JP2000277770A - 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル - Google Patents
太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルInfo
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−
ト層として、フッ素系樹脂を使用するも、水分、酸素等
の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光
性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期
的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優れ、更
に、防汚性等に優れ、より低コストで安全な太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安定的に提供する
ことである。 【解決手段】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコ
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
脂フィルムとを積層したことを特徴とする太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池
モジュ−ルに関するものである。
ト層として、フッ素系樹脂を使用するも、水分、酸素等
の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光
性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期
的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優れ、更
に、防汚性等に優れ、より低コストで安全な太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安定的に提供する
ことである。 【解決手段】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコ
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
脂フィルムとを積層したことを特徴とする太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池
モジュ−ルに関するものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。そして、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表面
保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一般
的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等の
樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進められ
ている。
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。そして、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表面
保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一般
的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等の
樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進められ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、太陽電池
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、太陽光が入射し、これを透過し、吸収する透過、吸
収性に富むと共に耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性
に優れ、かつ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に
優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ
等の蓄積を防止し、その保護能力性が高いこと、その他
等の条件が挙げられるものである。しかしながら、太陽
電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、現
在、最も一般的に使用されているガラス板等は、太陽光
の透過、吸収性に優れ、かつ、耐光性、耐熱性、耐水性
等の諸堅牢性に優れ、また、防湿性にも優れ、更に、表
面硬度が硬く、その保護能力性が高い等の利点を有する
が、可塑性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更に、その加
工性、施工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けると
いう問題点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを
構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等の樹
脂シ−トを使用する場合には、ガラス板等と比較して、
可塑性、耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に富むもので
はあるが、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に劣
り、特に、防湿性等に欠けるという問題点がある。更
に、上記のフッ素系樹脂シ−トを使用する場合には、そ
の表面にゴミ等が蓄積し、表面が汚染するという問題点
もある。そこで本発明は、太陽電池モジュ−ルを構成す
る表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂を使用する
も、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上
させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性につ
いても、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能
力性に優れ、更に、防汚性等に優れ、より低コストで安
全な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安
定的に提供することである。
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、太陽光が入射し、これを透過し、吸収する透過、吸
収性に富むと共に耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性
に優れ、かつ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に
優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ
等の蓄積を防止し、その保護能力性が高いこと、その他
等の条件が挙げられるものである。しかしながら、太陽
電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、現
在、最も一般的に使用されているガラス板等は、太陽光
の透過、吸収性に優れ、かつ、耐光性、耐熱性、耐水性
等の諸堅牢性に優れ、また、防湿性にも優れ、更に、表
面硬度が硬く、その保護能力性が高い等の利点を有する
が、可塑性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更に、その加
工性、施工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けると
いう問題点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを
構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等の樹
脂シ−トを使用する場合には、ガラス板等と比較して、
可塑性、耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に富むもので
はあるが、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に劣
り、特に、防湿性等に欠けるという問題点がある。更
に、上記のフッ素系樹脂シ−トを使用する場合には、そ
の表面にゴミ等が蓄積し、表面が汚染するという問題点
もある。そこで本発明は、太陽電池モジュ−ルを構成す
る表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂を使用する
も、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上
させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性につ
いても、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能
力性に優れ、更に、防汚性等に優れ、より低コストで安
全な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安
定的に提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層につ
いての問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されて
いるガラス板の特性、および、フッ素系樹脂に着目し、
まず、樹脂フィルムの片面に、酸化珪素、あるいは、酸
化アルミニウム等の透明な、ガラス質からなる無機酸化
物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の
上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加水
分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティ
ング膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜とコ−テ
ィング膜とを設けた樹脂フィルムのいずれか一方の面
に、フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物
による塗布膜を積層して太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、その一
方の面を内側にし、充填剤層、光起電力素子としての太
陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層等を
順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引して
加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池モ
ジュ−ルを製造したところ、水分、酸素等の侵入を防止
する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性についても、その長期的な性能劣化
を最小限に抑え、保護能力性に優れ、更に、防汚性等に
優れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルを
製造し得ることを見出して本発明を完成したものであ
る。
な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層につ
いての問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されて
いるガラス板の特性、および、フッ素系樹脂に着目し、
まず、樹脂フィルムの片面に、酸化珪素、あるいは、酸
化アルミニウム等の透明な、ガラス質からなる無機酸化
物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の
上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加水
分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティ
ング膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜とコ−テ
ィング膜とを設けた樹脂フィルムのいずれか一方の面
に、フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物
による塗布膜を積層して太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、その一
方の面を内側にし、充填剤層、光起電力素子としての太
陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層等を
順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引して
加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池モ
ジュ−ルを製造したところ、水分、酸素等の侵入を防止
する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性についても、その長期的な性能劣化
を最小限に抑え、保護能力性に優れ、更に、防汚性等に
優れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルを
製造し得ることを見出して本発明を完成したものであ
る。
【0005】すなわち、本発明は、フッ素系樹脂をビヒ
クルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜と、無機酸
化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜
の上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加
水分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−テ
ィング膜を設けた樹脂フィルムとを積層したことを特徴
とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれ
を使用した太陽電池モジュ−ルに関するものである。
クルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜と、無機酸
化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜
の上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加
水分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−テ
ィング膜を設けた樹脂フィルムとを積層したことを特徴
とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれ
を使用した太陽電池モジュ−ルに関するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて
更に具体的に説明すると、図1、図2および図3は、本
発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの層
構成についてその二三例を例示する概略的断面図であ
り、図4は、図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジ
ュ−ルの層構成についてその一例を例示する概略的断面
図である。
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて
更に具体的に説明すると、図1、図2および図3は、本
発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの層
構成についてその二三例を例示する概略的断面図であ
り、図4は、図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジ
ュ−ルの層構成についてその一例を例示する概略的断面
図である。
【0007】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トAは、図1に示すように、フッ素系樹
脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜1
と、その片面に、無機酸化物の蒸着薄膜2を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着薄膜2の上に、金属アルコキシ
ド化合物および/またはその加水分解物をビヒクルの主
成分とする組成物によるコ−ティング膜3を設けた樹脂
フィルム4とを積層した構成からなることを基本構造と
するものである。而して、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トについて、別の例を例示する
と、図2に示すように、フッ素系樹脂をビヒクルの主成
分とする樹脂組成物による塗布膜1と、その片面に、無
機酸化物の蒸着薄膜2、2を少なくとも2層以上設けた
多層膜5を構成し、更に、該多層膜5を構成する無機酸
化物の蒸着薄膜2の上に、金属アルコキシド化合物およ
び/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組
成物によるコ−ティング膜3を設けた樹脂フィルム4を
積層した構成からなる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トA1 を挙げることができる。更に、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、他の例
を例示すると、図3に示すように、フッ素系樹脂をビヒ
クルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜1と、その
片面に、まず、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜2aを設け、次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜2a
の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜2
bを設けて無機酸化物の蒸着薄膜2a、2bからなる2
層以上の多層膜5aを構成し、更に、該多層膜5aを構
成する無機酸化物の蒸着薄膜2bの上に、金属アルコキ
シド化合物および/またはその加水分解物をビヒクルの
主成分とする組成物によるコ−ティング膜3を設けた樹
脂フィルム4を積層した構成からなる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トA2 を挙げることができる。上記に
おいて、フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物による塗布膜1と、無機酸化物野蒸着薄膜2および
コ−ティング膜3とを設けた樹脂フィルム4とを積層す
るに際しては、無機酸化物の蒸着薄膜2とコ−ティング
膜3とを設けた樹脂フィルム4の樹脂フィルム4の面、
あるいは、コ−ティング膜3の面等のいずれかの面に、
フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によ
る塗布膜1を形成して積層してもよいものである。
用表面保護シ−トAは、図1に示すように、フッ素系樹
脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜1
と、その片面に、無機酸化物の蒸着薄膜2を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着薄膜2の上に、金属アルコキシ
ド化合物および/またはその加水分解物をビヒクルの主
成分とする組成物によるコ−ティング膜3を設けた樹脂
フィルム4とを積層した構成からなることを基本構造と
するものである。而して、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トについて、別の例を例示する
と、図2に示すように、フッ素系樹脂をビヒクルの主成
分とする樹脂組成物による塗布膜1と、その片面に、無
機酸化物の蒸着薄膜2、2を少なくとも2層以上設けた
多層膜5を構成し、更に、該多層膜5を構成する無機酸
化物の蒸着薄膜2の上に、金属アルコキシド化合物およ
び/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組
成物によるコ−ティング膜3を設けた樹脂フィルム4を
積層した構成からなる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トA1 を挙げることができる。更に、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、他の例
を例示すると、図3に示すように、フッ素系樹脂をビヒ
クルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜1と、その
片面に、まず、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜2aを設け、次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜2a
の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜2
bを設けて無機酸化物の蒸着薄膜2a、2bからなる2
層以上の多層膜5aを構成し、更に、該多層膜5aを構
成する無機酸化物の蒸着薄膜2bの上に、金属アルコキ
シド化合物および/またはその加水分解物をビヒクルの
主成分とする組成物によるコ−ティング膜3を設けた樹
脂フィルム4を積層した構成からなる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トA2 を挙げることができる。上記に
おいて、フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物による塗布膜1と、無機酸化物野蒸着薄膜2および
コ−ティング膜3とを設けた樹脂フィルム4とを積層す
るに際しては、無機酸化物の蒸着薄膜2とコ−ティング
膜3とを設けた樹脂フィルム4の樹脂フィルム4の面、
あるいは、コ−ティング膜3の面等のいずれかの面に、
フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によ
る塗布膜1を形成して積層してもよいものである。
【0008】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
と、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トAを使用した例で説明すると、図4
に示すように、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トAに、その一方の面を内
側にし、順次に、充填剤層11、光起電力素子としての
太陽電池素子12、充填剤層13、および、裏面保護シ
−ト層14等を積層し、次いで、これらを一体として、
真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の
成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として太陽電
池モジュ−ルTを製造することができる。上記の例示
は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トおよびそれを使用して製造した太陽電池モジュ−ルに
ついてその一例を例示するものであり、本発明はこれに
より限定されるものではない。例えば、図示しないが、
上記の太陽電池モジュ−ルにおいては、太陽光の透過
性、吸収性、補強、その他等の目的のもとに、更に、他
の層を任意に加えて積層することができるものである。
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
と、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トAを使用した例で説明すると、図4
に示すように、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トAに、その一方の面を内
側にし、順次に、充填剤層11、光起電力素子としての
太陽電池素子12、充填剤層13、および、裏面保護シ
−ト層14等を積層し、次いで、これらを一体として、
真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の
成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として太陽電
池モジュ−ルTを製造することができる。上記の例示
は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トおよびそれを使用して製造した太陽電池モジュ−ルに
ついてその一例を例示するものであり、本発明はこれに
より限定されるものではない。例えば、図示しないが、
上記の太陽電池モジュ−ルにおいては、太陽光の透過
性、吸収性、補強、その他等の目的のもとに、更に、他
の層を任意に加えて積層することができるものである。
【0009】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂
組成物による塗布膜としては、フッ素系樹脂の1種ない
し2種以上をビヒクルの主成分とし、これに、要すれ
ば、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、光安定剤、充填剤、補強剤、強化剤、帯電防止剤、
難燃剤、耐炎剤、防カビ剤、着色剤、その他等の添加剤
の1種ないし2種以上を太陽光の透過に影響しない範囲
内で任意に添加し、更に、溶剤、希釈剤等で十分に混練
し、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン
型等の樹脂組成物を調整し、次いで、該樹脂組成物を、
例えば、フロ−ティングナイフコ−ト、ナイフオ−バ−
ロ−ルコ−ト、インバ−ティドナイフコ−ト、スクイ−
ズロ−ルコ−ト、ロバ−スロ−ルコ−ト、ロ−ルコ−
ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスロ−ルコ−ト、エア−
ブレ−ドコ−ト、エクストル−ジョンコ−ト、カ−テン
フロ−コ−ト、その他等のコ−ティング法、あるいは、
グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印
刷、転写印刷、その他等の印刷法を用いて、前述の無機
酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィ
ルムのコ−ティング膜の面、または、樹脂フィルムの面
のいずれかの面に、塗布ないし印刷することにより塗布
膜を形成して、積層することができる。上記において、
塗布膜の膜厚としては、1〜75g/m2 (乾燥状態)
位、好ましくは、10〜50g/m2 位が望ましい。
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂
組成物による塗布膜としては、フッ素系樹脂の1種ない
し2種以上をビヒクルの主成分とし、これに、要すれ
ば、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、光安定剤、充填剤、補強剤、強化剤、帯電防止剤、
難燃剤、耐炎剤、防カビ剤、着色剤、その他等の添加剤
の1種ないし2種以上を太陽光の透過に影響しない範囲
内で任意に添加し、更に、溶剤、希釈剤等で十分に混練
し、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン
型等の樹脂組成物を調整し、次いで、該樹脂組成物を、
例えば、フロ−ティングナイフコ−ト、ナイフオ−バ−
ロ−ルコ−ト、インバ−ティドナイフコ−ト、スクイ−
ズロ−ルコ−ト、ロバ−スロ−ルコ−ト、ロ−ルコ−
ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスロ−ルコ−ト、エア−
ブレ−ドコ−ト、エクストル−ジョンコ−ト、カ−テン
フロ−コ−ト、その他等のコ−ティング法、あるいは、
グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印
刷、転写印刷、その他等の印刷法を用いて、前述の無機
酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィ
ルムのコ−ティング膜の面、または、樹脂フィルムの面
のいずれかの面に、塗布ないし印刷することにより塗布
膜を形成して、積層することができる。上記において、
塗布膜の膜厚としては、1〜75g/m2 (乾燥状態)
位、好ましくは、10〜50g/m2 位が望ましい。
【0010】また、上記において、フッ素系樹脂として
は、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTF
E)、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキル
ビニルエ−テルとの共重合体からなるペルフルオロアル
コキシ樹脂(PFA)、テトラフルオロエチレンとヘキ
サフルオロプロピレンコポリマ−(FEP)、テトラフ
ルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テル
とヘキサフルオロプロピレンコポリマ−(EPE)、テ
トラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとの
コポリマ−(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチ
レン樹脂(PCTFE)、エチレンとクロロトリフルオ
ロエチレンとのコポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニ
リデン系樹脂(PVDF)、フッ化ビニル系樹脂(PV
F)、または、商品名、CYTOP(登録商標)あるい
は商品名、ルミフロン(登録商標)からなる透明フッ素
樹脂(両方とも旭硝子株式会社製)等からなるフッ素系
樹脂の1種ないし2種以上を使用することができる。な
お、本発明において、上記のフッ素系樹脂としては、可
視光線透過率が90%以上、好ましくは、93%以上で
あって、入射する太陽光を全て透過し、これを吸収する
性質を有することが望ましいものである。また、本発明
において、上記のフッ素系樹脂のなかでも、特に、フッ
化ビニル系樹脂(PVF)、テトラフルオロエチレンと
エチレンまたはプロピレンとのコポリマ−(ETF
E)、商品名、CYTOP(サイトップ、登録商標)、
または、商品名、ルミフロン(登録商標)からなる透明
フッ素樹脂が、透明性を有し、太陽光の透過性等の観点
から好ましいものである。而して、本発明において、上
記のようなフッ素系樹脂を使用することにより、これが
有する優れた特性、特に、機械的特性、化学的特性、光
学的特性等、更には、耐光性、耐熱性、耐水性、その他
等の超耐候性、耐久性、耐汚染性、耐薬品性等の諸特性
を利用して、太陽電池を構成する表面保護シ−トとする
ものであり、これにより、従来のガラス板等と同等の光
学的特性、耐候性、耐久性等を有し、また、そのフレキ
シブル性や機械的特性等がらガラス板等よりも軽く、か
つ、加工性等に優れ、そのハンドリングし易さ等の利点
を有するものである。
は、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTF
E)、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキル
ビニルエ−テルとの共重合体からなるペルフルオロアル
コキシ樹脂(PFA)、テトラフルオロエチレンとヘキ
サフルオロプロピレンコポリマ−(FEP)、テトラフ
ルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テル
とヘキサフルオロプロピレンコポリマ−(EPE)、テ
トラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとの
コポリマ−(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチ
レン樹脂(PCTFE)、エチレンとクロロトリフルオ
ロエチレンとのコポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニ
リデン系樹脂(PVDF)、フッ化ビニル系樹脂(PV
F)、または、商品名、CYTOP(登録商標)あるい
は商品名、ルミフロン(登録商標)からなる透明フッ素
樹脂(両方とも旭硝子株式会社製)等からなるフッ素系
樹脂の1種ないし2種以上を使用することができる。な
お、本発明において、上記のフッ素系樹脂としては、可
視光線透過率が90%以上、好ましくは、93%以上で
あって、入射する太陽光を全て透過し、これを吸収する
性質を有することが望ましいものである。また、本発明
において、上記のフッ素系樹脂のなかでも、特に、フッ
化ビニル系樹脂(PVF)、テトラフルオロエチレンと
エチレンまたはプロピレンとのコポリマ−(ETF
E)、商品名、CYTOP(サイトップ、登録商標)、
または、商品名、ルミフロン(登録商標)からなる透明
フッ素樹脂が、透明性を有し、太陽光の透過性等の観点
から好ましいものである。而して、本発明において、上
記のようなフッ素系樹脂を使用することにより、これが
有する優れた特性、特に、機械的特性、化学的特性、光
学的特性等、更には、耐光性、耐熱性、耐水性、その他
等の超耐候性、耐久性、耐汚染性、耐薬品性等の諸特性
を利用して、太陽電池を構成する表面保護シ−トとする
ものであり、これにより、従来のガラス板等と同等の光
学的特性、耐候性、耐久性等を有し、また、そのフレキ
シブル性や機械的特性等がらガラス板等よりも軽く、か
つ、加工性等に優れ、そのハンドリングし易さ等の利点
を有するものである。
【0011】ところで、上記のフッ素系樹脂をビヒクル
の主成分とする樹脂組成物においては、種々の添加剤を
添加し得るが、そられの中でも、特に、紫外線吸収剤お
よび/または酸化防止剤を添加し、含ませることが好ま
しいものである。上記の紫外線吸収剤としては、例え
ば、太陽光中の有害な紫外線を吸収し、分子内で無害な
熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性
種が励起されるのを防止するものであり、具体的には、
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−
ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドア
ミン系、超微粒子酸化チタン(粒径、0.01〜0.0
6μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(粒径、0.01〜
0.04μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ない
しそれ以上を使用することができる。また、上記におい
て、酸化防止剤としては、例えば、高分子の光劣化ある
いは熱劣化等を防止するものであり、具体的には、フェ
ノ−ル系、アミン系、硫黄系、りん酸系、その他等の公
知の酸化防止剤の1種ないしそれ以上を使用することが
できる。上記の紫外線吸収剤および/または酸化防止剤
の添加量としては、太陽光の透過に影響しない程度の
0.1〜10重量部位が好ましい。
の主成分とする樹脂組成物においては、種々の添加剤を
添加し得るが、そられの中でも、特に、紫外線吸収剤お
よび/または酸化防止剤を添加し、含ませることが好ま
しいものである。上記の紫外線吸収剤としては、例え
ば、太陽光中の有害な紫外線を吸収し、分子内で無害な
熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性
種が励起されるのを防止するものであり、具体的には、
ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−
ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドア
ミン系、超微粒子酸化チタン(粒径、0.01〜0.0
6μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(粒径、0.01〜
0.04μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ない
しそれ以上を使用することができる。また、上記におい
て、酸化防止剤としては、例えば、高分子の光劣化ある
いは熱劣化等を防止するものであり、具体的には、フェ
ノ−ル系、アミン系、硫黄系、りん酸系、その他等の公
知の酸化防止剤の1種ないしそれ以上を使用することが
できる。上記の紫外線吸収剤および/または酸化防止剤
の添加量としては、太陽光の透過に影響しない程度の
0.1〜10重量部位が好ましい。
【0012】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着薄膜としては、例えば、物
理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、そ
の両者を併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の1層あるい
は2層以上の多層膜を形成して、製造することができる
ものである。上記の物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜としては、例え
ば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティ
ング法等の物理気相成長法(Physical Vap
or Deposition法、PVD法)を用いて無
機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。本発明に
おいて、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを
加熱して樹脂フィルムの上に蒸着する真空蒸着法、また
は、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素
を導入して酸化させて樹脂フィルムの上に蒸着する酸化
反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズ
マ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成する
ことができる。本発明において、物理気相成長法による
無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法について、その具
体例を挙げると、図5は、巻き取り式真空蒸着装置の一
例を示す概略的構成図である。図5に示すように、巻き
取り式真空蒸着装置21の真空チャンバ−22の中で、
巻き出しロ−ル23から繰り出す樹脂フィルム4は、ガ
イドロ−ル24、25を介して、冷却したコ−ティング
ドラム26に案内される。而して、上記の冷却したコ−
ティングドラム26上に案内された樹脂フィルム4の上
に、るつぼ27で熱せられた蒸着源28、例えば、金属
アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発さ
せ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口29より酸素ガ
ス等を噴出し、これを供給しながら、マスク30、30
を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の
蒸着薄膜を成膜化し、次いで、上記において、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成した
樹脂フィルム4を、ガイドロ−ル25′、24′を介し
て送り出し、巻き取りロ−ル31に巻き取ることによっ
て、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜を形成することができる。なお、本発明におい
ては、上記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を2
回以上繰り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装
置を2連以上接続し、2層以上重層して2層あるいはそ
れ以上からなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することが
できる。また、本発明においては、使用する金属、また
は金属の酸化物としては、1種または2種以上の混合物
で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構
成することもできる。
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着薄膜としては、例えば、物
理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、そ
の両者を併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の1層あるい
は2層以上の多層膜を形成して、製造することができる
ものである。上記の物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜としては、例え
ば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティ
ング法等の物理気相成長法(Physical Vap
or Deposition法、PVD法)を用いて無
機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。本発明に
おいて、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを
加熱して樹脂フィルムの上に蒸着する真空蒸着法、また
は、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素
を導入して酸化させて樹脂フィルムの上に蒸着する酸化
反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズ
マ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成する
ことができる。本発明において、物理気相成長法による
無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法について、その具
体例を挙げると、図5は、巻き取り式真空蒸着装置の一
例を示す概略的構成図である。図5に示すように、巻き
取り式真空蒸着装置21の真空チャンバ−22の中で、
巻き出しロ−ル23から繰り出す樹脂フィルム4は、ガ
イドロ−ル24、25を介して、冷却したコ−ティング
ドラム26に案内される。而して、上記の冷却したコ−
ティングドラム26上に案内された樹脂フィルム4の上
に、るつぼ27で熱せられた蒸着源28、例えば、金属
アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発さ
せ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口29より酸素ガ
ス等を噴出し、これを供給しながら、マスク30、30
を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の
蒸着薄膜を成膜化し、次いで、上記において、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成した
樹脂フィルム4を、ガイドロ−ル25′、24′を介し
て送り出し、巻き取りロ−ル31に巻き取ることによっ
て、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜を形成することができる。なお、本発明におい
ては、上記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を2
回以上繰り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装
置を2連以上接続し、2層以上重層して2層あるいはそ
れ以上からなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することが
できる。また、本発明においては、使用する金属、また
は金属の酸化物としては、1種または2種以上の混合物
で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構
成することもできる。
【0013】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜200
0Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜200
0Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。
【0014】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
(Chemical Vapor Depositio
n法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
樹脂フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用
モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更
に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プ
ラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長
法(CVD法)を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着
薄膜を形成することができる。上記において、低温プラ
ズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パル
ス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用
することがてき、而して、本発明においては、高活性の
安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式
による発生装置を使用することが望ましい。
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
(Chemical Vapor Depositio
n法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
樹脂フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用
モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更
に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プ
ラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長
法(CVD法)を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着
薄膜を形成することができる。上記において、低温プラ
ズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パル
ス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用
することがてき、而して、本発明においては、高活性の
安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式
による発生装置を使用することが望ましい。
【0015】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図6は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図6に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャン
バ−42内に配置された巻き出しロ−ル43から樹脂フ
ィルム4を繰り出し、更に、該樹脂フィルム1を、補助
ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電極ドラム45
周面上に搬送する。而して、本発明においては、ガス供
給装置46、47および、原料揮発供給装置48等から
酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノ
マ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混
合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル49を通し
て真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガス組成物を導
入し、そして、上記の冷却・電極ドラム45周面上に搬
送された樹脂フィルム4の上に、グロ−放電プラズマ5
0によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成し、製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム45
は、チャンバ−外に配置されている電源51から所定の
電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム45の
近傍には、マグネット52を配置してプラズマの発生が
促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化
物の蒸着薄膜を形成した樹脂フィルム4は、補助ロ−ル
53を介して巻き取りロ−ル54に巻き取って、本発明
にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜を製造することができるものである。なお、図
中、55は、真空ポンプを表す。なお、本発明において
は、上記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を2回
以上繰り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装置
を2連以上接続し、2層以上重層して2層あるいはそれ
以上からなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することがで
きる。また、本発明においては、蒸着用モノマ−ガス等
としては、1種または2種以上の混合物で使用し、異種
の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成することもで
きる。上記の例示は、その一例を例示するものであり、
これによって本発明は限定されるものではないことは言
うまでもないことである。
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図6は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図6に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャン
バ−42内に配置された巻き出しロ−ル43から樹脂フ
ィルム4を繰り出し、更に、該樹脂フィルム1を、補助
ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電極ドラム45
周面上に搬送する。而して、本発明においては、ガス供
給装置46、47および、原料揮発供給装置48等から
酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノ
マ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混
合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル49を通し
て真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガス組成物を導
入し、そして、上記の冷却・電極ドラム45周面上に搬
送された樹脂フィルム4の上に、グロ−放電プラズマ5
0によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成し、製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム45
は、チャンバ−外に配置されている電源51から所定の
電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム45の
近傍には、マグネット52を配置してプラズマの発生が
促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化
物の蒸着薄膜を形成した樹脂フィルム4は、補助ロ−ル
53を介して巻き取りロ−ル54に巻き取って、本発明
にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜を製造することができるものである。なお、図
中、55は、真空ポンプを表す。なお、本発明において
は、上記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を2回
以上繰り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装置
を2連以上接続し、2層以上重層して2層あるいはそれ
以上からなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することがで
きる。また、本発明においては、蒸着用モノマ−ガス等
としては、1種または2種以上の混合物で使用し、異種
の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成することもで
きる。上記の例示は、その一例を例示するものであり、
これによって本発明は限定されるものではないことは言
うまでもないことである。
【0016】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
【0017】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が樹脂フィル
ムの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成
することができ、通常、一般式SiOX (ただし、X
は、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とす
る連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般
式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表
す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Xの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として
有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、
または、その両者の元素を微量構成元素として含有する
酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å
〜500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と
微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に
変化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸着
薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その
膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少しているこ
とを特徴とするものである。而して、本発明において、
上記の酸化珪素の蒸着薄膜について、例えば、X線光電
子分光装置(Xray Photoelectron
Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量
分析装置(Secondary Ion Mass S
pectroscopy、SIMS)等の表面分析装置
を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析す
る方法を利用して、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行
うことより、上記のような物性を確認することができる
ものである。また、本発明において、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜の膜厚としては、膜厚50Å〜2000Å位で
あることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、
100〜1000Å位、より好ましくは、100〜50
0Å位が望ましく、而して、上記において、500Å、
更には、1000Å〜2000Åより厚くなると、その
膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、ま
た、100Å、更には、50Å未満であると、バリア性
の効果を奏することが困難になることから好ましくない
ものである。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式
会社理学製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX200
0型)を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測
定することができる。また、上記において、上記の酸化
珪素の蒸着薄膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜
の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガス
と酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする
方法等によって行うことができる。
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が樹脂フィル
ムの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成
することができ、通常、一般式SiOX (ただし、X
は、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とす
る連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般
式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表
す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Xの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として
有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、
または、その両者の元素を微量構成元素として含有する
酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å
〜500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と
微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に
変化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸着
薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その
膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少しているこ
とを特徴とするものである。而して、本発明において、
上記の酸化珪素の蒸着薄膜について、例えば、X線光電
子分光装置(Xray Photoelectron
Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量
分析装置(Secondary Ion Mass S
pectroscopy、SIMS)等の表面分析装置
を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析す
る方法を利用して、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行
うことより、上記のような物性を確認することができる
ものである。また、本発明において、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜の膜厚としては、膜厚50Å〜2000Å位で
あることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、
100〜1000Å位、より好ましくは、100〜50
0Å位が望ましく、而して、上記において、500Å、
更には、1000Å〜2000Åより厚くなると、その
膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、ま
た、100Å、更には、50Å未満であると、バリア性
の効果を奏することが困難になることから好ましくない
ものである。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式
会社理学製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX200
0型)を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測
定することができる。また、上記において、上記の酸化
珪素の蒸着薄膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜
の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガス
と酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする
方法等によって行うことができる。
【0018】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の2層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、樹脂フィルムの上に、化学気相成
長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラック
の発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次い
で、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、2層以上の多層膜
からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成することが望まし
いものである。なお、本発明において、上記の無機酸化
物の蒸着薄膜面には、その上に設けるコ−ティング膜等
との密接着性、親和性等を向上させるために、例えば、
気体をア−ク放電により電離させることにより生じるプ
ラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズマ表面処
理法等を利用してプラズマ処理面を形成したり、あるい
は、コロナ放電処理法等によりコロナ放電処理してコロ
ナ処理面等を形成することができるものである。
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の2層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、樹脂フィルムの上に、化学気相成
長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラック
の発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次い
で、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、2層以上の多層膜
からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成することが望まし
いものである。なお、本発明において、上記の無機酸化
物の蒸着薄膜面には、その上に設けるコ−ティング膜等
との密接着性、親和性等を向上させるために、例えば、
気体をア−ク放電により電離させることにより生じるプ
ラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズマ表面処
理法等を利用してプラズマ処理面を形成したり、あるい
は、コロナ放電処理法等によりコロナ放電処理してコロ
ナ処理面等を形成することができるものである。
【0019】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する金属アルコキシド化合物および/または
その加水分解物をビヒクルの主成分として含む組成物に
よるコ−ティング膜について説明すると、まず、上記の
金属アルコキシド化合物および/またはその加水分解物
としては、例えば、主に、一般式、M(0R)n (式
中、Mは、Si、Ti、Al、B、Zr、W、または、
Taからなる金属原子を表し、Rは、C1 〜C10からな
るアルキル基を表し、nは、1〜4の整数を表す。)で
表される金属アルコキシド化合物、または、その加水分
解物、あるいは、その両者の混合物等を使用することが
できる。上記において、金属アルコキシド化合物として
は、具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライ
ソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライ
ソブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、
テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラ−n−アミ
ルオキシシラン、テトライソアミルオキシシラン、テト
ラヘキシルオキシシラン、テトラヘプチルオキシシラ
ン、テトラオクチルオキシシラ、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、メチルトリブトキシシラ、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロ
ポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、トリメチル
メトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチ
ルブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−
(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ
クロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、その他等の
アルコキシシラン化合物;トリメトキシアルミニウム、
トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミ
ニウム、その他等のアルミニウムアルコキシド化合物;
テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニ
ウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブト
キシジルコニウム、その他等のジルコニウムアルコキシ
ド化合物;テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシ
チタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラ
ブトキシチタニウム、その他等のチタニウムアルコキシ
ド化合物;タンタルペンタプロポキシド、タンタルペン
タブトキシ、その他等のタンタルアルコキシド化合物;
ボロントリメトキシド、ボロントリブトキシド、その他
等のボロンアルコキシド化合物;その他等の1種ないし
2種以上の混合物を使用することができる。
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する金属アルコキシド化合物および/または
その加水分解物をビヒクルの主成分として含む組成物に
よるコ−ティング膜について説明すると、まず、上記の
金属アルコキシド化合物および/またはその加水分解物
としては、例えば、主に、一般式、M(0R)n (式
中、Mは、Si、Ti、Al、B、Zr、W、または、
Taからなる金属原子を表し、Rは、C1 〜C10からな
るアルキル基を表し、nは、1〜4の整数を表す。)で
表される金属アルコキシド化合物、または、その加水分
解物、あるいは、その両者の混合物等を使用することが
できる。上記において、金属アルコキシド化合物として
は、具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライ
ソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライ
ソブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、
テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラ−n−アミ
ルオキシシラン、テトライソアミルオキシシラン、テト
ラヘキシルオキシシラン、テトラヘプチルオキシシラ
ン、テトラオクチルオキシシラ、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、メチルトリブトキシシラ、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロ
ポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、トリメチル
メトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチ
ルブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−
(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ
クロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、その他等の
アルコキシシラン化合物;トリメトキシアルミニウム、
トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミ
ニウム、その他等のアルミニウムアルコキシド化合物;
テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニ
ウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブト
キシジルコニウム、その他等のジルコニウムアルコキシ
ド化合物;テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシ
チタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラ
ブトキシチタニウム、その他等のチタニウムアルコキシ
ド化合物;タンタルペンタプロポキシド、タンタルペン
タブトキシ、その他等のタンタルアルコキシド化合物;
ボロントリメトキシド、ボロントリブトキシド、その他
等のボロンアルコキシド化合物;その他等の1種ないし
2種以上の混合物を使用することができる。
【0020】次に、本発明において、金属アルコキシド
化合物の加水分解物としては、上記のような金属アルコ
キシド化合物の1種ないし2種以上を適当な溶媒中に溶
解して、金属アルコキシド化合物の部分ないし完全加水
分解物を得ることができる。上記において、溶媒として
は、水、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロピルアルコ
−ル、ブタノ−ル、その他等のアルコ−ル類、上記の水
−アルコ−ル系等からなる混合溶媒、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、その他等のケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチル、その他等のエステル類、ハロゲ
ンカ炭化水素、トルエン、キシレン、その他等の芳香族
炭化水素類、その他等を使用することができる。なお、
本発明において、上記の加水分解を行う際には、例え
ば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、酒石酸等の有機
酸等を触媒として少量添加して使用することができる。
化合物の加水分解物としては、上記のような金属アルコ
キシド化合物の1種ないし2種以上を適当な溶媒中に溶
解して、金属アルコキシド化合物の部分ないし完全加水
分解物を得ることができる。上記において、溶媒として
は、水、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロピルアルコ
−ル、ブタノ−ル、その他等のアルコ−ル類、上記の水
−アルコ−ル系等からなる混合溶媒、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、その他等のケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチル、その他等のエステル類、ハロゲ
ンカ炭化水素、トルエン、キシレン、その他等の芳香族
炭化水素類、その他等を使用することができる。なお、
本発明において、上記の加水分解を行う際には、例え
ば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、酒石酸等の有機
酸等を触媒として少量添加して使用することができる。
【0021】次に、本発明において、上記の金属アルコ
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分として含む組成物において、金属アルコキシド
化合物および/またはその加水分解物の含有量として
は、該金属アルコキシド化合物が100%加水分解およ
び縮合したとして生じるSiO2 換算で0.1重量%以
上、好ましくは、0.1〜70重量%、更には、0.1
〜20重量%位になるように溶媒中に溶解させて使用す
ることが望ましい。上記において、0.1重量%未満で
あると、形成されるコ−ティング膜が、所望の特性、す
なわち、所望のバリア性能を有する被膜を形成すること
ができず、また、20重量%、更に、70重量%を越え
ると、透明な均質の被膜を形成することが困難となるこ
とから好ましくないものである。
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分として含む組成物において、金属アルコキシド
化合物および/またはその加水分解物の含有量として
は、該金属アルコキシド化合物が100%加水分解およ
び縮合したとして生じるSiO2 換算で0.1重量%以
上、好ましくは、0.1〜70重量%、更には、0.1
〜20重量%位になるように溶媒中に溶解させて使用す
ることが望ましい。上記において、0.1重量%未満で
あると、形成されるコ−ティング膜が、所望の特性、す
なわち、所望のバリア性能を有する被膜を形成すること
ができず、また、20重量%、更に、70重量%を越え
ると、透明な均質の被膜を形成することが困難となるこ
とから好ましくないものである。
【0022】而して、本発明において、上記の金属アル
コキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分として含む組成物によるコ−ティング膜を形
成するには、まず、例えば、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物の1種ないしそれ以上をビ
ヒクルの主成分とし、これに、更に、必要ならば、例え
ば、結合剤としての樹脂、充填剤、安定剤、可塑剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤等の光安定剤、分散剤、増粘
剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添
加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練して
なる溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等から
なる組成物を調整する。而して、本発明においては、上
記で調整した組成物を使用し、例えば、ロ−ルコ−ト
法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、ス
クイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、カ
−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法によ
り、コ−ティング量、例えば、0.1g/m2 〜10g
/m2 (乾燥状態)位、好ましくは、0.5g/m2 〜
5g/m2 (乾燥状態)位になるようにコ−ティング
し、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施
して、本発明にかかるコ−ティング膜を形成することが
できる。上記において、上記の組成物としては、金属ア
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物を溶解
ないし混練し、更に、これらを硬化させることから、
水、あるいは、アルコ−ル−水系溶液等を使用して調整
した組成物を使用することが好ましく、而して、上記の
アルコ−ル成分としては、例えば、n−プロピルアルコ
−ル、イソプロピルアルコ−ル、n−ブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、エチルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等を
使用することができ、また、上記のアルコ−ル−水系溶
液において、アルコ−ルと水との配合割合としては、例
えば、アルコ−ル、50〜70重量部に対し水、50〜
30重量部の割合で配合してアルコ−ル−水系溶液を調
整することが望ましい。
コキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分として含む組成物によるコ−ティング膜を形
成するには、まず、例えば、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物の1種ないしそれ以上をビ
ヒクルの主成分とし、これに、更に、必要ならば、例え
ば、結合剤としての樹脂、充填剤、安定剤、可塑剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤等の光安定剤、分散剤、増粘
剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添
加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練して
なる溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等から
なる組成物を調整する。而して、本発明においては、上
記で調整した組成物を使用し、例えば、ロ−ルコ−ト
法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、ス
クイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、カ
−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法によ
り、コ−ティング量、例えば、0.1g/m2 〜10g
/m2 (乾燥状態)位、好ましくは、0.5g/m2 〜
5g/m2 (乾燥状態)位になるようにコ−ティング
し、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施
して、本発明にかかるコ−ティング膜を形成することが
できる。上記において、上記の組成物としては、金属ア
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物を溶解
ないし混練し、更に、これらを硬化させることから、
水、あるいは、アルコ−ル−水系溶液等を使用して調整
した組成物を使用することが好ましく、而して、上記の
アルコ−ル成分としては、例えば、n−プロピルアルコ
−ル、イソプロピルアルコ−ル、n−ブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、エチルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等を
使用することができ、また、上記のアルコ−ル−水系溶
液において、アルコ−ルと水との配合割合としては、例
えば、アルコ−ル、50〜70重量部に対し水、50〜
30重量部の割合で配合してアルコ−ル−水系溶液を調
整することが望ましい。
【0023】上記の組成物において、添加剤としては、
例えば、金属酸化物微粒子等の無機充填剤を同時に混合
して使用することが好ましいものである。かかる場合に
は、金属酸化物微粒子が、それ自身で硬い構造であるの
に比べ、その表面に多くの水酸基を持つSiO2 混合ゾ
ルが加熱等によりSiO2 ゲル膜を形成する際に、その
表面の水酸基と反応し、コ−ティング膜を補強させると
いう利点を有するものである。上記の金属酸化物微粒子
としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジル
コニア、その他等を使用することができ、而して、その
粒子径としては、0.005〜1.0μm位のものを少
量添加して使用することがてきる。
例えば、金属酸化物微粒子等の無機充填剤を同時に混合
して使用することが好ましいものである。かかる場合に
は、金属酸化物微粒子が、それ自身で硬い構造であるの
に比べ、その表面に多くの水酸基を持つSiO2 混合ゾ
ルが加熱等によりSiO2 ゲル膜を形成する際に、その
表面の水酸基と反応し、コ−ティング膜を補強させると
いう利点を有するものである。上記の金属酸化物微粒子
としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジル
コニア、その他等を使用することができ、而して、その
粒子径としては、0.005〜1.0μm位のものを少
量添加して使用することがてきる。
【0024】また、上記の組成物においては、コ−ティ
ング膜の被膜性、コ−ティング膜の無機酸化物の蒸着薄
膜への密接着性、その他等のことから、例えば、水溶
性、親水性、疎水性、その他等の各種の樹脂の1種ない
し2種以上を添加することもできる。上記において、樹
脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、あるいは、その
酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリアクリルあるいはメタクリル系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、
ポリビニルピロリドン系樹脂、メチルセルロ−ス、エチ
ルセルロ−ス、カルボキシルメチルセルロ−ス、ニトロ
セルロ−ス、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、その他等を使用することができる。
ング膜の被膜性、コ−ティング膜の無機酸化物の蒸着薄
膜への密接着性、その他等のことから、例えば、水溶
性、親水性、疎水性、その他等の各種の樹脂の1種ない
し2種以上を添加することもできる。上記において、樹
脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、あるいは、その
酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリアクリルあるいはメタクリル系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、
ポリビニルピロリドン系樹脂、メチルセルロ−ス、エチ
ルセルロ−ス、カルボキシルメチルセルロ−ス、ニトロ
セルロ−ス、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、その他等を使用することができる。
【0025】次にまた、上記の組成物においては、架橋
剤として、例えば、二元反応性を有するシランカップリ
ング剤、あるいは、イソシアネ−ト化合物等を添加する
ことができる。上記のシランカップリング剤としては、
例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3、
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒ
ドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの1種ないしそれ
以上を使用することができる。また、上記のイソシアネ
−ト化合物としては、その分子中に2個以上のイソシア
ネ−ト基を有するものを使用することができ、例えば、
トリレンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイ
ソシアネ−ト、テトラメチルキシレンジイソシアネ−
ト、その他等を使用することがてきる。その使用量とし
ては、微量添加するだけでよい。
剤として、例えば、二元反応性を有するシランカップリ
ング剤、あるいは、イソシアネ−ト化合物等を添加する
ことができる。上記のシランカップリング剤としては、
例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3、
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒ
ドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの1種ないしそれ
以上を使用することができる。また、上記のイソシアネ
−ト化合物としては、その分子中に2個以上のイソシア
ネ−ト基を有するものを使用することができ、例えば、
トリレンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイ
ソシアネ−ト、テトラメチルキシレンジイソシアネ−
ト、その他等を使用することがてきる。その使用量とし
ては、微量添加するだけでよい。
【0026】更に、本発明においては、金属アルコキシ
ド化合物および/またはその加水分解を架橋硬化させる
ために、更には、架橋剤等と反応させ、架橋構造を構成
する際に、例えば、硬化触媒等を添加することができ
る。上記の硬化触媒としては、例えば、水に実質的に不
溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三アミン類、例え
ば、N.N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン等、ま
た、酸類として、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、
酢酸、酒石酸等の有機酸等を使用することができる。そ
の使用量としては、微量添加することで充分である。
ド化合物および/またはその加水分解を架橋硬化させる
ために、更には、架橋剤等と反応させ、架橋構造を構成
する際に、例えば、硬化触媒等を添加することができ
る。上記の硬化触媒としては、例えば、水に実質的に不
溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三アミン類、例え
ば、N.N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン等、ま
た、酸類として、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、
酢酸、酒石酸等の有機酸等を使用することができる。そ
の使用量としては、微量添加することで充分である。
【0027】ところで、本発明において、上記の金属ア
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒ
クルの主成分とし、これに、必要ならば、所望の添加剤
を任意に添加し、水、あるいは、アルコ−ル−水系溶
剤、希釈剤等で充分に混練してなる組成物を調整し、こ
れを通常のコ−ティング法でコ−ティングし、次いで、
加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施すことによ
り、コ−ティング膜を形成することができる。而して、
上記のコ−ティング膜は、無機酸化物の蒸着薄膜との密
接着性に優れ、その両者の接着強度は極めて強く、その
層間において剥離する等の現象は認められず、更に、本
発明においては、無機酸化物の蒸着薄膜と上記のコ−テ
ィング膜との2層からなるバリア性膜を形成し、それに
より、その酸素ガス、水蒸気ガス等に対するバリア性を
更に向上させ、かつ、透明性、耐熱性、耐熱水性、ラミ
ネ−ト適性、その他等にも優れ、極めて良好な積層材を
製造し得るものである。
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒ
クルの主成分とし、これに、必要ならば、所望の添加剤
を任意に添加し、水、あるいは、アルコ−ル−水系溶
剤、希釈剤等で充分に混練してなる組成物を調整し、こ
れを通常のコ−ティング法でコ−ティングし、次いで、
加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施すことによ
り、コ−ティング膜を形成することができる。而して、
上記のコ−ティング膜は、無機酸化物の蒸着薄膜との密
接着性に優れ、その両者の接着強度は極めて強く、その
層間において剥離する等の現象は認められず、更に、本
発明においては、無機酸化物の蒸着薄膜と上記のコ−テ
ィング膜との2層からなるバリア性膜を形成し、それに
より、その酸素ガス、水蒸気ガス等に対するバリア性を
更に向上させ、かつ、透明性、耐熱性、耐熱水性、ラミ
ネ−ト適性、その他等にも優れ、極めて良好な積層材を
製造し得るものである。
【0028】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜
とを有する樹脂フィルムにおいて、その樹脂フィルムと
しては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポ
リエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル
共重合体のケン化部等のポリビニルアルコ−ル系樹脂、
ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、
ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系
樹脂、フッ素系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができる。而して、本発明
において、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、上記の樹脂の1種ないしそれ以上を使用
し、インフレ−ション法、Tダイ法、その他等の製膜化
法を用いて、上記の樹脂を単独で製膜化する方法、ある
いは、2種以上の異なる樹脂を使用して多層共押し出し
製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使用し、製
膜化する前に混合して製膜化する方法等により、樹脂の
フィルムないしシ−トを製造し、更に、例えば、テンタ
−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸
ないし2軸方向に延伸してなる樹脂のフィルムないしシ
−トを使用することができる。本発明において、樹脂フ
ィルムの膜厚としては、5〜200μm位、より好まし
くは、10〜50μm位が望ましい。なお、上記におい
て、樹脂の製膜化に際して、例えば、フィルムの加工
性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化
性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、
その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック
配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量と
しては、太陽光の透過に影響しない極く微量から数十%
まで、その目的に応じて、任意に添加することができ
る。また、上記において、一般的な添加剤としては、例
えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填
剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発
泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用することがで
き、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜
とを有する樹脂フィルムにおいて、その樹脂フィルムと
しては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポ
リエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル
共重合体のケン化部等のポリビニルアルコ−ル系樹脂、
ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、
ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系
樹脂、フッ素系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができる。而して、本発明
において、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、上記の樹脂の1種ないしそれ以上を使用
し、インフレ−ション法、Tダイ法、その他等の製膜化
法を用いて、上記の樹脂を単独で製膜化する方法、ある
いは、2種以上の異なる樹脂を使用して多層共押し出し
製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使用し、製
膜化する前に混合して製膜化する方法等により、樹脂の
フィルムないしシ−トを製造し、更に、例えば、テンタ
−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸
ないし2軸方向に延伸してなる樹脂のフィルムないしシ
−トを使用することができる。本発明において、樹脂フ
ィルムの膜厚としては、5〜200μm位、より好まし
くは、10〜50μm位が望ましい。なお、上記におい
て、樹脂の製膜化に際して、例えば、フィルムの加工
性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化
性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、
その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック
配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量と
しては、太陽光の透過に影響しない極く微量から数十%
まで、その目的に応じて、任意に添加することができ
る。また、上記において、一般的な添加剤としては、例
えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填
剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発
泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用することがで
き、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。
【0029】また、本発明において、樹脂フィルムは、
必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、
酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温プラズマ処
理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化
処理、その他等の前処理を任意に施すことができる。上
記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前
に別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズ
マ処理やグロ−放電処理等による表面処理の場合は、上
記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理としてイン
ライン処理により前処理で行うことができ、このような
場合は、その製造コストを低減することができるという
利点がある。上記の表面前処理は、樹脂フィルムと無機
酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善するための方法とし
て実施するものであるが、上記の密着性を改善する方法
として、その他、例えば、基材フィルムの表面に、予
め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、ある
いは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成すること
もできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、その他
等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用すること
ができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法と
しては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジ
ョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビ
アロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法
を用いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期として
は、基材フィルムの2軸延伸処理後の後工程として、あ
るいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実施するこ
とができる。なお、本発明において、基材フィルムとし
ては、具体的には、2軸延伸ポリプロピレンフィルム等
の2軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルム、2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム等の2軸延伸ポリエ
ステル系樹脂フィルム、または、2軸延伸ナイロンフィ
ルム等の2軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムを使用する
ことが望ましいものである。
必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、
酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温プラズマ処
理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化
処理、その他等の前処理を任意に施すことができる。上
記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前
に別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズ
マ処理やグロ−放電処理等による表面処理の場合は、上
記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理としてイン
ライン処理により前処理で行うことができ、このような
場合は、その製造コストを低減することができるという
利点がある。上記の表面前処理は、樹脂フィルムと無機
酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善するための方法とし
て実施するものであるが、上記の密着性を改善する方法
として、その他、例えば、基材フィルムの表面に、予
め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、ある
いは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成すること
もできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、その他
等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用すること
ができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法と
しては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジ
ョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビ
アロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法
を用いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期として
は、基材フィルムの2軸延伸処理後の後工程として、あ
るいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実施するこ
とができる。なお、本発明において、基材フィルムとし
ては、具体的には、2軸延伸ポリプロピレンフィルム等
の2軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルム、2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム等の2軸延伸ポリエ
ステル系樹脂フィルム、または、2軸延伸ナイロンフィ
ルム等の2軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムを使用する
ことが望ましいものである。
【0030】なお、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等においては、
その最表面に防汚層を形成することができる。すなわ
ち、本発明においては、太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トを構成するフッ素系樹脂をビヒクルの主成分とす
る樹脂組成物による塗布膜の他方の片面(最表面)に
は、ゴミ等の蓄積を防止する防汚層を形成することがで
きる。而して、上記の防汚層としては、光触媒粉末また
は光触媒ゾル(以下、両者を総称して光触媒粉末とい
う。)を含む組成物による塗布膜から構成されるもので
ある。上記において、光触媒粉末を含む組成物による塗
布膜としては、例えば、光触媒粉末の1種ないし2種以
上に、ビヒクルとしての結合剤の1種ないし2種以上を
添加し、更に、必要ならば、例えば、滑剤、架橋剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、
補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ
剤、顔料、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を太
陽光の透過に影響しない範囲内で任意に添加し、更に、
溶剤、希釈剤等で十分に混練して、例えば、溶剤型、水
性型、あるいは、エマルジョン型等の組成物を調整し、
次いで、該組成物を、例えば、フロ−ティングナイフコ
−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−ティ
ドナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−
スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ
−ト法、キスロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト
法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−コ−
ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア
印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印
刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ないし印刷するこ
とにより塗布膜を形成することができる。上記におい
て、塗布膜の膜厚としては、0.1〜10g/m2 位
(乾燥状態)、より好ましくは、1.0〜1g/m2 位
が望ましい。
用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等においては、
その最表面に防汚層を形成することができる。すなわ
ち、本発明においては、太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トを構成するフッ素系樹脂をビヒクルの主成分とす
る樹脂組成物による塗布膜の他方の片面(最表面)に
は、ゴミ等の蓄積を防止する防汚層を形成することがで
きる。而して、上記の防汚層としては、光触媒粉末また
は光触媒ゾル(以下、両者を総称して光触媒粉末とい
う。)を含む組成物による塗布膜から構成されるもので
ある。上記において、光触媒粉末を含む組成物による塗
布膜としては、例えば、光触媒粉末の1種ないし2種以
上に、ビヒクルとしての結合剤の1種ないし2種以上を
添加し、更に、必要ならば、例えば、滑剤、架橋剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、
補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ
剤、顔料、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を太
陽光の透過に影響しない範囲内で任意に添加し、更に、
溶剤、希釈剤等で十分に混練して、例えば、溶剤型、水
性型、あるいは、エマルジョン型等の組成物を調整し、
次いで、該組成物を、例えば、フロ−ティングナイフコ
−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−ティ
ドナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−
スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ
−ト法、キスロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト
法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−コ−
ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア
印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印
刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ないし印刷するこ
とにより塗布膜を形成することができる。上記におい
て、塗布膜の膜厚としては、0.1〜10g/m2 位
(乾燥状態)、より好ましくは、1.0〜1g/m2 位
が望ましい。
【0031】上記において、光触媒粉末としては、太陽
光等の光の作用により、例えば、樹脂が、酸化等により
劣化、破壊、あるいは、分解し、または、低分子化し、
防汚層の表面に付着した塵埃等を、その粘着性を破壊
し、風雨等で洗浄、除去し、その表面を清掃に保持する
ことを容易にする作用を有する化学物質を使用すること
ができる。具体的には、例えば、光触媒粉末としては、
例えば、TiO2 、ZnO、SrTiO3 、CdS、C
aP、InP、GaAs、BaTiO2 、K2 Ti
O3 、K2 NbO3 、Fe2 O3 、Ta2 O3 、W
O3 、SnO2 、Bi2 O8 、NiO、Cu2 O、Si
C、SiO2 、MoS2 、InPb、RuO2 、CeO
2 等、あるいは、これらにPt、Rh、RuO2 、N
b、Cu、Sn、Ni、Fe等の金属および/またはこ
れらの金属酸化物とを混合した組成物を使用することが
できる。上記の組成物において、光触媒粉末の含有量と
しては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約
0.1〜30重量%位が好ましい。
光等の光の作用により、例えば、樹脂が、酸化等により
劣化、破壊、あるいは、分解し、または、低分子化し、
防汚層の表面に付着した塵埃等を、その粘着性を破壊
し、風雨等で洗浄、除去し、その表面を清掃に保持する
ことを容易にする作用を有する化学物質を使用すること
ができる。具体的には、例えば、光触媒粉末としては、
例えば、TiO2 、ZnO、SrTiO3 、CdS、C
aP、InP、GaAs、BaTiO2 、K2 Ti
O3 、K2 NbO3 、Fe2 O3 、Ta2 O3 、W
O3 、SnO2 、Bi2 O8 、NiO、Cu2 O、Si
C、SiO2 、MoS2 、InPb、RuO2 、CeO
2 等、あるいは、これらにPt、Rh、RuO2 、N
b、Cu、Sn、Ni、Fe等の金属および/またはこ
れらの金属酸化物とを混合した組成物を使用することが
できる。上記の組成物において、光触媒粉末の含有量と
しては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約
0.1〜30重量%位が好ましい。
【0032】また、上記において、ビヒクルとしての結
合剤としては、製膜性を有し、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、塗布膜の硬度を増
し、耐擦傷性、耐磨耗性等に優れ、特に、光触媒粉末の
光活性に影響を受けない結合剤を使用することができ、
具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノ
マ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチ
レン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチル
ペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリア
クリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹
脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ
−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、
ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、アミノプラ
スト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ニトロセルロ−ス、無
機系ポリマ−、その他等の公知の樹脂、あるいは、その
変性樹脂、その他等の1種ないし2種以上を使用するこ
とができる。而して、本発明においては、光触媒粉末の
影響を受けない結合剤としては、上記のような結合剤の
中でも、特に、低融点ガラス、アルカリ金属シリケ−
ト、ホスフェ−ト、または、コロイダルシリカ、その他
等の無機系ポリマ−の1種ないしそれ以上を使用するこ
とが好ましいものである。
合剤としては、製膜性を有し、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、塗布膜の硬度を増
し、耐擦傷性、耐磨耗性等に優れ、特に、光触媒粉末の
光活性に影響を受けない結合剤を使用することができ、
具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノ
マ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチ
レン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチル
ペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリア
クリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹
脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ
−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、
ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、アミノプラ
スト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ニトロセルロ−ス、無
機系ポリマ−、その他等の公知の樹脂、あるいは、その
変性樹脂、その他等の1種ないし2種以上を使用するこ
とができる。而して、本発明においては、光触媒粉末の
影響を受けない結合剤としては、上記のような結合剤の
中でも、特に、低融点ガラス、アルカリ金属シリケ−
ト、ホスフェ−ト、または、コロイダルシリカ、その他
等の無機系ポリマ−の1種ないしそれ以上を使用するこ
とが好ましいものである。
【0033】ところで、本発明においては、上記の防汚
層を構成する塗布膜中の光触媒粉末の光活性が、該防汚
層の下層に位置する、例えば、塗布膜等に影響を与え、
その劣化、分解、あるいは、破壊等に起こさないよう
に、その相互の接触を遮断する無機質膜等からなる光触
媒粉末の活性を遮断する活性遮断層を設けることができ
る。上記の活性遮断層は、通常、防汚層の下層に設ける
ものである。上記の活性遮断層を構成する無機質膜とし
ては、例えば、前述の透明性を有する酸化珪素、あるい
は、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜等を使用
することができる。上記の無機酸化物の蒸着膜の形成
は、前述と同様にして製膜化して、活性遮断層を形成す
ることができ、その膜厚としては、100〜3000Å
位、より好ましくは、100〜1500Å位が望まし
い。
層を構成する塗布膜中の光触媒粉末の光活性が、該防汚
層の下層に位置する、例えば、塗布膜等に影響を与え、
その劣化、分解、あるいは、破壊等に起こさないよう
に、その相互の接触を遮断する無機質膜等からなる光触
媒粉末の活性を遮断する活性遮断層を設けることができ
る。上記の活性遮断層は、通常、防汚層の下層に設ける
ものである。上記の活性遮断層を構成する無機質膜とし
ては、例えば、前述の透明性を有する酸化珪素、あるい
は、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜等を使用
することができる。上記の無機酸化物の蒸着膜の形成
は、前述と同様にして製膜化して、活性遮断層を形成す
ることができ、その膜厚としては、100〜3000Å
位、より好ましくは、100〜1500Å位が望まし
い。
【0034】また、本発明においては、上記の防汚層の
密接着性を強固にするために、該防汚層を構成する光触
媒粉末を含む組成物による塗布膜を設けるに際し、必要
ならば、接着用プライマ−層等を設けることができる。
上記のプライマ−層を構成する材料としては、例えば、
防汚層中の光触媒粉末の光活性等によって分解されない
無機系のプライマ−層を構成する材料を使用することが
でき、具体的には、有機チタン化合物として代表的なテ
トライソプロピルチタネ−ト、テトラブチルチタネ−
ト、テトラステアリルチタネ−ト等のアルキルチタネ−
トやチタンキレ−ト等の加水分解による生成物等を使用
することができ、その他、無機ポリシラザン(ペルヒド
ロポリシラザラン)等も使用することができる。本発明
において、特に、加水分解の速度が極めて早く、溶液を
塗工後に分解できるテトライソプロピルチタネ−ト、テ
トラブチルチタネ−トが好ましい材料である。
密接着性を強固にするために、該防汚層を構成する光触
媒粉末を含む組成物による塗布膜を設けるに際し、必要
ならば、接着用プライマ−層等を設けることができる。
上記のプライマ−層を構成する材料としては、例えば、
防汚層中の光触媒粉末の光活性等によって分解されない
無機系のプライマ−層を構成する材料を使用することが
でき、具体的には、有機チタン化合物として代表的なテ
トライソプロピルチタネ−ト、テトラブチルチタネ−
ト、テトラステアリルチタネ−ト等のアルキルチタネ−
トやチタンキレ−ト等の加水分解による生成物等を使用
することができ、その他、無機ポリシラザン(ペルヒド
ロポリシラザラン)等も使用することができる。本発明
において、特に、加水分解の速度が極めて早く、溶液を
塗工後に分解できるテトライソプロピルチタネ−ト、テ
トラブチルチタネ−トが好ましい材料である。
【0035】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、200〜1000μm位、より好ましくは、3
50〜600μm位が望ましい。
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、200〜1000μm位、より好ましくは、3
50〜600μm位が望ましい。
【0036】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電池素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更に、本発明においては、薄膜多結晶シリコン太陽電池
素子、薄膜微結晶シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリ
コン太陽電池素子とアモルファスシリコン太陽電池素子
とのハイブリット素子等も使用することができる。
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電池素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更に、本発明においては、薄膜多結晶シリコン太陽電池
素子、薄膜微結晶シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリ
コン太陽電池素子とアモルファスシリコン太陽電池素子
とのハイブリット素子等も使用することができる。
【0037】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
【0038】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、2軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、12〜20
0μm位、より好ましくは、25〜150μm位が望ま
しい。
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、2軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、12〜20
0μm位、より好ましくは、25〜150μm位が望ま
しい。
【0039】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
【0040】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、その無機酸化物の蒸
着薄膜の面を内側にし、順次に、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間に、そ
の他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸
引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等
の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とし
て加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造するこ
とができる。上記において、必要ならば、各層間の接着
性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクル
の主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬
化型接着剤、その他等を使用することができる。
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、その無機酸化物の蒸
着薄膜の面を内側にし、順次に、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間に、そ
の他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸
引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等
の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とし
て加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造するこ
とができる。上記において、必要ならば、各層間の接着
性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクル
の主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬
化型接着剤、その他等を使用することができる。
【0041】
【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを巻き取り
式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、こ
れをコ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件
で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しな
がら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応
真空蒸着法により、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムの易接着処理面に、膜厚300Åの酸
化アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 (2).次に、上記で膜厚300Åの酸化アルミニウム
の蒸着薄膜を形成した後、その蒸着直後に、その酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装
置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O
2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガ
スを使用し、混合ガス圧6X10-5Toor、処理速度
420m/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処
理を行った。 (3).他方、ジメチルジメトキシシラン2重量部とエ
タノ−ル1重量部と0.1規定の塩酸0.2重量部とを
その割合で混合して、50℃にて2時間還流した。得ら
れたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶液
に、メチルトリメトキシシラン25重量部とエタノ−ル
5重量部とポリメチルメタクリレ−ト(PMMA)のト
ルエン溶液(20%)20重量部の割合で添加し、室温
にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成物を調整した。
次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処
理面に、上記で得られた塗布用の組成物を使用し、これ
をグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
1.0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成した。更に、基材としての厚さ50μm
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの非コ
−ティング硬化膜面に、フッ素樹脂塗布液(商品名、ル
ミフロン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−ト法を用
いて塗布して、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の塗布膜
を形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造し
た。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜に、アモルファスシリコンからなる太陽電
池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽
電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介
して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製
造した。 (5).なお、上記において、フッ素樹脂塗布液(商品
名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)に代えて、テトラ
フルオロエチレンとエチレンとのコポリマ−からなるフ
ッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と全く同様にし
て、上記と同様に表面保護シ−トおよび太陽電池モジュ
−ルを製造した。
体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを巻き取り
式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、こ
れをコ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件
で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しな
がら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応
真空蒸着法により、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルムの易接着処理面に、膜厚300Åの酸
化アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 (2).次に、上記で膜厚300Åの酸化アルミニウム
の蒸着薄膜を形成した後、その蒸着直後に、その酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装
置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素ガス(O
2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からなる混合ガ
スを使用し、混合ガス圧6X10-5Toor、処理速度
420m/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処
理を行った。 (3).他方、ジメチルジメトキシシラン2重量部とエ
タノ−ル1重量部と0.1規定の塩酸0.2重量部とを
その割合で混合して、50℃にて2時間還流した。得ら
れたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶液
に、メチルトリメトキシシラン25重量部とエタノ−ル
5重量部とポリメチルメタクリレ−ト(PMMA)のト
ルエン溶液(20%)20重量部の割合で添加し、室温
にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成物を調整した。
次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処
理面に、上記で得られた塗布用の組成物を使用し、これ
をグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
1.0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成した。更に、基材としての厚さ50μm
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの非コ
−ティング硬化膜面に、フッ素樹脂塗布液(商品名、ル
ミフロン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−ト法を用
いて塗布して、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の塗布膜
を形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造し
た。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜に、アモルファスシリコンからなる太陽電
池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽
電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介
して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製
造した。 (5).なお、上記において、フッ素樹脂塗布液(商品
名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)に代えて、テトラ
フルオロエチレンとエチレンとのコポリマ−からなるフ
ッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と全く同様にし
て、上記と同様に表面保護シ−トおよび太陽電池モジュ
−ルを製造した。
【0042】実施例2 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条
件で厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの易接着処理面
に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).上記で膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形
成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムに
ついて、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面
に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロ
ナ放電処理を行って、蒸着薄膜面の表面張力を35dy
neより60dyneに向上させた。 (3).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部とをその
割合で混合して、50℃にて3時間還流した。得られた
テトラエトキシシランの部分加水分解物溶液に、ポリメ
チルメタクリレ−ト(PMMA)のトルエン溶液(20
%)30重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌し
て、塗布用の組成物を調整した。次に、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜のコロナ処理面に、上記の塗布用の組成物を
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ1.5g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で1分加熱処理してコ
−ティング硬化膜を形成した。更に、基材としての厚さ
50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ムの非コ−ティング硬化膜面に、フッ素樹脂塗布液(商
品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−
ト法を用いて塗布し、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の
塗布膜を形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製
造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。 (5).なお、上記において、フッ素樹脂塗布液(商品
名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)に代えて、テトラ
フルオロエチレンとエチレンとのコポリマ−からなるフ
ッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と全く同様にし
て、上記と同様に表面保護シ−トおよび太陽電池モジュ
−ルを製造した。
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条
件で厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの易接着処理面
に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).上記で膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形
成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムに
ついて、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面
に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロ
ナ放電処理を行って、蒸着薄膜面の表面張力を35dy
neより60dyneに向上させた。 (3).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部とをその
割合で混合して、50℃にて3時間還流した。得られた
テトラエトキシシランの部分加水分解物溶液に、ポリメ
チルメタクリレ−ト(PMMA)のトルエン溶液(20
%)30重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌し
て、塗布用の組成物を調整した。次に、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜のコロナ処理面に、上記の塗布用の組成物を
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ1.5g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で1分加熱処理してコ
−ティング硬化膜を形成した。更に、基材としての厚さ
50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ムの非コ−ティング硬化膜面に、フッ素樹脂塗布液(商
品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−
ト法を用いて塗布し、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の
塗布膜を形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製
造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。 (5).なお、上記において、フッ素樹脂塗布液(商品
名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)に代えて、テトラ
フルオロエチレンとエチレンとのコポリマ−からなるフ
ッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と全く同様にし
て、上記と同様に表面保護シ−トおよび太陽電池モジュ
−ルを製造した。
【0043】実施例3 (1).基材として、紫外線吸収剤を練り込んだ厚さ5
0μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
を使用し、上記の実施例2と全く同様にして、厚さ30
0Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、その酸化珪
素の蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行って、蒸着薄膜
面の表面張力を35dyneより60dyneに向上さ
せた。 (2).次に、上記の実施例1と全く同様にして、上記
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの酸化
珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面に、膜厚300Åの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜を形成し、更に、酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理を行った。 (3).他方、ジメチルジメトキシシラン5重量部とエ
タノ−ル2.5重量部と0.1規定の塩酸0.5重量部
とをその割合で混合して、50℃にて2時間還流した。
得られたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶
液に、メチルトリメトキシシラン15重量部とエタノ−
ル3重量部と環状ポリオレフィンのシクロヘキサン溶液
(30%)10重量部の割合で添加し、室温にて更に2
時間攪拌して、塗布用の組成物を調整した。次に、上記
の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上
記で得られた塗布用の組成物を使用し、これをグラビア
ロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ2.0g/m
2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、1
20℃で1分加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成し
た。更に、基材としての厚さ50μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムの非コ−ティング硬化膜
面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含むフッ素樹脂
塗布液(商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)をグ
ラビアコ−ト法を用いて塗布し、膜厚10g/m2 (乾
燥状態)の塗布膜を形成した。更に、上記の塗布膜面
(最表面)に、粒径0.03μmの超微粒子酸化チタン
10重量部とテトラエトキシシラン液90重量部(固形
分20%)とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ
−ト法を用いて塗布し、膜厚1.0g/m2 の防汚層を
形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。 (5).上記において、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
を含むフッ素樹脂塗布液(商品名、ルミフロン、旭硝子
株式会社製)に代えて、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
を含むテトラフルオロエチレンとエチレンとのコポリマ
−からなるフッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と
全く同様にして、上記と同様に表面保護シ−トおよび太
陽電池モジュ−ルを製造した。
0μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
を使用し、上記の実施例2と全く同様にして、厚さ30
0Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、その酸化珪
素の蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行って、蒸着薄膜
面の表面張力を35dyneより60dyneに向上さ
せた。 (2).次に、上記の実施例1と全く同様にして、上記
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの酸化
珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面に、膜厚300Åの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜を形成し、更に、酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理を行った。 (3).他方、ジメチルジメトキシシラン5重量部とエ
タノ−ル2.5重量部と0.1規定の塩酸0.5重量部
とをその割合で混合して、50℃にて2時間還流した。
得られたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶
液に、メチルトリメトキシシラン15重量部とエタノ−
ル3重量部と環状ポリオレフィンのシクロヘキサン溶液
(30%)10重量部の割合で添加し、室温にて更に2
時間攪拌して、塗布用の組成物を調整した。次に、上記
の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上
記で得られた塗布用の組成物を使用し、これをグラビア
ロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ2.0g/m
2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、1
20℃で1分加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成し
た。更に、基材としての厚さ50μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムの非コ−ティング硬化膜
面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含むフッ素樹脂
塗布液(商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)をグ
ラビアコ−ト法を用いて塗布し、膜厚10g/m2 (乾
燥状態)の塗布膜を形成した。更に、上記の塗布膜面
(最表面)に、粒径0.03μmの超微粒子酸化チタン
10重量部とテトラエトキシシラン液90重量部(固形
分20%)とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ
−ト法を用いて塗布し、膜厚1.0g/m2 の防汚層を
形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。 (5).上記において、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
を含むフッ素樹脂塗布液(商品名、ルミフロン、旭硝子
株式会社製)に代えて、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
を含むテトラフルオロエチレンとエチレンとのコポリマ
−からなるフッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と
全く同様にして、上記と同様に表面保護シ−トおよび太
陽電池モジュ−ルを製造した。
【0044】実施例4 (1).上記の実施例1で製造した膜厚300Åの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の実
施例1と全く同様にして、膜厚300Åの酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜を形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸
着薄膜面に、プラズマ処理を行って、2層の酸化アルミ
ニウムの蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部とを混合
して、50℃にて3時間還流した。得られたテトラエト
キシシランの部分加水分解物溶液に、フッ素系アクリル
樹脂液(旭硝子株式会社製、商品名、ルミフロン)25
重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布用
の組成物を調整した。次に、上記の酸化アルミニウムの
蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の塗布用の組成物を
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ0.5g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理して
コ−ティング硬化膜を形成した。次いで、それ以外は、
上記の実施例1と全く同様にして、本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、上
記で製造した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例1
と同様にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。
アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の実
施例1と全く同様にして、膜厚300Åの酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜を形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸
着薄膜面に、プラズマ処理を行って、2層の酸化アルミ
ニウムの蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部とを混合
して、50℃にて3時間還流した。得られたテトラエト
キシシランの部分加水分解物溶液に、フッ素系アクリル
樹脂液(旭硝子株式会社製、商品名、ルミフロン)25
重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布用
の組成物を調整した。次に、上記の酸化アルミニウムの
蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の塗布用の組成物を
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ0.5g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理して
コ−ティング硬化膜を形成した。次いで、それ以外は、
上記の実施例1と全く同様にして、本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、上
記で製造した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例1
と同様にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。
【0045】実施例5 (1).上記の実施例2において製造した酸化珪素の蒸
着薄膜のコロナ処理面に、上記の実施例2と全く同様に
して、膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更
に、酸化珪素の蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行っ
て、2層の酸化珪素の蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン20重量部と水5
0重量部とエタノ−ル30重量部と0.1規定の塩酸5
重量部とをその割合で混合して、50℃にて3時間還流
した。得られたテトラエトキシシランの部分加水分解物
溶液に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体の水−イ
ソプロピ−ルアルコ−ル溶液(固形分8%)50重量部
を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成
物を調整した。次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のプラ
ズマ処理面に、上記の塗布用の組成物をを使用し、これ
をグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
1.0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成した。以下、上記の実施例2と全く同様
にして、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トを製造した。更に、上記で製造した表面保護シ−
トを使用し、上記の実施例2と全く同様にして本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
着薄膜のコロナ処理面に、上記の実施例2と全く同様に
して、膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更
に、酸化珪素の蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行っ
て、2層の酸化珪素の蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン20重量部と水5
0重量部とエタノ−ル30重量部と0.1規定の塩酸5
重量部とをその割合で混合して、50℃にて3時間還流
した。得られたテトラエトキシシランの部分加水分解物
溶液に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体の水−イ
ソプロピ−ルアルコ−ル溶液(固形分8%)50重量部
を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成
物を調整した。次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のプラ
ズマ処理面に、上記の塗布用の組成物をを使用し、これ
をグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
1.0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成した。以下、上記の実施例2と全く同様
にして、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トを製造した。更に、上記で製造した表面保護シ−
トを使用し、上記の実施例2と全く同様にして本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0046】実施例6 (1).基材として、紫外線吸収剤を練り込んだ厚さ5
0μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
を使用し、上記の実施例1と全く同様にして、厚さ30
0Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成し、更に、そ
の酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理を行
った。 (2).次に、上記の実施例2と全く同様にして、上記
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、膜厚30
0Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、酸化珪素の
蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行った。次に、上記の
酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面に、以下、上記の実
施例2と全く同様にして、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、上記で製造
した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例2と全く同
様にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造し
た。
0μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
を使用し、上記の実施例1と全く同様にして、厚さ30
0Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成し、更に、そ
の酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理を行
った。 (2).次に、上記の実施例2と全く同様にして、上記
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、膜厚30
0Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、酸化珪素の
蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行った。次に、上記の
酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面に、以下、上記の実
施例2と全く同様にして、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、上記で製造
した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例2と全く同
様にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造し
た。
【0047】比較例1 (1).基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム(PVF)を使用し、これを表面保護シ−
トし、その片面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
樹脂フィルム(PVF)を使用し、これを表面保護シ−
トし、その片面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0048】比較例2 基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例1と全く同
様にして、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜
を形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プ
ラズマ処理を行った。更に、基材としての厚さ50μm
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの非プ
ラズマ処理面に、フッ素樹脂塗布液(商品名、ルミフロ
ン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−ト法を用いて塗
布し、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の塗布膜を形成し
て、表面保護シ−トを製造した。次に、上記の表面保護
シ−トの酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面
に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列
に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池素子面を
対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し
て、太陽電池モジュ−ルを製造した。
フタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例1と全く同
様にして、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜
を形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プ
ラズマ処理を行った。更に、基材としての厚さ50μm
の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの非プ
ラズマ処理面に、フッ素樹脂塗布液(商品名、ルミフロ
ン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−ト法を用いて塗
布し、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の塗布膜を形成し
て、表面保護シ−トを製造した。次に、上記の表面保護
シ−トの酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面
に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列
に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池素子面を
対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し
て、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0049】比較例3 基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例2と全く同
様にして、厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を、その
易接着処理面に形成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄膜
面に、コロナ放電処理を行った。更に、基材としての厚
さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムの非コロナ処理面に、フッ素樹脂塗布液(商品名、
ルミフロン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−ト法を
用いて塗布し、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の塗布膜
を形成して、表面保護シ−トを製造した。次いで、上記
の表面保護シ−トの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面
に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列
に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池素子面を
対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し
て、太陽電池モジュ−ルを製造した。
フタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例2と全く同
様にして、厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を、その
易接着処理面に形成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄膜
面に、コロナ放電処理を行った。更に、基材としての厚
さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムの非コロナ処理面に、フッ素樹脂塗布液(商品名、
ルミフロン、旭硝子株式会社製)をグラビアコ−ト法を
用いて塗布し、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の塗布膜
を形成して、表面保護シ−トを製造した。次いで、上記
の表面保護シ−トの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面
に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列
に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池素子面を
対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し
て、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0050】実験例 上記の実施例1〜6で製造した本発明にかかる表面保護
シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜6
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜3で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 (1).全光線透過率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例1〜6で製造
した本発明にかかる表面保護シ−トと比較例1〜3にか
かる表面保護シ−トについて、カラ−コンピュ−タ−に
より全光線透過率(%)を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例1〜6で製造した本発明にかか
る表面保護シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−
トについて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米
国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、
酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度23
℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCO
N)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRA
N)〕にて測定した。上記の測定結果について下記の表
1に示す。
シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜6
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜3で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 (1).全光線透過率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例1〜6で製造
した本発明にかかる表面保護シ−トと比較例1〜3にか
かる表面保護シ−トについて、カラ−コンピュ−タ−に
より全光線透過率(%)を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例1〜6で製造した本発明にかか
る表面保護シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−
トについて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米
国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、
酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度23
℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCO
N)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRA
N)〕にて測定した。上記の測定結果について下記の表
1に示す。
【0051】 上記の表1において、水蒸気バリア性は、〔g/m2 /
day・40℃・100%RH〕の単位であり、また、
酸素バリア性は、〔cc/m2 /day・23℃・90
%RH〕の単位である。
day・40℃・100%RH〕の単位であり、また、
酸素バリア性は、〔cc/m2 /day・23℃・90
%RH〕の単位である。
【0052】上記の表1に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例1〜6にかかる表面保護シ−トは、全光線
透過率が高く、また、水蒸気バリア性、酸素バリア性に
優れ、更に、それらを使用した太陽電池モジュ−ルは、
出力低下率が、低いものであった。これに対し、比較例
1にかかる表面保護シ−トは、全光線透過率が高いもの
の、水蒸気バリア性、酸素バリア性に劣り、そのため、
それを使用した太陽電池モジュ−ルは、出力低下率が、
高いという問題点があった。また、比較例2、3にかか
る表面保護シ−トは、実施例1〜6にかかるそれらと比
較すると、水蒸気バリア性、酸素バリア性等において、
若干、劣るものであった。
うに、実施例1〜6にかかる表面保護シ−トは、全光線
透過率が高く、また、水蒸気バリア性、酸素バリア性に
優れ、更に、それらを使用した太陽電池モジュ−ルは、
出力低下率が、低いものであった。これに対し、比較例
1にかかる表面保護シ−トは、全光線透過率が高いもの
の、水蒸気バリア性、酸素バリア性に劣り、そのため、
それを使用した太陽電池モジュ−ルは、出力低下率が、
高いという問題点があった。また、比較例2、3にかか
る表面保護シ−トは、実施例1〜6にかかるそれらと比
較すると、水蒸気バリア性、酸素バリア性等において、
若干、劣るものであった。
【0053】
【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性、および、フッ素系樹脂
に着目し、まず、樹脂フィルムの片面に、酸化珪素、あ
るいは、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質からな
る無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の
蒸着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物および/また
はその加水分解物をビヒクルの主成分とする組成物によ
るコ−ティング膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着
薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムの一方の
面に、フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成
物による塗布膜を形成し、積層して太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層と
し、その一方の面を内側にし、充填剤層、光起電力素子
としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ
−ト層等を順次に積層し、次いで、これらを一体的に真
空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して
太陽電池モジュ−ルを製造して、水分、酸素等の侵入を
防止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱
性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期的な性能
劣化を最小限に抑え、保護能力性に優れ、更に、防汚性
等に優れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルを製造し得ることができるというものである。
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性、および、フッ素系樹脂
に着目し、まず、樹脂フィルムの片面に、酸化珪素、あ
るいは、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質からな
る無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の
蒸着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物および/また
はその加水分解物をビヒクルの主成分とする組成物によ
るコ−ティング膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着
薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムの一方の
面に、フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成
物による塗布膜を形成し、積層して太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層と
し、その一方の面を内側にし、充填剤層、光起電力素子
としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ
−ト層等を順次に積層し、次いで、これらを一体的に真
空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して
太陽電池モジュ−ルを製造して、水分、酸素等の侵入を
防止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱
性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期的な性能
劣化を最小限に抑え、保護能力性に優れ、更に、防汚性
等に優れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルを製造し得ることができるというものである。
【図1】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
【図2】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
【図3】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
【図4】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。
【図5】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
【図6】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
A 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A1 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A2 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト 1 塗布膜 2 無機酸化物の蒸着薄膜 2a 無機酸化物の蒸着薄膜 2b 無機酸化物の蒸着薄膜 3 コ−ティング膜 4 樹脂フィルム 5 多層膜 5a 多層膜 T 太陽電池モジュ−ル 11 充填剤層 12 太陽電池素子 13 充填剤層 14 裏面保護シ−ト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 今野 克俊 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5F051 BA18 CB12 CB13 CB14 CB22 GA05 GA06
Claims (17)
- 【請求項1】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコ
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
脂フィルムとを積層したことを特徴とする太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項2】 塗布膜が、可視光透過率が90%以上で
ある透明フッ素系樹脂からなることを特徴とする上記の
請求項1に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
ト。 - 【請求項3】 塗布膜が、商品名CYTOP(サイトッ
プ)または商品名ルミフロン(両方とも旭硝子株式会社
製)からなる透明フッ素系樹脂からなることを特徴とす
る上記の請求項1〜2に記載する太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−ト。 - 【請求項4】 塗布膜が、紫外線吸収剤および/または
酸化防止剤を含むことを特徴とする上記の請求項1〜3
に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項5】 塗布膜が、その最表面に防汚層を有する
ことを特徴とする上記の請求項1〜4に記載する太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項6】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜5に
記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項7】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜5に
記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項8】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
法および化学気相成長法による2層以上の多層膜からな
ることを特徴とする上記の請求項1〜5に記載する太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項9】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次に、該無機酸
化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸化
物の蒸着薄膜を設けた2層以上の多層膜からなることを
特徴とする上記の請求項8に記載する太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項10】 無機酸化物の蒸着薄膜が、プラズマ処
理面またはコロナ処理面を形成していることを特徴とす
る上記の請求項1〜9に記載する太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−ト。 - 【請求項11】 組成物が、樹脂成分を含むことを特徴
とする上記の請求項1〜10に記載する太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項12】 樹脂成分が、水溶性ないし親水性樹脂
であることを特徴とする上記の請求項11に記載する太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項13】 組成物が、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物の硬化触媒を含むことを特
徴とする上記の請求項1〜12に記載する太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項14】 組成物が、無機酸化物微粒子を含むこ
とを特徴とする上記の請求項1〜13に記載する太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項15】 組成物が、架橋剤を含むことを特徴と
する上記の請求項1〜14に記載する太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−ト。 - 【請求項16】 樹脂フィルムが、二軸延伸ポリエステ
ル系樹脂フィルム、二軸延伸ポリアミド系樹脂フィル
ム、二軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルム、環状ポリ
オレフィン系樹脂フィルム、または、(メタ)アクリル
系樹脂フィルムからなることを特徴とする上記の請求項
1〜15に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
ト。 - 【請求項17】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とす
る樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を
設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アル
コキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた
樹脂フィルムとを積層した太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−トの一方の面に、充填剤層、光起電力素子として
の太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層
を順次に積層し、これらを真空吸引して加熱圧着ラミネ
−ション法等により一体成形体としたことを特徴とする
太陽電池モュジュ−ル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11082384A JP2000277770A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11082384A JP2000277770A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000277770A true JP2000277770A (ja) | 2000-10-06 |
Family
ID=13773098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11082384A Withdrawn JP2000277770A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000277770A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006188192A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-07-20 | Valeo Thermal Systems Japan Corp | 車両用インストルメントパネルモジュール、車両用コックピットモジュール構造及び車両用リアパネルモジュール |
| JPWO2008142794A1 (ja) * | 2007-05-24 | 2010-08-05 | セラミッション販売株式会社 | コーティング用組成物、硬化物、電気絶縁用コーティング膜、放熱用コーティング膜、およびフレキシブルプリント配線板 |
| WO2013111292A1 (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-01 | 三菱電機株式会社 | 荷電粒子加速器及び粒子線治療装置 |
-
1999
- 1999-03-25 JP JP11082384A patent/JP2000277770A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006188192A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-07-20 | Valeo Thermal Systems Japan Corp | 車両用インストルメントパネルモジュール、車両用コックピットモジュール構造及び車両用リアパネルモジュール |
| JPWO2008142794A1 (ja) * | 2007-05-24 | 2010-08-05 | セラミッション販売株式会社 | コーティング用組成物、硬化物、電気絶縁用コーティング膜、放熱用コーティング膜、およびフレキシブルプリント配線板 |
| WO2013111292A1 (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-01 | 三菱電機株式会社 | 荷電粒子加速器及び粒子線治療装置 |
| US8772733B2 (en) | 2012-01-26 | 2014-07-08 | Mitsubishi Electric Corporation | Charged particle accelerator and particle beam therapy system |
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