JP2000275596A - セル検査装置及びセル検査方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 偏光板貼付前の状態で液晶製品の欠陥検査を
行う場合、多種少量生産に対応してラフな位置決めでも
対象領域を検出して信頼性の高い検査を効率的に行うこ
とが可能なセル検査装置及びセル検査方法を提供する。 【解決手段】 偏光板貼付前の液晶セル基板８の欠陥検
査を行う際、バックライト照明１１を消灯すると共に同
軸落射照明７によって液晶セル基板８を上方から投射
し、シール剤塗布部の画像を取得する。この画像を用
い、本来透明な液晶セル基板８の欠陥検査の対象領域を
限定してから検査を実行する。その他の領域については
欠陥の有無を無視することにより、歩留まりを向上させ
ると共に処理時間を短縮する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル等
の液晶製品の自動生産（特に多種少量生産）において画
像処理技術を応用して光学系の欠陥検査や点灯検査を行
う際、結像倍率、画面サイズ等を変更することなく検査
領域を決定するセル検査装置及びセル検査方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示パネルの生産、検査にお
いては、配向方向や偏光板の貼り付け等の位置決めが重
要である。このための欠陥検査の手順は、例えば各工程
において基板に設定されている位置決めマーク等を検出
し、位置補正後に組み付けて検査を行うというものであ
る。このような手順をとるのは、液晶が注入されている
内部の欠陥は偏光板を通してのみ顕在化されるためであ
る。

【０００３】また、多種少量生産を行う場合には段取り
代え時に光学系、位置決めジグ等の偏光も精度よく行う
必要がある。このため、偏光板を貼付する前の状態での
欠陥検査において１組の偏光板で液晶表示パネルを挟む
ような光学系を構築し、欠陥部分とその周辺のコントラ
ストを変化させて欠陥を検出するために光学系内の偏光
板の角度を回転する機構を設けた検査装置及び検査方法
が既に提案されている。

【０００４】この種の装置あるいは方法として関連する
ものには、特開平５−２１９５３５号公報、特開平９−
２５７６４１号公報、等がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前記特開平５−２１９
５３５号公報に開示された技術では、液晶表示パネル中
で複数の表示を行うことによって検査対象領域を決定し
ているが、検査対象の品質に依存する部分があるので、
表示信号を発生する際にその信号自体の信頼性を維持す
る必要がある。

【０００６】また、特開平９−２５７６４１号公報に開
示された技術では、偏光板を自在に回転させる機構を設
けているが、検査領域の検出対象が偏光板を貼付する前
の製品であるため、検出対象自体が透明であり、偏光板
で挟んだ光学系でも液晶の注入されていない部分は透明
である。よって、偏光板の回転角度が変化すると明るさ
も変化し、検査対象領域を限定しない限り過検査となる
恐れがある。

【０００７】本発明の目的は、このような問題点を改善
し、偏光板貼付前の状態で液晶製品の欠陥検査を行う場
合、その欠陥検査の対象領域を限定することにより、多
種少量生産に対応してラフな位置決めでも対象領域を検
出して信頼性の高い検査を効率的に行うことが可能なセ
ル検査装置及びセル検査方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
透明基板間に液晶を注入し、該透明基板を接着するシー
ル剤によって注入液晶を表示範囲内にシールして形成し
た液晶セル基板の欠陥検査を、該液晶セル基板に偏光板
を貼付する前の状態で行うセル検査装置であって、液晶
セル基板を保持する保持手段と、液晶セル基板の上方及
び下方に配置された偏光板と、上側の偏光板と液晶セル
基板の間に配置され、該液晶セル基板を投射する照明手
段と、上側の偏光板の上方に配置され、シール剤からの
反射光を入射して該シール剤の画像を取得するための撮
像手段と、を備え、シール剤の画像を基にして欠陥検査
の対象領域を決定することを特徴とする。

【０００９】請求項２記載の発明は、液晶表示用の透明
電極パターンを設けた透明基板間に液晶を注入し、該透
明基板を接着するシール剤によって注入液晶を表示範囲
内にシールして形成した液晶セル基板の欠陥検査を、該
液晶セル基板に偏光板を貼付する前の状態で行うセル検
査装置であって、液晶セル基板を保持する保持手段と、
液晶セル基板の上方及び下方に配置された偏光板と、上
側の偏光板と液晶セル基板の間に配置され、該液晶セル
基板のシール剤を投射するための第１の同軸落射照明手
段と、上側の偏光板と液晶セル基板の間に配置され、第
１の同軸落射照明手段と異なる波長で該液晶セル基板の
透明電極パターンを投射するための第２の同軸落射照明
手段と、上側の偏光板の上方に配置され、シール剤と透
明電極パターンからの反射光を入射して該シール剤と透
明電極パターンの画像を取得するための撮像手段と、を
備え、シール剤と透明電極パターンの画像を基にして欠
陥検査の対象領域を決定することを特徴とする。

【００１０】請求項３記載の発明は、請求項２において
前記第１及び第２の同軸落射照明手段を同一光軸上で２
段に配置し、両該同軸落射照明手段を切り換える照明切
換手段を備えたことを特徴とする。

【００１１】請求項４記載の発明は、請求項３において
前記液晶セル基板と下側の偏光板との間に遮蔽板を出し
入れする遮蔽板出入手段を備えたことを特徴とする。

【００１２】請求項５記載の発明は、透明基板間に液晶
を注入し、該透明基板を接着するシール剤によって注入
液晶を表示範囲内にシールして形成した液晶セル基板の
欠陥検査を、該液晶セル基板に偏光板を貼付する前の状
態で行うセル検査方法であって、液晶セル基板の上方に
配置された照明手段からシール剤を投射する照明ステッ
プと、照明手段の投射による反射光からシール剤の画像
を取得するシール剤画像取得ステップと、該シール剤の
画像を基に液晶セル基板の欠陥検査の対象領域を決定す
る対象領域決定ステップと、を有することを特徴とす
る。

【００１３】請求項６記載の発明は、液晶表示用の透明
電極パターンを設けた透明基板間に液晶を注入し、該透
明基板を接着するシール剤によって注入液晶を表示範囲
内にシールして形成した液晶セル基板の欠陥検査を、該
液晶セル基板に偏光板を貼付する前の状態で行うセル検
査方法であって、液晶セル基板の上方に配置された第１
の同軸落射照明手段によってシール剤を投射する第１の
照明ステップと、第１の同軸落射照明手段の投射による
反射光からシール剤の画像を取得するシール剤画像取得
ステップと、液晶セル基板の上方に配置された第２の同
軸落射照明手段により、第１の同軸落射照明手段と異な
る波長で透明電極パターンを投射する第２の照明ステッ
プと、第２の同軸落射照明手段の投射による反射光から
透明電極パターンの画像を取得する透明電極画像取得ス
テップと、シール剤と透明電極パターンの画像を基に液
晶セル基板の欠陥検査の対象領域を決定する対象領域決
定ステップと、を有し、対象領域についてのみ欠陥検査
を行うことを特徴とする。

【００１４】請求項７記載の発明は、請求項５又は６に
おいて前記シール剤の画像を取得した際、該シール剤の
塗布状態の検査を行う塗布状態検査ステップを有するこ
とを特徴とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の一形態を図
面を用いて説明する。 ［第１の実施の形態］図１は、本発明の第１の実施の形
態における検査対象の液晶セル基板を示し、図２はその
液晶セル基板の欠陥検査を行うセル検査装置の構成を示
す。

【００１６】本実施形態では、透明電極（ＩＴＯ膜）等
が形成された透明基板からなる液晶製品（液晶セル基
板）の欠陥検査を偏光板の貼付前に行う。この偏光板貼
付前の液晶セル基板（透明電極パターンが形成された２
枚の透明基板間に液晶が注入されたもの）は、図１に示
すように液晶表示を行うための表示エリア１と、２枚の
透明基板を接着すると共に注入液晶をシールするための
シール剤塗布部２と、シール剤塗布部２より外側で液晶
が注入されていないエッジ部３と、を有する。

【００１７】このシール剤はエポキシ樹脂等からなり、
透明基板上にスクリーン印刷等の方法で塗布される。本
実施形態では、液晶周縁部に塗布されているシール剤が
偏光板６、１０の回転に影響されず、ＣＣＤエリアセン
サ４等によって一定の画像が得られることを利用し、液
晶セル基板の欠陥検査を行う対象領域（表示エリア１
内）を決定する。

【００１８】また、２枚の透明基板の間隔を均一にする
ためにスペーサが各基板間に散布されている。さらに、
各基板自体あるいは内面上には液晶を均一に配列するた
めの配向膜が被着されており、この配向膜に対して所定
方向に予めラビング処理が施されている。なお、ラビン
グ処理による液晶分子の配向方向に対して、完成後の液
晶パネルの上下両側に貼付された偏光板と同じ状態に偏
光板６、１０を配置した状態を基準状態とすると、この
基準状態で偏光板６、１０の偏光軸は直交する方向に指
向する。

【００１９】液晶セル基板８の欠陥検査は、例えば公知
のようにこの基準状態からバックライト照明１１を点灯
して、偏光板６、１０を光軸中心に回転手段（図示せ
ず）で回転させて後述の撮像手段により得られた液晶セ
ル基板８の画像を画像処理することによって、表示不良
や表示欠陥を検出してもよい。あるいは、黒色映像、白
色映像等を表示エリア１に表示させ、後述の撮像手段に
よって得られた前記対象領域内の画像を画像処理して滅
点、輝点等の欠陥検査を行ってもよい。

【００２０】図１の液晶セル基板を検査するセル検査装
置は、図２に示すようにＣＣＤエリアセンサ４、レンズ
５、偏光板６、１０、同軸落射照明７、ステージ９、バ
ックライト照明１１を備える。

【００２１】ＣＣＤエリアセンサ４、レンズ５、等から
なる撮像手段は、上側の偏光板６の上方に配置され、こ
のレンズ５は多種少量生産における検査対象機種の最大
サイズに撮像範囲を固定してＣＣＤエリアセンサ４に設
置されている。この撮像手段は、シール剤塗布部２から
の反射光を入力してその画像を取得するように構成され
ている。本実施形態では、こうして得られた画像に対
し、図示しない制御部（ＣＰＵ、ＲＡＭ／ＲＯＭ、各種
センサ、入出力部、等）によって必要な画像処理を施
し、そのシール剤塗布部２の内側を欠陥検査の対象領域
として設定する。

【００２２】偏光板６、１０は、光軸上で液晶セル基板
８の上下に配置され、これらの偏光板６、１０によって
シール剤塗布部２を検出するための同軸落射照明７、及
び液晶セル基板８を保持するためのステージ９を挟むよ
うに配置されている。

【００２３】同軸落射照明７は、上側の偏光板６とステ
ージ９に保持された液晶セル基板８との間に配置され、
液晶セル基板８に光を投射してシール剤塗布部２を検出
するための照明手段を構成する。

【００２４】ステージ９は、検査対象セルである液晶セ
ル基板８の対象領域部分（表示エリア１を含む）に比べ
て十分に大きな面積の空孔を有し、光軸上で液晶セル基
板８を保持するための保持手段を構成する。

【００２５】バックライト照明１１は、蛍光ランプ等で
構成され、欠陥検査時に液晶セル基板８の背面から投射
するものである。このバックライト照明１１の点灯時に
偏光板６、１０、ＣＣＤエリアセンサ４、レンズ５、等
を含む光学系によって液晶セル基板８の欠陥検査を行
う。

【００２６】次に、本実施形態のセル検査方法について
説明する。

【００２７】本実施形態では、欠陥検査前にバックライ
ト照明１１を消灯して同軸落射照明７を点灯する。こう
することによって、液晶セル基板８の透明な表示エリア
１及びエッジ部３は背景の暗さに依存して暗い画像とな
り、シール剤塗布部２のみが背景の暗さに依存せずに明
るい画像となる。従って、バックライト照明１１の消灯
時にはシール剤塗布部２の反射光がレンズ５を介してＣ
ＣＤエリアセンサ４に入り、図３に示すようにシール剤
塗布部２と他の透明部分（表示エリア１、エッジ部３を
含む）とのコントラスト画像が得られる。そこで、この
画像の明るい要素のみを検出対象にすることによりシー
ル剤の塗布状態を検査すると共に、表示エリア１内に欠
陥検査の対象領域を設定することができる。

【００２８】このシール剤の塗布状態を検査する方法
は、前記制御部による画像処理でシール剤塗布部２のエ
ッジ部分を抽出してラベリングを施し、それぞれの要素
の最短距離を計算するものである。これによってシール
剤の細り、シール剤塗布部中の異物等の欠陥が検出され
る。

【００２９】また、液晶セル基板８の欠陥検査の対象領
域の決定方法は、シール剤塗布部２の明るい画像を対象
として、明るい要素を抽出すると共にそのシール剤塗布
部２の領域を限定し、次いでその画像を反転して、シー
ル剤塗布部２の領域内側の明るい画像を対象領域として
決定するものである。

【００３０】この後、前述のようにバックライト照明１
を点灯し、撮像手段によって対象領域内の画像を取得
し、この画像に対してパターンマッチング等の画像処理
を施すことによって欠陥検査を行う。

【００３１】なお、ステージ９の上面（同軸落射照明７
によって投射される側）に暗色を施すこと、あるいはス
テージ９より下方の光学系との距離を大きくとることに
より、シール剤塗布部２と他の透明部分とのコントラス
トをより向上させることができる。

【００３２】本実施形態によれば、液晶製品を構成す
る、偏光板を貼付する前の液晶セル基板８の欠陥検査工
程において、ステージ９上で位置決めが厳密でなくても
必要な対象領域に対してのみ欠陥検査を行うようにした
ので、多種少量生産等では検査対象が変更されても再現
に厳密さを要する光学系の変更調査等を要せず、同一光
学系で取得した画像の中から対象領域を自動抽出するこ
とで誤検出を抑制でき、さらに偏光板６、１０と液晶セ
ル基板８の表示面（表示エリア１）との角度を補正する
こともできる。

【００３３】また、本実施形態によればシール剤塗布部
２の画像を取得することによってシール剤による透明基
板の貼り合わせ状態を確認でき、パターンマッチング
等、操作領域の広さに影響される処理にかかる時間を短
縮することができる。 [第２の実施の形態]図４は、本発明の第２の実施の形態
におけるセル検査装置の同軸落射照明の構成を示す。な
お、第１の実施形態と同様の構成には同一符号を付与し
て説明を省略する。

【００３４】本実施形態では、同軸落射照明７を白色Ｌ
ＥＤを用いた第１の同軸落射照明７ｂと青色ＬＥＤを用
いた第２の同軸落射照明７ａとから構成する。この第１
の同軸落射照明７ｂはシール剤塗布部２の画像を抽出す
るために投射する白色照明である。また、第２の同軸落
射照明７ａは前述の透明電極（ＩＴＯ膜）の画像を抽出
するために投射する青色照明である。なお、第２の同軸
落射照明７ａを青色照明としたのは、透明電極が短波長
側でよりコントラストが得られることによる。また、こ
れらの同軸落射照明７ａ、７ｂの切り換えはマニュアル
によって行うものとする。

【００３５】次に、液晶セル基板８の欠陥検査の対象領
域の決定方法について説明する。

【００３６】まず、バックライト照明１１を消灯して第
１の同軸落射照明７ｂを点灯する。こうすることによっ
て、前述のようにシール剤塗布部２の反射光がレンズ５
を介してＣＣＤエリアセンサ４に入り、シール剤塗布部
２と他の透明部分（表示エリア１、エッジ部３を含む）
とのコントラスト画像が得られる。

【００３７】次いで、第１の同軸落射照明７ｂを消灯し
て第２の同軸落射照明７ａを点灯する。こうすることに
よって、液晶セル基板８を構成する透明基板に設けられ
た透明電極パターンと他の透明部分（表示エリア１、エ
ッジ部３を含む）とシール剤塗布部２とのコントラスト
画像が得られる。

【００３８】次いで、得られた画像間で演算処理を行
い、シール剤塗布部２の画像と透明電極パターンの画像
を分離する。そして、シール剤塗布部２の画像の最も内
側の境界と透明電極パターンの画像の最も外側の境界を
求め、これを基に透明電極を含むように欠陥検査の対象
領域を設定し、欠陥検査の際のパターンマッチング等の
画像処理もこの対象領域内に限定して行う。

【００３９】本実施形態によれば、シール剤塗布部２と
透明電極パターンの画像を基に欠陥検査の対象領域を決
定することで、より明確に対象領域を限定すると共に対
象領域外の欠陥を無視することによって歩留まりを向上
させることができる。 ［第３の実施の形態］図５は、本発明の第３の実施の形
態におけるセル検査装置の構成を示す。なお、第１の実
施形態と同様の構成には同一符号を付与して説明を省略
する。

【００４０】本実施形態の制御部１７には、ＣＣＤカメ
ラ１３（＝撮像手段）からの画像を取得して処理する画
像入力処理手段と、シール剤塗布部２の画像を取得する
ための同軸落射照明７と欠陥検査用のバックライト照明
１１との切り替えを実行する照明切り換え手段と、を有
する。

【００４１】ハンド１９は、シール剤塗布部２の画像取
得時あるいは欠陥検査時に液晶セル基板８のエッジ部分
をチャックして所定位置にセットする。

【００４２】このような構成により、制御部１７の制御
で前述の対象領域の決定、及び液晶セル基板８の欠陥検
査を含むセル検査を自動的に実行する。すなわち、制御
部１７は図示しないセットセンサ（例えば、光学式反射
形センサ）からの検知信号によって液晶セル基板８が光
軸中の所定位置にセットされたと判断すると、照明切り
換え手段によってバックライト照明１１を消灯すると共
に同軸落射照明７を点灯し、ＣＣＤカメラ１３から入力
された画像データを画像処理してシール剤塗布部２の画
像を取得し、この画像を基に欠陥検査の対象領域を決定
する。この後、照明切り換え手段によって同軸落射照明
７を消灯すると共にバックライト照明１１を点灯し、Ｃ
ＣＤカメラ１３から入力された画像データを基に前記対
象領域について必要な画像処理を施して欠陥検査を実行
する。

【００４３】本実施形態によれば、制御部１７によって
欠陥検査の対象領域を決定するための同軸落射照明７と
欠陥検査用のバックライト照明１１との切り替えを行う
ので、欠陥検査の対象領域を自動的に効率よく限定する
と共に偏光板６、１０と液晶セル基板８との角度を補正
することができる。 ［第４の実施の形態］図６は、本発明の第４の実施の形
態におけるセル検査装置の構成を示す。なお、第３の実
施形態と同様の構成には同一符号を付与して説明を省略
する。

【００４４】本実施形態の制御部２４には、ＣＣＤカメ
ラ１３からの画像を取得して処理する画像入力処理手段
と、シール剤塗布部２の画像を取得するための同軸落射
照明７と欠陥検査用のバックライト照明１１との切り換
えを実行する照明切り換え手段と、遮蔽板２２を出し入
れするスライダ２３の駆動を制御する遮蔽板駆動手段
と、を有する。

【００４５】この遮蔽板２２は、シール剤塗布部２の画
像を取得する時にスライダ２３の駆動で光軸中に挿入さ
れ、欠陥検査時には光軸中から退避するものである。ま
た、スライダ２３にはスプリング、ソレノイド等を備
え、遮蔽板２２を光軸中に出し入れ自在に構成されてい
る。

【００４６】本実施形態では、シール剤塗布部２の画像
を取得する時、遮蔽板２２によってその画像の背景とシ
ール剤塗布部２のコントラストを向上させると共に、１
組の偏光板６、１０の相対角度によらず、液晶注入部分
（表示エリア１を含む）と液晶が注入されていない外周
部分（エッジ部３を含む）の画像を一定に得ることがで
きるので、前記対象領域の設定、あるいは欠陥検査の信
頼性を向上させることができる。 ［第５の実施の形態］図７は、本発明の第５の実施の形
態におけるセル検査装置の同軸落射照明の構成を示す。
なお、第２、第４の実施形態と同様の構成には同一符号
を付与して説明を省略する。

【００４７】本実施形態では、同軸落射照明７を白色Ｌ
ＥＤを用いた第１の同軸落射照明７ｂと青色ＬＥＤを用
いた第２の同軸落射照明７ａとから構成すると共に、制
御部２４の照明切り換え手段によって、シール剤塗布部
２の画像を抽出する際は第１の同軸落射照明７ｂを投射
し、前述の透明電極の画像を抽出する際には第２の同軸
落射照明７ａを投射するように制御する。

【００４８】すなわち、遮蔽板２２を光軸中に挿入する
と共にバックライト照明１１を消灯して第１の同軸落射
照明７ｂを点灯することによって、前述のようにシール
剤塗布部２と他の透明部分とのコントラスト画像を取得
し、第１の同軸落射照明７ｂを消灯して第２の同軸落射
照明７ａを点灯することによって、前述のように液晶セ
ル基板８の透明電極パターンと他の透明部分とシール剤
塗布部２とのコントラスト画像を取得し、各画像間の演
算処理によってシール剤塗布部２の画像の最も内側の境
界と透明電極パターンの画像の最も外側の境界を求め、
これを基に全ての透明電極を含むように欠陥検査の対象
領域を設定する。この後、遮蔽板２２を光軸中から退避
させると共にバックライト照明１１を点灯して第２の同
軸落射照明７ａを消灯し、その対象領域についてのみ欠
陥検査を実行する。

【００４９】本実施形態では、制御部２４でバックライ
ト照明１１及び２種類の同軸落射照明７ａ、７ｂを切り
換えることにより、光学系を変更することなくシール剤
塗布部２の画像と透明電極の画像を自動的に取得するこ
とができる。

【００５０】

【発明の効果】本発明によれば、上側の偏光板と液晶セ
ル基板の間に配置した照明手段（同軸落射照明）あるい
は第１の同軸落射照明手段（第１の同軸落射照明）の投
射によって、２枚の偏光板の相対角度、あるいは液晶製
品との相対角度に依存しない可視部分であるシール剤
（シール剤塗布部）の画像を取得し、この画像を用いて
本来透明な液晶セル基板の欠陥検査の対象領域を限定す
るので、同一光学系で液晶製品を多種少量生産する際の
欠陥検査において、多種多様な形状、サイズの製品に対
応し、段取り替え時の変更、調整による光学系の再現性
の誤差を考慮せず、限定された対象領域内で製品の位置
ずれに影響されることなく信頼性の高い欠陥検査を効率
的に行うことができる。また、偏光板の貼付前の状態で
欠陥検査を行うことによって、偏光板と液晶製品の表示
面との角度を補正することもできる。なお、対象領域の
サイズと形状により多種少量生産での多機種の混入を防
止することができ、さらに光学系とプローバーの設定に
より点灯させてパターンの検査をする場合等、対象領域
を限定することにより処理時間を短縮することができ
る。

【００５１】また、本発明によれば、第２の同軸落射照
明手段（第２の同軸落射照明）の投射により、前記液晶
セル基板の透明電極の画像を取得し、前述のシール剤と
透明電極の画像を基に欠陥検査の対象領域を設定するこ
とによって、その対象領域をより厳密に限定し、信頼性
の高い欠陥検査を効率的に行うことができる。よって、
液晶製品の実装段階でフレームに隠れる部分等、品質に
影響しない領域での欠陥を不良とせず歩留まりを向上さ
せることが可能である。

【００５２】また、本発明によれば、照明切換手段で第
１の同軸落射照明手段と第２の同軸落射照明手段とを同
一光軸上で切り換えることによって、両者の鮮明な画像
を取得して欠陥検査の対象領域を決定する際の信頼性を
より向上させることができる。

【００５３】また、本発明によれば、前記シール剤の画
像を取得する際に遮蔽板出入手段（遮蔽板及びスライ
ダ）で前記液晶セル基板と下側の偏光板との間に遮蔽板
を挿入することによって、前述のシール剤とその他の透
明部分の画像のコントラストをより高めることができ
る。よって、欠陥検査の対象領域を決定する際の信頼性
をより向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態における検査対象の
液晶セル基板の構成を示す図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態におけるセル検査装
置の構成図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態におけるバックライ
ト照明消灯時のシール剤塗布部の画像を示す図である。

【図４】本発明の第２の実施の形態におけるセル検査装
置の同軸落射照明の構成を示す図である。

【図５】本発明の第３の実施の形態におけるセル検査装
置の構成図である。

【図６】本発明の第４の実施の形態におけるセル検査装
置の構成図である。

【図７】本発明の第５の実施の形態におけるセル検査装
置の同軸落射照明の構成を示す図である。

【符号の説明】

１ 表示エリア ２ シール剤塗布部 ３ エッジ部 ４ ＣＣＤエリアセンサ ５ レンズ ６、１０ 偏光板 ７、７ａ、７ｂ 同軸落射照明 ８ 液晶セル基板 ９ ステージ １１ バックライト照明 １３ ＣＣＤカメラ １７、２４ 制御部 １９ ハンド ２２ 遮蔽板 ２３ スライダ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基板間に液晶を注入し、該透明基板を
   接着するシール剤によって注入液晶を表示範囲内にシー
   ルして形成した液晶セル基板の欠陥検査を、該液晶セル
   基板に偏光板を貼付する前の状態で行うセル検査装置で
   あって、 液晶セル基板を保持する保持手段と、 液晶セル基板の上方及び下方に配置された偏光板と、 上側の偏光板と液晶セル基板の間に配置され、該液晶セ
   ル基板を投射する照明手段と、 上側の偏光板の上方に配置され、シール剤からの反射光
   を入射して該シール剤の画像を取得するための撮像手段
   と、 を備え、シール剤の画像を基にして欠陥検査の対象領域
   を決定することを特徴とするセル検査装置。
2. 【請求項２】液晶表示用の透明電極パターンを設けた透
   明基板間に液晶を注入し、該透明基板を接着するシール
   剤によって注入液晶を表示範囲内にシールして形成した
   液晶セル基板の欠陥検査を、該液晶セル基板に偏光板を
   貼付する前の状態で行うセル検査装置であって、 液晶セル基板を保持する保持手段と、 液晶セル基板の上方及び下方に配置された偏光板と、 上側の偏光板と液晶セル基板の間に配置され、該液晶セ
   ル基板のシール剤を投射するための第１の同軸落射照明
   手段と、 上側の偏光板と液晶セル基板の間に配置され、第１の同
   軸落射照明手段と異なる波長で該液晶セル基板の透明電
   極パターンを投射するための第２の同軸落射照明手段
   と、 上側の偏光板の上方に配置され、シール剤と透明電極パ
   ターンからの反射光を入射して該シール剤と透明電極パ
   ターンの画像を取得するための撮像手段と、 を備え、シール剤と透明電極パターンの画像を基にして
   欠陥検査の対象領域を決定することを特徴とするセル検
   査装置。
3. 【請求項３】前記第１及び第２の同軸落射照明手段を同
   一光軸上で２段に配置し、両該同軸落射照明手段を切り
   換える照明切換手段を備えたことを特徴とする請求項２
   記載のセル検査装置。
4. 【請求項４】前記液晶セル基板と下側の偏光板との間に
   遮蔽板を出し入れする遮蔽板出入手段を備えたことを特
   徴とする請求項３記載のセル検査装置。
5. 【請求項５】透明基板間に液晶を注入し、該透明基板を
   接着するシール剤によって注入液晶を表示範囲内にシー
   ルして形成した液晶セル基板の欠陥検査を、該液晶セル
   基板に偏光板を貼付する前の状態で行うセル検査方法で
   あって、 液晶セル基板の上方に配置された照明手段からシール剤
   を投射する照明ステップと、 照明手段の投射による反射光からシール剤の画像を取得
   するシール剤画像取得ステップと、 該シール剤の画像を基に液晶セル基板の欠陥検査の対象
   領域を決定する対象領域決定ステップと、 を有することを特徴とするセル検査方法。
6. 【請求項６】液晶表示用の透明電極パターンを設けた透
   明基板間に液晶を注入し、該透明基板を接着するシール
   剤によって注入液晶を表示範囲内にシールして形成した
   液晶セル基板の欠陥検査を、該液晶セル基板に偏光板を
   貼付する前の状態で行うセル検査方法であって、 液晶セル基板の上方に配置された第１の同軸落射照明手
   段によってシール剤を投射する第１の照明ステップと、 第１の同軸落射照明手段の投射による反射光からシール
   剤の画像を取得するシール剤画像取得ステップと、 液晶セル基板の上方に配置された第２の同軸落射照明手
   段により、第１の同軸落射照明手段と異なる波長で透明
   電極パターンを投射する第２の照明ステップと、 第２の同軸落射照明手段の投射による反射光から透明電
   極パターンの画像を取得する透明電極画像取得ステップ
   と、 シール剤と透明電極パターンの画像を基に液晶セル基板
   の欠陥検査の対象領域を決定する対象領域決定ステップ
   と、 を有し、対象領域についてのみ欠陥検査を行うことを特
   徴とするセル検査方法。
7. 【請求項７】前記シール剤の画像を取得した際、該シー
   ル剤の塗布状態の検査を行う塗布状態検査ステップを有
   することを特徴とする請求項５又は６記載のセル検査方
   法。