法と
して、以下に挙げる２つの方法がある。
【０００４】（１）斜入射法：Ｘ線の試料表面に対する
入射角度を数度以下に限定し、検出器を表面と垂直な面
内で走査させる方法。
入射角度を数度以下に限定し、検出器を表面と垂直な面
内で走査させる方法。
【０００５】（２）斜出射法：Ｘ線の試料表面に対する
入射角度は比較的大きく設定し、検出器を、試料表面と
垂直な面内で走査させ、Ｘ線の検出を、試料表面近傍に
設定する方法。斜入射方法と比べて、一次X線のビーム
の大きさを適宜設定することで、微小領域の測定が可能
になる。
入射角度は比較的大きく設定し、検出器を、試料表面と
垂直な面内で走査させ、Ｘ線の検出を、試料表面近傍に
設定する方法。斜入射方法と比べて、一次X線のビーム
の大きさを適宜設定することで、微小領域の測定が可能
になる。
【０００６】いずれの方法においても、代表的なＸ線の
検出方法としては、シンチレーションカウンター等の０
次元検出器を走査させて測定するのが一般的である。
検出方法としては、シンチレーションカウンター等の０
次元検出器を走査させて測定するのが一般的である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】薄膜材料の構造評価を
Ｘ線回折測定にて行う際の分解能は、以下のように決定
される。
Ｘ線回折測定にて行う際の分解能は、以下のように決定
される。
【０００８】斜入射法による測定においては、試料で回
折されたＸ線の回折プロファイルを高分解能で測定を行
うためには、通常、検出器の直前に、薄い箔が、検出器
の走査方向に垂直になるように取り付けられた、いわゆ
るソーラスリットを用いる。ソーラスリットは、厚さが
５０μm程度のステンレス箔等を、５０枚から１００枚
近く１００μm程度の間隔に保ちながら、完全に平行に
積み重ねなければならない。分解能を適宜選択して測定
するためには、ソーラスリットの交換を必要とする上、
ある程度以上の分解能を達成するのは、ソーラスリット
の作成の技術上、困難である。通常の実験室系での使用
に当たっては、０．２５゜程度の固定分解能で使用され
ている。
折されたＸ線の回折プロファイルを高分解能で測定を行
うためには、通常、検出器の直前に、薄い箔が、検出器
の走査方向に垂直になるように取り付けられた、いわゆ
るソーラスリットを用いる。ソーラスリットは、厚さが
５０μm程度のステンレス箔等を、５０枚から１００枚
近く１００μm程度の間隔に保ちながら、完全に平行に
積み重ねなければならない。分解能を適宜選択して測定
するためには、ソーラスリットの交換を必要とする上、
ある程度以上の分解能を達成するのは、ソーラスリット
の作成の技術上、困難である。通常の実験室系での使用
に当たっては、０．２５゜程度の固定分解能で使用され
ている。
【０００９】一方、斜出射法による測定においては、検
出するＸ線が、試料表面近傍で出射されてくるほぼ平行
な成分であるるため、通常は、スリット等を用いること
でＸ線検出の分解能を決定する。従って、分解能は、使
用したスリットの幅で決定され、通常の配置では、０．
０５゜程度の分解能である。よって、分解能を適宜選択
するためにはスリットの交換を行う必要が生じるが、可
変スリット等を用いない限り、分解能を適宜設定するこ
とは不可能であった。
出するＸ線が、試料表面近傍で出射されてくるほぼ平行
な成分であるるため、通常は、スリット等を用いること
でＸ線検出の分解能を決定する。従って、分解能は、使
用したスリットの幅で決定され、通常の配置では、０．
０５゜程度の分解能である。よって、分解能を適宜選択
するためにはスリットの交換を行う必要が生じるが、可
変スリット等を用いない限り、分解能を適宜設定するこ
とは不可能であった。
【００１０】本発明は上述の問題点を解消するためにな
されたものであって、試料にＸ線を照射したときに生ず
る回折Ｘ線の回折パターンの測定において、分解能を任
意に設定することができるＸ線回折装置を提供すること
を目的とする。
されたものであって、試料にＸ線を照射したときに生ず
る回折Ｘ線の回折パターンの測定において、分解能を任
意に設定することができるＸ線回折装置を提供すること
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明のＸ線回折装置は、試料にＸ線を照射したとき
に、該試料によって回折されて生ずる回折Ｘ線を検出す
ることにより、前記試料の構造情報を得るＸ線回折装置
であって、前記試料の表面に対する照射Ｘ線の入射角度
を規定する入射角度規定手段と、前記試料の表面を含む
面に対する前記回折Ｘ線の出射角度を計測するためのＸ
線検出手段と、前記Ｘ線検出手段の分解能を変化させる
分解能可変手段とを有することを特徴とする。
本発明のＸ線回折装置は、試料にＸ線を照射したとき
に、該試料によって回折されて生ずる回折Ｘ線を検出す
ることにより、前記試料の構造情報を得るＸ線回折装置
であって、前記試料の表面に対する照射Ｘ線の入射角度
を規定する入射角度規定手段と、前記試料の表面を含む
面に対する前記回折Ｘ線の出射角度を計測するためのＸ
線検出手段と、前記Ｘ線検出手段の分解能を変化させる
分解能可変手段とを有することを特徴とする。
【００１２】上記のとおり構成された本発明のＸ線回折
装置では、試料への入射Ｘ線の入射角度を入射角度規定
手段により規定し、試料からの回折Ｘ線の出射角度をＸ
線検出手段で計測することにより、Ｘ線の回折プロファ
イルが得られ、これに基づいて試料表面近傍の構造情報
を得ることができる。ここで、本発明では分解能可変手
段を有するので、Ｘ線検出手段の分解能は任意に設定さ
れる。
装置では、試料への入射Ｘ線の入射角度を入射角度規定
手段により規定し、試料からの回折Ｘ線の出射角度をＸ
線検出手段で計測することにより、Ｘ線の回折プロファ
イルが得られ、これに基づいて試料表面近傍の構造情報
を得ることができる。ここで、本発明では分解能可変手
段を有するので、Ｘ線検出手段の分解能は任意に設定さ
れる。
【００１３】Ｘ線検出手段としては位置敏感型比例計数
管を用いることができ、この場合、その分解能は、試料
との距離に応じて変化する。従って、分解能可変手段と
して、位置敏感型比例計数管の試料との距離を変化させ
る手段を用いることで、容易に分解能を設定可能であ
る。また、位置敏感型比例計数管による回折Ｘ線の検出
をより良好にするために、分解能可変手段は、さらに、
試料に対する角度や、試料との距離を変化させる方向と
垂直な方向の位置を変化させるものであることが好まし
い。
管を用いることができ、この場合、その分解能は、試料
との距離に応じて変化する。従って、分解能可変手段と
して、位置敏感型比例計数管の試料との距離を変化させ
る手段を用いることで、容易に分解能を設定可能であ
る。また、位置敏感型比例計数管による回折Ｘ線の検出
をより良好にするために、分解能可変手段は、さらに、
試料に対する角度や、試料との距離を変化させる方向と
垂直な方向の位置を変化させるものであることが好まし
い。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
【００１５】図１は、本発明を適用した試料測定装置の
一例を示す模式図である。本実施形態では、基板２上に
薄膜１が形成された試料３を測定の対象としている。
一例を示す模式図である。本実施形態では、基板２上に
薄膜１が形成された試料３を測定の対象としている。
【００１６】図１において、Ｘ線源７から放射された単
一波長の一次Ｘ線４は、ほぼ平行ビームとなって、基板
２上に形成された薄膜１に照射される。一次Ｘ線４を平
行ビームにするための手段として、ソーラスリットや、
４結晶あるいは、２結晶モノクロメーター等を用いるこ
とができる。Ｘ線源７としては、各種Ｘ線管の他、単色
化されたシンクロトロン放射光を用いることがとができ
る。
一波長の一次Ｘ線４は、ほぼ平行ビームとなって、基板
２上に形成された薄膜１に照射される。一次Ｘ線４を平
行ビームにするための手段として、ソーラスリットや、
４結晶あるいは、２結晶モノクロメーター等を用いるこ
とができる。Ｘ線源７としては、各種Ｘ線管の他、単色
化されたシンクロトロン放射光を用いることがとができ
る。
【００１７】Ｘ線源７と試料３との間には、照射領域制
限手段８が挿入されている。照射領域制限手段８として
は、通常のスリット、１つまたは複数のＸ線反射集光光
学系、キャピラリー等のＸ線導管等を用いることが可能
である。一次Ｘ線４の、試料３への照射領域の大きさ
は、これらの照射領域制限手段８を適宜使用すること
で、数μｍ〜数ｍｍ程度の範囲で選択が可能である。
限手段８が挿入されている。照射領域制限手段８として
は、通常のスリット、１つまたは複数のＸ線反射集光光
学系、キャピラリー等のＸ線導管等を用いることが可能
である。一次Ｘ線４の、試料３への照射領域の大きさ
は、これらの照射領域制限手段８を適宜使用すること
で、数μｍ〜数ｍｍ程度の範囲で選択が可能である。
【００１８】試料３は、試料回転機構が装備されたゴニ
オメーター１２上に保持されており、この回転機構を用
いることで、一次Ｘ線４の、試料３の表面に対する入射
角度ωを自由に設定できるようになっている。
オメーター１２上に保持されており、この回転機構を用
いることで、一次Ｘ線４の、試料３の表面に対する入射
角度ωを自由に設定できるようになっている。
【００１９】照射領域制限手段８を透過した一次Ｘ線４
は、試料３の表面で回折及び散乱される。この回折／散
乱Ｘ線５は、遮蔽体９を透過し、回折／散乱Ｘ線５の出
射角度を計測するためのＸ線検出器である位置敏感型比
例計数管６（ＰＳＰＣ：Position Sensitive Proportio
nal Counter）で検出される。遮蔽体９を設置してある
のは、試料３からの回折／散乱Ｘ線５のみを検出するた
めに、余分な領域から散乱されてきたＸ線等を位置敏感
型比例計数管６に入射させないためである。
は、試料３の表面で回折及び散乱される。この回折／散
乱Ｘ線５は、遮蔽体９を透過し、回折／散乱Ｘ線５の出
射角度を計測するためのＸ線検出器である位置敏感型比
例計数管６（ＰＳＰＣ：Position Sensitive Proportio
nal Counter）で検出される。遮蔽体９を設置してある
のは、試料３からの回折／散乱Ｘ線５のみを検出するた
めに、余分な領域から散乱されてきたＸ線等を位置敏感
型比例計数管６に入射させないためである。
【００２０】位置敏感型比例計数管６は、試料３の回転
中心から位置敏感型比例計数管６内の芯線１０までの距
離Ｌを規定する方向（Ｔx方向）、及びそれに直交する
方向（Ｔy方向）に自由に移動可能とするため、それぞ
れの方向への移動が可能な、本発明でいう分解能可変手
段としての並進ステージ１１上に設置されている。例え
ばこの並進ステージ１１を外部から制御可能とすれば、
測定に応じた配置を容易に設定することが可能となる。
また、並進ステージ１１は、回折／散乱Ｘ線５の位置敏
感型比例計数管６に対する入射角度を調整できるように
するために、試料３の回転面と平行な面内で回転可能と
してもよい。
中心から位置敏感型比例計数管６内の芯線１０までの距
離Ｌを規定する方向（Ｔx方向）、及びそれに直交する
方向（Ｔy方向）に自由に移動可能とするため、それぞ
れの方向への移動が可能な、本発明でいう分解能可変手
段としての並進ステージ１１上に設置されている。例え
ばこの並進ステージ１１を外部から制御可能とすれば、
測定に応じた配置を容易に設定することが可能となる。
また、並進ステージ１１は、回折／散乱Ｘ線５の位置敏
感型比例計数管６に対する入射角度を調整できるように
するために、試料３の回転面と平行な面内で回転可能と
してもよい。
【００２１】位置敏感型比例計数管６自体は、独立に移
動可能に設定することも可能であるし、試料３の回転中
心を回転軸として回転可能なように設定することも可能
である。
動可能に設定することも可能であるし、試料３の回転中
心を回転軸として回転可能なように設定することも可能
である。
【００２２】測定の分解能は、回折Ｘ線が発生する領域
が点光源とみなせる場合、試料３の回転中心から位置敏
感型比例計数管６内の芯線１０までの距離Ｌと、位置敏
感型比例計数管６自体が有する固有の分解能Ｒとによっ
て決定される。よって、試料３の回転中心から位置敏感
型比例計数管６内の芯線１０までの距離Ｌを変化させる
ことで、適宜分解能を決定することができる。
が点光源とみなせる場合、試料３の回転中心から位置敏
感型比例計数管６内の芯線１０までの距離Ｌと、位置敏
感型比例計数管６自体が有する固有の分解能Ｒとによっ
て決定される。よって、試料３の回転中心から位置敏感
型比例計数管６内の芯線１０までの距離Ｌを変化させる
ことで、適宜分解能を決定することができる。
【００２３】なお、検出器（位置敏感型比例計数管６）
の両端ではＸ線が斜入射してくるため、中央付近よりも
分解能は若干低下する。
の両端ではＸ線が斜入射してくるため、中央付近よりも
分解能は若干低下する。
【００２４】また、通常の位置敏感型比例計数管６の使
用にあたっては、その内部をＡｒとＣＨ4の混合ガス等
で置換を行い、測定する。例えば、ＰＲガス（Ａｒ９０
％、ＣＨ4１０％の混合ガス）で置換した場合には、検
出の計数効率が、使用する一次Ｘ線４のエネルギーによ
って変化する。例えば、エネルギーとしてＣｕＫαを用
いると３８％、ＣｒＫαを用いると５４％程度である。
よって、より効率よく検出を行うためには、ＣｒＫα近
傍のエネルギーを用いるのが好ましい。
用にあたっては、その内部をＡｒとＣＨ4の混合ガス等
で置換を行い、測定する。例えば、ＰＲガス（Ａｒ９０
％、ＣＨ4１０％の混合ガス）で置換した場合には、検
出の計数効率が、使用する一次Ｘ線４のエネルギーによ
って変化する。例えば、エネルギーとしてＣｕＫαを用
いると３８％、ＣｒＫαを用いると５４％程度である。
よって、より効率よく検出を行うためには、ＣｒＫα近
傍のエネルギーを用いるのが好ましい。
【００２５】実際の測定に際しては、まず、ゴニオメー
タ１２の試料回転機構の駆動により試料３の表面に対す
る一次Ｘ線４の入射角度ωを決定し、固定する。その
後、薄膜１の所望のブラッグ角が検出可能な位置に位置
敏感型比例計数管６を設置する。
タ１２の試料回転機構の駆動により試料３の表面に対す
る一次Ｘ線４の入射角度ωを決定し、固定する。その
後、薄膜１の所望のブラッグ角が検出可能な位置に位置
敏感型比例計数管６を設置する。
【００２６】その後、回折ピークをモニターしながら、
回折ピークが、位置敏感型比例計数管６のほぼ中央に現
れるように、並進ステージ１１を駆動して位置敏感型比
例計数管６をＴy方向へ移動させる。回折ピークは必ず
しも中央に現れるようにする必要はないが、回折ピーク
をより正確に再現させるためには、中央に現れるように
することが望ましい。
回折ピークが、位置敏感型比例計数管６のほぼ中央に現
れるように、並進ステージ１１を駆動して位置敏感型比
例計数管６をＴy方向へ移動させる。回折ピークは必ず
しも中央に現れるようにする必要はないが、回折ピーク
をより正確に再現させるためには、中央に現れるように
することが望ましい。
【００２７】次に、所望の分解能が得られるように、位
置敏感型比例計数管６をＴy方向へ移動させ、最適な配
置を決定し、回折ピークの測定を行う。このように、分
解能の設定は、位置敏感型比例計数管６をＴx方向に移
動させるだけでよいので、容易に分解能を設定すること
ができる。
置敏感型比例計数管６をＴy方向へ移動させ、最適な配
置を決定し、回折ピークの測定を行う。このように、分
解能の設定は、位置敏感型比例計数管６をＴx方向に移
動させるだけでよいので、容易に分解能を設定すること
ができる。
【００２８】
【実施例】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を詳し
く説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の目的が達成される範囲内での各要素
の置換や設計変更がなされたものをも包含する。
く説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の目的が達成される範囲内での各要素
の置換や設計変更がなされたものをも包含する。
【００２９】（実施例１）本実施例における実験配置
は、図１と同様である。Ｘ線源７としては、Ｃｕを対陰
極とする回転対陰極Ｘ線管を使用した。回転対陰極Ｘ線
管を、管電圧４０ｋＶ、管電流２００ｍＡで駆動した。
Ｘ線焦点はラインフォーカスとした。本実施例の配置で
は実効焦点の幅は、０．０５ｍｍ、長さは１０ｍｍであ
る。
は、図１と同様である。Ｘ線源７としては、Ｃｕを対陰
極とする回転対陰極Ｘ線管を使用した。回転対陰極Ｘ線
管を、管電圧４０ｋＶ、管電流２００ｍＡで駆動した。
Ｘ線焦点はラインフォーカスとした。本実施例の配置で
は実効焦点の幅は、０．０５ｍｍ、長さは１０ｍｍであ
る。
【００３０】照射領域制限手段８としては、幅１５０μ
ｍのスリットを、Ｘ線源７から１００ｍｍの位置に設置
した。Ｘ線源７から発生した一次Ｘ線４は、照射領域制
限手段８を透過し、照射領域制限手段８から８５ｍｍの
位置にある試料３に照射される。本実施例では、基板２
として石英基板を用い、その上に、薄膜１として、真空
蒸着で形成されたパラジウム薄膜を、大気中で加熱し、
酸化したものを試料３とした。試料３の表面に対する一
次Ｘ線４の入射角度ωを適宜設定することで、斜出射Ｘ
線回折測定を行った。
ｍのスリットを、Ｘ線源７から１００ｍｍの位置に設置
した。Ｘ線源７から発生した一次Ｘ線４は、照射領域制
限手段８を透過し、照射領域制限手段８から８５ｍｍの
位置にある試料３に照射される。本実施例では、基板２
として石英基板を用い、その上に、薄膜１として、真空
蒸着で形成されたパラジウム薄膜を、大気中で加熱し、
酸化したものを試料３とした。試料３の表面に対する一
次Ｘ線４の入射角度ωを適宜設定することで、斜出射Ｘ
線回折測定を行った。
【００３１】初めに、芯線１０の有功長ｓが５０ｍｍの
位置敏感型比例計数管６を、試料３の回転中心から２０
０ｍｍの位置に固定し、斜出射Ｘ線回折測定を行ったと
ころ、２θ＝３２°〜４４°程度までの回折パターンを
測定することができ、金属パラジウムに起因する回折ピ
ークと酸化パラジウムに起因する回折ピークの両方が観
測された。本配置における分解能は、およそ０．０６°
であった。
位置敏感型比例計数管６を、試料３の回転中心から２０
０ｍｍの位置に固定し、斜出射Ｘ線回折測定を行ったと
ころ、２θ＝３２°〜４４°程度までの回折パターンを
測定することができ、金属パラジウムに起因する回折ピ
ークと酸化パラジウムに起因する回折ピークの両方が観
測された。本配置における分解能は、およそ０．０６°
であった。
【００３２】さらに、金属パラジウムに関する情報を得
るために、位置敏感型比例計数管６を試料３の回転中心
から５００ｍｍの位置まで移動し固定することで、斜出
射Ｘ線回折測定を行った。本配置では、２θ＝３８°〜
４３°程度までの回折角度の測定が行え、金属パラジウ
ムに起因する２θ＝４０．１°近傍のピークが観測され
た。本配置における分解能は、およそ０．０２°であっ
た。
るために、位置敏感型比例計数管６を試料３の回転中心
から５００ｍｍの位置まで移動し固定することで、斜出
射Ｘ線回折測定を行った。本配置では、２θ＝３８°〜
４３°程度までの回折角度の測定が行え、金属パラジウ
ムに起因する２θ＝４０．１°近傍のピークが観測され
た。本配置における分解能は、およそ０．０２°であっ
た。
【００３３】（実施例２）実験に用いた配置は実施例１
と同様で、測定した試料３は、石英基板上にアルミニウ
ム膜を真空蒸着したものを用いた。この配置で斜出射Ｘ
線回折測定を行った。試料３の表面に対する一次Ｘ線４
の入射角度ωは、３８．０゜とした。芯線１０の有功長
ｓが５０ｍｍの位置敏感型比例計数管６を、試料３の回
転中心から３００ｍｍの位置に固定し、斜出射Ｘ線回折
測定を行った。本配置では、２θ＝３４°〜４３°程度
までの回折パターンを測定することができ、アルミニウ
ムに起因する回折ピークが観測された。本配置における
分解能は、およそ０．０４°であった。
と同様で、測定した試料３は、石英基板上にアルミニウ
ム膜を真空蒸着したものを用いた。この配置で斜出射Ｘ
線回折測定を行った。試料３の表面に対する一次Ｘ線４
の入射角度ωは、３８．０゜とした。芯線１０の有功長
ｓが５０ｍｍの位置敏感型比例計数管６を、試料３の回
転中心から３００ｍｍの位置に固定し、斜出射Ｘ線回折
測定を行った。本配置では、２θ＝３４°〜４３°程度
までの回折パターンを測定することができ、アルミニウ
ムに起因する回折ピークが観測された。本配置における
分解能は、およそ０．０４°であった。
【００３４】（実施例３）実験配置及び試料３は実施例
２と同様であるが、Ｘ線源７として、Ｃｒを対陰極とす
る回転対陰極Ｘ線管を使用した。回転対陰極Ｘ線管を、
管電圧４０ｋＶ、管電流２００ｍＡで駆動した。Ｘ線焦
点はラインフォーカスとした。本実施例の配置では実効
焦点の幅は、０．０５ｍｍ、長さは１０ｍｍである。位
置敏感型比例計数管６の検出効率が、Ｃｒの特性Ｘ線を
使用したので、Ｃｕの特性Ｘ線を用いて測定した実施例
３の場合より、短時間で同等のＳ／Ｎ比のデータを得る
ことができた。
２と同様であるが、Ｘ線源７として、Ｃｒを対陰極とす
る回転対陰極Ｘ線管を使用した。回転対陰極Ｘ線管を、
管電圧４０ｋＶ、管電流２００ｍＡで駆動した。Ｘ線焦
点はラインフォーカスとした。本実施例の配置では実効
焦点の幅は、０．０５ｍｍ、長さは１０ｍｍである。位
置敏感型比例計数管６の検出効率が、Ｃｒの特性Ｘ線を
使用したので、Ｃｕの特性Ｘ線を用いて測定した実施例
３の場合より、短時間で同等のＳ／Ｎ比のデータを得る
ことができた。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、試
料からの回折Ｘ線の出射角度を計測するためのＸ線検出
手段の分解能を変化させる分解能可変手段を有するの
で、回折Ｘ線の回折プロファイルを得る際の分解能を任
意に設定することができる。特に、Ｘ線検出手段を位置
敏感型比例計数管とした場合には、分解能可変手段は、
試料に対する位置敏感型比例計数管の距離を変化させる
ものであればよいので、分解能を容易に設定することが
できる。
料からの回折Ｘ線の出射角度を計測するためのＸ線検出
手段の分解能を変化させる分解能可変手段を有するの
で、回折Ｘ線の回折プロファイルを得る際の分解能を任
意に設定することができる。特に、Ｘ線検出手段を位置
敏感型比例計数管とした場合には、分解能可変手段は、
試料に対する位置敏感型比例計数管の距離を変化させる
ものであればよいので、分解能を容易に設定することが
できる。
【図１】本発明を適用した試料測定装置の一例を示す模
式図である。
式図である。
１ 薄膜 ２ 基板 ３ 試料 ４ 一次Ｘ線 ５ 回折／散乱Ｘ線 ６ 位置敏感型比例計数管 ７ Ｘ線源 ８ 照射領域制限手段 ９ 遮蔽体 １０ 芯線 １１ 並進ステージ １２ ゴニオメータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G001 AA01 AA09 BA14 BA18 CA01 DA01 DA02 DA03 DA08 EA09 GA05 GA13 JA06 JA11 JA20 KA08 KA13 MA05 NA06 NA15 NA17 NA21 RA03 SA01 SA02
Claims (5)
- 【請求項１】 試料にＸ線を照射したときに、該試料に
よって回折されて生ずる回折Ｘ線を検出することによ
り、前記試料の構造情報を得るＸ線回折装置であって、 前記試料の表面に対する照射Ｘ線の入射角度を規定する
入射角度規定手段と、 前記試料の表面を含む面に対する前記回折Ｘ線の出射角
度を計測するためのＸ線検出手段と、 前記Ｘ線検出手段の分解能を変化させる分解能可変手段
とを有することを特徴とするＸ線回折装置。 - 【請求項２】 前記Ｘ線検出手段は位置敏感型比例計数
管である、請求項１に記載のＸ線回折装置。 - 【請求項３】 前記分解能可変手段は、前記位置敏感型
比例計数管の前記試料との距離を変化させる手段であ
る、請求項２に記載のＸ線回折装置。 - 【請求項４】 前記分解能可変手段は、前記位置敏感型
比例計数管の前記試料に対する角度を変化させる手段で
ある、請求項３に記載のＸ線回折装置。 - 【請求項５】 前記分解能可変手段は、前記位置敏感型
比例計数管の前記試料との距離を変化させる方向と垂直
な方向の位置を変化させる手段である、請求項３または
４に記載のＸ線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11081739A JP2000275192A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | Ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11081739A JP2000275192A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | Ｘ線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000275192A true JP2000275192A (ja) | 2000-10-06 |
Family
ID=13754818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11081739A Pending JP2000275192A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | Ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000275192A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003014895A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-15 | Rigaku Corp | Ｘ線分析装置およびｘ線供給装置 |
| JP2018028470A (ja) * | 2016-08-18 | 2018-02-22 | 株式会社リガク | Ｘ線回折装置 |
| JP2023118009A (ja) * | 2022-02-14 | 2023-08-24 | 株式会社リガク | Ｘ線回折装置及び計測方法 |
-
1999
- 1999-03-25 JP JP11081739A patent/JP2000275192A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003014895A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-15 | Rigaku Corp | Ｘ線分析装置およびｘ線供給装置 |
| JP2018028470A (ja) * | 2016-08-18 | 2018-02-22 | 株式会社リガク | Ｘ線回折装置 |
| JP2023118009A (ja) * | 2022-02-14 | 2023-08-24 | 株式会社リガク | Ｘ線回折装置及び計測方法 |
| JP7687689B2 (ja) | 2022-02-14 | 2025-06-03 | 株式会社リガク | Ｘ線回折装置及び計測方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040218 |